JP3043305B2 - 半導体設備内の環境分析用イオンクロマトグラフィーシステム - Google Patents
半導体設備内の環境分析用イオンクロマトグラフィーシステムInfo
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-
- G—PHYSICS
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- G01N30/00—Investigating or analysing materials by separation into components using adsorption, absorption or similar phenomena or using ion-exchange, e.g. chromatography or field flow fractionation
- G01N30/96—Investigating or analysing materials by separation into components using adsorption, absorption or similar phenomena or using ion-exchange, e.g. chromatography or field flow fractionation using ion-exchange
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置製造設
備内の環境評価のためのイオンクロマトグラフィーシス
テムに関するもので、より詳細には半導体設備内の環境
分析用イオンクロマトグラフィーシステムの中で、効率
的で正確に試料を作成して処理する前処理部に関する。
備内の環境評価のためのイオンクロマトグラフィーシス
テムに関するもので、より詳細には半導体設備内の環境
分析用イオンクロマトグラフィーシステムの中で、効率
的で正確に試料を作成して処理する前処理部に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体装置は非常に精密な装置で、その
製造のためには精密な加工技術と清浄な環境が必要であ
る。従って、半導体装置の製造設備では、設備内の環境
を正常にするためにクリーンルーム等の設備を設け、環
境に存在する可能性がある異物質ガスや微粒子を厳しく
管理している。そして、異物質管理が正常に行われてい
るかを検査するため、多様な方法を使用している。
製造のためには精密な加工技術と清浄な環境が必要であ
る。従って、半導体装置の製造設備では、設備内の環境
を正常にするためにクリーンルーム等の設備を設け、環
境に存在する可能性がある異物質ガスや微粒子を厳しく
管理している。そして、異物質管理が正常に行われてい
るかを検査するため、多様な方法を使用している。
【０００３】半導体装置の製造環境における大気中の異
物質を管理する方法の１つが、イオンクロマトグラフィ
ーを使用する方法である。この方法は、必要なターゲッ
ト位置の空気を捕集し、インピンジャー(Impinger)装置
の容器内の純水等の吸収液に通過させ、この過程で吸収
液に溶解したガス成分のイオンをイオンクロマトグラフ
ィーで検査し、大気中に異物質成分があるかを確認す
る。
物質を管理する方法の１つが、イオンクロマトグラフィ
ーを使用する方法である。この方法は、必要なターゲッ
ト位置の空気を捕集し、インピンジャー(Impinger)装置
の容器内の純水等の吸収液に通過させ、この過程で吸収
液に溶解したガス成分のイオンをイオンクロマトグラフ
ィーで検査し、大気中に異物質成分があるかを確認す
る。
【０００４】図４は、従来の一般的なイオンクロマトグ
ラフィーの概略的な構成を示す図面である。
ラフィーの概略的な構成を示す図面である。
【０００５】イオンクロマトグラフィーは、純水等のよ
うな溶媒のイオンの電気伝導度を測定することにより、
微量成分を検出する精密な装置である。その構成を調べ
てみると、まず試料は、分離装置により陰イオン性及び
陽イオン性試料とに分離され、試料投入調節バルブ１１
を経る。試料投入調節バルブ１１は、作業者の調節によ
って試料を、サンプルループ１２に送るか、または放流
ライン１３に直接送る。同様に、イオンクロマトグラフ
ィー法に使用される運搬溶媒を、運搬溶媒側の調節バル
ブ１５を通してサンプルループ１２や放流ライン１３へ
送るか、またはガードカラム１６に直接送れるように構
成する。ガードカラム１６では、物質間の親和性を利用
し、一部の物質を分離カラム１７に送り、分離カラム１
７では物質の移動速度の差を利用し、特定物質別に分離
し検出器１８に送る。
うな溶媒のイオンの電気伝導度を測定することにより、
微量成分を検出する精密な装置である。その構成を調べ
てみると、まず試料は、分離装置により陰イオン性及び
陽イオン性試料とに分離され、試料投入調節バルブ１１
を経る。試料投入調節バルブ１１は、作業者の調節によ
って試料を、サンプルループ１２に送るか、または放流
ライン１３に直接送る。同様に、イオンクロマトグラフ
ィー法に使用される運搬溶媒を、運搬溶媒側の調節バル
ブ１５を通してサンプルループ１２や放流ライン１３へ
送るか、またはガードカラム１６に直接送れるように構
成する。ガードカラム１６では、物質間の親和性を利用
し、一部の物質を分離カラム１７に送り、分離カラム１
７では物質の移動速度の差を利用し、特定物質別に分離
し検出器１８に送る。
【０００６】その他にも、イオンクロマトグラフィー
を、超純水の分析等に利用するために、サンプルループ
の代わりに濃縮カラムを設置し、元の試料を濃縮してガ
ードカラムに送るか、インゼクタ(Injecter)を利用し試
料をガードカラムに直接送る方法もとれる。
を、超純水の分析等に利用するために、サンプルループ
の代わりに濃縮カラムを設置し、元の試料を濃縮してガ
ードカラムに送るか、インゼクタ(Injecter)を利用し試
料をガードカラムに直接送る方法もとれる。
【０００７】しかし、イオンクロマトグラフィーは、液
相の試料からイオンを検出して、その電気伝導度により
微量成分を分析する装置であるので、大気中の微量成分
の検出は不可能であった。
相の試料からイオンを検出して、その電気伝導度により
微量成分を分析する装置であるので、大気中の微量成分
の検出は不可能であった。
【０００８】図５は、従来のインピンジャー(Impinger)
装置を示した図面である。
装置を示した図面である。
【０００９】大気を捕集して試料を作成する方式は、大
略２つタイプに分けられる。その中の１つ（図示せず）
は、入口が広い容器に吸収液を入れて、設備内の一定位
置に一定時間放置し、該当位置の大気が自然に吸収液に
溶けこむように構成した単純型である。
略２つタイプに分けられる。その中の１つ（図示せず）
は、入口が広い容器に吸収液を入れて、設備内の一定位
置に一定時間放置し、該当位置の大気が自然に吸収液に
溶けこむように構成した単純型である。
【００１０】他の１つは、図５のように、筒状の吸収液
容器２１の一部に吸収液２２を満たして、入口を密封材
で密封し、その密封材２３には、大気を吸入して吸収液
中に送る吸気管２４と、吸収液を経た吸収液の上部空間
にある残余ガスを外部に送る排気管２５とが通され、２
つの管のうち少なくとも１つに設置されたポンプ２６、
容器外部の大気がポンプの作用で強制的に吸収液を通過
するようにしつつ、大気中の可溶成分が吸収液に溶けこ
むように構成された大気押送式のインピンジャー装置を
利用するものである。
容器２１の一部に吸収液２２を満たして、入口を密封材
で密封し、その密封材２３には、大気を吸入して吸収液
中に送る吸気管２４と、吸収液を経た吸収液の上部空間
にある残余ガスを外部に送る排気管２５とが通され、２
つの管のうち少なくとも１つに設置されたポンプ２６、
容器外部の大気がポンプの作用で強制的に吸収液を通過
するようにしつつ、大気中の可溶成分が吸収液に溶けこ
むように構成された大気押送式のインピンジャー装置を
利用するものである。
【００１１】以上の大気捕集方式は、所望の位置の大気
を捕集して試料を作成し、分析設備に移動させて分析す
る。
を捕集して試料を作成し、分析設備に移動させて分析す
る。
【００１２】以上のようなインピンジャー装置及びイオ
ンクロマトグラフィーによる従来の大気成分分析は、そ
の部分的または全体的な構成による問題点がいくつかあ
る。以下、各問題点を述べる。
ンクロマトグラフィーによる従来の大気成分分析は、そ
の部分的または全体的な構成による問題点がいくつかあ
る。以下、各問題点を述べる。
【００１３】まず、従来の大気成分の分析では、大気を
捕集して試料を作成するターゲット位置、すなわちサン
プルリングポイントと、試料の分析が行われる分析位置
とが相互に異なっていた。従って、試料を装置まで移動
させ、試料を装置に注入する過程で、外部の汚染物質が
混入したり、ガラス製の試料容器に含まれた汚染物質が
溶解したりして、汚染が発生するという問題があった。
捕集して試料を作成するターゲット位置、すなわちサン
プルリングポイントと、試料の分析が行われる分析位置
とが相互に異なっていた。従って、試料を装置まで移動
させ、試料を装置に注入する過程で、外部の汚染物質が
混入したり、ガラス製の試料容器に含まれた汚染物質が
溶解したりして、汚染が発生するという問題があった。
【００１４】また、試料を移動し装置に注入する過程で
必然的に時間を要し、即座に分析しにくいので、ターゲ
ット位置で発生する状況に対し、迅速に適切な措置が取
れず時間適応性が劣るという問題点があった。
必然的に時間を要し、即座に分析しにくいので、ターゲ
ット位置で発生する状況に対し、迅速に適切な措置が取
れず時間適応性が劣るという問題点があった。
【００１５】そして、従来のインピンジャー装置は、大
気を吸収液に押送する手段が、単純な管であったため、
吸収液と接触する大気の表面積が小さく吸収率が低かっ
た。従って、大気中の可溶成分を吸収液に吸収させるた
めには、長時間を必要とした。
気を吸収液に押送する手段が、単純な管であったため、
吸収液と接触する大気の表面積が小さく吸収率が低かっ
た。従って、大気中の可溶成分を吸収液に吸収させるた
めには、長時間を必要とした。
【００１６】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的の一つ
は、測定しようとする位置の大気成分を即座に分析し、
分析中のどのような状態にも迅速に対処し得る半導体設
備の環境分析用イオンクロマトグラフィーシステムを提
供することにある。
は、測定しようとする位置の大気成分を即座に分析し、
分析中のどのような状態にも迅速に対処し得る半導体設
備の環境分析用イオンクロマトグラフィーシステムを提
供することにある。
【００１７】本発明の他の目的は、測定する大気を吸収
液に溶解させて試料を作成する前処理段階での汚染の可
能性を低め、大気吸収率を高めた構成を有する半導体設
備の環境分析用イオンクロマトグラフィーシステムを提
供することにある。
液に溶解させて試料を作成する前処理段階での汚染の可
能性を低め、大気吸収率を高めた構成を有する半導体設
備の環境分析用イオンクロマトグラフィーシステムを提
供することにある。
【００１８】
【課題を解決するための手段】本発明による半導体設備
の環境分析用イオンクロマトグラフィーシステムは、大
気押送式インピンジャーとイオンクロマトグラフィーと
を備え、前記のインピンジャー装置は吸収液容器と、前
記の容器に外部で連結する吸気管及び排気管と、大気押
送用ポンプとを備え、前記イオンクロマトグラフィーは
ガードカラムと、分離カラムと、検出器とを備えるイオ
ンクロマトグラフィーシステムにおいて、前記吸気管の
吸入口は、測定ターゲット位置にあり、前記インピンジ
ャー装置の吸収液容器の吸収液が、直接にイオンクロマ
トグラフィーの試料注入口と連結することを特徴とす
る。
の環境分析用イオンクロマトグラフィーシステムは、大
気押送式インピンジャーとイオンクロマトグラフィーと
を備え、前記のインピンジャー装置は吸収液容器と、前
記の容器に外部で連結する吸気管及び排気管と、大気押
送用ポンプとを備え、前記イオンクロマトグラフィーは
ガードカラムと、分離カラムと、検出器とを備えるイオ
ンクロマトグラフィーシステムにおいて、前記吸気管の
吸入口は、測定ターゲット位置にあり、前記インピンジ
ャー装置の吸収液容器の吸収液が、直接にイオンクロマ
トグラフィーの試料注入口と連結することを特徴とす
る。
【００１９】さらに、本発明は、ターゲット位置の大気
成分を一定時間内に測定するためのもので、イオンクロ
マトグラフィーの検出器等の装備に連結する試料処理器
を、ノートブックコンピューター等のような小型装備か
ら構成し、システム全体を、設備に必要な場合はいつで
も設置し得るように構成した携帯型システムとすること
を特徴とする。
成分を一定時間内に測定するためのもので、イオンクロ
マトグラフィーの検出器等の装備に連結する試料処理器
を、ノートブックコンピューター等のような小型装備か
ら構成し、システム全体を、設備に必要な場合はいつで
も設置し得るように構成した携帯型システムとすること
を特徴とする。
【００２０】さらに、本発明は、システムを携帯型にす
る代わりに、大気吸入管を多経路のソレノイドバルブと
し、バルブの経路を統制可能なプログラムを入力させた
タイマーで調整し、バルブの各経路には多くの設備内部
の位置を連結させ、作業者がいつでも所望する位置の大
気を、作業位置において即時に判断できるよう調整され
ることを特徴とする。
る代わりに、大気吸入管を多経路のソレノイドバルブと
し、バルブの経路を統制可能なプログラムを入力させた
タイマーで調整し、バルブの各経路には多くの設備内部
の位置を連結させ、作業者がいつでも所望する位置の大
気を、作業位置において即時に判断できるよう調整され
ることを特徴とする。
【００２１】さらに、本発明はインピンジャー装置の吸
収液容器の下部と、イオンクロマトグラフィーの試料注
入口は配管で連結され、配管には調節バルブ及びポンプ
が設置されることを特徴とする。このとき、配管にはポ
ンプが設置されることもある。
収液容器の下部と、イオンクロマトグラフィーの試料注
入口は配管で連結され、配管には調節バルブ及びポンプ
が設置されることを特徴とする。このとき、配管にはポ
ンプが設置されることもある。
【００２２】さらに、本発明による半導体設備の環境分
析用イオンクロマトグラフィーシステムは、大気押送式
インピンジャー装置とイオンクロマトグラフィーとを備
えてなり、前記のインピンジャー装置は吸収液容器、前
記の容器に外部を連結する吸気管及び排気管、大気押送
用のポンプとを備え、前記のイオンクロマトグラフィー
はガードカラム、分離カラム及び検出器とを備えるイオ
ンクロマトグラフィーシステムにおいて、前記インピン
ジャー装置の吸収液容器は、大気吸収率を高めるよう
に、吸入された大気と吸収液との接触を増やすように構
成されることを特徴とする。
析用イオンクロマトグラフィーシステムは、大気押送式
インピンジャー装置とイオンクロマトグラフィーとを備
えてなり、前記のインピンジャー装置は吸収液容器、前
記の容器に外部を連結する吸気管及び排気管、大気押送
用のポンプとを備え、前記のイオンクロマトグラフィー
はガードカラム、分離カラム及び検出器とを備えるイオ
ンクロマトグラフィーシステムにおいて、前記インピン
ジャー装置の吸収液容器は、大気吸収率を高めるよう
に、吸入された大気と吸収液との接触を増やすように構
成されることを特徴とする。
【００２３】さらに、本発明では吸入された大気と吸収
液との接触を増やす１つの形態として、インピンジャー
装置に拡散スクラバを使用し、拡散スクラバには吸収液
を通過させないが、大気成分は通過させる選択的透過膜
(Membrane)を利用することを特徴とする。
液との接触を増やす１つの形態として、インピンジャー
装置に拡散スクラバを使用し、拡散スクラバには吸収液
を通過させないが、大気成分は通過させる選択的透過膜
(Membrane)を利用することを特徴とする。
【００２４】さらに、本発明では吸収液と大気との接触
を増やすために、吸収液容器を長く形成し、吸気管の出
口が容器の底面に位置するようにし、気泡が吸収液面に
浮かび上がるまでの時間を延長させ、吸気管の出口の面
積を大きくして多数の噴射孔を形成して、気泡を多数に
して接触表面積を増やすことを特徴とする。
を増やすために、吸収液容器を長く形成し、吸気管の出
口が容器の底面に位置するようにし、気泡が吸収液面に
浮かび上がるまでの時間を延長させ、吸気管の出口の面
積を大きくして多数の噴射孔を形成して、気泡を多数に
して接触表面積を増やすことを特徴とする。
【００２５】さらに、以上の本発明では共通的して使用
するインピンジャー装置を、使用するごとに浄化させる
ように、吸収液容器に大気を引き入れる管に４ウェイバ
ルブ等の多経路バルブを設置して測定ターゲットの大気
を窒素ガスでパージ(Purge)できるようにし、投入また
は放出された大気量測定が可能になるように流量計(Flo
w Meter)を設置し、容器の吸収液を交換できるように、
更に吸収液供給ラインを設置する。なお、パージ用の窒
素ガスラインに、標準ガスゼネレーターを結合させてイ
オンクロマトグラフィーシステムの検出、分析作業の基
準点を取る。
するインピンジャー装置を、使用するごとに浄化させる
ように、吸収液容器に大気を引き入れる管に４ウェイバ
ルブ等の多経路バルブを設置して測定ターゲットの大気
を窒素ガスでパージ(Purge)できるようにし、投入また
は放出された大気量測定が可能になるように流量計(Flo
w Meter)を設置し、容器の吸収液を交換できるように、
更に吸収液供給ラインを設置する。なお、パージ用の窒
素ガスラインに、標準ガスゼネレーターを結合させてイ
オンクロマトグラフィーシステムの検出、分析作業の基
準点を取る。
【００２６】
【発明の実施の形態】以下、本発明の具体的な実施例
を、添付図面を参照して詳細に説明する。
を、添付図面を参照して詳細に説明する。
【００２７】図１は、本発明の一実施例による、半導体
設備の環境分析用イオンクロマトグラフィーシステムの
構成を概略的に示した図面である。
設備の環境分析用イオンクロマトグラフィーシステムの
構成を概略的に示した図面である。
【００２８】空間の上部には、本システムによる分析の
前処理部に該当するインピンジャー装置が設置され、下
部にはイオンクロマトグラフィーが設置されている。イ
オンクロマトグラフィーの構成は、一般的なサンプルル
ープ方式と同一である。連結配管の連結バルブ３１を開
けると、試料注入口１４にはインピンジャー装置の吸収
液が、すぐに投入され得るようになっている。インピン
ジャー装置の吸気管３２には、４ウェイバルブ３３が設
置され、その中のいずれか１つの経路には、パージ用の
窒素ガスライン３４が連結されている。排気管３５に
は、バルブ３６と真空ポンプ３７、流量計３８が連結さ
れており、吸収液容器３９に吸収液として純水を補充で
きるように、純水ライン４０とポンプ４１とが設置され
ている。吸収液容器は、異物質の湧出による汚染を抑制
し得るようにＰＴＦＥ(Poly TetraFluoro Ethylene)材
質からなっている。
前処理部に該当するインピンジャー装置が設置され、下
部にはイオンクロマトグラフィーが設置されている。イ
オンクロマトグラフィーの構成は、一般的なサンプルル
ープ方式と同一である。連結配管の連結バルブ３１を開
けると、試料注入口１４にはインピンジャー装置の吸収
液が、すぐに投入され得るようになっている。インピン
ジャー装置の吸気管３２には、４ウェイバルブ３３が設
置され、その中のいずれか１つの経路には、パージ用の
窒素ガスライン３４が連結されている。排気管３５に
は、バルブ３６と真空ポンプ３７、流量計３８が連結さ
れており、吸収液容器３９に吸収液として純水を補充で
きるように、純水ライン４０とポンプ４１とが設置され
ている。吸収液容器は、異物質の湧出による汚染を抑制
し得るようにＰＴＦＥ(Poly TetraFluoro Ethylene)材
質からなっている。
【００２９】本実施例で試料を作成し分析する過程を調
べると、連結配管の連結バルブ３１を閉め、純水ライン
４０のポンプ４１を稼動させてから、吸収液容器３９
は、吸収液を受け入れる。そして、吸気管３２の４ウェ
イバルブ３３を、大気を受け入れるように選択した後、
排気管３５の真空ポンプ３７を稼動させる。一定時間ま
たは一定量の大気を吸収液に通過させた後、真空ポンプ
３７の稼動を中止し、連結配管の連結バルブ３１を開け
て、大気成分が溶解した吸収液を、イオンクロマトグラ
フィーの試料注入口１４に送る。
べると、連結配管の連結バルブ３１を閉め、純水ライン
４０のポンプ４１を稼動させてから、吸収液容器３９
は、吸収液を受け入れる。そして、吸気管３２の４ウェ
イバルブ３３を、大気を受け入れるように選択した後、
排気管３５の真空ポンプ３７を稼動させる。一定時間ま
たは一定量の大気を吸収液に通過させた後、真空ポンプ
３７の稼動を中止し、連結配管の連結バルブ３１を開け
て、大気成分が溶解した吸収液を、イオンクロマトグラ
フィーの試料注入口１４に送る。
【００３０】イオンクロマトグラフィーでは成分を分析
し、インピンジャー装置では吸収液容器３９の残余吸収
液を放出し、４ウェイバルブ３３を調節して真空ポンプ
３７を稼動して、装置内部の残余大気をパージする。イ
オンクロマトグラフィーでは試料投入口１４に投入され
た試料が、陽イオンと陰イオンとに分離され電気伝導度
検出器１８で分析される。
し、インピンジャー装置では吸収液容器３９の残余吸収
液を放出し、４ウェイバルブ３３を調節して真空ポンプ
３７を稼動して、装置内部の残余大気をパージする。イ
オンクロマトグラフィーでは試料投入口１４に投入され
た試料が、陽イオンと陰イオンとに分離され電気伝導度
検出器１８で分析される。
【００３１】本実施例のシステムは、データ処理装置と
してノートブックコンピューターを採択し、システムを
カート(Cart)に設置し便利に移動できるようにする。従
って、ある位置で即時に大気分析を実施した後、他の設
備や位置に移動し、新たに大気分析を実施することがで
きる。
してノートブックコンピューターを採択し、システムを
カート(Cart)に設置し便利に移動できるようにする。従
って、ある位置で即時に大気分析を実施した後、他の設
備や位置に移動し、新たに大気分析を実施することがで
きる。
【００３２】図２は、本発明の他の一実施例による、半
導体設備の環境分析用イオンクロマトグラフィーシステ
ムの構成を概略的に示した図面である。
導体設備の環境分析用イオンクロマトグラフィーシステ
ムの構成を概略的に示した図面である。
【００３３】イオンクロマトグラフィーは一般的なサン
プルループ方式の装備からなり、インピンジャー装置は
吸収液容器と、膜を利用した拡散スクラバ４２と、ソレ
ノイドバルブ４３を利用した多経路吸気管とからなって
いる。
プルループ方式の装備からなり、インピンジャー装置は
吸収液容器と、膜を利用した拡散スクラバ４２と、ソレ
ノイドバルブ４３を利用した多経路吸気管とからなって
いる。
【００３４】拡散スクラバ４２の構成を調べると、ＰＴ
ＦＥ材質のシリンダー型容器４４の内部にゴアテックス
(Gore-Tex：商品名、アメリカデュポン社製）膜からな
るチューブ４５が設置されている。シリンダー形容器４
４の一の側に、大気が投入される吸気管４６と、他の側
にはシリンダー形容器４４内に設置されたチューブ４５
に沿って流れる大気を排出するための排気管４７とが設
置されている。そして、チューブ４５の一端は、吸収用
供給容器３０と連結し、他端はイオンクロマトグラフィ
ーの試料投入口１４と連結する。
ＦＥ材質のシリンダー型容器４４の内部にゴアテックス
(Gore-Tex：商品名、アメリカデュポン社製）膜からな
るチューブ４５が設置されている。シリンダー形容器４
４の一の側に、大気が投入される吸気管４６と、他の側
にはシリンダー形容器４４内に設置されたチューブ４５
に沿って流れる大気を排出するための排気管４７とが設
置されている。そして、チューブ４５の一端は、吸収用
供給容器３０と連結し、他端はイオンクロマトグラフィ
ーの試料投入口１４と連結する。
【００３５】排気管４７には、流量計４８とバルブ４９
及び真空ポンプ５０とが設置されており、吸気管４６に
はソレノイドバルブ４３が設置される。ソレノイドバル
ブ４３は多経路型からなっており、バルブのそれぞれの
支路は、測定する位置において配管で連結しており、プ
ログラムが可能なタイマー５１により経路の操縦が可能
である。その経路の中のいずれか１つには、純粋な窒素
ガスライン５２が連結されている。窒素により、インピ
ンジャー装置の残留気体をパージして、従来位置で採取
した気体の残留成分が検出されるメモリ効果が防止され
るようにする。また窒素は、試料作成の初期で、大気を
捕集する前に空気中の二酸化炭素が吸収液に溶けこむ現
象を防止する。
及び真空ポンプ５０とが設置されており、吸気管４６に
はソレノイドバルブ４３が設置される。ソレノイドバル
ブ４３は多経路型からなっており、バルブのそれぞれの
支路は、測定する位置において配管で連結しており、プ
ログラムが可能なタイマー５１により経路の操縦が可能
である。その経路の中のいずれか１つには、純粋な窒素
ガスライン５２が連結されている。窒素により、インピ
ンジャー装置の残留気体をパージして、従来位置で採取
した気体の残留成分が検出されるメモリ効果が防止され
るようにする。また窒素は、試料作成の初期で、大気を
捕集する前に空気中の二酸化炭素が吸収液に溶けこむ現
象を防止する。
【００３６】タイマー５１がソレノイドバルブ４３の一
支路を開放し、排気管４７の真空ポンプ５０を駆動させ
ると、測定ターゲット位置の大気が、拡散スクラバ４２
の外管をなすＰＴＦＥ材質のシリンダー形容器４４に吸
入される。吸入された大気は外管に沿って流れつつ、拡
散スクラバ４２の内部に設置されたチューブ４５と接触
するようになる。チューブ４５は、ゴアテックスのよう
に空気を通すが、吸収液である純水や薄い過酸化水素溶
液は通過させない材質からなるので、大気成分がチュー
ブ４５内の吸収液に吸収され、残余大気は排気管４７を
通して排気される。チューブ４５の材質、厚さ、経路
数、長さ等を調節して吸収度を増加させる。また、拡散
スクラバ４２内の圧力等も吸収度に影響を及ぼす。
支路を開放し、排気管４７の真空ポンプ５０を駆動させ
ると、測定ターゲット位置の大気が、拡散スクラバ４２
の外管をなすＰＴＦＥ材質のシリンダー形容器４４に吸
入される。吸入された大気は外管に沿って流れつつ、拡
散スクラバ４２の内部に設置されたチューブ４５と接触
するようになる。チューブ４５は、ゴアテックスのよう
に空気を通すが、吸収液である純水や薄い過酸化水素溶
液は通過させない材質からなるので、大気成分がチュー
ブ４５内の吸収液に吸収され、残余大気は排気管４７を
通して排気される。チューブ４５の材質、厚さ、経路
数、長さ等を調節して吸収度を増加させる。また、拡散
スクラバ４２内の圧力等も吸収度に影響を及ぼす。
【００３７】拡散スクラバ４２に一定量の大気を通過さ
せると大気成分が吸収されてチューブ４５内の吸収液は
試料となり、その試料はイオンクロマトグラフィーの試
料投入口１４に投入されて、検出器１８で分析される。
せると大気成分が吸収されてチューブ４５内の吸収液は
試料となり、その試料はイオンクロマトグラフィーの試
料投入口１４に投入されて、検出器１８で分析される。
【００３８】拡散スクラバ４２を通過する大気により吸
収液が押しあげられるときは、吸収液の蒸発により放出
段階でおこる流速の変化を防止するために、吸入法を取
ることが好ましい。吸収液の供給容器３０は拡散スクラ
バ４２より１ｍ程度高く位置させて、膜の微細孔を通し
空気泡等を吸収液に吸収させ、気泡発生を誘発すること
を防止した。
収液が押しあげられるときは、吸収液の蒸発により放出
段階でおこる流速の変化を防止するために、吸入法を取
ることが好ましい。吸収液の供給容器３０は拡散スクラ
バ４２より１ｍ程度高く位置させて、膜の微細孔を通し
空気泡等を吸収液に吸収させ、気泡発生を誘発すること
を防止した。
【００３９】本実施例の場合は、システムを統制室等の
特定位置に固定設置した後、試料の流入部分を位置ごと
に設置し、工場全体の環境をモニターする中央監視シス
テムの形態にしたりすることが可能である。また、ソレ
ノイドバルブが設置されていない単純な吸気管を設置し
た半導体設備の環境分析用イオンクロマトグラフィーシ
ステムを、図３の実施例で述べるように、携帯型にする
ことも可能である。
特定位置に固定設置した後、試料の流入部分を位置ごと
に設置し、工場全体の環境をモニターする中央監視シス
テムの形態にしたりすることが可能である。また、ソレ
ノイドバルブが設置されていない単純な吸気管を設置し
た半導体設備の環境分析用イオンクロマトグラフィーシ
ステムを、図３の実施例で述べるように、携帯型にする
ことも可能である。
【００４０】図３は、本発明の一実施例によって、大気
と吸収液との接触を増やした、半導体設備の環境分析用
イオンクロマトグラフィーシステムのインピンジャー装
置を概略的に示した図面である。
と吸収液との接触を増やした、半導体設備の環境分析用
イオンクロマトグラフィーシステムのインピンジャー装
置を概略的に示した図面である。
【００４１】吸収液容器５３をＰＴＦＥ材質の長い円筒
形とし、吸気管５４は容器の底面に達する程度に長く形
成する。そして吸気管５４には流量計５５を設置して、
吸入する大気量を調節可能にした。排気管５６には、真
空ポンプ５７を設置し、真空ポンプ５７の前部にバルブ
５８を設置した。吸気管５４の一端部の放出口５９は、
多数の微細孔を有するプレート形とした。
形とし、吸気管５４は容器の底面に達する程度に長く形
成する。そして吸気管５４には流量計５５を設置して、
吸入する大気量を調節可能にした。排気管５６には、真
空ポンプ５７を設置し、真空ポンプ５７の前部にバルブ
５８を設置した。吸気管５４の一端部の放出口５９は、
多数の微細孔を有するプレート形とした。
【００４２】従って、本実施例によると、多数の微細孔
のため、気泡の発生数が多く、同じ容積の気体を放出す
る時も、表面積を大きくすることにより大気が吸収液に
吸収される効率を高め得る。また、容器を長く形成した
ので、吸収液の中から気泡が浮かび上がるまでの時間が
延長し、大気の吸収率を高め得る。ＰＴＦＥ容器は吸収
液に溶出しないので、正確に分析を行える。
のため、気泡の発生数が多く、同じ容積の気体を放出す
る時も、表面積を大きくすることにより大気が吸収液に
吸収される効率を高め得る。また、容器を長く形成した
ので、吸収液の中から気泡が浮かび上がるまでの時間が
延長し、大気の吸収率を高め得る。ＰＴＦＥ容器は吸収
液に溶出しないので、正確に分析を行える。
【００４３】そして、吸気管に設置された流量計と、排
気管に設置された調節バルブ及び真空ポンプにより、一
般大気圧より低い圧力を有する位置にある大気も、逆流
せず一定量を吸入して分析可能とし、吸入される状態を
維持し、試料分析に正確性及び再現性を持たせる。
気管に設置された調節バルブ及び真空ポンプにより、一
般大気圧より低い圧力を有する位置にある大気も、逆流
せず一定量を吸入して分析可能とし、吸入される状態を
維持し、試料分析に正確性及び再現性を持たせる。
【００４４】以上において本発明は、記載された具体例
に対してのみ詳細に説明したが、本発明の技術思想範囲
内で、多様な変形及び修正が可能であることは、当業者
によって明らかなものであり、このような変形及び修正
が、添付の特許請求範囲に属することは当然なものであ
る。
に対してのみ詳細に説明したが、本発明の技術思想範囲
内で、多様な変形及び修正が可能であることは、当業者
によって明らかなものであり、このような変形及び修正
が、添付の特許請求範囲に属することは当然なものであ
る。
【００４５】
【発明の効果】本発明の半導体設備の環境分析用イオン
クロマトグラフィーシステムによると、まず、測定しよ
うとする位置における大気の成分を即座に分析し、迅速
に状況に対処し得るという利点がある。
クロマトグラフィーシステムによると、まず、測定しよ
うとする位置における大気の成分を即座に分析し、迅速
に状況に対処し得るという利点がある。
【００４６】また、本発明の半導体設備の環境分析用イ
オンクロマトグラフィーシステムによると、分析する大
気を吸収液に溶解させて試料を得る前処理段階で、移送
過程での汚染や容器による汚染可能性を低め、分析に必
要な大気の吸収率を高め得るので、正確で迅速な大気成
分の分析が可能であるという利点がある。
オンクロマトグラフィーシステムによると、分析する大
気を吸収液に溶解させて試料を得る前処理段階で、移送
過程での汚染や容器による汚染可能性を低め、分析に必
要な大気の吸収率を高め得るので、正確で迅速な大気成
分の分析が可能であるという利点がある。
【図１】本発明の一実施例による、半導体設備の環境分
析用イオンクロマトグラフィーシステムの構成を概略的
に示した図面である。
析用イオンクロマトグラフィーシステムの構成を概略的
に示した図面である。
【図２】本発明の一実施例による、半導体設備の環境分
析用イオンクロマトグラフィーシステムの構成を概略的
に示した図面である。
析用イオンクロマトグラフィーシステムの構成を概略的
に示した図面である。
【図３】本発明の一実施例によって、大気と吸収液との
接触を増やした、半導体設備の環境分析用イオンクロマ
トグラフィーシステムのインピンジャー装置を概略的に
示した図面である。
接触を増やした、半導体設備の環境分析用イオンクロマ
トグラフィーシステムのインピンジャー装置を概略的に
示した図面である。
【図４】従来の一般的なイオンクロマトグラフィーの概
略的な構成を示す図面である。
略的な構成を示す図面である。
【図５】従来のインピンジャー(Impinger)装置を示す図
面である。
面である。
１１： 試料投入調節バルブ １２： サンプルループ １３： 放流ライン １４： 試料投入口 １５： 運搬溶媒側の調節バルブ １６： ガードカラム １７： 分離カラム １８： 検出器 ３９、５３： 吸収液容器 ３２、４６、５４： 吸気管 ３５、４７、５６： 排気管 ４１： ポンプ ３１： 連結バルブ ３３： ４ウェイバルブ ３４、５２： 窒素ガスライン ３６、４９、５８： バルブ ３７、５０、５７： 真空ポンプ ３８、４８、５５： 流量計 ４０： 純水ライン ４２： 拡散スクラバ ４３： ソレノイドバルブ ４４： シリンダー形容器 ４５： チューブ ５１： タイマー ５９： 放出口
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ Ｇ０１Ｎ 30/20 Ｇ０１Ｎ 30/20 Ｎ 30/46 30/46 Ａ (56)参考文献 特開 平６−11496（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−203968（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−203969（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−233706（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−300741（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G01N 30/88 G01N 1/22 G01N 30/04 G01N 30/06 G01N 30/16 G01N 30/20 G01N 30/46
Claims (16)
- 【請求項１】 大気押送式インピンジャー装置とイオン
クロマトグラフィーとを具備する半導体設備の環境分析
用イオンクロマトグラフィーシステムであって、 前記インピンジャー装置は吸収液容器と、前記容器に外
部と連結する吸気管及び排気管と、前記排気管に連結す
る大気押送用ポンプとを備え、前記吸収液容器 の吸収液が、直接にイオンクロマトグラ
フィーの試料注入口に入るように連結され、前記吸気管には多経路バルブが設置され、前記多経路バ
ルブの各経路は、前記半導体設備の所定の測定ターゲッ
ト位置に連結され、 前記多経路バルブから前記インピンジャー装置までの残
留気体をパージ(Purge)して前記吸収液に二酸化炭素が
溶け込むことを防止するためのパージガスラインが前記
多経路バルブの一経路に連結され、 前記イオンクロマトグラフィーはガードカラムと、分離
カラムと、検出器とを備えることを特徴とするシステ
ム。 - 【請求項２】 前記検出器に連結されたデータ分析機を
小型装備とし、前記インピンジャー装置と前記イオンク
ロマトグラフィーを構成する要素等と共に移動カート(C
art)に設置して、携行が容易になることを特徴とする請
求項１に記載のシステム。 - 【請求項３】 前記多経路バルブはソレノイドバルブで
あって、前記ソレノイドバルブを調整して、前記所定の
測定ターゲット位置の大気を選択して分析することを特
徴とする請求項１に記載のシステム。 - 【請求項４】 前記ソレノイドバルブは、前記多経路バ
ルブの経路が統制できるようにプログラム可能なタイマ
ーで調整されることを特徴とする請求項３に記載のシス
テム。 - 【請求項５】 前記インピンジャー装置の吸収液容器の
下部と、前記イオンクロマトグラフィーの試料注入口は
配管で連結され、前記配管には調節バルブが設置される
ことを特徴とする請求項１に記載のシステム。 - 【請求項６】 前記パージ用のガスラインは窒素ライン
であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項
に記載のシステム。 - 【請求項７】 前記吸入管または排気管には、流量計(F
low Meter)が設置されることを特徴とする請求項１乃至
６のいずれか１項に記載のシステム。 - 【請求項８】 前記吸収液容器には吸収液を供給し得る
ようにポンプが設置され、吸収液供給ラインが付加され
ることを特徴とする請求項７に記載のシステム。 - 【請求項９】 大気押送式インピンジャー装置とイオン
クロマトグラフィーとを具備する半導体設備の環境分析
用イオンクロマトグラフィーシステムであって、 前記インピンジャー装置はシリンダー型吸収液容器と、
前記容器に外部と連結する吸気管及び排気管と、大気押
送用ポンプとを備え、前記吸気管には多経路バルブが設置され、前記多経路バ
ルブの各経路は、前記半導体設備の所定の測定ターゲッ
ト位置に連結され、 前記多経路バルブから前記インピンジャー装置までの残
留気体をパージ(Purge)して前記吸収液に二酸化炭素が
溶け込むことを防止するためのパージガスラインが前記
多経路バルブの一経路に連結され、 前記インピンジャー装置には、シリンダー型容器の内部
に選択的な透過膜からなるチューブが設置され、前記シ
リンダー型容器の一端部には、大気を投入させる吸気管
が、前記容器の他端部には前記シリンダー型容器内で設
置された前記のチューブに沿って流れる大気が排出され
るように排気管が設置され、前記チューブの一端には吸
収液供給部が、前記チューブの他端には前記イオンクロ
マトグラ前記イオンクロマトグラフィーはガードカラム
と、分離カラムと、検出器とを 備えることを特徴とする
システム。 - 【請求項１０】 前記選択的な透過膜がゴアテックス
（Gore-Tex）（登録商標）からなることを特徴とする請
求項９に記載のシステム。 - 【請求項１１】 前記インピンジャー装置は大気吸収率
を高め得るように吸気管の出口を多数の噴射孔が形成さ
れた板形状として発生する気泡数を増やしたことを特徴
とする請求項１に記載のシステム。 - 【請求項１２】 前記吸気管には流量計が設置されるこ
とを特徴とする請求項１０または１１に記載のシステ
ム。 - 【請求項１３】 前記吸収液容器には、吸収液供給ライ
ンが更に設置されることを特徴とする請求項１２に記載
のシステム。 - 【請求項１４】 前記多経路バルブはソレノイドバルブ
であって、前記バルブの各経路は、それぞれ測定ターゲ
ット位置と配管で連結されることを特徴とする請求項９
乃至１３のいずれか１項に記載のシステム。 - 【請求項１５】 前記ソレノイドバルブは、プログラム
できるタイマーにより前記各経路が調節されることを特
徴とする請求項１４に記載のシステム。 - 【請求項１６】 前記パージ用ガスラインは前記測定タ
ーゲットから吸気した大気を窒素ガスでパージすること
を特徴とする請求項１４または１５に記載のシステム。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1996-70903 | 1996-12-24 | ||
| KR1019960070903A KR100217499B1 (ko) | 1996-12-24 | 1996-12-24 | 반도체설비 환경분석용 이온크로마토그래피 시스템 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10206409A JPH10206409A (ja) | 1998-08-07 |
| JP3043305B2 true JP3043305B2 (ja) | 2000-05-22 |
Family
ID=19490528
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9355646A Expired - Fee Related JP3043305B2 (ja) | 1996-12-24 | 1997-12-24 | 半導体設備内の環境分析用イオンクロマトグラフィーシステム |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5935302A (ja) |
| JP (1) | JP3043305B2 (ja) |
| KR (1) | KR100217499B1 (ja) |
| TW (1) | TW409939U (ja) |
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| US6560506B2 (en) * | 2000-12-04 | 2003-05-06 | Advanced Micro Devices, Inc. | Method and apparatus for control for semiconductor processing for reducing effects of environmental effects |
| US20040023419A1 (en) * | 2001-09-24 | 2004-02-05 | Extraction Systems, Inc | System and method for monitoring contamination |
| US7092077B2 (en) * | 2001-09-24 | 2006-08-15 | Entegris, Inc. | System and method for monitoring contamination |
| JP2003302317A (ja) * | 2002-04-11 | 2003-10-24 | Oki Electric Ind Co Ltd | 気中化学汚染不純物成分の捕集方法 |
| KR100580301B1 (ko) * | 2004-06-22 | 2006-05-16 | 삼성전자주식회사 | 공기 정화기 및 그 제어 방법 |
| CN102323115A (zh) * | 2011-08-27 | 2012-01-18 | 福州大学 | 空气采样器 |
| KR101359940B1 (ko) * | 2013-06-24 | 2014-02-10 | 주식회사 위드텍 | 굴뚝 배출가스 온라인 모니터링 시스템 |
| US20160320359A1 (en) * | 2015-04-29 | 2016-11-03 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | System and method for monitoring contaminations |
| KR102498445B1 (ko) * | 2015-10-20 | 2023-02-13 | 삼성전자주식회사 | 이온의 농도를 검출하는 검출기 및 이를 구비하는 이온 크로마토그래피 장치 |
| CN110319871A (zh) * | 2019-05-09 | 2019-10-11 | 广州长德环境研究院有限公司 | 一种环境空气气态污染物自动监测采样总管气路监控系统 |
| CN112255362A (zh) * | 2020-07-28 | 2021-01-22 | 安徽富乐德科技发展股份有限公司 | 一种应用于半导体领域的石英罩离子污染的检测工艺 |
| WO2022176251A1 (ja) * | 2021-02-22 | 2022-08-25 | 株式会社島津製作所 | ガスクロマトグラフを用いた空気測定方法及びガスクロマトグラフ分析システム |
Family Cites Families (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US251407A (en) * | 1881-12-27 | Feiedeich a | ||
| US3486307A (en) * | 1968-01-10 | 1969-12-30 | Lyle C Mcdermott | Air pollution elimination apparatus |
| US3926561A (en) * | 1974-05-13 | 1975-12-16 | Meloy Lab | Gas analysis employing semi-permeable membrane |
| US3923461A (en) * | 1974-06-07 | 1975-12-02 | Meloy Lab | Apparatus and method employing gas-permeable membrane for separating, diluting, or concentrating molecular species |
| HU177965B (en) * | 1976-12-23 | 1982-02-28 | Hiradastechnikai Gepgyar | Method and apparatus for detecting total organic material content lf gases by means of flame ionization detector |
| US4468948A (en) * | 1981-03-11 | 1984-09-04 | Kanegafuchi Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Method and apparatus for measuring the concentration of a gaseous or volatile substance in a liquid |
| US4834877A (en) * | 1985-08-09 | 1989-05-30 | The Dow Chemical Company | Apparatus for membrane-permeation separations using segmented flow |
| FI76488C (fi) * | 1987-05-05 | 1988-11-10 | Instrumentarium Oy | Roervattenavskiljare till en gasanalysator. |
| US4900448A (en) * | 1988-03-29 | 1990-02-13 | Honeywell Inc. | Membrane dehumidification |
| US5100555A (en) * | 1990-06-15 | 1992-03-31 | Matson Stephen L | Method and system for removing radon from radon containing water |
| DE4027126C1 (ja) * | 1990-08-28 | 1991-12-12 | Eberhard Prof. Dr. 2000 Hamburg De Bock | |
| US5078759A (en) * | 1990-10-15 | 1992-01-07 | Kira Alan K | Apparatus and method for precipitating particles from a gaseous stream |
| US5133862A (en) * | 1991-01-31 | 1992-07-28 | Fmc Corporation | Flexible membrane diffuser |
| US5580452A (en) * | 1994-12-02 | 1996-12-03 | Lsr Technologies, Inc. | Moving liquid membrane modules |
| US5785741A (en) * | 1995-07-17 | 1998-07-28 | L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges, Claude | Process and system for separation and recovery of perfluorocompound gases |
| JPH0961315A (ja) * | 1995-08-24 | 1997-03-07 | Sharp Corp | 雰囲気中不純物の捕集方法および分析装置 |
| US5759237A (en) * | 1996-06-14 | 1998-06-02 | L'air Liquide Societe Anonyme Pour L'etude Et, L'exploitation Des Procedes Georges Claude | Process and system for selective abatement of reactive gases and recovery of perfluorocompound gases |
-
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