JP3195235B2 - 積層フィルム - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は積層フィルムに関
し、更に詳しくは、巻取り性、無欠点性、易滑性、ハン
ドリング性に優れ、電磁変換特性、ドロップアウト、走
行性、耐久性の優れた高密度磁気記録媒体用のベースフ
ィルムとして有用な積層フィルムに関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、磁気記録の高密度化の進歩はめざ
ましく、例えば、強磁性金属薄膜を真空蒸着やスパッタ
リング等の物理沈着法又はメッキ法により非磁性支持体
上に形成せしめた強磁性金属薄膜磁気記録媒体、メタル
粉や酸化鉄粉等の針状磁性粉体を２μｍ以下に塗布した
薄層塗布型磁気記録媒体の開発実用化が進んでいる。

【０００３】前者の例としては、例えば、Ｃｏの蒸着テ
ープ（特開昭５４−１４７０１０号公報）、Ｃｏ−Ｃｒ
合金からなる垂直磁気記録媒体（特開昭５２−１３４７
０６号公報）が開示され、また後者の例としては、例え
ば、極薄層塗布型媒体による高密度磁気記録（電子通信
学会技術報告ＭＲ９４−７８（１９９５−０２））等が
知られている。

【０００４】従来の塗布型磁気記録媒体（磁性粉末を有
機高分子バインダーに混入させて非磁性支持体上に塗布
してなる磁気記録媒体）は、記録密度が低く、記録波長
も長い為に、磁性層の厚みが２μｍ程度以上と厚いのに
対して、真空蒸着、スパッタリング又はイオンプレーテ
ィング等の薄膜形成手段によって形成される金属薄膜
は、厚みが０．２μｍ以下と非常に薄く、また極薄層塗
布型媒体の場合も、非磁性下地層を設けるものの０．１
３μｍの厚みの塗布型磁性体層が提案されており、非常
に薄くなっている。

【０００５】この為、上記の高密度磁気記録媒体におい
ては、非磁性支持体の表面状態が磁気記録層の表面性に
大きな影響を及ぼし、特に、金属薄膜型の磁気記録媒体
の場合には、非磁性支持体の表面状態がそのまま磁気記
録層表面の凹凸として発現し、それが記録・再生信号の
雑音の原因となる。従って、非磁性支持体の表面は出来
るだけ平滑であることが望ましい。

【０００６】一方、非磁性支持体（ベースフィルム）の
製膜、製膜工程での搬送、傷付き、巻取り、巻出しとい
ったハンドリングの観点からは、フィルム表面が平滑過
ぎると、フィルムーフィルム相互の滑り性が悪化し、ブ
ッキング現象が発生し、ロールに巻いたときの形状（ロ
ールフォーメーション）が悪化し、製品歩留まりの低
下、ひいては、製品の製造コストの上昇を来す。従っ
て、製造コストという観点では非磁性支持体（ベースフ
ィルム）の表面は、出来るだけ粗いことが望ましい。

【０００７】この様に、非磁性支持体の表面は、電磁変
換特性という観点からは平滑であることが要求され、ハ
ンドリング性、フィルムコストの観点からは、粗いこと
が要求される。

【０００８】更に、蒸着金属薄膜型磁気記録媒体の場合
には、実際に使用されるときの重大な問題点として、金
属薄膜面の走行性不足がある。磁性体粉末を有機高分子
バインダー中に混入させてベースフィルムに塗布してな
る塗布型磁気記録媒体の場合には、該バインダー中に潤
滑剤を分散させて磁性面の走行性を向上させることが出
来るが、金属薄膜型磁気記録媒体の場合には、この様な
対策をとることが出来ず、走行性を安定して保つのは非
常に難しく、特に高温高湿条件下の走行性が劣るなどの
欠点を有している。

【０００９】そこで、優れた品質の高密度記録媒体用ベ
ースフィルムを安価に供給する為には、上記二律背反す
る性質を同時に満足することが必要とされる。

【００１０】この為の具体的方法として、フィルム表
面に特定の塗剤を塗布し、不連続皮膜を形成させる方法
（特公平３−８０４１０号公報、特開昭６０−１８０８
３９号公報、特開昭６０−１８０８３８号公報、特開昭
６０−１８０８３７号公報、特開昭５６−１６９３７号
公報、特開昭５８−６８２２３号公報等）、微細な凸
凹を有する連続皮膜を形成する方法（特開平５−１９４
７７２号公報、特開平５−２１０８３３号公報）、共
押し出し等の技術により表裏異面化する方法（特開平２
−２１４６５７号公報、特公平７−８０２８２号公
報）、＋又は＋の組み合わせによる方法（特開
平３−７３４０９号公報）等が提案されている。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、不連続
皮膜や微細な凸凹を有する連続皮膜を形成する方法に於
いては、フィルムーフィルム間の滑り、ブロッキングと
いった課題は解決できているが、ベースフィルムの製
膜、製膜工程での搬送、傷付き、巻取り、巻出しといっ
たハンドリング点では不十分であり、製品歩留まり、製
品コストの観点で高密度大容量磁気記録媒体用ベースフ
ィルムへの適用には問題がある。また、従来の共押し出
し技術あるいは、共押出し技術と不連続皮膜あるいは連
続皮膜の組み合わせ技術に於いても、同様の問題を抱え
ている。更に、金属薄膜型磁気記録媒体の場合は高温高
湿条件下の走行性の問題を抱えたままである。

【００１２】本発明の目的は、かかる従来技術の欠点を
解消し、製膜工程での搬送性、対傷付き性、巻取り性に
優れた積層フィルムを、更にはこれら特性を有し、金属
薄膜型磁気記録媒体用として用いた場合にも高温高湿条
件下の走行性に優れた、安価な高密度磁気記録媒体用二
軸配向積層フィルムを提供することにある。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明は、かかる目的を
達成する為に、以下の構成よりなる。平均粒径１０〜５
０ｎｍ、体積形状係数（Ｆ）０．１〜π／６の不活性粒
子Ｃを表面の突起頻度が２．０〜５０．０個／μｍ²と
なる量含有し、且つその突起高さが粒子の粒径の３０％
以上２００％未満である被覆層Ｃを、平均粒径４０〜４
００ｎｍ、体積形状係数（Ｆ）０．１〜π／６の不活性
粒子Ａを表面の突起頻度が５千〜５万個／ｍｍ²となる
量含有した熱可塑性樹脂層Ａの一方の表面に設け、さら
に熱可塑性樹脂層Ａの他の表面に、不活性粒子Ｂを含有
し且つ熱可塑性樹脂層Ｃよりも粗い表面を有する熱可塑
性樹脂層Ｂを積層した３層構造の積層フイルムであっ
て、被覆層Ｃの表面に長手方向に対し０±１０度の方向
に測定した粗さプロファイルが高さ２〜８５ｎｍ、平均
幅２０〜５００μｍのうねり状突起を４〜２５００個／
ｍｍ²の頻度で有することを特徴とする積層フイルム。

【００１４】本発明における熱可塑性樹脂としては、ポ
リエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹
脂、ポリエーテル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポ
リビニル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂等を例示するこ
とができる。これらの中ポリエステル系樹脂、更には芳
香族ポリエステルが好ましい。

【００１５】好ましい芳香族ポリエステルとしては、ポ
リエチレンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレー
ト、ポリテトラメチレンテレフタレート、ポリー１,４
ーシクロへキシレンジメチレンテレフタレート、ポリエ
チレンー２,６ーナフタレンジカルボキシレート等を例
示することができる。これらの中、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリエチレンー２,６ーナフタレンジカルボ
キシレートが特に好ましい。

【００１６】これらポリエステルは、ホモポリエステル
であっても、コポリエステルであってもよい。コポリエ
ステルの場合、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチ
レンー２,６ーナフタレンジカルボキシレートの共重合
成分としては、例えば、ジエチレングリコール、プロピ
レングリコール、テトラメチレングリコール、ヘキサメ
チレングリコール、ネオペンチルグリコール、ポリエチ
レングリコール、ｐーキシレングリコール、１,４ーシ
クロへキサンジメタノール等のジオール成分、アジピン
酸、セバシン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル
酸（但し、ポリエチレンー２,６ーナフタレンジカルボ
キシレートの場合）、２,６ーナフタレンジカルボン酸
（但し、ポリエチレンテレフタレートの場合）、５ーナ
トリウムスルホイソフタル酸等のジカルボン酸成分、ｐ
ーオキシエトキシ安息香酸等のオキシカルボン酸成分等
が挙げられる。これら共重合成分の量は２０モル％以
下、更には、１０モル％以下であることが好ましい。

【００１７】更に、トリメリット酸、ピロメリット酸等
の３官能以上の多官能化合物を共重合させることも出来
る。この場合ポリマーが実質的に線状である量、例えば
２モル％以下共重合させるのが良い。

【００１８】本発明に於いて、二軸配向積層フィルムは
被覆層Ｃ、熱可塑性樹脂層Ａ、熱可塑性樹脂層Ｂとを有
するが、層Ａと層Ｂの熱可塑性樹脂は同じであっても違
っていても本発明の目的は達成可能であるが、同じ樹脂
であることが好ましい。特に、層Ａと層Ｂがポリエチレ
ンテレフタレート又はポリエチレンー２,６ーナフタレ
ンジカルボキシレートから成ることが好ましい。また、
被覆層Ｃは熱可塑性樹脂層Ａ又は熱可塑性樹脂層Ｂと同
じであっても違っていても良い。

【００１９】本発明の積層フイルムは被覆層Ｃと平坦表
面の層（即ち、熱可塑性樹脂層Ａ）、粗面の層（即ち、
熱可塑性樹脂層Ｂ）の３層構造を有する。

【００２０】被覆層Ｃには平均粒径が１０〜５０ｎｍ、
好ましくは１２〜４５ｎｍ、更に好ましくは１５〜４５
ｎｍであり、体積形状係数が０．１〜π／６の不活性粒
子Ｃを表面の突起頻度が２．０〜５０．０個／μｍ²、
好ましくは３．０〜４０．０個／μｍ²、更に好ましく
は４．０〜３０．０個／μｍ²となる量含有し、且つそ
の粒子が形成する突起高さが粒子Ｃの粒径の３０％以上
２００％未満、好ましくは４０％〜１８０％、更に好ま
しくは５０〜１６０％であることが必要である。

【００２１】該不活性粒子Ｃの平均粒径が１０ｎｍ未満
では、ベースフィルムとしての巻き取り性が不十分であ
り、またテープのヘッドとの繰り返し接触による出力の
劣化の程度が大きく（スチル耐久性が悪いと言う）、一
方５０ｎｍを越えると、電磁変換特性が悪化する。

【００２２】また、不活性粒子Ｃの下記式（２）で定義
される体積形状係数Ｆは、より好ましくは０．３〜π／
６であり、更に好ましくは０．４〜π／６の実質的に球
状あるいは楕円球である。これは、Ｆが０．１より小さ
く、例えば薄片状粒子ではベースフィルム巻き取り時の
ロールフォーメーションの悪化、及び薄膜磁気記録媒体
とした時薄膜磁性層の磁気特性の劣化を来す為である。

【００２３】不活性粒子Ａの形状は下記式（２）で定義
される体積形状係数（Ｆ）である。

【００２４】

【数２】Ｆ＝Ｖ／Ｄ ³ （２）

【００２５】ここで、Ｆは体積形状係数を、Ｖは不活性
粒子の体積（μｍ ³ ）を、Ｄは不活性粒子の最大経（μ
ｍ）を表わす。

【００２６】不活性粒子Ｃの材質としては特に限定され
ないが、例えば耐熱性ポリマー（架橋シリコーン樹脂、
ポリスチレン、架橋スチレンージビニルベンゼン共重合
体、ポリメチルメタクリレート、メチルメタクリレート
共重合体、メチルメタクリレート共重合体架橋体、ポリ
テトラフルオロエチレン、ポリビニリデンフルオライ
ド、ポリアクリロニトリル、ベンゾグアナミン樹脂等）
からなる有機高分子粒子、シリカ、アルミナ、二酸化チ
タン、カオリン、タルク、グラファイト、炭酸カルシウ
ム、長石、二硫化モリブデン、カーボンブラック、硫酸
バリウム等の如き無機質微粒子が好ましく挙げられる。
特に好ましくは、架橋シリコーン樹脂粒子、シリカ、コ
アシェル構造の粒子（コア：架橋ポリスチレン、シリカ
等、シェル：メチルメタクリレート等）が挙げられる。

【００２７】被覆層Ｃ中の表面突起頻度が２．０個／μ
ｍ²未満では、ベースフィルムのロールフォーメーショ
ンが悪く、また磁気記録媒体とした時のヘッドとの繰り
返し接触による出力の劣化が大きく（スチル特性が悪
く）実用上問題がある。一方５０．０個／μｍ²を越え
ると電磁変換特性が悪化し、更に粒子の脱落が発生し易
く好ましくない。

【００２８】被覆層Ｃの突起高さが不活性粒子Ｃの平均
粒径の３０％未満では、磁気記録媒体としたときにヘッ
ドとの摩擦が高くなり過ぎ好ましくない。また突起高さ
が不活性粒子Ｃの平均粒径の２００％以上では電磁変換
特性が悪化し好ましくない。

【００２９】被覆層Ｃのポリマー材質は、熱可塑性樹脂
層Ａ又は熱可塑性樹脂層Ｂと同じであっても違っていて
も良く、例えば公知の共押出法やインラインあるいはオ
フラインのコーティング法により実現可能なものであれ
ばよい。コーティング法により被覆層Ｃを形成する場合
のバインダー樹脂としては、例えば水性ポリエステル樹
脂、水性アクリル樹脂、水性ポリウレタン樹脂等が好ま
しく挙げられるが、特に水性ポリエステル樹脂が好まし
い。

【００３０】水性ポリエステル樹脂は、酸成分が例えば
テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、１，４ーシク
ロヘキサンジカルボン酸、２，６ーナフタレンジカルボ
ン酸、４，４ージフェニルジカルボン酸、アジピン酸、
セバシン酸、ドデカンジトリメリット酸、コハク酸、５
ーＮａスルホイソフタル酸、２ーＫスルホテレフタル
酸、トリメリット酸、トリメシン酸、トリメリット酸モ
ノカリウム塩、ｐーヒドロキシ安息香酸等の多価カルボ
ン酸よりなり、グリコール成分が例えばエチレングリコ
ール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、
１，４ーブタジンジオール、１，６ーヘキサンジオー
ル、１，４ーシクロヘキサンジメタノール、ｐーキシリ
レングリコール、ジメチロールプロピオン酸、ビスフェ
ノールＡのエチレンオキシド付加物等の多価ヒドロキシ
化合物より主としてなるポリエステル樹脂であり、また
ポリエステル鎖にアクリル重合体鎖を結合させたグラフ
トポリマー又はブロックコポリマー、あるいは２種のポ
リマーがミクロな粒子内で特定の物理的構成（ＩＰＮ、
コアシェル）を構成したアクリル変性ポリエステル樹脂
を包含する。この水性ポリエステル樹脂としては水に溶
解、乳化、微分散するタイプを自由に用いることがで
き、またこれらは親水性を付与する為分子内に例えばス
ルホン酸基、カルボン酸基、ポリエーテル単位等が導入
されていてもよい。

【００３１】被覆層Ｃの平均厚み（ｔ_C）は１〜５００
ｎｍが好ましく、さらに不活性粒子Ｃの平均粒径をｄ_C
とするとき下記式（３）で表わされる関係を満たしてい
ることが好ましい。

【００３２】

【数３】０．１≦ｔ_C／ｄ_C≦１０ （３）

【００３３】本発明に於ける被覆層Ｃの実施態様の一つ
を以下に述べる。被覆層Ｃは熱可塑性樹脂層Ａの一つの
表面に前述した粒子Ｃ及びバインダー樹脂を含む塗液、
好ましくは水性塗液を塗布、乾燥することで形成する
が、その塗液の固形分濃度は１〜１０重量％、更に１．
５〜８重量％、特に２〜６重量％であることが好まし
い。またこれら塗液（好ましくは水性塗液）には、所望
により、他の成分例えば、界面活性剤、安定剤、分散
剤、ＵＶ吸収剤、増粘剤等を添加することが出来る。

【００３４】塗布は最終延伸処理を施す以前の積層熱可
塑性樹脂フィルムに対して行い、塗布後には少なくとも
一軸方向に延伸するのが好ましい。この延伸の前ないし
途中で塗膜は乾燥される。その中で、塗布は未延伸積層
熱可塑性樹脂フィルム又は縦（一軸）延伸積層熱可塑性
樹脂フィルム、特に縦（一軸）延伸積層熱可塑性樹脂フ
ィルムに対して行うのが好ましい。塗布方法としては特
に限定されないが、例えばロールコート法、ダイコート
法等が好ましく挙げられる。

【００３５】本発明に於ける平坦な熱可塑性樹脂層Ａに
は平均粒径が４０〜４００ｎｍ、好ましくは５０〜２０
０ｎｍ、更に好ましくは６０〜１２０ｎｍであり、体積
形状係数が０．１〜π／６の不活性粒子Ａを被覆層Ｃの
表面にて測定した時の表面突起頻度が５千〜５万個／ｍ
ｍ²、好ましくは７５００〜４万個／ｍｍ²、更に好まし
くは１〜３万個／ｍｍ²となる量含有する。

【００３６】この表面の突起頻度が５千個／ｍｍ²未満
では、磁性層の対磁気ヘッド摩擦が高く、磁性層の繰り
返し走行耐久性が悪く、またフィルム製膜工程っでの搬
送性、耐傷付き性も悪く好ましくない。一方、この突起
頻度が５万個／ｍｍ²より大きいと、突起の脱落の増
加、ひいてはドロップアウトの上昇を来たし好ましくな
い。

【００３７】また、不活性粒子Ａの平均粒径が４０ｎｍ
未満では磁性層の対ＶＴＲヘッド摩擦が高く、磁性層の
繰り返し走行耐久性が悪く、またフィルム製膜工程での
搬送性・対傷付き性も悪い。一方、平均粒径が４００ｎ
ｍより大きいと高密度磁気記録媒体としての電磁変換特
性に支障を来し好ましくない。

【００３８】前記不活性粒子Ａは前述の不活性粒子Ｃと
同様に式（２）で定義される体積形状係数（Ｆ）が０．
１〜π／６を満たすことが必要であるが、０．３〜π／
６が好ましく、更に０．４〜π／６の実質的に球あるい
はラグビーボール状の楕円球が好ましい。これは、Ｆが
０．１より小さく、例えば針状粒子では薄膜磁性層の磁
気特性の劣化を来すためである。またその材質として
は、架橋シリコーン樹脂、ポリスチレン、架橋スチレン
ージビニルベンゼン共重合体、ポリメチルメタクリレー
ト、メチルメタクリレート共重合体、メチルメタクリレ
ート共重合体架橋体、ポリテトラフルオロエチレン、ポ
リビニリデンフルオライド、ポリアクリロニトリル、ベ
ンゾグアナミン樹脂等の如き有機高分子粒子、シリカ、
アルミナ、二酸化チタン、カオリン、タルク、グラファ
イト、炭酸カルシウム、長石、二硫化モリブデン、カー
ボンブラック、硫酸バリウム等の如き無機質微粒子のい
ずれを用いてもよい。

【００３９】本発明における熱可塑性樹脂層Ｃは、さら
にその表面のフィルム長手方向に対し０±１０度の方向
に測定した粗さプロファイルにおいて、高さが２〜８５
ｎｍ、好ましくは２〜５０ｎｍ、更に好ましくは２〜２
５ｎｍ、平均幅が２０〜５００μｍ、好ましくは２０〜
３００μｍ、更に好ましくは２０〜２００μｍであるう
ねり状突起が４〜２５００個／ｍｍ²、好ましくは１０
〜２０００個／ｍｍ²、更に好ましくは１０〜１０００
個／ｍｍ²の頻度で存在する表面特性を有する。

【００４０】このうねり状突起は高さが２ｎｍ未満、あ
るいは幅が５００μｍを越えると、製膜工程での搬送、
フィルムの傷付き、製品ロールの巻姿、フィルムーフィ
ルム間のブロッキング現象、また金属薄膜蒸着磁気記録
用として用いられた場合の高温高湿条件下のテープの走
行性といった点で不十分となる。

【００４１】一方、うねり状突起の高さが８５ｎｍを越
えると電磁変換特性に支障を来たし高密度磁気記録用ベ
ースフィルムとしては適さない。また、うねり状突起の
平均幅が２０μｍ未満ではうねりの高さが２５ｎｍ以下
の領域で、製膜工程での搬送性、テープの走行性の点で
不十分となる。

【００４２】尚、うねり状突起の測定方向は、フィルム
長手方向に対し０±１０度の方向とするが、これは本発
明によるベースフィルムを用いた高密度磁気記録テープ
が適用される磁気記録システムのテープ上をヘッドがス
キャンするトラックと同じ方向に合わせることによる。

【００４３】熱可塑性樹脂層Ｃ表面でのうねり状突起
は、その形成方法によって制約を受けるものではない
が、熱可塑性樹脂層Ｂ中に含有せしめた不活性粒子Ｂの
延伸に伴う層Ａへの突き上げ作用によるのが好ましい。

【００４４】この突き上げ作用をより効率よく発現させ
るには、該不活性粒子Ｂの平均粒径と熱可塑性樹脂層Ａ
の厚さとが特定の関係を満たすようにするのが好まし
い。即ち、不活性粒子Ｂは単独粒子又は大きさの違う２
種以上の粒子からなるが、単独粒子の平均粒径又は２種
以上の粒子のうち最も大きい粒子の平均粒径をｄ_B（μ
ｍ）とし、層Ａの厚さをｔ_A（μｍ）とすると、下記式
（１）

【００４５】

【数４】４≦ｔ_A／ｄ_B≦４０ （１）

【００４６】を満足するようにするのが好ましい。この
ｔ_A／ｄ_Bは４〜２５、さらには４〜１６、特に４〜８で
あるのが好ましい。

【００４７】前記うねり状突起は、特に高密度磁気記録
媒体の表面上の波長（１．０μｍ未満）に対比して非常
に長い幅あるいは周期を有し、熱可塑性樹脂層Ａが含有
する微細な不活性粒子に基づく突起の高さと同等か、そ
れより低い為に電磁変換特性に悪影響を与えることな
く、熱可塑性樹脂層Ａの微細粒子による突起と、長周期
のうねりと、熱可塑性樹脂層Ｂの粗面の三者の相乗効果
により、従来の高密度磁気記録用ベースフィルムが抱え
ていた課題を一挙に解決することができる。

【００４８】本発明における熱可塑性樹脂層Ａは、更
に、被覆層Ｃの表面上で測定して、その表面粗さが、中
心面平均粗さで１０ｎｍ以下、更には５ｎｍ以下、特に
２ｎｍ以下、就中１ｎｍ以下であることが好ましい。こ
の表面粗さが１０ｎｍを超えると、電磁変換特性が低下
し好ましくない。

【００４９】一方、本発明に於いて粗面を形成する熱可
塑性樹脂層Ｂは、上記のように不活性粒子Ｂを含有す
る。そしてこの表面は熱可塑性樹脂層Ａの表面よりも粗
い表面粗さを有する。換言すると、熱可塑性樹脂層Ｂの
中心面平均粗さＲａ_Bと被覆層Ｃ表面上で測定した熱可
塑性樹脂層Ａの中心面平均粗さＲａ_Cとが式（４）を満
足することが必要である。

【００５０】

【数５】Ｒａ_B＞Ｒａ_C （４）

【００５１】ここで、Ｒａ_B、Ｒａ_Cは各々熱可塑性樹脂
層Ｂ、被覆層Ｃの外側の表面内で測定した非接触３次元
中心面平均粗さである。

【００５２】Ｒａ_BはＲａ_Cよりも１ｎｍ以上、更に１．
５ｎｍ以上大きいことが好ましい。そして、この中心面
平均粗さＲａ_Bは２ｎｍ以上１５ｎｍ未満、さらには３
〜１０ｎｍ、特に３〜７ｎｍであることが好ましい。

【００５３】熱可塑性樹脂層Ｂの表面粗さＲａ_Bが１５
ｎｍ以上では、被覆層Ｃの表面のうねり状突起の高さ、
平均幅が前述の要件を満たすのが難しく、又２ｎｍ未満
では搬送性等のハンドリング性、テープの走行性等の点
で不十分であり好ましくない。さらにＲａ_BがＲａ_A以下
では、その平坦性の故にベースフィルムの製膜工程での
搬送、傷付き、巻取り、巻出しといったハンドリング性
の悪化を来たし、又、フィルムーフィルム相互の滑り性
の悪化によりブッキング現象が発生し、ロールに巻いた
ときの形状（ロールフォーメーション）が悪化し、生産
性の悪化、製品歩留まりの低下、ひいては、製品の製造
コストの上昇を来すので好ましくない。

【００５４】熱可塑性樹脂層Ｂに上記の表面特性を付与
し、且つ被覆層Ｃの表面に上記のうねり状突起を発現さ
せるには、不活性粒子Ｂの平均粒径ｄ_Bは０．２〜１μ
ｍ、更に０．２〜０．８μｍ、特に好ましくは０．２〜
０．６μｍであることが好ましい。この平均粒径ｄ
_Bは、不活性粒子が単独粒子からなる場合にはこの平均
粒径を、また大きさの違う２種以上の粒子からなる場合
にはこれらのうち最も大きい粒子の平均粒径を意味す
る。

【００５５】この平均粒径ｄ_Bを有する不活性粒子Ｂと
しては、不活性粒子Ａとして例示したものを挙げること
が出来る。更に、２種以上の粒子からなる場合、第２、
第３の小さい粒子として、平均粒径が０．０１μｍ以上
０．１μｍ以下の微粒子、例えば、コロイダルシリカ、
α、γ、δ、θ等の結晶形態を有するアルミナ等の微細
粒子を好ましく用いることが出来る。また不活性粒子Ａ
として例示したもののうち平均粒径が０．０１μｍ以上
０．１μｍ以下の微細粒子も用いることが出来る。

【００５６】この微細粒子の含有量は０．００１〜５重
量％、更には０．００５〜１重量％、特に０．０１〜
０．５重量％であることが好ましい。

【００５７】本発明において積層フィルムの全厚みは、
通常２．５〜２０μｍ、好ましくは３．０〜１０μｍ、
更に好ましくは４．０〜１０μｍである。平坦層Ａと粗
面層Ｂとの層厚構成は、実質的には薄い（１〜５００ｎ
ｍ）被覆層Ｃの表面に前述の好適なうねり状突起が生じ
るように、粗面層Ｂに添加する不活性粒子Ｂの平均粒径
ｄ_Bと平坦層Ａの層厚ｔ_Aとから好適な厚みに設定され
る。平坦層Ａの厚さｔ_Aは０．８μｍ以上であること、
また粗面層Ｂの厚さｔ_Bは不活性粒子Ｂの前記平均粒径
ｄ_Bの１／２倍以上であることが好ましい。

【００５８】本発明における熱可塑性樹脂層Ａ，Ｂより
なる積層フィルムは、従来から知られている、あるいは
当業界に蓄積されている方法で製造することが出来る。
そのうち、共押出法により製造するのが好ましい。例え
ば、二軸配向ポリエステルフィルムで説明すると、押出
し口金又は口金以前（一般に前者はマルチマニホールド
方式、後者はフィードブロック方式と呼ぶ）で、前述の
不活性粒子Ａを含有する平坦層のポリエステルＡと不活
性粒子Ｂを含有する粗面層のポリエステルＢを溶融状態
にて積層複合し、前述の好適な厚み比の積層構造と成
し、次いで口金より融点Ｔｍ℃〜（Ｔｍ＋７０）℃の温
度でフィルム状に共押出した後、４０〜９０℃で冷却固
化し未延伸積層フィルムを得る。しかる後に、該未延伸
積層フィルムを常法に従って一軸方向（縦方向又は横方
向に）に（Ｔｇ−１０）〜（Ｔｇ＋７０）℃の温度（但
し、Ｔｇ：当該ポリエステルのガラス転移温度）で２．
５〜８．０倍の倍率で、好ましくは３．０〜７．５倍の
倍率で延伸し、次いで前記方向とは直角方向にＴｇ〜
（Ｔｇ＋７０）℃の温度で２．５倍〜８．０倍の倍率
で、好ましくは３．０〜７．５倍の倍率で延伸する。更
に必要に応じて縦方向及び／又は横方向に再度延伸して
も良い。即ち、二段、三段、四段、あるいは多段の延伸
を行うとよい。全延伸倍率は、面積延伸倍率として通常
９倍以上、好ましくは１２〜３５倍、更に好ましくは１
５〜２６倍である。更に引き続いて、該二軸配向フィル
ムは（Ｔｇ＋７０）〜（Ｔｍ−１０）℃の温度、例えば
１８０〜２５０℃で熱固定結晶化することによって優れ
た寸法安定性を付与される。尚、熱固定時間は１〜６０
秒が好ましい。

【００５９】かかる方法により、層間密着性の良い、本
発明の要件を満たす二軸配向積層ポリエステルフィルム
を得ることができる。

【００６０】上述の例は、熱可塑性樹脂層Ａ、Ｂ共にポ
リエチレンー２,６ーナフタレンジカルボキシレート又
はポリエチレンテレフタレートの場合に好適であるが、
層Ａのみあるいは層Ｂのみがポリエチレンー２,６ーナ
フタレンジカルボキシレート又はポリエチレンテレフタ
レートの場合にも同様である。

【００６１】被覆層Ｃは前述の通り、コーティング法で
形成しても良いし、またバインダー樹脂の代わりに熱可
塑性樹脂を使用し、層Ａ、Ｂと同時に共押出法にて形成
しても良い。

【００６２】なお、積層フィルムの製造に際し、熱可塑
性樹脂に所望により上述の不活性粒子以外の添加剤例え
ば安定剤、着色剤、溶融ポリマーの固有電気抵抗調整剤
等を添加含有させることができる。

【００６３】本発明において、磁気記録媒体としてのヘ
ッドタッチ、走行耐久性を初めとする各種性能を向上さ
せ、同時に薄膜化を達成するには、積層フィルムのヤン
グ率を縦方向、横方向がそれぞれ４５０ｋｇ／ｍｍ²以
上、６００ｋｇ／ｍｍ²以上、さらにはそれぞれ４８０
ｋｇ／ｍｍ²以上、６８０ｋｇ／ｍｍ²以上、特にそれぞ
れ５５０ｋｇ／ｍｍ²以上、８００ｋｇ／ｍｍ²以上、就
中それぞれ５５０ｋｇ／ｍｍ²以上、１０００ｋｇ／ｍ
ｍ²以上とするのが好ましい。また、ポリエチレンテレ
フタレート層の結晶化度は３０％〜５０％、ポリエチレ
ンー２,６ーナフタレンジカルボキシレート層の結晶化
度は２８％〜３８％であることが望ましい。何れも下限
を下回ると、熱収縮率が大きくなるし、また上限を上回
るとフィルムの耐磨耗性が悪化し、ロールやガイドピン
表面と摺動した場合に白粉が生じやすくなる。

【００６４】本発明の積層フィルムは、被覆層Ｃの表面
に、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング
等の方法により、鉄、コバルト、クロム又はそれらを主
成分とする合金もしくは酸化物よりなる強磁性金属薄膜
層を形成し、かつその表面に、目的・用途・必要に応じ
てダイアモンドライクカーボン（ＤＬＣ）等の保護層、
含フッ素カルボン酸系潤滑層を順次設け、更に熱可塑性
樹脂層Ｂ側の表面に公知のバックコート層を設けること
により、特に短波長領域での出力、Ｓ／Ｎ，Ｃ／Ｎ等の
電磁変換特性に優れ、ドロップアウト、エラーレートの
少ない高密度記録用蒸着型磁気記録媒体とすることが出
来る。この蒸着型磁気記録媒体は、アナログ信号記録用
Ｈｉ８、ディジタル信号記録用ディジタルビデオカッセ
ットレコーダー（ＤＶＣ）、データ８ミリ、ＤＤＳIV用
テープ媒体として極めて有用である。

【００６５】本発明の積層フィルムは、また、被覆層Ｃ
の表面に、鉄又は鉄を主成分とする針状微細磁性粉を塩
化ビニール、塩化ビニール・酢酸ビニール共重合体等の
バインダーに均一分散し、磁性層厚みが１μｍ以下、好
ましくは０．１〜１．０μｍとなるように塗布し、更に
熱可塑性樹脂層Ｂ側の表面に公知の方法でバックコート
層を設けることにより、特に短波長領域での出力、Ｓ／
Ｎ，Ｃ／Ｎ等の電磁変換特性に優れ、ドロップアウト、
エラーレートの少ない高密度記録用メタル塗布型磁気記
録媒体とすることが出来る。また、必要に応じて被覆層
Ｃの上に、該メタル粉含有磁性層の下地層として微細な
酸化チタン粒子等を含有する非磁性層を磁性層と同様の
有機バインダー中に分散、塗設することも出来る。この
メタル塗布型磁気記録媒体は、アナログ信号記録用８ミ
リビデオ、Ｈｉ８、βカムＳＰ、ＷーＶＨＳ、ディジタ
ル信号記録用ディジタルビデオカッセットレコーダー
（ＤＶＣ）、データ８ミリ、ＤＤＳIV、ディジタルβカ
ム、Ｄ２、Ｄ３、ＳＸ等のテープ媒体として極めて有用
である。

【００６６】本発明の積層フィルムは、また、被覆層Ｃ
の表面に、酸化鉄又は酸化クロム等の針状微細磁性粉、
又はバリウムフェライト等の板状微細磁性粉を塩化ビニ
ール、塩化ビニール・酢酸ビニール共重合体等のバイン
ダーに均一分散し、磁性層厚みが１μｍ以下、好ましく
は０．１〜１．０μｍとなるように塗布し、更に熱可塑
性樹脂層Ｂ側の表面に公知の方法でバックコート層を設
けることにより、特に短波長領域での出力、Ｓ／Ｎ，Ｃ
／Ｎ等の電磁変換特性に優れ、ドロップアウト、エラー
レートの少ない高密度記録用酸化物塗布型磁気記録媒体
とすることが出来る。また必要に応じて層Ａの上に、該
酸化物磁性粉含有磁性層の下地層として微細な酸化チタ
ン粒子等を含有する非磁性層を磁性層と同様の有機バイ
ンダー中に分散、塗設することも出来る。該酸化物塗布
型磁気記録媒体はディジタル信号記録用データストリー
マー用ＱＩＣ等の高密度酸化物磁気記録媒体として有用
である。

【００６７】上述のＷーＶＨＳはアナログのＨＤＴＶ信
号記録用ＶＴＲであり、またＤＶＣはディジタルのＨＤ
ＴＶ信号記録用として適用可能なものであり、本発明の
フィルムはこれらＨＤＴＶ対応ＶＴＲ用磁気記録媒体に
極めて有用なベースフィルムと言うことが出来る。

【００６８】

【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
る。尚、本発明において用いた測定法は次の通りであ
る。

【００６９】（１）固有粘度数 オルソクロロフェノール溶媒中３５℃で測定した値から
求めた。

【００７０】（２）粒子の平均粒径Ｉ（平均粒径：０．
０６μｍ以上） 島津製作所製ＣＰー５０型セントリフューガル パーテ
ィクル サイズ アナライザー（Ｃｅｎｔｒｉｆｕｇａ
ｌ Ｐａｒｔｉｃｌｅ Ｓｉｚｅ Ａｎａｌｉｚｅｒ）
を用いて測定した。得られた遠心沈降曲線を基に算出し
た各粒径の粒子とその存在量との積算曲線から、５０マ
スパーセントに相当する粒径「等価球直径」を読み取
り、この値を上記平均粒径とした（「Book粒度測定技
術」日刊工業新聞社発行、１９７５年、頁２４２〜２４
７参照）。

【００７１】（３）粒子の平均粒径II（平均粒径：０．
０６μｍ未満） 小突起を形成する平均粒径０．０６未満の粒子は、光散
乱法を用いて測定した。即ち、Ｎｉｃｏｍｐ Ｉｎｓｔ
ｒｕｍｅｎｔｓ Ｉｎｃ．社製のＮＩＣＯＭＰＭＯＤＥ
Ｌ ２７０ ＳＵＢＭＩＣＲＯＮ ＰＡＲＴＩＣＬＥ
ＳＩＺＥＲにより求められた全粒子の５０重量％の点に
ある粒子の「等価球直径」をもって表示した。

【００７２】（４）体積形状計数Ｆ 走査型電子顕微鏡により用いたサイズに応じた倍率にて
各粒子の写真を撮影し、画像解析処理装置ルーゼックス
５００（日本レギュレーター製）を用い、投影面最大径
及び粒子の体積を算出し、下記式（５）により算出し
た。

【００７３】

【数６】Ｆ＝Ｖ／Ｄ³ （５）

【００７４】式中Ｖは粒子の体積（μｍ³）、Ｄは投影
面の最大径（μｍ）を表す。

【００７５】（５）熱可塑性樹脂層Ａの表面粒子頻度 熱可塑性樹脂層Ａの表面上の粒子頻度の測定は走査型電
子顕微鏡により行なった。即ち、被覆層Ｃの表面より熱
可塑性樹脂層Ａの表面上の粒子の写真を倍率５０００倍
又は１００００倍にてランダムに５枚撮影し、表面粒子
頻度をカウントし、その平均値より１ｍｍ²当たりの粒
子数に換算し、この値を熱可塑性樹脂層Ａの表面上の粒
子頻度とした。

【００７６】（６）被覆層Ｃの表面突起頻度 被覆層Ｃの表面上の突起頻度の測定は走査型電子顕微鏡
により行なった。即ち、被覆層Ｃの表面の写真を倍率３
００００倍にてランダムに３０枚撮影し、表面粒子頻度
をカウントし、その平均値より１ｍｍ²当たりの粒子数
に換算し、この値を被覆層Ｃの表面突起頻度とした。

【００７７】（７）層厚 フィルムの全厚はマイクロメーターにてランダムに１０
点測定し、その平均値で示した。層厚は、薄い側の層厚
を以下に述べる方法にて測定し、また厚い側の層厚は全
厚より薄い側の層厚を引き算して求めた。即ち、二次イ
オン質量分析装置（ＳＩＭＳ）を用いて、表層から深さ
５０００ｎｍの範囲のフィルム中の粒子の内最も高濃度
の粒子に起因する元素とポリエステルの炭素元素の濃度
比（Ｍ⁺／Ｃ⁺）を粒子濃度とし、表面から深さ５０００
ｎｍまで厚さ方向の分析を行なった。表層では表面とい
う界面の為に粒子濃度は低く、表面から遠ざかるにつれ
て粒子濃度は高くなる。本発明の場合、粒子濃度は一旦
安定値１になった後、上昇あるいは減少して安定値２に
なる場合と、単調に減少する場合とがある。この分布曲
線をもとに、前者の場合は、（安定値１＋安定値２）／
２の粒子濃度を与える深さをもって、また後者の場合は
粒子濃度が安定値１の１／２になる深さ（この深さは安
定値１を与える深さより深い）をもって当該層の層厚と
した。測定条件は以下の通りである。 測定装置 二次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ）；Physical Elect
ronics社製 ６３００ＳＩＭＳ 測定条件 一次イオン種 ：Ｏ２＋ 二次イオン極性 ：正イオン 入射角 ：６０° 一次イオンエネルギー：２ｋｅＶ（１ｋｅＶ／パーティ
クル） 一次イオン電流量 ：２００ｎＡ ラスター面積 ：４００μｍ×４００μｍ 分析領域 ：１２０μｍ×１２０μｍ エレクトロン・ビーム補正：あり

【００７８】尚、表層から５０００ｎｍの範囲に最も多
く含有する粒子がシリコーン樹脂以外の有機高分子粒子
の場合はＳＩＭＳでは測定が難しいので、表面からエッ
チングしながらＦＴーＩＲ（フーリエトランスフォーム
赤外分光法）、粒子によってはＸＰＳ（Ｘ線高電子分光
法）等で上記同様の濃度分布曲線を測定し、層厚を求め
た。

【００７９】（８）フィルム表面のうねり状突起 ＷＹＫＯ社製非接触三次元粗さ計（ＴＯＰＯー３Ｄ）を
用いて、うねり状突起の大きさ、高さに応じ、測定倍率
４０倍、測定面積２３４μｍ×２４０μｍ（０．０５６
ｍｍ²）、または測定倍率１０倍、測定面積９５６μｍ
×９８０μｍ（０．９３７ｍｍ²）にて測定し、得られ
た三次元チャートより、うねりの高さ、平均幅を読み取
った。尚、測定はフィルムの長手方向に対し５〜１０度
の方向に切り出したサンプルにて行った。

【００８０】（９）非接触３次元中心面平均粗さ（Ｒ
ａ） ＷＹＫＯ社製非接触三次元粗さ計（ＴＯＰＯー３Ｄ）を
用いて、測定倍率４０倍、測定面積２４２μｍ×２３９
μｍ（０．０５８ｍｍ²）の条件にて測定を行い、同粗
さ計内蔵ソフトによる表面解析より、Ｒａは下記式
（６）により計算されアウトプットされた値を用いた。

【００８１】

【数７】

【００８２】また、Ｚ_jkは測定方向（２４２μｍ）、そ
れと直行する方向（２３９μｍ）をそれぞれＭ分割、Ｎ
分割した時の各方向のｊ番目、ｋ番目の位置に於ける３
次元粗さチャート上の高さで定義される。

【００８３】（１０）ヤング率 東洋ボールドウィン社製の引っ張り試験機テンシロンを
用いて、温度２０℃、湿度５０％に調節された室内に於
いて、長さ３００ｍｍ、幅１２．７ｍｍの試料フィルム
を、１０％／分のひずみ速度で引っ張り、引っ張り応力
ーひずみ曲線の初めの直線部分を用いて下記式（７）に
よって計算した。

【００８４】

【数８】Ｅ＝Δσ／Δε （７）

【００８５】ここで、Ｅはヤング率（ｋｇ／ｍｍ²）、
Δσは直線上の２点間の元の平均断面積による応力差、
Δεは同じ２点間のひずみ差である。

【００８６】（１１）巻き取り性 スリット時の巻き取り条件を最適化後、幅５６０ｍｍ×
長さ９０００ｍのサイズで、１０ロールのスリットを行
い、１週間放置後の、フィルムシワの発生状況より製品
化可能ロール本数より、以下の基準にて巻き取り性の評
価をおこなった。

【００８７】（１２）磁気テープの製造及び特性評価 二軸配向積層フィルムの被覆層Ｃの表面に、真空蒸着法
により、コバルト１００％の強磁性薄膜を０．２μｍの
厚みになる様に２層（各層厚約０．１μｍ）形成し、そ
の表面にダイアモンドライクカーボン（ＤＬＣ）膜、更
に含フッ素カルボン酸系潤滑層を順次設け、更に熱可塑
性樹脂層Ｂ側の表面に公知方法でバックコート層を設け
た。その後、８ｍｍ幅にスリットし、市販の８ｍｍビデ
オカセットにローディングした。次いで、以下の市販の
機器を用いてテープの特性を測定した。 使用機器 ：８ｍｍビデオテープレコーダー ソニー
（株）製ＥＤＶー６０００ Ｃ／Ｎ測定：シバソク（株）製ノイスメーター

【００８８】Ｃ／Ｎ測定 記録波長０．５μｍ（周波数約７．４ＭＨｚ）の信号を
記録し、その再生信号の６．４ＭＨｚと７．４ＭＨｚの
値の比をそのテープのＣ／Ｎとし、市販８ｍｍビデオ用
蒸着テープのＣ／Ｎを０ｄＢとし、相対値で表した。

【００８９】高温高湿下の走行性 ４０℃、８０％ＲＨの高温高湿下でテープに通常のスピ
ードにて５００回の記録再生を繰り返した後、Ｃ／Ｎを
測定し、初期値からのずれを次の基準で判定した。 ◎：基準値に対して＋０．０ｄＢ以上 ○：基準値に対して−１．０〜＋０．０ｄＢ ×：基準値に対して−１．０ｄＢ未満

【００９０】スチル特性 前述の蒸着テープに４．２ＭＨｚの映像信号を記録し、
この再生出力が５０％に減衰するまでの時間を測定し
た。この時間より次の基準で判定した。 ◎：５０％に減衰する時間が１２０分以上 ○：５０％に減衰する時間が６０〜１２０分 ×：５０％に減衰する時間が６０分未満

【００９１】（１３）フィルムのすり傷 スリット後の最終製品ロールよりフィルムをサンプリン
グし、平坦面側表面を光学顕微鏡１００倍にて観察し、
２０視野中のすり傷の個数をカウントした。判定基準は
以下の通りである。

【００９２】（１４）突起高さ Ｄｉｇｉｔａｌ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製の原子間
力顕微鏡（ＡＦＭ）Ｎａｎｏ ＳｃｏｐｅIIを用いて、
２μｍ×２μｍの面積を２５６ライン×２５６ピクセル
の画素数で測定し、算出されるＲｚ（１０点平均粗さ）
を突起高さとした。

【００９３】［実施例１］ジメチルテレフタレートとエ
チレングリコールとを、エステル交換触媒として酢酸マ
ンガンを、重合触媒として三酸化アンチモンを、安定剤
として亜燐酸を、更に滑剤として表１及び表２に示す不
活性粒子を添加して常法により重合し、固有粘度数０．
６０の層Ａ用及び層Ｂ用のポリエチレンテレフタレート
（それぞれ、樹脂Ａ、樹脂Ｂと略す）を得た。

【００９４】この樹脂Ａ、樹脂Ｂをそれぞれ１７０℃で
３時間乾燥後、２台の押し出し機に供給し、溶融温度２
８０〜３００℃にて溶融し、マルチマニホールド型共押
し出しダイを用いて樹脂層Ａの片面に樹脂層Ｂを積層さ
せ、急冷して厚さ８３μｍの未延伸積層フィルムを得
た。

【００９５】この様にして得られた未延伸フィルムを予
熱し、更に低速・高速のロール間で、フィルム温度９５
℃にて３．２倍に延伸し、急冷し、続いてこの縦延伸フ
ィルムのＡ層面側に被覆層Ｃを形成するために、表１に
示す樹脂及び粒子材質を含む水性塗液（前固形分濃度
１．５重量％、界面活性剤としてＨＬＢ値１７．１のポ
リオキシエチレンノニルフェニルエーテルを全固形分中
１５重量％含有）をキスコート法により塗布し、次いで
この縦延伸フィルムをステンターに供給し、１１０℃に
て横方向に４．１倍に延伸した。得られた二軸延伸フィ
ルムを２２０℃の熱風で４秒間熱固定し、厚み９．８μ
ｍの積層二軸配向ポリエステルフィルムを得た。各層の
厚みについては、二台の押し出し機の吐出量を変えるこ
とにより調整した。このフィルムのヤング率は縦方向５
００ｋｇ／ｍｍ²、横方向７００ｋｇ／ｍｍ²であった。

【００９６】この様にして得られたフィルムの表面特
性、平坦層Ａの厚みｔ_Aと粗面層Ｂが含有する不活性粒
子の中、最も大きい粒子の平均粒径ｄ_Bとの比ｔ_A／
ｄ_B、巻き取り性、このフィルムを用いた強磁性薄膜蒸
着磁気テープの特性を表３に示す。

【００９７】［実施例２〜４、比較例１〜６、９］被覆
層Ｃを形成する樹脂及び不活性粒子、熱可塑性樹脂層
Ａ、Ｂに含有される粒子と層厚みを表１及び表２に示す
ように変更する以外は、実施例１と同様の方法で積層二
軸配向ポリエステルフィルムを得た。但し、比較例４は
被覆層を設けなかった。また、比較例９は従来技術の単
層構造のフィルムである。この様にして得られたフィル
ムの特性、及びこれらのフィルムを用いた強磁性薄膜蒸
着磁気テープの特性を表３に示す。

【００９８】［実施例５〜９、比較例７及び８］表１及
び表２に示す粒子を使用し、ジメチルテレフタレートの
代わりに、２,６ーナフタレンジカルボン酸ジメチルを
使用する以外は実施例１と同様の方法で平坦層Ａ、粗面
層Ｂ用のポリエチレンー２,６ーナフタレート（ＰＥ
Ｎ）樹脂Ａ、樹脂Ｂを得た。

【００９９】この樹脂Ａ、樹脂Ｂをそれぞれ１７０℃で
６時間乾燥後、実施例１と同様にして各層厚を調整し、
各実施例、比較例を満たす未延伸積層フィルムを得た。

【０１００】この様にして得られた未延伸フィルムを予
熱し、更に低速・高速のロール間で、フィルム温度１３
５℃にて３．６倍に延伸し、急冷し、続いて表１に示す
被覆層Ｃの水性塗液を実施例１と同様に塗布し、次いで
ステンターに供給し、１５５℃にて横方向に６．０倍に
延伸した。得られた二軸延伸フィルムを２００℃の熱風
で４秒間熱固定し、厚み４．６μｍの積層二軸配向ポリ
エステルフィルムを得た。これらのフィルムのヤング率
は縦方向５６０ｋｇ／ｍｍ²、横方向１１００ｋｇ／ｍ
ｍ²であった。但し、実施例７、８及び９は縦倍率４．
０×横倍率５．０とし、積層二軸配向ポリエステルフィ
ルムのヤング率は、縦方向６００ｋｇ／ｍｍ²、横方向
９００ｋｇ／ｍｍ²であった。この様にして得られたフ
ィルムの特性、及びこれらのフィルムを用いた強磁性薄
膜蒸着磁気テープの特性を表３に示す。

【０１０１】

【表１】

【０１０２】

【表２】

【０１０３】

【表３】

【０１０４】表３から明らかな様に、本発明による積層
フィルムは、片面が非常に平坦で、優れた電磁変換特性
を示すと同時に、被覆層Ｃに含有される特定形状の超微
細な粒子と熱可塑性樹脂層Ａに含有される微細粒子とが
それぞれ微細な突起を表面に形成し、且つ電磁変換特性
に悪影響を与えない程度の、高さが低く幅の大きいうね
り状突起を併せ持つことによる相乗効果によって、磁気
記録媒体としたときの高温高湿下での走行耐久性及びス
チル特性に極めて優れ、また、うねり状突起と反対面の
粗面との両方の効果により、極めて優れたベースフィル
ムとしての巻き取り性とを兼ね備えている。一方、比較
例に示す従来の技術によるフィルムは、これら４つの要
件を同時に満足できていない。

【０１０５】

【発明の効果】本発明によれば、巻き取り性、無欠点
性、易滑性、易ハンドリング性に優れ、特に電磁変換特
性、ドロップアウト、磁性層の走行性、耐久性の優れた
高密度磁気記録媒体として用いるのに有用な積層フィル
ムを提供することが出来る。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) B32B 1/00 - 35/00 ＥＰＡＴ（ＱＵＥＳＴＥＬ) ＷＰＩ／Ｌ（ＱＵＥＳＴＥＬ)

Claims (15)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 平均粒径１０〜５０ｎｍ、体積形状係数
   （Ｆ）０．１〜π／６の不活性粒子Ｃを表面の突起頻度
   が２．０〜５０．０個／μｍ²となる量含有し、且つそ
   の突起高さが粒子の粒径の３０％以上２００％未満であ
   る被覆層Ｃを、平均粒径４０〜４００ｎｍ、体積形状係
   数（Ｆ）０．１〜π／６の不活性粒子Ａを表面の突起頻
   度が５千〜５万個／ｍｍ²となる量含有した熱可塑性樹
   脂層Ａの一方の表面に設け、さらに熱可塑性樹脂層Ａの
   他の表面に不活性粒子Ｂを含有し且つ熱可塑性樹脂層Ｃ
   よりも粗い表面を有する熱可塑性樹脂層Ｂを積層した３
   層構造の積層フイルムであって、被覆層Ｃの表面に長手
   方向に対し０±１０度の方向に測定した粗さプロファイ
   ルが高さ２〜８５ｎｍ、平均幅２０〜５００μｍのうね
   り状突起を４〜２５００個／ｍｍ²の頻度で有すること
   を特徴とする積層フイルム。
2. 【請求項２】 不活性粒子Ｂが単独の粒子又は大きさの
   違う２種以上の粒子からなり、単独の粒子の平均粒径又
   は２種以上の粒子のうち最も大きい粒子の平均粒径と熱
   可塑性樹脂層Ａの厚みが下記式（１）を満足する請求項
   １記載の積層フィルム。 【数１】４≦ｔ_A／ｄ_B≦４０ （１） ここで、ｔ_Aは熱可塑性樹脂層Ａの厚み（μｍ）であ
   り、ｄ_Bは単独粒子の平均粒径又は２種以上の粒子のう
   ち最も大きい粒子の平均粒径（μｍ）である。
3. 【請求項３】 不活性粒子Ｂの単独の粒子又は２種以上
   の粒子のうち最も大きい粒子の平均粒径が０．２〜１．
   ０μｍである請求項２記載の積層フィルム。
4. 【請求項４】 被覆層Ｃの表面の中心面平均粗さＲａ_C
   が１０ｎｍ以下である請求項１記載の積層フィルム。
5. 【請求項５】 被覆層Ｃが少なくとも１軸方向に延伸さ
   れたフィルム層である請求項１又は４記載の積層フィル
   ム。
6. 【請求項６】 熱可塑性樹脂層Ｂの表面の中心面平均粗
   さＲａ_Bが２ｎｍ以上１５ｎｍ未満である請求項１記載
   の積層フィルム。
7. 【請求項７】 熱可塑性樹脂層Ａの厚みが０．８μｍ以
   上で、熱可塑性樹脂層Ｂの厚みが不活性粒子Ｂの平均粒
   径ｄ_Bの１／２倍以上である請求項１又は２記載の積層
   フィルム。
8. 【請求項８】 全厚みが２．５〜２０μｍである請求項
   １記載の積層フィルム。
9. 【請求項９】 層Ａ及び層Ｂの熱可塑性樹脂がそれぞれ
   芳香族ポリエステルである請求項１記載の積層フィル
   ム。
10. 【請求項１０】 芳香族ポリエステルがポリエチレンテ
    レフタレート又はポリエチレンー２,６ーナフタレンジ
    カルボキシレートである請求項９記載の積層フィルム。
11. 【請求項１１】 磁気記録媒体のベースフィルムである
    請求項１記載の積層フィルム。
12. 【請求項１２】 磁気記録媒体が金属薄膜磁気記録媒体
    である請求項１１記載の積層フィルム。
13. 【請求項１３】 磁気記録媒体が磁性層の厚みが１μｍ
    以下の塗布型磁気記録媒体用である請求項１１記載の積
    層フィルム。
14. 【請求項１４】 磁気記録媒体がディジタル信号記録型
    磁気記録媒体である請求項１１、１２又は１３記載の積
    層フィルム。
15. 【請求項１５】 磁気記録媒体がＨＤＴＶ信号記録型磁
    気記録媒体用である請求項１１〜１４のいずれか記載の
    積層フィルム。