JP3161279B2 - フィルム及びそれを用いた磁気記録媒体 - Google Patents
フィルム及びそれを用いた磁気記録媒体Info
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Description
においても安定な性能を有する、磁気記録媒体等のベー
スとして好適に用いられるフィルムに関する。
テルフィルムに酸化物塗布型磁性層やメタル塗布型磁性
層を設けてなる磁気記録媒体が知られている。(例えば
特開昭61−26933、特開昭60−66319な
ど)。また芳香族ポリアミドについては長手方向と幅方
向のヤング率の異なるフィルムの磁気記録媒体への応用
例が特開昭62−62424に示されている。
屋外での使用の増加、あるいは小型化、記録時間の長時
間化の要請により、またコンピュータの外部メモリとし
て使用するため、薄膜で、過酷な条件での耐久性に優れ
た磁気記録媒体の要求が強くなってきている。
ベースあるいは芳香族ポリアミドベースからなる磁気記
録媒体では、常温、通常湿度下では問題ないが高温、高
湿度条件下で使用すると走行性や、出力特性が悪化した
り、また、繰り返し走行においてドロップアウトが発生
するという問題が出てきている。これは基材フィルムの
耐熱性、耐湿性が不十分であったり、表面性、走行性が
十分ではないためであると考えられる。
た雰囲気のもとでは耐熱性、剛性に優れるものの該フィ
ルムは吸湿により膨潤し寸法安定性に欠く上、高剛性な
フィルムを得るべく、高重合度化には酸クロリドとジア
ミンを用いた低温溶液重合法が有効であるが、該重合法
を用いたときには発生する塩酸や中和剤、溶解性改善の
ための添加剤等のイオン性不純物を多く含有することが
多いため、高温高湿度下においては大きく物性を低下す
る要因となりうる。
基材中の不純物の規制や特に高温下における機械特性を
規定することによって、素材本来の優れた耐熱性、高剛
性を活かし、高温高湿下、繰り返し走行などの厳しい条
件下でも走行性、出力特性の優れた磁気記録媒体に好適
なフィルムを提供することを目的とする。
55℃の高圧水蒸気雰囲気中で4日間処理を行ったとき
の伸度保持率が60%以上であり、かつ20℃、相対湿
度60%における少なくとも一方向の引張りヤング率E
20と、80℃、相対湿度80%における同方向の引張り
ヤング率E80が、 E20≧700kg/mm 2 0.5≦E80/E20 を充たすことを特徴とする有機高分子体からなるフィル
ムである。
は、155℃の高圧水蒸気雰囲気に4日間処理を行った
ときの伸度保持率が60%以上、好ましくは70%以
上、更に好ましくは80%以上であれば、特に制限はな
い。この伸度保持率が本発明の範囲を充たすことによっ
て高温、高湿下において長期間使用してもぜい化の無い
安定な製品とすることができる。
ば、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリカー
ボネート、ポリアセテート、ポリアクリレート、ポリア
クリロニトリル、ポリビニルアルコール、ポリアルキレ
ン樹脂、フッ素樹脂等を挙げることができる。中でも本
発明の要件である剛性を持つフィルムが得やすく、また
加工性に優れることからポリアミド、特に芳香族ポリア
ミドが好ましい。
式(I)および/または一般式(II) 一般式(I)
たR、R′及びR″はハロゲン基、ニトロ基、シアノ
基、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜3のアルコ
キシ基、トリアルキルシリル基から選ばれる官能基で、
l, m及びnは0〜4の整数。)で示されるものであ
り、一般式(I)および/または一般式(II)で表され
る繰り返し単位を50モル%以上含むものが好ましく、
70モル%以上からなるものがより好ましい。
ば、一般式(III )
−,−SO2 −、−S−,−C(CH3 )2 −等から選
ばれるが、これに限定されるものではない。
されたものが、全芳香環の50%以上、好ましくは75
%以上を占める重合体が、フィルムの剛性が高く耐熱性
も良好となるため好ましい。
結合方向がパラ位に位置しているかあるいは2つ以上の
芳香環からなる残基において両端の主鎖の方向が同軸あ
るいは平行であることを意味する。このような芳香環の
例としては一般式(IV)のものを例示できる。
たは一般式(II)で表される繰り返し単位を50モル%
以上含むものであって、50モル%未満は本発明を充た
す限りにおいて他の繰り返し単位が共重合、またはブレ
ンドされていても差し支えない。
向上せしめる為に、これらの芳香環上の水素原子の一部
を、一般式(I)及び/または一般式(II)において
R,R′,R″として表される、ハロゲン基(特に塩
素)、ニトロ基、炭素数1〜4のアルキル基(特にメチ
ル基)、炭素数1〜3のアルコキシ基などの置換基で置
換することを好ましく行うことができる。一般式(I)
あるいは一般式(II)におけるl, m及びnの値は任意
であるが、一般式(I)においては、l+mが1以上5
以下、好ましくは2以上4以下でかつl>0、m>0と
するのが実用的である。l+mが5を超えるとフィルム
が脆くなり好ましくない。また、一般式(II)において
はnが0以上2以下、好ましくは1以上2以下であるの
が実用的である。また、導入可能な置換基の中で、好ま
しく用いられる置換基としては、機械物性の低下がほと
んどないことから、塩素,メチル基,メトキシ基が挙げ
られ、耐湿熱性に優れ、伸度低下が少ないことから塩素
がより好ましい。必要以上にバルキーな官能基はかえっ
て他の重要な物性を損ねることとなり本発明の目的には
不適当である。
ド基のオルト位に置換基を導入することは本発明の目的
を達するのに非常に重要である。すなわち、オルト位に
置換基を有すると伸度保持率の向上が認められる。この
割合は本発明の目的を達することができれば任意である
が、好ましくは総アミド基の40%以上、好ましくは5
0%以上、更に好ましくは60%以上に対し置換されて
いることが好ましい。
Er0%である試料を、純水と共に容器内に封入し、試料
管をオーブン中で155℃で4日間処理した処理後の伸
度をEr1%としたとき、(Er1/ Er0)×100(%)
で定義される値であり、60%以上であることが必要で
ある。この値が60%以上であって初めて高温高湿下で
の力学的安定性に優れ、好ましくは70%以上より好ま
しくは80%以上であるとより信頼性の高い製品を得る
ことができる。
は20%以上、更に好ましくは30%以上であると靭性
に優れ、適度な柔軟性を持つため好ましい。
得るには、その基本骨格に基づく寄与もあるが、先述の
ように側鎖に置換基を導入する方法の他、含有不純物の
除去が有効である。とりわけ水溶液中で正あるいは負の
荷電を有するイオン性化合物による劣化の影響が大き
く、特に周期表のIA,IIA,VII B族、中でも塩基性
不純物としてIA,IIA族イオンの影響が大である。こ
こで塩基性不純物とはそのものの水溶液(あるいは上澄
み液)又は該イオン性化合物を空気中で強熱して得られ
る残渣の水溶液(あるいは上澄み液)がアルカリ性を呈
する化合物である。フィルムに含有される塩基性不純物
は3000ppm以下であることが好ましいが、磁気記
録媒体とするときには後に形成される磁性層への影響を
少なくできることから好ましくは100ppm以下、更
に好ましくは10ppm以下であると良い。フィルム中
の塩基性不純物量を減らす為には原料純度、添加剤の選
択、重合条件の選択が重要であるが、製膜工程において
も後述するような方法を用いて達成することができる。
好ましくは70%以上、更に好ましくは80%以上、ヤ
ング率保持率については好ましくは70%以上、更に好
ましくは80%以上であると基材本来の特性を活かすこ
とができ、かつ製品設計上の余裕度を高く取ることがで
きるので好ましい。
抽出したときの抽出残渣は重量比にして0.2%以下で
あることが好ましい。塩化メチレンで抽出できる低分子
量成分等がフィルム中に多く残っていると高温高湿下で
析出しフィルム表面に形成され磁性層、その他の構成に
対し接着性が悪くなり剥離等の問題がある。
%における少なくとも一方向の引張りヤング率E20が、 E20≧700kg/mm 2 である必要がある。より好ましくはE20≧850kg/mm
2 、更に好ましくはE20≧1000kg/mm 2 である。本
発明を磁気記録媒体用ベースフィルムとして用いようと
するとき、磁気記録媒体は磁気記録媒体の薄型化の要請
に応えて薄膜で使用されることが多いので、テープ走行
中、あるいはストップ/スタート時にかかるテンション
に耐えるために、高いヤング率(E20≧700kg/mm
2 )を持つ必要がある。ヤング率がこれより低いとテ
ープの伸びが起こり記録再生性が低下する。また、基材
フィルムが高いヤング率(E20≧700kg/mm 2 )を持
つことにより塗布層形成、バックコート層形成工程など
磁気記録媒体形成時にかかるテンションにも耐えること
が出来、加工上も有利である。
少なくとも一方向の引張りヤング率E20が、700kg/m
m 2 以上であれば、長手方向にテンシライズまたは幅方
向にテンシライズされても差し支えない。テンシライズ
の度合いは特に限定されないが、伸度、引き裂き抵抗力
等の特性を考慮に入れると、長手方向の引張りヤング率
EMDと幅方向の引張りヤング率ETDが、 0.5≦EMD/ETD≦2 の範囲であるのが実用的である。
60%における少なくとも一方向の引張りヤング率E20
と80℃、相対湿度80%における同方向の引張りヤン
グ率E80が、 0.5≦E80/E20 である必要がある。より好ましくは0.6≦E80/E20
であり、更に好ましくは0.7≦E80/E20である。
0.5>E80/E20であると高温、高湿度下などでの使
用時に熱、湿度によりテープの剛性が低下し寸法変化が
起こり記録再生性が低下する。また、高温でのヤング率
低下が小さい(0.5≦E80/E20)と磁性層塗布後の
乾燥工程においてテープの寸法変化が抑えられるため、
加工上も有利である。
が、好ましくは1〜20μm、より好ましくは2〜10
μm、更に好ましくは2〜6μmであると良い。
縮率は2%以下、好ましくは1%以下であることが好ま
しい。2%以上であれば加工時、例えば磁性塗料のキュ
アリング等による加熱等によって収縮ししわを生ずるた
め製品としての用をなさなくなる可能性が高い。
℃、10分間での寸法変化率は1%以下、好ましくは
0.5%以下であることが好ましい。1%以下にするこ
とによって温度変化あるいは緊張下におけるフィルムの
寸法変化が小さくでき、信頼性の高い製品を得ることが
できる。
20×10-6(1/%RH )以下、好ましくは15×10-6
以下であると高湿下での寸法安定性が良好で特に磁気記
録媒体用途においてはデジタルデータのエラーを抑えた
り、ビデオテープでは良好な画質を得ることができ好ま
しい。
あっても良く、同一のポリマー種あるいは異種のポリマ
ー種から構成されていても差し支えない。また、上述の
特性は、積層フィルムとしたときにも満足することが好
ましい。
ましく粒子を含有させることができる。
されないが、例えば、SiO2 、TiO2 、TiN、A
l2 O3 、ZrO2 、ゼオライト、その他の金属微粉末
などの無機粒子やカ−ボンブラック、ゼオライト、その
他の金属微粉末などの無機粒子や、シリコン粒子、ポリ
イミド粒子、架橋共重合体粒子、架橋ポリエステル粒
子、テフロン粒子などの有機粒子を挙げることができ
る。
量は0.01〜40重量%、好ましくは0.05〜20
重量%であると良い。
して好ましく用いることができ、磁性体原料となる金属
あるいは金属化合物の種類は磁性層として、例えば鉄、
コバルト、ニッケル、クロムあるいはこれらの酸化物あ
るいは合金等を有する公知の強磁性層が形成できれば特
に限定されない。また磁性薄膜の形成方法についてはメ
ッキや真空蒸着法、スパッタリング、イオンプレーティ
ング法等の真空薄膜形成技術や強磁性粉末を例えば、塩
化ビニル・酢酸ビニル・ビニルアルコール共重合体、ポ
リウレタンプレポリマおよびポリイソシアネートよりな
るバインダーを用い磁性塗料として付与する湿式法を用
いることができる。この時バインダーは熱硬化性樹脂系
バインダーおよび放射線硬化系バインダーであることが
好ましく、その他添加剤として分散剤、潤滑剤、帯電防
止剤等を含有していてもよい。
ムの表面としても、磁性層を設ける面の表面に設けられ
る微細突起高さが3〜100nmであることが好まし
く、更に好ましくは5〜70nmであると良い。上記範
囲より小さいときには、耐滑り性が悪くなり、耐スクラ
ッチ、耐削れ性を低下させる。一方、上記範囲より大き
いときには、ドロップアウトが増加する。更に、これら
微細突起は基材フィルム上に径として、0.01μm以
上のものが、104 〜108 個/mm2 存在することが
好ましい。微細突起径が0.01μm未満、あるいは微
細突起数が104個/mm2 未満である時には、耐滑り
性が悪くなり、耐スクラッチ、耐削れ性を低下させる。
また、微細突起数が108 個/mm2 を越えると、磁気
ヘッドとのあたりが悪くなり、S/N比の低下を起こ
す。
の表面において高さ546nm以上の表面粗大突起個数
H2が、50個/100cm2 以下、より好ましくは3
0個/100cm2 以下、更に好ましくは20個/10
0cm2 以下であることが好ましい。50個/100c
m2 を超えると磁気記録媒体としたときの表面性が悪化
し、ドロップアウトが発生し、高密度の磁気記録媒体と
して用いることができない。
において高さ819nm以上の表面粗大突起個数H3
が、2〜100個/100cm2 、より好ましくは、2
〜70個/100cm2 、更に好ましくは2〜50個/
100cm2 であることが好ましい。2個/100cm
2 未満であると磁気記録媒体としたときのガイドロール
などとの接触抵抗が大きくなり、走行性が低下する。ま
た100個/100cm2 を超えると塗布工程における
カレンダー処理時あるいは磁気記録媒体としての使用時
に粗大突起が磁性層側の表面に影響を及ぼすことがあ
り、ドロップアウトの原因となって好ましくない。
に先述の微粒子よりもモース硬度が小さく、かつ平均粒
径が0.3〜3μmの範囲にある粒子を0.01〜5重
量%の範囲で同時に含有すると、走行性が向上し、さら
に耐スクラッチ性、耐削れ性がより一層良好となる。
体的に本発明の目的を最も好適に達成できるポリマー群
の中から芳香族ポリアミドを例に述べるが、本発明はこ
れに限定されるものではない。
温溶液重合法、界面重合法、溶融重合法、固相重合法な
どが挙げられるが、本発明には溶液系、特に低温溶液重
合法にての重合が高剛性な基材として得易いため適して
いる。
チルピロリドン(NMP)、ジメチルアセトアミド(D
MAc)、ジメチルホルムアミド(DMF)などの非プ
ロトン性有機極性溶媒を用いる。この時重合溶媒中の水
分等の不純物は極力除かれていなければならず、水分率
は200ppm以下、好ましくは100ppm以下、更
に好ましくは50ppm以下であると良い。また、溶解
助剤として塩化リチウム、臭化リチウム、塩化カルシウ
ムなどを加えても良い。次にジアミン及び酸クロリドを
添加する。芳香族ポリアミドの場合高重合度化のために
はジアミン及び酸クロリドの等量性は非常に重要である
が、重合度を調整する必要のある時は熱安定性に優れる
ことからジアミン成分を過剰に用いることが好ましく、
更にベンゾイルクロリド、無水フタル酸等を用いて末端
封鎖を好ましく行うことができる。
解していることが多いが、本発明に用いる酸クロリドの
純度は99.0%以上の純度を有することが好ましい。
撹拌できるものを用いることが好ましい。
リドとジアミンを使用すると塩化水素が副生するが、こ
れを中和する場合には水酸化カルシウム、炭酸カルシウ
ム、炭酸リチウムなどの無機の中和剤、またエチレンオ
キサイド、プロピレンオキサイド、アンモニア、トリエ
チルアミン、トリエタノールアミン、ジエタノールアミ
ンなどの有機の中和剤が使用される。一般的にこれら中
和剤は磁性層を劣化せしめる要因となるが、後述するよ
うに含有不純物は製膜工程を適正化することで効果的に
除去できるのである。
溶液は一様な重合の進行の結果、重合度が高くまた分散
度を小さくすることができ、数平均分子量を重量平均分
子量で除した値が本発明に好適な1.2以上3.5以
下、より好ましくは1.2以上2以下の範囲とすること
ができる。
て使用してもよく、あるいはポリマを一度単離してから
上記の有機溶媒や、硫酸等の無機溶剤に再溶解して製膜
原液を調製してもよいが無機系溶剤はそれ自身ポリマを
劣化せしめる可能性があるためなるだけ有機溶媒系で行
うべきである。またポリマ濃度は2〜40重量%程度が
好ましい。
ポリアミドフィルムを得るためにはポリマの固有粘度
(ポリマ0.5gを硫酸中で100mlの溶液として3
0℃で測定した値)は、0.5以上であることが好まし
い。
集度の調整,粗大突起の出現を抑制するためには、例え
ば、粒子を予め10ポイズ好ましくは1ポイズ以下の溶
媒中に分散させる方法を挙げることができる。溶媒とし
ては、製膜時に用いるものと同一であることが好ましい
が、特に悪影響が見られないときには、他の溶媒を用い
て差し支えない。また、これら溶媒には分散助剤等の添
加物が分散に悪影響を及ぼさない範囲で用いられて構わ
ない。粒子の分散には撹拌分散器、ボールミル、超音波
分散器等を用い、粒子径、凝集度を調整する。
合するが、混合にあたっては重合前の溶媒に添加あるい
は重合後に添加あるいはポリマ溶液調整時に添加しても
よく、さらにはキャスト直前でも構わないが、原液中に
均一に分散されていることが走行性の確保の点で重要で
ある。
ゆる溶液製膜法によりフィルム化が行なわれる。溶液製
膜法には乾湿式法、乾式法、湿式法などがありいづれの
方法で製膜されても差し支えないが、乾式法は不揮発性
の不純物を除去し得ないため一般的でない。以下に乾湿
式法を例にとって説明する。
らドラム、エンドレスベルト等の支持体上に押し出して
薄膜とし、次いでかかる薄膜層から溶媒を飛散させ薄膜
が自己保持性をもつまで乾燥する。乾燥条件は例えば、
室温〜220℃、60分以内の範囲、好ましくは室温〜
200℃の範囲で行うことができる。またこの乾燥工程
で用いられるドラム、エンドレスベルトの表面欠点頻度
を制御することができ、例えば、径が30μm以上の表
面欠点頻度が0.001〜0.02個/mm 2 、好ましく
は0.002〜0.015個/mm 2 であればよい。乾式
工程を終えたフィルムは支持体から剥離されて湿式工程
に導入されるが、湿式工程での不純物の脱離を効果的に
行うためには自己保持性を失わない範囲でフィルム中の
ポリマ濃度がなるだけ低いことが好ましく、50%以下
であれば容易に目的を達することができる。剥離したフ
ィルムは上記の湿式法と同様に脱塩、脱溶媒などが行な
われ、さらに延伸、乾燥、熱処理が行なわれてフィルム
となる。
工程は重要な役割をもつ。湿式工程を制御することで、
伸度保持率劣化の原因物質を系外へ排出し、より好適な
フィルムとすることができる。
が、水と有機溶媒との混合媒を好適に用いることができ
る。この時有機溶媒としては水溶性であり、好ましくは
重合溶媒と同様、N−メチルピロリドン(NMP)、ジ
メチルアセトアミド(DMAc)、ジメチルホルムアミ
ド(DMF)などの非プロトン性有機極性溶媒が好まし
く、組成比を変化させた複数の浴を用いることはより好
適に本発明の目的を達することができる。また、温度は
浴組成が適当であれば速度的メリットが高く、40℃以
上であればより容易に目的を達することができる。
序だった高次構造を与え、伸度保持率及び熱収縮率の改
善に寄与する。延伸は延伸倍率として面倍率で1.1〜
8.0(面倍率とは延伸後のフィルム面積を延伸前のフ
ィルムの面積で除した値で定義する。1以下はリラック
スを意味する。)の範囲内にあることが好ましく、より
好ましくは1.3〜5.0あるいは最高延伸倍率の70
%以上である。この時なるだけ大きな延伸倍率をとるこ
とが伸度保持率向上に有効である。更に、200℃〜5
00℃、好ましくは250℃〜400℃の温度で数秒か
ら数分間熱処理を行うことで更に伸度保持率が向上す
る。また、延伸後は50℃/秒以下の速度で冷却するこ
とが好ましく行われる。
あってもよい。例えば2層の場合には、重合した芳香族
ポリアミド溶液を二分し、それぞれ異なる粒子を添加し
た後、積層する。さらに3層以上の場合も同様である。
これら積層の方法としては、周知の方法たとえば、口金
内での積層、複合管での積層や、一旦1層を形成してお
いてその上に他の層を形成する方法などがある。
次の方法による。
た。試験片は10mm幅で50mm長さ、引っ張り速度
は300mm/分である。また、E20、E80のサンプル
準備には恒温恒湿槽を用いそれぞれ48時間調温調湿し
たサンプルを槽から取り出し素早く測定した。
いて液層を持つ)の水を加えて封をし、155℃のオー
ブン中で4日間処理処理を行った。次に室温に冷却後封
を開き、各物性は上記方法で測定した。各保持率は以下
の式で求めた。
理前の伸度)×100 (%) (3)表面粗大突起個数(H2,H3) フィルム表面100cm2 の範囲を実体顕微鏡により偏
光下、異物を観測し、マーキングする。マーキングした
異物の高さを波長546nmで多重干渉計を用いて観測
し、干渉縞の数でチェックする。二重環以上のものの個
数をH2、三重環以上のものの個数をH3とした。
ら25mmの位置に印を付けて試長200mmの試験片
を作成し、これを250℃の雰囲気した10分間加熱し
放冷後の長さを測定して熱収縮率を次式によって算出し
た。
(試長(mm))×100 (%) (5)塩基性不純物量 フィルム0.7グラムを白金坩堝に精秤し、550℃以
上の温度で灰化させた。この灰分を硝酸及びフッ化水素
酸で溶解した後希硝酸で定容とした。この定容液につい
て、K,Naは原子吸光光度法により、その他成分はI
CP発光分析法によって分析した。また、別途フィルム
20gを熱水中で24時間加熱還流し抽出された液及び
フィルム20gを酸化性雰囲気で焼いた残渣を水抽出し
た液についてイオンクロマトグラムを用い分析した。
H)と加湿時(湿度90%RH)でそれぞれ平衡に到っ
た時のフィルム長を読みとり下式により求めた。
層を形成後、下記組成の磁性塗料を調整し、グラビアロ
ールを用いて塗布,硬化を行い、ついでカレンダー処理
を実施して磁性層を形成した。
ットに組み込みVTRテ−プとした。このテ−プに家庭
用VTRを用いてテレビ試験波形発生器により100%
クロマ信号からカラ−ビデオノイズ測定器でクロマS/
Nを測定した。S/N比は次式で示される。
及びPM復調した100%レベルにおけるノイズの実効
値電圧 市販テ−プを基準として評価し、−2dB以上を○、そ
れ未満を×とした。
のを、横浜システム研究所製テ−プ走行性試験機(SF
T−700型)を使用し、40℃、80%RH雰囲気で
走行させ、下式により求めた。
径は6mmφであり、ガイド材質はポリオキシメチレン
(表面粗さ20〜40nm程度のもの)巻き付け角は9
0°、走行速度は3.3cm/秒、繰返しストロ−クは
15cmである。この測定によって得られる10パス目
のμKをμK10、100パス目のμKをμK100 とした
時、μK10/μK100 が0.8以上1.2以下の場合は
走行性を○、この範囲外は走行性を×と判定した。な
お、測定に当たっては静電気の影響を避けるためフィル
ムを毎回除電して測定した。
オートクレーブを用いて上記(2)の処理を実施し、そ
の後磁性層を形成せずVTRカセットに組み込んだ。次
に60℃、80%RHの環境下市販のビデオ再生機を用
い、再生モードで1000回走行を実施しフィルムのダ
メージを観察し、次の評価基準で判定した。
るあるいはそれ以上の品位 ×:フィルムの切断、欠けあるいは表面に大きなキズが
認められる。
る。また各略記号前につく数字は置換基の置換部位を示
す。(例、3,3'- DOB:3,3'-ジメトキシベンジジン) 芳香族ジアミン成分: PA: パラフェニレンジアミン CPA: クロロパラフェニレンジアミン DOB: ジメトキシベンジジン DAE: ジアミノジフェニルエーテル 酸クロリド成分: TPC: テレフタロイルクロリド IPC: イソフタル酸クロリド CTPC: クロロテレフタロイルクロリド 実施例1 N−メチルピロリドン(NMP)に芳香族ジアミン成分
として80モル%に相当する2−クロルパラフェニレン
ジアミンと、20モル%に相当する4、4−ジアミノジ
フェニルエ−テルとを溶解させ、これに100モル%に
相当する2−クロルテレフタル酸クロリドを添加し、2
時間撹拌して重合を完了した。これを水酸化リチウムで
中和して、ポリマ濃度10重量%、粘度3000ポイズ
の芳香族ポリアミド溶液を得た。この溶液に、一次粒径
16nmの乾式シリカをポリマ当たり2wt%添加し
た。
−を通した後、径が30μm以上の表面欠点の頻度が
0.006個/mm2 のベルト上に流延し、180℃の
熱風で2分間加熱して溶媒を蒸発させ、自己保持性を得
たフィルムをベルトから連続的に剥離した。次に65℃
に保った水/NMP比がそれぞれ1/1,3/1,5/
1及び10/0の濃度比を持つ複数の水槽内へフィルム
を導入して残存溶媒および無機塩の抽出を行ない、テン
タ−で280℃で水分の乾燥と熱処理を行なって厚さ6
μmの芳香族ポリアミドフィルムを得た。この間にフィ
ルム長手方向と幅方向に各々1.2倍、1.3倍延伸を
行ない、280℃で1.5分間乾燥と熱処理を行なった
後、20℃/秒の速度で徐冷した。
と、用いたフィルムに対し2重量%の灰分が残った。
は82%、ベルト非接触面での表面粗大突起個数H2は
20個/100cm2 で、ベルト接触面での表面粗大突
起個数H3は40個/100cm2 であった。また20
℃、相対湿度60%における引張りヤング率E20は長手
方向、幅方向ともに1230kg/mm 2 の等方的フィルム
であり、80℃、相対湿度80%における引張りヤング
率E80との比は長手方向、幅方向ともにE80/E20=
0.68、また塩基性不純物量は1ppm 、湿度膨張係数
は10×10-6であった。
及び耐久性を測定すると共に良好であった。
/NMP比が10/0の浴のみを用いた他は実施例1に
準拠して行い厚さ6μmの芳香族ポリアミドフィルムを
得た。
は40%、ベルト非接触面での表面粗大突起個数H2は
22個/100cm2 で、ベルト接触面での表面粗大突
起個数H3は42個/100cm2 であった。また20
℃、相対湿度60%における引張りヤング率E20は長手
方向、幅方向ともに1230kg/mm 2 の等方的フィルム
であり、80℃、相対湿度80%における引張りヤング
率E80との比は長手方向、幅方向ともにE80/E20=
0.62、また塩基性不純物量は3500ppm 、湿度膨
張係数は25×10-6であった。
耐久性、電磁変換特性に劣るものであった。
として80モル%に相当する4,4’−DOBと、20
モル%に相当する4,4’−DAEとを溶解させ、これ
に99モル%に相当する2−CTPCを添加し、2時間
撹拌して重合を完了し、フィルムの延伸を長手方向に
1.1倍、幅方向に1.45倍すること以外は実施例1
と同様にして厚さ10μmの芳香族ポリアミドフィルム
を得た。
は87%、ベルト非接触面での表面粗大突起個数H2は
18個/100cm2 で、ベルト接触面での表面粗大突
起個数H3は35個/100cm2 であった。また20
℃、相対湿度60%における引張りヤング率E20は長手
方向は1200kg/mm 2 、幅方向は1550kg/mm 2の
フィルムであり、80℃、相対湿度80%における引張
りヤング率E80との比は長手方向はE80/E20=0.7
0、幅方向はE80/E20=0.75、また塩基性不純物
量は1ppm 、湿度膨張係数は8×10-6であった。
及び耐久性を測定すると共に良好であった。
タ−を通した後、表面の欠点頻度が0.025個/mm
2 であるSUS製ベルト上に流延し、以下実施例1と同
様の方法で厚さ6μmの芳香族ポリアミドフィルムを得
た。
は82%、ベルト非接触面での表面粗大突起個数H2は
60個/100cm2 で、ベルト接触面での表面粗大突
起個数H3は150個/100cm2 であった。また2
0℃、相対湿度60%における引張りヤング率E20は長
手方向、幅方向ともに1230kg/mm 2 の等方的フィル
ムであり、80℃、相対湿度80%における引張りヤン
グ率E80との比は長手方向、幅方向ともにE80/E20=
0.68、また塩基性不純物量は1ppm 、湿度膨張係数
は8×10-6であった。
であったが電磁変換特性試験において若干のちらつきが
認められた。
タ−を通した後、表面の欠点頻度が0.0001個/m
m2 であるSUS製ベルト上に流延し、以下実施例1と
同様の方法で厚さ6μmの芳香族ポリアミドフィルムを
得た。
は82%、ベルト非接触面での表面粗大突起個数H2は
15個/100cm2 で、ベルト接触面での表面粗大突
起個数H3は1.5個/100cm2 であった。また2
0℃、相対湿度60%における引張りヤング率E20は長
手方向、幅方向ともに1230kg/mm 2 の等方的フィル
ムであり、80℃、相対湿度80%における引張りヤン
グ率E80との比は長手方向、幅方向ともにE80/E20=
0.72、また塩基性不純物量は1ppm 、湿度膨張係数
は8×10-6であった。
は良好であったが走行性試験はぎりぎり良好なレベルで
あったがフィルム面にキズが認められた。
するPAを溶解させ、−10℃に冷却する。これに10
0モル%に相当するTPCを添加し、重合中に析出する
固体は小さく粉砕しながら2時間撹拌して重合を完了し
た。この固形物スラリーを水中にて沈殿,水洗し、濃硫
酸に溶解して、芳香族ポリアミド溶液を得た。このポリ
マ溶液を5μmカットのフィルタ−を通した後、表面の
欠点頻度が0.006個/mm2 である研磨された耐食
性ベルト上へ流延し、85%RHの雰囲気下において等
方性溶液となるまでおき、ついで水槽に導いて凝固さ
せ、この凝固フィルムをベルトから剥離して水洗、つい
で中和のため、0.1%苛性ソーダ水溶液の槽へ通じ、
その後70℃の温水槽中にフィルム中の塩基性不純物量
が20ppmとなるように通じ、以下実施例1と同様の
方法で、長手方向に1.2倍、幅方向に1.3倍フィル
ムを延伸し、厚さ10μmの芳香族ポリアミドフィルム
を得た。
は75%、ベルト非接触面での表面粗大突起個数H2は
40個/100cm2 で、ベルト接触面での表面粗大突
起個数H3は50個/100cm2 であった。また20
℃、相対湿度60%における引張りヤング率E20は長手
方向、幅方向ともに1480kg/mm 2 の等方的フィルム
であり、80℃、相対湿度80%における引張りヤング
率E80との比は長手方向、幅方向ともにE80/E20=
0.7、また塩基性不純物量は30ppm 、湿度膨張係数は
25×10-6であった。
った。また、電磁変換特性は良好なものの若干 が認め
られた。
として100モル%に相当する4、4−ジアミノジフェ
ニルエ−テルとを溶解させ、これに50モル%に相当す
るイソフタル酸クロリド、50モル%に相当する2−ク
ロルテレフタル酸クロリドを添加し、2時間撹拌して重
合を完了した。これを水酸化リチウムで中和して、ポリ
マ濃度10重量%、粘度2500ポイズの芳香族ポリア
ミド溶液を得た。この溶液に、一次粒径16nmの乾式
シリカをポリマ当たり2wt%添加した。
−を通した後、径が30μm以上の表面欠点の頻度が
0.006個/mm2 のベルト上に流延し、以下実施例
1の方法に準拠して厚さ6μmの芳香族ポリアミドフィ
ルムを得た。
は82%、ベルト非接触面での表面粗大突起個数H2は
20個/100cm2 で、ベルト接触面での表面粗大突
起個数H3は40個/100cm2 であった。また20
℃、相対湿度60%における引張りヤング率E20は長手
方向、幅方向ともに800kg/mm 2 の等方的フィルムで
あり、80℃、相対湿度80%における引張りヤング率
E80との比は長手方向、幅方向ともにE80/E20=0.
43、また塩基性不純物量は2ppm 、湿度膨張係数は25
×10-6であった。
ったが、電磁変換特性に劣るものであった。
(″トレリナ″、厚さ6μm)を用い同様に評価した。
は76%、一方の表面粗大突起個数H2は45個/10
0cm2 で、ベルト接触面での表面粗大突起個数H3は
30個/100cm2 であった。また20℃、相対湿度
60%における引張りヤング率E20は長手方向、幅方向
ともに400kg/mm 2 の等方的フィルムであり、80
℃、相対湿度80%における引張りヤング率E80との比
は長手方向、幅方向ともにE80/E20=0.84、塩基
性不純物量は10ppm 、湿度膨張係数は1.5×10-6で
あった。
ったが、電磁変換特性に劣るものであった。
より、実質的に粒子を含まないポリエチレンナフタレ−
トのペレットAを得た。また、同ポリマに平均粒径0.
3μmで粒度分布の相対標準偏差が0.4の球状で熱重
量分析で10%減量の起こる温度が390℃の耐熱性架
橋ポリスチレン粒子で、該粒子の含有量が0.2重量%
であるペレットBを調製し、複合フィルムを製膜した。
まずペレットAについては溶融押出機から、濾過精度1
μmのフィルタ−にて濾過し、ペレットBについてはペ
レットAで用いたものとは別の溶融押出機から、濾過精
度5μmのフィルタ−にて濾過し、スリット状口金真上
に設置したピノ−ルでポリマ−厚み方向に積層し、未延
伸フィルムを作った。その未延伸フィルムを長手方向に
135℃で4.3倍に延伸し、その後、ステンタ−にて
横方向に135℃で4.8倍に延伸し、延伸終了後にス
テンタ−にて200℃で10秒間、熱処理を施し、最終
的に厚さ6μmのフィルムを製造した。
は40%、一方の面の表面粗大突起個数H2は10個/
100cm2 で、もう一方の面の表面粗大突起個数H3
は20個/100cm2 であった。また20℃、相対湿
度60%における引張りヤング率E20は長手方向、幅方
向ともに710kg/mm 2 の等方的フィルムであり、80
℃、相対湿度80%における引張りヤング率E80との比
は長手方向、幅方向ともにE80/E20=0.88、また
塩基性不純物量は1ppm 、湿度膨張係数は10×10-6で
あった。
好なものの、耐久性に劣るものであった。
境下においても有機高分子体の本来持つ特徴を殆ど失う
ことなくフィルムとして得られた物であり、磁気記録媒
体を始めとして、FPC、感熱転写記録材、絶縁材、電
線被覆材、包装材料など加工あるいは使用時にかような
環境にさらされる用途分野において好適に用いることが
できる。
Claims (5)
- 【請求項1】 155℃の高圧水蒸気雰囲気中で4日間
処理を行ったときの伸度保持率が60%以上であり、か
つ20℃、相対湿度60%における少なくとも一方向の
引張りヤング率E20と、80℃、相対湿度80%におけ
る同方向の引張りヤング率E80が、 E20≧700kg/mm2 0.5≦E80/E20 を充たすことを特徴とする有機高分子体からなるフィル
ム。 - 【請求項2】 フィルム中に含有される塩基性不純物の
含有量が3000ppm以下であることを特徴とする請
求項1に記載のフィルム。 - 【請求項3】 フィルムの任意の一表面において高さ5
46nm以上の表面粗大突起個数H2が、H2≦50
(個/100cm2)であり、かつその反対側のフィルム
表面において高さ819nm以上の表面粗大突起個数H
3が、2≦H3≦100(個/100cm2)を充たすこ
とを特徴とする請求項1又は2に記載のフィルム。 - 【請求項4】 有機高分子体が芳香族ポリアミドである
請求項1〜3のいずれかにに記載のフィルム。 - 【請求項5】 請求項1〜4のいずれかに記載のフィル
ムの少なくとも片面に磁性層が形成されてなる磁気記録
媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10243595A JP3161279B2 (ja) | 1995-04-26 | 1995-04-26 | フィルム及びそれを用いた磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10243595A JP3161279B2 (ja) | 1995-04-26 | 1995-04-26 | フィルム及びそれを用いた磁気記録媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08294975A JPH08294975A (ja) | 1996-11-12 |
JP3161279B2 true JP3161279B2 (ja) | 2001-04-25 |
Family
ID=14327396
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10243595A Expired - Lifetime JP3161279B2 (ja) | 1995-04-26 | 1995-04-26 | フィルム及びそれを用いた磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3161279B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013228041A (ja) * | 2012-04-25 | 2013-11-07 | Yazaki Energy System Corp | 低圧lpガス発電システム |
-
1995
- 1995-04-26 JP JP10243595A patent/JP3161279B2/ja not_active Expired - Lifetime
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2013228041A (ja) * | 2012-04-25 | 2013-11-07 | Yazaki Energy System Corp | 低圧lpガス発電システム |
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JPH08294975A (ja) | 1996-11-12 |
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