JP3187067B2 - Optical disc manufacturing method - Google Patents
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Description
【0001】[0001]
【技術分野】本発明は、光ディスクを製造する方法に関
する。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for manufacturing an optical disc.
【0002】[0002]
【背景技術】光ディスク例えばビデオディスクの製造方
法としては、従来から図2に示す如き方法が知られてい
る。かかる製造方法によれば、まず、図2(a)に示す
ようにガラス盤1の主面上に一様にフォトレジスト層2
を形成したフォトレジスト原盤を用意して、所定の信号
に応じて明滅するレーザービームLaを照射してフォト
レジスト層2上に、所定情報に対応したスポット列の潜
像を螺旋又は同心円状に形成する。次に、露光したフォ
トレジスト原盤を現像して、フォトレジスト原盤上に記
録すべき信号に対応する微小凹部(以下ピットと称す
る)の列を設け、図2(b)に示す如き、ピットを有す
るフォトレジスト層2(情報記録層)とガラス盤1とか
らなる現像原盤を得る。次に、かかる現像原盤のフォト
レジスト層2を乾燥させガラス盤1上に定着(ポストベ
ーキング)させて、図2(c)に示す如き乾燥した原盤
を得る。次に、銀又はニッケル等の金属をスパッタリン
グしてフォトレジスト層2上に導電膜3を形成して、図
2(d)に示す如き積層されたマスタリング原盤3aを
得る。このように、ピットを有するフォトレジスト層上
に金属をスパッタリングすることによりピットを有する
情報記録面を導電化する。次に、得られたマスタリング
原盤をニッケル電鋳槽中に浸してニッケル(Ni)を導
電膜3上にメッキ(電鋳)して肉厚のニッケル層4すな
わちニッケルスタンパを形成して、図2(e)に示す如
き円盤を得る。次に、図2(f)に示す如くニッケル層
4であるスタンパをガラス盤1から分離する。次に、ス
タンパ上に残ったフォトレジスト層2及び導電膜3を除
去して、図2(g)に示すニッケルスタンパを得る。2. Description of the Related Art As a method for manufacturing an optical disk, for example, a video disk, a method as shown in FIG. 2 is conventionally known. According to this manufacturing method, first, as shown in FIG. 2A, the photoresist layer 2 is uniformly formed on the main surface of the glass disk 1.
Is prepared, and a latent image of a spot row corresponding to predetermined information is spirally or concentrically formed on the photoresist layer 2 by irradiating a blinking laser beam La in accordance with a predetermined signal. I do. Next, the exposed photoresist master is developed to provide a row of minute recesses (hereinafter referred to as pits) corresponding to signals to be recorded on the photoresist master, and has a pit as shown in FIG. A development master comprising a photoresist layer 2 (information recording layer) and a glass disk 1 is obtained. Next, the photoresist layer 2 of the development master is dried and fixed (post-baked) on the glass disk 1 to obtain a dried master as shown in FIG. Next, a metal film such as silver or nickel is sputtered to form a conductive film 3 on the photoresist layer 2 to obtain a laminated mastering master 3a as shown in FIG. 2D. Thus, the information recording surface having pits is made conductive by sputtering metal on the photoresist layer having pits. Next, the obtained mastering master is immersed in a nickel electroforming bath, and nickel (Ni) is plated (electroformed) on the conductive film 3 to form a thick nickel layer 4, that is, a nickel stamper. A disk as shown in (e) is obtained. Next, the stamper as the nickel layer 4 is separated from the glass disk 1 as shown in FIG. Next, the photoresist layer 2 and the conductive film 3 remaining on the stamper are removed to obtain a nickel stamper shown in FIG.
【0003】その後は、ニッケルスタンパを射出成形装
置の所定位置に取り付け、型締め後に、溶融した流動性
PMMA(ポリメチルメタクリレート)、PC(ポリカ
ーボネート)等の透明樹脂材料をニッケルスタンパ上に
射出して、樹脂材料の硬化後これを取り出して、所定情
報記録面を有した光ディスクレプリカが作成される。こ
のようにして得られたレプリカは、公知の方法によっ
て、レプリカの情報記録面上にアルミニウム等の反射膜
を形成して、さらに反射膜上に保護膜をオーバーコート
して、光ディスクが形成される。また、この光ディスク
を2枚貼り合わせ、仕上げ工程を経て、通常、両面光デ
ィスクを得ている。[0003] Thereafter, a nickel stamper is attached to a predetermined position of an injection molding apparatus, and after clamping, a transparent resin material such as molten fluid PMMA (polymethyl methacrylate) and PC (polycarbonate) is injected onto the nickel stamper. After the resin material is cured, the resin material is taken out and an optical disk replica having a predetermined information recording surface is created. The replica thus obtained is formed by forming a reflective film such as aluminum on the information recording surface of the replica by a known method, and further overcoating the protective film on the reflective film to form an optical disc. . In addition, a two-sided optical disk is usually obtained after two optical disks are pasted and subjected to a finishing process.
【0004】しかしながら、このような従来方法におい
ては、スタンパの製造までに電鋳工程の工程数が多くメ
ッキに時間が掛かり、さらに、レプリカ製造用の射出成
形装置が比較的大型の装置が必要である。スタンパ製造
に時間、コストが掛かかるので、近年の少量多品種の映
像音声ソフトに対応した数枚の光ディスクの製造には十
分適しているとはいえない。However, in such a conventional method, the number of steps of the electroforming process is large until the stamper is manufactured, and it takes a long time for plating. Further, an injection molding apparatus for manufacturing a replica requires a relatively large apparatus. is there. Since it takes time and cost to manufacture a stamper, it cannot be said that it is adequately suitable for manufacturing several optical discs corresponding to various kinds of video and audio software in recent years.
【0005】[0005]
【発明の目的】本発明の目的は、比較的簡素な工程にて
少量多品種及び大量生産に適する光ディスク製造方法を
提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing an optical disk suitable for a large number of products in a small number and in a large scale by relatively simple steps.
【0006】[0006]
【発明の構成】本発明による光ディスク製造方法は、透
明基板と、該透明基板上に形成され樹脂、感光剤及びバ
ラスト化合物を含有するフォトレジスト層とからなる原
盤上への集光レーザー光の照射によって前記フォトレジ
ストを露光する工程と、前記原盤を現像し微小凹凸を前
記フォトレジスト層の表面に形成する現像工程と、前記
フォトレジスト層を加熱して定着させるポストベーキン
グ工程と、前記原盤の表面に紫外線を照射する紫外線照
射工程と、前記フォシレジスト層の表面上に透明な紫外
線硬化樹脂からなる転写層を形成する転写工程とを含む
ことを特徴とする。The method of manufacturing an optical disk according to the present invention is directed to irradiating a master disk comprising a transparent substrate and a photoresist layer containing a resin, a photosensitive agent and a ballast compound formed on the transparent substrate with a focused laser beam. Exposing the photoresist, developing the master to form fine irregularities on the surface of the photoresist layer, heating the photoresist layer and fixing the post-baking, the surface of the master And a transfer step of forming a transfer layer made of a transparent ultraviolet curable resin on the surface of the photoresist layer.
【0007】[0007]
【発明の作用】本発明によれば、スタンパ製造時間を短
縮でき、光ディスク製造方法を簡略化できる。According to the present invention, the stamper manufacturing time can be reduced and the optical disk manufacturing method can be simplified.
【0008】[0008]
【実施例】以下に、本発明の実施例を図面を参照しつつ
説明する。本実施例の1枚〜数枚の光ディスクを作製す
るにあたり、マスタリング原盤の情報記録面である微小
凹部列のピットのパターンを金属スタンパではなく樹脂
スタンパによって転写して、樹脂スタンパからレプリカ
を製造する方法が考えられる。この方法は、情報記録面
上に紫外線硬化型樹脂であるフォトポリマー(2Pとい
う)の流動体を供給し塗布し、その後、紫外線を照射し
て2Pを情報記録面の転写層40として硬化させるいわ
ゆる2P方法である。この2P法によって転写してレプ
リカを作製する場合、フォトレジストが2P剤によって
浸食されることを防ぐため、マスタリング原盤における
フォトレジスト層表面に金属膜などのバリア層を形成す
る必要があるので、下記(1)〜(3)の問題があった
が、これらは解決された。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In manufacturing one or several optical discs of the present embodiment, the pattern of the pits in the minute concave row, which is the information recording surface of the mastering master, is transferred by a resin stamper instead of a metal stamper, and a replica is manufactured from the resin stamper. A method is conceivable. According to this method, a fluid of a photopolymer (referred to as 2P), which is an ultraviolet-curable resin, is supplied and applied onto the information recording surface, and then irradiated with ultraviolet rays to cure the 2P as a transfer layer 40 on the information recording surface. This is a 2P method. When a replica is produced by transferring by the 2P method, it is necessary to form a barrier layer such as a metal film on the surface of the photoresist layer on the mastering master in order to prevent the photoresist from being eroded by the 2P agent. There were problems (1) to (3), which were solved.
【0009】(1) 金属膜形成に手間及び時間がかか
る。 (2) フォトレジスト層で形成されたピットの上にバ
リア層を設けるため、転写面におけるピットの形状が変
化して、かかる樹脂スタンパから得られたレプリカ光デ
ィスクからの再生信号が劣化する。 (3) マスタリング原盤をクリーンな雰囲気から出し
て蒸着機に入れるためドロップアウトの元になるゴミが
付着する可能性がある。(1) It takes time and effort to form a metal film. (2) Since the barrier layer is provided on the pit formed by the photoresist layer, the shape of the pit on the transfer surface changes, and the reproduction signal from the replica optical disk obtained from the resin stamper deteriorates. (3) Since the mastering master is taken out of the clean atmosphere and put into the vapor deposition machine, there is a possibility that dusts that cause dropout may adhere.
【0010】これら問題を解決すべく発明者は以下の実
施例の如き、製造方法を開発した。まず、マスタリング
原盤用の基板としてガラスからなる洗浄された透明円盤
10の主面上に亘って一様にフォトレジスト層20をス
ピンコート法等により形成し、フォトレジスト原盤を用
意する。図1(a)に示すように、所定の記録すべき信
号に応じて明滅するレーザービームLaを照射してフォ
トレジスト層20上に、所定情報に対応したスポット列
の潜像を螺旋又は同心円状に形成する。フォトレジスト
層20は樹脂、感光剤及びバラスト化合物からなり、そ
の成分は後に詳述する。In order to solve these problems, the inventor has developed a manufacturing method as shown in the following embodiments. First, a photoresist master 20 is prepared by uniformly forming a photoresist layer 20 by spin coating or the like over the main surface of a cleaned transparent disk 10 made of glass as a substrate for a mastering master. As shown in FIG. 1A, a latent image of a spot row corresponding to predetermined information is spirally or concentrically formed on the photoresist layer 20 by irradiating a blinking laser beam La in accordance with a predetermined signal to be recorded. Formed. The photoresist layer 20 is composed of a resin, a photosensitive agent, and a ballast compound, and the components will be described later in detail.
【0011】次に、露光したフォトレジスト原盤を現像
して、該原盤上に記録すべき信号に対応する微小凹部の
列を設け、図1(b)に示す如き、ピットを有するフォ
トレジスト層20(情報記録層)と透明基盤10とから
なる現像原盤を得る。次に、かかる現像原盤のフォトレ
ジスト層20を加熱、乾燥させ透明基板10上に定着
(ポストベーキング)させて、図1(c)に示す如き原
盤を得る。Next, the exposed photoresist master is developed to provide a row of minute concave portions corresponding to signals to be recorded on the master, and a photoresist layer 20 having pits as shown in FIG. (Development master) comprising (information recording layer) and transparent substrate 10 is obtained. Next, the photoresist layer 20 of the development master is heated and dried and fixed (post-baked) on the transparent substrate 10 to obtain a master as shown in FIG. 1 (c).
【0012】次に、図1(d)に示すように、紫外線を
フォトレジスト層20上から照射してフォトレジスト層
20における樹脂などの架橋を促進させ、情報記録面と
してフォトレジスト層を硬化さマスタリング原盤を得
る。次に、図1(e)に示すように、この微小凹部列の
情報記録面上に紫外線硬化型樹脂である2Pの流動体を
供給し塗布し、その後、紫外線を照射して2Pを情報記
録面の転写層40として硬化させる。この転写層40
は、適当なスタンパ保持基板に担持させるように図の上
部面にスタンパ保持基板(図示せず)を配し、現像原盤
とスタンパ保持基板との間に転写層40を形成しても良
い。Next, as shown in FIG. 1D, ultraviolet rays are irradiated from above the photoresist layer 20 to promote crosslinking of the resin and the like in the photoresist layer 20, and the photoresist layer is cured as an information recording surface. Obtain a mastering master. Next, as shown in FIG. 1 (e), a 2P fluid, which is an ultraviolet curable resin, is supplied and applied onto the information recording surface of the minute concave row, and thereafter, the 2P is recorded by irradiating ultraviolet rays. It is cured as the transfer layer 40 on the surface. This transfer layer 40
Alternatively, a stamper holding substrate (not shown) may be provided on the upper surface of the drawing so as to be carried on a suitable stamper holding substrate, and the transfer layer 40 may be formed between the development master and the stamper holding substrate.
【0013】次に、図1(f)に示すように、転写層4
0を現像原盤から剥離する。この転写層40は樹脂スタ
ンパとして形成される。本実施例の光ディスク製造方法
においては、ポストベーキング工程までは従来と同様で
ある。本実施例ではポストベーキング工程後にフォトレ
ジスト層20の架橋促進工程を設けたことを特徴とす
る。Next, as shown in FIG.
0 is peeled off from the development master. This transfer layer 40 is formed as a resin stamper. In the optical disk manufacturing method according to the present embodiment, the steps up to the post-baking step are the same as those in the related art. The present embodiment is characterized in that a crosslinking promoting step of the photoresist layer 20 is provided after the post-baking step.
【0014】すなわち、本実施例の1枚〜数枚の光ディ
スクを作製するにあたり、フォトレジスト層の架橋を進
行させることにより2P剤に対する耐性を向上させ、フ
ォトレジスト面にバリア層なしに2P転写することを実
現した。フォトレジスト層は以下の(1)〜(3)の成
分を有するものが好ましい。 (1) 樹脂成分(ベースポリマー):樹脂は下記化学
式1に示す主としてクレゾールノボラックが好ましい。[0014] That is, in fabricating a single to several optical disks of the present embodiment, to improve the resistance to 2P agent by proceeding the crosslinking of the photoresist layer, to 2P transfer without the barrier layer on the photoresist surface That was realized. The photoresist layer preferably has the following components (1) to (3). (1) Resin component (base polymer): The resin is preferably mainly cresol novolak represented by the following chemical formula 1.
【0015】[0015]
【化1】 Embedded image
【0016】(2)感光剤:感光剤は下記化学式2に示
す主として1,2ナフトキノンジアジド−5−スルホニ
ッククロライドと下記化学式3〜15で示すバラスト化
合物とエステルが好ましい。(2) Photosensitizer: The photosensitizer is preferably 1,2naphthoquinonediazide-5-sulfonic chloride represented by the following chemical formula 2, and ballast compounds and esters represented by the following chemical formulas 3 to 15.
【0017】[0017]
【化2】 Embedded image
【0018】(3) バラスト化合物:バラスト化合物
は下記化学式3〜15で示されるものが好ましく、配合
量はフォトレジスト全体の3〜9wt.%が好ましい。(3) Ballast compound: The ballast compound is preferably represented by the following chemical formulas 3 to 15, and the compounding amount is 3 to 9 wt. % Is preferred.
【0019】[0019]
【化3】 Embedded image
【0020】[0020]
【化4】 Embedded image
【0021】[0021]
【化5】 Embedded image
【0022】[0022]
【化6】 Embedded image
【0023】[0023]
【化7】 Embedded image
【0024】[0024]
【化8】 Embedded image
【0025】[0025]
【化9】 Embedded image
【0026】[0026]
【化10】 Embedded image
【0027】[0027]
【化11】 Embedded image
【0028】[0028]
【化12】 Embedded image
【0029】[0029]
【化13】 Embedded image
【0030】[0030]
【化14】 Embedded image
【0031】[0031]
【化15】 Embedded image
【0032】上記化学式2に示されるようなナフトキノ
ンアジド等のフォトレジストの感光剤の紫外線hνによ
る光反応は下記の化学式16に示されるように進む。The photoreaction of the photosensitizer of the photoresist such as naphthoquinone azide as shown in the above chemical formula 2 by the ultraviolet light hν proceeds as shown in the following chemical formula 16.
【0033】[0033]
【化16】 Embedded image
【0034】 ここで、架橋の進行という点から考える
と、架橋しやすいインデンケテンのまま、水のない状態
で、熱(ベーキング)又は光(紫外線)を与えると、イ
ンデンケテンによりベースポリマーが架橋され効率的で
ある。特に現在のポジ型フォトレジストのベースポリマ
ー主成分であるクレゾールノボラックの場合は架橋を進
行させることによって最終的には安定な熱硬化性のベー
クライト(クレゾールホルマリン樹脂)になる。バラス
ト化合物は、その−OH基に感光剤を付加してレジスト
中に大量の感光剤を導入出来、ベースポリマーとの架橋
度を上げることが出来る。Here, from the viewpoint of the progress of crosslinking, when heat (baking) or light (ultraviolet light) is applied to indene ketene that is easily cross-linked in the absence of water, the base polymer is cross-linked by the indene ketene, which is efficient It is. In particular, in the case of cresol novolac, which is the main component of the base polymer of the current positive photoresist, a stable thermosetting bakelite (cresol formalin resin) is finally obtained by promoting crosslinking. Ballast compound, its -OH group by adding a photosensitive agent can introduce a large amount of photosensitive agent in the resist, it is possible to increase the degree of crosslinking of the base polymer.
【0035】[0035]
【発明の効果】以上のように、本発明の光ディスク製造
方法によれば、光ディスク製造工程において正確な情報
記録面の転写を達成しつつ製造工程を簡略化出来、少量
多品種の映像音声ソフトに対応した少量の光ディスクの
製造に適する。As described above, according to the optical disk manufacturing method of the present invention, it is possible to simplify the manufacturing process while achieving accurate transfer of the information recording surface in the optical disk manufacturing process, and to realize a small amount of various kinds of video / audio software. Suitable for the production of corresponding small quantity optical discs.
【図1】本発明による光ディスクの製造方法の各工程に
おける部材の概略断面図である。FIG. 1 is a schematic sectional view of a member in each step of a method for manufacturing an optical disk according to the present invention.
【図2】従来の光ディスクの製造方法の各工程における
部材の概略断面図である。FIG. 2 is a schematic sectional view of a member in each step of a conventional optical disc manufacturing method.
10……透明基盤 20……フォトレジスト層 40……転写層 10 Transparent substrate 20 Photoresist layer 40 Transfer layer
フロントページの続き (72)発明者 尾越 国三 埼玉県入間郡鶴ヶ島町富士見6丁目1番 1号パイオニア株式会社 総合研究所内 (72)発明者 横関 伸一 埼玉県入間郡鶴ヶ島町富士見6丁目1番 1号パイオニア株式会社 総合研究所内 (56)参考文献 特開 昭57−66546(JP,A) 特開 昭63−113832(JP,A) 特開 昭63−197611(JP,A) 特開 平3−194742(JP,A) 特開 昭63−215040(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G11B 7/26 G11B 11/105 Continued on the front page (72) Kunizo Ogoshi, Inventor 6-11 1-1, Fujimi, Tsurugashima-cho, Iruma-gun, Saitama Prefecture (72) Inventor Shin-ichi Yokoseki 6-1-1, Fujimi, Tsuruga-machi, Iruma-gun, Saitama No. 1 Inside Pioneer Corporation Research Laboratory (56) References JP-A-57-6546 (JP, A) JP-A-63-113832 (JP, A) JP-A-63-197611 (JP, A) JP-A-3 -194742 (JP, A) JP-A-63-215040 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) G11B 7/26 G11B 11/105
Claims (1)
脂、感光剤及びバラスト化合物を含有するフォトレジス
ト層とからなる原盤上への集光レーザー光の照射によっ
て前記フォトレジストを露光する工程と、前記原盤を現
像し微小凹凸を前記フォトレジスト層の表面に形成する
現像工程と、前記フォトレジスト層を加熱して定着させ
るポストベーキング工程と、前記原盤の表面に紫外線を
照射する紫外線照射工程と、前記フォシレジスト層の表
面上に透明な紫外線硬化樹脂からなる転写層を形成する
転写工程とを含むことを特徴とする光ディスク製造方
法。1. A step of exposing a photoresist by irradiating a master laser comprising a transparent substrate and a photoresist layer formed on the transparent substrate and containing a resin, a photosensitive agent and a ballast compound with a focused laser beam. A developing step of developing the master to form fine irregularities on the surface of the photoresist layer; a post-baking step of heating and fixing the photoresist layer; and an ultraviolet irradiation step of irradiating the surface of the master with ultraviolet light And a transfer step of forming a transfer layer made of a transparent ultraviolet curable resin on the surface of the photoresist layer.
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