JP3031727B2 - α位に塩素原子を有するアミノメチルピリジン類の製造方法 - Google Patents
α位に塩素原子を有するアミノメチルピリジン類の製造方法Info
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- C07D213/61—Halogen atoms or nitro radicals
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はα位に塩素原子を有する
アミノメチルピリジンの製造方法に関する。α位に塩素
原子を有するアミノメチルピリジンは医薬・農薬等の合
成原料として有用な化合物である。
アミノメチルピリジンの製造方法に関する。α位に塩素
原子を有するアミノメチルピリジンは医薬・農薬等の合
成原料として有用な化合物である。
【０００２】
【従来の技術】従来α位に塩素原子を有するアミノメチ
ルピリジンの製造法としては、例えば６−クロル−３−
シアノピリジンをアンモニア、水及び所望ならば有機溶
媒の存在下、ラネ−ニッケルを用い接触還元反応させて
６−クロル−３−アミノメチルピリジンを製造する方法
が知られている（西ドイツ公開公報第３７２６９３３
号）。
ルピリジンの製造法としては、例えば６−クロル−３−
シアノピリジンをアンモニア、水及び所望ならば有機溶
媒の存在下、ラネ−ニッケルを用い接触還元反応させて
６−クロル−３−アミノメチルピリジンを製造する方法
が知られている（西ドイツ公開公報第３７２６９３３
号）。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながらこの従来
方法では、後述の比較例に示すように、目的物の収率が
約５０％と必ずしも高い収率とは言えず、工業的製法と
して満足し難いものである。本発明の目的は、従来方法
に比べて良好な収率でα位に塩素原子を有するアミノメ
チルピリジンを製造する方法を提供することにある。
方法では、後述の比較例に示すように、目的物の収率が
約５０％と必ずしも高い収率とは言えず、工業的製法と
して満足し難いものである。本発明の目的は、従来方法
に比べて良好な収率でα位に塩素原子を有するアミノメ
チルピリジンを製造する方法を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者は従来方法を改
良すべく、従来方法で多量に副生しているアミノメチル
ピリジン（比較例参照）に着目した。一般にピリジン核
のα位にある塩素原子は活性なものである。したがっ
て、副生のアミノメチルピリジンは接触還元反応条件下
でα位の塩素原子が脱クロル化されて生成するものと推
察した。そこで本発明者はかかる脱クロル化を抑制する
方法について鋭意研究を行ったところ、意外にも、非水
系でα位に塩素原子を有するシアノピリジン類を水素化
触媒の存在下接触還元反応せしめると、α位の塩素原子
の脱クロル化が抑制されさらには他の副反応も抑制さ
れ、α位に塩素原子を有するアミノメチルピリジンの収
率が向上することを見出し本発明を完成するに至った。
さらに本発明者は鋭意研究を重ねた結果、第３級アミン
を反応系内に存在させてα位に塩素原子を有するシアノ
ピリジン類の接触還元反応を行うと、α位の塩素原子の
脱クロル化及び他の副反応がより抑制され、α位に塩素
原子を有するアミノメチルピリジンの収率が一層向上す
ることを見出し本発明を完成するに至った。
良すべく、従来方法で多量に副生しているアミノメチル
ピリジン（比較例参照）に着目した。一般にピリジン核
のα位にある塩素原子は活性なものである。したがっ
て、副生のアミノメチルピリジンは接触還元反応条件下
でα位の塩素原子が脱クロル化されて生成するものと推
察した。そこで本発明者はかかる脱クロル化を抑制する
方法について鋭意研究を行ったところ、意外にも、非水
系でα位に塩素原子を有するシアノピリジン類を水素化
触媒の存在下接触還元反応せしめると、α位の塩素原子
の脱クロル化が抑制されさらには他の副反応も抑制さ
れ、α位に塩素原子を有するアミノメチルピリジンの収
率が向上することを見出し本発明を完成するに至った。
さらに本発明者は鋭意研究を重ねた結果、第３級アミン
を反応系内に存在させてα位に塩素原子を有するシアノ
ピリジン類の接触還元反応を行うと、α位の塩素原子の
脱クロル化及び他の副反応がより抑制され、α位に塩素
原子を有するアミノメチルピリジンの収率が一層向上す
ることを見出し本発明を完成するに至った。
【０００５】すなわち、本発明はα位に塩素原子を有す
るシアノピリジン類を水素化触媒の存在下接触還元反応
せしめてα位に塩素原子を有するアミノメチルピリジン
類を製造するにあたり、非水系で当該シアノピリジン類
を接触還元反応せしめることを特徴とするα位に塩素原
子を有するアミノメチルピリジン類の製造方法、及びα
位に塩素原子を有するシアノピリジン類を水素化触媒の
存在下接触還元反応させてα位に塩素原子を有するアミ
ノメチルピリジン類を製造するにあたり、第３級アミン
を反応系内に存在させて当該シアノピリジン類を接触還
元反応せしめることを特徴とするα位に塩素原子を有す
るアミノメチルピリジン類の製造方法に関する。
るシアノピリジン類を水素化触媒の存在下接触還元反応
せしめてα位に塩素原子を有するアミノメチルピリジン
類を製造するにあたり、非水系で当該シアノピリジン類
を接触還元反応せしめることを特徴とするα位に塩素原
子を有するアミノメチルピリジン類の製造方法、及びα
位に塩素原子を有するシアノピリジン類を水素化触媒の
存在下接触還元反応させてα位に塩素原子を有するアミ
ノメチルピリジン類を製造するにあたり、第３級アミン
を反応系内に存在させて当該シアノピリジン類を接触還
元反応せしめることを特徴とするα位に塩素原子を有す
るアミノメチルピリジン類の製造方法に関する。
【０００６】本発明のα位に塩素原子を有するシアノピ
リジン類としては、２−クロル−３−シアノピリジン、
６−クロル−３−シアノピリジン、２−クロル−４−シ
アノピリジン、２−クロル−６−シアノピリジンさらに
はアルキル基を有する当該クロルシアノピリジンなどが
挙げられる。
リジン類としては、２−クロル−３−シアノピリジン、
６−クロル−３−シアノピリジン、２−クロル−４−シ
アノピリジン、２−クロル−６−シアノピリジンさらに
はアルキル基を有する当該クロルシアノピリジンなどが
挙げられる。
【０００７】本発明における非水系は、水が全く存在し
ない反応系及び本発明の目的を阻害しない範囲内の水が
存在する反応系を包含するものである。本発明に使用す
る溶媒は、非水溶媒であり、メタノ−ル、エタノ−ル等
のアルコ−ル：ベンゼン、トルエン、シクロヘキサン等
の炭化水素：テトラヒドロフラン、ジオキサン等の環状
エ−テル等が挙げられ、特にアルコ−ルの溶媒が目的物
の収率の面から好ましい。溶媒の使用量としてはα位に
塩素原子を有するシアノピリジン類に対し１〜５倍量
（重量）が好ましい。
ない反応系及び本発明の目的を阻害しない範囲内の水が
存在する反応系を包含するものである。本発明に使用す
る溶媒は、非水溶媒であり、メタノ−ル、エタノ−ル等
のアルコ−ル：ベンゼン、トルエン、シクロヘキサン等
の炭化水素：テトラヒドロフラン、ジオキサン等の環状
エ−テル等が挙げられ、特にアルコ−ルの溶媒が目的物
の収率の面から好ましい。溶媒の使用量としてはα位に
塩素原子を有するシアノピリジン類に対し１〜５倍量
（重量）が好ましい。
【０００８】本発明で用いる第３級アミンとしては、ト
リメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミ
ン、ジイソプロピルエチルアミン、テトラメチルエチレ
ンジアミン、テトラメチルヘキサメチレンジアミンとい
った脂肪族第３級アミン及びＮ、Ｎ´−ジメチルベンジ
ルアミンといった芳香族第３級アミンさらにはＮ−メチ
ルピロリジンといった複素環化合物が挙げられる。これ
らの中でも脂肪族第３級アミンが目的物の収率の面から
好ましい。第３級アミンの使用量としてはα位に塩素原
子を有するシアノピリジン対し１〜２０重量％が好まし
い。第３級アミンの添加により脱クロル化反応が抑制さ
れさらに他の副反応が減少し、本発明の目的物の収率の
向上が認められる。
リメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミ
ン、ジイソプロピルエチルアミン、テトラメチルエチレ
ンジアミン、テトラメチルヘキサメチレンジアミンとい
った脂肪族第３級アミン及びＮ、Ｎ´−ジメチルベンジ
ルアミンといった芳香族第３級アミンさらにはＮ−メチ
ルピロリジンといった複素環化合物が挙げられる。これ
らの中でも脂肪族第３級アミンが目的物の収率の面から
好ましい。第３級アミンの使用量としてはα位に塩素原
子を有するシアノピリジン対し１〜２０重量％が好まし
い。第３級アミンの添加により脱クロル化反応が抑制さ
れさらに他の副反応が減少し、本発明の目的物の収率の
向上が認められる。
【０００９】本発明においてアンモニアを反応系内に共
存させて接触還元反応を行うことは、α位に塩素原子を
有するアミノメチルピリジンの二量化を抑制するのに有
効である。アンモニアの使用量としてはα位に塩素原子
を有するシアノピリジンに対し２０〜２００重量％が好
ましく、通常同量用いるのが反応効率の面から有効であ
る。
存させて接触還元反応を行うことは、α位に塩素原子を
有するアミノメチルピリジンの二量化を抑制するのに有
効である。アンモニアの使用量としてはα位に塩素原子
を有するシアノピリジンに対し２０〜２００重量％が好
ましく、通常同量用いるのが反応効率の面から有効であ
る。
【００１０】本発明の水素化触媒としては、接触還元反
応に通常用いられる触媒が挙げられ、その具体例として
はラネーニッケル、ラネーコバルト等のラネー触媒、及
びパラジウム−カーボン、ルテニウム−カーボン、ロジ
ウム−カーボン、白金−カーボン等の貴金属触媒等が挙
げられ、特にラネーニッケルが収率の面から好ましい。
触媒の使用量としては、多く用いることにより反応を促
進することが可能であるが脱クロル化反応を促進してし
まうといった欠点も併せてもっているため、触媒効率の
面からα位に塩素原子を有するシアノピリジン類に対し
１〜３０重量％が好ましい。
応に通常用いられる触媒が挙げられ、その具体例として
はラネーニッケル、ラネーコバルト等のラネー触媒、及
びパラジウム−カーボン、ルテニウム−カーボン、ロジ
ウム−カーボン、白金−カーボン等の貴金属触媒等が挙
げられ、特にラネーニッケルが収率の面から好ましい。
触媒の使用量としては、多く用いることにより反応を促
進することが可能であるが脱クロル化反応を促進してし
まうといった欠点も併せてもっているため、触媒効率の
面からα位に塩素原子を有するシアノピリジン類に対し
１〜３０重量％が好ましい。
【００１１】本発明の反応温度は、脱クロル化反応を抑
制するため比較的低温で行うことが重要である。好まし
い反応温度は、０〜６０℃でより好ましくは反応速度の
面から２０〜５０℃である。本発明による反応方法につ
いては特に限定はないが、通常、原料のα位に塩素原子
を有するシアノピリジン類、水素化触媒、非水溶媒並び
に所望ならば第３級アミン及びアンモニアを高圧反応器
に仕込み昇温し随時消費される水素を導入しながら反応
する方法が一般的である。または、非水溶媒に溶解した
α位に塩素原子を有するシアノピリジン類を反応系内に
圧入しながら反応することも可能である。
制するため比較的低温で行うことが重要である。好まし
い反応温度は、０〜６０℃でより好ましくは反応速度の
面から２０〜５０℃である。本発明による反応方法につ
いては特に限定はないが、通常、原料のα位に塩素原子
を有するシアノピリジン類、水素化触媒、非水溶媒並び
に所望ならば第３級アミン及びアンモニアを高圧反応器
に仕込み昇温し随時消費される水素を導入しながら反応
する方法が一般的である。または、非水溶媒に溶解した
α位に塩素原子を有するシアノピリジン類を反応系内に
圧入しながら反応することも可能である。
【００１２】本発明の好ましい実施態様によれば、α位
に塩素原子を有するシアノピリジン類、非水溶媒、第３
級アミン及び水素化触媒をオ−トクレ−ブに仕込み更に
アンモニアを仕込んだ後、水素を導入しながら徐々に昇
温し、前記反応温度に保ちながら常圧以上好ましくは３
〜１０気圧で水素の供給を続け反応させる。水素導入後
１〜３時間で水素吸収は終了しα位に塩素原子を有する
シアノピリジンは完全に消費され反応は完結する。本発
明により生成するα位に塩素原子を有するアミノメチル
ピリジンの単離、精製は反応液からの触媒の瀘別、溶媒
の留去を行った後蒸留により容易に行うことができる。
に塩素原子を有するシアノピリジン類、非水溶媒、第３
級アミン及び水素化触媒をオ−トクレ−ブに仕込み更に
アンモニアを仕込んだ後、水素を導入しながら徐々に昇
温し、前記反応温度に保ちながら常圧以上好ましくは３
〜１０気圧で水素の供給を続け反応させる。水素導入後
１〜３時間で水素吸収は終了しα位に塩素原子を有する
シアノピリジンは完全に消費され反応は完結する。本発
明により生成するα位に塩素原子を有するアミノメチル
ピリジンの単離、精製は反応液からの触媒の瀘別、溶媒
の留去を行った後蒸留により容易に行うことができる。
【００１３】
【実施例】本発明を実施例によってより具体的に説明す
るが、本発明はそれらの実施例に限定されるものではな
い。 実施例１ 容量１リッタ−の電磁撹拌式オ−トクレ−ブに６−クロ
ル−３−シアノピリジン１００ｇ、メタノ−ル３００ｇ
及びラネ−ニッケル２０ｇを仕込み、更にアンモニア１
００ｇを仕込んだ。次いで水素導入及び加熱して４０
℃、８気圧に昇温昇圧した後、当該温度、当該圧力を維
持しながら水素の導入を続け接触還元反応を行った。水
素吸収は水素導入後１時間で終了した。反応終了後オ−
トクレ−ブを室温まで冷却し、反応液から触媒を濾別し
た後、アンモニア、メタノ−ル類を留去し残液を蒸留し
て６−クロル−３−アミノメチルピリジン６５．６ｇ
（収率６３．７％）及び３−ピコリルアミン１４．９ｇ
（収率９．１％）を得た。６−クロル−３−アミノメチ
ルピリジンの沸点：１００〜１０５℃／３mmHg 実施例２ ６−クロル−３−シアノピリジンの代わりに２−クロル
−４−シアノピリジンを用いた以外は実施例１と同様に
して反応及び後処理を行い、２−クロル−４−アミノメ
チルピリジン７５．２ｇ（収率７３．１％）及び４−ピ
コリルアミン６．５ｇ（収率８．４％）を得た。
るが、本発明はそれらの実施例に限定されるものではな
い。 実施例１ 容量１リッタ−の電磁撹拌式オ−トクレ−ブに６−クロ
ル−３−シアノピリジン１００ｇ、メタノ−ル３００ｇ
及びラネ−ニッケル２０ｇを仕込み、更にアンモニア１
００ｇを仕込んだ。次いで水素導入及び加熱して４０
℃、８気圧に昇温昇圧した後、当該温度、当該圧力を維
持しながら水素の導入を続け接触還元反応を行った。水
素吸収は水素導入後１時間で終了した。反応終了後オ−
トクレ−ブを室温まで冷却し、反応液から触媒を濾別し
た後、アンモニア、メタノ−ル類を留去し残液を蒸留し
て６−クロル−３−アミノメチルピリジン６５．６ｇ
（収率６３．７％）及び３−ピコリルアミン１４．９ｇ
（収率９．１％）を得た。６−クロル−３−アミノメチ
ルピリジンの沸点：１００〜１０５℃／３mmHg 実施例２ ６−クロル−３−シアノピリジンの代わりに２−クロル
−４−シアノピリジンを用いた以外は実施例１と同様に
して反応及び後処理を行い、２−クロル−４−アミノメ
チルピリジン７５．２ｇ（収率７３．１％）及び４−ピ
コリルアミン６．５ｇ（収率８．４％）を得た。
【００１４】比較例 溶媒としてメタノ−ル３００ｇの代わりにメタノ−ル３
００ｇと水６０ｇとの混合溶媒を用いた以外は実施例１
と同様にして反応及び後処理を行い、６−クロル−３−
アミノメチルピリジン４９．２ｇ（収率４７．８％）及
び３−ピコリルアミン１３．４ｇ（収率１７．２％）を
得た。
００ｇと水６０ｇとの混合溶媒を用いた以外は実施例１
と同様にして反応及び後処理を行い、６−クロル−３−
アミノメチルピリジン４９．２ｇ（収率４７．８％）及
び３−ピコリルアミン１３．４ｇ（収率１７．２％）を
得た。
【００１５】実施例３ トリエチルアミン５ｇを共存させた以外は実施例１と同
様にして反応及び後処理を行い、６−クロル−３−アミ
ノメチルピリジン８０．６ｇ（収率７８．３％）及び３
−ピコリルアミン３．２ｇ（収率４．１％）を得た。 実施例４ 第３級アミンとしてトリエチルアミンの代わりにジイソ
プロピルエチルアミンとした以外は実施例１と同様にし
て反応及び後処理を行い、６−クロル−３−アミノメチ
ルピリジン７０．０ｇ（収率６８．０％）及び３−ピコ
リルアミン４．８ｇ（収率６．２％）を得た。
様にして反応及び後処理を行い、６−クロル−３−アミ
ノメチルピリジン８０．６ｇ（収率７８．３％）及び３
−ピコリルアミン３．２ｇ（収率４．１％）を得た。 実施例４ 第３級アミンとしてトリエチルアミンの代わりにジイソ
プロピルエチルアミンとした以外は実施例１と同様にし
て反応及び後処理を行い、６−クロル−３−アミノメチ
ルピリジン７０．０ｇ（収率６８．０％）及び３−ピコ
リルアミン４．８ｇ（収率６．２％）を得た。
【００１６】
【発明の効果】本発明によれば、非水系でα位に塩素原
子を有するシアノピリジン類を接触還元反応させている
ので、医薬、農薬等の原体、中間体の合成原料として有
用なα位に塩素原子を有するアミノメチルピリジン類を
従来方法に比べて収率良く製造することができる。さら
に第３級アミンを反応系内に存在させてα位に塩素原子
を有するシアノピリジン類を接触還元反応させているの
で、α位に塩素原子を有するアミノメチルピリジン類を
従来方法に比べて一層収率良く製造することができる。
子を有するシアノピリジン類を接触還元反応させている
ので、医薬、農薬等の原体、中間体の合成原料として有
用なα位に塩素原子を有するアミノメチルピリジン類を
従来方法に比べて収率良く製造することができる。さら
に第３級アミンを反応系内に存在させてα位に塩素原子
を有するシアノピリジン類を接触還元反応させているの
で、α位に塩素原子を有するアミノメチルピリジン類を
従来方法に比べて一層収率良く製造することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭57−82370（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−251663（ＪＰ，Ａ) 特開 昭54−41804（ＪＰ，Ａ) 特開 昭49−24969（ＪＰ，Ａ) 特開 昭48−54070（ＪＰ，Ａ) 西独国特許出願公開3726993（ＤＥ, Ａ１) 米国特許4123537（ＵＳ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C07D 213/00 - 213/61 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (7)
- 【請求項１】 α位に塩素原子を有するシアノピリジン
類を水素化触媒の存在下接触還元反応せしめてα位に塩
素原子を有するアミノメチルピリジン類を製造するにあ
たり、非水系で当該シアノピリジン類を接触還元反応せ
しめることを特徴とするα位に塩素原子を有するアミノ
メチルピリジン類の製造方法。 - 【請求項２】 α位に塩素原子を有するシアノピリジン
類を水素化触媒の存在下接触還元反応させてα位に塩素
原子を有するアミノメチルピリジン類を製造するにあた
り、第３級アミンを反応系内に存在させて当該シアノピ
リジン類を接触還元反応せしめることを特徴とするα位
に塩素原子を有するアミノメチルピリジン類の製造方
法。 - 【請求項３】 溶媒としてアルコールを用いることを特
徴とする請求項１記載の方法。 - 【請求項４】 溶媒としてアルコールを用いることを特
徴とする請求項２記載の方法。 - 【請求項５】 第３級アミンが脂肪族第３級アミンであ
る請求項２または４記載の方法。 - 【請求項６】 水素化触媒がラネーニッケルである請求
項３記載の方法。 - 【請求項７】 水素化触媒がラネーニッケルである請求
項５記載の方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3035598A JP3031727B2 (ja) | 1991-02-04 | 1991-02-04 | α位に塩素原子を有するアミノメチルピリジン類の製造方法 |
| US07/927,425 US5300650A (en) | 1991-02-04 | 1992-01-31 | Process for producing aminomethylpyridine having a chlorine atom at α- |
| DE4290290A DE4290290C2 (de) | 1991-02-04 | 1992-01-31 | Verfahren zur Herstellung von 2-Chlor-5-aminomethylpyridin |
| DE4290290T DE4290290T1 (ja) | 1991-02-04 | 1992-01-31 | |
| PCT/JP1992/000094 WO1992013840A1 (fr) | 1991-02-04 | 1992-01-31 | PROCEDE DE PRODUCTION D'AMINOMETHYLPYRIDINES α-CHLOREES |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3035598A JP3031727B2 (ja) | 1991-02-04 | 1991-02-04 | α位に塩素原子を有するアミノメチルピリジン類の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04247069A JPH04247069A (ja) | 1992-09-03 |
| JP3031727B2 true JP3031727B2 (ja) | 2000-04-10 |
Family
ID=12446253
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3035598A Expired - Fee Related JP3031727B2 (ja) | 1991-02-04 | 1991-02-04 | α位に塩素原子を有するアミノメチルピリジン類の製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
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