JP3061260B2 - 静電気保護回路 - Google Patents
静電気保護回路Info
- Publication number
- JP3061260B2 JP3061260B2 JP9010085A JP1008597A JP3061260B2 JP 3061260 B2 JP3061260 B2 JP 3061260B2 JP 9010085 A JP9010085 A JP 9010085A JP 1008597 A JP1008597 A JP 1008597A JP 3061260 B2 JP3061260 B2 JP 3061260B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- power supply
- voltage
- base
- metal gate
- voltage line
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 230000003068 static effect Effects 0.000 title claims description 22
- 230000005611 electricity Effects 0.000 title claims description 20
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 55
- 230000001052 transient effect Effects 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 13
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 1
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 1
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D84/00—Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D89/00—Aspects of integrated devices not covered by groups H10D84/00 - H10D88/00
- H10D89/60—Integrated devices comprising arrangements for electrical or thermal protection, e.g. protection circuits against electrostatic discharge [ESD]
- H10D89/601—Integrated devices comprising arrangements for electrical or thermal protection, e.g. protection circuits against electrostatic discharge [ESD] for devices having insulated gate electrodes, e.g. for IGFETs or IGBTs
- H10D89/811—Integrated devices comprising arrangements for electrical or thermal protection, e.g. protection circuits against electrostatic discharge [ESD] for devices having insulated gate electrodes, e.g. for IGFETs or IGBTs using FETs as protective elements
Landscapes
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Emergency Protection Circuit Devices (AREA)
- Elimination Of Static Electricity (AREA)
- Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
Description
し、特に主パワーラインとTTLパワーラインの間にゲ
ートダイオードNMOSトランジスタを提供して前記両
ライン間の電位差を最少化することができる静電気保護
回路に関するものである。
tor 、以下MOSという)トランジスタはそのゲート酸
化膜の厚さが非常に薄いため外部から短い時間に高電位
の(+)の静電気や(−)静電気が流入すれば、ゲート
酸化膜が破壊され半導体チップが誤動作することになる
場合が発生する。そのため、内部回路に影響を及ぼすこ
とができる適正電位より高い電位の(+)静電気や適正
電位より低い電位の(−)静電気が外部から細部回路に
流入する場合には、再び他のピンに放電される回路をピ
ンの入力部分に具現することになるが、このような回路
を静電気放電(Electrostatic Discharge 、以下ESD
という)回路と言う。
れに対する信頼性が必須的な要件になり、半導体素子の
コントロール/データパッドでESD保護回路は相当重
要な部分を占めている。信頼性向上の一方法としては、
Vcc又はVssパワーラインを分離させある特定部位
からパワーラインのノイズを低減させる方法が多く利用
されている。
電源電圧ライン(Vcc)とTTL電源電圧ライン(T
TLVcc)(又はクァイアートVcc)、またメーク
接地電源ライン(Vss)とTTLVss(又はクァイ
アートVss)分離により、コントロール/データパッ
ドのESD保護回路に連結されているメーンVccとメ
ーンVssは、保護されているためESD信頼性を確保
することができる。しかし、主VssラインとTTLV
ss(又はクァイアートVss)メーンVccとTTL
Vcc(又はクァイアートVcc)、メーンVccとT
TLVss(又はクァイアートVcc)の間の内部回路
でESD電圧印加の時、接合部で接合が破壊され内部回
路が損傷する問題点も有している。
トロールパッドに対する静電気保護回路を、図1以降を
参照して説明する。
路(11)に電源電圧を供給するための主電源電圧ライ
ン(13)と、第1内部回路(11)に接地電圧を供給
するための主接地電圧ライン(14)でなる主パワーラ
インと;コントロールパッド(15)で前記第1内部回
路(11)に入る直前に前記主電源電圧ライン(13)
に接続される第1金属ゲートNチャンネルフィールドト
ランジスタ(152)と、前記主接地電圧ライン(1
4)と接続する第2金属ゲートNチャンネルフィールド
トランジスタ(153)と、前記コントロールパッド
(151)に直列接続するN+ 拡散レジスタ(Rs)
と、前記N+ 拡散レジスタ(Rs)と主接地電圧ライン
(14)の間に接続する第1ゲートダイオードNモス型
アクティブトランジスタ(154)と、前記主電源電圧
ライン(13)と主接地電圧ライン(14)の間に接続
する第2ゲートダイオードNモス型アクティブトランジ
スタ(155)でなる静電圧放電保護部(15)と;第
2内部回路(12)にそれぞれ電源電圧及び接地電圧を
供給するノイズ低減用TTL電源電圧ライン(16)
と、ノイズ低減用TTL接地電圧ライン(17)で構成
されるTTLパワーラインを備える。
Lパワーライン(16、17)が主パワーライン(1
3、14)との間に、ESD保護回路が存在しない。従
って、主電源電圧ライン(13)に近接した第2内部回
路(12)に生じる寄生のバイポーラトランジスタ(1
21)は、ESD電圧印加の時、電位差が存在しこの部
位の接合部が損傷する問題点を有することになる。
気放電保護回路である。通常のデータパッドに対する静
電気放電保護回路は静電圧放電保護部(25)にプル−
アップ用Nモス型トランジスタ(252)と、プル−ダ
ウン用Nモス型トランジスタ(253)が構成されてい
るもの以外には図1の回路と同様でありESD特性の脆
弱な部位も同じである。
位差によるソース/ドレイン接合部の損傷の問題点を解
決するため、主パワーラインとTTLパワーラインの間
の電位差を最少化することができる静電気保護回路を提
供することにその目的を有する。
め本発明は、第1供給電源と、第1基底電源と、第2供
給電源と、第2基底電源と、第1供給電源及び第1基底
電源の間に接続される第1内部回路と、第1供給電源及
び第2供給電源の間並びに第1基底電源及び第2基底電
源の間に接続される第2内部回路とを有し、各内部回路
をコントロールパッドに印加される静電気から保護する
静電気保護回路であって、コントロールパッドからの陽
の過度電圧を第1供給電源側にバイパスするための第1
バイパス手段と、コントロールパッドからの陰の過度電
圧を第1基底電源側にバイパスするための第2バイパス
手段と、第1供給電源及び第2供給電源の間の電圧を所
定のレベルに制御されるようにするために、該第1供給
電源及び該第2供給電源の間に並列接続される複数の直
列接続の金属ゲートNチャネルトランジスタと、複数の
直列接続のゲートダイオードNモス型アクティブトラン
ジスタとを含む第1電圧スイッチング手段と、第1基底
電源及び第2基底電源の間の電圧を所定のレベルに制御
されるようにするために、該第1基底電源及び該第2基
底電源の間に並列接続される2対の複数の直列接続の金
属ゲートNチャネルトランジスタを含む第2電圧スイッ
チング手段と、第1供給電源及び第2基底電源の間の電
圧を所定のレベルに制御されるようにするための第3電
圧スイッチング手段と、第1基底電源及び第2供給電源
の間の電圧を所定のレベルに制御されるようにするため
の第4電圧スイッチング手段と、第2供給電源及び第2
基底電源の間の電圧を所定のレベルに制御されるように
するための第5電圧スイッチング手段とを含むことを特
徴とする静電気保護回路を提供する。
段は、第1供給電源及び第2基底電源の間に接続される
金属ゲートNチャネルフィールドトランジスタを含み、
第4電圧スイッチング手段は、第1基底電源及び第2供
給電源の間に接続される金属ゲートNチャネルフィール
ドトランジスタを含み、第5電圧スイッチング手段は、
第2供給電源及び第2基底電源の間に接続される金属ゲ
ートNチャネルフィールドトランジスタを含むことを特
徴とする静電気保護回路を提供する。
て詳細に説明する。
ドに対する静電気保護回路は第1内部回路(11)に主
電源電圧を供給するため主電源電圧ライン(13)と、
前記第1内部回路(11)に主接地電圧を供給するため
の主接地電圧ライン(14)と、前記主電源電圧ライン
(13)に連結される第1金属ゲートNチャンネルフィ
ールドトランジスタ(152)と、前記主接地電圧ライ
ン(13)に連結される第2金属ゲートNチャンネルフ
ィールドトランジスタ(153)と、コントロールパッ
ド(151)に直列接続するN+ 拡散レジスタ(Rs)
と、前記N+ 拡散レジスタ(Rs)と主接地電圧ライン
(14)の間に接続される第1ゲートダイオードNモス
型アクティブトランジスタ(154)と、前記主電源電
圧ライン(13)と主接地電圧ライン(14)の間に接
続される第2ゲートダイオードNモス型アクティブトラ
ンジスタ(155)でなる静電気放電保護部(15)
と;第2内部回路TTLに電源電圧を供給するためのノ
イズ低減用TTL電源電圧ライン(16)と、第2内部
回路にTTL電源を供給するためのノイズ低減用TTL
接地電圧ライン(17)と、前記主電源電圧ライン(1
3)と、TTL電源電圧ライン(16)の間に接続され
前記主電源電圧ライン(13)と、TTL電源電圧ライ
ン(16)の間に電位差を望むレベルに制御するための
第3金属ゲートNチャンネルフィールドトランジスタ
(31)及び第3ゲートダイオードNモス型アクティブ
トランジスタ(32)と、前記主電源電圧ライン(1
3)とTTL接地電圧ライン(17)の間に接続され前
記主電源電圧ライン(13)とTTL電圧ライン(1
7)の間の電位差を望むレベルに制御するための第4金
属ゲートNチャンネルフィールドトランジスタ(33)
と、前記主接地電圧ライン(14)とTTL電源電圧ラ
イン(16)の間に接続され、前記主接地電圧ライン
(14)とTTL電源電圧ライン(16)の間の電位差
を望むレベルに制御するための第5金属ゲートNチャン
ネルフィールドトランジスタ(34)と、前記主接地電
圧ライン(14)とTTL接地電圧ライン(17)の間
に接続され前記主接地電圧ライン(14)とTTL接地
電圧ライン(17)の間の電位差を望むレベルにするた
めの第6及び第7金属ゲートNチャンネルフィールドト
ランジスタ(35,36)と、前記TTL電源電圧ライ
ン(16)とTTL接地電圧ラインの間に接続され前記
TTL電源電圧ライン(16)とTTL接地電圧ライン
の間の電位差を望む電位に制御するための第8金属ゲー
トNチャンネルフィールドトランジスタ(37)を備え
る。
気保護回路の動作を説明する。ESD電圧がコントロー
ルパッド(151)を介して印加されれば、第3金属ゲ
ートNチャンネルトランジスタ(31)及び第3ゲート
ダイオードNモス型アクティブトランジスタ(32)
と、第4金属ゲートNチャンネルフィールドトランジス
タ(33)と、第5金属ゲートNチャンネルフィールド
トランジスタ(34)と、第6及び第7金属ゲートNチ
ャンネルフィールドトランジスタ(35,36)と、第
8金属ゲートNチャンネルフィールドトランジスタ(3
7)がターンオンされる。
それぞれ前記主電源電圧ライン(13)とTTL電源電
圧ライン(16)の間と、前記主電源電圧ライン(1
3)とTTL接地電圧ライン(17)の間と、前記主接
地電圧ライン(14)とTTL電源電圧ライン(16)
の間及び、前記主接地電圧ライン(14)とTTL接地
電圧ライン(17)の間と、またTTL電源電圧ライン
(16)とTTL接地電圧ライン(17)の間に存在す
る電位差が所定のレベルに制御されるため、電位差を縮
小し電流を分散させることにより第1内部回路(11)
のみだけでなく第2内部回路(12)の損傷を克服して
ESD特性を向上させる。
図3の静電気保護回路で前記主電源電圧ライン(13)
とTTL電源電圧ライン(16)の間に接続される第3
金属ゲートNチャンネルフィールドトランジスタ(3
1)及び、第3ゲートダイオードNモス型アクティブト
ランジスタ(32)の代りに二つがそれぞれ直列に連結
された第9及び第10金属ゲートNチャンネルフィール
ドトランジスタ(411,412)と、第4及び第5ゲ
ートダイオードNモス型アクティブトランジスタ(42
1,422)と、前記主接地電圧ライン(14)とTT
L接地電圧ライン(17)の間に接続される第6金属ゲ
ートNチャンネルフィールドトランジスタ(35)の代
りに直列に接続される第11及び第12金属ゲートNチ
ャンネルフィールドトランジスタ(451,452)
と、第7金属ゲートNチャンネルフィールドトランジス
タ(36)の代りに直列に接続される第13及び第14
金属ゲートNチャンネルフィールドトランジスタ(46
1,462)以外は、図3の静電気保護回路とその構成
が同じであり、主パワーラインとTTLパワーラインの
ノイズを二つの閾電圧ほど差を置くようにしてパワーラ
インのノイズ問題及びESD保護を同時に満足させる。
図3の静電気保護回路で前記主電源電圧ライン(13)
とTTL電源電圧ライン(16)の間に接続される第3
金属ゲートNチャンネルフィールドトランジスタ(3
1)及び、第3ゲートダイオードNモス型アクティブト
ランジスタ(3)の代りに二つがそれぞれ直列に連結さ
れた第15、第16及び第17金属ゲートNチャンネル
フィールドトランジスタ(511,512,513)
と、第6、第7及び第8ゲートダイオードNモス型アク
ティブトランジスタ(521,522,523)と、前
記主接地電圧ライン(14)とTTL接地電圧ライン
(17)の間に接続される第6金属ゲートNチャンネル
フィールドトランジスタ(35)の代りに直列に接続す
る第18、第19及び第20金属ゲートNチャンネルフ
ィールドトランジスタ(551,552,553)と、
第7金属ゲートNチャンネルフィールドトランジスタ
(36)の代りに直列に接続される第21、第22及び
第23金属ゲートNチャンネルフィールドトランジスタ
(561,562,563)以外は、図3の静電気保護
回路とその構成が同じであり、主パワーラインとTTL
パワーラインの間のノイズを三つの閾電圧ほど差を置く
ようにしてパワーラインのノイズ問題及びESD保護を
同時に満足させる。
図3の静電気保護回路で前記主電源電圧ライン(13)
に連結される第1金属ゲートNチャンネルフィールドト
ランジスタ(152)がないことを特徴とする。
図3の静電気保護回路で前記主電源電圧ライン(13)
に連結される第1金属ゲートNチャンネルフィールドト
ランジスタ(152)の代りに第1NPN型バイポーラ
トランジスタ(752)を、前記主電源電圧ライン(1
3)に連結される第2金属ゲートNチャンネルフィール
ドトランジスタ(153)の代りに第1NPN型バイポ
ーラトランジスタ(753)を用いることを特徴とす
る。
図7の静電気保護回路で前記主電源電圧ライン(13)
に連結される第1NPN型バイポーラトランジスタ(7
52)がないことを特徴とする。
図8の静電気保護回路で前記主接地電圧ライン(14)
に連結される第2NPN型バイポーラトランジスタ(7
53)の代りにベースが前記主接地電圧ライン(14)
に連結された第3NPN型バイポーラトランジスタ(9
53)を用いることを特徴とする。
対する静電気保護回路は第1内部回路(101)に主電
源電圧を供給するための主電源電圧ライン(103)
と、前記第1内部回路(101)に主接地電圧を供給す
るための主接地電圧ライン(104)と、前記主電源電
圧ライン(103)に連結されるプル−アップ用Nモス
型トランジスタ(1052)と、前記主接地電圧ライン
(103)に連結されるプル−ダウン用Nモス型トラン
ジスタ(1053)と、前記主電源電圧ライン(10
3)と主接地電圧ライン(104)の間に接続される第
1ゲートダイオードNモス型アクティブトランジスタ
(1055)でなる静電圧放電保護部(105)と、第
2内部回路(102)にTTL電源電圧を供給するため
のノイズ低減用TTL電源電圧ライン(106)と、第
2内部回路(102)にTTL電源を供給するためのノ
イズ低減用TTL接地電圧ライン(107)と、前記主
電源電圧ライン(103)とTTL電源電圧ライン(1
06)の間に接続され、前記主電源電圧ライン(13)
とTTL電源電圧ライン(106)の間の電位差を望む
レベルに制御するための第1金属ゲートNチャンネルフ
ィールドトランジスタ(1001)及び第2ゲートダイ
オードNモス型アクティブトランジスタ(1002)
と、前記主電源電圧ライン(103)とTTL接地電圧
ライン(107)の間に接続され、前記主電源電圧ライ
ン(103)とTTL接地電圧ライン(107)の間の
電位差を望むレベルに制御するための第2金属ゲートN
チャンネルフィールドトランジスタ(1003)、前記
主接地電圧ライン(104)とTTL電源電圧ライン
(106)の間に接続され、前記主接地電圧ライン(1
04)とTTL電源電圧ライン(106)の間に電位差
を望むレベルに制御するための第3金属ゲートNチャン
ネルフィールドトランジスタ(1004)と、前記主接
地電圧ライン(104)とTTL接地電圧ライン(10
7)の間に接続され前記主接地電圧ライン(104)と
TTL接地電圧ライン(107)の間の電位差を望むレ
ベルに制御するための第4及び第5金属ゲートNチャン
ネルフィールドトランジスタ(1005,1006)
と、前記TTL電源電圧ライン(106)と、TTL接
地電圧ライン(107)の間に接続され前記TTL電源
電圧ライン(106)とTTL接地電圧ライン(10
7)の間の電位差を望む電位に制御するための第6金属
ゲートNチャンネルフィールドトランジスタ(100
7)を備える。
対する静電気保護回路は図10の静電気保護回路で前記
主電源電圧ライン(103)とTTL電源電圧ライン
(106)の間に接続される第1金属ゲートNチャンネ
ルフィールドトランジスタ(1001)及び第2ゲート
ダイオードNモス型アクティブトランジスタ(100
2)の代りに二つがそれぞれ直列に連結された第7及び
第8金属ゲートNチャンネルフィールドトランジスタ
(10011,10012)と、第3及び第4ゲートダ
イオードNモス型アクティブトランジスタ(1002
1,10022)と、前記主接地電圧ライン(104)
とTTL接地電圧ライン(107)の間に接続される第
4金属ゲートNチャンネルフィールドトランジスタ(1
005)の代りに直列に接続される第9及び第10金属
ゲートNチャンネルフィールドトランジスタ(1005
1,10052)と、第5金属ゲートNチャンネルフィ
ールドトランジスタ(1006)の代りに直列に接続さ
れる第11及び第12金属ゲートNチャンネルフィール
ドトランジスタ(10061,10062)以外は、図
10の静電気保護回路とその構成が同一であり、主パワ
ーラインとTTLパワーラインの間のノイズを二つの閾
電圧ほど差を設けさせパワーラインのノイズ問題及びE
SP保護を同時に満足させる。
は図10の静電気保護回路で前記主電源電圧ライン(1
03)とTTL電源電圧ライン(106)の間に接続さ
れる第1金属ゲートNチャンネルフィールドトランジス
タ(1001)及び第2ゲートダイオードNモス型アク
ティブトランジスタ(1002)の代りに三つがそれぞ
れ直列に連結された第13、第14及び第15金属ゲー
トNチャンネルフィールドトランジスタ(1211,1
212,1213)と第5,第6及び第7ゲートダイオ
ードNモス型アクティブトランジスタ(1221,12
22,1223)と、前記主接地電圧ライン(104)
とTTL接地電圧ライン(107)の間に接続される第
4金属ゲートNチャンネルフィールドトランジスタ(1
005)の代りに直列に接続される第16、第17及び
第18金属ゲートNチャンネルフィールドトランジスタ
(1251,1252,1253)と、第5金属ゲート
Nチャンネルフィールドトランジスタ(1006)の代
りに直列に接続される第19、第20及び第21金属ゲ
ートNチャンネルフィールドトランジスタ(1261,
1262,1263)以外は図10の静電気保護回路と
その構成が同じであり、主パワーラインとTTLパワー
ラインの間のノイズを三つの閾電圧ほど差を設けるよう
にしてパワーラインのノイズ問題及びESD保護を同時
に満足させる。
は図10の静電気保護回路で前記主電源電圧ライン(1
3)に連結されるプル−アップ用Nモス型トランジスタ
(1052)の代りにプル−アップ用Pモス型トランジ
スタ(1352)を特徴とする。
ラトランジスタ(1021)の断面図であり、部材番号
141はシリコン基板上のウェルであり、142は素子
分離絶縁膜、143はゲート電極であり、144はソー
ス/ドレイン動作領域を示す。また、図14はさらにパ
ワーラインのノイズにより相互分離して用いられ、主パ
ワーラインとTTLパワーラインが近接した回路でNP
N型トランジスタが形成されたことを示す。ウェル14
1とソース/ドレイン144との間のPN接合により寄
生トランジスタが形成され、このトランジスタが何らか
の原因でオンとなると大電流が流れて、素子が破壊され
る。
従えば、静電気保護回路はESD電圧印加の際に発生す
る主パワーラインとTTLパワーラインの間の電位差を
縮小して分散させることにより、ESD信頼性を向上さ
せ内部回路の損傷を防止することができる効果を有す
る。
回路図。
図。
する静電気保護回路図。
する静電気保護回路図。
する静電気保護回路図。
する静電気保護回路図。
する静電気保護回路図。
する静電気保護回路図。
する静電気保護回路図。
静電気保護回路図。
静電気保護回路図。
静電気保護回路図。
静電気保護回路図。
タの断面図。
21,1201 内部回路 13,23,103 主電源電圧ライン 14,24,104 主接地電圧ライン 15,25,105 静電気保護部 16,26,106 TTL電源電圧ライン 17,27,107 TTL接地電圧ライン
Claims (2)
- 【請求項1】 第1供給電源と、第1基底電源と、第2
供給電源と、第2基底電源と、前記第1供給電源及び前
記第1基底電源の間に接続される第1内部回路と、前記
第1供給電源及び前記第2供給電源の間並びに前記第1
基底電源及び前記第2基底電源の間に接続される第2内
部回路とを有し、各内部回路をコントロールパッドに印
加される静電気から保護する静電気保護回路であって、 前記コントロールパッドからの陽の過度電圧を第1供給
電源側にバイパスするための第1バイパス手段と、 前記コントロールパッドからの陰の過度電圧を第1基底
電源側にバイパスするための第2バイパス手段と、 前記第1供給電源及び第2供給電源の間の電圧を所定の
レベルに制御されるようにするために、該第1供給電源
及び該第2供給電源の間に並列接続される複数の直列接
続の金属ゲートNチャネルトランジスタと、複数の直列
接続のゲートダイオードNモス型アクティブトランジス
タとを含む第1電圧スイッチング手段と、 前記第1基底電源及び第2基底電源の間の電圧を所定の
レベルに制御されるようにするために、該第1基底電源
及び該第2基底電源の間に並列接続される2対の複数の
直列接続の金属ゲートNチャネルトランジスタを含む第
2電圧スイッチング手段と、 前記第1供給電源及び前記第2基底電源の間の電圧を所
定のレベルに制御されるようにするための第3電圧スイ
ッチング手段と、 前記第1基底電源及び前記第2供給電源の間の電圧を所
定のレベルに制御されるようにするための第4電圧スイ
ッチング手段と、 前記第2供給電源及び前記第2基底電源の間の電圧を所
定のレベルに制御されるようにするための第5電圧スイ
ッチング手段とを含むことを特徴とする静電気保護回
路。 - 【請求項2】 前記第3電圧スイッチング手段は、前記
第1供給電源及び前記第2基底電源の間に接続される金
属ゲートNチャネルフィールドトランジスタを含み、 前記第4電圧スイッチング手段は、前記第1基底電源及
び前記第2供給電源の間に接続される金属ゲートNチャ
ネルフィールドトランジスタを含み、 前記第5電圧スイッチング手段は、前記第2供給電源及
び前記第2基底電源の間に接続される金属ゲートNチャ
ネルフィールドトランジスタを含むことを特徴とする請
求項1に記載の静電気保護回路。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR66021/1995 | 1995-12-29 | ||
KR1019950066021A KR0166509B1 (ko) | 1995-12-29 | 1995-12-29 | 정전기 보호 회로 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09191081A JPH09191081A (ja) | 1997-07-22 |
JP3061260B2 true JP3061260B2 (ja) | 2000-07-10 |
Family
ID=19447198
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9010085A Expired - Fee Related JP3061260B2 (ja) | 1995-12-29 | 1997-01-06 | 静電気保護回路 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5793588A (ja) |
JP (1) | JP3061260B2 (ja) |
KR (1) | KR0166509B1 (ja) |
GB (1) | GB2308741B (ja) |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6025746A (en) * | 1996-12-23 | 2000-02-15 | Stmicroelectronics, Inc. | ESD protection circuits |
US6552594B2 (en) * | 1997-03-27 | 2003-04-22 | Winbond Electronics, Corp. | Output buffer with improved ESD protection |
KR100470183B1 (ko) * | 1997-08-30 | 2005-06-08 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체소자의정전기보호회로 |
KR20000002089A (ko) * | 1998-06-17 | 2000-01-15 | 김영환 | 정전기 방전 보호 회로 |
US6380570B1 (en) | 2000-04-21 | 2002-04-30 | International Business Machines Corporation | Gate overvoltage control networks |
JP2005049637A (ja) | 2003-07-29 | 2005-02-24 | Seiko Epson Corp | 駆動回路及びその保護方法、電気光学装置並びに電子機器 |
DE10344872A1 (de) * | 2003-09-26 | 2005-05-19 | Infineon Technologies Ag | Integrierte Schaltung mit Schutz vor elektrostatischer Entladung |
KR100781537B1 (ko) * | 2004-02-07 | 2007-12-03 | 삼성전자주식회사 | 정전기 방전 보호 반도체 소자 및 이를 포함하는 반도체집적 회로 |
JP5085139B2 (ja) | 2004-02-07 | 2012-11-28 | サムスン エレクトロニクス カンパニー リミテッド | 静電気保護機能を有するバッファ回路 |
JP4590888B2 (ja) * | 2004-03-15 | 2010-12-01 | 株式会社デンソー | 半導体出力回路 |
US7876302B2 (en) * | 2004-07-26 | 2011-01-25 | Seiko Epson Corporation | Driving circuit for electro-optical panel and driving method thereof, electro-optical device, and electronic apparatus having electro-optical device |
CN101371492B (zh) * | 2006-01-17 | 2012-08-15 | 美国博通公司 | 以太网供电控制器及对供电设备检测和分级的方法 |
US8947839B2 (en) * | 2009-07-30 | 2015-02-03 | Xilinx, Inc. | Enhanced immunity from electrostatic discharge |
JP5162723B1 (ja) * | 2012-02-20 | 2013-03-13 | ランズバーグ・インダストリー株式会社 | 静電塗装ケーブル保全装置 |
US20220130819A1 (en) * | 2020-10-27 | 2022-04-28 | Mediatek Inc. | Semiconductor chip with gate oxide protection of metal-oxide-semiconductor transistor and/or oxide protection of metal-oxide-metal capacitor |
US11475940B2 (en) * | 2020-12-11 | 2022-10-18 | Micron Technology, Inc. | Semiconductor device layout for a plurality of pads and a plurality of data queue circuits |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0228362A (ja) * | 1988-06-10 | 1990-01-30 | Nec Ic Microcomput Syst Ltd | 半導体集積回路装置 |
JPH02113623A (ja) * | 1988-10-21 | 1990-04-25 | Sharp Corp | 集積回路の静電気保護回路 |
US5343352A (en) * | 1989-01-20 | 1994-08-30 | Nec Corporation | Integrated circuit having two circuit blocks energized through different power supply systems |
JP3499578B2 (ja) * | 1992-09-18 | 2004-02-23 | 株式会社東芝 | 半導体集積回路 |
JP2589938B2 (ja) * | 1993-10-04 | 1997-03-12 | 日本モトローラ株式会社 | 半導体集積回路装置の静電破壊保護回路 |
US5311083A (en) * | 1993-01-25 | 1994-05-10 | Standard Microsystems Corporation | Very low voltage inter-chip CMOS logic signaling for large numbers of high-speed output lines each associated with large capacitive loads |
US5450267A (en) * | 1993-03-31 | 1995-09-12 | Texas Instruments Incorporated | ESD/EOS protection circuits for integrated circuits |
US5430595A (en) * | 1993-10-15 | 1995-07-04 | Intel Corporation | Electrostatic discharge protection circuit |
US5561577A (en) * | 1994-02-02 | 1996-10-01 | Hewlett-Packard Company | ESD protection for IC's |
-
1995
- 1995-12-29 KR KR1019950066021A patent/KR0166509B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1996
- 1996-12-26 US US08/780,180 patent/US5793588A/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-12-30 GB GB9627063A patent/GB2308741B/en not_active Expired - Fee Related
-
1997
- 1997-01-06 JP JP9010085A patent/JP3061260B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5793588A (en) | 1998-08-11 |
GB9627063D0 (en) | 1997-02-19 |
KR0166509B1 (ko) | 1999-01-15 |
JPH09191081A (ja) | 1997-07-22 |
KR970053845A (ko) | 1997-07-31 |
GB2308741A (en) | 1997-07-02 |
GB2308741B (en) | 2000-08-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5345357A (en) | ESD protection of output buffers | |
US5594611A (en) | Integrated circuit input/output ESD protection circuit with gate voltage regulation and parasitic zener and junction diode | |
US7924539B2 (en) | Semiconductor integrated circuit | |
EP0740344B1 (en) | Method and apparatus for coupling multiple independent on-chip Vdd busses to an ESD core clamp | |
JP3275095B2 (ja) | 集積回路の過渡防護開路 | |
JP3061260B2 (ja) | 静電気保護回路 | |
US7098511B2 (en) | ESD protection circuit | |
US5345356A (en) | ESD protection of output buffers | |
KR101034614B1 (ko) | 정전기 보호 회로 | |
US20040218322A1 (en) | ESD protection circuits for mixed-voltage buffers | |
TW201314861A (zh) | 結合靜電放電保護電路及方法 | |
KR20020057056A (ko) | Esd 보호회로 | |
JP3169537B2 (ja) | 保護回路を有する電気回路及び保護回路に電力供給する方法。 | |
US5663678A (en) | ESD protection device | |
TW548823B (en) | ESD protection device coupled between a first high power line and a second high power line | |
US6337787B2 (en) | Gate-voltage controlled electrostatic discharge protection circuit | |
US20060189189A1 (en) | Electrostatic discharge circuit | |
JPH0795563B2 (ja) | パスゲートマルチプレクサレシーバ集積回路 | |
US6414360B1 (en) | Method of programmability and an architecture for cold sparing of CMOS arrays | |
US6218881B1 (en) | Semiconductor integrated circuit device | |
US5644459A (en) | Bipolarity electrostatic discharge protection device and method for making same | |
JP2806532B2 (ja) | 半導体集積回路装置 | |
JPH0228362A (ja) | 半導体集積回路装置 | |
US5784235A (en) | Semiconductor IC device including ESD protection circuit | |
US11056879B2 (en) | Snapback clamps for ESD protection with voltage limited, centralized triggering scheme |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19981124 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090428 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090428 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100428 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100428 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110428 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110428 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120428 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130428 Year of fee payment: 13 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |