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JP2938568B2 - 照明装置 - Google Patents

照明装置

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JP2938568B2
JP2938568B2 JP3508122A JP50812291A JP2938568B2 JP 2938568 B2 JP2938568 B2 JP 2938568B2 JP 3508122 A JP3508122 A JP 3508122A JP 50812291 A JP50812291 A JP 50812291A JP 2938568 B2 JP2938568 B2 JP 2938568B2
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light modulator
light
lens
schlieren
light source
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フォークト，ホルガー
クック，ハインツ
ヘス，グンター
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FURAUNHOOFUAA G
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Publication date
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    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70358—Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging
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  • General Physics & Mathematics (AREA)
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  • Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)
  • Liquid Crystal Substances (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は電子素子を製造するのに使用されるレチク
ルおよびマスクのようなモデルを製造するため、また
は、製造に必要なフォトリソグラフィ工程の間ウェハお
よび基板を直接照明するための、もしくは、感光性層を
含む構造を直接照明するための照明装置または露光装置
に関するものであり、前記照明または露光装置は光源お
よびパターン発生器を含む。
この発明は特に、モデル、レチクルおよびマスクの製
造に関し、または、照明方法が用いられる場合の同様の
製造方法だけでなく、半導体製造、集積回路の製造、ハ
イブリッド製造およびフラットスクリーンの製造の分野
における微小範囲の直接照明に関するものである。この
発明は特に、半導体製造の分野において半導体ウェハの
直接照明に用いられるように、かつハイブリッドおよび
ボンディング技術の分野において基板の直接照明に用い
られるように適合された照明装置に関する。
マスクの製造および半導体製品の直接照明にだけでな
く、フォトリソグラフィによる回路の製造のための照明
型板であるレチクルの製造には、電子ビーム描画装置、
レーザビームユニット、およびレーザ光源または水銀灯
を含む光学パターン発生器が使用される。先行技術によ
る光学パターン発生器は、機械的な長方形シールドによ
って規定された長方形の窓の連続的な個々の照明を行な
うことによって所望の構造を作る。作成されるべき構造
の複雑さは、必要とされる照明長方形の数を決定し、前
記数は順に、構造のための描画時間または露光時間を決
定する。これらの公知のパターン発生器によって作成さ
れ得る構造の精度は、順に、使用される機械的長方形シ
ールドの精度によって限定される。
先行技術に従ってレーザビームユニットの場合、照明
されるべき表面がレーザビームによってラスタされる。
ラスタ方法に必要とされるシリアルデータフローのた
め、このようなレーザビームユニットの描画速度または
照明速度が限定される。さらに、このようなレーザビー
ムユニットは高い機械光学投資を必要とする。
先行技術で用いられる電子ビームユニットは、電子感
応性の特別なフォトレジスト系の照明に用いられ得るだ
けであり、かつ、上記のレーザビームユニットと比較し
て、電子ビームユニットはさらに真空技術の使用を必要
とする。したがって、電子ビームユニットは非常に高い
資本の出資および作業コストを必要とする。
B.W.ブリンカー（Brinker）他による技術発行物であ
る、SPIEの予稿集、1989年、第1018巻の「能動マトリク
スアドレスされた空間光変調器で用いられる薄い粘弾性
層の変形作用」（Deformation behavior of thin visco
elastic layers Used in an active,matrix−addressed
spatial light modulator）は、テレビ画像の作成また
は画像表示のための、能動マトリクスアドレスされた粘
弾性表面光変調器を含む反射性光学シュリーレン系の使
用をすでに開示している。この表面光変調器は適切な光
学系を介して光が表面光変調器の表面上に垂直に達する
永久的光源を含む。表面光変調器の表面領域は、表面に
達した光が、アドレスされた表面素子の場合は回折光と
して、かつアドレスされていない表面素子の場合は非回
折光として反射されるように、制御電極のアドレシング
に応答して変形されるよう適合されている。非回折光は
光源に戻るであろうが、ところが一方、回折光は、テレ
ビの画面または画像表示領域上での画像作成のための光
学シュリーレン系を介して使用されるであろう。
テキサスインスツルメントの会社の発行物JMF008:026
0、10/87は、その反射性表面が複数の電気的にアドレス
可能な機械的に変形され得るリードを含んでいる表面光
変調器を開示している。
US−Ａ−4675702は、フォトプロッタ、または、集積
回路のフォトリソグラフィによる製造の際、感光性層を
直接照明する役割を果たす照明装置を一般的に開示して
いる。このフォトプロッタでは、コンピュータの制御の
下での所定領域の照明が、パラレル光のための光源と、
照明されるべき感光性層との間に、個々に制御可能な弁
部分を含む光弁として形成された装置を配置することに
よって確立される。光弁に関する限り、それはネガティ
ブのように作用するべきであり、かつしたがって、感光
性層の対応領域が非照明の状態に保たれるように、光の
通過を妨げる状態で、電子制御によってアドレス可能領
域を切換える役割を果たすべきであると開示されてい
る。
この先行技術と比較して、この発明は、照明装置の単
純かつ安価な構造に基づいて、露光時間または描画時間
が、レーザビーム系または電子ビーム系の形式での照明
装置の露光時間または描画時間と比較して減少されてい
るような態様で、初めに述べられた型の照明装置をさら
に発展させたものに基づいている。
請求項１の属項に従った照明装置の場合、この問題は
請求項１の特徴項で開示された特徴によって解決され
る。
この発明に従えば、パターン発生器は光学シュリーレ
ン系および能動マトリクスアドレス可能表面光変調器に
よって形成され、二次元光変調器とまた呼ばれ得る前記
表面光変調器には、そのアドレスされた表面領域が回折
光としての入射光を反射し、かつそのアドレスされてい
ない表面領域が非回折光としての入射光を反射する反射
性表面が設けられる。シュリーレン系は、表面光変調器
の側に配置されたシュリーレンレンズと、表面光変調器
とは対面していない投影レンズとを含み、さらに、これ
らのレンズ間に配置され、光源からの光を表面光変調器
の表面に向けるミラー装置をも含む。集束手段は光源か
らの光をミラー装置上に集束させる。シュリーレンレン
ズはレンズの焦点距離に関して短い距離、表面光変調器
から離れたところに配置される。フィルタ装置がシュリ
ーレンレンズと投影レンズとの間に配置され、前記フィ
ルタ装置には、表面光変調器のアドレスされていない表
面領域により反射された非回折光をフィルタ処理し、か
つ、アドレスされた表面領域により反射された回折光が
投影レンズを介してモデル、電子素子または構造に達す
ることができるようにするだけである性質の構造の設計
がなされる。モデル、電子素子または構造は、表面光変
調器のアドレスされた表面領域の鮮明な画像がモデル、
電子素子または構造上に形成され得るような態様で、位
置決めテーブル上の位置に固定され得る。好ましくは、
ミラー装置は前記シュリーレンレンズの焦点距離に対応
する距離、シュリーレンレンズから離れたところに配置
され、そのため、前記ミラー装置は二重機能、すなわ
ち、一方では、光源からの光を表面光変調器に偏向させ
る機能と、他方、この非回折光を光源に反射し戻すこと
によって、反射された０次光のためのフィルタ装置とし
て作用する機能とを達成することができる。
この発明の本質的な局面に従えば、この発明に従った
照明装置の光源は、位置決めテーブルの変位率で除算さ
れた、作成されるべき構造の最小寸法よりも短いパルス
持続時間を有するパルスレーザ光源である。この実施例
に基づいて、この発明に従った照明装置は、位置決めテ
ーブルの本質的に連続的な変位の際、モデル、電子素子
または構造のストロボのような照明を可能にし、それに
よって、非常に高速な描画速度と露光速度が達成され
る。
個々のレーザ光パルスの高い照明強度にもかかわら
ず、この発明は、照明強度が非常に低い場合のみに、た
とえば、テレビ画面の場合であるが、使用される先行技
術で適用された型の表面光変調器を使用している。しか
し、この発明に従った照明装置のレーザ光パルスが短い
持続期間のパルスのみであるという事実に鑑みて、表面
光変調器は依然として熱条件を満たすであろう。表面光
変調器の迅速なプログラム可能なまたはアドレス可能な
性質に基づいて、前記光変調器は、作成されるべき構造
全体の２つの連続した部分画像の間での位置決めテーブ
ルの変位移動の際、再びプログラムまたはアドレスされ
得る。これは、反復構造を有する半導体ウェハの直接照
明の場合に短い露光パルスシーケンスを可能とするだけ
でなく、表面光変調器の高速な再プログラム可能性に基
づいて不規則な構造の製造をも可能とするであろう。
この発明に従った照明装置のさらなる発展が従属項に
開示されている。
この発明にしたがった照明装置の好ましい実施例が添
付の図面を参照して以下に詳細に説明される。
図１は本発明に従った照明装置の全構造の概略図を示
す。
図２はこの発明に従った照明装置のパターン発生器、
光学シュリーレン系および位置決めテーブルの詳細図を
示す。
図３はこの発明に従った照明装置のパターン発生器、
図２に従った実施例と比較して修正された光学シュリー
レン系の実施例、およびこの発明に従った照明装置の位
置決めテーブルの詳細図を示す。
図１に示された照明装置には、その全体に参照数字
「１」が付与されており、この装置は電子素子の製造の
ためのレチクルおよびマスクのようなモデルを製造し、
または、基板もしくは感光性層を有する構造の直接照明
を行なう役割を果たす。この発明に従った照明装置１は
エキシマレーザ光源２を含む。このエキシマレーザ光源
は、紫外線領域内の波長が約450nmないし150nmであるガ
ス放出レーザ装置であり、制御可能な態様で、１パルス
につき非常に高い光強度を有しかつ高い繰返し率を有す
る光パルスを出す。エキシマレーザ光源２は照明光学ユ
ニット４を介してパターン発生器３に接続される。照明
光学ユニット４はエキシマレーザ光源２からの光を表面
光変調器13に、エキシマレーザ光源２の光アパーチャが
表面光変調器のの表面に適合されるような態様で、与え
るようにするものであり、表面光変調器13はパターン発
生器３の一部を形成しかつ以下に説明される。図２およ
び図３に関して以下に説明される好ましい実施例の場
合、照明光学ユニット４は、その構造がそれ自身公知で
あるレンズ系によって規定される。
投影光学ユニット５によって、パターン発生器は、以
下に詳細に述べられる態様でモデル６上にパターンの画
像を形成し、前記モデル６はｘ−ｙ−θ位置決めテーブ
ルによって保持される。
投影光学ユニット５はパターン発生器３によって作成
されるパターンの画像をモデル６上に形成するばかりで
なく、画像を形成する際所望の倍率拡大または縮小を行
ない、かつこれが所望される限り、モデル６上に画像を
オートフォーカスするものである。
すでに説明されたように、モデルは、たとえば、レチ
クルまたはマスクであり得る。初めにも説明された直接
照明の場合、ｘ−ｙ−θ位置決めテーブル７は、モデル
６の代わりに、照明されるべき半導体ウェハ、フォトリ
ソグラフィによって作成されるべき他のいくつかの素
子、または、描画されるべきかもしくは照明されるべき
である感光性層を有する構造を支持する。
位置決めテーブル７は振動絶縁支持構造８上に配置さ
れる。この支持構造８には、その上に、追加モデル６も
しくは半導体素子のための、または、照明されるべき構
造のためのローディングおよびアンローディングステー
ション９が設けられ得る。ローディングおよびアンロー
ディングステーション９には、半導体製造技術の分野で
通常使用され、かつ照明されるべきモデルもしくは基板
で、または他の半導体素子で位置決めテーブル７を自動
的に装填するのに適切である構造上の設計が与えられ得
る。
制御コンピュータ10および関連の制御エレクトロクス
11は、露光装置のためのすべての制御機能を実行する。
制御コンピュータ10および制御エレクトロニクス11は特
に、位置決めテーブル７のコンピュータ制御された位置
合わせを目的として位置決めテーブル７と交信する。制
御コンピュータ10は、露光された構造全体を結果として
もたらすモデル６上に連続的に部分画像を作成するため
に、位置決めテーブル７の各制御位置に応答してパター
ン発生器３をそれぞれプログラムしかつアドレスする。
磁気テープユニットまたはLANインタフェース（図示さ
れていない）がデータキャリアとして使用される。
図２で理解され得るように、パターン発生器３は表面
光変調器または二次元光変調器13を含み、さらに、表面
光変調器13と対面するシュリーレンレンズ15と、表面光
変調器13とは対面しない投影レンズ16と、シュリーレン
レンズ15と投影レンズ16との間に配置されるミラー装置
17とを含む光学シュリーレン系をも含む。
その焦点距離に関して、シュリーレンレンズ15は表面
光変調器13から短い距離離れたところに配置される。
ミラー装置17はシュリーレンレンズの焦点面に、さら
に、その光軸にも位置付けられる。ビーム拡大光学系4a
および4bと集束光学系4cは、エキシマレーザ光源２によ
り放された光をミラー装置17上にウォーカスするもので
あり、かつ照明光学ユニット４の構成要素であるが、エ
キシマレーザ光源とミラー装置17との間に位置付けられ
る。
表面光変調器13は、シュリーレンレンズ15に向かって
反射性表面19により封止されている粘弾性制御層18を含
み、前記反射性表面は、たとえば、金属膜により形成さ
れている。さらに、表面光変調器13は、関連の制御電極
対を有するMOSトランジスタのモノリシックな集積化ア
レイから構成され得る、いわゆる能動アドレシングマト
リクス20を含む。典型的に、アドレシングマトリクス20
は2000×2000個の画素を含むであろう。アドレシングマ
トリクス20の反射性表面19の各画素または表面領域19
a、19b、…は、それと関連して、粘弾性層18とその反射
性表面19とともに、１つまたはいくつかの格子間隔を有
する回折格子を各々形成する１つまたはいくつかの電極
対を有する２つのトランジスタを有する。
表面領域19a、19b、…が、対向電圧をそれぞれの表面
領域（論理「１」）の１対の電極の２つの電極に印加す
ることによってアドレスされると、反射性表面19はほぼ
正弦状の断面を有する形を帯びるであろう。もしアドレ
スされないならば、それぞれの表面領域19a、19b、…は
平坦になるであろう。光ビームがアドレスされていない
表面領域19a、19b、…上に達すると、ビームは反射され
てミラー装置17のミラーを介して光源に戻るであろう。
続いて、シュリーレンレンズ15の焦点面に配置されたミ
ラー装置17は、一方では、光源２から来る光を表面光変
調器13に向けて偏向させる働きをし、他方では、アドレ
スされていない表面領域19a、19b、…によって回折され
ることなく反射される光成分をフィルタ処理するための
フィルタ装置としての働きをする。
当業者にとって、示された実施例から逸脱して、２つ
の別個の構成要素を使用することによって２つの機能を
光の導入およびフィルタ処理に分割することが可能であ
ることは自明であろう。この場合、ミラー装置17は、シ
ュリーレンレンズ15の焦点面に関して、それが光軸に沿
って前記シュリーレンレンズに向かって変位されるよう
に、配置されなければならないであろう。これに関連し
て、部分的に反射するミラーを使用することが可能であ
る。したがって、０次回折光をフィルタ処理するため
に、シャッタをビーム経路内に挿入することがさらに必
要であり、かつこのシャッタが、シュリーレンレンズ15
の焦点面に関して、投影レンズ16の方向に変位されるよ
うに配置されなければならないように、反対方向に回折
面が変位されるであろう。
各領域がアドレスされると、シャッタとして作用する
ミラー装置17をより高い回折次数が通過するように、か
つ、前記高回折次数の鮮明画像が投影レンズ16の援助に
よりモデル６上に形成され得るように、入射光が回折さ
れるであろう。この方法で、モデル６の位置に作成され
た画像が表面光変調器13のプログラムされた論理状態に
対応するように、アドレスされた表面領域19a、19b、…
のみが投影されるであろう。
この発明に従った照明装置の場合、反射性表面19上に
達するレーザの強度の90％までが、画像作成に貢献する
ことができる。
図２に従った実施例の場合、その助けにより表面光変
調器13が照明される、単一の点光源が、エキシマレーザ
光源２からの光を前記ミラー装置17に集束させることに
よってミラー装置の位置に形成される。
この発明に従った照明装置の第２の実施例の場合、こ
れは以下に図３に関して述べられるが、第１実施例に従
った焦点面内に作成された単一点光源が、焦点面内に本
質的に配置されかつその各々は表面光変調器13の表面全
体を照明する複数の実質的に点対称の点光源によって置
換えられる。
以下に述べられる図３に従った第２実施例の説明で
は、図２に従った実施例に対応する部分には同じ参照数
字が付与され、そのため、これらの系の構成要素の新し
い説明は省くことができる。
図２に従った実施例から逸脱して、図３に示されたこ
の発明に従った照明装置の実施例は、単一のミラー装置
17だけでなく、現在の関係で示された実施例の場合に、
３つの棒型ミラーが設けられる棒型ミラー配置17a、17
b、17cを含む。しかしながら、より多数の棒型ミラーを
含む棒型ミラー配置を使用することもまた可能である。
中央の棒型ミラー17aはシュリーレンレンズ15の焦点
に位置付けられる。２つの追加の棒型ミラー17bおよび1
7cは、レーザ光源２からの、前記棒型ミラー17bおよび1
7cの１つによって表面光変調器に向かって偏向された光
が、表面光変調器13のアドレスされていない表面領域19
a、19b、…による非回折反射の場合に他方の棒型ミラー
17c、17b上に達して、かつ、前記他方の棒型ミラー17
c、17bによってレーザ光源２の方向に戻されるように、
配置されている。言換えれば、以下に述べられる集束に
よって棒型ミラー上に形成された点光源の光が非回折反
射する場合、反射光が前記最初に述べられた棒型ミラー
のためのフィルタとして結果として作用する他方の棒型
ミラー上に達するように、これらの点光源が表面光変調
器13の表面全体を照明するような態様で、棒型ミラーが
それぞれ対をなして配置される。
図３の上部図はｘ−ｚ面での照明装置を示す一方、下
部図は上部図の断面線IIに沿ったｙ−ｚ面での照明装置
を示す。
棒型ミラー17a、17bおよび17cの軸のそれぞれの方向
はｙ方向にあり、かつしたがって、表面光変調器13の表
面19の波状によって形成された相構造に平行である。
棒型ミラー17a、17bおよび17cの位置で点光源を形成
するために、照明光学ユニット４は、ビーム拡大光学系
4a、4bに追加して、各棒型ミラー毎に円柱レンズ系21、
22、23を含み、前記円柱レンズ系は相構造に平行に、す
なわち、ｙ方向に配向されている。図３から理解され得
るように、これらの円柱形レンズ系はそこから異なった
距離に配置された棒型ミラー17a、17bおよび17c上に集
束させるための異なった焦点距離を有する。さらに、光
軸の外側に配置された円柱形レンズ系21および23は、各
々の場合に表面光変調器13がその表面全体にわたって照
明されるような角度で、それぞれの棒型ミラー17bおよ
び17c上に光が達するようなプリズムを含んでいる。相
構造に平行に配置された円柱形レンズ系21、22、23の後
ろにある光路に、相構造に垂直に配置されかつその構造
上の設計および配置が上記の円柱形レンズ糸の設計およ
び配置に対応する円柱形レンズ系24、25、26が設けられ
る。順に背後に位置付けられた円柱形レンズ系は、示さ
れた実施例の場合において３つの棒型ミラー17a、17bお
よび17c上に９つの点光源を形成する。
動作の際、位置決めテーブル７は運動の所定方向に連
続して移動され、かつこの運動の間に、結像されるべき
全体構造の重なった部分画像の画像が、エキシマレーザ
光源２をパルス化することによってモデル６上に形成さ
れるであろう。アドレッシングマトリックス20は通常、
製造欠陥の結果機能することができない、複数個の画素
を含み、そのため、これらの画素はそれぞれ論理状態
「１」および「０」に切換えられないか、または必ずし
も完全に切換えられない場合がある。マトリックス20の
これらの欠陥については、すべての欠陥のある画素の位
置を突き止め、かつその画素に論理「０」を与える。こ
れらの画素を無効にすることにより、製造欠陥が補償さ
れる。モデル６上の各構造が重なった複数の部分画像に
よって形成されるため、上記無効となった画素がいくつ
かあっても照明されるべき構造の各部分は正常な１個の
画素すなわち、正常な１つの表面領域により少なくとも
１回必ず照明される。
パルス化されたエキシマレーザ光源２のパルス持続時
間は、形成されるべき構造の最小寸法を位置決めテーブ
ル７の移動速度で除して得られる時間よりも短いため、
位置決めテーブル７を連続的に移動しても全構造の画像
は鮮明に形成される。
アドレシングマトリクス20を制御するためのデータ構
造は本質的に、先行技術に従ったラスタ配向されたレー
ザビームまたは電子ビームユニットを制御するためのデ
ータ構造に対応する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 クック，ハインツ ドイツ連邦共和国、4100 デュースブル ク、28 リンダウエル・シュトラーセ、 28 (72)発明者 ヘス，グンター ドイツ連邦共和国、4100 デュースブル ク、１、リチャード・バーグナー・シュ トラーセ、112 (72)発明者 ゲーナー，アンドレアス ドイツ連邦共和国、4100 デュースブル ク、１、カメルシュトラーセ、89 (56)参考文献 特開 昭62−249165（ＪＰ，Ａ) Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ ｏｆ ＳＰ ＩＥ，Ｖｏｌ．1018，ＰＰ79−85 （1988)

Claims (15)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】電子素子を製造するのに用いられるモデル
    を作成するための、または、製造に必要とされるフォト
    リソグラフィ工程の際、ウェハもしくは基板を直接照明
    するための、または、感光性層を含んだ構造の直接照明
    のための照明装置であって、光源（２）とパターン発生
    器（３）とを含み、 パターン発生器（３）は光学シュリーレン系と、能動の
    マトリクスアドレス可能な表面光変調器（13）とを含
    み、 表面光変調器（13）は、そのアドレスされた表面領域
    （19a、19b）が入射光を回折させ、かつそのアドレスさ
    れていない表面領域（19a、19b）が入射光を反射させる
    反射性表面（19）を有し、 シュリーレン系は、表面光変調器（13）の側に配置され
    たシュリーレンレンズ（15）と、表面光変調器（13）と
    対面していない投影レンズ（16）と、これらのレンズ
    （15、16）の間に配置されかつ光源（２）から来る光を
    表面光変調器（13）の表面（19）上に向けるミラー装置
    （17）とを含み、 光源（２）から来る光をミラー装置（17）上に集束させ
    るのに使用される集束手段（４）が設けられ、 シュリーレンレンズ（15）は、前記レンズの焦点距離に
    関して短い距離、表面光変調器（13）から離れたところ
    に配置され、 フィルタ装置（17）はシュリーレンレンズ（15）と投影
    レンズ（16）間に配置され、前記フィルタ装置には、表
    面光変調器（13）のアドレスされていない表面領域（19
    a、19b）により反射された非回折光をフィルタ処理し、
    かつ、アドレスされた表面領域（19a、19b）により反射
    される回折光が投影レンズ（16）を介してモデル
    （６）、電子素子または構造に達することができるよう
    な性質の構造設計が与えられ、 表面光変調器（13）のアドレスされた表面領域（19a、1
    9b）の鮮明な画像がモデル（６）、電子素子または構造
    上に形成され得るような態様で、モデル（６）、電子素
    子または構造が位置に固定され得る移動可能な位置決め
    テーブル（７）が設けられ、 光源はパルス化されたレーザ光源（２）であり、 パルス化されたレーザ光源（２）のパルス持続時間は、
    作成されるべきモデル、電子素子、または構造の最小構
    造寸法を位置決めテーブル（７）の移動速度により除し
    て表わされる時間よりも短く、さらに、 位置決めテーブルの移動の間、モデル（６）、電子素子
    または構造が表面光変調器（13）の適切なアドレシング
    により複数個の連続した部分画像を用いて組み立てら
    れ、 表面光変調器（13）および位置決めテーブル（７）は、
    照明されるべきモデル、素子または構造の各画素が、結
    像された画素の変位が位置決めテーブルの、画像を形成
    するためのパルス間で変位された距離に対応するような
    態様で、部分的に重なった画像で少なくとも２回照明さ
    れるように制御されることを特徴とする、照明装置。
  2. 【請求項２】ミラー装置（17）は、シュリーレンレンズ
    （15）の焦点距離に対応する、前記レンズ（15）から離
    れた距離に配置され、かつ、 ミラー装置（17）は、アドレスされていない表面領域
    （19a、19b）により反射される非回折光を光源（２）に
    戻す限りにおいてフィルタ装置を構成することを特徴と
    する、請求項１に記載の照明装置。
  3. 【請求項３】ミラー装置（17）は、シュリーレンレンズ
    （15）の焦点距離よりも短い、前記レンズ（15）から離
    れた距離に配置され、かつ、 フィルタ装置は、アドレスされていない表面領域（19
    a、19b）により反射された非回折光のためのシャッタと
    して構成され、前記シャッタはシュリーレンレンズ（1
    5）の焦点距離よりも大きい、前記レンズ（15）から離
    れた距離に配置されることを特徴とする、請求項１また
    は２に記載の照明装置。
  4. 【請求項４】ミラー装置は、その縦軸（ｙ）が表面光変
    調器（13）の表面（19）の波状により形成された相構造
    と平行である棒型ミラー（17）を含むことを特徴とす
    る、請求項１ないし３の１つに記載の照明装置。
  5. 【請求項５】ミラー装置は複数個の棒型ミラー（17a、1
    7b、17c）を含み、前記棒型ミラーの１つはシュリーレ
    ンレンズ（15）の焦点に配置され、かつ、 ２つの追加の棒型ミラー（17b、17c）は、光源（２）か
    らの光であってかつ棒型ミラー（17b、17c）の１つによ
    り表面光変調器（13）に向かって偏向された光が、表面
    光変調器（13）のアドレスされていない表面領域（19
    a、19b）による非回折反射の場合に他方の棒型ミラー
    （17c、17b）に達するように、配置されることを特徴と
    する、請求項４に記載の照明装置。
  6. 【請求項６】光源（２）からの光を、広くかつ本質的に
    平行な光束へと変形させるビーム拡大光学系（4a、4b）
    と、 相構造の方向に配向され、かつ、棒型ミラー（17a、17
    b、17c）の数に対応する数の円柱レンズ（21、22、23）
    を含む、円柱レンズ系と、 前記最初に述べられた円柱レンズ系に垂直に配置された
    第２の円柱レンズ系（24、25、26）とを特徴とする、請
    求項５に記載の照明装置。
  7. 【請求項７】パルス化されたレーザ光源はエキシマレー
    ザー光源（２）であることを特徴とする、請求項１ない
    し６の１つに記載の照明装置。
  8. 【請求項８】表面光変調器（13）のマトリックスアドレ
    シングを実行する際、機能することが不可能と認識され
    た表面領域（19a、19b）がアドレスされないことを特徴
    とする、請求項１ないし７の１つに記載の照明装置。
  9. 【請求項９】表面光変調器（13）の各表面領域（19a、1
    9b）は、各々、１対の制御電極層または数対の制御電極
    層が設けられた２つのトランジスタに関連しており、そ
    れぞれの表面領域（19a、19b）のアドレシングに応答し
    て、各制御電極は、粘弾性制御層（18）の反射性表面
    （19）が前記トランジスタを覆った状態で、１つまたは
    数個の回折格子を形成することを特徴する、請求項１な
    いし８の１つに記載の照明装置。
  10. 【請求項１０】一群のウェハまたは基板の完全自動照明
    を可能とする、ウェハまたは基板のための自動ローディ
    ングおよびアンローディング装置を特徴とする、請求項
    １ないし９の１つに記載の照明装置。
  11. 【請求項１１】製造工程の間、基板の正確な反復照明を
    可能にする前調整手段および微細調整手段を特徴とす
    る、請求項１ないし10の１つに記載の照明装置。
  12. 【請求項１２】表面光変調器（13）は、前調整および微
    細調整の間、プログラム可能な基準マークとして使用さ
    れることを特徴とする、請求項11に記載の照明装置。
  13. 【請求項１３】表面光変調器（13）には、反射性表面
    （19）をその上に配置した粘弾性制御層（18）が設けら
    れることを特徴とする、請求項１ないし12の１つに記載
    の照明装置。
  14. 【請求項１４】表面光変調器（13）に反射性表面を液晶
    層で被覆され、かつ、電気的にアドレス可能な表面領域
    （19a、19b）により、位相変位、またしたがって、入射
    光の回折が生じることを特徴とする、請求項13に記載の
    照明装置。
  15. 【請求項１５】表面光変調器（13）にはアドレス可能な
    機械的リードから構成された反射性表面が設けられ、か
    つ、前記リードの折り曲げにより、位相変位またはした
    がって、光の回折が生じることを特徴とする、請求項１
    ないし14の１つに記載の照明装置。
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