JP2747216B2 - Thin film magnetic head - Google Patents
Thin film magnetic headInfo
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Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、磁気ディスク装置に使
用する薄膜磁気ヘッドに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a thin film magnetic head used for a magnetic disk drive.
【0002】[0002]
【従来の技術】磁気ディスク装置に使用する薄膜磁気ヘ
ッドは、基板の一つの面上に下部磁性膜および層間絶縁
層を有するコイルおよび上部磁性膜および保護膜を、半
導体製造技術を応用して順次に積層した構成を有してい
る(特開昭55−84020号公報参照)。このような
構成を有する従来の薄膜磁気ヘッドは、物理的な大きさ
を極めて小さいものとすることが可能なため、インダク
タンスを小さくすることができ、従って高周波特性が良
好であり、高速のデータ転送および高密度記録に対して
有利な磁気記録素子として広く利用されている。2. Description of the Related Art A thin-film magnetic head used in a magnetic disk drive is provided with a coil having a lower magnetic film and an interlayer insulating layer on one surface of a substrate, and an upper magnetic film and a protective film sequentially formed by applying semiconductor manufacturing technology. (See JP-A-55-84020). The conventional thin-film magnetic head having such a configuration can have a very small physical size, so that the inductance can be reduced, and therefore the high-frequency characteristics are good and the high-speed data transfer is possible. It is widely used as a magnetic recording element advantageous for high-density recording.
【0003】しかしながら、薄膜磁気ヘッドに特有な問
題として、その読出し信号の波形の中に、ウィグルと呼
ばれる異常波形が発生することが知られている。この問
題を解決するための一つの手段として、上部磁性膜内の
組成の成分勾配を零にするという手段が提案されている
(特開昭57−10191号公報参照)。However, as a problem specific to the thin-film magnetic head, it is known that an abnormal waveform called a wiggle occurs in the waveform of the read signal. As one means for solving this problem, a method has been proposed in which the component gradient of the composition in the upper magnetic film is made zero (see JP-A-57-10191).
【0004】また、他の手段として、上部磁性膜のヨー
ク領域とポール領域の立上がり部分を、空気ベアリング
面から2μm〜12μm の距離の位置とすることによ
ってウィグルを抑制する手段が提案されている(特開平
3−97110号公報参照)。As another means, there has been proposed a means for suppressing the wiggle by setting the rising portions of the yoke region and the pole region of the upper magnetic film at a distance of 2 μm to 12 μm from the air bearing surface ( See JP-A-3-97110).
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】上述したような薄膜磁
気ヘッドの従来のウィグル抑制手段は、上部磁性膜内の
組成の成分勾配を零にする前者の場合は、実験的には可
能であるが、量産に適用したとき、上部磁性膜の生成工
程であるめっき工程の管理が極めて困難であり、しかも
製造コストが高くなるという問題点を有している。The above-mentioned conventional wiggle suppressing means for a thin-film magnetic head as described above is experimentally possible in the former case where the component gradient of the composition in the upper magnetic film is made zero. However, when applied to mass production, it is extremely difficult to control the plating process, which is the process of forming the upper magnetic film, and there is a problem that the manufacturing cost increases.
【0006】一方、上部磁性膜のヨーク領域とポール領
域の立上がり部分を空気ベアリング面から2μm〜12
μmの距離の位置とする後者の場合は、簡便な手段であ
って製造コスト的にも魅力がある手段ではあるが、ウィ
グルの許容範囲が2.4%であるため、著しく進歩した
現在の技術の実状に合わないものである。On the other hand, the rising portions of the yoke region and the pole region of the upper magnetic film are set to 2 μm to 12 μm from the air bearing surface.
In the latter case where the distance is set at a distance of μm, this is a simple means and an attractive means in terms of manufacturing cost. However, since the allowable range of the wiggle is 2.4%, the current technology has been significantly advanced. It does not fit the actual situation.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明の薄膜磁気ヘッド
は、基板の一つの面上に下部磁性膜およびギャップ膜お
よび層間絶縁層を有するコイルおよび上部磁性膜を順次
に積層した薄膜磁気ヘッドにおいて、上記上部磁性膜の
上に第三の磁性層を設け、前記基板の側面の空気ベアリ
ング面から前記第三の磁性層の端部までの距離Dを 1
0μm<D≦18μm、または、12μm≦D≦16μ
m としたものである。Means for Solving the Problems A thin film magnetic head of the present invention, thin-film magnetic head obtained by sequentially stacking a coil and the upper magnetic film having a lower magnetic film and formic cap film and an interlayer insulating layer on one surface of the substrate , A third magnetic layer is provided on the upper magnetic film, and a distance D from an air bearing surface on a side surface of the substrate to an end of the third magnetic layer is 1
0 μm < D ≦ 18 μm or 12 μm ≦ D ≦ 16 μ
m.
【0008】[0008]
【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
【0009】図1は本発明の一実施例を示す斜視図、図
2は図1の実施例の平面図、図3は図1の実施例のA−
A線断面図、図4は図1の実施例の距離Dとウィグルの
発生割合との関係を示す特性図である。FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a plan view of the embodiment of FIG. 1, and FIG.
FIG. 4 is a characteristic diagram showing the relationship between the distance D and the occurrence rate of the wiggle in the embodiment of FIG.
【0010】図1〜図3において、基板1は、アルティ
ック(Al2 O3 −Ti C)等のセラミックで形成され
ており、その上に絶縁膜2が形成されている。絶縁膜2
は、アルミナ(Al2 O3 )を用い、スパッタ法によっ
て形成されている。[0010] 1 to 3, the substrate 1, AlTiC (Al 2 O 3 -T i C ) ceramic is formed in such insulating film 2 is formed thereon. Insulating film 2
Is formed by sputtering using alumina (Al 2 O 3 ).
【0011】絶縁膜2の上には、パーマロイ(Ni F
e)を用いてメッキ法によって形成した下部磁性膜3が
形成されており、さらにその上に、アルミナ(Al2 O
3 )を用いてスパッタ法によって成膜したギャップ膜4
が形成されている。[0011] on the insulating film 2, Permalloy (N i F
e), a lower magnetic film 3 formed by a plating method is formed, and alumina (Al 2 O) is further formed thereon.
3 ) Gap film 4 formed by sputtering method
Are formed.
【0012】ギャップ膜4の上には、銅(Cu)を用い
てめっき法で形成したコイル5が形成されており、コイ
ル5の層間を絶縁するための層間絶縁膜(コイル絶縁
膜)6は、フォトレジストに熱硬化処理を施して形成し
てある。On the gap film 4, a coil 5 formed by plating using copper (Cu) is formed, and an interlayer insulating film (coil insulating film ) for insulating between layers of the coil 5 is formed.
The film 6 is formed by subjecting a photoresist to a thermosetting treatment.
【0013】層間絶縁膜6の上の上部磁性膜7は、下部
磁性膜3と同様に、 パーマロイ(Ni Fe)を用いて
メッキ法によって形成されており、更にその上に、第三
の磁性層である磁性膜8が形成されている。[0013] upper magnetic layer 7 on the interlayer insulating film 6, similar to the lower magnetic film 3, using a permalloy (N i Fe) is formed by a plating method, further thereon, a third magnetic A magnetic film 8 as a layer is formed.
【0014】磁性膜8の材質は、飽和磁束密度(Bs)
の高い材料であれば何でもよいが、本実施例では、製造
上の簡便さから、上部磁性膜7と同じパーマロイ(Ni
Fe)を用いている。The material of the magnetic film 8 is a saturation magnetic flux density (Bs).
Although may be any material having high, in the present embodiment, the ease of manufacturing, the same permalloy (N i and the upper magnetic film 7
Fe) is used.
【0015】更にコイル5との間で信号を送受するため
の端子(図示省略)と、リード10とを形成し、これら
の全体を保護膜9で覆って薄膜磁気ヘッドとしている。Further, terminals (not shown) for transmitting and receiving signals to and from the coil 5 and leads 10 are formed, and the whole of these is covered with a protective film 9 to form a thin-film magnetic head.
【0016】下部磁性膜3と上部磁性膜7とは、コイル
5の後方(図3参照)では直接結合しているが、基板1
の端面の空気ベアリング面11側では、それらの間にギ
ャップ膜4が介在している。The lower magnetic film 3 and the upper magnetic film 7 are directly coupled behind the coil 5 (see FIG. 3).
The gap film 4 is interposed between them on the air bearing surface 11 side of the end surface.
【0017】これらの下部磁性膜3と上部磁性膜7との
間を、渦巻状に形成されたコイル5が通過して磁気回路
を構成している。A spirally formed coil 5 passes between the lower magnetic film 3 and the upper magnetic film 7 to constitute a magnetic circuit.
【0018】上部磁性膜7の上には磁性膜8が形成され
ていて、見掛け上の上部磁性膜7の厚さを厚くしている
が、その先端の位置は、空気ベアリング面11から距離
Dの位置となっている。A magnetic film 8 is formed on the upper magnetic film 7 to increase the apparent thickness of the upper magnetic film 7, but its tip is located at a distance D from the air bearing surface 11. Position.
【0019】磁性膜8を形成した目的は、上部磁性膜7
の断面積を増大させることにより、コイル5に電流を流
したときに発生する磁束の磁気飽和を回避し、電磁変換
効率を向上させるためである。The purpose of forming the magnetic film 8 is to form the upper magnetic film 7
Is to avoid magnetic saturation of magnetic flux generated when a current flows through the coil 5 and improve electromagnetic conversion efficiency.
【0020】このように、上部磁性膜7の上に磁性膜8
を形成し、その先端の空気ベアリング面11から距離D
を 12μm≦D≦16μmとすると、ウィグルの発生
を抑制することが可能となる。As described above, the magnetic film 8 is formed on the upper magnetic film 7.
And a distance D from the air bearing surface 11 at the tip thereof.
When 12 μm ≦ D ≦ 16 μm, it is possible to suppress the occurrence of wiggle.
【0021】即ち、距離Dを10μmおよび13μmお
よび16μmおよび19μmとし、書込み読出し動作を
50回行って読出し電圧の平均値をX、その標準偏差を
δとし、(δ/X)×100%として算出したウィグル
の発生割合は、図4の曲線21に示すように、D=13
μmの近傍で極小値となる。従って、製造上の歩留りを
考慮して12μm≦D≦16μmに設定すると、ウィグ
ルの発生割合を1.05%以下にすることができる。ウ
ィグルの発生割合が1.10%程度以下でもよい場合
は、10μm≦D≦18μmに設定することができる。That is, the distance D is set to 10 μm, 13 μm, 16 μm, and 19 μm, and the write / read operation is performed 50 times to calculate the average value of the read voltage as X, the standard deviation as δ, and (δ / X) × 100%. As shown by the curve 21 in FIG.
It has a local minimum near μm. Therefore, when setting 12 μm ≦ D ≦ 16 μm in consideration of the production yield, the wiggle generation rate can be reduced to 1.05% or less. When the wiggle generation ratio may be about 1.10% or less, it is possible to set 10 μm ≦ D ≦ 18 μm.
【0022】[0022]
【発明の効果】以上説明したように、本発明の薄膜磁気
ヘッドは、上部磁性膜の上に第三の磁性層を形成し、そ
の先端の基板の端面の空気ベアリング面からの距離Dを
所定の寸法の範囲内(例えば、12μm≦D≦16μ
m)とすることにより、ウィグルの発生割合を所望の値
以下に抑制することが可能になるという効果がある。As described above, in the thin-film magnetic head of the present invention, the third magnetic layer is formed on the upper magnetic film, and the distance D from the air bearing surface of the end surface of the substrate at the tip is determined. (For example, 12 μm ≦ D ≦ 16 μ)
By setting m), there is an effect that the generation rate of the wiggle can be suppressed to a desired value or less.
【図1】本発明の一実施例を示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of the present invention.
【図2】図1の実施例の平面図である。FIG. 2 is a plan view of the embodiment of FIG.
【図3】図1の実施例のA−A線断面図である。FIG. 3 is a sectional view taken along line AA of the embodiment of FIG. 1;
【図4】図1の実施例の距離Dとウィグルの発生割合と
の関係を示す特性図である。FIG. 4 is a characteristic diagram showing a relationship between a distance D and a wiggle occurrence rate in the embodiment of FIG. 1;
1 基板 2 絶縁膜 3 下部磁性膜 4 ギャップ膜 5 コイル 6 層間絶縁膜 7 上部磁性膜 8 磁性膜 9 保護膜 10 リード 11 空気ベアリング面 21 曲線 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 Insulating film 3 Lower magnetic film 4 Gap film 5 Coil 6 Interlayer insulating film 7 Upper magnetic film 8 Magnetic film 9 Protective film 10 Lead 11 Air bearing surface 21 Curve
Claims (2)
ャップ膜および層間絶縁層を有するコイルおよび上部磁
性膜を順次に積層した薄膜磁気ヘッドにおいて、上記上
部磁性膜の上に第三の磁性層を設け、前記基板の側面の
空気ベアリング面から前記第三の磁性層の端部までの距
離Dを 10μm<D≦18μm としたことを特徴と
する薄膜磁気ヘッド。1. A thin-film magnetic head obtained by sequentially stacking a coil and the upper magnetic film having a substrate lower magnetic film and formic <br/> cap film and an interlayer insulating layer on one face of, on the upper magnetic film the third magnetic layer is provided, a thin film magnetic head is characterized in that the distance D from the air bearing surface side of said substrate to an end portion of the third magnetic layer was changed to 10 [mu] m <D ≦ 18 [mu] m to.
ャップ膜および層間絶縁層を有するコイルおよび上部磁
性膜を順次に積層した薄膜磁気ヘッドにおいて、上記上
部磁性膜の上に第三の磁性層を設け、前記基板の側面の
空気ベアリング面から前記第三の磁性層の端部までの距
離Dを 12μm≦D≦16μm としたことを特徴と
する薄膜磁気ヘッド。2. A method according to claim 1 , wherein the lower magnetic film and the giant magnetic layer
Coil having cap film and interlayer insulating layer and upper magnet
In a thin film magnetic head in which conductive films are sequentially laminated,
A third magnetic layer is provided on the partial magnetic film, and a third magnetic layer is provided on a side surface of the substrate.
Wherein the air bearing surface and the third thin film magnetic head you <br/> characterized in that the distance <br/> away D to the end of the magnetic layer was changed to 12 [mu] m ≦ D ≦ 16 [mu] m.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6028743A JP2747216B2 (en) | 1994-02-28 | 1994-02-28 | Thin film magnetic head |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6028743A JP2747216B2 (en) | 1994-02-28 | 1994-02-28 | Thin film magnetic head |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07240008A JPH07240008A (en) | 1995-09-12 |
JP2747216B2 true JP2747216B2 (en) | 1998-05-06 |
Family
ID=12256908
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6028743A Expired - Lifetime JP2747216B2 (en) | 1994-02-28 | 1994-02-28 | Thin film magnetic head |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2747216B2 (en) |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0371408A (en) * | 1989-08-09 | 1991-03-27 | Nec Corp | Thin-film head |
JPH04143912A (en) * | 1990-10-04 | 1992-05-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Production of thin-film magnetic head |
JPH0536027A (en) * | 1991-07-31 | 1993-02-12 | Sony Corp | Thin-film head |
-
1994
- 1994-02-28 JP JP6028743A patent/JP2747216B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH07240008A (en) | 1995-09-12 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19980113 |