JP3225154B2 - アルキル2−アルキル−4−フルオロメチルチアゾールカルボキシレ−トの製造法 - Google Patents
アルキル2−アルキル−4−フルオロメチルチアゾールカルボキシレ−トの製造法Info
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-
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- C07D277/02—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、アルキル2−アルキル
−4−フルオロメチルチアゾールカルボキシレートの製
造法に関する。
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【0002】
【従来の技術】チオアセトアミドをジメチルホルムアミ
ドまたは氷酢酸中で110℃より高温に比較的ゆっくり
と加熱してエチル2−クロロ−4,4,4−トリフルオ
ロメチルアセテートと反応させ、蒸留あるいはカラムク
ロマトグラフィーにより精製した後、エチル2−メチル
−4−トリフルオロメチルチアゾールカルボキシレート
を低収率(38%−56%)で得ることは欧州特許第2
76177号および第371950号に開示されてい
る。
ドまたは氷酢酸中で110℃より高温に比較的ゆっくり
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ロメチルアセテートと反応させ、蒸留あるいはカラムク
ロマトグラフィーにより精製した後、エチル2−メチル
−4−トリフルオロメチルチアゾールカルボキシレート
を低収率(38%−56%)で得ることは欧州特許第2
76177号および第371950号に開示されてい
る。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】アルキル2−メチル−
4−トリフルオロメチルチアゾールカルボキシレートを
高収率で得ることである。
4−トリフルオロメチルチアゾールカルボキシレートを
高収率で得ることである。
【0004】
式I
【0005】
【化4】 (式中、R1 はC1 −C4 −アルキル、R2 はジフルオ
ロメチルまたはトリフルオロメチルおよびR3 はC1 −
C6 −アルキル)で示されるアルキル2−アルキル−4
−フルオロメチルチアゾールカルボキシレートが、式I
I
ロメチルまたはトリフルオロメチルおよびR3 はC1 −
C6 −アルキル)で示されるアルキル2−アルキル−4
−フルオロメチルチアゾールカルボキシレートが、式I
I
【0006】
【化5】 (式中、R1 は上記定義と同じ)で示されるチオカルボ
キシアミドを式III
キシアミドを式III
【0007】
【化6】 (式中、R2 およびR3 は上記定義と同じ)で示される
アルキル2−クロロ−4−フルオロアセトアセテートと
100℃未満の中性溶媒中で反応させ、反応生成物を8
0℃未満で、必要に応じて塩基の存在下、脱水剤と反応
させることにより、非常に良好な収率で得られることが
発見された。
アルキル2−クロロ−4−フルオロアセトアセテートと
100℃未満の中性溶媒中で反応させ、反応生成物を8
0℃未満で、必要に応じて塩基の存在下、脱水剤と反応
させることにより、非常に良好な収率で得られることが
発見された。
【0008】特に、アルキル基の具体例は以下の通りで
ある。R1 はメチル、エチル、n−プロピル、i−プロ
ピル、n−ブチル、sec−ブチルまたはi−ブチルで
あり、R3 はメチル、エチル、n−プロピル、i−プロ
ピル、n−ブチル、sec−ブチル、i−ブチル、n−
ペンチルまたはn−ヘキシルである。
ある。R1 はメチル、エチル、n−プロピル、i−プロ
ピル、n−ブチル、sec−ブチルまたはi−ブチルで
あり、R3 はメチル、エチル、n−プロピル、i−プロ
ピル、n−ブチル、sec−ブチル、i−ブチル、n−
ペンチルまたはn−ヘキシルである。
【0009】式IIで示される好ましい出発原料の例は
チオアセトアミドである。
チオアセトアミドである。
【0010】式IIIで示される好ましい出発原料の例
はメチル、エチル2−クロロ−4,4,4−トリフルオ
ロアセトアセテートまたはメチル、エチル2クロロー
4,4−ジフルオロアセトアセテートである。
はメチル、エチル2−クロロ−4,4,4−トリフルオ
ロアセトアセテートまたはメチル、エチル2クロロー
4,4−ジフルオロアセトアセテートである。
【0011】適する中性溶媒の例は以下の通りである。
N,N−ジアルキルアミド、例えばN,N−ジメチルホ
ルムアミド、N,N−ジエチルホルムアミドおよびN,
N−ジメチルアセトアミド、環状尿素、例えばN,N′
−ジメチルエチレンウレアおよびN,N′−ジメチルプ
ロピレンウレア、ラクタム、例えばN−メチルピロリド
ンおよびN−メチルピペリドン、ニトリル例えば、アセ
トニトリル、プロピオニトリルおよびベンゾニトリル、
反応条件下で不活性のハロゲン化炭化水素、例えばジク
ロロメタンおよびクロロホルム、ケトン、例えばアセト
ン、メチルエチルケトンおよびメチルイソブチルケト
ン、およびエステル、例えば1,2−ジメトキシエタ
ン、テトラヒドロフラン、ジオキサンあるいはこれらの
化合物の混合物。
N,N−ジアルキルアミド、例えばN,N−ジメチルホ
ルムアミド、N,N−ジエチルホルムアミドおよびN,
N−ジメチルアセトアミド、環状尿素、例えばN,N′
−ジメチルエチレンウレアおよびN,N′−ジメチルプ
ロピレンウレア、ラクタム、例えばN−メチルピロリド
ンおよびN−メチルピペリドン、ニトリル例えば、アセ
トニトリル、プロピオニトリルおよびベンゾニトリル、
反応条件下で不活性のハロゲン化炭化水素、例えばジク
ロロメタンおよびクロロホルム、ケトン、例えばアセト
ン、メチルエチルケトンおよびメチルイソブチルケト
ン、およびエステル、例えば1,2−ジメトキシエタ
ン、テトラヒドロフラン、ジオキサンあるいはこれらの
化合物の混合物。
【0012】適する脱水剤の例は以下の通りである。無
水物、例えば無水酢酸、無水トリクロロ酢酸、無水クロ
ロ酢酸、無水トリフルオロ酢酸およびパーフルオロ酪酸
無水物、カルボニルクロライド、例えばアセチルクロラ
イドおよびトリクロロアセチルクロライド、炭酸の塩素
置換誘導体、例えばホスゲン、トリクロロメチルクロロ
カートネート、メチルクロロカーボネートあるいはエチ
ルクロロカーボネート、スルホニルクロライド、例えば
メタンスルホニルクロライド、トリクロロメチルスルホ
ニルクロライド、トリフルオロメチルスルホニルクロラ
イド、ベンゼンスルホニルクロライドおよびトシルクロ
ライド、および亜硫酸、硫酸、亜燐酸または燐酸の塩素
化化合物、例えばチオニルクロライド、スルフリルクロ
ライド、クロロスルホン酸、ホスホラストリクロライド
およびホスホラスオキシクロライド。
水物、例えば無水酢酸、無水トリクロロ酢酸、無水クロ
ロ酢酸、無水トリフルオロ酢酸およびパーフルオロ酪酸
無水物、カルボニルクロライド、例えばアセチルクロラ
イドおよびトリクロロアセチルクロライド、炭酸の塩素
置換誘導体、例えばホスゲン、トリクロロメチルクロロ
カートネート、メチルクロロカーボネートあるいはエチ
ルクロロカーボネート、スルホニルクロライド、例えば
メタンスルホニルクロライド、トリクロロメチルスルホ
ニルクロライド、トリフルオロメチルスルホニルクロラ
イド、ベンゼンスルホニルクロライドおよびトシルクロ
ライド、および亜硫酸、硫酸、亜燐酸または燐酸の塩素
化化合物、例えばチオニルクロライド、スルフリルクロ
ライド、クロロスルホン酸、ホスホラストリクロライド
およびホスホラスオキシクロライド。
【0013】アセトニトリルなどのニトリル類を溶媒も
しくは溶媒混合物の一成分として用いると有利であり、
ことに亜硫酸または硫酸の塩素化化合物と共に用いると
有利である。
しくは溶媒混合物の一成分として用いると有利であり、
ことに亜硫酸または硫酸の塩素化化合物と共に用いると
有利である。
【0014】適する塩基としては通常有機塩基、例えば
トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピル
エチルアミン、tri−n−ブチルアミン、N,N−ジ
メチルシクロヘキシルアミン、N−メチルピロリジン、
N−メチルピペリジンおよびジアザビシクロ[2.2.
2]オクタンなどの第三アミン、およびピリジン、ピコ
リン、コリジンおよびキノリンなどのピリジンが使用さ
れる。
トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピル
エチルアミン、tri−n−ブチルアミン、N,N−ジ
メチルシクロヘキシルアミン、N−メチルピロリジン、
N−メチルピペリジンおよびジアザビシクロ[2.2.
2]オクタンなどの第三アミン、およびピリジン、ピコ
リン、コリジンおよびキノリンなどのピリジンが使用さ
れる。
【0015】無機塩基としては、例えばアルカリ金属炭
酸塩、アルカリ金属重炭酸塩、アルカリ金属炭化水素ま
たはアルカリ土類金属炭化水素も使用可能である。この
場合、有機塩基や脱水剤を添加する前に中性溶媒の乾燥
を行わなければならない。
酸塩、アルカリ金属重炭酸塩、アルカリ金属炭化水素ま
たはアルカリ土類金属炭化水素も使用可能である。この
場合、有機塩基や脱水剤を添加する前に中性溶媒の乾燥
を行わなければならない。
【0016】式IIおよびIIIで示される出発原料
は、理論量でもしくはわずかに過剰量で好ましく使用さ
れる。脱水剤は少なくとも等モルで、ことに等モルもし
くは1−10モル%の過剰で使用される。
は、理論量でもしくはわずかに過剰量で好ましく使用さ
れる。脱水剤は少なくとも等モルで、ことに等モルもし
くは1−10モル%の過剰で使用される。
【0017】出発原料に関して、塩基性度の異なる二種
類の塩基の配合物を使用すると好都合である場合におい
て、脱水剤の種類に応じて出発原料のモル量の少なくと
も2−3倍の有機塩基が使用される。式IIおよびII
Iの反応体から形成されたクロロハイドロカーボンを結
合させるために無機塩基を使用するのであれば、脱水剤
で処理を行う間の有機塩基の使用量を無機塩基と等モル
量だけ必然的に減少する。
類の塩基の配合物を使用すると好都合である場合におい
て、脱水剤の種類に応じて出発原料のモル量の少なくと
も2−3倍の有機塩基が使用される。式IIおよびII
Iの反応体から形成されたクロロハイドロカーボンを結
合させるために無機塩基を使用するのであれば、脱水剤
で処理を行う間の有機塩基の使用量を無機塩基と等モル
量だけ必然的に減少する。
【0018】式IIおよびIIIで示される化合物の反
応温度は100℃未満、ことに−30℃から70℃、好
ましくは0℃から40℃である。脱水剤が使用される場
合にも反応温度は上記と同等範囲であるが、脱水を速め
るためには使用される脱水剤の種類によって、反応を0
℃より高い温度で終了させると有利である。反応混合物
は水で希釈し、水に不混和性の溶剤、例えばヘキサン、
シクロヘキサン、トルエン、メチルtert−ブチルエ
ーテルなどのエーテル、ジクロロメタンまたはこれらの
化合物の混合物で、形成されるチアゾールカルボキシレ
ートを抽出することにより得られる。
応温度は100℃未満、ことに−30℃から70℃、好
ましくは0℃から40℃である。脱水剤が使用される場
合にも反応温度は上記と同等範囲であるが、脱水を速め
るためには使用される脱水剤の種類によって、反応を0
℃より高い温度で終了させると有利である。反応混合物
は水で希釈し、水に不混和性の溶剤、例えばヘキサン、
シクロヘキサン、トルエン、メチルtert−ブチルエ
ーテルなどのエーテル、ジクロロメタンまたはこれらの
化合物の混合物で、形成されるチアゾールカルボキシレ
ートを抽出することにより得られる。
【0019】反応を遂行するにあたり、水混和性の中性
溶媒を使用する場合、反応終了後にこの溶媒を蒸発さ
せ、上記操作を行うと有利である。
溶媒を使用する場合、反応終了後にこの溶媒を蒸発さ
せ、上記操作を行うと有利である。
【0020】やや過剰の脱水剤を用いる場合にはチアゾ
ールカルボキシレートの抽出後にチアゾールカルボキシ
レート含有の抽出液を稀アルカリ、例えば炭酸水素ナト
リウム溶液による洗浄工程を加えて酸性成分を除去する
と有利である。抽出剤の蒸発後に得られる、式Iで示さ
れるチアゾールカルボキシレートは一般に極めて純度が
高く、直ちにアルカリ加水分解などにより更に処理し相
応する酸を得ることができる。
ールカルボキシレートの抽出後にチアゾールカルボキシ
レート含有の抽出液を稀アルカリ、例えば炭酸水素ナト
リウム溶液による洗浄工程を加えて酸性成分を除去する
と有利である。抽出剤の蒸発後に得られる、式Iで示さ
れるチアゾールカルボキシレートは一般に極めて純度が
高く、直ちにアルカリ加水分解などにより更に処理し相
応する酸を得ることができる。
【0021】
[実施例1]チオアセトアミド15.0gの200ml
アセトニトリル溶液に20ー25℃でエチル2−クロロ
−4,4,4−トリフルオロアセトアセテート43.7
gを滴下した。室温(20℃)にて12時間攪拌した
後、混合物を0℃ー5℃に冷却し、トリエチルアミン2
0.2gおよび2−ピコリン44.6gの混合物をこれ
に滴下し、この混合物を15時間攪拌した。この後、無
水トリフルオロ酢酸44.1gを滴下し、得られた混合
物を室温にて1時間攪拌した。真空(20mbar、3
5℃)にて溶剤を蒸発させた後、残渣をメチルtert
−ブチルエーテル200mlと2Nの塩酸200mlに
分割する。有機相を200mlの水、炭酸水素ナトリウ
ム溶液で洗浄し、溶媒を乾燥、蒸発させた後45.4g
(95%)のエチル2−メチル−4−トリフルオロメチ
ルチアゾールカルボキシレートを単離する。アセトニト
リル/水 7:3による高圧液体クロマトグラフィー
(HPLC)での純度は90%であった。
アセトニトリル溶液に20ー25℃でエチル2−クロロ
−4,4,4−トリフルオロアセトアセテート43.7
gを滴下した。室温(20℃)にて12時間攪拌した
後、混合物を0℃ー5℃に冷却し、トリエチルアミン2
0.2gおよび2−ピコリン44.6gの混合物をこれ
に滴下し、この混合物を15時間攪拌した。この後、無
水トリフルオロ酢酸44.1gを滴下し、得られた混合
物を室温にて1時間攪拌した。真空(20mbar、3
5℃)にて溶剤を蒸発させた後、残渣をメチルtert
−ブチルエーテル200mlと2Nの塩酸200mlに
分割する。有機相を200mlの水、炭酸水素ナトリウ
ム溶液で洗浄し、溶媒を乾燥、蒸発させた後45.4g
(95%)のエチル2−メチル−4−トリフルオロメチ
ルチアゾールカルボキシレートを単離する。アセトニト
リル/水 7:3による高圧液体クロマトグラフィー
(HPLC)での純度は90%であった。
【0022】[実施例2]チオアセトアミド3.0gの
40mlアセトニトリル溶液に5℃でエチル2−クロロ
−4,4,4−トリフルオロアセトアセテート8.7g
を滴下した。室温(20℃)にて12時間攪拌した後、
混合物を5℃に冷却し、トリエチルアミン8.9gおよ
び2−ピコリン4.8gの混合物をこれに滴下し、この
混合物を更に10時間攪拌した。この後、メタンスルホ
ニルクロライド5.3gを滴下し、得られた混合物を室
温にて更に6時間攪拌した。溶剤を蒸発させた後、残渣
をメチルtert−ブチルエーテル40mlと2Nの塩
酸40mlに分割する。有機相を40mlの炭酸水素ナ
トリウム溶液で洗浄し、溶媒を乾燥、蒸発させた後8.
7g(91%)のエチル2−メチル−4−トリフルオロ
メチルチアゾールカルボキシレートを単離する。アセト
ニトリル/水 7:3による高圧液体クロマトグラフィ
ー(HPLC)での純度は96.4%であった。
40mlアセトニトリル溶液に5℃でエチル2−クロロ
−4,4,4−トリフルオロアセトアセテート8.7g
を滴下した。室温(20℃)にて12時間攪拌した後、
混合物を5℃に冷却し、トリエチルアミン8.9gおよ
び2−ピコリン4.8gの混合物をこれに滴下し、この
混合物を更に10時間攪拌した。この後、メタンスルホ
ニルクロライド5.3gを滴下し、得られた混合物を室
温にて更に6時間攪拌した。溶剤を蒸発させた後、残渣
をメチルtert−ブチルエーテル40mlと2Nの塩
酸40mlに分割する。有機相を40mlの炭酸水素ナ
トリウム溶液で洗浄し、溶媒を乾燥、蒸発させた後8.
7g(91%)のエチル2−メチル−4−トリフルオロ
メチルチアゾールカルボキシレートを単離する。アセト
ニトリル/水 7:3による高圧液体クロマトグラフィ
ー(HPLC)での純度は96.4%であった。
【0023】[実施例3]チオアセトアミド16.1g
の180mlアセトニトリル溶液に5℃−10℃でエチ
ル2−クロロ−4,4,4−トリフルオロアセトアセテ
ート47.0gを滴下した。室温にて10時間攪拌した
後、混合物を3−7℃に冷却し、トリエチルアミン7
1.6g、次いでチオニルクロライド28.1gの混合
物をこれに滴下し、この混合物を室温にて更に1時間攪
拌した。溶剤を蒸発させた後、残渣を水200mlとメ
チルtert−ブチルエーテル100mlに分割する。
有機相を100mlのメチルtert−ブチルエーテル
で抽出した後、混合された有機相を20mlの水で洗浄
した。溶媒を乾燥、蒸発させた後48.7g(94.7
%)のエチル2−メチル−4−トリフルオロメチルチア
ゾールカルボキシレートを得た。アセトニトリル/水
7:3による高圧液体クロマトグラフィー(HPLC)
での純度は98%であった。
の180mlアセトニトリル溶液に5℃−10℃でエチ
ル2−クロロ−4,4,4−トリフルオロアセトアセテ
ート47.0gを滴下した。室温にて10時間攪拌した
後、混合物を3−7℃に冷却し、トリエチルアミン7
1.6g、次いでチオニルクロライド28.1gの混合
物をこれに滴下し、この混合物を室温にて更に1時間攪
拌した。溶剤を蒸発させた後、残渣を水200mlとメ
チルtert−ブチルエーテル100mlに分割する。
有機相を100mlのメチルtert−ブチルエーテル
で抽出した後、混合された有機相を20mlの水で洗浄
した。溶媒を乾燥、蒸発させた後48.7g(94.7
%)のエチル2−メチル−4−トリフルオロメチルチア
ゾールカルボキシレートを得た。アセトニトリル/水
7:3による高圧液体クロマトグラフィー(HPLC)
での純度は98%であった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 オリーヴァー、ヴァーグナー ドイツ、66450、ベクスバッハ、ズィー メンスシュトラーセ、1 審査官 荒木 英則 (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07D 277/00 - 277/593 CA(STN) REGISTRY(STN) WPI(DIALOG)
Claims (1)
- 【請求項1】式I 【化1】 (式中、R1 はC1 −C4 −アルキル、R2 はジフルオ
ロメチルまたはトリフルオロメチルおよびR3 はC1 −
C6 −アルキル)で示されるアルキル2−アルキル−4
−フルオロメチルチアゾールカルボキシレートの製造法
であって、式II 【化2】 (式中、R1 は上記定義と同じ)で示されるチオカルボ
キシアミドに対して、4位を弗素で置換され、式III 【化3】 (式中、R2 およびR3 は上記定義と同じ)で示される
アルキル2−クロロアセトアセテートを、100℃未満
の中性溶媒中で反応させる工程と、得られた反応生成物
を必要に応じて塩基の存在下、80℃未満で脱水剤と反
応させる工程を含む式Iで示されるアルキル2−アルキ
ル−4−フルオロメチルチアゾールカルボキシレートの
製造法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4301356.2 | 1993-01-20 | ||
DE4301356A DE4301356A1 (de) | 1993-01-20 | 1993-01-20 | Verfahren zur Herstellung von 2-Alkyl-4-fluormethyl-thiazolcarbonsäure-alkylestern |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06298748A JPH06298748A (ja) | 1994-10-25 |
JP3225154B2 true JP3225154B2 (ja) | 2001-11-05 |
Family
ID=6478529
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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EP (1) | EP0607795B1 (ja) |
JP (1) | JP3225154B2 (ja) |
KR (1) | KR100294170B1 (ja) |
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DK (1) | DK0607795T3 (ja) |
HU (1) | HU214098B (ja) |
IL (1) | IL108176A (ja) |
MX (1) | MXPA94000914A (ja) |
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AU2003270473A1 (en) * | 2003-09-09 | 2005-04-27 | University Of Florida | Desferrithiocin derivatives and their use as iron chelators |
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AU2008229472B2 (en) | 2007-03-15 | 2013-03-14 | University Of Florida Research Foundation, Inc. | Desferrithiocin polyether analogues |
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US20210179620A1 (en) | 2017-06-16 | 2021-06-17 | Basf Se | Mesoionic imidazolium compounds and derivatives for combating animal pests |
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ES2052612T3 (es) * | 1987-01-30 | 1994-07-16 | Ciba Geigy Ag | Agentes microbicidas. |
US5045554A (en) * | 1988-11-29 | 1991-09-03 | Monsanto Company | Substituted thiazoles and their use as fungicides |
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1993
- 1993-01-20 DE DE4301356A patent/DE4301356A1/de not_active Withdrawn
- 1993-12-24 IL IL10817693A patent/IL108176A/en not_active IP Right Cessation
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1994
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