JP3165510B2

JP3165510B2 - ゲル上に１種以上の試薬を展開するための装置

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Publication number: JP3165510B2
Application number: JP19325992A
Authority: JP
Inventors: フランク・ベロン
Original assignee: Sebia SA
Current assignee: Sebia SA
Priority date: 1991-06-28
Filing date: 1992-06-26
Publication date: 2001-05-14
Anticipated expiration: 2016-05-14
Also published as: US5403456A; FR2678380A1; ATE157451T1; GR3025399T3; JPH05249079A; EP0526271B1; DK0526271T3; FR2678380B1; US5464521A; ES2108737T3; DE69221795D1; EP0526271A1; DE69221795T2

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ゲル、特に電気泳動又
は免疫固定用ゲル上に１種以上の試薬を展開するための
装置に係る。

【０００２】本発明は更に、該装置の使用方法に係る。

【０００３】

【従来技術及び発明が解決しようとする課題】電気泳動
又は免疫固定技術は一般に、移動後、電気泳動時に分離
されたタンパク質フラクションを検出し、場合により定
量するためにゲルを試薬と共にインキュベートする段階
を含む。

【０００４】最も慣用的な方法としては、電気泳動によ
り分離したタンパク質フラクションに特異的に固定する
着色剤を用いてこれらのフラクション全体を着色する方
法が用いられている。この場合、使用される試薬（着色
剤）は、ゲルを完全に浸漬させるために十分な量の溶液
に調製することが可能な市販製品である。

【０００５】しかしながら、この方法は少量の試薬を使
用することが必要な場合、試薬が高価な場合、又は同一
ゲル上の別々のゾーンで種々の試薬と共にインキュベー
ションを実施したい場合には使用することができない。

【０００６】これらの場合の例としては、血清に含まれ
るイソ酵素（イソＬＤＨ、イソＣＫ、イソホスファター
ゼ）の定量が挙げられ、このような定量ではこれらの酵
素の基質（高価な製品）と共にゲルをインキュベート
し、デンシトメトリーにより定量可能な着色又は蛍光産
物を形成する。

【０００７】同一ゲル上で種々の試薬と共にインキュベ
ーションを実施することが必要な場合としては、例えば
免疫固定が挙げられ、ゲルの種々の異なるゾーンを異な
る特異性の種々の抗血清（高価な試薬）及びタンパク質
固定剤と共にインキュベートしなければならない。

【０００８】これらのいずれの場合も試薬の使用量を最
少にすべきである。

【０００９】上記方法の実施にあたっては、ゲルの寸法
に切断した濾紙シートを該シートが完全に湿潤するため
に必要な最少量の試薬に含浸させ、次に、該シートをゲ
ルの表面に付着させる。

【００１０】同一ゲルの別々のゾーンで種々の試薬を使
用する場合には、種々の試薬により被覆すべきゾーンと
同数の濾紙バンドを切り分け、これらの異なるバンドを
異なる試薬に含浸させた後、インキュベーションを行う
べき種々のゾーンに付着させる。

【００１１】この方法にはいくつかの欠点がある。実際
に、気泡のレベルではゲル上の試薬の不足により反応が
生じないので、ゲルと試薬を含浸させた濾紙シートとの
間に気泡が閉じ込められないようにしなければならな
い。濾紙は不透明であるので、これらの気泡の存在を検
出することは困難である場合が多い。

【００１２】一方、インキュベーション反応中に検出し
たいタンパク質の一部は濾紙に吸着する可能性があり、
又はより単純に吸引により濾紙に吸収される可能性があ
る。

【００１３】長いインキュベーション時間が必要な場合
（３０分〜１時間）、インキュベーション中に濾紙の自
由表面から蒸発が生じるので、この現象は一層顕著であ
る。濾紙は毛管現象により一定の湿潤率を維持する傾向
があるので、ゲルに最初に含まれる定量すべきタンパク
質フラクションを伴出しながらゲルから濾紙に向かう液
体流が形成される。この結果、ゲル上の検出感度が低下
し、この吸収は必ずしも均質でないので、検出されるフ
ラクションのデンシトメトリーによる定量はエラーの危
険がある。

【００１４】更に、特にこの方法は手動であり非常に労
力を要するので、日常的臨床分析で使用するのは困難で
あり、現状では使用されていない。

【００１５】同様に使用されている別の方法は、ゲルと
ほぼ同一の外形を有しており且つ１個以上の独立した矩
形開口を有する好ましくは疎水性の可撓性プラスチック
シートから構成されるマスクを使用する方法である。こ
のマスクは一旦ゲルに付着させると、試薬を受容するた
めのゾーンを画成する。

【００１６】このようなマスクを使用しても同様にいく
つかの欠点がある。

【００１７】電気泳動による移動後、液体の一部がゲル
の表面に滲出することが多い。この滲出は主に電気浸透
流により生じる。

【００１８】液体がゲル上に残存していると、ゲルに対
するマスクの良好な接着と、画成されたゾーンの周囲へ
の良好な密封とを確保することができないので、マスク
をゲルに付着させる前に、目の細かい濾紙を用いて吸引
によりこの過剰な液体を除去することが必要である。

【００１９】補助吸引操作以外に、濾紙はゲルからタン
パク質の一部を伴出し、結果を誤らせる危険がある。

【００２０】一方、使用されるゲル又は試薬は、ゲルと
マスクとの間に液体を侵入し易くする界面活性剤を含有
する場合があり、これらの条件下では、移動後にゲルか
ら滲出した過剰の液体を除去したとしても、マスクは必
要な密封を確保できないという危険がある。

【００２１】この種のマスクでは、マスクの表面全体を
ゲルに完全に付着させることが重要である。マスクをゲ
ル上で位置決めするときにゲルとプラスチックマスクと
の間に気泡を閉じ込めないようにしなければならない。
そうしないと、マスクの下に試薬が侵入したり、隣接す
る試薬が混合する危険がある。

【００２２】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、上記欠
点の大部分を解消する装置を提案することである。

【００２３】本発明の目的は、従来の装置と同一量の試
薬を使用しながら従来装置の欠点なしに、ゲル上に試薬
を堆積、展開及びインキュベートするための装置を提案
することである。

【００２４】本発明の目的は更に、試薬を混合すること
なく異なるゾーンを夫々異なる試薬と共にインキュベー
トすることが可能な、ゲル上に試薬を堆積、展開及びイ
ンキュベートするための装置を提案することである。

【００２５】本発明の目的は更に、最小限の操作でゲル
上に試薬を堆積、展開及びインキュベートするための装
置を提案することである。

【００２６】本発明の目的は更に、ゲル中で分画された
物質の定量に関して正確な結果を得ることが可能な、ゲ
ル上に試薬を堆積、展開及びインキュベートするための
装置を提案することである。

【００２７】本発明の目的は更に、自動的にゲル上に試
薬を堆積、展開及びインキュベートするための装置を提
案することである。

【００２８】従って本発明は、以下「インキュベーショ
ン表面Ｓｉ」と呼称するゲルの１個以上の所定のゾーン
に沿って（総表面積Ｓｇの）ゲル上に１種以上の液体を
堆積、展開及びインキュベートするための剛性マスクに
係り、該マスクは、マスクの厚さを構成する距離を隔て
て相互に配置された上下表面と、ゲルのインキュベーシ
ョン表面Ｓｉ上に液体を堆積及び展開するように構成さ
れ且つマスクの全厚を貫通する切欠により構成される少
なくとも１個のオリフィスと、及び／又はマスクの全厚
を貫通しており且つゲルのインキュベーション表面Ｓｉ
上に存在する過剰の液体を除去するように構成された少
なくとも１個のスリットとを含み、該スリットは、イン
キュベーション表面Ｓｉの内側又はインキュベーション
表面Ｓｉの外側に射影を有するマスク部分に配置されて
おり、マスクの下表面は、マスクの下表面がインキュベ
ーション表面Ｓｉと接触しないような条件下でゲルの表
面Ｓｇの近傍に配置されるように構成され、この下表面
は更に、それ自体Ｓｍと呼称される少なくとも一部分に
おいて、インキュベーション表面Ｓｉ上の液体の展開を
妨げ得る表面凹凸を含まないように構成され、表面Ｓｍ
は、液体がＳｍの射影であるゲルの表面Ｓｉ上のみに展
開されるように下表面の残部に対して画成されており、
ゲル上のＳｍのこの射影はゲルのインキュベーション表
面Ｓｉ以上である。

【００２９】本発明は有利なことには、インキュベーシ
ョン表面を含むゲルの上にマスクを配置することができ
る。本発明は更に、インキュベーションゲルの下にマス
クを配置することもできる。どちらの場合も、ゲル上に
試薬を堆積、展開及びインキュベートするための表面は
マスクの下表面の近傍に配置され、該下表面はいずれに
せよインキュベーション表面Ｓｉと接触しない。

【００３０】液体は一般に、ゲル上に予め堆積されたタ
ンパク質を検出するための試薬である。試薬は上記切欠
（「堆積用オリフィス」に同じ）により導入される。

【００３１】インキュベーション表面Ｓｉは、タンパク
質を検出するために試薬を展開すべきゲルのゾーンであ
る。Ｌｉはインキュベーション表面の長さ、即ち電気泳
動移動方向に対して平行なインキュベーション表面の寸
法を表す。

【００３２】単一試薬の場合、Ｓｉは表面Ｓｇに等しい
か又はＳｉは移動路（即ち電気泳動分離が行われるゲル
のゾーン）の全体を含むＳｇの一部であり得る。

【００３３】一方、試薬により有効に覆われるゾーンは
表面Ｓｉよりも大きくてもよいことに留意すべきである
（図６ｆ参照）。

【００３４】例えば種々の移動路の各々を含むゲルの別
々のゾーンで種々の試薬、又は場合により同一試薬と共
にインキュベートする場合、インキュベーション表面を
Ｓｉ₁，Ｓｉ₂，Ｓｉ_n（ｎは２以上の整数である）と定
義する。

【００３５】インキュベーション表面Ｓｉ上の試薬の展
開を妨げ得る表面凹凸がなく、特に凹部も凸部もないマ
スクの有効下表面、即ち表面Ｓｉ上の試薬の展開を妨げ
得る畝も段差もない表面をＳｍと呼称し、この表面Ｓｍ
は平坦もしくは湾曲状であり、又は平坦もしくは湾曲状
エレメントを含む。

【００３６】表面Ｓｍは上記スリット及び堆積用オリフ
ィスを備え得る。

【００３７】有利には表面Ｓｍは平坦又は湾曲状であ
り、特にＳｉの寸法よりも大きい半径の円筒形である。

【００３８】表面Ｓｍは更に平坦又は湾曲状、特に円筒
形の要素面を相互に結合することにより構成することも
でき、これらの種々の要素面及びその結合部は、インキ
ュベーション表面Ｓｉ上の液体の展開を妨げないように
構成される。

【００３９】長さＬｍは電気泳動移動方向に平行な表面
Ｓｍの寸法である。上記表面Ｓｍの幅は、上記長さに垂
直な寸法に対応する。

【００４０】試薬を堆積するための切欠を有するこの表
面Ｓｍがゲルの表面の近傍に配置されているとき、この
表面は切欠により導入される試薬を毛管現象によりこの
表面自体とインキュベートすべき表面Ｓｉとの間に維持
できなければならない。

【００４１】この堆積される液体はその後、ゲルの縁
部、マスクの縁部、溝又は凹部であり得且つ表面Ｓｍを
画成する不連続部に出会うまで、Ｓｍとゲルの表面との
間で展開され得る。

【００４２】液体の展開とは、（マスクの下表面及びイ
ンキュベート表面Ｓｉに近接しているために生じる）毛
管力のみにより、及び場合によっては重力により、液体
が表面Ｓｉ上を進行又は移動することを意味する。

【００４３】複数の試薬を展開させなければならない場
合、マスクの表面をＳｍ₁，Ｓｍ₂，Ｓｍ_nと定義し、こ
こでｎは２以上の整数であり、平坦もしくは湾曲状、特
に円筒形状で同一平面上、同一円筒形上に配置される
か、又は平坦もしくは湾曲状、特に円筒形状の要素面を
相互に結合することにより構成される表面と同数であ
る。

【００４４】表面Ｓｍ₁〜Ｓｍ_nは凹部又は溝により画成
される。

【００４５】スリットは、射影がインキュベーション表
面Ｓｉの内側又はインキュベーション表面Ｓｉの外側に
位置するようにマスクに配置され、且つ該インキュベー
ション表面Ｓｉの縁部の１つに隣接するか又は試薬によ
り有効に覆われる表面の縁部の１つに隣接するように配
置され得る。有利には、スリットは堆積用オリフィスの
近傍と反対側の表面Ｓｉの縁部に隣接している。

【００４６】スリットは有利にはインキュベーション表
面Ｓｉの外側に配置される。実際に、スリットがインキ
ュベーション表面Ｓｉの内側に配置される場合、液体の
展開を妨げないような寸法でなければならない。これら
の条件下でスリットは狭く（約１ｍｍ以下）、毛管現象
により過剰の試薬を維持することができる。

【００４７】上表面の形態は、可変パラメーターであ
る。しかしながら、上表面は有利には平坦である。明細
書の以下の文中では、記載を簡単にするために、上表面
は平坦であり、長さＬｍの有効下表面Ｓｍは、上表面に
ほぼ平行であるか、水平に使用される場合には上表面と
の間に約３°未満の角度を形成し、又は長さの一部で上
表面にほぼ平行であり、平行表面の延長における長さＬ
ｍの残りではインキュベーション表面Ｓｉ上の液体の展
開を妨げないような角度を上表面との間に形成する。

【００４８】有利には上表面に対する下表面の夫々の位
置に関する上記第３の場合において、下表面は有利には
インキュベーション表面の長さＬｉに対応する長さＬｍ
の一部で上表面にほぼ平行である。この平行な表面から
上表面との間に所定の角度を形成する部分を延長させ、
下表面とゲルとの間の角度を約１°〜約９０°の鋭角に
すると有利であり、この角度をスリットの近傍に配置す
ると、過剰の試薬を除去し易い（図６ｄ参照）。

【００４９】マスクの表面Ｓｍは同様に湾曲状、有利に
は円筒形であり得る。

【００５０】マスクの表面が円筒形表面により構成され
る場合、その直径はＬｉの二乗以上でなければならな
い。

【００５１】円筒形表面がインキュベーション長Ｌｉの
一部ｆでしかないとき、直径は長さｆ×Ｌｉの二乗以上
でなければならない。

【００５２】本発明は更に、１種以上の液体を堆積、展
開及びインキュベートするためのマスクにも係り、マス
クの下表面は少なくとも２つの段差又は２つの溝を含
み、段差又は溝はマスクの少なくとも一部分Ｓｍを画成
するように相互に離間されており、該一部分は、インキ
ュベーション表面Ｓｉ上の液体の展開を妨げ得る表面凹
凸を含まず、ゲル上の該部分の射影は液体が展開され得
るゲルのインキュベーション表面Ｓｉ以上であり、段差
及び溝は、液体がゲルの該インキュベーション表面Ｓｉ
上に毛管現象により維持され得るために十分な高さを有
する。

【００５３】本発明のこの実施態様によると、マスクの
部分Ｓｍはゲルの縁部によってもマスクの縁部によって
も制限されず、液体がゲルの該インキュベーション表面
Ｓｉ上に毛管現象により維持され得、且つゲルのインキ
ュベーション表面Ｓｉの境界又はゲル上の表面Ｓｍの射
影の境界を越えないるために十分な高さ、及び場合によ
り十分な幅を有する少なくとも２つの段差又は溝により
制限される。

【００５４】溝はマスク全体を貫通することができ、
「中空溝」と呼称される。中空溝が毛管現象により液体
を維持するために、中空溝の寸法は、該中空溝が槽とし
て機能してその内側に液体を貯留しないように、従って
有利には幅２ｍｍ以上、高さ０．２ｍｍ以上、有利には
０．５ｍｍ、好ましくは１ｍｍとなるように決定されな
ければならない。

【００５５】段差又は溝は移動路をとり囲み、有利には
矩形である。

【００５６】一般に、移動路は矩形バンド形状を有して
おり、例えば長さ約１０ｍｍ〜約１００ｍｍ、幅約２ｍ
ｍ〜約８０ｍｍの寸法を有する。移動路が２つの溝によ
り囲まれているとき、移動路の２つの他の縁部はゲルの
縁部の２つもしくはマスクの縁部の２つの一部、又は上
記他の２つの溝に垂直な２つの別の溝により構成され得
る。

【００５７】複数の移動路が存在するとき、これらの移
動路は有利にはそれらの小さいほうの寸法の縁部が同一
線上に位置するように配置される。

【００５８】本発明は更に、単一液体を堆積、展開及び
インキュベートするためのマスクに係り、該マスクはマ
スクを貫通し且つゲルのインキュベーション表面Ｓｉに
沿ってゲル上に単一液体を堆積、展開及びインキュベー
トするように構成された単一切欠を含む。

【００５９】この実施態様は、単一液体を堆積、展開及
びインキュベートしたい場合に関する。

【００６０】この場合、液体の堆積を実施するために単
一の切欠を使用する。

【００６１】この切欠は例えば長さ５０ｍｍ、幅１．５
ｍｍを有する細長いスリットの形状であり得る。

【００６２】本発明は更に、複数の液体を夫々のインキ
ュベーション表面Ｓｉ₁〜Ｓｉ_nに沿って単一ゲル上に、
又は単一液体を複数のインキュベーション表面Ｓｉ₁〜
Ｓｉ_n（ｎは２〜５０である）に沿って単一ゲル上に堆
積、展開及びインキュベートするためのマスクに係り、
このマスクは下表面が段差又は溝を含むように構成さ
れ、段差又は溝は表面Ｓｉ₁〜Ｓｉ_n上の液体の展開を妨
げ得る表面凹凸を含まないマスクの複数の部分Ｓｍ₁〜
Ｓｍ_n（ｎは２〜５０）を画成するように相互に離間さ
れ、ゲル上の該部分の射影は液体を展開させるべきゲル
のインキュベーション表面Ｓｉ₁〜Ｓｉ_n以上であり、段
差及び溝は、液体がゲルの該インキュベーション表面Ｓ
ｉ₁〜Ｓｉ_n上に毛管現象により維持され得るために十分
な高さを有する。

【００６３】この場合は、複数の液体を夫々のインキュ
ベーション表面上に堆積するか、又は単一液体を複数の
インキュベーション表面Ｓｉ₁〜Ｓｉ_n上に堆積する場合
に対応する。

【００６４】表面Ｓｉ上に液体を堆積、展開及びインキ
ュベートするためには、堆積用オリフィスが、インキュ
ベーション中に僅少量の試薬が蒸発したとしても、イン
キュベーション表面Ｓｉ上に液体を展開するために過剰
の液体を維持できる槽を構成し得るような容積を有する
ように設計することができる（図６ａ参照）。

【００６５】インキュベーション表面Ｓｉ上に液体を堆
積、展開及びインキュベートするために別の方法をとる
こともできる。実際に、ゲルとマスクとが相互にほぼ平
行に維持されるならば、液体が被覆すべきインキュベー
ション表面Ｓｉの方向に重力により落下するように、ゲ
ルの縁部の１つ又はマスクの縁部の１つにほぼ平行な軸
の周囲に回転させることにより、ゲルとマスクとの全体
を傾斜させると有用であり得る（図６ｂ参照）。

【００６６】更に、液体を堆積、展開及びインキュベー
トするために、ゲルをほぼ水平な位置に維持し、マスク
の縁部の１つ又はゲルの縁部の１つに平行であり且つイ
ンキュベーション表面の縁部の近傍に配置された軸のレ
ベルにおけるゲルとマスクとの間の距離がこの軸と反対
側のゾーンにおけるゲルとマスクとの間の距離よりも小
さくなるように、この軸の周囲に回転させることにより
マスクをやや傾斜させてもよい（図６ｃ参照）。

【００６７】毛管力はこの軸の近傍のほうが大きいの
で、液体はインキュベーション表面Ｓｉ上に毛管現象に
より分配される。

【００６８】本発明は更に上記のようなマスクでありな
がら、堆積用オリフィスがインキュベーション表面Ｓｉ
上に液体を展開するために過剰な液体を維持することが
可能な槽を構成し得るような容積を有するマスクに係
る。

【００６９】本発明のマスクの１実施態様によると、堆
積用オリフィスは細長形又は円形、好ましくは細長形で
あり、有利には幅約１ｍｍ〜約２ｍｍ、特に１．５ｍ
ｍ、長さ約４ｍｍ〜約８０ｍｍ、特に５ｍｍである。

【００７０】別の実施態様によると、マスクの切欠は少
なくともＶ／１０に等しい液体体積を毛管現象により収
容することができ、ここでＶは、切欠内に堆積される液
体がゲル上に展開するような条件下でマスクとゲルとが
夫々相互に配置されるとき、インキュベーション表面Ｓ
ｉとマスクとの間に存在する体積である。

【００７１】本発明の別の実施態様によると、堆積用オ
リフィスはマスクの部分Ｓｍの中央の近傍に配置され、
インキュベーション表面Ｓｉ上の液体の堆積を妨げない
ような寸法、有利にはインキュベーション表面Ｓｉの長
さに等しい長さと、有利には約１ｍｍ〜約２ｍｍの幅と
を有する細長いスリットの形状を有しており、この堆積
用オリフィスは更に、表面Ｓｉ上に展開される過剰の液
体を除去するためのスリットの機能を確保することがで
きる。

【００７２】本発明の別の実施態様によると、過剰の液
体を除去するためのスリットはインキュベーション表面
の幅にほぼ平行であり、堆積用オリフィスの近傍と反対
側のインキュベーション表面の縁部に隣接して配置さ
れ、有利には約１ｍｍ〜約４ｍｍ、特に２ｍｍの幅と、
表面Ｓｉの幅以上の長さとを有しており、スリットの内
側周囲表面は、マスクの表面に垂直であり、好ましく
は、過剰の液体を除去するための手段を該過剰の液体と
直接接触させるようにマスクの表面に垂直な方向に関し
て傾斜している。

【００７３】例えば、マスクの表面に垂直な方向に対す
るスリットの内側周囲表面の傾斜角は約３０°であり得
る。

【００７４】本発明の別の実施態様によると、マスクの
厚さは約１ｍｍ〜約２０ｍｍ、特に約２ｍｍ〜約１０ｍ
ｍであり、段差は少なくとも０．２ｍｍ、有利には約
０．５ｍｍ〜約２０ｍｍの高さを有しており、又は、溝
はインキュベーション中にマスクとインキュベーション
表面Ｓｉとの間に毛管現象により維持される各液体がＳ
ｉに直接隣接するインキュベーション表面内に維持され
る液体と混合しないようにするために十分な幅を有して
おり、溝の幅は約１ｍｍ〜約１０ｍｍである。

【００７５】本発明の別の実施態様によると、マスクは
複数、有利には約６〜約５０個のマスク部分Ｓｍを含
み、部分Ｓｍの各々は、好ましくはゲルのアノード部分
に対応する射影をゲル上に有するＳｍの部分に配置され
た堆積用オリフィスを含み、このマスクは、ゲルの表面
Ｓｉ上に展開される過剰の液体を除去するための単一ス
リットを含み、このスリットは好ましくはマスクの部分
Ｓｍの大きいほうの寸法に対して好ましくは垂直に伸延
しており、好ましくは射影がゲルのカソード領域に配置
されるようなマスクの位置に配置される。

【００７６】部分Ｓｍは有利には、例えば約１０ｍｍ〜
約８０ｍｍ以上の長さと、約２ｍｍ〜約８０ｍｍの幅と
を有する矩形により構成される。

【００７７】本発明は更に、Ｓｉの寸法以上の寸法を有
する単一部分Ｓｍを含む上記のようなマスクに係り、該
マスクは好ましくはインキュベーション表面Ｓｉの幅に
対応する長さの細長い形状を有する切欠をその一端の近
傍に備えており、更に、有利には少なくともＳｉの幅に
等しい長さを有する過剰の液体を除去するためのスリッ
トを他端の近傍に備える。

【００７８】本発明は更に、ゲルとマスクの部分Ｓｍと
の間の最小距離が０．１ｍｍ以上、最大距離の値が約
０．５ｍｍ〜約２ｍｍ、特に１ｍｍとなるようにマスク
をゲルに対して位置決めする手段を含むマスクに係る。

【００７９】これらの手段は、任意の固定手段、例えば
ねじ等により構成され得る。マスクがゲル上に配置可能
なストップを周囲に備えるように構成してもよく、これ
らのストップは、マスクの部分Ｓｍとインキュベーショ
ン表面Ｓｉとが接触しないような位置及び寸法を有す
る。

【００８０】本発明の別の有利な実施態様によると、マ
スクの上表面及び下表面は相互に平行ではなく、マスク
の上表面がゲルの表面に平行に配置されるときに、ゲル
とマスクとの間の最小距離が約０．１ｍｍ以上となり且
つ最大距離の値が約０．５ｍｍ〜約２ｍｍ、特に１ｍｍ
となるような角度を形成する。

【００８１】本発明は更に、液体の堆積及び展開用オリ
フィスが過剰の液体を除去するためのスリットに一致す
るように構成されたマスクにも係る。この実施態様は特
に、ゲル上に１種以上の試薬を堆積、展開及びインキュ
ベートするための装置を容易に自動化することができ
る。

【００８２】この実施態様で試薬除去用スリットに一致
する堆積用オリフィス（オリフィス（１））は、管及び
多重チャネル弁を介して導入すべき種々の試薬溶液及び
除去された試薬を収集するための「移送用」びんに連結
されている。これらの溶液は、ポンプを介して一方又は
他方の方向に移送される。

【００８３】これらの条件下では、インキュベーション
段階後にこのレベルに導入される濾紙を介して吸引によ
り試薬を除去するために、上記のようにオリフィス
（１）と別個のスリットを設けることはもはや不要であ
り、省略される。

【００８４】これらの条件下ではオリフィス（１）は種
々の形状をとることができ、好ましくは、有利には２ｍ
ｍ未満、好ましくは１ｍｍ未満の小直径の円形形状をと
り得る。

【００８５】堆積用オリフィスがインキュベーション後
に試薬を除去するためにも使用されるこの実施態様によ
ると、１）オリフィス（１）の周囲が種々の試薬溶液と接触可
能なマスクの表面部分Ｓｍであり、ゲルの表面に接触せ
ずに最も近接し（最小間隔０．１ｍｍ以上）、２）表面Ｓｍ上のこのオリフィスから遠ざかるに従っ
て、ゲルとマスクとの距離は一定限度内で増加するとい
う利点がある。

【００８６】導入される試薬が水に類似する凝集力を有
する場合、ゲルの表面とマスクの表面との間の最大距離
は２ｍｍ以下でなければならない（導入される液体の凝
集力が夫々増加又は減少するならば、この最大間隔はや
や増加又は減少し得る）。

【００８７】ゲルが平坦であるとき、オリフィス（１）
のレベルにおける０．１ｍｍの最小間隔と、インキュベ
ーションゾーンＳｉの周囲における約２ｍｍの最大間隔
との制約は、マスクの表面Ｓｍの形状を、例えばオリフ
ィス（１）に対応する頂点を有しており、矩形もしくは
正方形の底面を有する直角錐もしくは斜角錐形、又は円
形もしくは楕円形の底面を有する直円錐もしくは斜円錐
表面の形状に規定する。

【００８８】この角錐又はこの円錐表面の頂点の角度
は、インキュベートすべきゲルの表面Ｓｉの寸法に依存
する。

【００８９】例えば直径９０ｍｍの円形インキュベーシ
ョン表面の場合、円形底面を有する直円錐形表面Ｓｍを
有するマスクの頂点の角度は１７５〜１７９°でなけれ
ばならない。

【００９０】これらの条件下では管及びポンプによりオ
リフィス（１）に供給される試薬の導入時に、液体はオ
リフィス（１）からゲルの表面に分配され、試薬により
覆われるゲルのゾーンの連続輪郭は、水平位置に維持さ
れるゲルの表面に対して表面Ｓｍから等距離のレベルの
曲線である。マスクの表面が円形底面を有する直円錐表
面である場合、これはオリフィス（１）を中心とする同
心円である。

【００９１】ゲルの機械的強度に不適合な水圧を加える
ことによりオリフィス（１）に向かい合うゲルを損傷し
ないために、気泡を含まない種々の試薬（気泡地点では
試薬はゲルに接触しないのでこのレベルでインキュベー
ションは行われないと考えられる）を（５０〜１０００
μｌ／ｓの）十分に低い流量で導入すると適切である。

【００９２】インキュベーション段階後、ポンプを介し
てオリフィス（１）から試薬を回収する。オリフィス
（１）はゲルに最も近接するゾーン上の表面であるの
で、マスクとゲルとの間に導入される液体の毛管力はこ
のレベルで最大であり、液体の吸引につれて液体はゲル
−マスク最小間隔のこのゾーンに集められる。この操作
中、依然として液体に覆われているゲルのゾーンの連続
輪郭は、導入時に得られると同一で逆向きあり、マスク
とゲルとの間の等距離レベルの曲線に対応する。液体の
吸引が（特に吸引後に）液体の凝集を妨げないために十
分低速（５０μｌ／〜１０００μｌ／ｓ）である限り、
液体は連続的且つ実質的に完全に吸引される。

【００９３】予め導入された試薬の除去を可能な限り完
全にするために重要な点は、１）マスクの表面と同一平面をなすオリフィス（１）の
直径が小寸法（ミリメートルのオーダーの直径）であ
り、２）ゲルの表面からの距離が小さく、０．１〜１ｍｍ、
好ましくは０．２〜０．６ｍｍであり、３）吸引される最後の液滴の凝集を維持するために、オ
リフィス（１）の周囲をとり囲むマスクの表面が１０〜
２００ｍｍ²、好ましくは２５〜１００ｍｍ²のゾーンで
ゲルの表面に平行な平坦部を有することが好ましい。

【００９４】この実施態様によると、ゲルの表面の下に
マスクを配置することができる。

【００９５】ゲルは適当な手段により（例えば多孔プレ
ートを介して真空に吸引することにより）ゲルの自由面
が下向きとなるように水平位置に維持されているので、
マスクはこうしてゲルの下に配置され、アセンブリの動
作は上述と同様である。

【００９６】一方、これらの条件下では予め導入された
液体の最後の液滴は重力により吸引用オリフィス（１）
のレベルで集められる傾向があるので、このような液体
を除去し易いことは自明である。

【００９７】この方法に従って単一試薬を同一ゲル上に
導入する場合には、インキュベートすべきゲルのゾーン
Ｓｉを覆うためにポンプにより放出される試薬の量を検
定すると適切である。

【００９８】表面積Ｓｉがゲルの表面とこれに対向する
マスクの表面との間に含まれる容積を越えるゲルの表面
積に等しい場合、過剰の試薬が維持される。しかしなが
ら、付加的な過剰の試薬は毛管力を受けることなく、ゲ
ル及びマスクの２つの表面間に含まれる残りの溶液は移
動しない。これらの条件下では、検出工程を妨げないよ
うに、回収システムを設ければ十分であり、例えばこの
過剰の試薬の排出システムと共にマスクの周囲に側溝を
設ければ十分である。

【００９９】この方法に従って複数の異なる試薬を同一
ゲル上に導入する場合、試薬を混合してはならない。

【０１００】ゲルの種々のインキュベーションゾーンＳ
ｉ₁，Ｓｉ₂，．．．Ｓｉ_jに対応するマスクのゾーンＳ
ｍ₁，Ｓｍ₂，．．．Ｓｍ_jの各々はこのとき、各々オリ
フィス（１）を頂点とし、矩形もしくは正方形の底面を
有する角錐形、又は円形もしくは楕円形の底面を有する
直円錐もしくは斜円錐表面の形状であり、相互に排水溝
により分離され、全オリフィスは好ましくはゲルから同
一距離に配置される。

【０１０１】独立したポンプを用いてゲル表面Ｓｉ₁，
Ｓｉ₂，．．．Ｓｉ_jを覆うように種々の試薬の検定量を
同時（又は連続的）にオリフィスの各々から注入する。

【０１０２】種々の表面Ｓｍ₁，Ｓｍ₂，．．．Ｓｍ_jが
インキュベートすべき表面Ｓｉ₁，Ｓｉ₂，．．．Ｓｉ_j
よりもやや大きく且つゾーンＳｉ₁，Ｓｉ₂及びＳｉ_jの
周囲のレベルにおけるゲルとマスクとの間隔が、この周
囲を越えて過剰の試薬を毛管現象により維持できるよう
にするために２ｍｍ未満である（これは導入される液体
が水に類似する凝集力を有する場合）限り、試薬は過剰
であっても許容できる。

【０１０３】インキュベーション段階後の試薬の除去
は、上述と同様に行われる。

【０１０４】本発明は更に、予め電気泳動を行ったゲル
上でインキュベーションを行うか、又は交差反応（クロ
スドット）を行うことが可能なマスク−ゲルアセンブリ
に係る。

【０１０５】本発明は更に、インキュベーション表面Ｓ
ｉ上に展開すべき液体がマスクの部分Ｓｍの射影である
ゲルのインキュベーション表面Ｓｉ上に毛管現象により
維持され且つマスクの部分Ｓｍがゲルと平行になるか又
は好ましくは約０．５〜約３°、有利には約１．５°の
角度でゲルに対して傾斜するために十分にゲルの近傍に
マスクの部分Ｓｍを接近させる手段を含むアセンブリに
係り、マスクとゲルとの間の最小距離は有利にはスリッ
トに隣接し、マスクとゲルとの最大距離は有利には堆積
用オリフィスに隣接する。

【０１０６】本発明は更に、以下「インキュベーション
表面Ｓｉ」と呼称するゲルの１個以上の所定のゾーンに
沿って（表面積Ｓｇの）ゲル上に１種以上の液体を堆
積、展開及びインキュベートするための方法に係り、該
方法は、表面Ｓｉ上に展開すべき液体が毛管現象により
該表面Ｓｉ上に維持されるために、マスクの部分Ｓｍを
インキュベーション表面Ｓｉに十分接近させるように、
本発明のマスクをゲルに対して位置決めする段階と、上
記堆積用オリフィスに液体を導入する段階と、マスクを
ゲルに対して上記のような位置に維持するか、又はマス
クとゲルとが相互に平行な場合には、液体が毛管現象に
より表面Ｓｉ上に分配されるようにマスクをゲルに対し
て傾斜させるか、又は液体と特に電気泳動によりゲル上
に堆積される成分、特にタンパク質との反応が生じるた
めに十分な時間、液体が重力によりインキュベーション
表面Ｓｉ上に分配されるように、ゲル及びマスクアセン
ブリを水平に対して傾斜させる段階と、インキュベーシ
ョン後、上記スリットを貫通するように配置された手
段、特に濾紙により、ゲルの所定のインキュベーション
表面上に展開された過剰の液体を除去する段階と、マス
クをゲルから除去する段階とを含むことを特徴とする。

【０１０７】本発明は更に、マスクをゲルに対して平行
に維持し、液体がインキュベーション表面Ｓｉ上に重力
により展開するために十分な角度、有利には約５°〜約
９０°、有利には約３０°の角度でアセンブリを水平に
対して傾斜させる方法に係る。

【０１０８】本発明は更に、液体がインキュベーション
表面Ｓｉ上に展開するために十分な角度、特に約０．５
〜約３°、有利には約１．５°の角度で毛管現象により
マスクをゲルに対して維持する方法に係る。

【０１０９】本発明は、上記のようなマスクを含み且つ
１種以上の試薬を展開及びインキュベートするように構
成された電気泳動装置に係る。

【０１１０】以下、本発明を具体的に説明する。

【０１１１】この型の本発明のマスク（浮動マスク又は
懸架マスク）は、例えば約２〜約１０ｍｍの厚さを有す
る平坦且つ剛性で好ましくは透明のプラスチック部材
（例えばＰｌｅｘｉｇｌａｓ）から構成され得、下表面
は「インキュベーション表面Ｓｉ」とも呼称される試薬
により被覆すべきゲルの表面に少なくとも対応する表面
を有する少なくとも一部Ｓｍを含む。このプラスチック
部材は、該部材の表面に対して垂直に貫通し且つインキ
ュベーションゾーンの内側又は外側に配置された好まし
くは細長形の堆積用オリフィスを有する。この堆積用オ
リフィスはピペットにより試薬を導入するために使用さ
れる。

【０１１２】インキュベーション表面に対応するプラス
チック部材の下表面の部分Ｓｍは、表面凹凸がない（研
磨表面）ことを特徴とする。該部分は適当な支持手段に
より、ゲルの表面の近傍で該表面と平行に、又はインキ
ュベーション表面とマスクの部分Ｓｍとが接触しないよ
うな小さい傾斜角で配置される。

【０１１３】ゲルの表面とプラスチック表面との間の距
離が小さい（０．１〜２ｍｍ）ので、堆積用オリフィス
からピペットにより導入される液体は、毛管現象により
２つの平坦な表面（部分Ｓｍ及びゲルの表面）の間に分
配され、プラスチック部材の部分Ｓｍの下に突出するゲ
ルのゾーンを覆う。

【０１１４】導入される体積は、インキュベーション表
面Ｓｉが覆われるように２つの表面間の空きスペースの
容積Ｖｏ以上でなければならない。

【０１１５】液体（試薬）はこの容積Ｖｏの１．２又は
１．３倍までであってもよいが、容積Ｖｏと等しいと好
適である。実際に、インキュベーション段階時に僅少量
の試薬が蒸発するとしても、このような量でインキュベ
ーション表面Ｓｉに沿ってゲルを覆うことができる。

【０１１６】実際に、堆積用オリフィスが（毛管現象が
生じるように）小さい幅（１〜２ｍｍ）及び毛管現象に
より維持される十分な量の液体を確保するために十分な
長さ（４ｍｍ以上）を有する細長い形状である限り、こ
の過剰の試薬は主に毛管現象により堆積用オリフィスの
レベルに維持される（下記実施例参照）。

【０１１７】容積Ｖｏと堆積用オリフィスのレベルで毛
管現象により維持され得る液体体積との和よりもやや多
量（１．１倍）の試薬を堆積用オリフィスから加えるな
らば、この過剰の試薬はプラスチック部材のインキュベ
ーション表面の周囲に均等に分配され、インキュベーシ
ョンを受けるゲルの表面を均一に僅かに増加させ、この
過剰の試薬は常に毛管現象によりプラスチック部材のレ
ベルに維持される。

【０１１８】単一試薬を使用する場合、唯一の欠点は試
薬のむだな消費である。

【０１１９】隣接ゾーンを種々の試薬と共にインキュベ
ートする場合、連続インキュベーション表面間の間隔
は、２種の異なる試薬により処理される表面が結合する
危険なしに、この処理表面の増加に耐えるために十分な
大きさであればよい。

【０１２０】いずれにせよゾーン間の間隔は、インキュ
ベーション段階（５分〜３０分間）中に生じるゲル中の
試薬の拡散現象の結果、ゲル中に拡散された種々の試薬
間の相互作用を引き起こすことがないように、２又は３
ｍｍ以上でなければならない。インキュベーション時間
がもっと長く、例えば１時間のときには４又は５ｍｍ以
上の間隔が必要であるが、従来使用されている他の型の
方法を使用してもこの程度の間隔は必要である。

【０１２１】堆積用オリフィスの細長形状は上記試薬槽
の役割に加え、例えばオリフィスの鉛直壁に液体を流す
ことにより、オリフィスの一端からゲル上に試薬を容易
に導入できるという利点がある。

【０１２２】上記オリフィスの幅と同一直径の円形オリ
フィスの場合、ピペットの円形断面口とオリフィスとの
間に摩擦により密封を確保し、ゲルの表面に試薬を低圧
で注入しなければならず、この圧力は小断面の円形オリ
フィスのレベルに生じる毛管力を凌ぐに必要な値以上と
なるような値を有する。この場合、表面ＳｍをＳｉより
も大きくし、注入量を表面Ｓｍとゲルとの間に含まれる
容積よりも小さくすると有利である。

【０１２３】堆積用オリフィスの幅は、ピペットの円錐
台形口の末端がゲルに向き合うように配置されたプラス
チック表面の面を越えて下降することなしにオリフィス
に侵入できるように選択される。従って、ピペットの末
端は試薬の導入時にゲルの表面を決して損傷し得ない。

【０１２４】懸架マスクの装置の別の利点は、インキュ
ベーション時に発生し得る蒸発現象がインキュベーショ
ン表面の周囲と堆積用オリフィスのレベルのみに制限さ
れ得るので著しく減少するという点である。

【０１２５】インキュベーション段階後、過剰の試薬を
除去すると適切である。

【０１２６】連続ゾーンで複数の試薬を使用する場合、
次のように操作することができる。

【０１２７】種々のインキュベーション表面は一般に、
長辺が相互に平行で且つ短辺が同一直線上にあるような
矩形である。

【０１２８】これらの短辺に沿ってプラスチック部材の
両側に伸びるスリットを形成することにより、このスリ
ットから濾紙シートを導入し、ゲルに付着させ、プラス
チックマスクとゲルとの間に維持された液体と同一面に
配置することができる。毛管現象により液体は濾紙中を
上昇し、インキュベーション表面から排出される。

【０１２９】しかしながら、濾紙を用いて吸引によりこ
の液体の排出を助長するためには、懸架マスクをゲルに
対して完全に平行に配置するのでなく、濾紙により液体
を吸引したい側に稜部を有する１〜２°の非常に小さい
角度のＶ字形に配置すると有利である。実際に、これら
の条件下で毛管力はゲル−マスク間の距離が最小となる
側のほうが大きく、これらの２つの表面間に挿入される
液体はこの表面間に集められ、このためのスリットに濾
紙を導入するときには濾紙により液体を除去し易いとい
う傾向がある。

【０１３０】

【図面の説明】図１はインキュベーション表面Ｓｉ上に
単一液体を堆積、展開及びインキュベートするために使
用される本発明のマスクの断面図及び平面図である。

【０１３１】（１）は堆積用オリフィスを示し、（２）
は過剰の試薬を吸引するためのスリットを示す。

【０１３２】Ｓｍは１辺をスリット（２）により画成さ
れ、他の３辺を各々段差により画成されるマスクの有効
表面を表す。

【０１３３】図２は、種々のインキュベーション表面
（例えば６個）を被覆すべき複数の液体を受容するため
に使用されるマスクの、溝の方向に沿うＣ−Ｃ断面図、
堆積用オリフィスが通るＤ−Ｄ断面図、及び平面図であ
る。

【０１３４】（１）は種々の切欠に対応し、（２）はス
リットに対応し、（３）は種々のインキュベーション表
面Ｓｉ₁〜Ｓｉ₆を画成するための溝に対応する。インキ
ュベーション表面Ｓｉ₁〜Ｓｉ₆に対応する有効表面Ｓｍ
₁〜Ｓｍ₆を示す。

【０１３５】図３ａ及び３ｂは、ゲルの全体に単一の試
薬を堆積するために使用されるゲル−マスクアセンブリ
を示す。

【０１３６】これらの２図面中、（１）は堆積用オリフ
ィスを示す。マスクの周囲は点線で示し、ゲルの周囲は
実線で示す。

【０１３７】液体を吸引するために使用されるスリット
（図示せず）は、堆積用オリフィスの近傍と反対側のＳ
ｉの縁部に隣接する（図３ａ）か、又はＳｉの内側に配
置される（図３ｂ）。

【０１３８】斜線部分はインキュベーション表面Ｓｉに
対応し、これらのいずれの場合もゲルの表面Ｓｇに等し
い。

【０１３９】図３ａは、マスクＳｍの有効表面がゲルの
表面Ｓｇよりも大きい場合を示す。

【０１４０】図３ｂは、マスクＳｍの有効表面がゲルの
表面Ｓｇに等しい場合を示す。

【０１４１】図４ａ、４ｂ及び４ｃは、ゲルの表面Ｓｇ
の一部に単一試薬を堆積するためのゲル−マスクアセン
ブリを示す。これらの場合、インキュベーション表面Ｓ
ｉはゲルの表面Ｓｇよりも小さい。

【０１４２】マスクの周囲は点線で示し、ゲルの周囲は
実線で示す。

【０１４３】斜線部分はインキュベーション表面Ｓｉに
対応する。

【０１４４】これらの３図面中、（１）は堆積用オリフ
ィスを示す。

【０１４５】これらの３図面中、過剰の液体を吸引する
ためのスリットは軸ＸＸ’の近傍に配置されている。

【０１４６】より詳細には、図４ａは、マスクの有効表
面ＳｍがＳｉよりも大きく且つマスクの有効表面Ｓｍが
Ｓｇよりも大きい場合に対応し、堆積用オリフィス
（１）はＳｉの内側又は外側に配置される。

【０１４７】ＸＸ’は表面Ｓｉの下限に対応する。

【０１４８】ＹＹ’はＳｉの上限に対応する。

【０１４９】ＺＺ’はゲルの上限に対応する。

【０１５０】図４ｂは、マスクの有効表面Ｓｍがインキ
ュベーション表面Ｓｉに等しく且つマスクの有効表面Ｓ
ｍがゲルの表面Ｓｇよりも小さい場合に対応し、堆積用
オリフィス（１）はＳｉの内側に配置される。

【０１５１】ＸＸ’はＳｉの下限に対応する。

【０１５２】図４ｃは、マスクの有効表面Ｓｍがインキ
ュベーション表面Ｓｉよりも大きく且つマスクの有効表
面Ｓｍがゲルの表面Ｓｇよりも小さい場合に対応する。
堆積用オリフィスは、インキュベーション表面Ｓｉの内
側又は外側に配置される。

【０１５３】ＸＸ’はＳｉ又はＳｍの下限に対応する。

【０１５４】ＹＹ’はＳｉの上限に対応する。

【０１５５】ＺＺ’はＳｍの上限に対応する。

【０１５６】図５ａ及び５ｂは、複数の試薬又は同一試
薬を同一ゲルの複数の別個のインキュベーション表面Ｓ
ｉ₁〜Ｓｉ_nに堆積する場合を示す。

【０１５７】堆積用オリフィスは（１）により示す。イ
ンキュベーション表面Ｓｉ₁〜Ｓｉ_nは斜線部分である。
ゲルの表面は実線により画成され、マスクの有効表面Ｓ
ｍ₁〜Ｓｍ_nは点線により画成される。

【０１５８】図５ａ中、ＸＸ’はインキュベーション表
面Ｓｉ₁〜Ｓｉ_nの下縁部線を示す。

【０１５９】図５ｂ中、ＸＸ’はインキュベーション表
面Ｓｉ₁〜Ｓｉ_nの下縁部線を示し、ＹＹ’はインキュベ
ーション表面Ｓｉ₁〜Ｓｉ_nの上縁部線を示し、ＺＺ’は
表面Ｓｍ₁〜Ｓｍ_nの上縁部線を示す。

【０１６０】図５ａ及び５ｂ中、スリット（図示せず）
は軸ＸＸ’の近傍に配置されている。

【０１６１】図６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄ，６ｅ，６ｆ，
６ｇ，６ｈ及び６ｉは、本発明のマスクの種々の可能な
構成の断面図を示す。

【０１６２】図６ａは、表面Ｓｍが平坦で且つゲルに平
行であり、ゲルと表面Ｓｍとが水平位置に配置される場
合に対応する。

【０１６３】（１）は試薬導入用オリフィスを示し、
（ｅ）は表面Ｓｍからゲルまでの距離を示し、斜線部は
インキュベートすべき表面Ｓｉを示す。これらの場合、
試薬の導入量はＳｍ×ｅ以上でなければならない。

【０１６４】表面Ｓｍは、一方では過剰の液体を吸引す
るためのスリット（２）により画成され、他方では凹部
の一部により画成される。

【０１６５】図６ｂは、ゲル−マスクアセンブリが過剰
の液体を吸引するためのスリット（２）の側に傾斜して
いる点以外は、図６ａと同様に表面Ｓｍがゲルに平行な
場合を示し、マスク−ゲルアセンブリと水平との間に形
成される角度は約１５°である。この場合、試薬の導入
量はＳｉ×ｅ以上でなければならない。

【０１６６】図６ｃは、表面Ｓｍがゲルとの間に約１〜
約２°の小さい角度を形成し、ゲル自体は水平位置に配
置されている場合を示す。（ｅ１）はＳｍと表面Ｓｉと
の間の最小距離を示し、（ｅ２）はＳｍとＳｉとの間の
最大距離を示す。この場合、試薬導入量はＳｉ×（ｅ１
＋ｅ２）／２以上である。

【０１６７】図６ｄは、マスクが相互にＶ字形を形成す
る平坦な上表面と平坦な下表面とにより構成される場合
に対応する。（ｅ１）はＳｍ及びＳｉ間の最小距離を表
し、（ｅ２）はＳｍ及びＳｉ間の最大距離を表す。

【０１６８】この場合、試薬導入量はＳｉ×（ｅ１＋ｅ
２）／２以上である。

【０１６９】図６ｅは、マスクが相互にＶ字形を形成す
る２つの平坦な表面により構成される場合に対応する。
この場合、マスクの表面積Ｓｍは（Ｓ’ｍ＋Ｓ”ｍ）に
等しい。表面Ｓ’ｍは、それ自体水平位置にあるゲルに
対して平行な表面であり、表面Ｓ”ｍは表面Ｓ’ｍとの
間に角度αを形成する。表面Ｓ”ｍと表面Ｓｉとの間の
最小距離はｅ１であり、表面Ｓ’ｍと表面Ｓｉとの間の
距離はｅ２である。この場合、試薬導入量はＳ’ｍ×ｅ
２以上であり、但し、Ｓ’ｍ×ｅ２≧（Ｓｉ−Ｓ”ｍｃ
ｏｓα）ｅ２＋Ｓ”ｍｃｏｓα（ｅ１＋ｅ２）／２とす
る。

【０１７０】図６ｅにはインキュベーション表面がスリ
ット（２）まで達している場合を示したが、インキュベ
ーション表面が表面Ｓ’ｍ及びＳ”ｍの交わり（３）で
止まる場合も考えられる。この構成を図６ｆに示す。

【０１７１】実際に、図６ｅの場合と異なり、これらの
条件下ではインキュベーションゾーン上に展開される単
位表面積当たりの試薬量は一定である。

【０１７２】一方、主に（インキュベーション反応速度
が遅いために）インキュベーション時間が長く且つ試薬
が反応の必要量よりもあまり多くない場合には、インキ
ュベートするゲルの単位表面積当たりの試薬の量を一定
にすることが必要であり得る。

【０１７３】これらの条件下では、インキュベーション
ゾーンの位置に関係なく同一結果を得るために、インキ
ュベーションゾーンのレベルでゲルとマスクとを等間隔
にすると有利である。ゲル−マスクスペースの狭隘部に
対応するゾーンは、この場合インキュベーションゾーン
の外側にあり、試薬の超過消費は僅かであるので、不要
であるがインキュベーションを受ける。

【０１７４】図６ｇは、マスクが水平位置でゲルに平行
な平坦な表面Ｓ’ｍと、該表面Ｓ’ｍから延在し且つ表
面Ｓ’ｍに正接する半径Ｒの円筒形表面Ｓ”ｍとを有す
る場合に対応する。半径ＲはＳｉの長さＬｉと同程度又
はこれよりも大きい。（１）は堆積用オリフィスを示
し、（２）はスリットを示す。

【０１７５】図６ｈ及び６ｉは、上表面及び下表面がい
ずれも円筒形表面を有するマスクの場合に対応する。

【０１７６】上表面が凹状の場合は図６ｈに示し、凸状
の場合は図６ｉに示す。

【０１７７】いずれの場合も円筒形下表面の直径はＳｉ
の長さＬｉの二乗よりも大きい。

【０１７８】図７ａ，７ｂ及び７ｃは、試薬堆積用オリ
フィスがインキュベーション後に試薬を除去するための
オリフィス（堆積用オリフィスと区別する場合にはスリ
ットと呼称する）をも構成するようにマスクを作製した
ゲル−マスクアセンブリを示す。ゲルはプラスチック支
持体上に成形される。

【０１７９】図７ａ，７ｂ及び７ｃの場合、マスクの下
面はゲルの表面に対して傾斜しており、ゲルの表面自体
はマスクの上表面に平行である。

【０１８０】図７ｂ及び７ｃの場合、ゲルはマスクの上
に配置される。この場合、ゲルは例えば真空吸引装置
（５）、例えば真空口に接続された多孔プレートによ
り、マスクと接触することなくマスクの近傍に維持され
る。従って、ゲルは下向きの面を有する。ゲルに対する
マスクの相対位置に関してどのような実施態様を採用す
るかに関係なく、ゲルの面はインキュベーションが行わ
れるこのゲルの表面に対応し、マスクの所謂上下表面は
いずれにせよ、ゲルの最近傍の表面（マスクの下表面の
場合）及びゲルから最も遠位の表面（マスクの上表面の
場合）に対応する。

【０１８１】この実施態様によると、試薬はチャネル又
は管（４）（種々の試薬を使用する場合は多重チャネ
ル）により試薬を補給されるポンプを介して、堆積及び
インキュベーション表面に向かって供給される。

【０１８２】図７ｃは、ゲルの別個の複数の表面のレベ
ルに試薬の堆積、展開及びインキュベートすることが可
能なゲル−マスク装置を示す。

【０１８３】

【実施例】実施例１：ゲルの表面全体に単一試薬を堆積、展開及
びインキュベートするためのマスク：これらの条件下で、ゲルの表面はマスクの表面Ｓｍより
も小さい（図３ａ）か、又はマスク表面積Ｓｍと同一で
ある（図３ｂ）。

【０１８４】ゲルがマスクの下表面に対して水平及び平
行位置にあるとき、ゲルとマスクとの間の距離はｅであ
る。従って、試薬の導入量は少なくともＳｉ×ｅ＝Ｓｇ
×ｅに等しい。

【０１８５】インキュベーション時に蒸発による損失を
補償するために必要であり得る試薬の量が過剰である場
合、この試薬は、一方では堆積用オリフィスのレベルで
分配され（但しオリフィスは毛管力が発生し得るような
寸法を有するものとする）、他方ではＳｉの周囲に均等
に分配される。

【０１８６】実施例２：ゲルの一部に単一試薬を堆
積、展開及びインキュベートするためのマスク：以下の構成を予想することができる。

【０１８７】マスクの表面Ｓｍはインキュベーション表
面Ｓｉよりも大きく、マスクの表面Ｓｍはゲルの表面Ｓ
ｇ以上であり、堆積用オリフィスはインキュベーション
表面Ｓｉの内側又は外側に配置される（図４ａ）。

【０１８８】ゲルとマスクとが距離ｅを隔てて相互に平
行であるならば、試薬導入量はＳｉ×ｅである。

【０１８９】インキュベーションゾーンＳｉ上に試薬の
存在を確保するためには、試薬が被覆すべきゲルのゾー
ンの側、即ちＸＸ’とＹＹ’との間に重力により落下す
るように、ＸＸ’に平行な軸の周囲に回転させることに
より、ゲル−マスクアセンブリを傾斜させることができ
る。

【０１９０】インキュベーション表面Ｓｉを試薬で覆う
ための別の方法としては、ゲルを水平位置に維持し、Ｘ
Ｘ’のレベルにおけるゲル−マスク距離ｅ１がＹＹ’の
レベルにおけるゲル−マスク距離ｅ２よりも小さくなる
ように、ＸＸ’に平行な軸の周囲に回転させることによ
りマスクをやや傾斜させることもできる。

【０１９１】これらの場合、マスクはゲルの面との間に
角度αを形成する。ＬｉがＸＸ’及びＹＹ’間の距離
（ｍｍ）であるならば、ｔｇαは２／Ｌｉ以下である。

【０１９２】これらの条件下で、Ｓｉを覆うために導入
すべき試薬の量は、Ｓｉ（ｅ１＋ｅ２）／２であり、ゲ
ルとマスクとを接触させてはならないので、ｅ１は０．
１ｍｍ以上であり、ｅ２は毛管力が十分となるように２
ｍｍ以下である。

【０１９３】インキュベーション時に発生し得る蒸発の
効果を補償するための過剰の試薬は、ＹＹ’からＹＹ’
とＺＺ’の間に分配される。

【０１９４】実施例３：ゲルの一部に単一試薬を堆
積、展開及びインキュベートするためのマスク：マスクの表面Ｓｍはインキュベーション表面Ｓｉに等し
く、マスクの表面Ｓｍはゲルの表面Ｓｇよりも小さく、
堆積用オリフィスはインキュベーション表面の内側に配
置される（図４ｂ）。

【０１９５】ゲルが水平位置に配置され且つ距離ｅを隔
ててマスクに平行に配置されるならば、液体の導入量は
Ｓｉ×ｅ＝Ｓｍ×ｅである。

【０１９６】やや過剰量の試薬は一方では、（毛管力が
発生するために適切な寸法を有する場合に）堆積用オリ
フィスのレベルに分配され、他方ではＳｉの周囲に均等
に分配される。この場合、ゲル及びマスクアセンブリを
傾斜させる必要も、ゲルの面とマスクの面との間に角度
を形成する必要もない。

【０１９７】実施例４：ゲルの一部に単一試薬を堆
積、展開及びインキュベートするためのマスク：マスクの表面Ｓｍはインキュベーション表面Ｓｉよりも
大きく、マスクの表面Ｓｍはゲルの表面Ｓｇよりも小さ
く、堆積用オリフィスはインキュベーション表面の内側
又は外側に配置される（図４ｃ）。

【０１９８】ａ）ゲルとマスクとが距離ｅを隔てて相互
に平行である場合、試薬導入量はＳｉ×ｅである。

【０１９９】ＸＸ’とＹＹ’との間に試薬の存在を確保
するためには、ＸＸ’がＹＹ’よりも低位に配置され且
つ液体が重力によりＸＸ’まで落下してＸＸ’及びＹ
Ｙ’間に集められるように、ＸＸ’に平行な軸の周囲に
回転させることにより、ゲル−マスクアセンブリを傾斜
させる。

【０２００】液体が毛管現象によりＸＸ’とＹＹ’との
間に維持されるために許容される最大角度は、距離ｅが
小さければ小さいほど大きい。距離ｅ＝０．２ｍｍであ
り、ＸＸ’及びＹＹ’間の距離Ｌｉが７．５ｃｍ以下で
あり、試薬が水である場合、この最大角度は理論的には
９０°であり得る（Ｊｕｒｉｎの法則）。

【０２０１】ｂ）ゲルが水平位置にある場合、ＸＸ’と
ＹＹ’との間に試薬の存在を確保するためには、マスク
をやや傾斜させることができる。これは、ＸＸ’のレベ
ルにおけるゲル−マスクの間隔ｅ１がＹＹ’のレベルに
おける間隔ｅ２よりも小さくなるように実施され得る
（実施例２参照）。従って、試薬の量はＳｉ（ｅ１＋ｅ
２）／２である。

【０２０２】実施例５：同一ゲルの複数の別個のイン
キュベーション表面に複数試薬又は同一試薬を分配する
場合：後者の場合（複数の別個の表面に同一の試薬を分配する
場合）は、試薬の消費を制限するために予想することが
できる。

【０２０３】ゲルとマスクとが水平で且つ距離ｅを隔て
て相互に平行に配置される場合、各インキュベーション
表面（Ｓｉ₁〜Ｓｉ_n）に導入すべき試薬の量はＳｉ₁×
ｅ，Ｓｉ₂×ｅ等である（図５ａ）。

【０２０４】この実施例は実施例３に類似する。

【０２０５】実施例６：同一ゲルの複数の別個のイン
キュベーション表面に複数の試薬又は同一試薬を分配す
る場合：ａ）ゲルとマスクとが距離ｅを隔てて相互に平行である
ならば、実施例４ａと類似の条件を選択する。

【０２０６】ｂ）ゲルが水平位置に配置され且つマスク
がやや傾斜している場合、実施例４ｂと類似の条件を選
択する。

【図面の簡単な説明】

【図１】インキュベーション表面Ｓｉ上に単一液体を堆
積、展開及びインキュベートするために使用される本発
明のマスクの断面図及び平面図である。

【図２】種々のインキュベーション表面（例えば６個）
を被覆すべき複数の液体を受容するために使用されるマ
スクの、溝の方向に沿うＣ−Ｃ断面図、堆積用オリフィ
スが通るＤ−Ｄ断面図、及び平面図である。

【図３】図３ａ及び３ｂは、ゲルの全体に単一の試薬を
堆積するために使用されるゲル−マスクアセンブリを示
す。

【図４】図４ａ、４ｂ及び４ｃは、ゲルの表面Ｓｇの一
部に単一試薬を堆積するためのゲル−マスクアセンブリ
を示す。

【図５】図５ａ及び５ｂは、複数の試薬又は同一試薬を
同一ゲルの複数の別個のインキュベーション表面Ｓｉ₁
〜Ｓｉ_nに堆積する場合を示す。

【図６】図６ａは、表面Ｓｍが平坦で且つゲルに平行で
あり、ゲルと表面Ｓｍとが水平位置に配置されるように
構成された本発明のマスクの実施態様を示す断面図であ
る。

【図７】図６ｂは、ゲル−マスクアセンブリが過剰の液
体を吸引するためのスリットの側に傾斜している点以外
は、図６ａと同様に構成された本発明のマスクの実施態
様を示す断面図である。

【図８】図６ｃは、表面Ｓｍがゲルとの間に約１〜約２
°の小さい角度を形成し、ゲル自体は水平位置に配置さ
れるように構成された本発明のマスクの実施態様を示す
断面図である。

【図９】図６ｄは、マスクが相互にＶ字形を形成する平
坦な上表面と平坦な下表面とにより構成される本発明の
マスクの実施態様を示す断面図である。

【図１０】図６ｅは、マスクが相互にＶ字形を形成する
２つの平坦な表面により構成され、インキュベーション
表面がスリット（２）まで達している本発明のマスクの
実施態様を示す断面図である。

【図１１】図６ｆは、図６ｅと同様であるが、インキュ
ベーション表面が表面Ｓ’ｍ及びＳ”ｍの交わり（３）
で止まる場合の本発明のマスクの実施態様を示す断面図
である。

【図１２】図６ｇは、マスクが水平位置でゲルに平行な
平坦な表面Ｓ’ｍと、該表面Ｓ’ｍから延在し且つ表面
Ｓ’ｍに正接する半径Ｒの円筒形表面Ｓ”ｍとを有する
場合の本発明のマスクの実施態様を示す断面図である。

【図１３】図６ｈは上表面が凹状の場合の本発明のマス
クの実施態様を示す断面図である。

【図１４】図６ｉは、上表面が凸状の場合の本発明のマ
スクの実施態様を示す断面図である。

【図１５】図７ａは、試薬堆積用オリフィスがインキュ
ベーション後に試薬を除去するためのオリフィスをも構
成し、ゲルがマスクの下に配置された本発明のゲル−マ
スクアセンブリを示す。

【図１６】図７ｂは、図７ａと同様であるが、ゲルがマ
スクの上に配置された発明のゲル−マスクアセンブリを
示す。

【図１７】図７ｃは、ゲルの別個の複数の表面のレベル
に試薬を堆積、展開及びインキュベートすることが可能
なゲル−マスク装置を示す。

【符号の説明】

１堆積用オリフィス２スリット４チャネル５真空吸引装置

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】以下「インキュベーション表面Ｓｉ」と
呼称するゲルの１個以上の所定のゾーンに沿って総表面
Ｓｇのゲル上に１種以上の液体を堆積、展開及びインキ
ュベートするための剛性マスクであって、該マスクは：マスクの厚さを構成する距離を隔てて相互に配置された
上下表面と、ゲルのインキュベーション表面Ｓｉ上に液体を堆積及び
展開するように構成され且つマスクの全厚を貫通する切
欠により構成される少なくとも１個のオリフィスと、及
び／又はマスクの全厚を貫通しており且つゲルのインキ
ュベーション表面Ｓｉ上に存在する過剰の液体を除去す
るように構成された少なくとも１個のスリットとを含ん
でおり、該スリットは、ゲル上への該スリットの投影が上記イン
キュベーション表面Ｓｉの一方の端に隣接し且つ該イン
キュベーション表面Ｓｉの内部又は外部に位置するよう
に上記マスク上に配置され、マスクの下表面は、該マスクの下表面がインキュベーシ
ョン表面Ｓｉと接触しないような条件下でゲルの表面Ｓ
ｇ上に液体を堆積し、この下表面は更に、該下表面の一部分である有効表面Ｓ
ｍにおいては少なくとも上記インキュベーション表面Ｓ
ｉと該有効表面Ｓｍとの間の液体の展開を妨げ得るよう
な表面凹凸を含まないように構成されており、それによ
り上記液体が有効表面Ｓｍのゲルへの投影部に位置する
上記インキュベーション表面Ｓｉ上においてのみ展開さ
れることを特徴とする前記マスク。
【請求項２】上記表面Ｓｍが平坦もしくはインキュベ
ーション表面の長さの二乗以上の直径を有する湾曲状で
あるか、又は互いに結合された平坦もしくは湾曲した要
素面で構成され、これらの種々の要素面及びその結合
が、上記インキュベーション表面Ｓｉ上の液体の展開を
妨げないように構成されていることを特徴とする請求項
１に記載のマスク。
【請求項３】上記表面Ｓｍが、円筒形であるか円筒形
要素面により構成される請求項２に記載のマスク。
【請求項４】１種以上の液体を堆積、展開及びインキ
ュベートするためのマスクであって、マスクの下表面が
少なくとも２つの段差又は２つの溝（３）を含み、段差
又は溝が、少なくとも１つのマスクの部分Ｓｍの境界を
定めるように相互に離間されており、該部分Ｓｍは、イ
ンキュベーション表面Ｓｉ上の液体の展開を妨げ得る表
面凹凸を含まず、該部分のゲル上への投影は、液体が展
開され得るゲルのインキュベーション表面Ｓｉの領域以
上であり、上記段差又は溝は、液体がゲルの前記インキ
ュベーション表面Ｓｉ上に毛管現象により保持され得る
ために十分な深さを有することを特徴とする請求項１に
記載のマスク。
【請求項５】単一液体を堆積、展開及びインキュベー
トするためのマスクであって、該マスクは、マスクを貫
通し且つゲル上に単一液体を堆積し、これをゲルのイン
キュベーション表面Ｓｉに沿って展開及びインキュベー
トするように構成された単一のオリフィスを含むことを
特徴とする請求項１に記載のマスク。
【請求項６】複数の液体を夫々のインキュベーション
表面Ｓｉ_１〜Ｓｉ_ｎに沿って単一ゲル上に、又は単一液
体を複数のインキュベーション表面Ｓｉ_１〜Ｓｉ_ｎ（た
だし、ｎは２〜５０である）に沿って単一ゲル上に堆
積、展開及びインキュベートするためのマスクであっ
て、該マスクは、下表面が段差又は溝を含むように構成
され、段差又は溝は、表面Ｓｉ_１〜Ｓｉ_ｎ上において液
体の展開を妨げ得る表面凹凸を含まないマスクの複数の
部分Ｓｍ_１〜Ｓｍ_ｎ（ｎは１〜５０）の境界を定めるよ
うに相互に離間され、ゲル上の該部分Ｓｍ_１〜Ｓｍ_ｎの
投影は液体を展開させるべきゲルのインキュベーション
表面Ｓｉ_１〜Ｓｉ_ｎ以上であり、段差及び溝は、液体が
ゲルの該インキュベーション表面Ｓｉ_１〜Ｓｉ_ｎ上にお
いて毛管現象により保持され得るために十分な深さを有
することを特徴とする請求項１に記載のマスク。
【請求項７】上記堆積用オリフィスが、インキュベー
ション表面Ｓｉ上に液体を確実に展開するために、過剰
な液体を保持することが可能な槽を構成し得るような容
積を有することを特徴とする請求項１から６のいずれか
一項に記載のマスク。
【請求項８】上記堆積用オリフィスが細長形又は円形
であることを特徴とする請求項１から６のいずれか一項
に記載のマスク。
【請求項９】上記堆積用オリフィスがマスクの部分Ｓ
ｍの中央の近傍に配置され且つ細長形のスリットの形状
であって、インキュベーション表面Ｓｉ上に液体が堆積
するのを妨げないような寸法を有しており、この堆積用
オリフィスは更に、表面Ｓｉ上に展開される過剰の液体
を除去するためのスリットの機能を確保し得ることを特
徴とする請求項１から６のいずれか一項に記載のマス
ク。
【請求項１０】上記堆積用オリフィスの長さはインキ
ュベーション表面Ｓｉの長さであり、その幅は１ｍｍ〜
２ｍｍである請求項９に記載のマスク。
【請求項１１】上記過剰の液体を除去するためのスリ
ットが上記インキュベーション表面の幅方向に対して平
行であり、堆積用オリフィス側とは反対側の端部でイン
キュベーション表面に隣接して位置し、且つ該スリット
の内周表面がマスクの表面に対して垂直である請求項１
から８のいずれか一項に記載のマスク。
【請求項１２】上記スリットの幅が１ｍｍから４ｍｍ
であり、その長さが上記表面Ｓｉの幅以上であることを
特徴とする請求項１１に記載のマスク。
【請求項１３】過剰の液体を除去するための手段を該
過剰の液体に直接接触させるように位置させ得るよう
に、上記スリットの内周表面が、マスク表面の垂直方向
に対して傾斜していることを特徴とする請求項１２に記
載のマスク。
【請求項１４】マスクの厚さが１ｍｍ〜２０ｍｍであ
り、上記段差が少なくとも０．２ｍｍの深さを有してい
るか、又は、上記溝が、インキュベーション中にマスク
と１のインキュベーション表面Ｓｉとの間に毛管現象に
より保持される各液体が該Ｓｉに直接隣接するインキュ
ベーション表面上に保持される液体と混合しないように
するために十分な幅を有している請求項１から１３のい
ずれか一項に記載のマスク
【請求項１５】上記マスクの厚さが２ｍｍから１０ｍ
ｍであり、且つ上記段差（３）が０.５ｍｍから２０ｍ
ｍの深さを有しており、また上記溝の幅が１ｍｍから１
０ｍｍである請求項１４に記載のマスク。
【請求項１６】複数のマスクの部分Ｓｍを含むマスク
であって、該部分Ｓｍが各々堆積用オリフィス（１）を
含み、このマスクはゲルの上記表面Ｓｉ上に展開する過
剰の液体を除去するための単一のスリット（２）を含む
請求項１から１５のいずれか一項に記載のマスク。
【請求項１７】上記部分Ｓｍを６乃至５０個含み、上
記堆積用オリフィスは、該オリフィスのゲル上への投影
が該ゲルのアノード部分に対応するように該Ｓｍの一部
分に配置され、且つ上記スリット（２）がマスクの上記
部分Ｓｍの大きいほうの寸法に対して垂直に伸延してお
り、該スリットの投影がゲルのカソード領域に位置する
ようにマスクに配置されていることを特徴とする請求項
１６に記載のマスク。
【請求項１８】マスクが、Ｓｉの寸法以上の寸法を有
する単一部分Ｓｍを含んでおり、且つ細長い形状を有す
るオリフィスをＳｍの一端の近傍に備えており、更に過
剰の液体を除去するためのスリットをＳｍの他端の近傍
に備えていることを特徴とする請求項１から１７のいず
れか一項に記載のマスク。
【請求項１９】上記オリフィスの長さが上記インキュ
ベーション表面Ｓｉの幅に相当し、上記スリットの長さ
が少なくともＳｉの幅であることを特徴とする請求項１
８に記載のマスク。
【請求項２０】上記ゲルとマスクの部分Ｓｍとの間の
最小距離が０．１ｍｍ以上、最大距離の値が０．５ｍｍ
〜２ｍｍとなるようにマスクをゲルに対して位置決めす
る手段を含むことを特徴とする請求項１から１９のいず
れか一項に記載のマスク。
【請求項２１】上記堆積用オリフィスが、更に上記ゲ
ルのインキュベーション表面Ｓｉ上に存在する過剰の液
体を除去できるように構成されていることを特徴とする
請求項１から９、１４、１８又は１９のいずれか一項に
記載のマスク。
【請求項２２】請求項１から２１のいずれか一項に記
載のマスクとゲルとを含み、予め電気泳動を行ったゲル
上でインキュベーションを行うか、又は交差反応（クロ
スドット）を行うことが可能なセット。
【請求項２３】インキュベーション表面Ｓｉ上に展開
すべき液体が、マスクの部分Ｓｍのゲルへの投影部分に
おいて該ゲルのインキュベーション表面Ｓｉ上に毛管現
象により保持され、且つ該マスクの部分Ｓｍが該ゲルと
平行になるかゲルに対して傾斜するように該マスクの部
分Ｓｍをゲルに対して充分に接近させる位置決め手段を
含む請求項２２に記載のセット。
【請求項２４】上記マスクの部分Ｓｍが上記ゲルに対
して０.５°から３°の角度で傾斜していることを特徴
とする請求項２２に記載のセット。
【請求項２５】上記マスクと上記ゲルの間の距離が上
記スリットの近傍で最小となり、上記マスクと上記ゲル
の間の距離が上記堆積用オリフィスの近傍で最大となる
ことを特徴とする請求項２３又は２４に記載のセット。
【請求項２６】上記マスクは上記ゲルの上に配置さ
れ、堆積、展開およびインキュベーションされるための
ゲルの表面が上記マスクの下表面に隣接していることを
特徴とする、ゲルと請求項１から２１のいずれか一項に
記載のマスク含むセット。
【請求項２７】上記マスクは上記ゲルの下に配置さ
れ、堆積、展開およびインキュベーションされるための
ゲルの表面がマスクの上記下表面に隣接していることを
特徴とする、ゲルと請求項１から２１のいずれか一項に
記載のマスク含むセット。
【請求項２８】以下「インキュベーション表面Ｓｉ」
と呼称するゲルの１個以上の所定のゾーンに沿って表面
Ｓｇのゲル上に１種以上の液体を堆積、展開及びインキ
ュベートするための方法であって、該方法は、ゲルに対して請求項１から２１のいずれか一項に記載の
マスクを、インキュベーション表面Ｓｉ上に展開すべき
液体が該表面Ｓｉ上に毛管現象により保持されるよう
に、該マスクの部分Ｓｍを該表面Ｓｉに対して充分に接
近させるように配置し、上記液体は、前記定義の堆積用オリフィスへ投入され、上記液体と上記ゲル上に電気泳動等により堆積された蛋
白質等の成分との間で反応が起こるのに十分な時間の
間、上記マスクは上記ゲルに対して前記の位置に維持さ
れるか、上記マスクと上記ゲルが相互に並行な場合に
は、該液体を上記表面Ｓｉ上に毛管現象により分配する
ために、マスクをゲルに対して傾斜させるか、或いは該
液体をインキュベーション表面Ｓｉ上に重力により分配
するために、上記ゲルとマスクのセットを水平方向に対
して傾斜させ、インキュベーション終了後、ゲルの所定のインキュベー
ション表面上に展開した過剰の液体が前記定義のスリッ
トを通して配置された濾紙等の手段により除去され、上記マスクが上記ゲルから取り除かれることを特徴とす
る方法。
【請求項２９】上記マスクが上記ゲルに対して平行に
維持され、且つ上記セットが、上記液体を上記インキュ
ベーション表面Ｓｉ上に重力により展開するのに充分な
角度で水平方向に対して傾斜していることを特徴とする
請求項２８に記載の方法。
【請求項３０】マスクが、上記液体を上記インキュベ
ーション表面Ｓｉ上に毛管現象により展開するのに十分
な角度で、ゲルに対して維持されることを特徴とする請
求項２８に記載の方法。
【請求項３１】上記ゲルが水平位置にあるとき、上記
マスクが該ゲルに対して０.５°から３°の角度で維持
されることを特徴とする請求項３０に記載の方法。
【請求項３２】請求項１から２１のいずれか一項に記
載のマスク、又は請求項２２から２７のいずれか一項に
記載のセットを含み且つ１種以上の試薬を展開及びイン
キュベートするように構成された電気泳動装置。