JP2657726B2 - 耐放射線光ファイバおよびイメージファイバ - Google Patents
耐放射線光ファイバおよびイメージファイバInfo
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Landscapes
- Glass Compositions (AREA)
- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、ＧｅＯ2 をコアとす
る光ファイバおよびイメージファイバの改良に関するも
ので、耐放射線特性に優れたものを提供する。
る光ファイバおよびイメージファイバの改良に関するも
ので、耐放射線特性に優れたものを提供する。
【０００２】
【従来の技術】センサー用やライトガイド用の光ファイ
バおよびイメージファイバとして、純粋なＧｅＯ2 をコ
アとするものが使用されている。その理由は、超高ＮＡ
のファイバが得られるからで、この特徴を生かしてイメ
ージファイバにおいては極細径のものが得られており、
ライトガイドにおいては多量の光の効率良い伝送が行わ
れている。
バおよびイメージファイバとして、純粋なＧｅＯ2 をコ
アとするものが使用されている。その理由は、超高ＮＡ
のファイバが得られるからで、この特徴を生かしてイメ
ージファイバにおいては極細径のものが得られており、
ライトガイドにおいては多量の光の効率良い伝送が行わ
れている。
【０００３】
【発明が解消しようとする課題】しかしながら、近年各
種ファイバを放射線雰囲気で使用する機会が増し、上記
ＧｅＯ2 コアのファイバの使用についても期待が増大し
てきた。ところが、このＧｅＯ2 ガラスは放射線特性が
低く、比較的低線量のγ線で着色し使用に耐え得ないと
いう問題があった。
種ファイバを放射線雰囲気で使用する機会が増し、上記
ＧｅＯ2 コアのファイバの使用についても期待が増大し
てきた。ところが、このＧｅＯ2 ガラスは放射線特性が
低く、比較的低線量のγ線で着色し使用に耐え得ないと
いう問題があった。
【０００４】
【課題を解決するための手段】この発明は、以上の観点
にたってなされたもので、その特徴とする請求項１記載
の発明は、少なくともＯＨ基を３００ｐｐｍ含むＧｅＯ
2 コアからなることにある。また、その特徴とする請求
項２記載の発明は、画素を構成するコアが少なくともＯ
Ｈ基を３００ｐｐｍ含むことにある。ここで、ＯＨ基を
少なくとも３００ｐｐｍ含むとしたのは、これによって
γ線を１０6 Ｒ照射しても、その損失増加量が５０ｄＢ
／ｋｍ以下に押えられるからである。
にたってなされたもので、その特徴とする請求項１記載
の発明は、少なくともＯＨ基を３００ｐｐｍ含むＧｅＯ
2 コアからなることにある。また、その特徴とする請求
項２記載の発明は、画素を構成するコアが少なくともＯ
Ｈ基を３００ｐｐｍ含むことにある。ここで、ＯＨ基を
少なくとも３００ｐｐｍ含むとしたのは、これによって
γ線を１０6 Ｒ照射しても、その損失増加量が５０ｄＢ
／ｋｍ以下に押えられるからである。
【０００５】
【作用】コアとなるＧｅＯ2 にＯＨ基を３００ｐｐｍ含
ませることによって、コアークラッド間の屈折率差を大
きくとれるという本来の特徴を維持しつつ、放射線特性
の改善がなされる。
ませることによって、コアークラッド間の屈折率差を大
きくとれるという本来の特徴を維持しつつ、放射線特性
の改善がなされる。
【０００６】
実施例１ 図１は、この発明による光ファイバの断面図で、１はコ
アでＧｅＯ2 にＯＨ基が４００ｐｐｍ含有されたもの
で、その屈折率は１、６１である。２はフッ素ドープＳ
ｉＯ2 クラッドで、その屈折率は１、４４である。かく
して、コアークラッド間の比屈折率差△＝１０％と超高
ＮＡである。また、そのγ線特性は総線量１０6 Ｒにお
いても損失増加量が４０ｄＢ／ｋｍと優れたものであ
る。このファイバの製法の一例をあげる。まず、通常の
ＶＡＤ法によってＧｅＯ2のスートプリフォームを作製
する。具体的には、同心多重管バーナの中心にＧｅＣｌ
4 を２００ｓｃｃｍ，２層目にＡｒを３００ｓｃｃｍ、
３層目にＨ2 を１０００ｓｃｃｍ、４層目にＯ2 を１５
００ｓｃｃｍ供給して低温合成によって、出発部材であ
る石英ロッドの先端に純粋ＧｅＯ2 からなる直径２０ｍ
ｍのスートプリフォームを堆積させる。このプリフォー
ムを最高温度１２００℃の水蒸気雰囲気の加熱炉内に入
れ傾斜焼結して屈折率が１、６６のＯＨ基を４００ｐｐ
ｍ含んだ透明なコア母材とした。次に、この透明母材の
周りに外付け法によりＳｉＯ2 のスート層を１５ｍｍ厚
に形成し、これを最高温度１３００℃の加熱炉内に入
れ、炉内にＳｉＦ4 ガスを３０ｃｃ供給しつつ傾斜焼結
して、屈折率が１、４４の透明なフッ素がドープされた
３０ＳｉＯ2 クラッド層を有する外径２０ｍｍのコアー
クラッド型のロッド（両者の比屈折率差△＝１０％）と
した。こうして得られたロッドを線引き炉に導入して、
その先端を１４００℃に加熱してファイバ化して直径２
００μｍの光ファイバとした。このファイバに１０6 Ｒ
のγ線を照射したところその損失増加量は４０ｄＢ／ｋ
ｍであった。
アでＧｅＯ2 にＯＨ基が４００ｐｐｍ含有されたもの
で、その屈折率は１、６１である。２はフッ素ドープＳ
ｉＯ2 クラッドで、その屈折率は１、４４である。かく
して、コアークラッド間の比屈折率差△＝１０％と超高
ＮＡである。また、そのγ線特性は総線量１０6 Ｒにお
いても損失増加量が４０ｄＢ／ｋｍと優れたものであ
る。このファイバの製法の一例をあげる。まず、通常の
ＶＡＤ法によってＧｅＯ2のスートプリフォームを作製
する。具体的には、同心多重管バーナの中心にＧｅＣｌ
4 を２００ｓｃｃｍ，２層目にＡｒを３００ｓｃｃｍ、
３層目にＨ2 を１０００ｓｃｃｍ、４層目にＯ2 を１５
００ｓｃｃｍ供給して低温合成によって、出発部材であ
る石英ロッドの先端に純粋ＧｅＯ2 からなる直径２０ｍ
ｍのスートプリフォームを堆積させる。このプリフォー
ムを最高温度１２００℃の水蒸気雰囲気の加熱炉内に入
れ傾斜焼結して屈折率が１、６６のＯＨ基を４００ｐｐ
ｍ含んだ透明なコア母材とした。次に、この透明母材の
周りに外付け法によりＳｉＯ2 のスート層を１５ｍｍ厚
に形成し、これを最高温度１３００℃の加熱炉内に入
れ、炉内にＳｉＦ4 ガスを３０ｃｃ供給しつつ傾斜焼結
して、屈折率が１、４４の透明なフッ素がドープされた
３０ＳｉＯ2 クラッド層を有する外径２０ｍｍのコアー
クラッド型のロッド（両者の比屈折率差△＝１０％）と
した。こうして得られたロッドを線引き炉に導入して、
その先端を１４００℃に加熱してファイバ化して直径２
００μｍの光ファイバとした。このファイバに１０6 Ｒ
のγ線を照射したところその損失増加量は４０ｄＢ／ｋ
ｍであった。
【０００７】実施例２ 図２は、この発明のイメージファイバの断面図で、１０
はイメージサークル、１２はこのイメージサークルを囲
む石英ジャケットである。２０はイメージサークルを構
成する多数の画素で、ＯＨ基を４００ｐｐｍ含むＧｅＯ
2 コア２２の周りにフッ素ドーブ石英ガラスクラッド２
４が形成されてなるもので、クラッドは点線で示したが
実際には隣接するクラッド同志は溶融一体化されてい
る。なお、コア２２の屈折率は１、６１であり、クラッ
ドの屈折率はフッ素がドープされて１、４４であり、結
局のところコアークラッド間の比屈折率差はおよそ１０
％にされている。このイメージファイバは、以下の方法
により作製した。イメージファイバ素線を得るところま
では実施例１と同様で、ただ得られる素線径を３００μ
ｍとした。このイメージファイバ素線２５００本を内径
１７ｍｍ、外径１９ｍｍの石英ガラス管内に入れてイメ
ージファイバ母材となし、これを線引き炉に導入して、
その先端を１８００℃に加熱して線引きし、直径１９０
μｍのイメージファイバとした。このイメージファイバ
は従来のそれと比較すると、コアークラッド間の比屈折
率差が従来よりも５％程度大きいため、全体の径を従来
よりも３０％程度減じても従来同様鮮明な画像が得られ
た。また、このイメージファイバに１０6 Ｒのγ線を照
射したがその損失増加量は３５ｄＢ／ｋｍであった。
はイメージサークル、１２はこのイメージサークルを囲
む石英ジャケットである。２０はイメージサークルを構
成する多数の画素で、ＯＨ基を４００ｐｐｍ含むＧｅＯ
2 コア２２の周りにフッ素ドーブ石英ガラスクラッド２
４が形成されてなるもので、クラッドは点線で示したが
実際には隣接するクラッド同志は溶融一体化されてい
る。なお、コア２２の屈折率は１、６１であり、クラッ
ドの屈折率はフッ素がドープされて１、４４であり、結
局のところコアークラッド間の比屈折率差はおよそ１０
％にされている。このイメージファイバは、以下の方法
により作製した。イメージファイバ素線を得るところま
では実施例１と同様で、ただ得られる素線径を３００μ
ｍとした。このイメージファイバ素線２５００本を内径
１７ｍｍ、外径１９ｍｍの石英ガラス管内に入れてイメ
ージファイバ母材となし、これを線引き炉に導入して、
その先端を１８００℃に加熱して線引きし、直径１９０
μｍのイメージファイバとした。このイメージファイバ
は従来のそれと比較すると、コアークラッド間の比屈折
率差が従来よりも５％程度大きいため、全体の径を従来
よりも３０％程度減じても従来同様鮮明な画像が得られ
た。また、このイメージファイバに１０6 Ｒのγ線を照
射したがその損失増加量は３５ｄＢ／ｋｍであった。
【０００８】
【発明の効果】この発明による光ファイバ及びイメージ
ファイバは、コアが３００ｐｐｍのＯＨ基を含んだＧｅ
Ｏ2 ガラスからなるため、コアークラッド間の比屈折率
差を大きくとることができるという本来の利点を損なう
ことなく耐放射線特性を向上させることができる。
ファイバは、コアが３００ｐｐｍのＯＨ基を含んだＧｅ
Ｏ2 ガラスからなるため、コアークラッド間の比屈折率
差を大きくとることができるという本来の利点を損なう
ことなく耐放射線特性を向上させることができる。
【図１】この発明の光ファイバの断面図。
【図２】この発明のイメージファイバの断面図。
１ ＯＨ基を含んだＧｅＯ2 コア ２ フッ素ドープＳｉＯ2 クラッド １０ イメージサークル １２ ジャケット ２０ 画素 ２２ ＯＨ基を含んだＧｅＯ2 コア ２４ フッ素ドープＳｉＯ2 クラッド
Claims (2)
- 【請求項１】 少なくともＯＨ基を３００ｐｐｍ含むＧ
ｅＯ2 コアからなることを特徴とする耐放射線光ファイ
バ。 - 【請求項２】 画素を構成するコアが少なくともＯＨ基
を３００ｐｐｍ含むことを特徴とする耐放射線イメージ
ファイバ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3332837A JP2657726B2 (ja) | 1991-11-22 | 1991-11-22 | 耐放射線光ファイバおよびイメージファイバ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3332837A JP2657726B2 (ja) | 1991-11-22 | 1991-11-22 | 耐放射線光ファイバおよびイメージファイバ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05229846A JPH05229846A (ja) | 1993-09-07 |
| JP2657726B2 true JP2657726B2 (ja) | 1997-09-24 |
Family
ID=18259355
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3332837A Expired - Fee Related JP2657726B2 (ja) | 1991-11-22 | 1991-11-22 | 耐放射線光ファイバおよびイメージファイバ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2657726B2 (ja) |
-
1991
- 1991-11-22 JP JP3332837A patent/JP2657726B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05229846A (ja) | 1993-09-07 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |