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JP2884577B2 - Field effect transistor - Google Patents

Field effect transistor

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Publication number
JP2884577B2
JP2884577B2 JP63264728A JP26472888A JP2884577B2 JP 2884577 B2 JP2884577 B2 JP 2884577B2 JP 63264728 A JP63264728 A JP 63264728A JP 26472888 A JP26472888 A JP 26472888A JP 2884577 B2 JP2884577 B2 JP 2884577B2
Authority
JP
Japan
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stripe
electrode
drain
gate
electrodes
Prior art date
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Application number
JP63264728A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH02110943A (en
Inventor
修 塩崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
Nippon Electric Co Ltd
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Publication date
Application filed by Nippon Electric Co Ltd filed Critical Nippon Electric Co Ltd
Priority to JP63264728A priority Critical patent/JP2884577B2/en
Publication of JPH02110943A publication Critical patent/JPH02110943A/en
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Expired - Lifetime legal-status Critical Current

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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体装置分野の電界効果トランジスタ(以
下、FETという。)に利用され、特に、高出力用途のGaA
s FETのチップの構造に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention is used for a field effect transistor (hereinafter, referred to as FET) in the field of semiconductor devices, and in particular, GaAs for high-power applications.
s Regarding the structure of the FET chip.

〔概要〕〔Overview〕

本発明は、各々複数個のゲートストライプ電極、ドレ
インストライプ電極およびソースストライプ電極を有す
る電界効果トランジスタにおいて、 前記ゲートストライプ電極および前記ドレインストラ
イプ電極の少なくとも一方について各ストライプ電極が
連結して接続された抵抗体を設けることにより、 各ストライプ電極が均一に動作するようにし、高周波
高出力特性の向上を図ったものである。
The present invention relates to a field effect transistor having a plurality of gate stripe electrodes, a drain stripe electrode and a source stripe electrode, wherein at least one of the gate stripe electrode and the drain stripe electrode is connected to and connected to each stripe electrode. By providing a body, each stripe electrode operates uniformly and the high-frequency high-output characteristics are improved.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、この種の高出力GaAs FETのチップにおいては、
第3図に示すように、各々複数個のゲートストライプ電
極1、ドレインストライプ電極4およびソースストライ
プ電極7があり、それぞれのストライプ電極は、周知の
金属化技術によって、それぞれのポンディングパット電
極3、6および9に電気的に接続され集束されているの
が一般的であった。
Conventionally, in this type of high-power GaAs FET chip,
As shown in FIG. 3, there are a plurality of gate stripe electrodes 1, a drain stripe electrode 4, and a source stripe electrode 7, and each of the stripe electrodes is formed by a well-known metallization technique. It was common to be electrically connected to 6 and 9 and focused.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problems to be solved by the invention]

前述した従来の高出力GaAs FETのチップにおいては、
各々の複数個のゲートストライプ電極1は、ゲートバス
バー電極2を介してそれぞれゲートボンディングパッド
電極3と電気的に接続される。また複数個のドレインス
トライプ電極4は、ドレイン引出し電極5を介してそれ
ぞれドレインボンディングパッド電極6と電気的に接続
される。
In the conventional high-power GaAs FET chip described above,
Each of the plurality of gate stripe electrodes 1 is electrically connected to a gate bonding pad electrode 3 via a gate bus bar electrode 2. Further, the plurality of drain stripe electrodes 4 are electrically connected to the drain bonding pad electrodes 6 via the drain extraction electrodes 5 respectively.

この場合、高出力にするために、各ストライプ電極本
数を多くすると、各ストライプ電極が均一に動作しにく
くなり、所期の高出力、高利得が実現できなくなる。ま
た、ボンディングワイヤ等によるインダクタンスのバラ
ツキに対して各ストライプ電極が高周波的に均一に動作
せず、所期の高周波特性が達成できない欠点があった。
In this case, if the number of each stripe electrode is increased in order to increase the output, it becomes difficult for each stripe electrode to operate uniformly, and the desired high output and high gain cannot be realized. In addition, there is a drawback that the stripe electrodes do not operate uniformly at high frequencies with respect to variations in inductance due to bonding wires or the like, and the desired high-frequency characteristics cannot be achieved.

本発明の目的は、前記の欠点を除去することにより、
各ストライプ電極が均一に動作し、所期の高周波高出力
特性を達成できるFETを提供することにある。
The object of the present invention is to eliminate the disadvantages mentioned above,
An object of the present invention is to provide an FET in which each stripe electrode operates uniformly and can achieve desired high-frequency high-output characteristics.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving the problem]

本発明、各々複数個のゲートストライプ電極、ドレイ
ンストライプ電極およびソースストライプ電極を有する
FETにおいて、前記ゲートストライプ電極および前記ド
レインストライプ電極のうちの少なくとも一方につい
て、それらを接続する導体とは別に、各ストライプ電極
を互いに連結接続する抵抗体を有することを特徴とす
る。
The present invention has a plurality of gate stripe electrodes, drain stripe electrodes and source stripe electrodes, respectively.
The FET is characterized in that at least one of the gate stripe electrode and the drain stripe electrode has a resistor for connecting and connecting the stripe electrodes to each other, in addition to a conductor connecting them.

〔作用〕[Action]

抵抗体は、例えばNiCrを用いて、ゲートストライプ電
極またはドレインストライプ電極の各ストライプ電極を
ゲートバスバー電極またはドレイン引出し電極の近傍で
連結して接続して形成される。
The resistor is formed, for example, using NiCr by connecting and connecting the respective stripe electrodes of the gate stripe electrode or the drain stripe electrode in the vicinity of the gate bus bar electrode or the drain extraction electrode.

従って、各ストライプ電極は、前記抵抗体によりほぼ
同電位に保たれ、バランスが保たれ均一に動作し、所期
の高周波高出力特性の達成を可能とする。
Therefore, the respective stripe electrodes are maintained at substantially the same potential by the resistor, and operate in a balanced and uniform manner, thereby achieving the desired high-frequency high-output characteristics.

なお、前記抵抗体は、ゲートストライプ電極またはド
レインストライプ電極のいずれか一方に設けるだけでも
十分な場合が多いけれども、必要に応じ双方の電極に設
けることができる。
Although it is often sufficient to provide the resistor only on one of the gate stripe electrode and the drain stripe electrode, it can be provided on both electrodes if necessary.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明の実施例について図面を参照して説明す
る。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

第1図は本発明の第一実施例の要部を示す平面図で、
高周波高出力GaAs FETのチップを示す。
FIG. 1 is a plan view showing a main part of a first embodiment of the present invention,
This shows a high-frequency high-power GaAs FET chip.

本実施例は、各々複数個のゲートストライプ電極1、
ドレインストライプ電極4およびソースストライプ電極
7を有するFETにおいて、 ゲートストライプ電極1の各ストライプ電極をそのゲ
ートバスバー電極2の近傍でそれぞれ連結して接続した
抵抗体10を有している。
In the present embodiment, each of the plurality of gate stripe electrodes 1,
The FET having the drain stripe electrode 4 and the source stripe electrode 7 has a resistor 10 in which each stripe electrode of the gate stripe electrode 1 is connected and connected near the gate bus bar electrode 2.

複数個のゲートストライプ電極1は、一定のピッチで
並列に配置されており、ゲートバスバー電極2により複
数個のゲートボンディングパッド電極3に電気的に接続
される。また、複数個のドレインストライプ電極4は、
ドレイン引出し電極5により複数個のドレインボンディ
ングパッド6に電気的に接続される。さらに、複数個の
ソースストライプ電極7は、同じくソース引出し電極8
により複数個のソースボンディングパッド9に電気的に
接続される。ここで、抵抗体10は、NiCrまたはTaN等の
材質で形成される。
The plurality of gate stripe electrodes 1 are arranged in parallel at a constant pitch, and are electrically connected to the plurality of gate bonding pad electrodes 3 by the gate bus bar electrodes 2. Further, the plurality of drain stripe electrodes 4
The plurality of drain bonding pads 6 are electrically connected by the drain extraction electrode 5. Further, the plurality of source stripe electrodes 7 are similarly connected to the source extraction electrodes 8.
Is electrically connected to the plurality of source bonding pads 9. Here, the resistor 10 is formed of a material such as NiCr or TaN.

本第一実施例においては、第1図から明らかなよう
に、各ゲートストライプ電極1は等しい長さで抵抗体10
に接続され、ほぼ同電位に保たれバランスした入力が行
われ、結果としてバランス動作が保たれ、所期の高周波
高出力特性を得ることができる。
In the first embodiment, as is apparent from FIG. 1, each gate stripe electrode 1 has the same length as the resistor 10
, And a balanced input maintained at substantially the same potential is performed. As a result, a balanced operation is maintained, and a desired high-frequency high-output characteristic can be obtained.

第2図は本発明の第二実施例の要部を示す平面図で、
高周波高出力GaAs FETのチップを示す。本第二実施例
は、基本的構成は第1図の第一実施例と同じであるが、
本第二実施例は、NiCrまたはTaN等の材質でできた抵抗
体10を、ゲートストライプ電極1ではなくドレインスト
ライプ電極4をそのドレイン引出し電極5の近傍ですべ
て連結接続して形成したものである。
FIG. 2 is a plan view showing a main part of a second embodiment of the present invention,
This shows a high-frequency high-power GaAs FET chip. The second embodiment has the same basic configuration as the first embodiment of FIG.
In the second embodiment, a resistor 10 made of a material such as NiCr or TaN is formed by connecting not the gate stripe electrode 1 but the drain stripe electrode 4 all in the vicinity of the drain extraction electrode 5. .

従って、本第二実施例においては、第2図から明らか
なように、各ドレインストライプ電極4は等しい長さで
抵抗体10に接続され、ほぼ同電位に保たれ、バランスし
た出力が行われ、結果としてバランス動作が保たれ、所
期の高周波高出力特性を得ることができる。
Therefore, in the second embodiment, as is apparent from FIG. 2, each drain stripe electrode 4 is connected to the resistor 10 with the same length, is maintained at substantially the same potential, and a balanced output is performed. As a result, the balance operation is maintained, and desired high-frequency high-output characteristics can be obtained.

本発明の特徴は、第1図および第2図において抵抗体
10を設けたことにある。
The feature of the present invention is that the resistor shown in FIGS.
I have 10

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

以上説明したように、本発明は、ゲートストライプ電
極およびドレインストライプ電極のうちの少なくとも一
方の各ストライプ電極を一つの抵抗体で接続することに
より、各ストライプ電極が、均一にバランスして動作
し、高周波高出力特性を向上させる効果がある。
As described above, according to the present invention, by connecting at least one of the gate stripe electrode and the drain stripe electrode with one resistor, each stripe electrode operates in a uniformly balanced manner, This has the effect of improving high frequency high output characteristics.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は本発明の第一実施例の要部を示す平面図。 第2図は本発明の第二実施例の要部を示す平面図。 第3図は従来例の要部を示す平面図。 1……ゲートストライプ電極、2……ゲートバスバー電
極、3……ゲートボンディングパッド電極、4……ドレ
インストライプ電極、5……ドレイン引出し電極、6…
…ドレインボンディングパッド電極、7……ソーススト
ライプ電極、8……ソース引出し電極、9……ソースボ
ンディングパッド電極、10……抵抗体。
FIG. 1 is a plan view showing a main part of a first embodiment of the present invention. FIG. 2 is a plan view showing a main part of a second embodiment of the present invention. FIG. 3 is a plan view showing a main part of a conventional example. 1 ... gate stripe electrode, 2 ... gate bus bar electrode, 3 ... gate bonding pad electrode, 4 ... drain stripe electrode, 5 ... drain extraction electrode, 6 ...
... Drain bonding pad electrode, 7... Source stripe electrode, 8... Source extraction electrode, 9... Source bonding pad electrode, 10.

フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H01L 21/337 - 21/338 H01L 27/095 H01L 27/098 H01L 29/775 - 29/778 H01L 29/50 - 29/812 Continuation of the front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 6 , DB name) H01L 21/337-21/338 H01L 27/095 H01L 27/098 H01L 29/775-29/778 H01L 29/50-29 / 812

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】各々複数個のゲートストライプ電極、ドレ
インストライプ電極およびソースストライプ電極を有す
る電界効果トランジスタにおいて、 前記ゲートストライプ電極および前記ドレインストライ
プ電極のうちの少なくとも一方について、それらを接続
する導体とは別に、各ストライプ電極が均一に動作する
よう各ストライプ電極を互いに電気的に連結接続する抵
抗体を有する ことを特徴とする電界効果トランジスタ。
1. A field effect transistor having a plurality of gate stripe electrodes, a drain stripe electrode and a source stripe electrode, wherein at least one of the gate stripe electrode and the drain stripe electrode is connected to a conductor connecting them. Separately, a field-effect transistor has a resistor for electrically connecting and connecting the stripe electrodes to each other so that the stripe electrodes operate uniformly.
JP63264728A 1988-10-19 1988-10-19 Field effect transistor Expired - Lifetime JP2884577B2 (en)

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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2735403B2 (en) * 1991-06-13 1998-04-02 山形日本電気株式会社 Semiconductor device
JPH05175497A (en) * 1991-12-25 1993-07-13 Nec Corp Semiconductor transistor chip
JP3515886B2 (en) * 1997-09-29 2004-04-05 三菱電機株式会社 Semiconductor device and manufacturing method thereof
JP3169124B2 (en) 1998-06-29 2001-05-21 日本電気株式会社 Field effect transistor and method of manufacturing the same
JP4361313B2 (en) 2003-05-08 2009-11-11 三菱電機株式会社 High frequency power amplifier
US7250642B2 (en) 2004-07-29 2007-07-31 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Field-effect transistor
US10128365B2 (en) 2016-03-17 2018-11-13 Cree, Inc. Bypassed gate transistors having improved stability
WO2018204622A1 (en) * 2017-05-05 2018-11-08 Cree, Inc. High power mmic devices having bypassed gate transistors

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5574183A (en) * 1978-11-29 1980-06-04 Matsushita Electric Ind Co Ltd Junction type field effect transistor
JPS5992557A (en) * 1982-11-18 1984-05-28 Nec Corp Semiconductor integrated circuit with input protection circuit
JPH0513016Y2 (en) * 1985-07-22 1993-04-06

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