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JP3028413B1 - 電子回路装置 - Google Patents

電子回路装置

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Publication number
JP3028413B1
JP3028413B1 JP10268654A JP26865498A JP3028413B1 JP 3028413 B1 JP3028413 B1 JP 3028413B1 JP 10268654 A JP10268654 A JP 10268654A JP 26865498 A JP26865498 A JP 26865498A JP 3028413 B1 JP3028413 B1 JP 3028413B1
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JP
Japan
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pattern
peeling
circuit device
liquid crystal
electronic circuit
Prior art date
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JP10268654A
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JP2000098412A (ja
Inventor
努 松平
信和 小泉
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MARUWA CORPORATION
Original Assignee
MARUWA CORPORATION
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Publication date
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  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)

Abstract

【要約】 【課題】 フィルム基板のパターン剥離を防止すること
により、歩留まりを向上させ、安価な電子回路装置及び
液晶表示装置を提供する。 【解決手段】 ICを接続するパターンをICの中心方
向に延長して、剥離防止パターンを形成した。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、携帯機器等や、電
子手帳に使用されている液晶表示装置やICをベアチッ
プ実装している電子回路装置に関する。
【0002】
【従来の技術】液晶表示装置はドライバIC実装とC,
R等のチップ部品やパッケージIC等の電子部品をフィ
ルム基板に混在実装したCOF(Chip On FP
C)を液晶パネルに実装した製品が量産され始めてい
る。従来、フィルム基板はポリイミドフィルムにフィル
ム状の接着剤をつけ、圧延や電界等の製法のCu箔を貼
りつけてパターニングして形成し、レジストコートや電
界メッキや無電界メッキをしていた。
【0003】この3層の構成のフィルム基板は、接着剤
が熱や湿度によって変形するため、100ミクロン以下
のファインパターンには寸法安定性の面で不向きであっ
た。そのため、この接着剤を取り除いたフィルム基板が
開発されるようになつた。接着剤層のない2層フィルム
基板には、2つの製法がある。一つはCuフィルムにポ
リアミック酸ワニスを塗り溶媒を除去した後硬化するキ
ャスティング法とポリイミドフィルムにCuをスパッタ
リングもしくは蒸着よりCuの薄膜を形成した後、電界
メッキでCuを積層する蒸着法である。
【0004】この2つの製法のフィルム基板の違いは、
Cuの厚みである。キャスティング法に使われるCuの
厚みは、一般的には18ミクロンであり、最近では12
ミクロンが量産化されている。また、9ミクロンが開発
中である。蒸着法ではCuの厚みは、2から18ミクロ
ンまで可能である。ファインパターンを形成するには、
Cuの厚みは薄い方が製法上容易であり、100ミクロ
ン以下のパターンピッチでは、蒸着法のフィルム基板が
適していた。
【0005】また、ICのベアチップ実装は、接着を用
いて接続する場合、 ICのパットにAuからなるバン
プをメッキで形成したメッキバンプやワイヤーボンディ
ングを応用したスタッドバンプを用いて、回路基板に異
方性導電膜で圧着するか、または銀ペーストをバンプに
転写して基板と接続し、その間にアンダーフィルを充填
し接続していた。
【0006】また、金属拡散接続を用いた場合、 IC
のバンプに半田を用い、基板の電極に半田付けしアンダ
ーフィルを充填する工法とICのバンプにAuを用い基
板側の電極にSnメッキを行ない、Au−Sn拡散接続
を行いアンダーフィルを充填していた。ICの外部接続
電極のバンプピッチは、例えば液晶駆動ICでは80ミ
クロンピッチが量産をされているが、50ミクロンピッ
チや40ミクロンピッチが開発され始めている。
【0007】フィルム基板にICを接続し、更にフィル
ム基板を液晶パネルに接続して液晶表示装置を製造して
いた。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】40ミクロンピッチで
パターンを形成するには、パターンの幅は10から15
ミクロンとなる。そのため、蒸着法のフィルム基板を用
いるが、蒸着法はポリイミドとCuの密着性があまり良
くない。密着性の改善にはポリイミド表面に、例えばク
ロム,クロム合金,クロム系セラミック,ニッケル,コ
バルト,パラジューム,チタン,ジルコニューム,モリ
ブデン,タングステン,ニクロム合金などの薄膜を蒸着
しCuを蒸着更にCuメッキをする技術が発表されてい
る。
【0009】しかし、これらの技術を用いても、パター
ニング工程や表面処理工程で、パターン幅が細いほどパ
ターンがポリイミドから剥がれる不良が発生した。剥が
れはパターンの先端から、カールするように剥がれる。
この剥がれたパターンに、 ICを接続するのは容易で
ない。本発明の目的は、このパターンの剥がれを防止す
るパターン形状を得ることにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、少なくとも絶縁フィルムに金属のパターンを形成し
たフィルム基板にICがフェイスダウンで接続してなる
電子回路装置及びそれを液晶パネルに接続してなる液晶
表示装置において、フィルム基板にはICの複数のバン
プを接続する複数のパターンが形成してあり、そのパタ
ーンをICの中心方向に延長して、大きい剥離防止のパ
ターンが形成することで、この不良を防止した。
【0011】また、パターンのピッチが特に微細である
場合は、一つひとつのパターンに剥離防止のパターンを
形成することができない。そこで、剥離防止パターン
を、数パターンおきに形成することで、歩留まりを向上
した。上記のように構成した電子回路装置及び液晶表示
装置に使用するフィルム基板は微細パターン剥がれを防
止可能であるか、または、発生率を下げることが可能と
なる。
【0012】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施例を図面に基
づいて説明する。図1は、本発明の実施例1の図であ
る。ポリイミドフィルム1にICのバンプを接続するC
uからなる厚み8ミクロンのパターン2が形成してあ
る。パターン2は30ミクロン幅である。ICのバンプ
は接続位置4にボンデイングする。バンプのピッチは1
00ミクロンピッチである。パターン2は、ICの中心
方向に延長し本発明の剥離防止パターン3が形成してあ
る。
【0013】剥離防止パターン3は、幅70ミクロン幅
で長さ100ミクロンである。このように形成した剥離
防止パターン3はポリイミドと密着する面積が大きいた
め、ポリイミドとCuの間に発生する剥離の応力より、
密着する力が大きいため、パターン2の剥離を防止でき
る。フィルム基板のパターンにSnメッキをしておき、
ICを熱圧着で接続する。更にフィルム基板を液晶パ
ネルの端子に接続して液晶表示装置が完成する。
【0014】図2は、本発明の実施例2の図である。ポ
リイミドフィルム1にICのバンプを接続するCuから
なる厚み6ミクロンのパターン2が形成してある。パタ
ーン2は15ミクロン幅である。ICのバンプは接続位
置4にボンデイングする。バンプのピッチは40ミクロ
ンピッチである。パターン2は、一パターンおきにIC
の中心方向に延長し本発明の剥離防止パターン3が形成
してある。
【0015】剥離防止パターン3は、幅55ミクロン幅
で長さ100ミクロンである。このように形成した剥離
防止パターン3はポリイミドと密着する面積が大きいた
め、ポリイミドとCuの間に発生する剥離の応力より、
密着する力が大きいため、パターン2の剥離を防止でき
る。40ミクロンピッチでは、すべてのパターン2に剥
離防止パターン3を形成することはレイアウト上困難で
あるが剥離発生率を抑えることが出来る。
【0016】本実施例では、ICの角の付近には剥離防
止パターン3をレイアウトできない。剥離防止パターン
3はニパターンおきでもよい。フィルム基板のパターン
にSnメッキをしておき、ICを熱圧着で接続する。更
にフィルム基板を液晶パネルの端子に接続して液晶表示
装置が完成する。
【0017】
【発明の効果】本発明は以上説明したように、パターン
形状でパターン剥離を防止が可能となり、歩留まりが向
上した。よってフィルム基板にICを実装した電子回路
装置及び液晶表示装置を安価に提供できるようになっ
た。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のパターンの実施例1
【図2】本発明のパターンの実施例2
【図3】従来技術の実施例
【図4】フィルム基板とICと液晶パネルを接続した断
面図
【図5】ICの回路面の上面図
【符号の説明】
1 ポリイミドフィルム 2 パターン 3 剥離防止パターン 4 ICのバンプを接続する位置 5 IC 6 アンダーフィル 7 バンプ 8 液晶パネル
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−308398(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02F 1/1345 H01L 23/12 H05K 1/18 H05K 3/34

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 絶縁フィルム基板に金属よりなる複数の
    パターンを形成したフレキシブル基板にICをフェイス
    ダウンで実装した電子回路装置において、 前記パターンに設けられた前記ICのバンプと接続する
    接続位置から前記ICの中心方向に剥離防止の為の剥離
    防止パターンが延長して設けられ、前記剥離防止パター
    ンの幅は、前記接続位置のパターン幅より広いことを特
    徴とする電子回路装置。
  2. 【請求項2】 前記剥離防止パターンは、前記複数のパ
    ターンの一つ置きに設けられている請求項1記載の電子
    回路装置。
JP10268654A 1998-09-22 1998-09-22 電子回路装置 Expired - Fee Related JP3028413B1 (ja)

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