JP3395936B2 - Ｕｖ安定ポリカーボネートの製造方法 - Google Patents
Ｕｖ安定ポリカーボネートの製造方法Info
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- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G64/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbonic ester link in the main chain of the macromolecule
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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Description
【０００１】本発明は、１，５００〜２５０，０００の
範囲のそして好ましくは５，０００〜１５０，０００の
範囲のＭｗ値（光散乱によって測定した重量平均分子
量）を有する熱可塑性芳香族ポリカーボネートを、熱可
塑性ポリカーボネートの１００重量％を基にして０．０
１重量％〜３５重量％の量の、好ましくは０．１重量％
〜２５重量％の量のそして更に好ましくは０．２重量％
〜１５重量％の量の式（Ｉ）：
範囲のそして好ましくは５，０００〜１５０，０００の
範囲のＭｗ値（光散乱によって測定した重量平均分子
量）を有する熱可塑性芳香族ポリカーボネートを、熱可
塑性ポリカーボネートの１００重量％を基にして０．０
１重量％〜３５重量％の量の、好ましくは０．１重量％
〜２５重量％の量のそして更に好ましくは０．２重量％
〜１５重量％の量の式（Ｉ）：
【０００２】
【化２】
【０００３】［式中、Ｒ1は、Ｈ、Ｃ1-18アルキル、Ｃ
5-6シクロアルキル、Ｃ6-12アリールを表しＲ2は、Ｈ、
Ｃｌ又はＣ1-12アルキルを表し、Ｘは、単結合、Ｃ1-12
アルキレン、Ｃ5-6シクロアルキレン又はフェニレンで
あり、そしてＹは、ＯＨ、Ｏ−アルカリ、−Ｏ−アンモ
ニウム又はＯ−（１／２アルカリ土類金属）である］に
対応する化合物、１モルの化合物（Ｉ）あたり０．５〜
１．５モルの炭酸ジアリール並びに必要に応じて更なる
量のジフェノール及び更なる量の炭酸ジアリールと、２
００〜４２０℃の温度で、好ましくは２００〜３５０℃
の温度でそして更に好ましくは２５０〜３３０℃の温度
で、そして０．０１ｍｂａｒ〜１，０００ｍｂａｒの圧
力下でそして好ましくは０．１ｍｂａｒ〜１００ｍｂａ
ｒの圧力下で、数分〜数時間の反応時間にわたってそし
て好ましくは１〜６０分の反応時間にわたって反応させ
ることを特徴とする、ＵＶ安定ポリカーボネートの製造
方法に関する。
5-6シクロアルキル、Ｃ6-12アリールを表しＲ2は、Ｈ、
Ｃｌ又はＣ1-12アルキルを表し、Ｘは、単結合、Ｃ1-12
アルキレン、Ｃ5-6シクロアルキレン又はフェニレンで
あり、そしてＹは、ＯＨ、Ｏ−アルカリ、−Ｏ−アンモ
ニウム又はＯ−（１／２アルカリ土類金属）である］に
対応する化合物、１モルの化合物（Ｉ）あたり０．５〜
１．５モルの炭酸ジアリール並びに必要に応じて更なる
量のジフェノール及び更なる量の炭酸ジアリールと、２
００〜４２０℃の温度で、好ましくは２００〜３５０℃
の温度でそして更に好ましくは２５０〜３３０℃の温度
で、そして０．０１ｍｂａｒ〜１，０００ｍｂａｒの圧
力下でそして好ましくは０．１ｍｂａｒ〜１００ｍｂａ
ｒの圧力下で、数分〜数時間の反応時間にわたってそし
て好ましくは１〜６０分の反応時間にわたって反応させ
ることを特徴とする、ＵＶ安定ポリカーボネートの製造
方法に関する。
【０００４】この反応は好ましくは触媒の非存在下で実
施するが、それはまた、アルカリ触媒例えばアルカリ金
属又はアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩、炭酸水素
塩、酢酸塩又はステアリン酸塩によって加速しても良
い。その他の適切な触媒は、窒素含有塩基性化合物例え
ばテトラメチルアンモニウムヒドロキシド、又はホウ酸
及びホウ酸エステル例えばホウ酸トリエチル及びホウ酸
トリフェニルである。
施するが、それはまた、アルカリ触媒例えばアルカリ金
属又はアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩、炭酸水素
塩、酢酸塩又はステアリン酸塩によって加速しても良
い。その他の適切な触媒は、窒素含有塩基性化合物例え
ばテトラメチルアンモニウムヒドロキシド、又はホウ酸
及びホウ酸エステル例えばホウ酸トリエチル及びホウ酸
トリフェニルである。
【０００５】触媒の量は触媒のタイプ及び有効性によっ
て支配され、そして使用されるポリカーボネートを基に
して１ｘ１０-2〜１ｘ１０-9重量％である。
て支配され、そして使用されるポリカーボネートを基に
して１ｘ１０-2〜１ｘ１０-9重量％である。
【０００６】本発明に従って得られるポリカーボネート
は、真空押出の条件下で、即ち減圧下でそして高められ
た温度で、ポリカーボネートの成形された物品、更に特
別には二重壁パネルへの加工の間においてさえそのまま
で留まる高いレベルのＵＶ保護を有する。
は、真空押出の条件下で、即ち減圧下でそして高められ
た温度で、ポリカーボネートの成形された物品、更に特
別には二重壁パネルへの加工の間においてさえそのまま
で留まる高いレベルのＵＶ保護を有する。
【０００７】従って、式（Ｉ）に対応するＵＶ吸収剤
は、ポリカーボネートに化学的に固定される。
は、ポリカーボネートに化学的に固定される。
【０００８】従って、本発明はまた、本発明による方法
によって得られるＵＶ安定ポリカーボネートに関する。
によって得られるＵＶ安定ポリカーボネートに関する。
【０００９】式（Ｉ）に対応するＵＶ吸収剤を、ＵＶ吸
収剤反応におけるオルト位置にＯＨ基を含まないアルキ
ド樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂及びポリウレ
タン樹脂に添加するか又はそれらの中に組み入れること
ができることはＵＳ−ＰＳ３，２１４，４３６から知ら
れている。
収剤反応におけるオルト位置にＯＨ基を含まないアルキ
ド樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂及びポリウレ
タン樹脂に添加するか又はそれらの中に組み入れること
ができることはＵＳ−ＰＳ３，２１４，４３６から知ら
れている。
【００１０】式（Ｉ）に対応するＵＶ吸収剤をポリカー
ボネートに一般的な方法によって、例えばこのポリマー
の溶融液に添加することができることは、ＥＰ−Ｂ ０
０５７ １６０から知られている（このＥＰ−Ｂの１
０頁１７行及び５０／５４行を参照せよ）。
ボネートに一般的な方法によって、例えばこのポリマー
の溶融液に添加することができることは、ＥＰ−Ｂ ０
０５７ １６０から知られている（このＥＰ−Ｂの１
０頁１７行及び５０／５４行を参照せよ）。
【００１１】式（Ｉ）に対応するＵＶ吸収剤のポリカー
ボネートへのこの単なる添加（ＥＰ−Ｂ ０ ０５７
１６０の１０頁参照）がＵＶ吸収剤のポリカーボネート
への化学的結び付きを導くかどうかは、ＥＰ−Ｂ ０
０５７ １６０からは明らかではない。
ボネートへのこの単なる添加（ＥＰ−Ｂ ０ ０５７
１６０の１０頁参照）がＵＶ吸収剤のポリカーボネート
への化学的結び付きを導くかどうかは、ＥＰ−Ｂ ０
０５７ １６０からは明らかではない。
【００１２】他方、式（Ｉ）に対応するＵＶ吸収剤はま
た、ＥＰ−Ｂ ０ ０５７ １６０に従って（９頁１２
行参照）ポリマー、例えばラッカーバインダー中に、例
えばアルキド樹脂の合成において（このＥＰ−Ｂの実施
例（ＩＶ）、２７頁以降）組み入れることもできる。
た、ＥＰ−Ｂ ０ ０５７ １６０に従って（９頁１２
行参照）ポリマー、例えばラッカーバインダー中に、例
えばアルキド樹脂の合成において（このＥＰ−Ｂの実施
例（ＩＶ）、２７頁以降）組み入れることもできる。
【００１３】式（ＩＩ）：
【００１４】
【化３】
【００１５】に対応する連鎖停止剤をＯＨ基を経由して
組み入れて、溶液重合によって耐候性ポリカーボネート
を製造することができることは、ＤＥ−ＯＳ ３ ９０
３ ４８７から知られている。不幸にも、このようなポ
リカーボネートは、ＵＶ保護に関して決定的に責任があ
るＯＨ基は、もはや遊離の形では存在せず、その代わり
にカーボネートとして結合されているという欠点を有す
る。保護効果がこのようにして部分的に失われることが
経験から示された。ＤＥ−ＯＳ ３ ９０３ ４８７中
で述べられた暴露時間（１００ｈ）は、実用的な挙動に
関してそれから誘導される利点を予期することができる
には短すぎる。
組み入れて、溶液重合によって耐候性ポリカーボネート
を製造することができることは、ＤＥ−ＯＳ ３ ９０
３ ４８７から知られている。不幸にも、このようなポ
リカーボネートは、ＵＶ保護に関して決定的に責任があ
るＯＨ基は、もはや遊離の形では存在せず、その代わり
にカーボネートとして結合されているという欠点を有す
る。保護効果がこのようにして部分的に失われることが
経験から示された。ＤＥ−ＯＳ ３ ９０３ ４８７中
で述べられた暴露時間（１００ｈ）は、実用的な挙動に
関してそれから誘導される利点を予期することができる
には短すぎる。
【００１６】ポリマー例えばポリエステルの製造の間に
式（ＩＩＩ）：
式（ＩＩＩ）：
【００１７】
【化４】
【００１８】に対応する化合物を組み入れることができ
ることは、０９．０１．１９９２のＪＡ−０４−０５２
９１から知られている。（III）のＯＨ基は明らかにこ
のプロセスにおいては反応しない。
ることは、０９．０１．１９９２のＪＡ−０４−０５２
９１から知られている。（III）のＯＨ基は明らかにこ
のプロセスにおいては反応しない。
【００１９】より悪いポリエステルに導く式（Ｉ）に対
応するＵＶ吸収剤は、ＪＡ−０４−０５２９１の比較例
４、５及び６中で使用されている。
応するＵＶ吸収剤は、ＪＡ−０４−０５２９１の比較例
４、５及び６中で使用されている。
【００２０】ＤＥ−ＯＳ ３ ３２０ ２６０（Ｌｅ
Ａ ２２ １５３）は、エステル交換によってポリカー
ボネートの劣化を導く、触媒を使用する高分子量ポリカ
ーボネートとカルボン酸との反応を述べている。
Ａ ２２ １５３）は、エステル交換によってポリカー
ボネートの劣化を導く、触媒を使用する高分子量ポリカ
ーボネートとカルボン酸との反応を述べている。
【００２１】２よりも多いＯＨ基を含む多価フェノール
と芳香族ポリカーボネートとの反応は、ＵＳ−ＰＳ
５，０２１，５２１から知られている。エステル交換に
よって分岐されたポリカーボネートが製造される。
と芳香族ポリカーボネートとの反応は、ＵＳ−ＰＳ
５，０２１，５２１から知られている。エステル交換に
よって分岐されたポリカーボネートが製造される。
【００２２】最後の二つで述べた場合には、ポリカーボ
ネートの反応物のすべての官能基はエステル交換を通し
て反応する。
ネートの反応物のすべての官能基はエステル交換を通し
て反応する。
【００２３】本発明による出発生成物として使用される
熱可塑性芳香族ポリカーボネートは、ホモポリカーボネ
ート及びコポリカーボネートの両方である。これらのポ
リカーボネートは、線状でも又は既知のやり方で分岐さ
れていても良い。
熱可塑性芳香族ポリカーボネートは、ホモポリカーボネ
ート及びコポリカーボネートの両方である。これらのポ
リカーボネートは、線状でも又は既知のやり方で分岐さ
れていても良い。
【００２４】本発明に従って安定化される出発ポリカー
ボネートは、ジフェノール、炭酸誘導体、必要に応じて
連鎖停止剤及び必要に応じて分岐剤から既知のやり方で
製造される。
ボネートは、ジフェノール、炭酸誘導体、必要に応じて
連鎖停止剤及び必要に応じて分岐剤から既知のやり方で
製造される。
【００２５】ポリカーボネートの製造の詳細は、約４０
年の間多数の特許明細書中に記録されてきた。例えば、
Ｓｃｈｎｅｌｌ、“ポリカーボネートの化学及び物
理”、Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｒｅｖｉｅｗｓ、９巻、Ｉｎｔ
ｅｒｓｃｉｅｎｃｅ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ，Ｎｅｗ
Ｙｏｒｋ／Ｌｏｎｄｏｎ／Ｓｙｄｎｅｙ １９６４；
Ｄ．Ｆｒｅｉｔａｇ，Ｕ．Ｇｒｉｇｏ，Ｐ．Ｒ．Ｍｕｅ
ｌｌｅｒ，Ｈ．Ｎｏｎｖｅｒｔｕｅ，ＢＡＹＥＲ Ａ
Ｇ、ポリマー科学及び工学の百科事典中の“ポリカーボ
ネート”、１１巻、第二版、１９８８、６４８〜７１８
頁そして、最後に、Ｄｒｅｓ．Ｕ．Ｇｒｉｇｏ，Ｋ．Ｋ
ｉｒｃｈｎｅｒ及びＰ．Ｒ．Ｍｕｅｌｌｅｒ、Ｂｅｃｋ
ｅｒ／Ｂｒａｕｎ、プラスチックハンドブック中の“ポ
リカーボネート”、３／１巻、ポリカーボネート、ポリ
アセタール、ポリエステル、セルロースエステル、Ｃａ
ｒｌ Ｈａｎｓｅｒ Ｖｅｒｌａｇ Ｍｕｅｎｃｈｅｎ
／Ｗｉｅｎ，１９９２、１１７〜２９９頁を参照せよ。
年の間多数の特許明細書中に記録されてきた。例えば、
Ｓｃｈｎｅｌｌ、“ポリカーボネートの化学及び物
理”、Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｒｅｖｉｅｗｓ、９巻、Ｉｎｔ
ｅｒｓｃｉｅｎｃｅ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ，Ｎｅｗ
Ｙｏｒｋ／Ｌｏｎｄｏｎ／Ｓｙｄｎｅｙ １９６４；
Ｄ．Ｆｒｅｉｔａｇ，Ｕ．Ｇｒｉｇｏ，Ｐ．Ｒ．Ｍｕｅ
ｌｌｅｒ，Ｈ．Ｎｏｎｖｅｒｔｕｅ，ＢＡＹＥＲ Ａ
Ｇ、ポリマー科学及び工学の百科事典中の“ポリカーボ
ネート”、１１巻、第二版、１９８８、６４８〜７１８
頁そして、最後に、Ｄｒｅｓ．Ｕ．Ｇｒｉｇｏ，Ｋ．Ｋ
ｉｒｃｈｎｅｒ及びＰ．Ｒ．Ｍｕｅｌｌｅｒ、Ｂｅｃｋ
ｅｒ／Ｂｒａｕｎ、プラスチックハンドブック中の“ポ
リカーボネート”、３／１巻、ポリカーボネート、ポリ
アセタール、ポリエステル、セルロースエステル、Ｃａ
ｒｌ Ｈａｎｓｅｒ Ｖｅｒｌａｇ Ｍｕｅｎｃｈｅｎ
／Ｗｉｅｎ，１９９２、１１７〜２９９頁を参照せよ。
【００２６】本発明に従って安定化されるポリカーボネ
ートの製造のために適切なジフェノールは、例えば、ヒ
ドロキノン、レソルシノール、ジヒドロキシジフェニ
ル、ビス−（ヒドロキシフェニル）−アルカン、ビス−
（ヒドロキシフェニル）−シクロアルカン、ビス−（ヒ
ドロキシフェニル）−スルフィド、ビス−（ヒドロキシ
フェニル）−エーテル、ビス−（ヒドロキシフェニル）
−ケトン、ビス−（ヒドロキシフェニル）−スルホン、
ビス−（ヒドロキシフェニル）−スルホキシド、α，
α’−ビス−（ヒドロキシフェニル）−ジイソプロピル
ベンゼン、並びにこれらの核アルキル化及び核ハロゲン
化化合物である。
ートの製造のために適切なジフェノールは、例えば、ヒ
ドロキノン、レソルシノール、ジヒドロキシジフェニ
ル、ビス−（ヒドロキシフェニル）−アルカン、ビス−
（ヒドロキシフェニル）−シクロアルカン、ビス−（ヒ
ドロキシフェニル）−スルフィド、ビス−（ヒドロキシ
フェニル）−エーテル、ビス−（ヒドロキシフェニル）
−ケトン、ビス−（ヒドロキシフェニル）−スルホン、
ビス−（ヒドロキシフェニル）−スルホキシド、α，
α’−ビス−（ヒドロキシフェニル）−ジイソプロピル
ベンゼン、並びにこれらの核アルキル化及び核ハロゲン
化化合物である。
【００２７】好ましいジフェノールは、４，４’−ジヒ
ドロキシジフェニル、２，２−ビス−（４−ヒドロキシ
フェニル）−プロパン、２，４−ビス−（４−ヒドロキ
シフェニル）−２−メチルブタン、１，１−ビス−（４
−ヒドロキシフェニル）−ｐ−ジイソプロピルベンゼ
ン、２，２−ビス−（３−メチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）−プロパン、２，２−ビス−（３−クロロ−４−
ヒドロキシフェニル）−プロパン、ビス−（３，５−ジ
メチル−４−ヒドロキシフェニル）−メタン、２，２−
ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）
−プロパン、ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキ
シフェニル）−スルホン、２，４−ビス−（３，５−ジ
メチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−メチルブタ
ン、１，１−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキ
シフェニル）−ｐ−ジイソプロピルベンゼン、２，２−
ビス−（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）
−プロパン、２，２−ビス−（３，５−ジブロモ−４−
ヒドロキシフェニル）−プロパン及び１，１−ビス−
（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチル
シクロヘキサンである。
ドロキシジフェニル、２，２−ビス−（４−ヒドロキシ
フェニル）−プロパン、２，４−ビス−（４−ヒドロキ
シフェニル）−２−メチルブタン、１，１−ビス−（４
−ヒドロキシフェニル）−ｐ−ジイソプロピルベンゼ
ン、２，２−ビス−（３−メチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）−プロパン、２，２−ビス−（３−クロロ−４−
ヒドロキシフェニル）−プロパン、ビス−（３，５−ジ
メチル−４−ヒドロキシフェニル）−メタン、２，２−
ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）
−プロパン、ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキ
シフェニル）−スルホン、２，４−ビス−（３，５−ジ
メチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−メチルブタ
ン、１，１−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキ
シフェニル）−ｐ−ジイソプロピルベンゼン、２，２−
ビス−（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）
−プロパン、２，２−ビス−（３，５−ジブロモ−４−
ヒドロキシフェニル）−プロパン及び１，１−ビス−
（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチル
シクロヘキサンである。
【００２８】特に好ましいジフェノールは、２，２−ビ
ス−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、２，２−
ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）
−プロパン、２，２−ビス−（３，５−ジクロロ−４−
ヒドロキシフェニル）−プロパン、２，２−ビス−
（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）−プロ
パン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−シ
クロヘキサン及び１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェ
ニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンであ
る。
ス−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、２，２−
ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）
−プロパン、２，２−ビス−（３，５−ジクロロ−４−
ヒドロキシフェニル）−プロパン、２，２−ビス−
（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）−プロ
パン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−シ
クロヘキサン及び１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェ
ニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンであ
る。
【００２９】これらの及びその他の適切なジフェノール
は、例えば、ＵＳ−ＰＳＳ ３，０２８，６３５、２，
９９９，８３５、３，１４８，１７２、２，９９１，２
７３、３，２７１，３６７、４，９８２，０１４及び
２，９９９，８４６中に、ＤＥ−ＯＳＳ １ ５７０
７０３、２ ０６３ ０５０、２ ０３６ ０５２、２
２１１ ９５６及び３ ８３２ ３９６中に、ＦＲ−Ｐ
Ｓ １ ５６１ ５１８中に、“ポリカーボネートの化
学及び物理”という表題のＨ．Ｓｃｈｎｅｌｌによる書
籍、Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒ
ｓ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，１９６４中に、そして公開され
た日本特許出願６２０３９／１９８６、６２０４０／１
９８６及び１０５５５０／１９８６中に述べられてい
る。
は、例えば、ＵＳ−ＰＳＳ ３，０２８，６３５、２，
９９９，８３５、３，１４８，１７２、２，９９１，２
７３、３，２７１，３６７、４，９８２，０１４及び
２，９９９，８４６中に、ＤＥ−ＯＳＳ １ ５７０
７０３、２ ０６３ ０５０、２ ０３６ ０５２、２
２１１ ９５６及び３ ８３２ ３９６中に、ＦＲ−Ｐ
Ｓ １ ５６１ ５１８中に、“ポリカーボネートの化
学及び物理”という表題のＨ．Ｓｃｈｎｅｌｌによる書
籍、Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒ
ｓ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，１９６４中に、そして公開され
た日本特許出願６２０３９／１９８６、６２０４０／１
９８６及び１０５５５０／１９８６中に述べられてい
る。
【００３０】ホモポリカーボネートの場合には、ただ一
つのジフェノールを使用する。コポリカーボネートの場
合には、幾つかのジフェノールを使用する。
つのジフェノールを使用する。コポリカーボネートの場
合には、幾つかのジフェノールを使用する。
【００３１】適切な炭酸誘導体は、例えば、ホスゲン又
は炭酸ジフェニルである。
は炭酸ジフェニルである。
【００３２】適切な連鎖停止剤は、モノフェノール及び
モノカルボン酸の両方である。適切なモノフェノール
は、フェノールそれ自体、アルキルフェノール、例えば
クレゾール、ｐ−ｔｅｒｔ．−ブチルフェノール、ｐ−
ｎ−オクチルフェノール、ｐ−イソ−オクチルフェノー
ル、ｐ−ｎ−ノニルフェノール及びｐ−イソ−ノニルフ
ェノール、並びにハロフェノール、例えばｐ−クロロフ
ェノール、２，４−ジクロロフェノール、ｐ−ブロモフ
ェノール及び２，４，６−トリブロモフェノールであ
る。
モノカルボン酸の両方である。適切なモノフェノール
は、フェノールそれ自体、アルキルフェノール、例えば
クレゾール、ｐ−ｔｅｒｔ．−ブチルフェノール、ｐ−
ｎ−オクチルフェノール、ｐ−イソ−オクチルフェノー
ル、ｐ−ｎ−ノニルフェノール及びｐ−イソ−ノニルフ
ェノール、並びにハロフェノール、例えばｐ−クロロフ
ェノール、２，４−ジクロロフェノール、ｐ−ブロモフ
ェノール及び２，４，６−トリブロモフェノールであ
る。
【００３３】適切なモノカルボン酸は、安息香酸、アル
キル安息香酸及びハロ安息香酸である。
キル安息香酸及びハロ安息香酸である。
【００３４】好ましい連鎖停止剤は、式（ＩＶ）：
【００３５】
【化５】
【００３６】［式中、Ｒは、分岐した又は分岐していな
いＣ8及び／又はＣ9アルキル基である］に対応するフェ
ノールである。
いＣ8及び／又はＣ9アルキル基である］に対応するフェ
ノールである。
【００３７】使用される連鎖停止剤の量は、使用される
ジフェノールのモル数を基にして０．１モル％〜５モル
％である。連鎖停止剤は、ホスゲン化の前に、間に、又
は後で添加することができる。
ジフェノールのモル数を基にして０．１モル％〜５モル
％である。連鎖停止剤は、ホスゲン化の前に、間に、又
は後で添加することができる。
【００３８】適切な分岐剤は、ポリカーボネート化学に
おいて知られた三官能又は三官能より多い化合物、更に
特別には３又は３より多いフェノール性ＯＨ基を含む化
合物である。
おいて知られた三官能又は三官能より多い化合物、更に
特別には３又は３より多いフェノール性ＯＨ基を含む化
合物である。
【００３９】適切な分岐剤は、例えば、フロログルシノ
ール、４，６−ジメチル−２，４，６−トリ−（４−ヒ
ドロキシフェニル）−ヘプト−２−エン、４，６−ジメ
チル−２，４，６−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）
−ヘプタン、１，３，５−トリ−（４−ヒドロキシフェ
ニル）−ベンゼン、１，１，１−トリ−（４−ヒドロキ
シフェニル）−エタン、トリ−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−フェニルメタン、２，２−ビス−［４，４−ビス
−（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキシル］−プ
ロパン、２，４−ビス−（４−ヒドロキシフェニルイソ
プロピル）−フェノール、２，６−ビス−（２−ヒドロ
キシ−５’−メチルベンジル）−４−メチルフェノー
ル、２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−（２，４−
ジヒドロキシフェニル）−プロパン、ヘキサ−（４−
（４−ヒドロキシフェニルイソプロピル）−フェニル）
−オルトテレフタル酸エステル、テトラ−（４−ヒドロ
キシフェニル）−メタン、テトラ−（４−（４−ヒドロ
キシフェニルイソプロピル）−フェノキシ）−メタン及
び１，４−ビス−（４’，４”−ジヒドロキシトリフェ
ニル）−メチル）−ベンゼン及び２，４−ジヒドロキシ
安息香酸、トリメシン酸、塩化シアヌル及び３，３−ビ
ス−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−オ
キソ−２，３−ジヒドロインドールである。
ール、４，６−ジメチル−２，４，６−トリ−（４−ヒ
ドロキシフェニル）−ヘプト−２−エン、４，６−ジメ
チル−２，４，６−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）
−ヘプタン、１，３，５−トリ−（４−ヒドロキシフェ
ニル）−ベンゼン、１，１，１−トリ−（４−ヒドロキ
シフェニル）−エタン、トリ−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−フェニルメタン、２，２−ビス−［４，４−ビス
−（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキシル］−プ
ロパン、２，４−ビス−（４−ヒドロキシフェニルイソ
プロピル）−フェノール、２，６−ビス−（２−ヒドロ
キシ−５’−メチルベンジル）−４−メチルフェノー
ル、２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−（２，４−
ジヒドロキシフェニル）−プロパン、ヘキサ−（４−
（４−ヒドロキシフェニルイソプロピル）−フェニル）
−オルトテレフタル酸エステル、テトラ−（４−ヒドロ
キシフェニル）−メタン、テトラ−（４−（４−ヒドロ
キシフェニルイソプロピル）−フェノキシ）−メタン及
び１，４−ビス−（４’，４”−ジヒドロキシトリフェ
ニル）−メチル）−ベンゼン及び２，４−ジヒドロキシ
安息香酸、トリメシン酸、塩化シアヌル及び３，３−ビ
ス−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−オ
キソ−２，３−ジヒドロインドールである。
【００４０】必要に応じた分岐剤を使用する量は、再び
使用するジフェノールのモル数を基にして０．０５モル
％〜２モル％である。
使用するジフェノールのモル数を基にして０．０５モル
％〜２モル％である。
【００４１】分岐剤は、水性アルカリ性相中のジフェノ
ール及び連鎖停止剤と共に最初に導入しても良く、又は
ホスゲン化反応前に有機溶媒中の溶液の形で添加しても
良い。エステル交換法の場合には、分岐剤はジフェノー
ルと一緒に使用する。
ール及び連鎖停止剤と共に最初に導入しても良く、又は
ホスゲン化反応前に有機溶媒中の溶液の形で添加しても
良い。エステル交換法の場合には、分岐剤はジフェノー
ルと一緒に使用する。
【００４２】出発ポリカーボネートの製造のためのすべ
てのこれらの手段は、専門家には良く知られている。
てのこれらの手段は、専門家には良く知られている。
【００４３】式（Ｉ）に対応する化合物は文献から知ら
れているか、又は例えば以下の反応機構に従って文献か
ら知られている方法によって得ることができる：
れているか、又は例えば以下の反応機構に従って文献か
ら知られている方法によって得ることができる：
【００４４】
【化６】
【００４５】例えばＥＰ−Ｂ ０ ０５７ １６０、７
頁を参照せよ。
頁を参照せよ。
【００４６】以下のものは、式（Ｉ）に対応する好まし
い化合物である：
い化合物である：
【００４７】
【化７】
【００４８】適切な炭酸ジアリールは、例えば、炭酸ジ
フェニル及び炭酸ジクレシルである。
フェニル及び炭酸ジクレシルである。
【００４９】必要に応じて加えて使用されるジフェノー
ルは、ポリカーボネートの製造のために上で述べたもの
に相当する。
ルは、ポリカーボネートの製造のために上で述べたもの
に相当する。
【００５０】本発明による方法によって得られるポリカ
ーボネートは、溶融液を押出しそして押出物を粒状化す
ることによって既知のやり方で単離される。
ーボネートは、溶融液を押出しそして押出物を粒状化す
ることによって既知のやり方で単離される。
【００５１】本発明による方法によって得られるポリカ
ーボネートは、１，５００〜１５０，０００の範囲のそ
して好ましくは５，０００〜１００，０００の範囲の平
均分子量Ｍｗ（重量平均、光散乱によって測定して）を
有する。
ーボネートは、１，５００〜１５０，０００の範囲のそ
して好ましくは５，０００〜１００，０００の範囲の平
均分子量Ｍｗ（重量平均、光散乱によって測定して）を
有する。
【００５２】ポリカーボネートのために典型的に使用さ
れる添加剤は、本発明による方法によって得られるポリ
カーボネートにも添加することができる。本発明による
方法によって得られるポリカーボネートは、種々の成形
物品、例えばフィルム、シート、繊維及びその他の射出
成形及び押出成形物品に成形するために既知のやり方で
成形することができる。
れる添加剤は、本発明による方法によって得られるポリ
カーボネートにも添加することができる。本発明による
方法によって得られるポリカーボネートは、種々の成形
物品、例えばフィルム、シート、繊維及びその他の射出
成形及び押出成形物品に成形するために既知のやり方で
成形することができる。
【００５３】本発明に従って得られるＵＶ安定ポリカー
ボネートはまた、支持コア層が、例えば、ＡＢＳ、線状
の又は分岐したポリスチレン、好ましくは線状の又は分
岐したポリカーボネートから成り、そして構造（Ｉ）を
含む本発明によるポリカーボネートがコア層の片側又は
両側に付与される（多重）同時押出法によって多層プラ
スチックパネルの製造のために使用することもできる。
本発明に従って得られる好ましいポリカーボネートは、
この特別な応用のためには１重量％〜１５重量％そして
好ましくは５〜１０重量％の結合された構造（Ｉ）を含
む。
ボネートはまた、支持コア層が、例えば、ＡＢＳ、線状
の又は分岐したポリスチレン、好ましくは線状の又は分
岐したポリカーボネートから成り、そして構造（Ｉ）を
含む本発明によるポリカーボネートがコア層の片側又は
両側に付与される（多重）同時押出法によって多層プラ
スチックパネルの製造のために使用することもできる。
本発明に従って得られる好ましいポリカーボネートは、
この特別な応用のためには１重量％〜１５重量％そして
好ましくは５〜１０重量％の結合された構造（Ｉ）を含
む。
【００５４】ＵＶ吸収層の層厚さは５μｍ〜５０μｍで
なければならない。実質的にＵＶ吸収剤を含まないもう
一つの外側層は、３０μｍまでの層厚さでコア層から離
れた側に付与することができる。
なければならない。実質的にＵＶ吸収剤を含まないもう
一つの外側層は、３０μｍまでの層厚さでコア層から離
れた側に付与することができる。
【００５５】それらの高いガラス温度及び溶融粘度のお
陰で、本発明に従って得られるＵＶ安定ポリカーボネー
トは、最後に述べた応用（同時押出）において、そのガ
ラス温度及び溶融粘度がＵＶ吸収剤の含量が増加するに
つれて明らかに減少する切り離して添加されたＵＶ吸収
剤を含むポリカーボネートに勝る特別な加工関連の利点
を示す。これに関して、特別な意義はまた、これまでの
ところ切り離してだけ添加されてきた光安定剤の揮発性
及び移動安定性に帰する。蒸発する又は浸み出るＵＶ吸
収剤は、被覆を形成する可能性があり又は複雑な押出ノ
ズルを閉塞させる可能性があり、これらに加えて高度に
濃縮された外側層は、溶融液中の固定されていないＵＶ
吸収剤の移動によってＵＶ吸収剤を失い、それによって
その保護機能の一部を失う可能性がある。これらのすべ
ての欠点は、本発明に従って内部的に保護されたポリカ
ーボネートを使用することによって回避することができ
る。
陰で、本発明に従って得られるＵＶ安定ポリカーボネー
トは、最後に述べた応用（同時押出）において、そのガ
ラス温度及び溶融粘度がＵＶ吸収剤の含量が増加するに
つれて明らかに減少する切り離して添加されたＵＶ吸収
剤を含むポリカーボネートに勝る特別な加工関連の利点
を示す。これに関して、特別な意義はまた、これまでの
ところ切り離してだけ添加されてきた光安定剤の揮発性
及び移動安定性に帰する。蒸発する又は浸み出るＵＶ吸
収剤は、被覆を形成する可能性があり又は複雑な押出ノ
ズルを閉塞させる可能性があり、これらに加えて高度に
濃縮された外側層は、溶融液中の固定されていないＵＶ
吸収剤の移動によってＵＶ吸収剤を失い、それによって
その保護機能の一部を失う可能性がある。これらのすべ
ての欠点は、本発明に従って内部的に保護されたポリカ
ーボネートを使用することによって回避することができ
る。
【００５６】従って、本発明はまた、シート、例えば充
実シート及び多壁シートの製造のための、そして多層プ
ラスチックパネルの製造のための本発明に従って得られ
るポリカーボネートの使用に関する。なおこの多層プラ
スチックパネルにおいては、１重量％〜１５重量％の式
（Ｉ）の末端基を含む本発明に従って得られるポリカー
ボネートから成る外側層の層厚さは、５〜５０μｍそし
て好ましくは２０〜４０μｍである。
実シート及び多壁シートの製造のための、そして多層プ
ラスチックパネルの製造のための本発明に従って得られ
るポリカーボネートの使用に関する。なおこの多層プラ
スチックパネルにおいては、１重量％〜１５重量％の式
（Ｉ）の末端基を含む本発明に従って得られるポリカー
ボネートから成る外側層の層厚さは、５〜５０μｍそし
て好ましくは２０〜４０μｍである。
【００５７】
【実施例】Ａ：ＵＶ吸収出発生成物
Ａ１：２−（２−ヒドロキシ−３−ｔｅｒｔ．−ブチル
−５−（２−カルボキシエチル）−フェニルベンズトリ
アゾール Ｍｐ．１９５℃（ＥＰ ５７ １６０、実施例１に従っ
て製造した） Ａ２：２−（２−ヒドロキシ−３−シクロヘキシル−５
−（３−カルボキシプロピル）−フェニルベンズトリア
ゾール （ａ）１３２ｇ（０．７５モル）の２−シクロヘキシル
フェノールを、８００ｍｌの無水クロロベンゼン中に溶
かす。次に、２００ｇ（１．５モル）のＡｌＣｌ3を５
〜１０℃で添加し、次に、４００ｍｌのクロロベンゼン
中の７３．５ｇ（０．７５モル）の無水マレイン酸の溶
液を０〜１０℃で導入する。室温での１２時間後に、反
応混合物を氷水の上に注ぎそして濃ＨＣｌによって酸性
にする。１８７〜１９０℃で溶融する８５ｇの黄色の粉
末が得られる。
−５−（２−カルボキシエチル）−フェニルベンズトリ
アゾール Ｍｐ．１９５℃（ＥＰ ５７ １６０、実施例１に従っ
て製造した） Ａ２：２−（２−ヒドロキシ−３−シクロヘキシル−５
−（３−カルボキシプロピル）−フェニルベンズトリア
ゾール （ａ）１３２ｇ（０．７５モル）の２−シクロヘキシル
フェノールを、８００ｍｌの無水クロロベンゼン中に溶
かす。次に、２００ｇ（１．５モル）のＡｌＣｌ3を５
〜１０℃で添加し、次に、４００ｍｌのクロロベンゼン
中の７３．５ｇ（０．７５モル）の無水マレイン酸の溶
液を０〜１０℃で導入する。室温での１２時間後に、反
応混合物を氷水の上に注ぎそして濃ＨＣｌによって酸性
にする。１８７〜１９０℃で溶融する８５ｇの黄色の粉
末が得られる。
【００５８】（ｂ）３４．５ｇ（０．２５モル）のｏ−
ニトロアニリンを、３００ｍｌの水及び６９ｍｌの濃Ｈ
Ｃｌ中に撹拌して入れる。次に、１５５ｍｌの水の中の
１７．３ｇ（０．２５モル）の亜硝酸ナトリウムの溶液
を５℃で滴加する。次に、この溶液を、１リットルの水
の中の６８．５ｇ（０．２５モル）の段階Ａ３（ａ）か
らの化合物及び７９．５ｇ（０．７５モル）の炭酸ナト
リウムの溶液に５℃で滴加する。１５５℃で溶融する１
１７ｇの茶色の固体が得られる。
ニトロアニリンを、３００ｍｌの水及び６９ｍｌの濃Ｈ
Ｃｌ中に撹拌して入れる。次に、１５５ｍｌの水の中の
１７．３ｇ（０．２５モル）の亜硝酸ナトリウムの溶液
を５℃で滴加する。次に、この溶液を、１リットルの水
の中の６８．５ｇ（０．２５モル）の段階Ａ３（ａ）か
らの化合物及び７９．５ｇ（０．７５モル）の炭酸ナト
リウムの溶液に５℃で滴加する。１５５℃で溶融する１
１７ｇの茶色の固体が得られる。
【００５９】（ｃ）２００ｍｌの２ＮのＮａＯＨを４
２．５ｇ（０．１モル）の段階Ａ３（ｂ）からの４２．
５ｇ（０．１モル）のアゾ染料に添加する。次に、５０
ｇの亜鉛粉末を添加し、そして８０ｍｌの１０ＮのＮａ
ＯＨを、温度が４５℃までに留まるように１時間の期間
にわたって流し込む。次に、この反応混合物を４時間の
間９０℃に加熱しそして濾過し、そして濾液をＨＣｌに
よって酸性にする。シクロヘキサンからの再結晶は、１
６５℃で溶融する無色の結晶の形の３１ｇの２−（２−
ヒドロキシ−３−シクロヘキシル−５−（３−カルボキ
シプロピル）−フェニルベンズトリアゾールを与える。
２．５ｇ（０．１モル）の段階Ａ３（ｂ）からの４２．
５ｇ（０．１モル）のアゾ染料に添加する。次に、５０
ｇの亜鉛粉末を添加し、そして８０ｍｌの１０ＮのＮａ
ＯＨを、温度が４５℃までに留まるように１時間の期間
にわたって流し込む。次に、この反応混合物を４時間の
間９０℃に加熱しそして濾過し、そして濾液をＨＣｌに
よって酸性にする。シクロヘキサンからの再結晶は、１
６５℃で溶融する無色の結晶の形の３１ｇの２−（２−
ヒドロキシ−３−シクロヘキシル−５−（３−カルボキ
シプロピル）−フェニルベンズトリアゾールを与える。
【００６０】Ｂ：本発明によるポリカーボネートの製造
３３．９ｇの化合物Ａ１、１０．７ｇの炭酸ジフェニ
ル、及び３０１ｇの１．２８の溶液粘度を有するビスフ
ェノールＡを基にした線状ポリカーボネートを、均一化
しそして３２０℃に１時間の間真空中で（０．１ｎｍ）
加熱する。１．１８の相対溶液粘度（１００ｍｌの塩化
メチレン中の０．５ｇ）を有する黄色みがかったポリマ
ーが得られる。ＵＶ検出（３５０ｎｍ）及びＵＶ検出
（２５４ｎｍ）を使用する時に、ゲルパーミエーション
クロマトグラフィーは化合物Ａ１がポリマー中に均一に
組み込まれていることを示す。
ル、及び３０１ｇの１．２８の溶液粘度を有するビスフ
ェノールＡを基にした線状ポリカーボネートを、均一化
しそして３２０℃に１時間の間真空中で（０．１ｎｍ）
加熱する。１．１８の相対溶液粘度（１００ｍｌの塩化
メチレン中の０．５ｇ）を有する黄色みがかったポリマ
ーが得られる。ＵＶ検出（３５０ｎｍ）及びＵＶ検出
（２５４ｎｍ）を使用する時に、ゲルパーミエーション
クロマトグラフィーは化合物Ａ１がポリマー中に均一に
組み込まれていることを示す。
フロントページの続き
(56)参考文献 特開 平６−107779（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
C08G 64/00 - 64/42
ＷＰＩ／Ｌ（ＱＵＥＳＴＥＬ)
Claims (5)
- 【請求項１】 １，５００〜２５０，０００の範囲のＭ
ｗ値（光散乱によって測定した重量平均分子量）を有す
る熱可塑性芳香族ポリカーボネートを、熱可塑性ポリカ
ーボネートの１００重量％を基にして０．０１重量％〜
３５重量％の量の式（Ｉ）： 【化１】 ［式中、 Ｒ1は、Ｈ、Ｃ1-18アルキル、Ｃ5-6シクロアルキル、Ｃ
6-12アリールを表し Ｒ2は、Ｈ、Ｃｌ又はＣ1-12アルキルを表し、 Ｘは、単結合、Ｃ1-12アルキレン、Ｃ5-6シクロアルキ
レン又はフェニレンであり、そして Ｙは、ＯＨ、Ｏ−アルカリ、−Ｏ−アンモニウム又はＯ
−（１／２アルカリ土類金属）である］に対応する化合
物、１モルの化合物（Ｉ）あたり０．５〜１．５モルの
炭酸ジアリールと、２００〜４２０℃の温度で、０．０
１ｍｂａｒ〜１，０００ｍｂａｒの圧力下で反応させる
ことを特徴とする、ＵＶ安定ポリカーボネートの製造方
法。 - 【請求項２】 反応時間が１〜６０分の範囲である請求
項１記載の方法。 - 【請求項３】 請求項１記載の方法によって得られるＵ
Ｖ安定ポリカーボネート。 - 【請求項４】 シートの製造のために請求項３記載のポ
リカーボネートを使用する方法。 - 【請求項５】 多層プラスチックパネルの製造のために
請求項３記載のポリカーボネートを使用する方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19944429697 DE4429697A1 (de) | 1994-08-22 | 1994-08-22 | Verfahren zur Herstellung von UV-stabilen Polycarbonaten |
| DE4429697.5 | 1994-08-22 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0867750A JPH0867750A (ja) | 1996-03-12 |
| JP3395936B2 true JP3395936B2 (ja) | 2003-04-14 |
Family
ID=6526248
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23067395A Expired - Fee Related JP3395936B2 (ja) | 1994-08-22 | 1995-08-17 | Ｕｖ安定ポリカーボネートの製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5712362A (ja) |
| EP (1) | EP0703263A1 (ja) |
| JP (1) | JP3395936B2 (ja) |
| DE (1) | DE4429697A1 (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6096852A (en) * | 1998-05-12 | 2000-08-01 | General Electric Company | UV-stabilized and other modified polycarbonates and method of making same |
| US6500890B2 (en) | 2000-12-15 | 2002-12-31 | Wellman, Inc. | Polyester bottle resins having reduced frictional properties and methods for making the same |
| MXPA03005347A (es) | 2000-12-15 | 2003-10-06 | Wellman Inc | Metodos de inyeccion de post-polimerizacion en la produccion de polimero de condensacion. |
| US6569991B2 (en) | 2000-12-15 | 2003-05-27 | Wellman, Inc. | Methods of post-polymerization extruder injection in polyethylene terephthalate production |
| US6599596B2 (en) | 2000-12-15 | 2003-07-29 | Wellman, Inc. | Methods of post-polymerization injection in continuous polyethylene terephthalate production |
| US6590069B2 (en) | 2000-12-15 | 2003-07-08 | Wellman, Inc. | Methods of post-polymerization extruder injection in condensation polymer production |
| US7759449B2 (en) * | 2000-12-15 | 2010-07-20 | Wellman, Inc. | Methods for introducing additives into polyethylene terephthalate |
| US20030039783A1 (en) | 2001-03-30 | 2003-02-27 | Stafford Steven Lee | Polyesters and polyester containers having a reduced coefficient of friction and improved clarity |
Family Cites Families (31)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1007996B (de) | 1955-03-26 | 1957-05-09 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung thermoplastischer Kunststoffe |
| US2991273A (en) | 1956-07-07 | 1961-07-04 | Bayer Ag | Process for manufacture of vacuum moulded parts of high molecular weight thermoplastic polycarbonates |
| US3148172A (en) | 1956-07-19 | 1964-09-08 | Gen Electric | Polycarbonates of dihydroxyaryl ethers |
| US2999846A (en) | 1956-11-30 | 1961-09-12 | Schnell Hermann | High molecular weight thermoplastic aromatic sulfoxy polycarbonates |
| US2999835A (en) | 1959-01-02 | 1961-09-12 | Gen Electric | Resinous mixture comprising organo-polysiloxane and polymer of a carbonate of a dihydric phenol, and products containing same |
| US3028635A (en) | 1959-04-17 | 1962-04-10 | Schlumberger Cie N | Advancing screw for gill box |
| US3214436A (en) | 1960-12-19 | 1965-10-26 | American Cyanamid Co | Benzotriazole compounds |
| GB1122003A (en) | 1964-10-07 | 1968-07-31 | Gen Electric | Improvements in aromatic polycarbonates |
| NL152889B (nl) | 1967-03-10 | 1977-04-15 | Gen Electric | Werkwijze ter bereiding van een lineair polycarbonaatcopolymeer, alsmede orienteerbare textielvezel van dit copolymeer. |
| DE2036052A1 (en) | 1970-07-21 | 1972-01-27 | Milchwirtschafthche Forschungs und Untersuchungs Gesellschaft mbH, 2100 Hamburg | Working up of additives in fat and protein - contng foodstuffs |
| DE2063050C3 (de) | 1970-12-22 | 1983-12-15 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Verseifungsbeständige Polycarbonate, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung |
| DE2211956A1 (de) | 1972-03-11 | 1973-10-25 | Bayer Ag | Verfahren zur herstellung verseifungsstabiler blockcopolycarbonate |
| JPS4999596A (ja) * | 1973-01-25 | 1974-09-20 | ||
| US4101519A (en) * | 1977-04-12 | 1978-07-18 | General Electric Company | Polycarbonate equilibration method |
| DE3264154D1 (en) * | 1981-01-23 | 1985-07-25 | Ciba Geigy Ag | 2-(2-hydroxyphenyl)-benzotriazoles, their use as ultraviolet stabilizers and their preparation |
| US4853471A (en) * | 1981-01-23 | 1989-08-01 | Ciba-Geigy Corporation | 2-(2-Hydroxyphenyl)-benztriazoles, their use as UV-absorbers and their preparation |
| DE3244953C2 (de) * | 1982-12-04 | 1984-11-29 | Röhm GmbH, 6100 Darmstadt | Verfahren zur Herstellung einer Hohlkammerkunststofftafel |
| DE3320260A1 (de) | 1983-06-04 | 1984-12-06 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Diphenolmonoester von carbonsaeuren, ein verfahren zu ihrer herstellung, ihre verwendung zur herstellung von polyestercarbonaten, die erfindungsgemaess erhaeltlichen polyestercarbonate sowie flammwidrige formmassen enthaltend diese polyestercarbonate |
| JPS6162039A (ja) | 1984-09-04 | 1986-03-29 | Fuji Xerox Co Ltd | 電子写真用感光体 |
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