JP2959697B2 - 積層ポリエステルフイルム - Google Patents
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Description
ルムに関し、とくにフレキシブル磁気ディスク用に用い
て好適な積層ポリエステルフイルムに関する。
層の薄膜積層部の粒子濃度を他層よりも高くしたフイル
ムが知られている(例えば、特開平2−77431号公
報等)。
来の積層ポリエステルフイルムは、各層に含有する粒子
の濃度に大きな差があるため、例えば、磁気媒体用途に
おけるフロッピーディスク用途などでの打ち抜き工程
(シートから所定の大きさのディスクを打ち抜く工程)
で、特に、フイルムの全厚さが厚い場合に、積層部分が
界面から劈開、剥離しやすいという欠点があった。
比較的多量の粒子が含有されているため、磁性塗料など
の塗布工程において粒子が脱落するおそれがあるという
問題も残されていた。
層部分の劈開、界面剥離を防止し得るとともに、粒子の
脱落しにくい、フレキシブル磁気ディスクに用いて最適
な積層ポリエステルフイルムを提供することを目的とす
る。
積層ポリエステルフイルムは、粒子を含有するポリエス
テルAよりなる層(A層)をポリエステルBよりなる層
(B層)の少なくとも片面に積層してなるフイルムであ
って、A層とB層の粒子濃度の差が0.02重量%以上
5重量%未満であり(A層濃度>B層濃度)、かつ、A
層の厚さが3μm以上でフイルム全厚さの1/2未満、
フイルム全厚さが30μm以上、低分子量物含有量が
1.5重量%以下であることを特徴とするものからな
る。
延伸フイルム、一軸配向フイルムの形態とすることも可
能であるが、本発明で目標とする特性、さらにはフレキ
シブル磁気ディスクに適した特性を得るためには、二軸
配向積層フイルムであることが好ましい。
子を含有するポリエステルAよりなる層(A層)をポリ
エステルBよりなる層(B層)の少なくとも片面に積層
したフイルムである。すなわち、少なくとも2層の積層
構成を有する積層ポリエステルフイルムである。これら
各層のうち少なくとも一層が二軸に配向していることが
好ましく、全ての層が二軸に配向していることが特に好
ましい。
されないが、エチレンテレフタレート、エチレンα,β
−ビス(2−クロルフェノキシ)エタン−4,4’−ジ
カルボキシレート、エチレン2,6─ナフタレート単位
から選ばれた少なくとも一種の構造単位を主要構成成分
とする場合に特に好ましい。中でもエチレンテレフタレ
ートを主要構成成分とするポリエステルの場合が特に好
ましい。なお、本発明を阻害しない範囲内で、2種以上
のポリエステルを混合しても良いし、共重合ポリマを用
いても良い。
子が含有される。この粒子含有により、A層表面に、磁
気ディスク用等として好適な表面突起が形成される。こ
の含有粒子の種類は特に限定されないが、上記の好まし
い粒子特性を満足するにはアルミナ珪酸塩、1次粒子が
凝集した状態のシリカ、内部析出粒子などは好ましくな
く、コロイダルシリカに起因する実質的に球形のシリカ
粒子、架橋高分子による粒子(たとえば架橋ジビニルベ
ンゼン、架橋ポリスチレン)などが好ましい。特に10
重量%減量時温度(窒素中で熱重量分析装置(株)島津
製作所製TG−30Mを用いて測定。昇温速度20℃/
分)が380℃以上になるまで架橋度を高くした架橋高
分子粒子の場合にA層表面の耐クラッチ性、磁気ディス
クとした場合の耐トラッキング性等がより一層良好とな
るので特に望ましい。なお、コロイダルシリカに起因す
る球形シリカの場合にはアルコキシド法で製造された、
ナトリウム含有量が少ない、実質的に球形のシリカが特
に望ましい。しかしながら、その他の粒子、例えば球形
炭酸カルシウム、二酸化チタン、アルミナ等の粒子でも
フイルム厚さと平均粒径の適切なコントロールにより十
分使いこなせるものである。
必要はないが、例えば2層積層フイルムにおいて、A層
と反対側のB層表面に良好な走行性等をもたせたい場
合、通常、粒子添加により表面粗さを適切な範囲にコン
トロールする。本発明においては、A層に粒子を含有さ
せることにより、A層表面側に、磁気ディスク等に適し
た表面突起を効率よく形成しようとするものであるが、
前述したように、A層とB層との粒子濃度差が大きくな
りすぎると、A層が劈開、剥離しやすくなる。
B層との粒子濃度差が0.02重量%以上5重量%未満
にコントロールされる。粒子濃度差を5重量%未満に抑
えることにより、A層の劈開、剥離が効果的に抑制され
る。なお、上記0.02重量%という値は、粒子濃度差
を定量するための分解能の最小値として掲げたものであ
る。すなわち、粒子濃度差が無ければ、つまり0であれ
ば、基本的に劈開、剥離の問題はなくなるわけである
が、それでは、A層に集中的に粒子を含有させてA層表
面に効率よく表面突起を形成するという目的が達せられ
ない。そこで、最小限の粒子濃度差を規定したわけであ
る。
重量%以下に抑えることが好ましい。粒子含有量が5重
量%を越えると、上記B層との粒子濃度差を達成するこ
とが困難となり、かつその粒子濃度差を達成しようとす
ると、相対的に、B層の粒子含有量が不必要に多くなる
からである。
さ、すなわちA層の厚さが3μm以上とされ、かつフイ
ルム全厚さの1/2未満とされる。積層厚さが3μmよ
りも小さいと、B層との界面で劈開しやすくなる。ま
た、厚すぎると、つまりフイルム全厚さの1/2以上と
なると、この積層A層と内層との物性差によって、やは
り劈開しやすくなる。
抑制し、かつ、積層部A層への粒子含有によりその表面
に効率よく表面突起を形成するという両目標を同時に達
成するために、フイルムの全厚さを30μm以上として
いる。このようなフイルム全厚さとすることによって、
上記両目標が効果的に達成される。また、フレキシブル
磁気ディスク用としても最適なフイルムとなる。
子量物含有量が1.5重量%以下に抑えられる。低分子
量物含有量が1.5重量%を越えると、それがA層とB
層の界面に集中しやすくなり、界面での劈開が起こりや
すくなる。
るためには、A層とB層のポリマーの固有粘度差が0.
5以下であることが有効である。固有粘度差を0.5以
下とすることにより、両ポリマー間の物性差を小さく抑
えることができ、界面剥離を生じにくくすることができ
る。
目的を阻害しない範囲内で、他種ポリマをブレンドして
もよいし、また酸化防止剤、熱安定剤、滑剤、紫外線吸
収剤などの有機添加剤が通常添加される程度添加されて
いてもよい。
明する。まず、ポリエステルに所定の粒子を含有せしめ
る方法としては、例えばジオール成分であるエチレング
リコールにスラリーの形で分散せしめ、このエチレング
リコールを所定のジカルボン酸成分と重合せしめる方法
が好ましい。粒子を添加する際には、例えば、粒子を合
成時に得られる水ゾルやアルコールゾルを一旦乾燥させ
ることなく添加すると粒子の分散性が非常によく、目標
とする表面突起を均一に形成することができる。また、
粒子の水スラリーを直接所定のポリエステルペレットと
混合し、ベント方式の2軸混練押出機に供給しポリエス
テルに練り込む方法も本発明の効果をより一層良好とす
るのに非常に有効である。粒子の含有量を調節する方法
としては、上記方法で高濃度の粒子マスターを作ってお
き、それを製膜時に粒子を実質的に含有しないポリエス
テルで希釈して粒子の含有量を調節する方法が有効であ
る。
2層以上の積層構造をもったポリエステルフイルムとす
る。上記の方法にて得られたポリエステルのペレットを
所定の割合で混合し、乾燥したのち、公知の溶融積層用
押出機に供給し、スリット状のダイからシート状に押出
し、キャスティングロール上で冷却固化せしめて未延伸
フイルムを作る。すなわち、2台以上の押出機、2層以
上のマニホールドまたは合流ブロック(例えば角型合流
部を有する合流ブロック)を用いて積層し、口金から2
層以上のシートを押し出し、キャスティングロールで冷
却して未延伸フイルムを作る。この場合、ポリマ流路に
スタティックミキサー、ギヤポンプを設置する方法は有
効である。また、最表層積層部側のポリマーを押出す押
出機の溶融温度を基層部側より5〜10℃低くすること
が有効である。
軸配向せしめる。延伸方法としては、逐次二軸延伸法ま
たは同時二軸延伸法を用いることができる。ただし、最
初に長手方向、次に幅方向の延伸を行なう逐次二軸延伸
法を用い、長手方向の延伸を3段階以上に分けて、総縦
延伸倍率を3.5〜6.5倍で行なう方法は特に好まし
い。長手方向延伸温度はポリエステルの種類によって異
なり一概には言えないが、通常、その1段目を50〜1
30℃とし、2段目以降はそれより高くすることが有効
である。長手方向延伸速度は5000〜50000%/
分の範囲が好適である。幅方向の延伸方法としてはステ
ンタを用いる方法が一般的である。延伸倍率は、3.0
〜6.0倍の範囲が適当である。幅方向の延伸速度は、
1000〜20000%/分、温度は80〜160℃の
範囲が好適である。次にこの延伸フイルムを熱処理す
る。この場合の熱処理温度は170〜220℃、特に1
80〜200℃、時間は0.2〜20秒の範囲が好適で
ある。
法]本発明の特性値の測定方法並びに効果の評価方法は
次の通りである。 (1)粒子の平均粒径 フイルムからポリマをプラズマ低温灰化処理法で除去
し、粒子を露出させる。処理条件はポリマは灰化される
が粒子は極力ダメージを受けない条件を選択する。その
粒子を走査型電子顕微鏡(SEM)で観察し、粒子画像
をイメージアナライザで処理する。SEMの倍率はおよ
そ2000〜10000倍、また、1回の測定での視野
は1辺がおよそ10〜50μmから適宜選択する。観察
箇所をかえて粒子数5000個以上で粒径とその体積分
率から、次式で体積平均径dを得る。 d=Σdi・Nvi ここで、diは粒径、Nviはその体積分率である。粒
子がプラズマ低温灰化処理法で大幅にダメージを受ける
場合には、以下の方法を用いても良い。フイルム断面を
透過型電子顕微鏡(TEM)を用い、3000〜100
000倍で観察する。TEMの切片厚さは約1000オ
ングストロームとし、場所をかえて500視野以上測定
し、上記式から体積平均径dを求める。
し、粒子をポリエステルから遠心分離し、粒子の全体重
量に対する比率(重量%)をもって粒子含有量とする。
場合によっては赤外分光法の併用も有効である。
ら深さ3000nmの範囲のフイルム中の粒子の内、最
も高濃度の粒子に起因する元素とポリエステルの炭素元
素の濃度比(M+ /C+ )を粒子濃度とし、表面から深
さ3000nmまでの厚さ方向の分析を行なう。表層で
は表面という界面のために粒子濃度は低く、表面から中
に入るにつれて粒子濃度は高くなる。本発明フイルムの
場合、一旦極大値となった粒子濃度がまた減少し始め
る。この濃度分布曲線をもとに表層粒子濃度が極大値の
1/2となる深さ(この深さは極大値となる深さよりも
深い)を求め、これを積層厚さとした。条件は次の通り
である。 測定装置 2次イオン質量分析装置(SIMS) 西独、ATOMIKA社製 A−DIDA3000 測定条件 1次イオン種 : O2 + 1次イオン加速電圧: 12KV 1次イオン電流 : 200nA ラスター領域 : 400μm□ 分析領域 : ゲート30% 測定真空度 : 6.0×10-9Torr E−GUN : 0.5KV−3.0A なお、表層から深さ3000nmの範囲に最も多く含有
する粒子が有機高分子粒子の場合はSIMSでの測定が
難しいので、表面からエッチングしながらXPS(X線
光電子分析法)、IR(赤外分光法)などで上記同様の
デプスプロファイルを測定し積層厚さを求めてもよい
し、また、電子顕微鏡等による断面観察で粒子濃度の変
化状態やポリマの違いによるコントラストの差から界面
を認識し積層厚さを求めることもできる。さらには、積
層ポリマを剥離後、薄膜段差測定機を用いて積層厚さを
求めることもできる。
た。
ロロホルムを溶媒として、還流下で24時間抽出を行
う。クロロホルムを蒸発させて得られた抽出物の重量の
もとの試料の重量に対する比率(重量%)をもって低分
子成分含有量とした。
セロファンテープ)をはりつけ、十分粘着させた後、一
気に剥離し、そのあとを薄膜段差測定器(小坂研究所製
ET−10)で劈開の有無を評価し、全く劈開がないも
のは劈開強さ:優、劈開が起こったものは不良と判定し
た。
含有するポリエチレンテレフタレートのペレットを作っ
た。この時、重縮合時間を調節し固有粘度を0.65と
した。また、常法によって、固有粘度0.62の実質的
に粒子を含有しないポリエチレンテレフタレートを製造
した。これらのポリマをそれぞれ180℃で6時間減圧
乾燥(3Torr)し、所定割合で混合し、架橋ジビニ
ルベンゼン粒子の濃度を調節したもの(ポリエステル
A)を押出機1に供給し290℃で溶融し、さらに、実
質的に粒子を含有しないものあるいは所定量の架橋ジビ
ニルベンゼン粒子を含有するもの(ポリエステルB)を
押出機2に供給、285℃で溶融し、これらのポリマを
合流ブロック(フィードブロック)で合流積層し、静電
印加キャスト法を用いて表面温度25℃のキャスティン
グ・ドラムに巻きつけて冷却固化し、3層および2層構
造の未延伸フイルムを作った(A/B/A、およびA/
B構成のポリエステルフイルム)。それぞれの押出機の
吐出量を調節し、総厚さ、A層の厚さを調節した。この
未延伸フイルムを温度85℃にて長手方向に3.5倍延
伸した。この延伸は2組ずつのロールの周速差で、4段
階で行った。この一軸延伸フイルムをステンタを用いて
延伸速度5,000%/分で100℃で幅方向に4.0
倍延伸し、定長下で、210℃にて5秒間熱処理し、総
厚さ35〜75μmの二軸配向積層ポリエステルフイル
ムを得た。表1に結果を示すように、実施例1〜4と
も、本発明で特定した範囲内にあるため、優れた劈開強
さが得られた。
を作製したが、表1に示すように、A層厚さ(比較例
1)、B層に対するA層の厚さ比率(比較例2)、低分
子量物含有量(比較例3)、フイルム全厚(比較例4)
のいずれかの条件が本発明で特定した範囲を外れている
ため、いずれも劈開強さが不良であった。
を作製したが、A層に含有する粒子の種類を、球形シリ
カ、球形炭酸カルシウム、二酸化チタン等に変更した。
表2に示すように、粒子種を変更した場合にも、本発明
で特定した範囲内にある場合(実施例)はいずれも良好
な劈開強さが得られたが、そうでない場合(比較例)に
は、いずれも劈開強さが不良であった。
エステルフイルムによるときは、A層とB層の粒子濃度
差を低く抑え、A層のフイルム厚さおよびフイルム全厚
さに対する割合を特定するとともに、フイルム全厚さ自
身、低分子量物含有量も特定したので、A層に粒子を含
有させることにより効率よく表面突起を形成しつつ、A
層が劈開、剥離しにくい、フレキシブル磁気ディスクに
用いて最適なフイルムを得ることができる。
Claims (4)
- 【請求項1】 粒子を含有するポリエステルAよりなる
層(A層)をポリエステルBよりなる層(B層)の少な
くとも片面に積層してなるフイルムであって、A層とB
層の粒子濃度の差が0.02重量%以上5重量%未満で
あり(A層濃度>B層濃度)、かつ、A層の厚さが3μ
m以上でフイルム全厚さの1/2未満、フイルム全厚さ
が30μm以上、低分子量物含有量が1.5重量%以下
であることを特徴とする積層ポリエステルフイルム。 - 【請求項2】 前記A層の粒子含有量が5重量%以下で
ある請求項1の積層ポリエステルフイルム。 - 【請求項3】 前記A層とB層のポリマーの固有粘度差
が0.5以下である請求項1又は2の積層ポリエステル
フイルム。 - 【請求項4】 前記フイルムがフレキシブル磁気ディス
ク用フイルムである請求項1ないし3のいずれかに記載
の積層ポリエステルフイルム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27733393A JP2959697B2 (ja) | 1993-10-12 | 1993-10-12 | 積層ポリエステルフイルム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP27733393A JP2959697B2 (ja) | 1993-10-12 | 1993-10-12 | 積層ポリエステルフイルム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07108662A JPH07108662A (ja) | 1995-04-25 |
JP2959697B2 true JP2959697B2 (ja) | 1999-10-06 |
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Family Applications (1)
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Country | Link |
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JP (1) | JP2959697B2 (ja) |
-
1993
- 1993-10-12 JP JP27733393A patent/JP2959697B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
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JPH07108662A (ja) | 1995-04-25 |
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