JP3034586B2 - 移動量測定方法 - Google Patents
移動量測定方法Info
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Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は移動量測定方法に関する。
［従来の技術］ 線状光源からの光束を格子パターンに照射することに
より格子パターンに対応する「影絵パターン」を発生さ
せ、格子パターンの移動に伴う影絵パターンの変位を光
センサーにより検出して格子パターンの移動量を測定す
る方法が知られている（特開平１−297513号公報）。
より格子パターンに対応する「影絵パターン」を発生さ
せ、格子パターンの移動に伴う影絵パターンの変位を光
センサーにより検出して格子パターンの移動量を測定す
る方法が知られている（特開平１−297513号公報）。
上記影絵パターンの発生する現象を「回折影絵現象」
と称するが、本発明はこの回折影絵現象を利用するの
で、以下に先ず回折影絵現象を簡単に説明する。
と称するが、本発明はこの回折影絵現象を利用するの
で、以下に先ず回折影絵現象を簡単に説明する。
第２図に於いて符号10は線状光源、符号12は格子パタ
ーン、符号14はスクリーンを示している。
ーン、符号14はスクリーンを示している。
格子パターンは透過率変化もしくは反射率変化が１方
向に単周期的に繰返されたものであるが、第２図に示す
格子パターン12は図の上下方向に透過率変化が単周期的
に繰返されたものである。格子パターンに関して、透過
率変化もしくは反射率変化が「単周期的に繰返される方
向」を「格子配列方向」と呼ぶ。第２図では図の上下方
向が格子パターン12の格子配列方向である。格子パター
ン12は格子ピッチ、即ち格子配列方向における透過率変
化の周期としてξを持つ。
向に単周期的に繰返されたものであるが、第２図に示す
格子パターン12は図の上下方向に透過率変化が単周期的
に繰返されたものである。格子パターンに関して、透過
率変化もしくは反射率変化が「単周期的に繰返される方
向」を「格子配列方向」と呼ぶ。第２図では図の上下方
向が格子パターン12の格子配列方向である。格子パター
ン12は格子ピッチ、即ち格子配列方向における透過率変
化の周期としてξを持つ。
線状光源10は、格子パターン12の格子配列方向に長さ
ｄを有する。線状光源としては例えば、AlGaAsやGaAs等
の半導体レーザーの発光部の長手方向を格子配列方向と
平行にしたものが好適である。
ｄを有する。線状光源としては例えば、AlGaAsやGaAs等
の半導体レーザーの発光部の長手方向を格子配列方向と
平行にしたものが好適である。
線状光源10からの光束を格子パターン12に照射する
と、格子パターン12の各被照射部から回折光L1,L2,L3等
が発生する。そして、これら回折光同志が干渉する領域
には符号20で示すような干渉縞が現れる。
と、格子パターン12の各被照射部から回折光L1,L2,L3等
が発生する。そして、これら回折光同志が干渉する領域
には符号20で示すような干渉縞が現れる。
線状光源10の長さｄと格子パターン12の格子ピッチξ
が、 （1/10）≦（d/ξ）≦４ （１） なる条件を満足するとき上記干渉縞20は「恰も線状光源
10の位置に理想的な点光源を置き、格子パターン12を幾
何光学的な影絵として拡大した」かのように発生する。
即ち線状光源10と格子パターン12の距離及び格子パター
ン12とスクリーン14の距離を、それぞれ図のようにb1,b
2とすると、干渉縞20は格子パターン12を格子配列方向
に｛（b1＋b2）/b1｝倍に拡大したものとなる。それ故
このような干渉縞を「影絵パターン」と称するのであ
る。
が、 （1/10）≦（d/ξ）≦４ （１） なる条件を満足するとき上記干渉縞20は「恰も線状光源
10の位置に理想的な点光源を置き、格子パターン12を幾
何光学的な影絵として拡大した」かのように発生する。
即ち線状光源10と格子パターン12の距離及び格子パター
ン12とスクリーン14の距離を、それぞれ図のようにb1,b
2とすると、干渉縞20は格子パターン12を格子配列方向
に｛（b1＋b2）/b1｝倍に拡大したものとなる。それ故
このような干渉縞を「影絵パターン」と称するのであ
る。
線状光源10を固定して格子パターン12をその格子配列
方向に移動させると影絵パターン20も格子パターン12と
影絵関係を保ったまま格子パターン12と同方向に変位す
る。
方向に移動させると影絵パターン20も格子パターン12と
影絵関係を保ったまま格子パターン12と同方向に変位す
る。
従って、格子パターンの移動量は影絵パターン20によ
り｛（b1＋b2）/b1｝に拡大することができ、影絵パタ
ーンを利用すると格子パターン自体の極めて微小な変位
を高精度に測定できるのである。
り｛（b1＋b2）/b1｝に拡大することができ、影絵パタ
ーンを利用すると格子パターン自体の極めて微小な変位
を高精度に測定できるのである。
線状光源10の、第２図の図面に直交する方向の寸法は
特に制限がない。
特に制限がない。
また線状光源から格子パターンに照射する光はコヒー
レント光が理想的であるが、LEDのような光源からのイ
ンコヒーレントな光束でも、第３図に示すような、長さ
ｄのスリットを持つアパーチュア（同図（Ｉ））や、長
径もしくは短径がｄであるような楕円状開口を持つアパ
ーチュア（II）、あるいは直径がｄであるような円形の
開口を持つアパーチュア（III）を介して取り出し、上
記ｄの方向が格子パターンの格子配列方向に対応するよ
うにして格子パターンに照射すると、ｄと格子ピッチξ
との関係が上記（１）式を満足すれば影絵パターンを発
生させることができる。
レント光が理想的であるが、LEDのような光源からのイ
ンコヒーレントな光束でも、第３図に示すような、長さ
ｄのスリットを持つアパーチュア（同図（Ｉ））や、長
径もしくは短径がｄであるような楕円状開口を持つアパ
ーチュア（II）、あるいは直径がｄであるような円形の
開口を持つアパーチュア（III）を介して取り出し、上
記ｄの方向が格子パターンの格子配列方向に対応するよ
うにして格子パターンに照射すると、ｄと格子ピッチξ
との関係が上記（１）式を満足すれば影絵パターンを発
生させることができる。
影絵パターンを利用すると上記の如く格子パターンの
移動量を高精度に測定できるから、影絵パターンを利用
して極めて精度の高い移動量測定が可能である。
移動量を高精度に測定できるから、影絵パターンを利用
して極めて精度の高い移動量測定が可能である。
［発明が解決しようとする課題］ 上記のような影絵パターンを利用した移動量測定で
は、スケールに形成する格子パターンのピッチが細かい
程、測定精度を高くできるが、格子パターンを作成する
上で格子パターンのピッチには自ずと小さくできる限界
が存在する。
は、スケールに形成する格子パターンのピッチが細かい
程、測定精度を高くできるが、格子パターンを作成する
上で格子パターンのピッチには自ずと小さくできる限界
が存在する。
本発明は上述した事情に鑑みてなされたものであっ
て、従来の影絵パターンを利用した移動量測定の測定精
度の限界を更に高め得る新規な移動量測定方法の提供を
目的とする。
て、従来の影絵パターンを利用した移動量測定の測定精
度の限界を更に高め得る新規な移動量測定方法の提供を
目的とする。
［課題を解決するための手段］ 本発明の移動量測定方法は「スケール上に形成された
格子パターンに線状光源からの光束を照射し、格子パタ
ーンによる回折光の干渉により影絵的パターンを発生せ
しめ、スケールの格子配列方向への移動に伴う影絵的パ
ターンの変位を光センサーにより検出してスケールの移
動量を測定する方法」であって以下の点を特徴とする。
格子パターンに線状光源からの光束を照射し、格子パタ
ーンによる回折光の干渉により影絵的パターンを発生せ
しめ、スケールの格子配列方向への移動に伴う影絵的パ
ターンの変位を光センサーにより検出してスケールの移
動量を測定する方法」であって以下の点を特徴とする。
即ち「格子パターンに於ける格子の厚みＤ（＞０）
が、線状光源の発光波長の1/4以下であるように格子パ
ターンを形成し、格子パターンによる±１次回折光の干
渉により影絵的パターンを発生させる」点である。
が、線状光源の発光波長の1/4以下であるように格子パ
ターンを形成し、格子パターンによる±１次回折光の干
渉により影絵的パターンを発生させる」点である。
スケールは、細幅の板状とし格子パターンを長手方向
へ直線的に形成して所謂リニアスケールとしても良いし
（請求項２）、円板状として格子パターンを周縁部に円
環状に形成したものとしても良く（請求項３）、円柱状
として「格子パターンを周面部に周面の母線に直交する
方向を格子配列方向として円柱軸を囲繞するように形成
した」ものとしても良い（請求項４）。
へ直線的に形成して所謂リニアスケールとしても良いし
（請求項２）、円板状として格子パターンを周縁部に円
環状に形成したものとしても良く（請求項３）、円柱状
として「格子パターンを周面部に周面の母線に直交する
方向を格子配列方向として円柱軸を囲繞するように形成
した」ものとしても良い（請求項４）。
［作用］ 従来の移動量測定で利用されている「影絵パターン」
は上記の如く格子パターンにより発生した回折光同志の
干渉により発生するのであるが、より正確には、０次の
回折光と、１次もしくは−１次の回折光との干渉により
発生する。そして影絵パターンは格子パターンを影絵的
に拡大したものとなる。
は上記の如く格子パターンにより発生した回折光同志の
干渉により発生するのであるが、より正確には、０次の
回折光と、１次もしくは−１次の回折光との干渉により
発生する。そして影絵パターンは格子パターンを影絵的
に拡大したものとなる。
しかるに本発明では、±１次回折光同志の干渉により
「影絵的パターン」を発生させる。このように従来の
「影絵パターン」と本発明の「影絵的パターン」とは干
渉する回折光の次数に違いがある。
「影絵的パターン」を発生させる。このように従来の
「影絵パターン」と本発明の「影絵的パターン」とは干
渉する回折光の次数に違いがある。
「影絵的パターン」では干渉する回折光同志の交差角
が、影絵パターンにおける回折光同志の交差角の２倍に
なるため、同一位置で比較すれば影絵的パターンの空間
周波数は影絵パターンの空間周波数の２倍になる。
が、影絵パターンにおける回折光同志の交差角の２倍に
なるため、同一位置で比較すれば影絵的パターンの空間
周波数は影絵パターンの空間周波数の２倍になる。
従って本発明に於いて発生させる影絵的パターンの空
間周波数は、同一の格子パターンから発生する影絵パタ
ーンの空間周波数の２倍であり、換言すれば、影絵的パ
ターンを発生させることは、「従来の影絵パターンの発
生源としての格子パターン自体の格子ピッチを1/2に細
かくした」のと同じことになる。
間周波数は、同一の格子パターンから発生する影絵パタ
ーンの空間周波数の２倍であり、換言すれば、影絵的パ
ターンを発生させることは、「従来の影絵パターンの発
生源としての格子パターン自体の格子ピッチを1/2に細
かくした」のと同じことになる。
影絵的パターンを発生させるには、±１次の回折光同
志を干渉させれば良いが、良好な影絵的パターンを発生
させるには、格子パターンから発生する回折光のうちで
±１次以外の回折光の強度が±１次回折光の強度に比し
て十分に小さいことが必要である。
志を干渉させれば良いが、良好な影絵的パターンを発生
させるには、格子パターンから発生する回折光のうちで
±１次以外の回折光の強度が±１次回折光の強度に比し
て十分に小さいことが必要である。
第１図（Ａ）に示すように、格子パターンの格子の厚
さＤ（＞０）が、線状光源の発光波長λの1/4以下であ
れば上記条件を満足させることができる。実際の格子パ
ターンにおいて発生する回折光のうち±１次回折光の強
度が他の次数の回折光の強度よりも十分に大きいか否か
を見るには格子パターンのフラウンホーファー回折を調
べれば良い。
さＤ（＞０）が、線状光源の発光波長λの1/4以下であ
れば上記条件を満足させることができる。実際の格子パ
ターンにおいて発生する回折光のうち±１次回折光の強
度が他の次数の回折光の強度よりも十分に大きいか否か
を見るには格子パターンのフラウンホーファー回折を調
べれば良い。
フラウンホーファー回折での各次数の回折光強度の相
対的な大小関係は、線状光源により発生する各次数の回
折光相互の強度の大小関係に対応するからである。
対的な大小関係は、線状光源により発生する各次数の回
折光相互の強度の大小関係に対応するからである。
０＜Ｄ≦λ/4なる条件を満足する格子パターンによる
フラウンホーファー回折の各次数の回折光の強度の分布
は、Ｄの大きさにもよるが、一般的な傾向として第１図
（Ｂ）の如くである。
フラウンホーファー回折の各次数の回折光の強度の分布
は、Ｄの大きさにもよるが、一般的な傾向として第１図
（Ｂ）の如くである。
フラウンホーファー回折では回折格子に入射する光束
は平行光束であり、線状光源からの発散性の光束が入射
する場合と条件は異なるが、線状光源を用いる場合に
も、上記０＜Ｄ≦λ/4なる条件を満足する格子パターン
から発生する各次数の回折光束の相対的強度が一般的傾
向として、やはり第１図（Ｂ）の如く、±１次光の強度
が他の次数の回折光の強度に比して相対的に大きくなる
ことは、上記条件を満足する格子パターンを用いた場合
に、コントラストの高い影絵的パターンが得られるとい
う実験事実から明らかである。なお第１図（Ａ）に示す
格子ピッチξが前述の条件（１）を満足すべきことは言
うまでも無い。
は平行光束であり、線状光源からの発散性の光束が入射
する場合と条件は異なるが、線状光源を用いる場合に
も、上記０＜Ｄ≦λ/4なる条件を満足する格子パターン
から発生する各次数の回折光束の相対的強度が一般的傾
向として、やはり第１図（Ｂ）の如く、±１次光の強度
が他の次数の回折光の強度に比して相対的に大きくなる
ことは、上記条件を満足する格子パターンを用いた場合
に、コントラストの高い影絵的パターンが得られるとい
う実験事実から明らかである。なお第１図（Ａ）に示す
格子ピッチξが前述の条件（１）を満足すべきことは言
うまでも無い。
［実施例］ 以下、具体的な実施例を説明する。
第４図は、スケール２をリニアスケールとして本発明
を実施した実施例を示す。スケール２は細幅の板状であ
って、その長手方向を格子配列方向として格子パターン
が直線的に形成されている。勿論、格子パターンの厚み
は線状光源１の発光波長の1/4以下に設定され、良好な
影絵的パターンを発生させることができるようになって
いる。
を実施した実施例を示す。スケール２は細幅の板状であ
って、その長手方向を格子配列方向として格子パターン
が直線的に形成されている。勿論、格子パターンの厚み
は線状光源１の発光波長の1/4以下に設定され、良好な
影絵的パターンを発生させることができるようになって
いる。
線状光源１によりスケール２を照射し、影絵的パター
ンの発生位置に光センサー３を配備する。
ンの発生位置に光センサー３を配備する。
スケール２を矢印方向へ変化させると、それに伴い影
絵的パターンも同方向へ、スケール２の変位量を拡大す
るように変化するので、これを光センサー３で検出して
スケール２の移動量を測定する。影絵的パターンの光セ
ンサー３に対する２ピッチ分の変位はスケールの格子パ
ターン１ピッチ分の変位に対応する。
絵的パターンも同方向へ、スケール２の変位量を拡大す
るように変化するので、これを光センサー３で検出して
スケール２の移動量を測定する。影絵的パターンの光セ
ンサー３に対する２ピッチ分の変位はスケールの格子パ
ターン１ピッチ分の変位に対応する。
第５図は、スケール2Aを円板形状として本発明を実施
した例を示している。
した例を示している。
円板状に形成されたスケール2Aは光透過性で、その周
縁部に回転方向を格子配列方向として格子パターンが円
環状に形成されており、線状光源１からの照射光により
発生する影絵的パターンの位置に光センサー３が配設さ
れている。
縁部に回転方向を格子配列方向として格子パターンが円
環状に形成されており、線状光源１からの照射光により
発生する影絵的パターンの位置に光センサー３が配設さ
れている。
スケール2Aの回転に伴う影絵的パターンの回転的な変
位を光センサー３により検出して、スケール２の回転量
を移動量として測定する。
位を光センサー３により検出して、スケール２の回転量
を移動量として測定する。
第４図、第５図の例とも、発生する影絵的パターンの
変位を検出する光センサー３は照射光束の光軸AX,AX1上
のみならず、破線で示すように光軸上から離れた位置に
配備してもよい。
変位を検出する光センサー３は照射光束の光軸AX,AX1上
のみならず、破線で示すように光軸上から離れた位置に
配備してもよい。
第６図に示す実施例では格子パターン８が軸受６で軸
支された円柱状の軸７の周面に円柱軸を囲繞するように
形成されており、線状光源１からの光により影絵的パタ
ーンを発生させ、スケールである軸７の回転に伴う影絵
的パターンの回転的変位を光センサー５により検出する
ことにより軸７の回転量を移動量として測定する。
支された円柱状の軸７の周面に円柱軸を囲繞するように
形成されており、線状光源１からの光により影絵的パタ
ーンを発生させ、スケールである軸７の回転に伴う影絵
的パターンの回転的変位を光センサー５により検出する
ことにより軸７の回転量を移動量として測定する。
第７図の実施例は第６図の実施例の変形例であって、
スケールとしての軸７に形成された格子パターン８をイ
ンコヒーレント光で照射するようにした例である。即ち
LED1′からの光を第３図に即して説明したようなアパー
チュア1Aを介して格子パターン８に照射するようにして
いる。このようにしても影絵的パターンは発生するので
軸７の回転に伴う影絵的パターンの回転的な変位を光セ
ンサー５により検出し、軸７の回転量を移動量として測
定する。
スケールとしての軸７に形成された格子パターン８をイ
ンコヒーレント光で照射するようにした例である。即ち
LED1′からの光を第３図に即して説明したようなアパー
チュア1Aを介して格子パターン８に照射するようにして
いる。このようにしても影絵的パターンは発生するので
軸７の回転に伴う影絵的パターンの回転的な変位を光セ
ンサー５により検出し、軸７の回転量を移動量として測
定する。
なお上記の各実施例に於いて、検出される移動量に対
し時間微分処理を施すことにより変位速度や変位加速度
を測定できることは言うまでもない。
し時間微分処理を施すことにより変位速度や変位加速度
を測定できることは言うまでもない。
最後にスケール上に格子パターンを形成する方法に就
き説明する。本発明の実施に用いる格子パターンは、前
述のように格子の厚さが線状光源の発光波長の1/4以下
であるような格子パターンで所謂位相格子と呼ばれるも
のであり、このような格子パターンを作製する方法は従
来から種々の方法が知られている。ここでは、そのよう
な方法の一つとしてビッター法を説明する。
き説明する。本発明の実施に用いる格子パターンは、前
述のように格子の厚さが線状光源の発光波長の1/4以下
であるような格子パターンで所謂位相格子と呼ばれるも
のであり、このような格子パターンを作製する方法は従
来から種々の方法が知られている。ここでは、そのよう
な方法の一つとしてビッター法を説明する。
スケールの、格子パターンを形成する部分にCoCrやFe
3O4による数1000Åの厚さの磁化膜を形成し、この磁化
膜に磁気ヘッドにより格子のパターンを書き込んで格子
パターンに対応する磁化パターンを形成する。この磁化
パターンに磁性コロイド流体を塗布して顕像化を行う。
磁性コロイド流体は粒径50乃至200Åの酸化鉄微粉末を
界面活性剤中に分散させたものであり、これを磁化パタ
ーンに塗布すると酸化鉄微粉末が磁化パターンにおける
磁区の境界部に吸着されて磁化パターンを顕像化する。
このように顕像化が行われたら界面活性剤を蒸発させ、
その後、透明な酸化物を蒸着するなどして、顕像化され
た格子パターンを磁化膜に定着する。磁性コロイド流体
により磁化パターンを顕像化する際、磁化パターンに重
畳させるようにして一様な磁界を作用させ、この磁界の
強さを調整して酸化鉄微粉末による格子パターンの厚み
を制御し、本発明の実施に必要な所望の格子パターンを
形成することもできる。
3O4による数1000Åの厚さの磁化膜を形成し、この磁化
膜に磁気ヘッドにより格子のパターンを書き込んで格子
パターンに対応する磁化パターンを形成する。この磁化
パターンに磁性コロイド流体を塗布して顕像化を行う。
磁性コロイド流体は粒径50乃至200Åの酸化鉄微粉末を
界面活性剤中に分散させたものであり、これを磁化パタ
ーンに塗布すると酸化鉄微粉末が磁化パターンにおける
磁区の境界部に吸着されて磁化パターンを顕像化する。
このように顕像化が行われたら界面活性剤を蒸発させ、
その後、透明な酸化物を蒸着するなどして、顕像化され
た格子パターンを磁化膜に定着する。磁性コロイド流体
により磁化パターンを顕像化する際、磁化パターンに重
畳させるようにして一様な磁界を作用させ、この磁界の
強さを調整して酸化鉄微粉末による格子パターンの厚み
を制御し、本発明の実施に必要な所望の格子パターンを
形成することもできる。
第１図（Ａ）は、このようにして形成されたスケール
を示している。符号15はスケールの基体、符号16は磁化
膜を示す。磁化膜16中の矢印は磁気ヘッドにより書き込
まれた磁化パターンにおける磁化の方向を示す。符号17
は形成された格子パターンを示す。
を示している。符号15はスケールの基体、符号16は磁化
膜を示す。磁化膜16中の矢印は磁気ヘッドにより書き込
まれた磁化パターンにおける磁化の方向を示す。符号17
は形成された格子パターンを示す。
［発明の効果］ 以上、本発明によれば影絵的パターンを利用する新規
な移動量測定方法を提供できる。この方法では格子パタ
ーンから従来の影絵パターンの２倍の空間周波数を持っ
た影絵的パターンを発生させることができるので、従来
の影絵パターンを利用する方法に比して２倍の測定精度
を容易且つ確実に実現できる。
な移動量測定方法を提供できる。この方法では格子パタ
ーンから従来の影絵パターンの２倍の空間周波数を持っ
た影絵的パターンを発生させることができるので、従来
の影絵パターンを利用する方法に比して２倍の測定精度
を容易且つ確実に実現できる。
第１図は本発明の特徴部分を説明するための図、第２図
及び第３図は回折影絵現象を説明するための図、第４図
は実施例を示す斜視図、第５図は別実施例を示す斜視
図、第６図は他の実施例を示す斜視図、第７図は更に他
の実施例を示す斜視図である。 １……線状光源、２……リニアスケール、３……光セン
サー、17……格子パターン
及び第３図は回折影絵現象を説明するための図、第４図
は実施例を示す斜視図、第５図は別実施例を示す斜視
図、第６図は他の実施例を示す斜視図、第７図は更に他
の実施例を示す斜視図である。 １……線状光源、２……リニアスケール、３……光セン
サー、17……格子パターン
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 明渡 純 東京都新宿区早稲田３丁目18番１号 丸 茂ハイツ203号 (72)発明者 山口 友行 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株 式会社リコー内 (56)参考文献 特開 平１−297513（ＪＰ，Ａ) 実公 昭61−39289（ＪＰ，Ｙ２) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G01D 5/38
Claims (4)
- 【請求項１】スケール上に形成された格子パターンに線
状光源からの光束を照射して、格子パターンによる回折
光の干渉により影絵的パターンを発生せしめ、スケール
の格子配列方向への移動に伴う影絵的パターンの変位を
光センサーにより検出してスケールの移動量を測定する
方法であって、 格子パターンに於ける格子の厚みＤ（＞０）が、線状光
源の発光波長の1/4以下であるように格子パターンを形
成し、格子パターンによる±１次回折光の干渉により影
絵的パターンを発生させることを特徴とする、移動量測
定方法。 - 【請求項２】請求項１において、 スケールが細幅の板状であって、格子パターンが長手方
向へ直線的に形成されていることを特徴とする、移動量
測定方法。 - 【請求項３】請求項１において、 スケールが円板状であって、格子パターンが周縁部に円
環状に形成されていることを特徴とする、移動量測定方
法。 - 【請求項４】請求項１において、 スケールが円柱状であって、格子パターンが周面部に周
面の母線に直交する方向を格子配列方向として円柱軸を
囲繞するように形成されていることを特徴とする、移動
量測定方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2287847A JP3034586B2 (ja) | 1990-10-25 | 1990-10-25 | 移動量測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2287847A JP3034586B2 (ja) | 1990-10-25 | 1990-10-25 | 移動量測定方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04161819A JPH04161819A (ja) | 1992-06-05 |
| JP3034586B2 true JP3034586B2 (ja) | 2000-04-17 |
Family
ID=17722552
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2287847A Expired - Lifetime JP3034586B2 (ja) | 1990-10-25 | 1990-10-25 | 移動量測定方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3034586B2 (ja) |
-
1990
- 1990-10-25 JP JP2287847A patent/JP3034586B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04161819A (ja) | 1992-06-05 |
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