JP3346932B2 - 溶剤組成物 - Google Patents
溶剤組成物Info
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- JP3346932B2 JP3346932B2 JP00755795A JP755795A JP3346932B2 JP 3346932 B2 JP3346932 B2 JP 3346932B2 JP 00755795 A JP00755795 A JP 00755795A JP 755795 A JP755795 A JP 755795A JP 3346932 B2 JP3346932 B2 JP 3346932B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、プリント基板、ＩＣ等
の電子部品、精密機械部品、ガラス基板等の脱脂洗浄、
フラックス洗浄、水切り洗浄、塵埃除去等に用いられる
溶剤組成物に関する。
の電子部品、精密機械部品、ガラス基板等の脱脂洗浄、
フラックス洗浄、水切り洗浄、塵埃除去等に用いられる
溶剤組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】各種油脂等の洗浄には、不燃性、低毒
性、安定性に優れるＣＣｌ2 ＦＣＣｌＦ2 （以下、Ｒ１
１３という）、またはＲ１１３とこれに可溶な溶剤との
混合溶剤組成物が広く使用されている。Ｒ１１３は、金
属、プラスチック、エラストマー等の基材を侵さず、各
種の汚れを選択的に溶解する等の特徴を有するため、各
種精密機械部品や金属、プラスチック、エラストマー等
からなる各種電子部品、光学部品等の洗浄には最適であ
った。
性、安定性に優れるＣＣｌ2 ＦＣＣｌＦ2 （以下、Ｒ１
１３という）、またはＲ１１３とこれに可溶な溶剤との
混合溶剤組成物が広く使用されている。Ｒ１１３は、金
属、プラスチック、エラストマー等の基材を侵さず、各
種の汚れを選択的に溶解する等の特徴を有するため、各
種精密機械部品や金属、プラスチック、エラストマー等
からなる各種電子部品、光学部品等の洗浄には最適であ
った。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来使用されていたＲ
１１３は、種々の利点を有するにもかかわらず、化学的
にきわめて安定なため、対流圏内での寿命が長く、拡散
して成層圏に達し、ここで紫外線により分解して塩素ラ
ジカルを発生し、この塩素ラジカルが成層圏オゾンと連
鎖反応を起こし、オゾン層を破壊するとのことから、そ
の生産および消費について規制が実施されている。この
ため、従来のＲ１１３に代わり、オゾン層を破壊しにく
い代替溶剤の探索が活発に行われている。
１１３は、種々の利点を有するにもかかわらず、化学的
にきわめて安定なため、対流圏内での寿命が長く、拡散
して成層圏に達し、ここで紫外線により分解して塩素ラ
ジカルを発生し、この塩素ラジカルが成層圏オゾンと連
鎖反応を起こし、オゾン層を破壊するとのことから、そ
の生産および消費について規制が実施されている。この
ため、従来のＲ１１３に代わり、オゾン層を破壊しにく
い代替溶剤の探索が活発に行われている。
【０００４】本発明は、従来のＲ１１３が有している優
れた特性を満足しながらオゾン層への影響がきわめて小
さい代替溶剤として使用できる新規なフッ素化炭化水素
系溶剤組成物を提供することを目的とする。
れた特性を満足しながらオゾン層への影響がきわめて小
さい代替溶剤として使用できる新規なフッ素化炭化水素
系溶剤組成物を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は前述の目的を達
成すべくなされたものであり、第一にｎ−ヘキサン（以
下、ｎ−ＨＥＸという）およびシクロヘキサン（以下、
ｃ−ＨＥＸという）の少なくとも１種（ａ）、Ｃ3 ＨＣ
ｌ2 Ｆ5 類（以下、Ｒ２２５類という）（ｂ）およびＣ
6 Ｆ14類（ｃ）およびアルコール類（ｄ）を含み、
（ａ）、（ｂ）、（ｃ）および（ｄ）の合計量に対する
（ａ）、（ｂ）、（ｃ）および（ｄ）の割合がそれぞれ
１〜２０重量％、１５〜６０重量％、２０〜６０重量％
および１〜１０重量％である溶剤組成物である。
成すべくなされたものであり、第一にｎ−ヘキサン（以
下、ｎ−ＨＥＸという）およびシクロヘキサン（以下、
ｃ−ＨＥＸという）の少なくとも１種（ａ）、Ｃ3 ＨＣ
ｌ2 Ｆ5 類（以下、Ｒ２２５類という）（ｂ）およびＣ
6 Ｆ14類（ｃ）およびアルコール類（ｄ）を含み、
（ａ）、（ｂ）、（ｃ）および（ｄ）の合計量に対する
（ａ）、（ｂ）、（ｃ）および（ｄ）の割合がそれぞれ
１〜２０重量％、１５〜６０重量％、２０〜６０重量％
および１〜１０重量％である溶剤組成物である。
【０００６】Ｒ２２５類には１，１−ジクロロ−２，
２，３，３，３−ペンタフルオロプロパンＣＦ3 ＣＦ2
ＣＨＣｌ2 （以下、Ｒ２２５ｃａという）、１，３−ジ
クロロ−１，１，２，２，３−ペンタフルオロプロパン
ＣＦ2 ＣｌＣＦ2 ＣＨＣｌＦ（以下、Ｒ２２５ｃｂとい
う）またはその他の異性体があり、Ｒ２２５ｃａおよび
Ｒ２２５ｃｂから選ばれる少なくとも１種以上が好まし
い。Ｒ２２５ｃａおよびＲ２２５ｃｂからなる混合物の
好ましい混合割合は、擬共沸組成となるＲ２２５ｃａ／
Ｒ２２５ｃｂ＝０．０１〜９９．９９重量％／０．０１
〜９９．９９重量％である。さらに好ましくは、Ｒ２２
５ｃａ／Ｒ２２５ｃｂ＝４０〜６０重量％／４０〜６０
重量％である。
２，３，３，３−ペンタフルオロプロパンＣＦ3 ＣＦ2
ＣＨＣｌ2 （以下、Ｒ２２５ｃａという）、１，３−ジ
クロロ−１，１，２，２，３−ペンタフルオロプロパン
ＣＦ2 ＣｌＣＦ2 ＣＨＣｌＦ（以下、Ｒ２２５ｃｂとい
う）またはその他の異性体があり、Ｒ２２５ｃａおよび
Ｒ２２５ｃｂから選ばれる少なくとも１種以上が好まし
い。Ｒ２２５ｃａおよびＲ２２５ｃｂからなる混合物の
好ましい混合割合は、擬共沸組成となるＲ２２５ｃａ／
Ｒ２２５ｃｂ＝０．０１〜９９．９９重量％／０．０１
〜９９．９９重量％である。さらに好ましくは、Ｒ２２
５ｃａ／Ｒ２２５ｃｂ＝４０〜６０重量％／４０〜６０
重量％である。
【０００７】本発明におけるＣ6 Ｆ14類とはテトラデカ
フルオロヘキサンＣＦ3 （ＣＦ2 ）4 ＣＦ3 （以下、Ｒ
５１−１４という）またはその異性体であり、異性体と
してはウンデカフルオロ−２−（トリフルオロメチル）
ペンタン（ＣＦ3 ）2 ＣＦ（ＣＦ2 ）2 ＣＦ3 （以下、
Ｒ５１−１４ｍｙという）、ウンデカフルオロ−３−
（トリフルオロメチル）ペンタンＣＦ3 ＣＦ2 ＣＦ（Ｃ
Ｆ3 ）ＣＦ2 ＣＦ3 （以下、Ｒ５１−１４ｍｃｙとい
う）等が挙げられる。本発明におけるＣ6 Ｆ14類は、Ｒ
５１−１４、Ｒ５１−１４ｍｙおよびＲ５１−１４ｍｃ
ｙから選ばれる少なくとも１種であるのが好ましい。
フルオロヘキサンＣＦ3 （ＣＦ2 ）4 ＣＦ3 （以下、Ｒ
５１−１４という）またはその異性体であり、異性体と
してはウンデカフルオロ−２−（トリフルオロメチル）
ペンタン（ＣＦ3 ）2 ＣＦ（ＣＦ2 ）2 ＣＦ3 （以下、
Ｒ５１−１４ｍｙという）、ウンデカフルオロ−３−
（トリフルオロメチル）ペンタンＣＦ3 ＣＦ2 ＣＦ（Ｃ
Ｆ3 ）ＣＦ2 ＣＦ3 （以下、Ｒ５１−１４ｍｃｙとい
う）等が挙げられる。本発明におけるＣ6 Ｆ14類は、Ｒ
５１−１４、Ｒ５１−１４ｍｙおよびＲ５１−１４ｍｃ
ｙから選ばれる少なくとも１種であるのが好ましい。
【０００８】Ｃ6 Ｆ14類の好ましい例は、Ｒ５１−１４
単独または６５〜７７重量％のＲ５１−１４、１６〜２
６重量％のＲ５１−１４ｍｙおよび２〜１２重量％のＲ
５１−１４ｍｃｙからなる混合物である。Ｒ５１−１
４、Ｒ５１−１４ｍｙおよびＲ５１−１４ｍｃｙからな
る混合物のさらに好ましい混合割合は、Ｒ５１−１４／
Ｒ５１−１４ｍｙ／Ｒ５１−１４ｍｃｙ＝７０〜７５重
量％／１８〜２２重量％／５〜１０重量％である。
単独または６５〜７７重量％のＲ５１−１４、１６〜２
６重量％のＲ５１−１４ｍｙおよび２〜１２重量％のＲ
５１−１４ｍｃｙからなる混合物である。Ｒ５１−１
４、Ｒ５１−１４ｍｙおよびＲ５１−１４ｍｃｙからな
る混合物のさらに好ましい混合割合は、Ｒ５１−１４／
Ｒ５１−１４ｍｙ／Ｒ５１−１４ｍｃｙ＝７０〜７５重
量％／１８〜２２重量％／５〜１０重量％である。
【０００９】アルコール類としてはＭｅＯＨ、ＥｔＯ
Ｈ、１−プロパノール（ｎ−プロパノール）、２−Ｐｒ
ＯＨ（ｉ−プロパノール）、１−ブタノール（ｎ−ブタ
ノール）、２−ブタノール（ｓｅｃ−ブタノール）、２
−メチル−１−プロパノール（ｉ−ブタノール）、１，
１−ジメチルエタノール（ｔ−ブタノール）等の炭素数
１〜５のアルコール類が好ましく、ＭｅＯＨ、ＥｔＯ
Ｈ、１−プロパノール、２−ＰｒＯＨ等の炭素数１〜３
のアルコール類がさらに好ましい。
Ｈ、１−プロパノール（ｎ−プロパノール）、２−Ｐｒ
ＯＨ（ｉ−プロパノール）、１−ブタノール（ｎ−ブタ
ノール）、２−ブタノール（ｓｅｃ−ブタノール）、２
−メチル−１−プロパノール（ｉ−ブタノール）、１，
１−ジメチルエタノール（ｔ−ブタノール）等の炭素数
１〜５のアルコール類が好ましく、ＭｅＯＨ、ＥｔＯ
Ｈ、１−プロパノール、２−ＰｒＯＨ等の炭素数１〜３
のアルコール類がさらに好ましい。
【００１０】
【００１１】
【００１２】ｎ−ＨＥＸおよびｃ−ＨＥＸの少なくとも
１種（ａ）、Ｒ２２５類（ｂ）、Ｃ6 Ｆ14類（ｃ）およ
びアルコール類（ｄ）の混合割合は、（ａ）、（ｂ）、
（ｃ）および（ｄ）の合計量に対してそれぞれ１〜２０
重量％、１５〜６０重量％、２０〜６０重量％および１
〜１０重量％である。
１種（ａ）、Ｒ２２５類（ｂ）、Ｃ6 Ｆ14類（ｃ）およ
びアルコール類（ｄ）の混合割合は、（ａ）、（ｂ）、
（ｃ）および（ｄ）の合計量に対してそれぞれ１〜２０
重量％、１５〜６０重量％、２０〜６０重量％および１
〜１０重量％である。
【００１３】ｎ−ＨＥＸおよびｃ−ＨＥＸを併用すると
きの両者の混合割合は特に限定されるものではない。好
ましくは、ｎ−ＨＥＸ／ｃ−ＨＥＸ＝０．１〜９９．９
／０．１〜９９．９重量％、さらに好ましくは１〜９９
／１〜９９重量％である。
きの両者の混合割合は特に限定されるものではない。好
ましくは、ｎ−ＨＥＸ／ｃ−ＨＥＸ＝０．１〜９９．９
／０．１〜９９．９重量％、さらに好ましくは１〜９９
／１〜９９重量％である。
【００１４】主として溶解性を高めるために、例えば以
下に挙げる化合物の１種または２種以上を１〜５０重量
％、好ましくは１〜３０重量％、さらに好ましくは１〜
２０重量％の範囲で本発明の組成物中へ含めることがで
きる。
下に挙げる化合物の１種または２種以上を１〜５０重量
％、好ましくは１〜３０重量％、さらに好ましくは１〜
２０重量％の範囲で本発明の組成物中へ含めることがで
きる。
【００１５】ｎ−ペンタン、２−メチルブタン、２，２
−ジメチルプロパン、３−メチルペンタン、２，２−ジ
メチルブタン、２，３−ジメチルブタン、ｎ−ヘプタ
ン、２−メチルヘキサン、３−メチルヘキサン、２，３
−ジメチルペンタン、２，４−ジメチルペンタン、ｎ−
オクタン、２，２，３−トリメチルペンタン、２，２，
４−トリメチルペンタン、シクロペンタン、メチルシク
ロペンタン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキ
サン等の炭化水素類。
−ジメチルプロパン、３−メチルペンタン、２，２−ジ
メチルブタン、２，３−ジメチルブタン、ｎ−ヘプタ
ン、２−メチルヘキサン、３−メチルヘキサン、２，３
−ジメチルペンタン、２，４−ジメチルペンタン、ｎ−
オクタン、２，２，３−トリメチルペンタン、２，２，
４−トリメチルペンタン、シクロペンタン、メチルシク
ロペンタン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキ
サン等の炭化水素類。
【００１６】ジクロロメタン、ｃｉｓ−１，２−ジクロ
ロエチレン、ｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレン、
トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン等の塩素化
炭化水素類。
ロエチレン、ｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレン、
トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン等の塩素化
炭化水素類。
【００１７】アセトン、メチルエチルケトン、メチルブ
チルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類。
チルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類。
【００１８】ジエチルエーテル、メチルセロソルブ、テ
トラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル
類。
トラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル
類。
【００１９】２，２−ジクロロ−１，１，１−トリフル
オロエタン、１，１−ジクロロ−１−フルオロエタン等
の塩素化フッ素化炭化水素類。
オロエタン、１，１−ジクロロ−１−フルオロエタン等
の塩素化フッ素化炭化水素類。
【００２０】酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、
酢酸ブチル等のエステル類。
酢酸ブチル等のエステル類。
【００２１】主として安定性を高めるために、例えば以
下に挙げる化合物の１種または２種以上を０．００１〜
１０重量％、好ましくは０．００１〜５重量％の範囲で
本発明の組成物中へ含めることができる。
下に挙げる化合物の１種または２種以上を０．００１〜
１０重量％、好ましくは０．００１〜５重量％の範囲で
本発明の組成物中へ含めることができる。
【００２２】ニトロメタン、ニトロエタン、ニトロプロ
パン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物類。
パン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物類。
【００２３】ジエチルアミン、トリエチルアミン、ｉ−
プロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、ｉ−ブチルアミン
等のアミン類。
プロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、ｉ−ブチルアミン
等のアミン類。
【００２４】フェノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾ
ール、ｐ−クレゾール、チモール、ｐ−ｔ−ブチルフェ
ノール、ｔ−ブチルカテコール、カテコール、イソオイ
ゲノール、ｏ−メトキシフェノール、ビスフェノール
Ａ、サリチル酸イソアミル、サリチル酸ベンジル、サリ
チル酸メチル、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾー
ル等のフェノール類。
ール、ｐ−クレゾール、チモール、ｐ−ｔ−ブチルフェ
ノール、ｔ−ブチルカテコール、カテコール、イソオイ
ゲノール、ｏ−メトキシフェノール、ビスフェノール
Ａ、サリチル酸イソアミル、サリチル酸ベンジル、サリ
チル酸メチル、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾー
ル等のフェノール類。
【００２５】２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフ
ェニル) ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ
−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル) −５−ク
ロロベンゾトリアゾール、１，２，３−ベンゾトリアゾ
ール、１−［（Ｎ，Ｎ−ビス−２−エチルヘキシル) ア
ミノメチル] ベンゾトリアゾール等のトリアゾール類。
ェニル) ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ
−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル) −５−ク
ロロベンゾトリアゾール、１，２，３−ベンゾトリアゾ
ール、１−［（Ｎ，Ｎ−ビス−２−エチルヘキシル) ア
ミノメチル] ベンゾトリアゾール等のトリアゾール類。
【００２６】本発明の溶剤組成物は、従来のＲ１１３系
と同程度の溶解力を有し、各種用途に好適に使用でき
る。こうした具体的な用途としては、グリース、油、ワ
ックス、インキ等の除去剤、塗料用溶剤、抽出剤、ガラ
ス、セラミックス、プラスチック、ゴム、金属製各種物
品、特にＩＣ部品、電気機器、精密機械、光学レンズ等
の洗浄剤や塵埃除去等が挙げられる。洗浄方法として
は、手拭き、浸漬、スプレー、揺動、超音波洗浄、蒸気
洗浄またはこれらを組み合わせた方法等を採用すればよ
い。
と同程度の溶解力を有し、各種用途に好適に使用でき
る。こうした具体的な用途としては、グリース、油、ワ
ックス、インキ等の除去剤、塗料用溶剤、抽出剤、ガラ
ス、セラミックス、プラスチック、ゴム、金属製各種物
品、特にＩＣ部品、電気機器、精密機械、光学レンズ等
の洗浄剤や塵埃除去等が挙げられる。洗浄方法として
は、手拭き、浸漬、スプレー、揺動、超音波洗浄、蒸気
洗浄またはこれらを組み合わせた方法等を採用すればよ
い。
【００２７】
【００２８】
【００２９】
【００３０】
【００３１】
【００３２】
【００３３】
【００３４】
【００３５】
【００３６】
【００３７】
【００３８】
【００３９】
【００４０】
【００４１】
【００４２】
【００４３】［例１〜２２］ 表１〜３に示す溶剤組成物を用いて機械油の洗浄試験を
行う。すなわち、ＳＵＳ−３０４のテストピース（２５
ｍｍ×３０ｍｍ×２ｍｍ）を機械油（出光石油製ダフニ
ーカットＡＳ−４０Ｈ）中に浸漬した後、表１〜３に示
す本発明の溶剤組成物中に５分浸漬する。機械油の除去
度（◎: 良好に除去可、○：ほぼ良好、△: 微量残存、
×: かなり残存）を判定し、その結果を表１〜３のＡ欄
に示す。なお、表中メチルシクロペンタンをＭＣＰと記
す。
行う。すなわち、ＳＵＳ−３０４のテストピース（２５
ｍｍ×３０ｍｍ×２ｍｍ）を機械油（出光石油製ダフニ
ーカットＡＳ−４０Ｈ）中に浸漬した後、表１〜３に示
す本発明の溶剤組成物中に５分浸漬する。機械油の除去
度（◎: 良好に除去可、○：ほぼ良好、△: 微量残存、
×: かなり残存）を判定し、その結果を表１〜３のＡ欄
に示す。なお、表中メチルシクロペンタンをＭＣＰと記
す。
【００４４】［例２３〜４４］ 表４〜５に示す溶剤組成物を用いてフラックスの洗浄試
験を行う。すなわち、ガラスエポキシ製のプリント基板
（５０ｍｍ×１００ｍｍ×１．６ｍｍ）全面にフラック
ス（スピーディフラックスＡＧＦ−Ｊ−Ｉ：アサヒ化学
研究所製）を塗布し、２６０℃の半田温度でウエーブソ
ルダー機を用いて半田付け後、表４〜５に示す本発明の
溶剤組成物に３分間浸漬し洗浄を行う。フラックスの除
去度（◎: 良好に除去可、○：ほぼ良好、△: 微量残
存、×: かなり残存）を判定し、その結果を表４〜５の
Ｂ欄に示す。
験を行う。すなわち、ガラスエポキシ製のプリント基板
（５０ｍｍ×１００ｍｍ×１．６ｍｍ）全面にフラック
ス（スピーディフラックスＡＧＦ−Ｊ−Ｉ：アサヒ化学
研究所製）を塗布し、２６０℃の半田温度でウエーブソ
ルダー機を用いて半田付け後、表４〜５に示す本発明の
溶剤組成物に３分間浸漬し洗浄を行う。フラックスの除
去度（◎: 良好に除去可、○：ほぼ良好、△: 微量残
存、×: かなり残存）を判定し、その結果を表４〜５の
Ｂ欄に示す。
【００４５】同様に、表４〜５に示す溶剤組成物を用い
て付着水の除去試験を行う。すなわち、３０ｍｍ×１８
ｍｍ×５ｍｍのガラス板を純水に浸漬後、表４〜５に示
す本発明の溶剤組成物中に２０秒浸漬して水切りを行
い、取り出したガラス板を無水ＭｅＯＨ中に浸漬してそ
の水分増加量から付着水の除去状況を判定する。付着水
の除去度（◎: 良好に除去可、○：ほぼ良好、△: 微量
残存、×: かなり残存）を判定して、その結果を表４〜
５のＣ欄に示す。
て付着水の除去試験を行う。すなわち、３０ｍｍ×１８
ｍｍ×５ｍｍのガラス板を純水に浸漬後、表４〜５に示
す本発明の溶剤組成物中に２０秒浸漬して水切りを行
い、取り出したガラス板を無水ＭｅＯＨ中に浸漬してそ
の水分増加量から付着水の除去状況を判定する。付着水
の除去度（◎: 良好に除去可、○：ほぼ良好、△: 微量
残存、×: かなり残存）を判定して、その結果を表４〜
５のＣ欄に示す。
【００４６】
【００４７】
【００４８】
【００４９】
【００５０】
【００５１】
【００５２】
【００５３】
【００５４】
【００５５】
【００５６】
【００５７】
【００５８】
【００５９】
【００６０】
【００６１】
【００６２】
【００６３】
【表１】
【００６４】
【表２】
【００６５】
【表３】
【００６６】
【表４】
【００６７】
【表５】
【００６８】
【発明の効果】本発明の溶剤組成物は、従来のＲ１１３
が有している優れた特性を満足し、オゾン層へほとんど
影響を与えない等の利点がある。
が有している優れた特性を満足し、オゾン層へほとんど
影響を与えない等の利点がある。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 米国特許5304322（ＵＳ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C11D 7/50 C11D 7/30 C07C 19/08
Claims (2)
- 【請求項１】ｎ−ヘキサンおよびシクロヘキサンの少な
くとも１種（ａ）、Ｃ3 ＨＣｌ2 Ｆ5類（ｂ）、Ｃ6 Ｆ
14類（ｃ）およびアルコール類（ｄ）を含み、（ａ）、
（ｂ）、（ｃ）および（ｄ）の合計量に対する（ａ）、
（ｂ）、（ｃ）および（ｄ）の割合がそれぞれ１〜２０
重量％、１５〜６０重量％、２０〜６０重量％および１
〜１０重量％である溶剤組成物。 - 【請求項２】Ｃ3 ＨＣｌ2 Ｆ5 類がＣＦ3 ＣＦ2 ＣＨＣ
ｌ2 ０．０１〜９９．９９重量％およびＣＦ2 ＣｌＣＦ
2 ＣＨＣｌＦ０．０１〜９９．９９重量％からなる混合
物、Ｃ6 Ｆ14類がＣＦ3 （ＣＦ2 ）4 ＣＦ3 ６５〜７７
重量％、（ＣＦ3 ）2 ＣＦ（ＣＦ2 ）2 ＣＦ3 １６〜２
６重量％およびＣＦ3 ＣＦ2 ＣＦ（ＣＦ3 ）ＣＦ2 ＣＦ
3 ２〜１２重量％からなる混合物またはＣＦ3 （ＣＦ
2 ）4 ＣＦ3 である請求項１に記載の溶剤組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP00755795A JP3346932B2 (ja) | 1995-01-20 | 1995-01-20 | 溶剤組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP00755795A JP3346932B2 (ja) | 1995-01-20 | 1995-01-20 | 溶剤組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08199192A JPH08199192A (ja) | 1996-08-06 |
| JP3346932B2 true JP3346932B2 (ja) | 2002-11-18 |
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ID=11669112
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP00755795A Expired - Fee Related JP3346932B2 (ja) | 1995-01-20 | 1995-01-20 | 溶剤組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3346932B2 (ja) |
-
1995
- 1995-01-20 JP JP00755795A patent/JP3346932B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
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| JPH08199192A (ja) | 1996-08-06 |
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