JP2001338444A - Method for manufacturing original disk, stamper and information recording medium - Google Patents
Method for manufacturing original disk, stamper and information recording mediumInfo
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Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスクや光磁
気ディスクなどの合成樹脂製の情報記録媒体を成形する
ための原盤及びスタンパの製造方法と、このスタンパを
用いた樹脂製情報記録媒体の製造方法とに関するもので
ある。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a master and a stamper for molding an information recording medium made of a synthetic resin such as an optical disk or a magneto-optical disk, and a method of manufacturing a resin information recording medium using the stamper. Method and.
【0002】[0002]
【従来の技術】光ディスクは再生専用と記録可能な記録
可能メディアに大別できる。記録可能メディアは更に、
一度だけ記録可能なメディア(ライトワンス)と書き換
え可能なメディアとに分類できる。現在広く普及してい
るCDやDVDにも各々再生専用と記録可能メディアが
存在する。再生専用CDとしては、いわゆるCDファミ
リーである、CDDA、CD−ROM、CD−ROMX
A、CDV、CD−I、CD−MIDIなどが挙げられ
る。CD系の記録可能メディアであり近年パソコンの外
部記憶メモリーとして急激に普及し始めたCD−R(C
D−Recordable)はライトワンスメディアで
あり、CD−RW(CD−Rewritable)は1
000回程度の書き換えが可能なメディアである。DV
Dでは、再生専用メディアとしてはDVD−ROMが、
ライトワンスメディアとしてはDVD−Rが、書き換え
可能メディアとしてはDVD−RWやDVD−RAMな
どが製品化されている。2. Description of the Related Art Optical disks can be broadly classified into read-only and recordable media. Recordable media further
Media can be classified into write-once media and write-once media. At present, CDs and DVDs, which are widely used, also have read-only and recordable media. As a read-only CD, CDDA, CD-ROM, CD-ROMX which are so-called CD families are used.
A, CDV, CD-I, CD-MIDI and the like. CD-R (C), which is a recordable medium of the CD system and has rapidly spread in recent years as an external storage memory for personal computers
D-Recordable is a write-once medium, and CD-RW (CD-rewritable) is 1
It is a medium that can be rewritten about 000 times. DV
In D, DVD-ROM is a read-only medium,
DVD-R has been commercialized as a write-once medium, and DVD-RW and DVD-RAM have been commercialized as rewritable media.
【0003】このディスクを製造するには、凹凸ピット
列やグルーブが形成された原盤を製造し、この原盤から
スタンパを製造する。そして、このスタンパから、通常
は射出成形により凹凸を転写した透光性ポリカーボネー
ト製等の基板を製造し、さらにこのピットやグルーブを
形成した面に各種ディスクに応じた層を形成する。例え
ば、CD−ROMディスクでは基板にスパッタリング等
の方法で貴金属やAl合金等の金属膜からなる反射層を
形成し、さらにこの上に光硬化型樹脂からなる保護層を
形成する。[0003] In order to manufacture this disk, a master on which concave and convex pit rows and grooves are formed is manufactured, and a stamper is manufactured from the master. Then, from this stamper, a substrate made of a light-transmitting polycarbonate or the like to which irregularities have been transferred usually by injection molding is manufactured, and a layer corresponding to various disks is formed on the surface on which the pits and grooves are formed. For example, in the case of a CD-ROM disk, a reflective layer made of a metal film such as a noble metal or an Al alloy is formed on a substrate by a method such as sputtering, and a protective layer made of a photocurable resin is further formed thereon.
【0004】また、CD−RWディスクやDVD−RW
ディスクでは、通常、第一保護層(誘電体層)/記録層
/第二保護層(誘電体層)/反射層をこの順にスパッタ
リング法等により基板上に形成し、さらにこの上に光硬
化型樹脂からなる保護層を形成し、必要に応じて他の基
板と貼合せる。[0004] Also, CD-RW discs and DVD-RW
In a disk, a first protective layer (dielectric layer) / recording layer / second protective layer (dielectric layer) / reflective layer is generally formed on a substrate in this order by a sputtering method or the like, and a photo-curing type is further formed thereon. A protective layer made of a resin is formed and bonded to another substrate as needed.
【0005】図3〜は従来の原盤及びスタンパの製
造方法を示す模式的な説明図である。FIG. 3 is a schematic explanatory view showing a conventional method of manufacturing a master and a stamper.
【0006】表面を研磨したガラス盤1の表面にプライ
マーを塗布した後、ポジ型フォトレジストを塗布してフ
ォトレジスト層2を形成する()。このフォトレジス
ト層2をピット又は溝等の凹部の配列パターンに従って
レーザー露光する()。符号4はレーザー3が照射さ
れた部分を示す。After a primer is applied to the surface of the glass disk 1 whose surface has been polished, a positive type photoresist is applied to form a photoresist layer 2 (). The photoresist layer 2 is laser-exposed according to an arrangement pattern of concave portions such as pits or grooves (). Reference numeral 4 indicates a portion irradiated with the laser 3.
【0007】次いで、アルカリ性現像液によって現像す
る()。レーザー露光された部分4は現像液に対し可
溶化しており、現像液によってエッチングされ、凹部5
が形成される。次いで、加熱硬化処理(ベーク)してフ
ォトレジスト層2を硬化させ、原盤6となる()。Next, development is performed with an alkaline developer (). The laser-exposed portion 4 is solubilized in a developing solution, etched by the developing solution, and
Is formed. Next, the photoresist layer 2 is cured by a heat curing treatment (baking) to form a master 6 ().
【0008】この原盤6に対しNi(ニッケル)をスパ
ッタリング(符号7はスパッタ層を示す。)して表面を
導体化した後()、Niメッキ(例えば電解メッキ)
し、例えば厚さ300μm程度のメッキ層8を形成する
()。次いで、スパッタ層7及びメッキ層8と原盤6
とを分離し、所定の大きさに打ち抜いてスタンパ9を得
る。分離した後の原盤6は、再利用工程に送られる。The master 6 is sputtered with Ni (nickel) (symbol 7 denotes a sputtered layer) to make the surface conductive (), and then Ni plating (for example, electrolytic plating)
Then, for example, a plating layer 8 having a thickness of about 300 μm is formed (). Next, the sputtering layer 7 and the plating layer 8 and the master 6
And a stamper 9 is obtained by punching into a predetermined size. The master 6 after separation is sent to a reuse process.
【0009】図示はしないが、このスタンパ9を射出成
形用の金型にセットし、ポリカーボネート等を射出して
情報記録媒体(ディスク)用基板を成形する。Although not shown, the stamper 9 is set in a mold for injection molding, and polycarbonate or the like is injected to mold a substrate for an information recording medium (disk).
【0010】ところで、近年、1つの基板上に比較的浅
い凹部と比較的深い凹部との双方を形成することが検討
されている。In recent years, it has been studied to form both a relatively shallow concave portion and a relatively deep concave portion on one substrate.
【0011】図4はそのような情報記録媒体の一例を示
す平面図、図5はその表面部分の断面を著しく拡大した
斜視図である。FIG. 4 is a plan view showing an example of such an information recording medium, and FIG. 5 is a perspective view in which the cross section of the surface portion is significantly enlarged.
【0012】この情報記録媒体10にあっては、内周縁
に近い部分に幅約80μmのピットエリア11が設定さ
れており、このピットエリア11よりも内周側と外周側
にそれぞれグルーブエリア12,13が設定されてい
る。In the information recording medium 10, a pit area 11 having a width of about 80 μm is set in a portion close to the inner peripheral edge, and the groove area 12, the inner peripheral side and the outer peripheral side of the pit area 11, respectively. 13 is set.
【0013】図5は、内周側のグルーブエリア12と該
ピットエリア11との境界付近の表面部分を示してい
る。14はグルーブ、15はピットを示す。FIG. 5 shows a surface portion near a boundary between the groove area 12 on the inner peripheral side and the pit area 11. 14 indicates a groove, and 15 indicates a pit.
【0014】このような深浅2種類(又はそれ以上)の
凹部を有した情報記録媒体を製造するには、同じく深浅
複数種類の凹部を有した原盤が必要である。In order to manufacture such an information recording medium having two types (or more) of concave portions, a master having the same plural types of concave portions is required.
【0015】このような原盤の製造方法として、図6に
示すように、ガラス盤1の上にフォトレジスト2を塗布
し、次いで強いレーザー光を照射して原盤1に対する深
い露光部4aを形成すると共に、弱いレーザー光を照射
して浅い露光部4bを形成し、次いで現像して深い凹部
5aと浅い凹部5bとを形成することが考えられるが、
このようにすると、フォトレジスト層2の途中で止まる
浅い凹部5bの底面が弧状ないし略V字状に湾曲又は屈
曲した非平坦なものとなってしまう。このような非平坦
な底面の凹部にあっては例えば次のような短所がある。As a method of manufacturing such a master, as shown in FIG. 6, a photoresist 2 is applied on a glass disk 1 and then irradiated with a strong laser beam to form a deep exposed portion 4a on the master 1. At the same time, it is conceivable that a shallow exposure portion 4b is formed by irradiating a weak laser beam, and then developed to form a deep recess 5a and a shallow recess 5b.
In this case, the bottom surface of the shallow concave portion 5b that stops in the middle of the photoresist layer 2 becomes a non-flat surface that is curved or bent in an arc shape or a substantially V shape. Such a concave portion having a non-flat bottom has the following disadvantages, for example.
【0016】即ち、非平坦な底面を持つグルーブ上へ信
号を記録した際の再生ノイズは、一般に平坦な底面を持
つグルーブ上へ記録した際のそれに対して高くなるた
め、再生信号のジッターが高くなり、特に繰り返し記録
耐久性への悪影響が懸念される。さらに弱いレーザー光
で露光した場合、グルーブ形状が光量ぶれに対して敏感
になるため、グルーブ形状の均一性も、非平坦な底を持
つグルーブにおいて顕著に悪化する。That is, the reproduction noise when a signal is recorded on a groove having a non-flat bottom surface is generally higher than that when a signal is recorded on a groove having a flat bottom surface. In particular, there is a concern that repeated recording durability may be adversely affected. When exposure is performed with a weaker laser beam, the groove shape becomes more sensitive to fluctuations in light quantity, so that the uniformity of the groove shape is significantly deteriorated in a groove having a non-flat bottom.
【0017】[0017]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
浅い凹部であっても、底面が平坦である原盤の製造方法
と、この原盤を用いたスタンパの製造方法と、このスタ
ンパを用いた情報記録媒体の製造方法を提供することを
目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a method for manufacturing a master having a flat bottom surface even with such a shallow recess, a method for manufacturing a stamper using the master, and a method using the stamper. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing an information recording medium.
【0018】[0018]
【課題を解決するための手段】本発明(請求項1)の原
盤の製造方法は、原盤本体の盤面にフォトレジストを塗
布し、パターンに従った露光を施し、次いで現像するこ
とにより、凹部を有したフォトレジスト硬化層を形成す
るようにした情報記録媒体製造用原盤を製造する方法に
おいて、該原盤本体上の第1の領域のフォトレジスト硬
化層には、深い凹部が形成され、該原盤上の第2の領域
にはフォトレジスト硬化層の厚さ方向の途中にまで達す
る浅い凹部が形成されている原盤を製造する方法であっ
て、該原盤本体上の該第1及び第2の領域にポジ型フォ
トレジストを塗布して第1フォトレジスト層を形成する
工程と、該第1フォトレジスト層のうち、該第1の領域
の全体を露光する工程と、該第1フォトレジスト層を難
溶化処理する工程と、該第1フォトレジスト層の上にポ
ジ型フォトレジストを塗布して第2フォトレジスト層を
形成する工程と、該第1及び第2の領域の第2フォトレ
ジスト層をパターンに従って露光する工程と、該第2フ
ォトレジスト層を加熱硬化する工程と、該第1及び第2
フォトレジスト層を現像する工程と、をこの順で実行す
ることを特徴とするものである。According to a first aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a master, wherein a photoresist is applied to a surface of a master body, exposed according to a pattern, and then developed to form a concave portion. In a method for manufacturing a master for manufacturing an information recording medium, wherein a hardened photoresist layer is formed, a deep recess is formed in a hardened photoresist layer in a first region on the master body, A method for manufacturing a master in which a shallow recess reaching halfway in the thickness direction of the photoresist hardened layer is formed in the second region, wherein the first and second regions on the master body are Forming a first photoresist layer by applying a positive photoresist, exposing the entire first region of the first photoresist layer, and rendering the first photoresist layer hardly soluble Process of processing Applying a positive photoresist on the first photoresist layer to form a second photoresist layer, and exposing the second photoresist layer in the first and second regions according to a pattern; Heat curing the second photoresist layer; and curing the first and second photoresist layers.
And developing the photoresist layer in this order.
【0019】なお、第1フォトレジスト層の難溶化処理
とは、第2フォトレジスト層塗布時に、レジスト溶媒に
第1フォトレジスト層が溶けないよう硬化させる処理を
言う。The treatment for making the first photoresist layer hardly soluble refers to a treatment for curing the first photoresist layer so that the first photoresist layer is not dissolved in the resist solvent when the second photoresist layer is applied.
【0020】また、第1の領域とは、例えば図4に示す
情報記録媒体のピットエリア11のように、深い凹部を
形成すべき領域であり、また、第2の領域とは、グルー
ブエリア12,13のように浅い凹部を形成すべき領域
である。The first area is an area in which a deep concave portion is to be formed, for example, like the pit area 11 of the information recording medium shown in FIG. , 13 are regions where shallow concave portions are to be formed.
【0021】本発明(請求項2)においては、第1フォ
トレジスト層の露光後、第1フォトレジスト層を現像し
た後、難溶化処理を行っても良い。In the present invention (claim 2), after the exposure of the first photoresist layer, the first photoresist layer is developed, and then the insolubilization treatment may be performed.
【0022】この原盤の製造方法によると、第1フォト
レジスト層のうち第1の領域の部分は、露光により可溶
化しているので、現像処理に際しその上の第2フォトレ
ジスト層の露光部分と共にエッチングされる。これによ
り、第1の領域には深い凹部が形成される。好ましくは
この深い凹部は原盤本体に達しその底面は、原盤本体の
盤面に沿う平坦面である。According to the method of manufacturing the master, since the portion of the first region of the first photoresist layer is solubilized by exposure, it is exposed together with the exposed portion of the second photoresist layer thereon during the development process. Etched. Thereby, a deep recess is formed in the first region. Preferably, the deep recess reaches the master body and its bottom surface is a flat surface along the surface of the master body.
【0023】一方、第2の領域にあっては、第1フォト
レジスト層が難溶化処理されているため、第2フォトレ
ジスト層の露光時に第1フォトレジスト層も露光された
としても第1フォトレジスト層は可溶化しない。このた
め、第2フォトレジスト層の底面(即ち、第1フォトレ
ジスト層の上面)にまで達する強い光で第2フォトレジ
スト層を露光することにより、底面が平坦となった浅い
凹部を形成することができる。On the other hand, in the second region, since the first photoresist layer has been subjected to the insolubilization treatment, even if the first photoresist layer is also exposed when the second photoresist layer is exposed, the first photoresist layer is exposed. The resist layer does not solubilize. Therefore, by exposing the second photoresist layer with strong light reaching the bottom surface of the second photoresist layer (that is, the top surface of the first photoresist layer), a shallow concave portion having a flat bottom surface is formed. Can be.
【0024】本発明(請求項2)の原盤の製造方法は、
原盤本体の盤面にフォトレジストを塗布し、パターンに
従った露光を施し、次いで現像することにより、凹部を
有したフォトレジスト硬化層を形成するようにした情報
記録媒体製造用原盤を製造する方法において、該フォト
レジスト硬化層には、深い凹部と、該フォトレジスト硬
化層の厚さ方向の途中にまで達する浅い凹部が形成され
ている原盤を製造する方法であって、該原盤本体上にポ
ジ型フォトレジストを塗布して第1フォトレジスト層を
形成する工程と、該第1フォトレジスト層を前記深い凹
部のパターンに従って露光する工程と、該第1フォトレ
ジスト層を難溶化処理する工程と、該第1フォトレジス
ト層の上にポジ型フォトレジストを塗布して第2フォト
レジスト層を形成する工程と、該前記深い凹部及び浅い
凹部のパターンに従って第2フォトレジスト層を露光す
る工程と、該第2フォトレジスト層を加熱硬化する工程
と、該第1及び第2フォトレジスト層を現像する工程
と、をこの順で実行することを特徴とするものである。The method of manufacturing a master according to the present invention (claim 2)
A method of manufacturing a master for information recording medium manufacturing in which a photoresist is applied to the surface of the master body, exposed according to a pattern, and then developed to form a photoresist hardened layer having concave portions. A method of manufacturing a master in which a deep concave portion and a shallow concave portion reaching halfway in the thickness direction of the photoresist hardened layer are formed in the photoresist hardened layer; Applying a photoresist to form a first photoresist layer, exposing the first photoresist layer according to the pattern of the deep recesses, and insolubilizing the first photoresist layer; Applying a positive photoresist on the first photoresist layer to form a second photoresist layer; Exposing the second photoresist layer, heating and curing the second photoresist layer, and developing the first and second photoresist layers in this order. It is assumed that.
【0025】なお、第1フォトレジスト層の難溶化処理
とは、第2フォトレジスト層塗布時に、レジスト溶媒に
第1フォトレジスト層が溶けないよう硬化させる処理を
言う。The insolubilization treatment of the first photoresist layer means a treatment for curing the first photoresist layer so that the first photoresist layer does not dissolve in the resist solvent when the second photoresist layer is applied.
【0026】また、第1の領域とは、例えば図4に示す
情報記録媒体のピットエリア11のように、深い凹部を
形成すべき領域であり、また、第2の領域とは、グルー
ブエリア12,13のように浅い凹部を形成すべき領域
である。The first area is an area in which a deep recess is to be formed, for example, like the pit area 11 of the information recording medium shown in FIG. 4, and the second area is the groove area 12. , 13 are regions where shallow concave portions are to be formed.
【0027】本発明(請求項2)においては、第1フォ
トレジスト層の露光後、第1フォトレジスト層を現像し
た後、難溶化処理を行っても良い。In the present invention (claim 2), after the exposure of the first photoresist layer, the first photoresist layer is developed, and then the insolubilization treatment may be performed.
【0028】この原盤の製造方法にあっては、深い凹部
は第1のフォトレジスト層及び第2のフォトレジスト層
の同一箇所をそれぞれ露光することにより形成される。
この深い凹部は、好ましくは原盤本体に達しており、そ
の底面は平坦である。In the method of manufacturing the master, the deep recesses are formed by exposing the same portions of the first and second photoresist layers respectively.
This deep recess preferably reaches the master body, and its bottom surface is flat.
【0029】浅い凹部については、第2フォトレジスト
層のみをエッチングして形成されたものであるが、上記
請求項1の方法と同様に第1フォトレジスト層は可溶化
しないので、十分な光量にて露光し、平坦な底面を形成
することができる。Although the shallow recess is formed by etching only the second photoresist layer, the first photoresist layer is not solubilized as in the method of the first aspect, so that a sufficient light amount can be obtained. To form a flat bottom surface.
【0030】[0030]
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態について説明する。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【0031】図1は請求項1の発明の実施の形態に係る
原盤の製造方法を示す模式的な厚み方向の断面図であ
る。FIG. 1 is a schematic sectional view in the thickness direction showing a method of manufacturing a master according to an embodiment of the present invention.
【0032】原盤本体としてのガラス盤1の上面に、ま
ずプライマーを塗布した後、下層(第1フォトレジスト
層)21を塗布する()。次いで、この下層の所定領
域を露光する。図1の符号31はこの露光領域(第1
の領域)を示す。次に、この下層21を加熱硬化させる
ためにベークする()。First, a primer is applied to the upper surface of the glass disk 1 as the master body, and then a lower layer (first photoresist layer) 21 is applied (). Next, a predetermined region of this lower layer is exposed. The reference numeral 31 in FIG.
Area). Next, the lower layer 21 is baked to be cured by heating ().
【0033】次いで、この下層21の上に上層(第2フ
ォトレジスト層)22を塗布する()。次いで、前記
露光領域(第1の領域)31の上方と、それ以外の第2
の領域において露光を行う。図1の符号32はこの2
度目の露光領域を示す。Next, an upper layer (second photoresist layer) 22 is applied on the lower layer 21 (). Next, the upper part of the exposure area (first area) 31 and the second
Exposure is performed in the region of. Reference numeral 32 in FIG.
The second exposure area is shown.
【0034】次いで、図1の通り現像を行う。これに
より、露光領域32が除去されて浅い凹部42が形成さ
れると共に、前記露光領域31にあっては、露光領域3
2の下側の露光領域31も除去されて深い凹部41が形
成される。Next, development is performed as shown in FIG. As a result, the exposed region 32 is removed to form a shallow concave portion 42, and in the exposed region 31, the exposed region 3
2 is also removed to form a deep recess 41.
【0035】その後、図1の通り上層22も硬化させ
るようにベークを施すことにより、ガラス盤1の上にフ
ォトレジスト硬化層20を有し、このフォトレジスト硬
化層20に深い凹部41と浅い凹部42とが形成された
原盤が製造される。Then, as shown in FIG. 1, the upper layer 22 is baked so as to be hardened, so that a hardened photoresist layer 20 is formed on the glass disk 1, and the hardened photoresist layer 20 has a deep recess 41 and a shallow recess. Then, a master on which the reference numeral 42 is formed is manufactured.
【0036】この製造方法によって得られた原盤にあっ
ては、深い凹部41はガラス盤1に達しており、その底
面は平坦であり、その断面形状はほぼ矩形形状のものが
得られる。また、浅い凹部42の底面も、既に硬化した
下層21の上面に沿うものであり、平坦である。従っ
て、浅い凹部42もほぼ矩形形状の断面形状を有する。In the master disk obtained by this manufacturing method, the deep concave portion 41 reaches the glass disk 1, its bottom surface is flat, and its cross-sectional shape is substantially rectangular. Also, the bottom surface of the shallow concave portion 42 is along the upper surface of the already cured lower layer 21 and is flat. Therefore, the shallow recess 42 also has a substantially rectangular cross-sectional shape.
【0037】本発明においては、浅い凹部は情報を記録
するためのグルーブとして用いられるものであり、底面
が平坦でノイズが少ないものである必要がある。深い凹
部は、ピット列として用いられるものであり、その再生
原理の違いから、グルーブに比べて底面が平坦である必
要性は低いが、好ましくはガラス盤に達する深さで底面
が平坦である。In the present invention, the shallow concave portion is used as a groove for recording information, and it is necessary that the bottom surface is flat and the noise is small. The deep concave portion is used as a pit row, and it is not necessary that the bottom surface is flat compared to the groove due to the difference in the reproduction principle. However, the bottom surface is preferably flat at a depth reaching the glass disk.
【0038】図2は請求項2の発明の実施の形態を示す
模式的な厚み方向の断面図である。この実施の形態にあ
っても、原盤本体としてのガラス盤1の上面に第1フォ
トレジスト層としての下層21を塗布し()、次いで
下層21に露光を施す()。図2のの符号50はこ
の第1回目の露光領域を示す。FIG. 2 is a schematic sectional view in the thickness direction showing an embodiment of the present invention. Also in this embodiment, the lower layer 21 as the first photoresist layer is applied to the upper surface of the glass disk 1 as the master body (), and then the lower layer 21 is exposed (). Reference numeral 50 in FIG. 2 indicates the first exposure area.
【0039】次いで、図2の通り、この下層21を現
像することにより、凹部51を形成する。次いで、この
下層21を加熱硬化させるようにベークする()。Next, as shown in FIG. 2, the lower layer 21 is developed to form a concave portion 51. Next, the lower layer 21 is baked so as to be cured by heating ().
【0040】次いで、図2の通り、この下層21の上
に第2フォトレジスト層としての上層22を塗布する。
次に、図2の通り、この上層22に露光を施す。この
場合、前記凹部51の真上部分と、それ以外の領域と
に、パターンに従って露光を施す。符号52はこの露光
領域を示す。次に、この上層22を現像する。これによ
り、前記凹部51の部分においては、深い凹部61が形
成され、その他の領域にあっては露光52が施された部
分に浅い凹部62が形成される。Next, as shown in FIG. 2, an upper layer 22 as a second photoresist layer is applied on the lower layer 21.
Next, as shown in FIG. 2, the upper layer 22 is exposed. In this case, the portion directly above the concave portion 51 and the other region are exposed according to the pattern. Reference numeral 52 indicates this exposure area. Next, the upper layer 22 is developed. As a result, a deep concave portion 61 is formed in the portion of the concave portion 51, and a shallow concave portion 62 is formed in a portion where the exposure 52 has been performed in other regions.
【0041】然る後、図2の通り、この上層22を加
熱硬化させるようにベークしてフォトレジスト硬化層2
0とする。これにより、深い凹部61と浅い凹部62と
を備えた原盤が製造される。Thereafter, as shown in FIG. 2, the upper layer 22 is baked so as to be cured by heating, and the photoresist cured layer 2 is baked.
Set to 0. As a result, a master including the deep concave portion 61 and the shallow concave portion 62 is manufactured.
【0042】この原盤にあっても、深い凹部61は、ガ
ラス盤1に達しているものであり、その底面は平坦であ
り、断面形状は略矩形形状のものが得られる。浅い凹部
62の底面は、加熱硬化された下層21の上面に沿うも
のであり、やはり平坦であり、この浅い凹部62も略矩
形形状の断面形状のものとなる。Even in this master, the deep concave portion 61 reaches the glass disk 1, and its bottom surface is flat, and a cross-sectional shape substantially rectangular is obtained. The bottom surface of the shallow concave portion 62 is along the upper surface of the heat-cured lower layer 21 and is also flat, and the shallow concave portion 62 also has a substantially rectangular cross-sectional shape.
【0043】図1、図2のようにして得られた原盤は、
その後、前記の図3のように導体化処理が施された
後、メッキされる。このスパッタ層及びメッキ層を分離
した後所定大きさに打ち抜くことによりスタンパが得ら
れる。The master obtained as shown in FIG. 1 and FIG.
Thereafter, as shown in FIG. 3 described above, a conductive treatment is performed, and then plating is performed. A stamper can be obtained by separating the sputtered layer and the plated layer and then punching out the predetermined size.
【0044】このスタンパを射出成形装置の金型にセッ
トし、射出成形することにより、合成樹脂製の情報記録
媒体(ディスク)用基板が得られる。By setting the stamper in a mold of an injection molding apparatus and performing injection molding, a substrate for an information recording medium (disk) made of synthetic resin is obtained.
【0045】[0045]
【実施例】実施例1(請求項1の方法) 図1に示す通り、直径200mm、厚さ6mmのガラ
ス盤1の上にプライマー処理を施した後、下層をノボラ
ック樹脂系ポジ型フォトレジスト(三菱化学株式会社
製、MCPR2000H)を用いて、膜厚580Åにて
形成した。EXAMPLE 1 (Method of Claim 1) As shown in FIG. 1, after a primer treatment is performed on a glass disk 1 having a diameter of 200 mm and a thickness of 6 mm, the lower layer is made of a novolak resin-based positive photoresist ( It was formed with a film thickness of 580 ° using Mitsubishi Chemical Corporation, MCPR2000H).
【0046】次に、図1の通り、領域31に露光を施
した。露光波長は413mm、ビーム径は0.6μmで
ある。ビームを0.5μmピッチで径方向にシフトさせ
ることにより、幅80μmにわたって露光した。Next, as shown in FIG. 1, the region 31 was exposed. The exposure wavelength is 413 mm and the beam diameter is 0.6 μm. The beam was exposed over a width of 80 μm by shifting the beam radially at a 0.5 μm pitch.
【0047】この露光領域は、ディスクの周方向に延在
するものであり、ディスクの径方向の幅は上記の通り8
0μmである。This exposure area extends in the circumferential direction of the disk, and the radial width of the disk is 8 as described above.
0 μm.
【0048】次に、ホットプレートを用い、160℃に
10分加熱し、フォトレジストを加熱硬化した。Next, the photoresist was heated to 160 ° C. for 10 minutes using a hot plate, and the photoresist was cured by heating.
【0049】次に、図1の通り、上記と同じフォトレ
ジストを用い、700Å厚さにて上層22を塗布した。
この場合、プライマー処理は施さなかった。次いで、図
1の通り、上層22に露光した後、図1の現像を行
った。Next, as shown in FIG. 1, an upper layer 22 was applied to a thickness of 700 ° using the same photoresist as described above.
In this case, no primer treatment was performed. Next, as shown in FIG. 1, after exposing the upper layer 22, the development of FIG. 1 was performed.
【0050】この露光の光源及び強度は下層と同じであ
り、ビーム径も0.6μmである。The light source and intensity of this exposure are the same as those of the lower layer, and the beam diameter is 0.6 μm.
【0051】この現像液はアルカリ現像液(シプレー社
製、シプレーマイクロポジットデベロッパ)であり、2
00rpmで回転させた原盤の露光部に対し真上から供
給した。給液量は0.52L/min、現像時間は26
秒とした。This developer is an alkaline developer (Chipley Microposit Developer, Shipley).
It was supplied from directly above the exposed portion of the master rotated at 00 rpm. The supply amount is 0.52 L / min and the development time is 26
Seconds.
【0052】その後、図1の加熱硬化(ポストベー
ク)を施した。このときの処理状況は、80℃で2分予
備加熱を行った後、更に10分この温度に保持するとい
うものである。Thereafter, heat curing (post-baking) shown in FIG. 1 was performed. The processing status at this time is that after preheating at 80 ° C. for 2 minutes, the temperature is further maintained at this temperature for 10 minutes.
【0053】これにより、深い凹部41として深さ90
0Åの溝が形成され、浅い凹部42として、深さ700
Åの溝が形成された。溝幅はいずれも0.4μmであっ
た。As a result, the deep recess 41 has a depth of 90
A groove of 0 ° is formed, and a depth of 700
溝 grooves were formed. Each groove width was 0.4 μm.
【0054】実施例2(請求項2の方法) 実施例1と同じガラス盤の上に同じフォトレジストを用
いて下層21を塗布した。この塗布厚みは400Åであ
る。次に、図2の通り、下層21に露光を行った。こ
の露光領域50は、ガラス盤1の周方向に延在するもの
である。露光の光源及び強度は上記と同一であり、ビー
ム径も0.6μmである。Example 2 (Method of Claim 2) A lower layer 21 was applied on the same glass disk as in Example 1 using the same photoresist. This coating thickness is 400 °. Next, as shown in FIG. 2, the lower layer 21 was exposed. The exposure area 50 extends in the circumferential direction of the glass disk 1. The light source and intensity of the exposure are the same as described above, and the beam diameter is 0.6 μm.
【0055】次に、図2の通り、下層21の現像を行
った。Next, as shown in FIG. 2, the lower layer 21 was developed.
【0056】この現像液は上記と同じ現像液であり、ス
ピン法により下層の上に均一に塗布し、約30秒現像を
行った。This developing solution was the same as the above-mentioned developing solution, and was uniformly applied on the lower layer by a spin method and developed for about 30 seconds.
【0057】次いで、図2の通り、下層を加熱硬化す
るようにベークした。ベーク条件は160℃で約20分
である。加熱にはホットプレートを使用した。Next, as shown in FIG. 2, the lower layer was baked so as to be cured by heating. Baking conditions are 160 ° C. for about 20 minutes. A hot plate was used for heating.
【0058】次に、図2の通り、上記と同じフォトレ
ジストを用い、400Å厚さにて上層22を塗布した。
この塗布にはスピンコート法を採用した。下層の上には
プライマー塗布は行わなかった。Next, as shown in FIG. 2, an upper layer 22 was applied to a thickness of 400 ° using the same photoresist as above.
For this coating, a spin coating method was employed. No primer was applied over the lower layer.
【0059】次いで、図2の通り、上層に露光を施し
た。この際、図示の通り、第1回目の現像により生じた
凹部の真上に、正確に同じ幅で露光を行うと共に、更に
他の領域にも露光を施した。露光条件は上記と同じであ
る。Next, as shown in FIG. 2, the upper layer was exposed. At this time, as shown in the figure, exposure was performed with exactly the same width immediately above the concave portion generated by the first development, and further exposure was performed on other regions. Exposure conditions are the same as above.
【0060】次に、下層と同じ現像条件にて現像を行っ
た。Next, development was performed under the same developing conditions as the lower layer.
【0061】この結果、深さ630Åの深い凹部61と
しての溝と、深さ380Åの浅い凹部62としての溝が
形成された原盤が得られた。溝幅はいずれも0.4μm
である。As a result, a master having a groove as the deep concave portion 61 having a depth of 630 ° and a groove as the shallow concave portion 62 having a depth of 380 ° was obtained. Groove width is 0.4 μm
It is.
【0062】[0062]
【発明の効果】以上の通り、本発明によると、深さの異
なる原盤を製造するに際し、これらの凹部の底面をいず
れも平坦なものとすることができ、凹部の断面形状を略
矩形にすることができる。As described above, according to the present invention, when manufacturing masters having different depths, the bottom surfaces of these concave portions can be made flat, and the cross-sectional shape of the concave portions is made substantially rectangular. be able to.
【0063】本発明によると、この原盤を用いてスタン
パを製造し、さらにこのスタンパを用いて情報記録媒体
を効率良く製造することができる。According to the present invention, a stamper can be manufactured by using the master, and an information recording medium can be efficiently manufactured by using the stamper.
【図1】本発明の実施の形態を示す模式的な厚み方向の
断面図である。FIG. 1 is a schematic sectional view in a thickness direction showing an embodiment of the present invention.
【図2】別の実施の形態を示す図1と同様の断面図であ
る。FIG. 2 is a cross-sectional view similar to FIG. 1, showing another embodiment.
【図3】従来例に係る方法を説明する断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating a method according to a conventional example.
【図4】情報記録媒体の一例を示す平面図である。FIG. 4 is a plan view showing an example of an information recording medium.
【図5】図4の表面の一部を著しく拡大して示す断面斜
視図である。5 is a cross-sectional perspective view showing a part of the surface of FIG. 4 in a greatly enlarged manner.
【図6】原盤の製造方法の従来例を説明する断面図であ
る。FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating a conventional example of a method for manufacturing a master.
1 ガラス盤 21 下層(第1フォトレジスト層) 22 上層(第2フォトレジスト層) 31,32 露光領域 41 深い凹部 42 浅い凹部 50,52 露光領域 51 凹部 61 深い凹部 62 浅い凹部 Reference Signs List 1 glass disc 21 lower layer (first photoresist layer) 22 upper layer (second photoresist layer) 31, 32 exposure area 41 deep depression 42 shallow depression 50, 52 exposure area 51 depression 61 deep depression 62 shallow depression
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 長井 忠一 神奈川県横浜市青葉区鴨志田町1000番地 三菱化学株式会社横浜総合研究所内 (72)発明者 近藤 城二 神奈川県横浜市青葉区鴨志田町1000番地 三菱化学株式会社横浜総合研究所内 Fターム(参考) 5D121 AA09 BB23 BB31 CB06 CB07 GG01 GG07 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Chuichi Nagai 1000 Kamoshitacho, Aoba-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Prefecture Inside Mitsubishi Chemical Research Institute Yokohama Research Laboratory (72) Inventor Joji Kondo 1000 Kamoshita-cho, Aoba-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Mitsubishi Chemical Corporation Yokohama Research Laboratory F-term (reference) 5D121 AA09 BB23 BB31 CB06 CB07 GG01 GG07
Claims (8)
し、パターンに従った露光を施し、次いで現像すること
により、凹部を有したフォトレジスト硬化層を形成する
ようにした情報記録媒体製造用原盤を製造する方法にお
いて、 該原盤本体上の第1の領域のフォトレジスト硬化層に
は、深い凹部が形成され、該原盤上の第2の領域にはフ
ォトレジスト硬化層の厚さ方向の途中にまで達する浅い
凹部が形成されている原盤を製造する方法であって、 該原盤本体上の該第1及び第2の領域にポジ型フォトレ
ジストを塗布して第1フォトレジスト層を形成する工程
と、 該第1フォトレジスト層のうち、該第1の領域の全体を
露光する工程と、 該第1フォトレジスト層を難溶化処理する工程と、 該第1フォトレジスト層の上にポジ型フォトレジストを
塗布して第2フォトレジスト層を形成する工程と、 該第1及び第2の領域の第2フォトレジスト層をパター
ンに従って露光する工程と、 該第2フォトレジスト層を加熱硬化する工程と、 該第1及び第2フォトレジスト層を現像する工程と、を
この順で実行することを特徴とする情報記録媒体用原盤
の製造方法。1. A master for manufacturing an information recording medium, wherein a photoresist is applied to the surface of a master body, exposed according to a pattern, and then developed to form a hardened photoresist layer having concave portions. In the method of manufacturing, a deep concave portion is formed in the photoresist cured layer in the first region on the master body, and the second region on the master is formed in the middle of the photoresist cured layer in the thickness direction. Forming a first photoresist layer by applying a positive photoresist to the first and second regions on the master body; and forming a first photoresist layer on the master body. Exposing the entire first region of the first photoresist layer; insolubilizing the first photoresist layer; and forming a positive photoresist on the first photoresist layer. Applying a second photoresist layer to form a second photoresist layer, exposing the second photoresist layer in the first and second regions according to a pattern, and heating and curing the second photoresist layer; And a step of developing the first and second photoresist layers in this order.
し、パターンに従った露光を施し、次いで現像すること
により、凹部を有したフォトレジスト硬化層を形成する
ようにした情報記録媒体製造用原盤を製造する方法にお
いて、 該フォトレジスト硬化層には、深い凹部と、該フォトレ
ジスト硬化層の厚さ方向の途中にまで達する浅い凹部が
形成されている原盤を製造する方法であって、 該原盤本体上にポジ型フォトレジストを塗布して第1フ
ォトレジスト層を形成する工程と、 該第1フォトレジスト層を前記深い凹部のパターンに従
って露光する工程と、 該第1フォトレジスト層を難溶化処理する工程と、 該第1フォトレジスト層の上にポジ型フォトレジストを
塗布して第2フォトレジスト層を形成する工程と、 該前記深い凹部及び浅い凹部のパターンに従って第2フ
ォトレジスト層を露光する工程と、 該第2フォトレジスト層を加熱硬化する工程と、 少なくとも該第2フォトレジスト層を現像する工程と、
をこの順で実行することを特徴とする情報記録媒体用原
盤の製造方法。2. A master for manufacturing an information recording medium in which a photoresist is applied to the surface of a master body, exposed according to a pattern, and then developed to form a photoresist hardened layer having concave portions. A method of manufacturing a master in which a deep recess and a shallow recess reaching halfway in the thickness direction of the photoresist hardened layer are formed in the photoresist hardened layer. Applying a positive photoresist on the body to form a first photoresist layer; exposing the first photoresist layer in accordance with the pattern of the deep recesses; Forming a second photoresist layer by applying a positive photoresist on the first photoresist layer; and forming the second photoresist layer on the first photoresist layer. Exposing the second photoresist layer according to the pattern of the concave portion; heating and curing the second photoresist layer; and developing at least the second photoresist layer;
Are performed in this order.
はガラスよりなることを特徴とする原盤の製造方法。3. The method of manufacturing a master according to claim 1, wherein the master body is made of glass.
て、難溶化処理はベーキング処理であることを特徴とす
る原盤の製造方法。4. The method for producing a master according to claim 1, wherein the hard-solubilizing treatment is a baking treatment.
て、その後、フォトレジスト硬化層の表面を導体化する
ことを特徴とする原盤の製造方法。5. The method of manufacturing a master according to claim 1, wherein the surface of the hardened photoresist layer is converted into a conductor thereafter.
リングにより導電層を形成し前記導体化を行うことを特
徴とする原盤の製造方法。6. The method of manufacturing a master according to claim 5, wherein the conductive layer is formed by forming a conductive layer by sputtering a conductive material.
た原盤に対し金属をメッキし、 次いで導電層と原盤とを分離してメッキ層及び導電層よ
りなるスタンパを得ることを特徴とするスタンパの製造
方法。7. A stamper characterized by plating a master disc manufactured by the method according to claim 5 or 6 with a metal, and then separating the conductive layer and the master disc to obtain a stamper composed of a plating layer and a conductive layer. Manufacturing method.
ンパを用いて合成樹脂製情報記録媒体基板を成形するこ
とを特徴とする情報記録媒体の製造方法。8. A method for manufacturing an information recording medium, comprising forming an information recording medium substrate made of a synthetic resin using the stamper manufactured by the method according to claim 7.
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---|---|---|---|
JP2000155106A JP2001338444A (en) | 2000-05-25 | 2000-05-25 | Method for manufacturing original disk, stamper and information recording medium |
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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