JP3405312B2 - 塗布膜除去装置 - Google Patents
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- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
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- H01L21/6708—Apparatus for fluid treatment for etching for wet etching using mainly spraying means, e.g. nozzles
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- H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
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- Materials For Photolithography (AREA)
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はフォトレジスト等の
塗布膜の除去装置に関し、特に角型のガラス基板の端面
周辺部の塗布膜の除去装置に関する。
塗布膜の除去装置に関し、特に角型のガラス基板の端面
周辺部の塗布膜の除去装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般にフォトレジスト膜の塗布膜除去装
置は、半導体製造プロセスにおける薬液塗布後に使用す
る装置として知られており、例えば特開平１−２５３９
２３号公報においては、流体を噴射する２本のノズルを
用いている。
置は、半導体製造プロセスにおける薬液塗布後に使用す
る装置として知られており、例えば特開平１−２５３９
２３号公報においては、流体を噴射する２本のノズルを
用いている。
【０００３】この公報に開示されているウェハー製造工
程で用いる塗布膜除去装置は、ピン型薬液リンスノズル
近傍にピン型ブローノズルを設け、薬液とＮ2 ガスを同
時に噴射することで塗布膜除去境界面の塗布膜の盛り上
がりを防止することができ、これによりレジスト膜の盛
り上がり部の剥離等の要因による品質低下が軽減される
としている。
程で用いる塗布膜除去装置は、ピン型薬液リンスノズル
近傍にピン型ブローノズルを設け、薬液とＮ2 ガスを同
時に噴射することで塗布膜除去境界面の塗布膜の盛り上
がりを防止することができ、これによりレジスト膜の盛
り上がり部の剥離等の要因による品質低下が軽減される
としている。
【０００４】図８（ａ），（ｂ）の平面図及び断面図で
示す従来例１は、上記の構造を液晶等の製造に用いる角
型ガラス基板向けに応用したものでありレジスト膜９が
形成されたガラス基板８の周辺に沿って並行移動する駆
動手段をもたせ、ＥＢＲヘッド１０にピン型薬液リンス
ノズル１７及びピン型ブローノズル１９を複数本並べた
ＥＢＲ（エッジ ビード リムーバー：ｅｄｇｅ ｂｅ
ａｄ ｒｅｍｏｖｅｒ）を用いる事で、処理時間を短縮
するものである。これはリンス薬液に一般的にシンナー
等の有機溶剤のみを用いる装置の従来例であり、主にポ
ジ型フォトレジスト膜の除去に用いられる。
示す従来例１は、上記の構造を液晶等の製造に用いる角
型ガラス基板向けに応用したものでありレジスト膜９が
形成されたガラス基板８の周辺に沿って並行移動する駆
動手段をもたせ、ＥＢＲヘッド１０にピン型薬液リンス
ノズル１７及びピン型ブローノズル１９を複数本並べた
ＥＢＲ（エッジ ビード リムーバー：ｅｄｇｅ ｂｅ
ａｄ ｒｅｍｏｖｅｒ）を用いる事で、処理時間を短縮
するものである。これはリンス薬液に一般的にシンナー
等の有機溶剤のみを用いる装置の従来例であり、主にポ
ジ型フォトレジスト膜の除去に用いられる。
【０００５】図９に示す従来例２は、薬液リンスと純水
リンスを用い、主にネガ型フォトレジスト膜の連続処理
を行なう装置の例であり、従来例１の構成にピン型純水
リンスノズル１８が付加されたものであり、この時のリ
ンス薬液には主に有機アルカリ系の薬品が使用されるこ
とが多い。従来例１と従来例２のどちらを選択するか
は、除去対象である塗布膜とリンス薬液の相性によって
決まる。
リンスを用い、主にネガ型フォトレジスト膜の連続処理
を行なう装置の例であり、従来例１の構成にピン型純水
リンスノズル１８が付加されたものであり、この時のリ
ンス薬液には主に有機アルカリ系の薬品が使用されるこ
とが多い。従来例１と従来例２のどちらを選択するか
は、除去対象である塗布膜とリンス薬液の相性によって
決まる。
【０００６】しかし、従来例１と従来例２の何れにおい
ても、ピン型ノズルを使用することから高圧な薬液吐出
が出来ない。なぜなら高圧で薬液吐出を行なうと、それ
だけ基板の内側方向に作用する力が大きくなり、ピン型
のブローノズルではそのエリアをすべてカバーすること
が困難になる為である。薬液吐出圧を低くすると、基板
方向（Ｚ方向）への物理的な力が弱く除去効率が低いと
いう問題が発生する。この為レジスト膜を完全に除去す
るには、ＥＢＲのヘッド自体を数回往復させるかまた
は、低速で処理する必要があり、処理時間が長く、且つ
薬品及びガスの使用量も多くなる。またここでブローノ
ズルは主に除去部界面の盛り上がりを抑える働きをして
いるだけであり、薬液の外周方向へ作用する力は排気の
能力に大きく左右され、基板端面にシンナー残りが発生
するという問題が起こりやすく、薬液中に溶解している
塗布膜の成分も基板上に残ってしまい、次工程への悪影
響を引き起こす。
ても、ピン型ノズルを使用することから高圧な薬液吐出
が出来ない。なぜなら高圧で薬液吐出を行なうと、それ
だけ基板の内側方向に作用する力が大きくなり、ピン型
のブローノズルではそのエリアをすべてカバーすること
が困難になる為である。薬液吐出圧を低くすると、基板
方向（Ｚ方向）への物理的な力が弱く除去効率が低いと
いう問題が発生する。この為レジスト膜を完全に除去す
るには、ＥＢＲのヘッド自体を数回往復させるかまた
は、低速で処理する必要があり、処理時間が長く、且つ
薬品及びガスの使用量も多くなる。またここでブローノ
ズルは主に除去部界面の盛り上がりを抑える働きをして
いるだけであり、薬液の外周方向へ作用する力は排気の
能力に大きく左右され、基板端面にシンナー残りが発生
するという問題が起こりやすく、薬液中に溶解している
塗布膜の成分も基板上に残ってしまい、次工程への悪影
響を引き起こす。
【０００７】図１０に示した従来例３及び図１１に示し
た従来例４は、塗布膜除去方式にピン型の薬液リンスノ
ズルではなく、ディップ型薬液リンス部２０内のリンス
液２にガラス基板８の端部を入れるディップ式を用いる
装置である。この方式では、境界面が直線状に均一に除
去できるという新たなメリットが発生するが、従来例１
及び従来例２と同じく、物理的な作用がないために長い
処理時間を要し、また等方性に溶解が進むためエッジが
立ちやすくなるという問題が発生する。
た従来例４は、塗布膜除去方式にピン型の薬液リンスノ
ズルではなく、ディップ型薬液リンス部２０内のリンス
液２にガラス基板８の端部を入れるディップ式を用いる
装置である。この方式では、境界面が直線状に均一に除
去できるという新たなメリットが発生するが、従来例１
及び従来例２と同じく、物理的な作用がないために長い
処理時間を要し、また等方性に溶解が進むためエッジが
立ちやすくなるという問題が発生する。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】上述したように従来例
１，２では、処理時間が長く、且つ薬液及びガスの使用
量が多くなるという問題点がある。また従来例３，４で
は、従来例１，２と同じく、物理的な作用がないために
長い処理時間を要し、また等方性に溶解が進むためにエ
ッジが立ちやすくなるという問題が発生する。
１，２では、処理時間が長く、且つ薬液及びガスの使用
量が多くなるという問題点がある。また従来例３，４で
は、従来例１，２と同じく、物理的な作用がないために
長い処理時間を要し、また等方性に溶解が進むためにエ
ッジが立ちやすくなるという問題が発生する。
【０００９】これ等の問題点は、使用する薬液や処理時
間、ＥＢＲ自身の動作、シーケンス、排気条件等の調整
で使用可能なレベルにまで低減することは可能である
が、プロセスマージンが少ないという問題点は残る。
間、ＥＢＲ自身の動作、シーケンス、排気条件等の調整
で使用可能なレベルにまで低減することは可能である
が、プロセスマージンが少ないという問題点は残る。
【００１０】本発明の目的は、均一な塗布膜除去性能を
満たし、塗布膜の除去時間が早く、薬液の使用量が少な
く、処理後の液残りがなく且つプロセスマージンの広い
塗布膜除去装置を提供することにある。
満たし、塗布膜の除去時間が早く、薬液の使用量が少な
く、処理後の液残りがなく且つプロセスマージンの広い
塗布膜除去装置を提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】第１の発明の塗布膜除去
装置は、塗布膜が形成された基板の端面周辺部の塗布膜
を除去するためのノズルを有する塗布膜除去装置におい
て、前記ノズルとして薬液を吐出するためのスリット型
薬液リンスノズルと気体を吐出するためのスリット型ブ
ローノズルとを備えていることを特徴とするものであ
る。
装置は、塗布膜が形成された基板の端面周辺部の塗布膜
を除去するためのノズルを有する塗布膜除去装置におい
て、前記ノズルとして薬液を吐出するためのスリット型
薬液リンスノズルと気体を吐出するためのスリット型ブ
ローノズルとを備えていることを特徴とするものであ
る。
【００１２】第２の発明の塗布膜除去装置は、塗布膜が
形成された基板の端面周辺部の塗布膜を除去するための
ノズルを有する塗布膜除去装置において、前記ノズルと
して気体を吐出するためのスリット型ブローノズルと薬
液を吐出するためのスリット型薬液リンスノズルとを備
え、 スリット型ブローノズルはその吐出有効幅がスリッ
ト型薬液リンスノズルの吐出有効幅よりも幅広に形成さ
れていることを特徴とするものである。
形成された基板の端面周辺部の塗布膜を除去するための
ノズルを有する塗布膜除去装置において、前記ノズルと
して気体を吐出するためのスリット型ブローノズルと薬
液を吐出するためのスリット型薬液リンスノズルとを備
え、 スリット型ブローノズルはその吐出有効幅がスリッ
ト型薬液リンスノズルの吐出有効幅よりも幅広に形成さ
れていることを特徴とするものである。
【００１３】第３の発明の塗布膜除去装置は、塗布膜が
形成された基板の端面周辺部の塗布膜を除去するための
ノズルを有する塗布膜除去装置において、前記ノズルと
してスリット型薬液リンスノズルとスリット型ブローノ
ズルとを一体化させたスリット型薬液リンス・ブローノ
ズルを備えている事を特徴とするものである。
形成された基板の端面周辺部の塗布膜を除去するための
ノズルを有する塗布膜除去装置において、前記ノズルと
してスリット型薬液リンスノズルとスリット型ブローノ
ズルとを一体化させたスリット型薬液リンス・ブローノ
ズルを備えている事を特徴とするものである。
【００１４】第４の発明の塗布膜除去装置は、塗布膜が
形成された基板の端面周辺部の塗布膜を除去するための
ノズルを有する塗布膜除去装置において、前記ノズルと
してガスと純水とを混合して吐出させるスリット型純水
リンス・ブローノズルを備えている事を特徴とするもの
である。
形成された基板の端面周辺部の塗布膜を除去するための
ノズルを有する塗布膜除去装置において、前記ノズルと
してガスと純水とを混合して吐出させるスリット型純水
リンス・ブローノズルを備えている事を特徴とするもの
である。
【００１５】第５の発明の塗布膜除去装置は、塗布膜が
形成された基板の端面周辺部の塗布膜を除去するための
ノズルを有する塗布膜除去装置において、前記ノズルと
してスリット型薬液リンスノズルとスリット型ブローノ
ズルとからなる第１のＥＢＲユニットと、スリット型純
水リンスノズルとスリット型ブローノズルとからなる第
２のＥＢＲユニットとを、搬送される基板の一辺に沿っ
て並置するとともに前記一辺を挟むように併設したこと
を特徴とするものである。
形成された基板の端面周辺部の塗布膜を除去するための
ノズルを有する塗布膜除去装置において、前記ノズルと
してスリット型薬液リンスノズルとスリット型ブローノ
ズルとからなる第１のＥＢＲユニットと、スリット型純
水リンスノズルとスリット型ブローノズルとからなる第
２のＥＢＲユニットとを、搬送される基板の一辺に沿っ
て並置するとともに前記一辺を挟むように併設したこと
を特徴とするものである。
【００１６】第６の発明の塗布膜除去装置は、塗布膜が
形成された基板の端面周辺部の塗布膜を除去するための
ノズルを有する塗布膜除去装置において、前記ノズルと
してスリット型薬液リンス・ブローノズルとスリット型
純水リンス・ブローノズルとからなるＥＢＲユニット
を、搬送される基板の一辺を挟むように併設した事を特
徴とするものである。
形成された基板の端面周辺部の塗布膜を除去するための
ノズルを有する塗布膜除去装置において、前記ノズルと
してスリット型薬液リンス・ブローノズルとスリット型
純水リンス・ブローノズルとからなるＥＢＲユニット
を、搬送される基板の一辺を挟むように併設した事を特
徴とするものである。
【００１７】
【発明の実施の形態】次に本発明について図面を参照し
て説明する。図１（ａ），（ｂ）は本発明の第１の実施
の形態を説明する為のＥＢＲの平面図及び断面図、図２
は本発明の塗布膜除去装置の動作を説明する為の構成図
である。
て説明する。図１（ａ），（ｂ）は本発明の第１の実施
の形態を説明する為のＥＢＲの平面図及び断面図、図２
は本発明の塗布膜除去装置の動作を説明する為の構成図
である。
【００１８】図１，２を参照すると本発明の塗布膜除去
装置は主に、ポンプ及びガス等で高圧に加圧されたリン
ス薬液２が薬液供給／停止を行なうオートバルブ２６を
介して供給される薬液供給口５を有し、そのリンス薬液
２をスリット状に均一にレジスト膜９が塗布されたガラ
ス基板８上に吐出するスリット型薬液リンスノズル１
２、付帯供給設備から高圧なブローガス１がガス供給／
停止を行なうオートバルブ２５を介して供給されるガス
供給口４を有しそのブローガス１をスリット状に均一に
ガラス基板８上に吐出するスリット型薬液リンスノズル
１２の吐出有効幅よりも幅広なスリット型ブローノズル
１４、スリット型薬液リンスノズル１２及びスリット型
ブローノズル１４を固定しスリット型薬液リンスノズル
１２より吐出されたリンス薬液２及びスリット型ブロー
ノズル１４より吐出されたブローガス１を排気する排気
手段が排気開／閉を行なう排気ダンパー２３を介して接
続される排気口７を備えたＥＢＲヘッド１０、スリット
型薬液リンスノズル１２及びスリット型ブローノズル１
４及びＥＢＲヘッド１０の側面に雰囲気及びミスト漏れ
防止のために排気開口面積を極小にするように取り付け
られたＥＢＲ側板１１、真空手段がオートバルブ２４を
介して接続される吸着穴２２を有し、ガラス基板８を吸
着保持する載置台２１、エッジリムーバを平行移動させ
る駆動部から構成されている。尚、スリット型薬液リン
スノズル１２の代りにピン型薬液リンスノズルを用いて
もよい。また図２において３はリンス純水、６は純水供
給口である。
装置は主に、ポンプ及びガス等で高圧に加圧されたリン
ス薬液２が薬液供給／停止を行なうオートバルブ２６を
介して供給される薬液供給口５を有し、そのリンス薬液
２をスリット状に均一にレジスト膜９が塗布されたガラ
ス基板８上に吐出するスリット型薬液リンスノズル１
２、付帯供給設備から高圧なブローガス１がガス供給／
停止を行なうオートバルブ２５を介して供給されるガス
供給口４を有しそのブローガス１をスリット状に均一に
ガラス基板８上に吐出するスリット型薬液リンスノズル
１２の吐出有効幅よりも幅広なスリット型ブローノズル
１４、スリット型薬液リンスノズル１２及びスリット型
ブローノズル１４を固定しスリット型薬液リンスノズル
１２より吐出されたリンス薬液２及びスリット型ブロー
ノズル１４より吐出されたブローガス１を排気する排気
手段が排気開／閉を行なう排気ダンパー２３を介して接
続される排気口７を備えたＥＢＲヘッド１０、スリット
型薬液リンスノズル１２及びスリット型ブローノズル１
４及びＥＢＲヘッド１０の側面に雰囲気及びミスト漏れ
防止のために排気開口面積を極小にするように取り付け
られたＥＢＲ側板１１、真空手段がオートバルブ２４を
介して接続される吸着穴２２を有し、ガラス基板８を吸
着保持する載置台２１、エッジリムーバを平行移動させ
る駆動部から構成されている。尚、スリット型薬液リン
スノズル１２の代りにピン型薬液リンスノズルを用いて
もよい。また図２において３はリンス純水、６は純水供
給口である。
【００１９】次に動作について説明する。ＥＢＲヘッド
１０が待機位置にある時に、スピン式塗布装置によりレ
ジスト膜９が塗布されたガラス基板８が基板搬送手段に
より載置台２１に運ばれてくると、基板吸着用のオート
バルブ２４が開き吸着穴２２を介してガラス基板８が載
置台２１に吸着保持される。次に４個のＥＢＲヘッド１
０が図１２に示すように、端面洗浄処理開始位置へ移動
した後、排気ダンパー２３が開き排気口７を介してＥＢ
Ｒヘッド１０内の排気を開始し、同時にガス供給用オー
トバルブ２５が開きガス供給口４を介してブローガス１
がスリット型ブローノズル１４に供給されガス吐出を開
始し、同時に薬液供給用オートバルブ２６が開き薬液供
給口５を介してリンス薬液２がスリット型薬液リンスノ
ズル１２に供給され薬液吐出を開始した後、ＥＢＲヘッ
ド１０がガラス基板８の周辺に沿って平行移動しながら
端面洗浄処理を行なう。
１０が待機位置にある時に、スピン式塗布装置によりレ
ジスト膜９が塗布されたガラス基板８が基板搬送手段に
より載置台２１に運ばれてくると、基板吸着用のオート
バルブ２４が開き吸着穴２２を介してガラス基板８が載
置台２１に吸着保持される。次に４個のＥＢＲヘッド１
０が図１２に示すように、端面洗浄処理開始位置へ移動
した後、排気ダンパー２３が開き排気口７を介してＥＢ
Ｒヘッド１０内の排気を開始し、同時にガス供給用オー
トバルブ２５が開きガス供給口４を介してブローガス１
がスリット型ブローノズル１４に供給されガス吐出を開
始し、同時に薬液供給用オートバルブ２６が開き薬液供
給口５を介してリンス薬液２がスリット型薬液リンスノ
ズル１２に供給され薬液吐出を開始した後、ＥＢＲヘッ
ド１０がガラス基板８の周辺に沿って平行移動しながら
端面洗浄処理を行なう。
【００２０】ここでは、プロセス処理の制御を行なうた
めに、各プロセス装置へプロセスシーケンス及び制御パ
ラメータ（温度、圧力、ガス種及びガス流量、時間など
の制御目標値）に関する装置個別のプログラムであるレ
シピで任意に設定された移動速度で、図１２に示したよ
うに、同じくレシピで任意に設定された往復回数の処理
を行ない、これが終了すると薬液供給用オートバルブ２
６が閉じ薬液供給口５を介したスリット型薬液リンスノ
ズル１２へのリンス薬液２の供給を停止し、次にガス供
給用オートバルブ２５が閉じガス供給口４を介したスリ
ット型ブローノズル１４へのブローガス１の供給を停止
し、次に排気ダンパー２３が閉じ排気口７を介してＥＢ
Ｒヘッド１０内の排気を停止した後、ＥＢＲヘッド１０
が待機位置へ移動する。次に基板吸着用のオートバルブ
２４が閉じガラス基板８の載置台２１への吸着保持が解
除され、ガラス基板８が搬送手段により次工程に搬出さ
れる。
めに、各プロセス装置へプロセスシーケンス及び制御パ
ラメータ（温度、圧力、ガス種及びガス流量、時間など
の制御目標値）に関する装置個別のプログラムであるレ
シピで任意に設定された移動速度で、図１２に示したよ
うに、同じくレシピで任意に設定された往復回数の処理
を行ない、これが終了すると薬液供給用オートバルブ２
６が閉じ薬液供給口５を介したスリット型薬液リンスノ
ズル１２へのリンス薬液２の供給を停止し、次にガス供
給用オートバルブ２５が閉じガス供給口４を介したスリ
ット型ブローノズル１４へのブローガス１の供給を停止
し、次に排気ダンパー２３が閉じ排気口７を介してＥＢ
Ｒヘッド１０内の排気を停止した後、ＥＢＲヘッド１０
が待機位置へ移動する。次に基板吸着用のオートバルブ
２４が閉じガラス基板８の載置台２１への吸着保持が解
除され、ガラス基板８が搬送手段により次工程に搬出さ
れる。
【００２１】このように第１の実施の形態では、リンス
ノズルよりも広範囲をカバーするスリット型ブローノズ
ルを用いて高圧にブローさせることにより、スリット型
ノズルから薬液の高圧吐出を行なっても基板内側へのミ
スト飛散がなく、塗布膜に対する物理的作用が働き効率
が向上する事から液使用量が削減され、且つ処理時間が
短縮されるという効果がある。
ノズルよりも広範囲をカバーするスリット型ブローノズ
ルを用いて高圧にブローさせることにより、スリット型
ノズルから薬液の高圧吐出を行なっても基板内側へのミ
スト飛散がなく、塗布膜に対する物理的作用が働き効率
が向上する事から液使用量が削減され、且つ処理時間が
短縮されるという効果がある。
【００２２】図３は本発明の第２の実施の形態を説明す
るためのＥＢＲの断面図である。
るためのＥＢＲの断面図である。
【００２３】このＥＢＲはスリット型薬液リンスノズル
とスリット型ブローノズルとを一体化させたスリット型
薬液リンス・ブローノズル１５を備えているものであ
る。
とスリット型ブローノズルとを一体化させたスリット型
薬液リンス・ブローノズル１５を備えているものであ
る。
【００２４】この第２の実施の形態も第１の実施の形態
と同様の効果を有するほかに、ＥＢＲヘッドのコンパク
ト化と部品点数の削減が可能である。
と同様の効果を有するほかに、ＥＢＲヘッドのコンパク
ト化と部品点数の削減が可能である。
【００２５】図４は本発明の第３の実施の形態を説明す
るためのＥＢＲの断面図であり、このＥＢＲはガスと純
水とを混合して吐出させる二流体構造としたスリット型
薬液リンス・ブローノズル１５を備えている。
るためのＥＢＲの断面図であり、このＥＢＲはガスと純
水とを混合して吐出させる二流体構造としたスリット型
薬液リンス・ブローノズル１５を備えている。
【００２６】一般に液体を高圧吐出するためには、高価
な加圧ポンプが必要であるが、ガス付帯設備側から一般
的には０．５〜０．８ＭＰａ程度でガスが供給される本
実施の形態では、レジスト膜種・その他条件にもよる
が、液供給自身をさほど高圧にせずとも、高圧ガスの吐
出圧力で液体を飛散させる事で目的を達成できるため、
第１の実施の形態の効果の他に、装置のコストを低減出
来るという利点がある。
な加圧ポンプが必要であるが、ガス付帯設備側から一般
的には０．５〜０．８ＭＰａ程度でガスが供給される本
実施の形態では、レジスト膜種・その他条件にもよる
が、液供給自身をさほど高圧にせずとも、高圧ガスの吐
出圧力で液体を飛散させる事で目的を達成できるため、
第１の実施の形態の効果の他に、装置のコストを低減出
来るという利点がある。
【００２７】図５は本発明の第４の実施の形態を説明す
るためのＥＢＲの平面図である。
るためのＥＢＲの平面図である。
【００２８】この第４の実施の形態では、スリット型薬
液リンスノズル１２とスリット型ブローノズル１４とか
らなる第１のＥＢＲユニットと、スリット型純水リンス
ノズル１３とスリット型ブローノズル１４とからなる第
２のＥＢＲユニットとを、搬送されるガラス基板８の一
辺を挟むように併設してある。
液リンスノズル１２とスリット型ブローノズル１４とか
らなる第１のＥＢＲユニットと、スリット型純水リンス
ノズル１３とスリット型ブローノズル１４とからなる第
２のＥＢＲユニットとを、搬送されるガラス基板８の一
辺を挟むように併設してある。
【００２９】ネガ型のレジスト膜除去の場合の多くは、
薬液リンスには一般的に有機アルカリ系の薬液又は有機
アルカリ系薬液溶剤の混合物を用いるが、工程としては
薬液リンス後に純水リンスを行なう必要がある。第４の
実施の形態はこの場合を想定したＥＢＲヘッドの構成で
ある。ポジ型レジスト膜の除去工程では、薬液リンスに
有機溶剤を用い、薬液リンス後に純水リンスは行なわな
い。第１〜第３の実施の形態はポジ型レジスト膜の除去
に用いられる。
薬液リンスには一般的に有機アルカリ系の薬液又は有機
アルカリ系薬液溶剤の混合物を用いるが、工程としては
薬液リンス後に純水リンスを行なう必要がある。第４の
実施の形態はこの場合を想定したＥＢＲヘッドの構成で
ある。ポジ型レジスト膜の除去工程では、薬液リンスに
有機溶剤を用い、薬液リンス後に純水リンスは行なわな
い。第１〜第３の実施の形態はポジ型レジスト膜の除去
に用いられる。
【００３０】図６は本発明の第５の実施の形態を説明す
るためのＥＢＲの平面図であり、スリット型ブローノズ
ル１４とスリット型薬液リンスノズル１２の幅はガラス
基板８の一辺の幅より長く形成されている。
るためのＥＢＲの平面図であり、スリット型ブローノズ
ル１４とスリット型薬液リンスノズル１２の幅はガラス
基板８の一辺の幅より長く形成されている。
【００３１】この第５の実施の形態では図１３（ａ）に
示すように、ガラス基板８の対向する端面部の塗布膜の
除去を行なった後、図１３（ｂ）に示すようにガラス基
板８を９０゜回転させ、次いで図１３（ｃ）にしめすよ
うにガラス基板８の対向する他の端面部の塗布膜の除去
を行なうことが出来るため、第１〜第３の実施の形態に
比べ主にポジ型レジスト膜の除去処理時間の短縮が可能
であり、特に大型化が進んできている液晶基板等におい
てはタクト短縮に大きな効果がある。
示すように、ガラス基板８の対向する端面部の塗布膜の
除去を行なった後、図１３（ｂ）に示すようにガラス基
板８を９０゜回転させ、次いで図１３（ｃ）にしめすよ
うにガラス基板８の対向する他の端面部の塗布膜の除去
を行なうことが出来るため、第１〜第３の実施の形態に
比べ主にポジ型レジスト膜の除去処理時間の短縮が可能
であり、特に大型化が進んできている液晶基板等におい
てはタクト短縮に大きな効果がある。
【００３２】図７（ａ），（ｂ）は本発明の第６の実施
の形態を説明するためのＥＢＲの平面図及び断面図であ
り、スリット型薬液リンス・ブローノズル１５とスリッ
ト型純水リンス・ブローノズル１６とからなるＥＢＲユ
ニットを、搬送されるガラス基板８の一辺を挟むように
併設したものである。そして特に第５の実施の形態と同
様に各ノズルの幅はガラス基板８の一辺の幅より長く形
成してある。
の形態を説明するためのＥＢＲの平面図及び断面図であ
り、スリット型薬液リンス・ブローノズル１５とスリッ
ト型純水リンス・ブローノズル１６とからなるＥＢＲユ
ニットを、搬送されるガラス基板８の一辺を挟むように
併設したものである。そして特に第５の実施の形態と同
様に各ノズルの幅はガラス基板８の一辺の幅より長く形
成してある。
【００３３】この第６の実施の形態は、第５の実施の形
態と同様に、主にネガ型レジスト膜を除去するための処
理時間を短縮することが出来るという利点がある。
態と同様に、主にネガ型レジスト膜を除去するための処
理時間を短縮することが出来るという利点がある。
【００３４】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、スリット
型リンスノズルよりも広範囲をカバーするスリット型ブ
ローノズルを用いて高圧にブローさせることで、スリッ
ト型ノズルから薬液の高圧吐出を行なっても基板内側へ
のミスト飛散が無く、塗布膜に対する物理的作用が働き
除去効率が向上する事から液使用量が削減され、且つ処
理時間が短縮されるという効果がある。
型リンスノズルよりも広範囲をカバーするスリット型ブ
ローノズルを用いて高圧にブローさせることで、スリッ
ト型ノズルから薬液の高圧吐出を行なっても基板内側へ
のミスト飛散が無く、塗布膜に対する物理的作用が働き
除去効率が向上する事から液使用量が削減され、且つ処
理時間が短縮されるという効果がある。
【００３５】またスリット型リンスノズルから高圧に薬
液吐出することで直線状に均一に除去しつつ且つ塗布膜
の除去部断面は異方性に近い形状が得られる。そして処
理の最終にスリット型ブローノズルを用いて高圧ガスブ
ローを行なうことで端面の液は吹き飛ばされ液残りが無
くなるという効果もある。
液吐出することで直線状に均一に除去しつつ且つ塗布膜
の除去部断面は異方性に近い形状が得られる。そして処
理の最終にスリット型ブローノズルを用いて高圧ガスブ
ローを行なうことで端面の液は吹き飛ばされ液残りが無
くなるという効果もある。
【図１】第１の実施の形態を説明するためのＥＢＲの平
面図及び断面図。
面図及び断面図。
【図２】本発明の塗布膜除去装置の動作を説明するため
の構成図。
の構成図。
【図３】第２の実施の形態を説明するためのＥＢＲの断
面図。
面図。
【図４】第３の実施の形態を説明するためのＥＢＲの断
面図。
面図。
【図５】第４の実施の形態を説明するためのＥＢＲの平
面図。
面図。
【図６】第５の実施の形態を説明するためのＥＢＲの平
面図。
面図。
【図７】第６の実施の形態を説明するためのＥＢＲの平
面図及び断面図。
面図及び断面図。
【図８】従来例１を説明するためのＥＢＲの平面図及び
断面図。
断面図。
【図９】従来例２を説明するためのＥＢＲの断面図。
【図１０】従来例３を説明するためのＥＢＲの断面図。
【図１１】従来例４を説明するためのＥＢＲの断面図。
【図１２】実施の形態の動作を説明するための斜視図。
【図１３】他の実施の形態の動作を説明するための斜視
図。
図。
１ ブローガス
２ リンス薬液
３ リンス純水
４ ガス供給口
５ 薬液供給口
６ 純水供給口
７ 排気口
８ ガラス基板
９ レジスト膜
１０ ＥＢＲヘッド
１１ ＥＢＲ側板
１２ スリット型薬液リンスノズル
１３ スリット型純水リンスノズル
１４ スリット型ブローノズル
１５ スリット型薬液リンス・ブローノズル
１６ スリット型純水リンス・ブローノズル
１７ ピン型薬液リンスノズル
１８ ピン型純水リンスノズル
１９ ピン型ブローノズル
２０ ディップ型薬液リンス部
２１ 載置台
２２ 吸着穴
２３ 排気ダンパー
２４，２５，２６ オートバルブ
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ
Ｂ０８Ｂ 3/02 Ｂ０８Ｂ 3/08 Ｚ
3/08 Ｇ０３Ｆ 7/16 ５０１
Ｇ０３Ｆ 7/16 ５０１ Ｈ０１Ｌ 21/30 ５７７
(56)参考文献 特開 平６−97067（ＪＰ，Ａ)
特開 平８−22128（ＪＰ，Ａ)
特開 平１−253923（ＪＰ，Ａ)
特開 平７−37804（ＪＰ，Ａ)
特開 平８−250390（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
H01L 21/027
B05C 9/12
B05D 3/10
B05D 7/00
B08B 3/02
B08B 3/08
G03F 7/16 501
Claims (5)
- 【請求項１】 塗布膜が形成された基板の端面周辺部の
塗布膜を除去するためのノズルを有する塗布膜除去装置
において、前記ノズルとしてブローガスをスリット状に
基板上に吐出するスリット型ブローノズルと 、 薬液をス
リット状に基板上に吐出するスリット型薬液リンスノズ
ルとを備え 、 スリット型ブローノズルはその吐出有効幅
がスリット型薬液リンスノズルの吐出有効幅よりも幅広
に形成されていることを特徴とする塗布膜除去装置。 - 【請求項２】 塗布膜が形成された基板の端面周辺部の
塗布膜を除去するためのノズルを有する塗布膜除去装置
において、前記ノズルとしてスリット型薬液リンスノズ
ルとスリット型ブローノズルとを一体化させたスリット
型薬液リンス・ブローノズルを備えていることを特徴と
する塗布膜除去装置。 - 【請求項３】 塗布膜が形成された基板の端面周辺部の
塗布膜を除去するためのノズルを有する塗布膜除去装置
において、前記ノズルとしてガスと純水とを混合して吐
出させるスリット型純水リンス・ブローノズルを備えて
いることを特徴とする塗布膜除去装置。 - 【請求項４】 塗布膜が形成された基板の端面周辺部の
塗布膜を除去するためのノズルを有する塗布膜除去装置
において、前記ノズルとしてスリット型薬液リンスノズ
ルとスリット型ブローノズルとからなる第１のＥＢＲユ
ニットと、スリット型純水リンスノズルとスリット型ブ
ローノズルとからなる第２のＥＢＲユニットとを、搬送
される基板の一辺に沿って並置するとともに前記一辺を
挟むように併設したことを特徴とする塗布膜除去装置。 - 【請求項５】 塗布膜が形成された基板の端面周辺部の
塗布膜を除去するためのノズルを有する塗布膜除去装置
において、前記ノズルとしてスリット型薬液リンス・ブ
ローノズルとスリット型純水リンス・ブローノズルとか
らなるＥＢＲユニットを、搬送される基板の一辺を挟む
ように併設したことを特徴とする塗布膜除去装置。
Priority Applications (4)
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|---|---|---|---|
| JP2000050249A JP3405312B2 (ja) | 2000-02-25 | 2000-02-25 | 塗布膜除去装置 |
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|---|---|---|---|
| JP2000050249A JP3405312B2 (ja) | 2000-02-25 | 2000-02-25 | 塗布膜除去装置 |
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|---|---|
| JP2001244169A JP2001244169A (ja) | 2001-09-07 |
| JP3405312B2 true JP3405312B2 (ja) | 2003-05-12 |
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|---|---|---|---|
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2000
- 2000-02-25 JP JP2000050249A patent/JP3405312B2/ja not_active Expired - Fee Related
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- 2001-02-22 TW TW090104110A patent/TW526520B/zh not_active IP Right Cessation
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