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JP3370674B2 - 線状低密度ポリエチレンフィルム - Google Patents

線状低密度ポリエチレンフィルム

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JP3370674B2
JP3370674B2 JP51526294A JP51526294A JP3370674B2 JP 3370674 B2 JP3370674 B2 JP 3370674B2 JP 51526294 A JP51526294 A JP 51526294A JP 51526294 A JP51526294 A JP 51526294A JP 3370674 B2 JP3370674 B2 JP 3370674B2
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は線状低密度ポリエチレン（LLDPE）フィルム
に関する。本明細書中の全ての密度は他に記載しない限
りg/cm3単位である。
本発明は広く、少なくとも0.900g/cm3の密度及び15〜
25のMFRを示す線状低密度ポリエチレンを含んで成るフ
ィルムに関する。
本発明の一面にしたがい、ASTM Ｄ−1003により測定
して３〜20の範囲の曇り度、ASTM Ｄ−1709により測定
して約100〜2000の落槍衝撃値、0.3〜1.2重量％のヘキ
サン抽出物含量を示すフィルムであって、エチレンと炭
素数３〜10のアルファオレフィンを含み、かつ0.900〜
0.929の密度、15〜25のMFR、2.5〜3.0のMw/Mn及び95℃
〜135℃の融点を有する前記フィルムが提供される。
好ましくは、本フィルムは0.01〜5.0、好ましくは0.1
〜5.0、さらに好ましくは0.5〜3.0、そして最も好まし
くは0.8〜2.0のMI（I2）であることを特徴とする。
アルファオレフィンは好ましくはヘキセン−１であ
る。
落槍衝撃値は好ましくは800〜2000である。
好ましくは密度は0.911〜0.929、さらに好ましくは0.
911〜0.922である。
フィルムがASTM D882により測定して0.7〜3000psi
（4.8〜21000kPa）、さらに好ましくは1.4〜3000psi
（9.6〜21000kPa）の引張降伏を特徴とすることが好ま
しい。
本発明の他の面にしたがい、乾燥状態であり溶媒を含
まない合成されたままの（as−synthesized）（合成後
に他の加工をしていない）組成物が提供される。この組
成物は球形で、非−多孔質の、0.015〜0.035インチ（0.
38〜0.89mm）の平均粒子サイズ及び25〜36lb/ft3（400
〜577kg/m3）の沈降（settled）嵩密度を有する粒子を
含み、この粒子は、0.911〜0.929の密度、15〜20のMFR
及び2.5〜3.0のMw/Mnを有する、エチレンとアルファオ
レフィンとのコポリマーである。
本組成物は本発明によるフィルムに関して上述した全
ての特徴の組合せを備え得る。
本発明の他の面にしたがい、乾燥状態であり溶媒を含
まない合成されたままの組成物を製造するためのガス相
における方法が提供される。この組成物は球形で、非−
多孔質の、0.015〜0.035インチ（0.38〜0.89mm）の平均
粒子サイズ及び25〜36lb/ft3（400〜577kg/m3）の沈降
嵩密度を有する粒子を含み、この粒子は、0.911〜0.929
の密度、15〜20のMFR及び2.5〜3.0のMw/Mnを有する、エ
チレンとアルファオレフィンとのコポリマーである。本
方法は、60℃〜95℃の温度、100〜350psi（690〜2400kP
a）の圧力においてエチレンを触媒と接触させることを
含み、ここで触媒は反応性ヒドロキシル基を有しかつジ
ルコノセン（zirconocene）の化合物及びアルミノキサ
ン（aluminoxane）で含浸されたシリカ（Al対Zrの比は5
0〜500）から成る。
コポリマー生成物 触媒法により製造された本発明のLLDPE生成物は種々
の新規な特性を有する。
コポリマー生成物は0.1〜2ppmのZrを含有し得る。本
組成物は0.015〜0.035インチ（0.38〜0.89mm）の平均粒
子サイズ及び25〜36lb/ft3（400〜577kg/m3）の沈降嵩
密度を有する。この粒子は球形であり、非−多孔質であ
る。
生成物は低密度であり、0.902の程度に低いことを特
徴とする。本明細書中での用途のために、密度は0.900
より大きく、一般には0.910より大きく、好ましくは0.9
11〜0.929、最も好ましくは0.915〜0.922である。
重要なことに、狭い分子量分布の低密コポリマーは１
〜0.01のMIで製造される。本発明の低密度生成物は0.01
〜５、一般には0.1〜５、好ましくは0.5〜４、最も好ま
しくは0.8〜2.0の範囲であることができるMIを示す。イ
ンフレートフィルム用には、コポリマーのMIは好ましく
は0.5〜1.5であり、キャストフィルム用にはMIは好まし
くは２〜４である。
本発明の低密度生成物は15〜25、好ましくは15〜20の
メルトフロー比（MFR）を示す。実施例の生成物中で
は、MFRは16〜18である。MFRはI21/I2（I21はASTM Ｄ
−1238条件Ｆにしたがい190℃で測定し、I2はASTM Ｄ
−1238条件Ｅにしたがい190℃で測定）の比である。
本生成物の融点は95℃〜135℃である。さらに、ヘキ
サン抽出物含量は非常に低く、典型系には0.3〜1.0重量
％である。本生成物のMw/Mnは2.5〜3.0であり、Mwは重
量平均分子量であり、Mnは数平均分子量であり、それぞ
れGPC（ゲル透過クロマトグラフィー）によって測定さ
れた分子量分布から計算される。
フィルムへと製作したとき、このコポリマーのフィル
ムはASTM D1922により測定して、縦方向に50〜600、好
ましくは220〜420、そして横方向に200〜700、好ましく
は200〜600のバランスのとれた引裂強度を示す。これら
はまたASTM D882により測定して10000〜60000psi（69
〜410MPa）、好ましくは22000〜45000psi（150〜310MP
a）の高いモジュラス値及びASTM D882により測定して
0.7〜3000psi（4.8〜21000KPa）、好ましくは1.8〜2300
psi（12〜16000KPa）の高い引張降伏値を与える。
フィルムへと製作したとき、本コポリマーのフィルム
は曇り度試験ASTM Ｄ−1003により測定した優秀な光学
的品質を示す。これは曇り度が好ましくは約３〜約20、
好ましくは４〜10であることを意味する。曇り特性の劣
ったフィルムは10より大きい曇り度を示す。LLDPEの光
学的性質の重要性はLLDPE樹脂の意図される用途に依存
する。通常のLLDPEの乏しい光学的特性（曇り度＞10、
及び光沢＜50）は、フィルムの光学性が重要な用途にお
けるそれらの使用を著しく制限することは一般に受容さ
れている。
改善された光学的性質（曇り度＜10、及び光沢＞70）
を有する本発明のLLDPEはその用途領域を著しく拡げ
る。
フィルムへと製作したとき、本フィルムはASTM Ｄ−
1709,A法により測定した落槍衝撃特性を示す。例えば、
本発明のフィルムは従来公知の触媒で製造したフィルム
を越える優秀な落槍衝撃値を示す。本発明のフィルムは
ASTM Ｄ−1709により測定して100〜2000、好ましくは1
50〜1500の落槍衝撃値を示す。最も好ましいフィルムは
0.911〜0.922の密度及び800より大、概して800〜1500、
そして生成物が非破壊性であると特徴づける測定値まで
の落槍衝撃値、例えば2000の落槍衝撃値を示す。
上記の性質は実施例に概略した標準の製作条件下に3/
4インチ（1.9cm）ブラベンダー押出機、2 1/2"（6.4c
m）ブランプトンフィルム押出機または3 1/2"（8.9cm）
グロースターフィルム押出機で製造した１ミル（25ミク
ロン）のフィルムについてのものである。フィルムの性
質が作製条件を最適化することによって、またはLDPEの
添加若しくは核剤の添加によってさらに修正され得るこ
とは本技術分野に詳しい者に明らかである。
本コポリマーは本発明にしたがい、エチレンと１種以
上のC3〜C10アルファオレフィンとで製造される。本コ
ポリマーは少なくとも80重量％のエチレン単位を含有す
る。本発明において使用されるコモノマーは好ましくは
３〜８個の炭素原子を含有する。適切なアルファオレフ
ィンはプロピレン、ブテン−１、ペンテン−１、ヘキセ
ン−１、４−メチルペンテン−１、ヘプテン−１及びオ
クテン−１を含む。好ましくはアルファオレフィンコモ
ノマーは１−ブテン、１−ヘキセン、及び１−オクテン
である。最も好ましいアルファオレフィンはヘキセン−
１である。したがって、２種のモノマー単位を有するコ
ポリマー及び３種のモノマー単位を有するターポリマー
も可能である。そのようなポリマーの特定の例はエチレ
ン/1−ブテンコポリマー、エチレン/1−ヘキセンコポリ
マー、エチレン/4−メチル−１−ペンテンコポリマー、
エチレン/1−ブテン/1−ヘキセンターポリマー、エチレ
ン／プロピレン/1−ヘキセンターポリマー及びエチレン
／プロピレン/1−ブテンターポリマーを含む。
本発明の重合反応においては、連鎖移動剤として水素
が使用し得る。触媒に対して不活性の全てのガス及び反
応体もガス相に存在できる。
これらの生成物は触媒の存在下、好ましくは下記の、
スラリーまたは流動床触媒重合のいずれかの条件下で製
造される。ガス相流動床法で製造するときは（試験プラ
ント規模）、生成物は乾燥しており、溶媒を含まず、そ
して0.015〜0.035インチ（0.38〜0.89mm）の平均粒子サ
イズ及び25〜36lb/ft3（400〜577kg/m3）の沈降嵩密度
を有する、球形で非多孔質の粒子を含む。
触媒 本発明の樹脂及びフィルムを製造するのに使用する触
媒組成物は、少なくとも約2000gポリマー/g触媒または
約1000kgポリマー/g遷移金属の活性を有するメタロセン
の形態の１種の遷移金属を含有する。
この触媒は担体、アルミノキサン及び少なくとも１種
のメタロセンを含む。
担体の金属は固体で、粒状、多孔質の無機または有機
物質であるが、好ましくはケイ素及び／またはアルミニ
ウムの酸化物のような無機物質である。担体物質は約１
ミクロン〜約250ミクロン、好ましくは約10ミクロン〜
約150ミクロンの平均粒子サイズを有する乾燥粉末の形
態で使用される。もし必要であれば、処理した担体物質
を篩いにかけて、粒子が好ましくは150ミクロン未満の
平均粒子サイズを有することを確実にし得る。このこと
は狭い分子量のLLDPEを形成してゲルを減少させるため
に高度に望ましい。担体の表面積は少なくとも3m2/g、
好ましくは少なくとも約50m2/g〜約350m2/gである。担
体がシリカであるときは、それを好ましくは約100℃〜
約850℃、最も好ましくは約250℃に加熱する。担体物質
は、本発明の触媒組成物を生成するために少なくともい
くつかの活性ヒドロキシル（OH）基を有しなければなら
ない。
最も好ましい態様において、担体はシリカであり、第
１触媒合成工程における使用の前に、約1.8ミリモル/g
の表面ヒドロキシル基濃度を達成するためにシリカを窒
素と共に流動し、そして約250℃で約４時間加熱するこ
とによって脱水される。最も好ましい態様のシリカは高
い表面積の非晶質シリカ（表面積＝300m2/g）であり、
これはW.R.Grace and CompanyのDavison Chemical部
門により、Davison952−1836、Davison952またはDaviso
n955の商品名で市販されている物質である。シリカは例
えばスプレードライ法により得られるような球形の粒子
である。
触媒を形成するために、全ての触媒前駆体成分をアル
ミノキサンで溶解でき、そして担体と反応させることが
できる。担体物質をアルミノキサン溶液、好ましくはメ
チルアミノキサンと下記の方法で反応させる。アルミノ
キサンの等級は次の式によって示されるオリゴマー性線
状及び／または環式アルキルアルミノキサンを含む：オ
リゴマー性線状アルミノキサンについてはＲ−（Al
（Ｒ）−Ｏ）ｎ−AlR2、オリゴマー性環式アルミノキサ
ンについては（−Al（Ｒ）−Ｏ−）ｍ（式中、ｎは１〜
40、好ましくは10〜20、ｍは３〜40、好ましくは３〜20
であり、ＲはC1〜C8のアルキル基で好ましくはメチルで
ある）。
メチルアルミノキサン（MAO）は非常に広い分子量分
布の（通常は約1000の平均分子量の）オリゴマーの混合
物である。MAOは典型的にはトルエン中の溶液に保存さ
れる。
担体へのアルミノキサンの組込みの好ましい態様にお
いて、触媒合成の間の担体物質へのアルミノキサンの組
込みにおける１つの制御因子はシリカの気孔体積であ
る。この好ましい態様において、担体物質を含浸する方
法は、アルミノキサン溶液中でシリカのような担体物質
のスラリーを形成することがない、アルミノキサン溶液
の注入（infusion）による。アルミノキサンの溶液の体
積は、溶液の体積がシリカの気孔体積を越えるスラリー
を形成することなく、担体物質の気孔を満たすのに充分
である。したがって好ましくは、アルミノキサン溶液の
最大体積は担体物質試料の全気孔体積でありそれを越え
ない。アルミノキサン溶液の最大体積はシリカのスラリ
ーが形成されないことを保証する。したがって、担体物
質の気孔体積が1.65cm3/gであるとすると、アルミノキ
サンの体積は担体物質の1.65cm3/g以下である。この条
件の結果として、含浸された担体物質は、担体の気孔が
内部の溶液で満たされるにもかかわらず含浸の直後に乾
燥しているようにみえる。
溶媒は加熱及び／または窒素のような不活性ガスによ
って誘導される正圧下に、担体物質のアルミノキサンが
含浸された気孔から除去され得る。もし使用するなら、
この工程における条件は、含浸した担体粒子の凝集及び
／またはアルミノキサンの架橋を（除去しないにして
も）減じるために制御される。この工程において、溶媒
は約40℃〜約50℃の比較的低い高温で実行される蒸発に
よって除去できる。溶媒は約40〜約50℃と定義した温度
よりも高い温度で蒸発することによって除去できるが、
非常に短い加熱時間計画が使用されなければならない。
好ましい態様において、担体を溶液と反応させる前に
メタロセンがアルミノキサンの溶液に添加される。メタ
ロセンを含むアルミノキサン溶液最大体積は担体物質試
料の全気孔体積である。Alとして表現されるアルミノキ
サンとして与えられるアルミニウムの、Ｍと表現される
メタロセン金属（例えばZr）に対するモル比は50〜50
0、好ましくは75〜300、最も好ましくは100〜200であ
る。本発明の追加の利点はこのAl:Zr比が直接に制御で
きることである。好ましい態様において、アルミノキサ
ン及びメタロセン化合物は担体との反応の前に約20〜80
℃で0.1〜6.0時間互いに混合される。メタロセン及びア
ルミノキサンのための溶媒は芳香族炭化水素、ハロゲン
化炭化水素またはハロゲン化芳香族炭化水素のような適
切な溶媒であることができ、好ましくはトルエンであ
る。
メタロセン化合物は式CpmMAnBp（式中、Cpは非置換ま
たは置換シクロペンタジエニル基、Ｍはジルコニウムま
たはハフニウムであり、Ａ及びＢはハロゲン原子、水素
またはアルキル基を含む基に属する。）を有する。メタ
ロセン化合物の上記の式において、好ましい遷移金属原
子Ｍはジルコニウムである。メタロセン化合物の上記の
式において、Cp基は非置換のモノ−またはポリ置換シク
ロペンタジエニル基であることができる。シクロペンタ
ジエニル基の置換基は好ましくは直鎖または分岐C1〜C6
アルキル基であることができる。シクロペンタジエニル
基は、インデニル、テトラヒドロインデニル、フルオレ
ニルまたは部分的に水素化されたフルオレニル基のよう
な２環式または３環式の基の一部並びに置換された２環
式または３環式の基の一部であることができる。メタロ
セン化合物の上式のｍは２に等しい場合には、シクロペ
ンタジエニル基は−CH2−、−CH2−C2−、−CR'R"−及
び−CR'R"−CR'R"−（式中、R'及びR"は短アルキル基ま
たは水素である）、−Si（CH3）２−、−Si（CH3）２−
CH2−CH2−Si（CH3）２−及び同様の架橋基のようなポ
リメチレンまたはジアルキルシラン基によって架橋され
ていることもできる。メタロセン化合物の上式中の置換
基Ａ及びＢがハロゲン原子であるときは、それらはフッ
素、塩素、臭素または沃素の基に属する。メタロセン化
合物の上式中の置換基Ａ及びＢがアルキルまたは芳香族
基であるときは、それらは好ましくはメチル、エチル、
ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチ
ル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシルまたはｎ−オクチルの
ような直鎖または分岐のC1〜C8アルキル基である。
適切なメタロセン化合物はビス（シクロペンタジエニ
ル）メタルジハライド、ビス（シクロペンタジエニル）
メタルヒドリドハライド、ビス（シクロペンタジエニ
ル）メタルモノアルキルモノハライド、ビス（シクロペ
ンタジエニル）メタルジアルキル及びビス（インデニ
ル）メタルジハライド〔ここでメタルはチタン、ジルコ
ニウムまたはハフニウムであり、ハライド基は好ましく
は塩素であり、アルキル基はC1〜C6アルキルである〕を
含む。メタロセンの例示の、限定ではない例はビス（シ
クロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、ビス
（シクロペンタジエニル）ハフニウムジクロライド、ビ
ス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジメチル、ビ
ス（シクロペンタジエニル）ハフニウムジメチル、ビス
（シクロペンタジエニル）ジルコニウムヒドリドクロラ
イド、ビス（シクロペンタジエニル）ハフニウムヒドリ
ドクロライド、ビス（ペンタメチルシクロペンタジエニ
ル）ジルコニウムジクロライド、ビス（ペンタメチルシ
クロペンタジエニル）ハフニウムジクロライド、ビス
（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジク
ロライド、ビス（イソ−ブチルシクロペンタジエニル）
ジルコニウムジクロライド、シクロペンタジエニル−ジ
ルコニウムトリクロライド、ビス（インデニル）ジルコ
ニウムジクロライド、ビス（4,5,6,7−テトラヒドロ−
１−インデニル）ジルコニウムジクロライド、及びエチ
レン−〔ビス（4,5,6,7−テトラヒドロ−１−インデニ
ル）〕ジルコニウムジクロライドを含む。本技術の態様
内で利用されるメタロセン化合物は結晶質の固体とし
て、芳香族炭化水素中の溶液として、または支持された
形態で使用できる。
メタロセン化合物及びアルミノキサンを粒状の形態と
して含む本触媒はエチレンとより高級なアルファオレフ
ィンとのガス相重合及び共重合のための流動床反応器に
供給される。
プロセス条件 ポリマー粒子の焼結温度よりも低い温度で流動床反応
器を操作することが重要である。焼結が起こらないこと
を確実にするために、焼結温度よりも低い操作温度が望
まれる。本発明の方法におけるエチレンコポリマーの製
造のために、約60℃〜115℃の温度が好ましく、約75℃
〜95℃の温度が最も好ましい。
流動床反応床は約150〜350psi（１〜2.4MPa）の圧
力、圧力の増加がガスの装置体積熱容量を増加するので
熱移動に有利である範囲でのより高い温度が操作され
る。
「希釈剤」ガスがコモノマーと共に使用される。これ
は重合反応器中の条件下で非反応正である。希釈ガスは
窒素、アルゴン、ヘリウム、メタン、エタン等であるこ
とができる。
流動床反応器において、床を通るガス状反応混合物の
表面ガス速度は流動のために必要な最小の流れを越えな
ければならず、好ましくは最小流れよりも少なくとも0.
2ft/秒（6cm/秒）上である。通常、表面ガス速度は5.0f
t/秒（1.5m/秒）を越えず、最も普通には2.5ft/秒（0.7
7m/秒）以下であるのが満足なものである。ガス状モノ
マーの供給流れ（不活性ガス希釈剤と共にまたはそれな
しで）は空間時間収量（space time yield）約２〜10ポ
ンド／時間／床体積の立法フィートで反応器内に供給さ
れる。
本発明にしたがう線状低密度ポリエチレンポリマーを
製造するための特に望ましい方法はUS−Ａ−4481301に
開示される単一流動未反応器装置によるものである。
フィルムの製造のために、生成物は潤滑剤、ミクロタ
ルク、安定剤、抗酸化剤、相溶剤、顔料等のポリマーに
慣用的に添加される種々の全ての添加剤を含み得る。こ
れらの化学薬品は生成物を酸化に対して安定化するため
に使用できる。例えば、400〜1200ppmのヒンダードフェ
ノール、700〜2000ppmのホスフィット、250〜1000ppmの
帯電防止剤及び250〜1000ppmのステアリン酸塩から成る
添加剤パッケージ（樹脂粉末への添加用）がペレット化
のために使用できる。本ポリマーはインフレートフィル
ム押出機、例えばスターリング押出機に直接添加して例
えば約0.5〜５ミル（13〜130ミクロン）の厚さを有する
フィルムを製造できる。
以下の実施例は本発明の重要な特徴をさらに例示す
る。
実施例において製造したポリマーの性質を次の試験方
法によって決定した。
密度 ASTM Ｄ−1505 − プラックを製造し、平衡結
晶度に近づけるために１時間状態調節した。密度の速度
は密度勾配カラム中でおこなった（g/cm3で報告）。
メルトインデックス ASTM Ｄ−1238 − 条件Ｅ（MI）,190℃で測定した
I2−10分あたりのグラム数で報告。
高負荷メルトインデックス ASTM Ｄ−1238−条件Ｆ （HLMI）,I21上記メルトインデックス試験で使用され
た重量の10.5倍で測定 メルトフロー比 I21/I2 実施例１ 触媒の製造に使用した原料はDavison 952−1836シリ
カ505g、メチルアルミノキサン−トルエン溶液（30重量
％MAO）698g、ビス（ｎ−ブチルシクロペンタジエニ
ル）ジルコニウムジクロライド7.148gを含んでいた。
触媒製造の工程は以下に記載のとおりである。
1.空気を使用して洗浄（purge）し、955シリカを250℃
で４時間脱水した。次に、冷却しながら窒素で洗浄し
た。
2.シリカを混合容器に移した。
3.ビス（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウ
ムジクロライド7.148g及びメチルアルミノキサン698gを
ボトルに加えた。
4.メタロセンがMAO溶液に溶解するまでボトル中で触媒
溶液を攪拌した。
5.MAO及びメタロセン溶液を、脱水した955シリカの入っ
た混合容器に、触媒溶液が充分にシリカ床に分散するこ
とを確実にするためにシリカ床を激しく攪拌しながら、
ゆっくりと移した。
6.添加後、触媒の攪拌を30分続けた。
7. 45℃で５時間、窒素でパージすることによって触媒
の乾燥を開始した。
8. 150ミクロンよりも大きい粒子を除くために触媒を篩
にかけた。
9.触媒は次の分析値を有した： 収率＝触媒914g（シリカ500gから） Al＝10重量％ Zr＝0.2重量％ 実施例２ 流動床ガス相反応器中で低密度フィルム,0.918g/c
m3、１のMI、17のMFRのためのポリマーを製造するため
に、次のプロセス条件を使用した。
プロセス条件： 流動速度 1.7ft/秒（0.52m/秒） 滞留時間 2.5時間 温度 77.5℃ エチレン 180psi（1200KPa） ヘキセン 3.6psi（25KPa） イソペンタン 50psi（340KPa） 二酸化炭素 1.1ppm 灰分 200〜250ppm 触媒は実施例１のものである。
実施例３ キャストフィルム,0.918g/cm3の密度、2.5のMI、16の
MFRのためのポリマーを製造するために、次のプロセス
条件を使用した。
プロセス条件： 流動速度 1.7ft/秒（0.52m/秒） 滞留時間 2.5時間 温度 77.5℃ エチレン 180psi（1200KPa） ヘキセン 3.6psi（25KPa） イソペンタン 38psi（260KPa） 灰分 100ppm 触媒は実施例１のものであった。
1.樹脂の性質 商業的なチーグラー触媒で製造された標準的なエチレ
ン−ヘキセンコポリマーに比較するとき、ガス相法によ
り製造した実施例１のメタロセンで製造した樹脂は
（１）より狭い分子量分布、（２）さらに均一な短鎖分
岐分布、（３）より低い融点、（４）より低い抽出物及
び（５）より低い曇り度の特徴を示した。
1.0のI2、0.918の密度の樹脂の重要な樹脂の性質の例
を次に示す。
表１ LLDPE樹脂の性質 1.0のI2,0.918の密度 性質 商業的チーグラー メタロセン（実施例１） Mw/Mn 4.5 2.6 MFR 28 18 融点 125℃ 115℃ 2.末端用途の性質 これらのメタロセンLLDPE樹脂は変性せずに商業的な
装置で容易に加工できる。これらはまた商業的なチーグ
ラー／ナッタ触媒を使用して製造された樹脂の性質に対
して優れた性質を提供する。
表２ LLDPEフィルム特性の比較 1.0のI2,0.918の密度 2:1 BUR,250 lb時（110kg/時） 性質 商業的チーグラー メタロセン（実施例１） 溶融圧（psi） 5000（34MPa） 5500（38MPa） 泡安定性 非常に良好 非常に良好 MDモジュラス（psi） 28000（193MPa） 25000（172MPa） 落槍（ｇ） 180〜450 ＞800 MD引裂（g/ミル） 350〜450 370 抽出物（重量％） 2.5 0.6 曇り度（％） 10〜18 ５〜７ 引張降伏（psi） 1700（12MPa） 2000（14MPa） 降伏伸び（％） 24 71
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ //(Ｃ０８Ｆ 210/02 Ｃ０８Ｆ 210:04 210:04 210:14 210:14） (72)発明者 オン，シメイ・クリスティーン アメリカ合衆国ニュージャージー州 07059，ウォーレン，グレンビュー・ア ベニュー 26 (56)参考文献 特開 平６−9724（ＪＰ，Ａ) 欧州特許出願公開516458（ＥＰ，Ａ １) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C08L 23/08 C08F 210/02 C08J 5/18 CES ＷＰＩ（ＤＩＡＬＯＧ)

Claims (10)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】ASTM Ｄ−1003により測定した３〜20％の
    曇り度、ASTM Ｄ−1709により測定して100〜2000gの落
    槍衝撃値、0.3〜1.2重量％のヘキサン抽出物含量を示す
    フィルムであって、エチレンと炭素数３〜10のアルファ
    オレフィンとから成る線状低密度ポリエチレンコポリマ
    ーを含んでなり、かつ0.911〜0.929g/cm3の密度、15〜2
    5のメルトフロー比（I21/I2）、（式中I21はASTM Ｄ−
    1238条件Ｆにしたがい190℃で測定したメルトインデッ
    クスであり、I2はASTM Ｄ−1238条件Ｅにしたがい190
    ℃で測定したメルトインデックスである）、2.5〜3.0の
    Mw/Mn及び95℃〜135℃の融点、及びASTM Ｄ−1238条件
    Ｅに従い190℃で測定した0.5〜3.0g/10分のメルトイン
    デックス（I2）を有する、前記のフィルム。
  2. 【請求項２】アルファオレフィンがヘキセン−１である
    請求項１に記載のフィルム。
  3. 【請求項３】落槍衝撃値が800〜2000gである、請求項１
    に記載のフィルム。
  4. 【請求項４】密度が0.911〜0.922g/cm3である、請求項
    １に記載のフィルム。
  5. 【請求項５】ASTM D882により測定して0.7〜3000psi
    （4.8〜21000kPa）の引張降伏を特徴とする、請求項１
    に記載のフィルム。
  6. 【請求項６】ASTM D882により測定して1.4〜3000psi
    （9.6〜21000kPa）の引張降伏を特徴とする、請求項５
    に記載のフィルム。
  7. 【請求項７】球形で、非−多孔質の、0.015〜0.035イン
    チ（0.38〜0.89mm）の平均粒子サイズ及び25〜36lb/ft3
    （400〜577kg/m3）の沈降嵩密度を有する粒子を含んで
    成り、そして0.911〜0.929g/cm3の密度、15〜20のメル
    トフロー比（I21/I2）、（式中I21はASTM Ｄ−1238条
    件Ｆにしたがい190℃で測定したメルトインデックスで
    あり、I2はASTM Ｄ−1238条件Ｅにしたがい190℃で測
    定したメルトインデックスである）、2.5〜3.0のMw/Mn
    及びASTM Ｄ−1238条件Ｅに従い190℃で測定した0.5〜
    3.0g/10分のメルトインデックス（I2）を有する、エチ
    レンとアルファオレフィンとのコポリマーである、 乾燥状態であり溶媒を含まない合成されたままのポリマ
    ー。
  8. 【請求項８】コポリマーのメルトインデックス（I2）が
    0.8〜2.0であることをさらに特徴とする、請求項７に記
    載のポリマー。
  9. 【請求項９】前記密度が0.911〜0.922g/cm3である請求
    項７に記載のポリマー。
  10. 【請求項１０】60℃〜95℃の温度、100〜350psi（690〜
    2400kPa）の圧力においてエチレンを触媒と接触させる
    ことを含んで成る、乾燥状態であり溶媒を含まない合成
    されたままのポリマーを製造するためのガス相における
    方法であって、 触媒は、反応性ヒドロキシル基を有しかつジルコノセン
    化合物及びアルミノキサンで含漬されたシリカ（Al対Zr
    の比は50〜500）を含み、 組成物は球形で、非−多孔質の、0.015〜0.035インチ
    （0.38〜0.89mm）の平均粒子サイズ及び25〜36lb/ft
    3（400〜577kg/m3）の沈降嵩密度を有する粒子を含み、
    そして0.911〜0.929の密度、15〜20のメルトフロー比
    （I21/I2）、（式中I21はASTM Ｄ−1238条件Ｆにした
    がい190℃で測定したメルトインデックスであり、I2はA
    STM Ｄ−1238条件Ｅにしたがい190℃で測定したメルト
    インデックスである）、2.5〜3.0のMw/Mn及びASTM Ｄ
    −1238条件Ｅに従い190℃で測定した0.5〜3.0g/10分の
    メルトインデックス（I2）を有する、エチレンとアルフ
    ァオレフィンとのコポリマーである、前記の方法。
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