JP3311043B2 - ガンマカメラ - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01T—MEASUREMENT OF NUCLEAR OR X-RADIATION
- G01T1/00—Measuring X-radiation, gamma radiation, corpuscular radiation, or cosmic radiation
- G01T1/16—Measuring radiation intensity
- G01T1/161—Applications in the field of nuclear medicine, e.g. in vivo counting
- G01T1/164—Scintigraphy
- G01T1/1641—Static instruments for imaging the distribution of radioactivity in one or two dimensions using one or several scintillating elements; Radio-isotope cameras
- G01T1/1642—Static instruments for imaging the distribution of radioactivity in one or two dimensions using one or several scintillating elements; Radio-isotope cameras using a scintillation crystal and position sensing photodetector arrays, e.g. ANGER cameras
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、特定の臓器や組織に吸
収され又は集中する医薬品を放射性同位元素（radioiso
tope；以下単に「ＲＩ」という）で標識（ラベル）して
被検体内に投与し、そこからランダムに放出されるγ線
を一定期間検出することにより被検体内における放射性
同位元素の分布画像（シンチグラム）を求めるシンチレ
ーションカメラ（ガンマカメラとも言う）に関する。
収され又は集中する医薬品を放射性同位元素（radioiso
tope；以下単に「ＲＩ」という）で標識（ラベル）して
被検体内に投与し、そこからランダムに放出されるγ線
を一定期間検出することにより被検体内における放射性
同位元素の分布画像（シンチグラム）を求めるシンチレ
ーションカメラ（ガンマカメラとも言う）に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、この種のシンチレーションカメラ
は、特定角度で入射するγ線だけを通過させるコリメー
タの後方に例えばヨウ化ナトリウム(NaI) を発光物質と
したシンチレータを装着し、そしてこのシンチレータに
複数本の光電子増倍管をちょう密に配列したカメラ本体
で、γ線の入射毎にその入射位置信号（ＸＹ信号）と入
射γ線のエネルギに比例するエネルギ信号（Ｚ信号）と
を測定し、このＸＹ信号およびＺ信号をリニアリティ補
正やエネルギ補正を行う補正回路を介して、ウインドウ
回路に送り、そこでＺ信号が予定エネルギ範囲（ウイン
ドウ）に入るγ線のみ選別し、そのγ線のＸＹ信号に特
定される画像メモリの画素を１カウントずつ計数し、こ
れを一定期間継続することでγ線の分布画像を得るもの
である。
は、特定角度で入射するγ線だけを通過させるコリメー
タの後方に例えばヨウ化ナトリウム(NaI) を発光物質と
したシンチレータを装着し、そしてこのシンチレータに
複数本の光電子増倍管をちょう密に配列したカメラ本体
で、γ線の入射毎にその入射位置信号（ＸＹ信号）と入
射γ線のエネルギに比例するエネルギ信号（Ｚ信号）と
を測定し、このＸＹ信号およびＺ信号をリニアリティ補
正やエネルギ補正を行う補正回路を介して、ウインドウ
回路に送り、そこでＺ信号が予定エネルギ範囲（ウイン
ドウ）に入るγ線のみ選別し、そのγ線のＸＹ信号に特
定される画像メモリの画素を１カウントずつ計数し、こ
れを一定期間継続することでγ線の分布画像を得るもの
である。
【０００３】このようなシンチレーションカメラの診断
能を向上するための一要素として、γ線の分布画像から
コリメータやシンチレータなどで生じる散乱線成分を除
去することがある。このための方法の一つに、この分布
画像を微小なエネルギピッチ毎に分解し、各ピッチの計
数値合計をエネルギ軸に沿って分布したいわゆるエネル
ギスペクトラムを作成し、このエネルギスペクトラムを
用いて光電ピーク付近に混入する散乱線成分の割合を予
め求め記憶しておき、この割合に基づいて実際に収集し
た分布画像から散乱線成分を除去するという方法があ
る。
能を向上するための一要素として、γ線の分布画像から
コリメータやシンチレータなどで生じる散乱線成分を除
去することがある。このための方法の一つに、この分布
画像を微小なエネルギピッチ毎に分解し、各ピッチの計
数値合計をエネルギ軸に沿って分布したいわゆるエネル
ギスペクトラムを作成し、このエネルギスペクトラムを
用いて光電ピーク付近に混入する散乱線成分の割合を予
め求め記憶しておき、この割合に基づいて実際に収集し
た分布画像から散乱線成分を除去するという方法があ
る。
【０００４】しかし、この方法は、散乱線成分の混入割
合がγ線の入射位置毎、つまり分布画像の画素毎に異な
るため、良好に散乱線成分を除去することはできなかっ
た。この不具合を解決するような方法が、近年検討され
ていて、その一つに、点線源をシンチレータ前面で移動
させながら各位置での散乱線成分の混入割合を実測しこ
の実測値を用いて実際に収集した分布画像の各位置毎に
散乱線成分を除去しようとする方法があるが、測定点の
細かさにも限界がある上、測定作業が非常に手間のかか
るという問題、さらには光電子増倍管などの感度が変動
するために一定の期間が経過する毎にこの測定作業をや
り直す必要があり、好ましい方法ではなかった。
合がγ線の入射位置毎、つまり分布画像の画素毎に異な
るため、良好に散乱線成分を除去することはできなかっ
た。この不具合を解決するような方法が、近年検討され
ていて、その一つに、点線源をシンチレータ前面で移動
させながら各位置での散乱線成分の混入割合を実測しこ
の実測値を用いて実際に収集した分布画像の各位置毎に
散乱線成分を除去しようとする方法があるが、測定点の
細かさにも限界がある上、測定作業が非常に手間のかか
るという問題、さらには光電子増倍管などの感度が変動
するために一定の期間が経過する毎にこの測定作業をや
り直す必要があり、好ましい方法ではなかった。
【０００５】また、臓器機能の定量的な検査には、多核
種で各別にラベルした複数種類の放射性医薬品を被検体
に投与し、核種毎の分布状況を比較検討することが有効
とされている。この場合、従来のシンチレーションカメ
ラはウインドウの設定を核種毎に変えながら核種毎に分
布画像を得ようとするが、例えば各核種の光電ピークが
近接していて、各ウインドウが重なり合うような場合な
ど、互いに核種成分が混入し、核種毎に分布画像を分離
することはできなかった。
種で各別にラベルした複数種類の放射性医薬品を被検体
に投与し、核種毎の分布状況を比較検討することが有効
とされている。この場合、従来のシンチレーションカメ
ラはウインドウの設定を核種毎に変えながら核種毎に分
布画像を得ようとするが、例えば各核種の光電ピークが
近接していて、各ウインドウが重なり合うような場合な
ど、互いに核種成分が混入し、核種毎に分布画像を分離
することはできなかった。
【０００６】さらには、上記エネルギスペクトラムに
は、上述したような散乱線成分、クロストーク、光電ピ
ークの重なりなど診断に有効な多くの情報が含まれてい
るが、従来のシンチレーションカメラはこのエネルギス
ペクトラムを有効に活用するものではなかった。
は、上述したような散乱線成分、クロストーク、光電ピ
ークの重なりなど診断に有効な多くの情報が含まれてい
るが、従来のシンチレーションカメラはこのエネルギス
ペクトラムを有効に活用するものではなかった。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述した事
情に対処すべくなされたもので、その目的は、分布画像
の画素毎のエネルギスペクトラムを作成できるシンチレ
ーションカメラを提供することである。
情に対処すべくなされたもので、その目的は、分布画像
の画素毎のエネルギスペクトラムを作成できるシンチレ
ーションカメラを提供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明によるガンマカメ
ラは、被検体内に投与した放射性同位元素から放出され
るγ線を検出して、前記γ線のエネルギと入射位置とを
測定するカメラ本体と、前記測定されたγ線のエネルギ
と入射位置とに基づいて、エネルギ軸に対するγ線の入
射回数の変化を表すエネルギスペクトラムを前記γ線の
入射位置毎に生成する手段と、関心領域を設定する手段
と、前記設定された関心領域内に該当する複数のエネル
ギスペクトラムを合成する手段と、前記合成されたエネ
ルギスペクトラムを表示する手段とを具備したことを特
徴とする。 本発明によるガンマカメラは、さらに、前記
合成されたエネルギスペクトラムの表示エネルギ範囲を
任意に設定する手段をさらに備えたことを特徴とする。
本発明によるガンマカメラは、さらに、前記合成された
エネルギスペクトラムの表示エネルギ範囲を前記投与さ
れる放射性同位元素の核種又は光電ピークに応じて自動
設定する手段をさらに備えたことを特徴とする。 本発明
によるガンマカメラは、被検体内に投与した第１放射性
同位元素と、前記第１放射性同位元素と光電ピークが近
接している第２放射性同位元素とから放出されるγ線を
検出して、前記γ線のエネルギと入射位置とを測定する
カメラ本体と、前記測定されたγ線のエネルギと入射位
置とに基づいて、エネルギ軸に対するγ線の入射回数の
変化を表すエネルギスペクトラムを前記γ線の入射位置
毎に生成する手段と、前記エネルギスペクトラム各々か
ら散乱線成分を除去すると共に、この散乱線成分を除去
されたエネルギスペクトラム各々を、光電ピークを挟ん
でエネルギスペクトラムが略左右対称になる左右対称性
を利用して、前記第１放射性同位元素に対応するエネル
ギスペクトラムと、前記第２放射性同位元素に対応する
エネルギスペクトラムとに分離する手段とを具備したこ
とを特徴とする。
ラは、被検体内に投与した放射性同位元素から放出され
るγ線を検出して、前記γ線のエネルギと入射位置とを
測定するカメラ本体と、前記測定されたγ線のエネルギ
と入射位置とに基づいて、エネルギ軸に対するγ線の入
射回数の変化を表すエネルギスペクトラムを前記γ線の
入射位置毎に生成する手段と、関心領域を設定する手段
と、前記設定された関心領域内に該当する複数のエネル
ギスペクトラムを合成する手段と、前記合成されたエネ
ルギスペクトラムを表示する手段とを具備したことを特
徴とする。 本発明によるガンマカメラは、さらに、前記
合成されたエネルギスペクトラムの表示エネルギ範囲を
任意に設定する手段をさらに備えたことを特徴とする。
本発明によるガンマカメラは、さらに、前記合成された
エネルギスペクトラムの表示エネルギ範囲を前記投与さ
れる放射性同位元素の核種又は光電ピークに応じて自動
設定する手段をさらに備えたことを特徴とする。 本発明
によるガンマカメラは、被検体内に投与した第１放射性
同位元素と、前記第１放射性同位元素と光電ピークが近
接している第２放射性同位元素とから放出されるγ線を
検出して、前記γ線のエネルギと入射位置とを測定する
カメラ本体と、前記測定されたγ線のエネルギと入射位
置とに基づいて、エネルギ軸に対するγ線の入射回数の
変化を表すエネルギスペクトラムを前記γ線の入射位置
毎に生成する手段と、前記エネルギスペクトラム各々か
ら散乱線成分を除去すると共に、この散乱線成分を除去
されたエネルギスペクトラム各々を、光電ピークを挟ん
でエネルギスペクトラムが略左右対称になる左右対称性
を利用して、前記第１放射性同位元素に対応するエネル
ギスペクトラムと、前記第２放射性同位元素に対応する
エネルギスペクトラムとに分離する手段とを具備したこ
とを特徴とする。
【０００９】
【作用】本発明によるガンマカメラによれば、γ線の入
射位置毎のエネルギスペクトラムと、関心領域内に該当
する複数のエネルギスペクトラムの合成による関心領域
（局所）に関するエネルギスペクトラムとの両方を生成
することができる。 また、本発明によるガンマカメラに
よれば、エネルギスペクトラムに対する散乱線成分除去
と核種分離とを、γ線入射位置ごとに個別に行うので、
散乱線成分除去と核種分離の精度を向上することができ
る。
射位置毎のエネルギスペクトラムと、関心領域内に該当
する複数のエネルギスペクトラムの合成による関心領域
（局所）に関するエネルギスペクトラムとの両方を生成
することができる。 また、本発明によるガンマカメラに
よれば、エネルギスペクトラムに対する散乱線成分除去
と核種分離とを、γ線入射位置ごとに個別に行うので、
散乱線成分除去と核種分離の精度を向上することができ
る。
【００１０】
【実施例】以下、図面を用いて本発明一実施例を説明す
る。
る。
【００１１】図１は、第１の実施例のブロック図であ
る。カメラ本体１は、コリメータ２の後方に例えばヨウ
化ナトリウム(NaI) を発光物質としたシンチレータ３を
配置し、このシンチレータ３の後方に複数の光電子増倍
管（ＰＭＴ）４をちょう密に配列してなり、γ線が入射
する毎に光電子増倍管４からの出力に基づいて位置計算
部５でその入射位置を計算し位置信号（ＸＹ信号）を出
力すると共に、各光電子増倍管４の出力を加算して入射
γ線エネルギに応じたエネルギ信号（Ｚ信号）を出力す
るものである。
る。カメラ本体１は、コリメータ２の後方に例えばヨウ
化ナトリウム(NaI) を発光物質としたシンチレータ３を
配置し、このシンチレータ３の後方に複数の光電子増倍
管（ＰＭＴ）４をちょう密に配列してなり、γ線が入射
する毎に光電子増倍管４からの出力に基づいて位置計算
部５でその入射位置を計算し位置信号（ＸＹ信号）を出
力すると共に、各光電子増倍管４の出力を加算して入射
γ線エネルギに応じたエネルギ信号（Ｚ信号）を出力す
るものである。
【００１２】補正回路６は、カメラ本体１の出力を受け
てリニアリティ補正およびエネルギ補正を行ない、ＸＹ
信号をメモリコントローラ７に送り、Ｚ信号をウインド
ウ回路８に送る。ウインドウ回路８は、このＺ信号をコ
ントローラ９からのウインドウＷ（下限エネルギＥLOW
≦Ｗ≦上限エネルギＥUP）で選別し、Ｚ信号がこのウイ
ンドウＷに入っているときにだけＺ信号をチャンネル判
別回路１０に出力する。チャンネル判別回路１０は、ウ
インドウ回路８からのＺ信号の強度（入射γ線エネル
ギ）に応じたチャンネル信号Ｃを、コントローラ９から
の微小エネルギピッチ△Ｅを用いて判別する。ここで、
チャンネルとは、ウインドウＷを微小なエネルギピッチ
△Ｅで分割したときのＥLOW ，ＥLOW ＋△Ｅ … ＥUP
−△Ｅ，ＥUPまで各エネルギ順位のことをいい、チャン
ネル数は例えばｎ（ｎ＝Ｗ／△Ｅ＋１）である。
てリニアリティ補正およびエネルギ補正を行ない、ＸＹ
信号をメモリコントローラ７に送り、Ｚ信号をウインド
ウ回路８に送る。ウインドウ回路８は、このＺ信号をコ
ントローラ９からのウインドウＷ（下限エネルギＥLOW
≦Ｗ≦上限エネルギＥUP）で選別し、Ｚ信号がこのウイ
ンドウＷに入っているときにだけＺ信号をチャンネル判
別回路１０に出力する。チャンネル判別回路１０は、ウ
インドウ回路８からのＺ信号の強度（入射γ線エネル
ギ）に応じたチャンネル信号Ｃを、コントローラ９から
の微小エネルギピッチ△Ｅを用いて判別する。ここで、
チャンネルとは、ウインドウＷを微小なエネルギピッチ
△Ｅで分割したときのＥLOW ，ＥLOW ＋△Ｅ … ＥUP
−△Ｅ，ＥUPまで各エネルギ順位のことをいい、チャン
ネル数は例えばｎ（ｎ＝Ｗ／△Ｅ＋１）である。
【００１３】メモリコントローラ７は、補正回路６から
のＸＹ信号およびチャンネル判別回路１０からのチャン
ネル信号Ｃを受けて、このＸＹ信号およびチャンネル信
号Ｃをアドレスとしてメモリ群１１に出力しその記憶動
作を制御する。
のＸＹ信号およびチャンネル判別回路１０からのチャン
ネル信号Ｃを受けて、このＸＹ信号およびチャンネル信
号Ｃをアドレスとしてメモリ群１１に出力しその記憶動
作を制御する。
【００１４】メモリ群１１は、各チャンネルに対応する
ｎ枚の２次元メモリ１１1 〜１１nを備えていて、メモ
リコントローラ７の制御のもと、チャンネル信号Ｃに対
応したいずれか一のメモリ１０1 〜１０n のＸＹ信号に
特定される画素が１カウントずつカウントアップされ
る。
ｎ枚の２次元メモリ１１1 〜１１nを備えていて、メモ
リコントローラ７の制御のもと、チャンネル信号Ｃに対
応したいずれか一のメモリ１０1 〜１０n のＸＹ信号に
特定される画素が１カウントずつカウントアップされ
る。
【００１５】エネルギスペクトラム作成部１２は、メモ
リ１１1 〜１１n の同一ＸＹ位置の各画素の画素値（計
数値）をエネルギ軸に沿って展開して、図４に示すよう
なエネルギスペクトラムを画素毎に作成する。
リ１１1 〜１１n の同一ＸＹ位置の各画素の画素値（計
数値）をエネルギ軸に沿って展開して、図４に示すよう
なエネルギスペクトラムを画素毎に作成する。
【００１６】局所エネルギスペクトラム作成部１３は、
図示しない入力装置を介して入力した関心部分（ｍ×ｍ
画素の局所）に関する局所エネルギスペクトラムを作成
するものであり、この局所に含まれる各画素のエネルギ
スペクトラムをエネルギスペクトラム作成部１２から取
り出し、それらを合成して局所エネルギスペクトラムを
作成し、その局所エネルギスペクトラムをモニタ１４に
表示する。
図示しない入力装置を介して入力した関心部分（ｍ×ｍ
画素の局所）に関する局所エネルギスペクトラムを作成
するものであり、この局所に含まれる各画素のエネルギ
スペクトラムをエネルギスペクトラム作成部１２から取
り出し、それらを合成して局所エネルギスペクトラムを
作成し、その局所エネルギスペクトラムをモニタ１４に
表示する。
【００１７】画像再構成処理部１５は、エネルギスペク
トラム作成部１２から各画素のエネルギスペクトラムを
入力し、表示ウインドウ設定部１６で設定した表示ウイ
ンドウ内の光電ピーク面積、すなわち表示ウインドウ内
の総面積（計数値の積算値）から散乱線成分を除去した
光電ピーク面積を、各エネルギスペクトラム毎に、すな
わち画素毎に求め、この光電ピーク面積を元の画素配列
にしたがって２次元に展開して、分布画像を再構成する
ものであるが、この再構成手順についての詳細は後述す
る。以上のように構成された本実施例の作用について説
明する。
トラム作成部１２から各画素のエネルギスペクトラムを
入力し、表示ウインドウ設定部１６で設定した表示ウイ
ンドウ内の光電ピーク面積、すなわち表示ウインドウ内
の総面積（計数値の積算値）から散乱線成分を除去した
光電ピーク面積を、各エネルギスペクトラム毎に、すな
わち画素毎に求め、この光電ピーク面積を元の画素配列
にしたがって２次元に展開して、分布画像を再構成する
ものであるが、この再構成手順についての詳細は後述す
る。以上のように構成された本実施例の作用について説
明する。
【００１８】図２は、データ収集から画素毎のエネルギ
スペクトラムの作成までの処理の流れを示す流れ図であ
る。なお、分布画像はＳ×Ｓ画素のマトリクスサイズで
あるものとする。そして、ここでは、光電ピークの十分
離間した３つの核種Ａ，Ｂ，Ｃで各別にラベルした放射
性医薬品を被検体に投与するものとする。
スペクトラムの作成までの処理の流れを示す流れ図であ
る。なお、分布画像はＳ×Ｓ画素のマトリクスサイズで
あるものとする。そして、ここでは、光電ピークの十分
離間した３つの核種Ａ，Ｂ，Ｃで各別にラベルした放射
性医薬品を被検体に投与するものとする。
【００１９】まず、データ収集に先立って、少なくとも
核種Ａ，Ｂ，Ｃの各光電ピークエネルギおよび散乱線成
分を含む比較的広いウインドウＷを設定し、またチャン
ネルピッチを決めるエネルギピッチ△Ｅを設定する（ス
テップ１００）。なお、このときのチャンネル数はｎと
する。
核種Ａ，Ｂ，Ｃの各光電ピークエネルギおよび散乱線成
分を含む比較的広いウインドウＷを設定し、またチャン
ネルピッチを決めるエネルギピッチ△Ｅを設定する（ス
テップ１００）。なお、このときのチャンネル数はｎと
する。
【００２０】データ収集を開始すると（ステップ１０
１）、γ線入射毎にカメラ本体１でＸＹ信号およびＺ信
号が測定され（ステップ１０２）、補正回路６でリニア
リティ補正およびエネルギ補正された後、ＸＹ信号はメ
モリコントローラ７に送られ、Ｚ信号はウインドウ回路
８に送られる。ウインドウ回路８では、このＺ信号をウ
インドウＷで選別し（ステップ１０３）、Ｚ信号がこの
ウインドウＷに入っていないときにはステップ１０２に
戻り次のγ線入射を待機し、一方、Ｚ信号がこのウイン
ドウＷに入っているときにはこのＺ信号をチャンネル判
別回路１０に送る。チャンネル判別回路１０では、この
Ｚ信号の強度に一致するチャンネルが判別され、（ステ
ップ１０４）、そのチャンネル信号Ｃがメモリコントロ
ーラ７へ出力される。
１）、γ線入射毎にカメラ本体１でＸＹ信号およびＺ信
号が測定され（ステップ１０２）、補正回路６でリニア
リティ補正およびエネルギ補正された後、ＸＹ信号はメ
モリコントローラ７に送られ、Ｚ信号はウインドウ回路
８に送られる。ウインドウ回路８では、このＺ信号をウ
インドウＷで選別し（ステップ１０３）、Ｚ信号がこの
ウインドウＷに入っていないときにはステップ１０２に
戻り次のγ線入射を待機し、一方、Ｚ信号がこのウイン
ドウＷに入っているときにはこのＺ信号をチャンネル判
別回路１０に送る。チャンネル判別回路１０では、この
Ｚ信号の強度に一致するチャンネルが判別され、（ステ
ップ１０４）、そのチャンネル信号Ｃがメモリコントロ
ーラ７へ出力される。
【００２１】メモリコントローラ７では、このＸＹ信号
およびチャンネル信号Ｃを受けて、このＸＹ信号および
チャンネル信号Ｃをアドレスとして、メモリ群１０のチ
ャンネル信号Ｃに対応したいずれか一のメモリ１０1 〜
１０n のＸＹ信号に特定される画素を１カウントだけカ
ウントアップする（ステップ１０５）。このようなステ
ップ１０２からステップ１０５までの処理をデータ収集
開始時刻から所定時間経過するまで繰り返す（ステップ
１０６）。この結果、エネルギの異なるｎ枚の画像がメ
モリ群１０に格納される。
およびチャンネル信号Ｃを受けて、このＸＹ信号および
チャンネル信号Ｃをアドレスとして、メモリ群１０のチ
ャンネル信号Ｃに対応したいずれか一のメモリ１０1 〜
１０n のＸＹ信号に特定される画素を１カウントだけカ
ウントアップする（ステップ１０５）。このようなステ
ップ１０２からステップ１０５までの処理をデータ収集
開始時刻から所定時間経過するまで繰り返す（ステップ
１０６）。この結果、エネルギの異なるｎ枚の画像がメ
モリ群１０に格納される。
【００２２】次に、画素毎のエネルギスペクトラムは、
エネルギスペクトラム作成部１２で次のように処理され
作成される。まず、画素を定めるワードｉ，ｊを１にセ
ットし（ステップ１０７）、メモリ群１０から各メモリ
１０1 〜１０n の画素（Ｘｉ，Ｙｊ）に記憶されている
各計数値を取り出し、これらをチャンネル方向に展開
し、画素（Ｘｉ，Ｙｊ）に関するエネルギスペクトラム
を作成する（ステップ１０８）。そして、ワードｉまた
はｊに１を加算して（ステップ１０９）、このワード
ｉ，ｊを画素数Ｓと比較し（ステップ１１０）、ワード
ｉ，ｊが共に画素数Ｓを越えない間、すなわち全ての画
素が上記ステップ１０８およびステップ１０９の処理を
実行されるまで繰り返されて、全ての画素毎のエネルギ
スペクトラムが完成する（ステップ１１１）。
エネルギスペクトラム作成部１２で次のように処理され
作成される。まず、画素を定めるワードｉ，ｊを１にセ
ットし（ステップ１０７）、メモリ群１０から各メモリ
１０1 〜１０n の画素（Ｘｉ，Ｙｊ）に記憶されている
各計数値を取り出し、これらをチャンネル方向に展開
し、画素（Ｘｉ，Ｙｊ）に関するエネルギスペクトラム
を作成する（ステップ１０８）。そして、ワードｉまた
はｊに１を加算して（ステップ１０９）、このワード
ｉ，ｊを画素数Ｓと比較し（ステップ１１０）、ワード
ｉ，ｊが共に画素数Ｓを越えない間、すなわち全ての画
素が上記ステップ１０８およびステップ１０９の処理を
実行されるまで繰り返されて、全ての画素毎のエネルギ
スペクトラムが完成する（ステップ１１１）。
【００２３】ここで、所望の関心部分についての局所エ
ネルギスペクトラムを表示し各種情報を得たいときに
は、図示しない入力装置を操作して分布画像内の任意の
位置にＲＯＩ、（例えばｍ×ｍ画素サイズ、もちろん１
画素でもよい）が設定されると、局所エネルギスペクト
ラム作成部１３で当該ＲＯＩに含まれるｍ×ｍ画素の各
エネルギスペクトラムがエネルギスペクトラム作成部１
２から読み出され、各エネルギスペクトラムの計数値が
チャンネル毎に加算されて当該ＲＯＩに関する局所エネ
ルギスペクトラムが作成され、モニタ１４に表示され
る。したがって、オペレータにあっては、任意のＲＯＩ
についての局所エネルギスペクトラムを随時観察し、診
断に供することができる。
ネルギスペクトラムを表示し各種情報を得たいときに
は、図示しない入力装置を操作して分布画像内の任意の
位置にＲＯＩ、（例えばｍ×ｍ画素サイズ、もちろん１
画素でもよい）が設定されると、局所エネルギスペクト
ラム作成部１３で当該ＲＯＩに含まれるｍ×ｍ画素の各
エネルギスペクトラムがエネルギスペクトラム作成部１
２から読み出され、各エネルギスペクトラムの計数値が
チャンネル毎に加算されて当該ＲＯＩに関する局所エネ
ルギスペクトラムが作成され、モニタ１４に表示され
る。したがって、オペレータにあっては、任意のＲＯＩ
についての局所エネルギスペクトラムを随時観察し、診
断に供することができる。
【００２４】次に、画像再構成処理部１５で、核種毎の
分布画像の分離処理の流れについて図３および図４を用
いて説明する。なお、図３は、核種Ａについての画像の
作成手順を示すものであるが、核種Ｂ，Ｃについても表
示ウインドウの設定範囲のみ相違し、他の処理は同一で
ある。図４は、ある画素（Ｘｉ，Ｙｊ）についてのエネ
ルギスペクトラムを示す図である。
分布画像の分離処理の流れについて図３および図４を用
いて説明する。なお、図３は、核種Ａについての画像の
作成手順を示すものであるが、核種Ｂ，Ｃについても表
示ウインドウの設定範囲のみ相違し、他の処理は同一で
ある。図４は、ある画素（Ｘｉ，Ｙｊ）についてのエネ
ルギスペクトラムを示す図である。
【００２５】まず、核種Ａについての表示ウインドウＷ
A （Ｅm ≦ＷA ≦Ｅn ）を設定する（ステップ１２
０）。この表示ウインドウＷA の設定は、エネルギスペ
クトラムを参照しながら人為的に設定しても良いし、自
動的に、例えば核種Ａに固有の光電ピークエネルギＥPA
を中心に例えばＥPAの２０％の幅に自動的に設定しても
よいし、また他の方法を採用して好適に設定すればよ
い。
A （Ｅm ≦ＷA ≦Ｅn ）を設定する（ステップ１２
０）。この表示ウインドウＷA の設定は、エネルギスペ
クトラムを参照しながら人為的に設定しても良いし、自
動的に、例えば核種Ａに固有の光電ピークエネルギＥPA
を中心に例えばＥPAの２０％の幅に自動的に設定しても
よいし、また他の方法を採用して好適に設定すればよ
い。
【００２６】ステップ１２０で表示ウインドウＷA の設
定が完了すると、まずワードｉ，ｊが１に設定され（ス
テップ１２１）、画素（Ｘｉ，Ｙｊ）のエネルギスペク
トラムがエネルギスペクトラム作成部１２から読み出さ
れる（ステップ１２２）。
定が完了すると、まずワードｉ，ｊが１に設定され（ス
テップ１２１）、画素（Ｘｉ，Ｙｊ）のエネルギスペク
トラムがエネルギスペクトラム作成部１２から読み出さ
れる（ステップ１２２）。
【００２７】そして、表示ウインドウＷA 内の各計数値
が積算され、総面積ＴA が算出される（ステップ１２
３）。この総面積ＴA から散乱線成分を引算して、散乱
線成分を含まない光電ピーク面積ＰA を求めるのである
が、この方法は、ここでは特願平３−６３４４３に記載
された方法に基づいた方法を採用することとするが、も
ちろん他の方法を採用してもよい。
が積算され、総面積ＴA が算出される（ステップ１２
３）。この総面積ＴA から散乱線成分を引算して、散乱
線成分を含まない光電ピーク面積ＰA を求めるのである
が、この方法は、ここでは特願平３−６３４４３に記載
された方法に基づいた方法を採用することとするが、も
ちろん他の方法を採用してもよい。
【００２８】この方法の場合、散乱線成分を含むベース
成分面積ＢA を台形近似により求め（ステップ１２
４）、表示ウインドウＷA 内の総面積ＴA からベース成
分面積ＢA を引算することで、散乱線成分を含まない光
電ピーク面積ＰA を求める（ステップ１２５）。この光
電ピーク面積ＰA を、画像再構成処理部１４内の画像メ
モリの当該画素（Ｘｉ，Ｙｊ）に記憶する。
成分面積ＢA を台形近似により求め（ステップ１２
４）、表示ウインドウＷA 内の総面積ＴA からベース成
分面積ＢA を引算することで、散乱線成分を含まない光
電ピーク面積ＰA を求める（ステップ１２５）。この光
電ピーク面積ＰA を、画像再構成処理部１４内の画像メ
モリの当該画素（Ｘｉ，Ｙｊ）に記憶する。
【００２９】そして、ワードｉ又はｊに１を加算して
（ステップ１２７）、このワードｉおよびｊを画素数Ｓ
に比較し（ステップ１２８）、両方が画素数Ｓを越えな
い間、上記ステップ１２２からステップ１２７までの処
理を繰り返すことで、全ての画素個々について光電ピー
ク面積ＰA が求められ、散乱線成分や他の核種Ｂ，Ｃ成
分が混入しない核種Ａ単独の分布画像ＩA が完成する
（ステップ１２９）。このように収集された画像Ｉ
A は、各画素値に応じた明るさでモニタ１４に表示さ
れ、診断や検査に供される。
（ステップ１２７）、このワードｉおよびｊを画素数Ｓ
に比較し（ステップ１２８）、両方が画素数Ｓを越えな
い間、上記ステップ１２２からステップ１２７までの処
理を繰り返すことで、全ての画素個々について光電ピー
ク面積ＰA が求められ、散乱線成分や他の核種Ｂ，Ｃ成
分が混入しない核種Ａ単独の分布画像ＩA が完成する
（ステップ１２９）。このように収集された画像Ｉ
A は、各画素値に応じた明るさでモニタ１４に表示さ
れ、診断や検査に供される。
【００３０】なお、以上の説明では、核種Ａについての
画像の作成処理手順について説明したが、核種Ｂ，Ｃに
ついても表示ウインドウをＷB やＷC に設定し、核種Ａ
と同様の処理を実行することにより各核種単独の分布画
像を得ることができる。
画像の作成処理手順について説明したが、核種Ｂ，Ｃに
ついても表示ウインドウをＷB やＷC に設定し、核種Ａ
と同様の処理を実行することにより各核種単独の分布画
像を得ることができる。
【００３１】このように本実施例は、画素毎のエネルギ
スペクトラムを作成できるので、このエネルギスペクト
ラムを用いれば散乱線成分を画素単位で除去でき、した
がって高精度で散乱線成分を除去した核種毎の分布画像
を作成することができる。次に第２の実施例について説
明する。
スペクトラムを作成できるので、このエネルギスペクト
ラムを用いれば散乱線成分を画素単位で除去でき、した
がって高精度で散乱線成分を除去した核種毎の分布画像
を作成することができる。次に第２の実施例について説
明する。
【００３２】上述した第１実施例は、光電ピークエネル
ギの十分離間した多核種を同時投与する場合を対象にし
たものであり、核種毎に異なる表示ウインドウを設定す
ることで核種毎に分布画像を分離していたので、光電ピ
ークエネルギが近接し互いのウインドウが重なり合うよ
うな核種を同時投与する場合には各核種成分が混在し各
核種の分布画像を分離することはできないという不具合
があるが、本実施例はこの不具合を解決するものであ
る。
ギの十分離間した多核種を同時投与する場合を対象にし
たものであり、核種毎に異なる表示ウインドウを設定す
ることで核種毎に分布画像を分離していたので、光電ピ
ークエネルギが近接し互いのウインドウが重なり合うよ
うな核種を同時投与する場合には各核種成分が混在し各
核種の分布画像を分離することはできないという不具合
があるが、本実施例はこの不具合を解決するものであ
る。
【００３３】本実施例は、図１に示した第１の実施例の
構成と同じであるので構成の説明を省略し、画像再構成
処理部における核種毎の分布画像の分離処理についての
み以下説明する。
構成と同じであるので構成の説明を省略し、画像再構成
処理部における核種毎の分布画像の分離処理についての
み以下説明する。
【００３４】なお、ここでは、光電ピークエネルギが近
接し互いのウインドウが一部重なるような核種として、
Tc-99m（光電ピークエネルギ;141KeV ）とI-123 （光電
ピークエネルギ;159KeV ）を例に掲げて説明するものと
する。
接し互いのウインドウが一部重なるような核種として、
Tc-99m（光電ピークエネルギ;141KeV ）とI-123 （光電
ピークエネルギ;159KeV ）を例に掲げて説明するものと
する。
【００３５】この分布画像の分離処理に先だって、ウイ
ンドウ回路８のウインドウを、少なくとも核種Tc-99mの
光電ピークと核種I-123 の光電ピークおよび散乱成分を
含むウインドウＷを設定し、このウインドウＷで、デー
タ収集を行い、第１実施例と同様に、画素毎のエネルギ
スペクトラムがエネルギスペクトラム作成部１２で作成
されている。
ンドウ回路８のウインドウを、少なくとも核種Tc-99mの
光電ピークと核種I-123 の光電ピークおよび散乱成分を
含むウインドウＷを設定し、このウインドウＷで、デー
タ収集を行い、第１実施例と同様に、画素毎のエネルギ
スペクトラムがエネルギスペクトラム作成部１２で作成
されている。
【００３６】図５は、散乱線成分を除去し、かつTc-99m
成分とI-123 成分を分離し、Tc-99m単独の分布画像を作
成する処理手順を示す流れ図であり、図６および図７は
画素（Ｘｉ，Ｙｊ）に関するエネルギスペクトラムを示
す図である。
成分とI-123 成分を分離し、Tc-99m単独の分布画像を作
成する処理手順を示す流れ図であり、図６および図７は
画素（Ｘｉ，Ｙｊ）に関するエネルギスペクトラムを示
す図である。
【００３７】まず、図５に示すように、表示ウインドウ
設定部１６をして、Tc-99mの光電ピークエネルギを中心
に例えば２０％の幅のTc-99mについての表示ウインドウ
ＷTcと、I-123 の光電ピークエネルギを中心に例えば２
０％の幅のI-123 についての表示ウインドウＷI を設定
する（ステップ２００）。そして、ワードｉ，ｊが１に
設定され（ステップ２０１）、画素（Ｘｉ，Ｙｊ）のエ
ネルギスペクトラムがエネルギスペクトラム作成部１２
から読み出される（ステップ２０２）。
設定部１６をして、Tc-99mの光電ピークエネルギを中心
に例えば２０％の幅のTc-99mについての表示ウインドウ
ＷTcと、I-123 の光電ピークエネルギを中心に例えば２
０％の幅のI-123 についての表示ウインドウＷI を設定
する（ステップ２００）。そして、ワードｉ，ｊが１に
設定され（ステップ２０１）、画素（Ｘｉ，Ｙｊ）のエ
ネルギスペクトラムがエネルギスペクトラム作成部１２
から読み出される（ステップ２０２）。
【００３８】そして、表示ウインドウＷTcと表示ウイン
ドウＷI とを重ね合わせたウインドウＷ内に含まれる散
乱線成分Ｂを、第１実施例で説明したように特願平３−
６３４４３に記載された方法などにより求め、散乱線成
分Ｂを予め除去し（ステップ２０３）、散乱線成分を含
まない図６に点線で示した新たなエネルギスペクトラム
を整形する（ステップ２０４）。
ドウＷI とを重ね合わせたウインドウＷ内に含まれる散
乱線成分Ｂを、第１実施例で説明したように特願平３−
６３４４３に記載された方法などにより求め、散乱線成
分Ｂを予め除去し（ステップ２０３）、散乱線成分を含
まない図６に点線で示した新たなエネルギスペクトラム
を整形する（ステップ２０４）。
【００３９】図７は、この新たなエネルギスペクトラム
だけを取り出した図である。このエネルギスペクトラム
から核種Tc-99mの新たな光電ピークエネルギＥPTc'を探
索する（ステップ２０５）。
だけを取り出した図である。このエネルギスペクトラム
から核種Tc-99mの新たな光電ピークエネルギＥPTc'を探
索する（ステップ２０５）。
【００４０】そして、この光電ピークエネルギＥPTc'よ
り低エネルギ側のａ点からｂ点までの分布曲線ｔを、矢
印で示したように光電ピークエネルギＥPTc'を挟んで高
エネルギ側に折り返し、この分布曲線ｔ´と分布曲線ｔ
とを光電ピークでａ点で連結することで、核種I-123 成
分を核種Tc-99mから分離し、核種Tc-99m単独のエネルギ
スペクトラムを形成することができる（ステップ２０
６）。これは、エネルギスペクトラムが散乱線成分を含
まないとき、すなわち光電ピーク成分だけのとき、光電
ピークエネルギを挟んでほぼ左右対称になる左右対称特
性を利用したものである。
り低エネルギ側のａ点からｂ点までの分布曲線ｔを、矢
印で示したように光電ピークエネルギＥPTc'を挟んで高
エネルギ側に折り返し、この分布曲線ｔ´と分布曲線ｔ
とを光電ピークでａ点で連結することで、核種I-123 成
分を核種Tc-99mから分離し、核種Tc-99m単独のエネルギ
スペクトラムを形成することができる（ステップ２０
６）。これは、エネルギスペクトラムが散乱線成分を含
まないとき、すなわち光電ピーク成分だけのとき、光電
ピークエネルギを挟んでほぼ左右対称になる左右対称特
性を利用したものである。
【００４１】この核種Tc-99m単独のエネルギスペクトラ
ムが得られると、斜線で示した核種Tc-99mの光電ピーク
面積ＰTcを計算し（ステップ２０７）、当該画像再構成
処理部内の画像メモリの画素（Ｘｉ，Ｙｊ）にこの光電
ピーク面積ＰTcを記憶する（ステップ２０８）。
ムが得られると、斜線で示した核種Tc-99mの光電ピーク
面積ＰTcを計算し（ステップ２０７）、当該画像再構成
処理部内の画像メモリの画素（Ｘｉ，Ｙｊ）にこの光電
ピーク面積ＰTcを記憶する（ステップ２０８）。
【００４２】そして、次の画素について同様の処理を実
行するべく、ワードｉ又はｊに１を加算して（ステップ
２０９）、このワードｉおよびｊを画素数Ｓに比較し
（ステップ２１０）、上記ステップ２０２からステップ
２０９までの処理を繰り返すことで、全ての画素個々に
ついて光電ピーク面積ＰTcが求められ、散乱線成分や核
種I-123 成分が混入しない核種Tc-99m単独の分布画像Ｉ
I が完成する（ステップ２１１）。このように収集され
た画像ＩI は、各画素値に応じた明るさでモニタ１４に
表示され、診断や検査に供される。なお、以上の説明で
は、Tc-99mの分布画像を分離する処理手順について説明
したが、核種I-123 の場合も同じ処理を実行すればよ
い。
行するべく、ワードｉ又はｊに１を加算して（ステップ
２０９）、このワードｉおよびｊを画素数Ｓに比較し
（ステップ２１０）、上記ステップ２０２からステップ
２０９までの処理を繰り返すことで、全ての画素個々に
ついて光電ピーク面積ＰTcが求められ、散乱線成分や核
種I-123 成分が混入しない核種Tc-99m単独の分布画像Ｉ
I が完成する（ステップ２１１）。このように収集され
た画像ＩI は、各画素値に応じた明るさでモニタ１４に
表示され、診断や検査に供される。なお、以上の説明で
は、Tc-99mの分布画像を分離する処理手順について説明
したが、核種I-123 の場合も同じ処理を実行すればよ
い。
【００４３】このように本実施例は、第１実施例と同様
の効果を得られると共に、第１実施例では不可能であっ
た光電ピークエネルギが近接し互いのウインドウが一部
重なるような核種を同時投与する場合にも核種毎の分布
画像を分離することができる。 次に第３の実施例につ
いて説明する。
の効果を得られると共に、第１実施例では不可能であっ
た光電ピークエネルギが近接し互いのウインドウが一部
重なるような核種を同時投与する場合にも核種毎の分布
画像を分離することができる。 次に第３の実施例につ
いて説明する。
【００４４】本実施例は、図１に示した第１の実施例の
構成と同じであるので構成の説明を省略し、画像再構成
処理部における核種毎の分布画像の分離処理についての
み以下説明する。
構成と同じであるので構成の説明を省略し、画像再構成
処理部における核種毎の分布画像の分離処理についての
み以下説明する。
【００４５】なお、本実施例が対象とする同時投与する
核種は、２以上の光電ピークを有する核種として例えば
Tl-201（光電ピークエネルギ;71KeVと167KeV）と、Tl-2
01の一方の光電ピークエネルギに接近したI-123 （光電
ピークエネルギ;159KeV ）を例に掲げて説明するものと
する。
核種は、２以上の光電ピークを有する核種として例えば
Tl-201（光電ピークエネルギ;71KeVと167KeV）と、Tl-2
01の一方の光電ピークエネルギに接近したI-123 （光電
ピークエネルギ;159KeV ）を例に掲げて説明するものと
する。
【００４６】この分布画像の分離処理に先だって、ウイ
ンドウ回路８のウインドウを、少なくとも核種Tl-201の
２つの光電ピークと核種I-123 の光電ピークおよび散乱
成分を含むウインドウＷを設定し、このウインドウＷ
で、データ収集を行い、第１実施例と同様に、画素毎の
エネルギスペクトラムがエネルギスペクトラム作成部１
２で作成されている。
ンドウ回路８のウインドウを、少なくとも核種Tl-201の
２つの光電ピークと核種I-123 の光電ピークおよび散乱
成分を含むウインドウＷを設定し、このウインドウＷ
で、データ収集を行い、第１実施例と同様に、画素毎の
エネルギスペクトラムがエネルギスペクトラム作成部１
２で作成されている。
【００４７】図８は、散乱線成分を除去し、かつTl-201
成分とI-123 成分を分離し、I-123単独の分布画像を作
成する処理手順を示す流れ図であり、図９は画素（Ｘ
ｉ，Ｙｊ）に関するエネルギスペクトラムを示す図であ
る。
成分とI-123 成分を分離し、I-123単独の分布画像を作
成する処理手順を示す流れ図であり、図９は画素（Ｘ
ｉ，Ｙｊ）に関するエネルギスペクトラムを示す図であ
る。
【００４８】まず、図８に示すように、表示ウインドウ
設定部１６をして、Tl-201の２つの光電ピークに対応し
た低エネルギ側の表示ウインドウＷTlL および高エネル
ギ側の表示ウインドウＷTlH 、そして、I-123 の表示ウ
インドウＷI を設定する（ステップ３００）。そして、
ワードｉ，ｊが１に設定され（ステップ３０１）、画素
（Ｘｉ，Ｙｊ）のエネルギスペクトラムがエネルギスペ
クトラム作成部１２から読み出される（ステップ３０
２）。
設定部１６をして、Tl-201の２つの光電ピークに対応し
た低エネルギ側の表示ウインドウＷTlL および高エネル
ギ側の表示ウインドウＷTlH 、そして、I-123 の表示ウ
インドウＷI を設定する（ステップ３００）。そして、
ワードｉ，ｊが１に設定され（ステップ３０１）、画素
（Ｘｉ，Ｙｊ）のエネルギスペクトラムがエネルギスペ
クトラム作成部１２から読み出される（ステップ３０
２）。
【００４９】そして、Tl-201の低エネルギ側の表示ウイ
ンドウＷTlL 内に含まれる散乱線成分ＢTlL を、第１実
施例で説明したように特願平３−６３４４３に記載され
た方法などにより求め、表示ウインドウＷTlL 内の総面
積（計数値合計）からこの散乱線成分ＢTlL を引算する
ことにより、Tl-201の低エネルギ側の光電ピーク面積Ｐ
TlL を求める（ステップ３０３）。
ンドウＷTlL 内に含まれる散乱線成分ＢTlL を、第１実
施例で説明したように特願平３−６３４４３に記載され
た方法などにより求め、表示ウインドウＷTlL 内の総面
積（計数値合計）からこの散乱線成分ＢTlL を引算する
ことにより、Tl-201の低エネルギ側の光電ピーク面積Ｐ
TlL を求める（ステップ３０３）。
【００５０】次に、I-123 の表示ウインドウＷI を用い
て、この表示ウインドウＷI 内の散乱線成分を除去し、
図９に斜線で示した光電ピーク面積Ｐ1 を求める（ステ
ップ３０４）。ただし、この光電ピーク面積Ｐ1 には、
Tl-201の高エネルギ側の成分が一部混入しているので、
I-123 単独の成分を取り出すためには、この一部、すな
わち、Tl-201の高エネルギ側の光電ピーク面積ＰTlH の
内、I-123 の表示ウインドウＷI 内に含まれる光電ピー
ク面積Ｐ2 を光電ピーク面積Ｐ1 から引算しなければな
らない。このTl-201の高エネルギ側の光電ピーク面積Ｐ
TlH の内、I-123 の表示ウインドウＷI 内に含まれる光
電ピーク面積Ｐ2 は、次のように求める。
て、この表示ウインドウＷI 内の散乱線成分を除去し、
図９に斜線で示した光電ピーク面積Ｐ1 を求める（ステ
ップ３０４）。ただし、この光電ピーク面積Ｐ1 には、
Tl-201の高エネルギ側の成分が一部混入しているので、
I-123 単独の成分を取り出すためには、この一部、すな
わち、Tl-201の高エネルギ側の光電ピーク面積ＰTlH の
内、I-123 の表示ウインドウＷI 内に含まれる光電ピー
ク面積Ｐ2 を光電ピーク面積Ｐ1 から引算しなければな
らない。このTl-201の高エネルギ側の光電ピーク面積Ｐ
TlH の内、I-123 の表示ウインドウＷI 内に含まれる光
電ピーク面積Ｐ2 は、次のように求める。
【００５１】まず、ステップ３０５で、Tl-201の高エネ
ルギ側の光電ピーク面積ＰTlH を、核種に固有のエネル
ギに応じたγ線放出割合と壊変率とを利用して、Tl-201
の低エネルギ側の光電ピーク面積ＰTlL から求める。つ
まり、Tl-201の低エネルギ側の光電ピークエネルギ（71
KeV ）に対する高エネルギ側の光電ピークエネルギ（16
7KeV）のγ線放出割合は、既知であり、１１％であり、
また壊変率が９６％であるので、Tl-201の高エネルギ側
の光電ピーク面積ＰTlH は、次式（１）で求めることが
できる。 ＰTlH ＝ＰTlL ×０．１１×０．９６ …（１）
ルギ側の光電ピーク面積ＰTlH を、核種に固有のエネル
ギに応じたγ線放出割合と壊変率とを利用して、Tl-201
の低エネルギ側の光電ピーク面積ＰTlL から求める。つ
まり、Tl-201の低エネルギ側の光電ピークエネルギ（71
KeV ）に対する高エネルギ側の光電ピークエネルギ（16
7KeV）のγ線放出割合は、既知であり、１１％であり、
また壊変率が９６％であるので、Tl-201の高エネルギ側
の光電ピーク面積ＰTlH は、次式（１）で求めることが
できる。 ＰTlH ＝ＰTlL ×０．１１×０．９６ …（１）
【００５２】次に、ステップ３０６で、このTl-201の高
エネルギ側の光電ピーク面積ＰTlHから、I-123 の表示
ウインドウＷI 内に含まれる光電ピーク面積Ｐ2 を、Tl
-201の高エネルギ側の光電ピーク面積ＰTlH に、Tl-201
の高エネルギ側の表示ウインドウＷTlH に対するI-123
の表示ウインドウＷI と重なり合う範囲Ｗd の割合Ｒ
（Ｒ＝Ｗd ／ＷTlH ）を乗算することにより、推定する
ことができる。
エネルギ側の光電ピーク面積ＰTlHから、I-123 の表示
ウインドウＷI 内に含まれる光電ピーク面積Ｐ2 を、Tl
-201の高エネルギ側の光電ピーク面積ＰTlH に、Tl-201
の高エネルギ側の表示ウインドウＷTlH に対するI-123
の表示ウインドウＷI と重なり合う範囲Ｗd の割合Ｒ
（Ｒ＝Ｗd ／ＷTlH ）を乗算することにより、推定する
ことができる。
【００５３】この光電ピーク面積Ｐ2 が得られると、光
電ピーク面積Ｐ1 からＰ2 を引算することで、散乱線成
分およびTl-201成分の含まないI-123 単独の光電ピーク
面積ＰI を求めることができる（ステップ３０７）。そ
して、このI-123 単独の光電ピーク面積ＰI を当該画像
再構成処理部内の画像メモリの画素（Ｘｉ，Ｙｊ）に記
憶する（ステップ３０８）。
電ピーク面積Ｐ1 からＰ2 を引算することで、散乱線成
分およびTl-201成分の含まないI-123 単独の光電ピーク
面積ＰI を求めることができる（ステップ３０７）。そ
して、このI-123 単独の光電ピーク面積ＰI を当該画像
再構成処理部内の画像メモリの画素（Ｘｉ，Ｙｊ）に記
憶する（ステップ３０８）。
【００５４】さらに、次の画素について同様の処理を実
行するべく、ワードｉ又はｊに１を加算して（ステップ
３０９）、このワードｉおよびｊを画素数Ｓに比較し
（ステップ３１０）、さらに上記ステップ３０２からス
テップ３０９までの処理を繰り返すことで、全ての画素
個々についてI-123 単独の光電ピーク面積ＰI を求める
ことができ、したがって、散乱線成分を除去しかつTl-2
01成分から分離したI-123 単独の分布画像ＩI が完成す
る（ステップ３１１）。このように収集された分布画像
ＩI は、各画素値に応じた明るさでモニタ１４に表示さ
れ、診断や検査に供される。
行するべく、ワードｉ又はｊに１を加算して（ステップ
３０９）、このワードｉおよびｊを画素数Ｓに比較し
（ステップ３１０）、さらに上記ステップ３０２からス
テップ３０９までの処理を繰り返すことで、全ての画素
個々についてI-123 単独の光電ピーク面積ＰI を求める
ことができ、したがって、散乱線成分を除去しかつTl-2
01成分から分離したI-123 単独の分布画像ＩI が完成す
る（ステップ３１１）。このように収集された分布画像
ＩI は、各画素値に応じた明るさでモニタ１４に表示さ
れ、診断や検査に供される。
【００５５】このように本実施例は、第１実施例と同様
の効果を得られると共に、２以上の光電ピークを有する
核種とその一方の光電ピークエネルギに接近した核種と
を同時投与した場合でも、核種毎の分布画像に分離する
ことができる。
の効果を得られると共に、２以上の光電ピークを有する
核種とその一方の光電ピークエネルギに接近した核種と
を同時投与した場合でも、核種毎の分布画像に分離する
ことができる。
【００５６】本発明は上述した実施例に限定されること
なく、種々変形して実施例可能である。例えば、上述の
説明では、同時投与する核種の組み合わせの相違により
各実施例に別けて説明したが、上記第１から第３までの
各実施例を１台のシンチレーションカメラに装備させ、
各実施例の分離方法を選択的に使用できるようしてもよ
い。
なく、種々変形して実施例可能である。例えば、上述の
説明では、同時投与する核種の組み合わせの相違により
各実施例に別けて説明したが、上記第１から第３までの
各実施例を１台のシンチレーションカメラに装備させ、
各実施例の分離方法を選択的に使用できるようしてもよ
い。
【００５７】
【発明の効果】本発明によれば、γ線の入射位置毎のエ
ネルギスペクトラムと、任意に設定される関心領域内に
該当する複数のエネルギスペクトラムの合成による関心
領域（局所）に関するエネルギスペクトラムとの両方を
生成することができる。 また、本発明によるガンマカメ
ラによれば、エネルギスペクトラムに対する散乱線成分
除去と核種分離とを、γ線入射位置ごとに個別に行うの
で、散乱線成分除去と核種分離の精度を向上することが
できる。
ネルギスペクトラムと、任意に設定される関心領域内に
該当する複数のエネルギスペクトラムの合成による関心
領域（局所）に関するエネルギスペクトラムとの両方を
生成することができる。 また、本発明によるガンマカメ
ラによれば、エネルギスペクトラムに対する散乱線成分
除去と核種分離とを、γ線入射位置ごとに個別に行うの
で、散乱線成分除去と核種分離の精度を向上することが
できる。
【図１】第１の実施例のブロック図。
【図２】データ収集から画素毎のエネルギスペクトラム
の作成までの処理手順を示す流れ図。
の作成までの処理手順を示す流れ図。
【図３】画素毎の散乱線成分の除去および分布画像を核
種毎に分離する処理手順を示す流れ図。
種毎に分離する処理手順を示す流れ図。
【図４】図３の処理手順を説明するための図。
【図５】第２実施例による画素毎の散乱線成分の除去お
よび分布画像を核種毎に分離する処理手順を示す流れ
図。
よび分布画像を核種毎に分離する処理手順を示す流れ
図。
【図６】図５の散乱線成分の除去の処理手順を説明する
ための図。
ための図。
【図７】図５の分布画像を核種毎に分離する処理手順を
説明するための図。
説明するための図。
【図８】第３実施例による画素毎の散乱線成分の除去お
よび分布画像を核種毎に分離する処理手順を示す流れ
図。
よび分布画像を核種毎に分離する処理手順を示す流れ
図。
【図９】図８の処理手順を説明するための図。
１…カメラ本体、２…コリメータ、３…シンチレータ、
４…光電子増倍管、５…位置計算部、６…補正回路、７
…メモリコントローラ、８…ウインドウ回路、９…コン
トローラ、１０…チャンネル判別回路、１１…メモリ
群、１２…エネルギスペクトラム作成部、１３…局所エ
ネルギスペクトラム作成部、１４…モニタ、１５…画像
再構成処理部、１６…表示ウインドウ設定部。
４…光電子増倍管、５…位置計算部、６…補正回路、７
…メモリコントローラ、８…ウインドウ回路、９…コン
トローラ、１０…チャンネル判別回路、１１…メモリ
群、１２…エネルギスペクトラム作成部、１３…局所エ
ネルギスペクトラム作成部、１４…モニタ、１５…画像
再構成処理部、１６…表示ウインドウ設定部。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭59−145970（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−95375（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−246481（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−173784（ＪＰ，Ａ) 特開 昭50−94983（ＪＰ，Ａ) 特開 昭51−62084（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−257084（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−39369（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−320491（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−355393（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−290585（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−107182（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−87933（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−111746（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−123881（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−36682（ＪＰ，Ａ) 実開 昭58−184762（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭61−14392（ＪＰ，Ｕ) 特表 平３−502729（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G01T 1/164
Claims (4)
- 【請求項１】 被検体内に投与した放射性同位元素から
放出されるγ線を検出して、前記γ線のエネルギと入射
位置とを測定するカメラ本体と、 前記測定されたγ線のエネルギと入射位置とに基づい
て、エネルギ軸に対するγ線の入射回数の変化を表すエ
ネルギスペクトラムを前記γ線の入射位置毎に生成する
手段と、 関心領域を設定する手段と、 前記設定された関心領域内に該当する複数のエネルギス
ペクトラムを合成する手段と、 前記合成されたエネルギスペクトラムを表示する手段と
を具備したことを特徴とするガンマカメラ。 - 【請求項２】 前記合成されたエネルギスペクトラムの
表示エネルギ範囲を任意に設定する手段をさらに備えた
ことを特徴とする請求項１記載のガンマカメラ。 - 【請求項３】 前記合成されたエネルギスペクトラムの
表示エネルギ範囲を前記投与される放射性同位元素の核
種又は光電ピークに応じて自動設定する手段をさらに備
えたことを特徴とする請求項１記載のガンマカメラ。 - 【請求項４】 被検体内に投与した第１放射性同位元素
と、前記第１放射性同位元素と光電ピークが近接してい
る第２放射性同位元素とから放出されるγ線を検出し
て、前記γ線のエネルギと入射位置とを測定するカメラ
本体と、 前記測定されたγ線のエネルギと入射位置とに基づい
て、エネルギ軸に対するγ線の入射回数の変化を表すエ
ネルギスペクトラムを前記γ線の入射位置毎に生成する
手段と、 前記エネルギスペクトラム各々から散乱線成分を除去す
ると共に、この散乱線成分を除去されたエネルギスペク
トラム各々を、光電ピークを挟んでエネルギスペクトラ
ムが略左右対称になる左右対称性を利用して、前記第１
放射性同位元素に対応するエネルギスペクトラムと、前
記第２放射性同位元素に対応するエネルギスペクトラム
とに分離する手段とを具備したことを特徴とするガンマ
カメラ。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28580492A JP3311043B2 (ja) | 1992-10-23 | 1992-10-23 | ガンマカメラ |
| US08/139,812 US5347455A (en) | 1992-10-23 | 1993-10-22 | Scintillation camera |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28580492A JP3311043B2 (ja) | 1992-10-23 | 1992-10-23 | ガンマカメラ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06138237A JPH06138237A (ja) | 1994-05-20 |
| JP3311043B2 true JP3311043B2 (ja) | 2002-08-05 |
Family
ID=17696300
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28580492A Expired - Lifetime JP3311043B2 (ja) | 1992-10-23 | 1992-10-23 | ガンマカメラ |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5347455A (ja) |
| JP (1) | JP3311043B2 (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5610402A (en) * | 1994-03-30 | 1997-03-11 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Scintillation camera |
| US5521386A (en) * | 1995-02-09 | 1996-05-28 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Gamma ray camera method and apparatus |
| JP3813213B2 (ja) * | 1995-10-02 | 2006-08-23 | 株式会社東芝 | 核医学診断装置および放射性同位元素の分離方法 |
| US5633500A (en) * | 1995-11-22 | 1997-05-27 | Picker International, Inc. | Split window scatter correction |
| GB0128361D0 (en) * | 2001-11-27 | 2002-01-16 | British Nuclear Fuels Plc | Improvements in and relating to instruments |
| JP4763582B2 (ja) * | 2006-11-28 | 2011-08-31 | 日立アロカメディカル株式会社 | 排水モニタシステム及び排水測定方法 |
| JP2014241543A (ja) * | 2013-06-12 | 2014-12-25 | 株式会社東芝 | 光検出装置およびｃｔ装置 |
| JP7275101B2 (ja) * | 2017-07-25 | 2023-05-17 | バイエル、アクチエンゲゼルシャフト | 身体部位の放射線医薬品定量化のための装置 |
| CN111861944B (zh) * | 2020-08-07 | 2023-06-30 | 温州理工学院 | 一种基于多结构元素形态学的核素能谱寻峰方法 |
Family Cites Families (26)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5220359B2 (ja) * | 1973-11-21 | 1977-06-02 | ||
| US3955088A (en) * | 1974-10-02 | 1976-05-04 | G. D. Searle & Co. | Positron imaging device with plural coincidence channels and graded radiation absorption |
| JPS56107182A (en) * | 1980-01-31 | 1981-08-25 | Toshiba Corp | Scintillation |
| JPS5739369A (en) * | 1980-08-20 | 1982-03-04 | Toshiba Corp | Scintillation camera |
| JPS58111746A (ja) * | 1981-12-25 | 1983-07-02 | Seiko Instr & Electronics Ltd | エネルギ−分散型「けい」光ｘ線分析装置 |
| JPS58169078A (ja) * | 1982-03-31 | 1983-10-05 | Shimadzu Corp | シンチレ−シヨンカメラ |
| JPS58184762U (ja) * | 1982-06-03 | 1983-12-08 | セイコーインスツルメンツ株式会社 | マルチチヤンネルアナライザ |
| JPS59145970A (ja) * | 1983-01-11 | 1984-08-21 | Horiba Ltd | スペクトルの表示方法 |
| US4575810A (en) * | 1983-03-11 | 1986-03-11 | Siemens Gammasonics, Inc. | Method and circuit for processing pulses by applying the technique of weighted acquisition |
| JPS6095375A (ja) * | 1983-10-31 | 1985-05-28 | Shimadzu Corp | エネルギウインド自動設定装置 |
| JPS6114392U (ja) * | 1984-06-28 | 1986-01-28 | 株式会社島津製作所 | 核医学イメ−ジング機器の散乱線除去装置 |
| JPH0627831B2 (ja) * | 1985-08-21 | 1994-04-13 | 株式会社東芝 | シンチレ−シヨンカメラ |
| US4733082A (en) * | 1986-05-22 | 1988-03-22 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Gamma ray camera methods and apparatus employing cooled scintillation crystal |
| JPS6383687A (ja) * | 1986-09-29 | 1988-04-14 | Toshiba Corp | 核医学デ−タ処理装置 |
| US4846187A (en) * | 1987-12-01 | 1989-07-11 | The Center For Molecular Medicine And Immunology | Dual isotope scintigraphic image enhancement |
| JPH0814622B2 (ja) * | 1988-06-22 | 1996-02-14 | 株式会社島津製作所 | カメラ回転型ｅｃｔ装置 |
| US5227968A (en) * | 1989-03-30 | 1993-07-13 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method for eliminating scattered γ-rays and reconstructing image, and gamma camera apparatus |
| JP2856478B2 (ja) * | 1990-02-23 | 1999-02-10 | 株式会社東芝 | ガンマー線散乱成分除去装置 |
| JPH0619443B2 (ja) * | 1989-03-30 | 1994-03-16 | 株式会社東芝 | γ線の散乱線除去画像収集方法及びガンマカメラ |
| JPH0627826B2 (ja) * | 1989-04-29 | 1994-04-13 | 日本電気株式会社 | 放射線照射立体容積線量計算装置 |
| JPH0619439B2 (ja) * | 1989-08-04 | 1994-03-16 | 株式会社東芝 | Ｓｐｅｃｔ装置 |
| JPH0820517B2 (ja) * | 1989-10-06 | 1996-03-04 | 株式会社日立製作所 | γ線核種分析方法及び装置 |
| JPH0436682A (ja) * | 1990-05-31 | 1992-02-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 放射線量計 |
| JPH0769428B2 (ja) * | 1991-03-27 | 1995-07-31 | 株式会社東芝 | ガンマー線散乱成分除去装置 |
| JPH04355393A (ja) * | 1991-05-31 | 1992-12-09 | Shimadzu Corp | Ｅｃｔ装置 |
| US5245191A (en) * | 1992-04-14 | 1993-09-14 | The Board Of Regents Of The University Of Arizona | Semiconductor sensor for gamma-ray tomographic imaging system |
-
1992
- 1992-10-23 JP JP28580492A patent/JP3311043B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1993
- 1993-10-22 US US08/139,812 patent/US5347455A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5347455A (en) | 1994-09-13 |
| JPH06138237A (ja) | 1994-05-20 |
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