JP2646266B2 - アルコキシニトリル化合物の製法 - Google Patents
アルコキシニトリル化合物の製法Info
- Publication number
- JP2646266B2 JP2646266B2 JP1138065A JP13806589A JP2646266B2 JP 2646266 B2 JP2646266 B2 JP 2646266B2 JP 1138065 A JP1138065 A JP 1138065A JP 13806589 A JP13806589 A JP 13806589A JP 2646266 B2 JP2646266 B2 JP 2646266B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- mmol
- alkyl group
- aryl group
- following formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、アルコキシニトリル化合物の新規な製法に
関する。
関する。
カルボニル化合物のシアノ化反応は、炭素−炭素結合
生成反応の一つとして有機合成上重要である。この反応
におけるシアノ化剤としては種々の化合物が開発されて
いるが、中でも次式（II） （式中、R4、R5及びR6は、それぞれ同一でも異なっても
よく、アルキル基またはアリール基を示す） で表わされるシリルシアニド化合物は有機合成における
有用な試薬のひとつであり、種々の化合物（アルデヒ
ド、ケトン、エポキシド等）のシアノ化剤として利用さ
れている〔例えば、W.C.Groutas and D.Felker,Synthes
is,1980,861;D.A.Evans,L.K.Truesdale,and G.L.Carrol
l,J.Chem.Soc.,Chem.Commun.,1973,55;J.C.Mullis and
W.P.Weber,J.Org.Chem.,47,2873（1982）〕。このシリ
ルシアニド化合物（II）は保護されたカルボニル化合物
であるアセタールやケタールのシアノ化にも応用され、
これによって種々の天然物、医薬品等の合成原料として
有用な化合物であるα−アルコキシニトリル化合物を合
成することができる〔例えば、K.Utimoto,Y.Wakabayash
i,Y.Shishiyama,M.Inoue and H.Nozaki,Tetrahedron Le
tt.,22,4279（1981）;K.Utimoto,Y.Wakabayashi,T.Hori
ie,M.Inoue,Y.Shishiyama,M.Obayashi and H.Nozaki,Te
trahedron,39,967（1983）〕。しかし、これらシリルシ
アニド化合物を用いるシアノ化反応は、一般に四酸化チ
タン、四塩化スズ、ヨウ化亜鉛等のルイス酸触媒の存在
下で実施するものであり、酸性的反応条件が必要であ
る。このため、酸に対して不安定な化合物の合成には適
用が困難である。更に、テトラヒドロフラン、ジメチル
ホルムアミド等のルイス塩基となり得るエーテル、アミ
ド系等の反応溶媒の使用が困難であるという問題も有し
ている。
生成反応の一つとして有機合成上重要である。この反応
におけるシアノ化剤としては種々の化合物が開発されて
いるが、中でも次式（II） （式中、R4、R5及びR6は、それぞれ同一でも異なっても
よく、アルキル基またはアリール基を示す） で表わされるシリルシアニド化合物は有機合成における
有用な試薬のひとつであり、種々の化合物（アルデヒ
ド、ケトン、エポキシド等）のシアノ化剤として利用さ
れている〔例えば、W.C.Groutas and D.Felker,Synthes
is,1980,861;D.A.Evans,L.K.Truesdale,and G.L.Carrol
l,J.Chem.Soc.,Chem.Commun.,1973,55;J.C.Mullis and
W.P.Weber,J.Org.Chem.,47,2873（1982）〕。このシリ
ルシアニド化合物（II）は保護されたカルボニル化合物
であるアセタールやケタールのシアノ化にも応用され、
これによって種々の天然物、医薬品等の合成原料として
有用な化合物であるα−アルコキシニトリル化合物を合
成することができる〔例えば、K.Utimoto,Y.Wakabayash
i,Y.Shishiyama,M.Inoue and H.Nozaki,Tetrahedron Le
tt.,22,4279（1981）;K.Utimoto,Y.Wakabayashi,T.Hori
ie,M.Inoue,Y.Shishiyama,M.Obayashi and H.Nozaki,Te
trahedron,39,967（1983）〕。しかし、これらシリルシ
アニド化合物を用いるシアノ化反応は、一般に四酸化チ
タン、四塩化スズ、ヨウ化亜鉛等のルイス酸触媒の存在
下で実施するものであり、酸性的反応条件が必要であ
る。このため、酸に対して不安定な化合物の合成には適
用が困難である。更に、テトラヒドロフラン、ジメチル
ホルムアミド等のルイス塩基となり得るエーテル、アミ
ド系等の反応溶媒の使用が困難であるという問題も有し
ている。
かかる実情において本発明者らは、有機合成で繁用さ
れる優れた溶媒であるテトラヒドロフラン、ジメチルホ
ルムアミド等の反応溶媒が自由に使用でき、なおかつ酸
に対して不安定な化合物の合成にも適用可能な、中性条
件下で進行するアセタール類のシアノ化反応を開発せん
と鋭意研究を行った結果、本発明を完成した。
れる優れた溶媒であるテトラヒドロフラン、ジメチルホ
ルムアミド等の反応溶媒が自由に使用でき、なおかつ酸
に対して不安定な化合物の合成にも適用可能な、中性条
件下で進行するアセタール類のシアノ化反応を開発せん
と鋭意研究を行った結果、本発明を完成した。
すなわち本発明は、次式（Ｉ） （式中、R1は置換基を有していてもよいアルキル基、R2
は置換基を有していてもよい１−アルケニル基またはア
リール基、R3は水素原子または置換基を有していてもよ
いアルキル基、アルコキシル基もしくはアリール基を示
す） で表わされるアセタール、ケタールまたはオルトエステ
ル類と、前記式（II）で表わされるシリルシアニド化合
物とを、触媒量の次式（III） MXn （III） 〔式中、Ｍは遷移金属、Ｘはハロゲン原子、基 （R7、R8及びR9はそれぞれ同一でも異なってもよく、水
素原子、アルキル基またはアリール基を示す）、ｎは１
〜３の整数を示す〕 で表わされる遷移金属化合物の存在下で反応せしめるこ
とを特徴とする次式（IV） （式中、R1及びR2は前記と同じ意味を示し、R10は水素
原子、シアノ基または置換基を有していてもよいアルキ
ル基、アルコキシル基もしくはアリール基を示す） で表わされるアルコキシニトリル化合物の製法を提供す
るものである。
は置換基を有していてもよい１−アルケニル基またはア
リール基、R3は水素原子または置換基を有していてもよ
いアルキル基、アルコキシル基もしくはアリール基を示
す） で表わされるアセタール、ケタールまたはオルトエステ
ル類と、前記式（II）で表わされるシリルシアニド化合
物とを、触媒量の次式（III） MXn （III） 〔式中、Ｍは遷移金属、Ｘはハロゲン原子、基 （R7、R8及びR9はそれぞれ同一でも異なってもよく、水
素原子、アルキル基またはアリール基を示す）、ｎは１
〜３の整数を示す〕 で表わされる遷移金属化合物の存在下で反応せしめるこ
とを特徴とする次式（IV） （式中、R1及びR2は前記と同じ意味を示し、R10は水素
原子、シアノ基または置換基を有していてもよいアルキ
ル基、アルコキシル基もしくはアリール基を示す） で表わされるアルコキシニトリル化合物の製法を提供す
るものである。
本発明方法で原料として用いられる化合物（Ｉ）にお
いて、R1のアルキル基としては、炭素数１〜８のもの、
特にメチル基、エチル基、ブチル基等が好ましく、その
置換基としてはフェニル基等のアリール基、フッ素、塩
素、臭素等のハロゲン原子などが好ましい。R2の１−ア
ルケニル基としては、炭素数２〜20のものが好ましく、
中でも次式 （式中、R11、R12及びR13はそれぞれ水素原子、炭素数
１〜８のアルキル基またはアリール基を示す） で表わされる基、特にアリール基で置換されてもよいビ
ニル基、１−プロペニル基、１−ブテニル基、１−ペン
テニル基等が好ましい。R2のアリール基としてはフェニ
ル基、ナフチル基等が好ましく、その置換基としてはフ
ッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子、炭素数１〜８のア
ルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、アリールオ
キシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリール
オキシカルボニル基等、特にメトキシル基、エトキシル
基等が好ましい。またR3のアルキル基としては炭素数１
〜８のもの、特にメチル基、エチル基、ブチル基等が好
ましい。R3のアルコキシル基としては炭素数１〜８のも
の、特にメトキシル基、エトキシル基、ブトキシル基等
が好ましい。更にR3のアリール基としてはフェニル基、
ナフチル基等が好ましい。
いて、R1のアルキル基としては、炭素数１〜８のもの、
特にメチル基、エチル基、ブチル基等が好ましく、その
置換基としてはフェニル基等のアリール基、フッ素、塩
素、臭素等のハロゲン原子などが好ましい。R2の１−ア
ルケニル基としては、炭素数２〜20のものが好ましく、
中でも次式 （式中、R11、R12及びR13はそれぞれ水素原子、炭素数
１〜８のアルキル基またはアリール基を示す） で表わされる基、特にアリール基で置換されてもよいビ
ニル基、１−プロペニル基、１−ブテニル基、１−ペン
テニル基等が好ましい。R2のアリール基としてはフェニ
ル基、ナフチル基等が好ましく、その置換基としてはフ
ッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子、炭素数１〜８のア
ルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、アリールオ
キシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリール
オキシカルボニル基等、特にメトキシル基、エトキシル
基等が好ましい。またR3のアルキル基としては炭素数１
〜８のもの、特にメチル基、エチル基、ブチル基等が好
ましい。R3のアルコキシル基としては炭素数１〜８のも
の、特にメトキシル基、エトキシル基、ブトキシル基等
が好ましい。更にR3のアリール基としてはフェニル基、
ナフチル基等が好ましい。
かかる化合物（Ｉ）は、対応するカルボニル化合物か
ら常法により容易に合成することができる。例えば、対
応するアルデヒドをメタノール中、ｐ−トルエンスルホ
ン酸等の酸触媒の存在下、オルトギ酸メチルと反応させ
ることにより、対応するジメチルアセタールを合成でき
る。
ら常法により容易に合成することができる。例えば、対
応するアルデヒドをメタノール中、ｐ−トルエンスルホ
ン酸等の酸触媒の存在下、オルトギ酸メチルと反応させ
ることにより、対応するジメチルアセタールを合成でき
る。
本発明方法でシアノ化剤として用いられるシリルシア
ニド化合物（II）におけるR4、R5及びR6は、アルキル基
としては炭素数１〜８のもの、特にメチル基、エチル
基、ｔ−ブチル基等が好ましく、アリール基としてはフ
ェニル基、ナフチル基等が好ましい。このようなシリル
シアニド化合物（II）としては、トリメチルシリルシア
ニド（以下TMS−CNと称す。）、第三ブチルジメチルシ
リルシアニド（以下TBS−CNと称す。）、ジメチルフェ
ニルシリルシアニド等が挙げられる。
ニド化合物（II）におけるR4、R5及びR6は、アルキル基
としては炭素数１〜８のもの、特にメチル基、エチル
基、ｔ−ブチル基等が好ましく、アリール基としてはフ
ェニル基、ナフチル基等が好ましい。このようなシリル
シアニド化合物（II）としては、トリメチルシリルシア
ニド（以下TMS−CNと称す。）、第三ブチルジメチルシ
リルシアニド（以下TBS−CNと称す。）、ジメチルフェ
ニルシリルシアニド等が挙げられる。
また、本発明方法で触媒として用いられる遷移金属化
合物（III）における遷移金属Ｍとしては、例えばコバ
ルト、ニッケル、パラジウム等が好ましく、Ｘのハロゲ
ン原子としては、例えばフッ素、塩素、臭素等が好まし
い。このような遷移金属化合物（III）としては、例え
ばNiCl2、Ni（acac）２（acacはアセチルアセトネート
を示す。以下同じ。）、Ni（OAc）２（Acはアセチル基
を示す。以下同じ。）、CoCl2、Co（acac）２、PdCl2、
Pd（acac）２、等が好ましい。これらの触媒は従来使用
されていたルイス酸類とは異なり中性化合物であるの
で、中性条件下でシアノ化反応を実施することができ、
酸性的反応条件を回避することができる。
合物（III）における遷移金属Ｍとしては、例えばコバ
ルト、ニッケル、パラジウム等が好ましく、Ｘのハロゲ
ン原子としては、例えばフッ素、塩素、臭素等が好まし
い。このような遷移金属化合物（III）としては、例え
ばNiCl2、Ni（acac）２（acacはアセチルアセトネート
を示す。以下同じ。）、Ni（OAc）２（Acはアセチル基
を示す。以下同じ。）、CoCl2、Co（acac）２、PdCl2、
Pd（acac）２、等が好ましい。これらの触媒は従来使用
されていたルイス酸類とは異なり中性化合物であるの
で、中性条件下でシアノ化反応を実施することができ、
酸性的反応条件を回避することができる。
更に、本発明方法において用いられる反応溶媒として
は、例えば塩化メチレン、トルエン、アセトニトリル、
ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン
（以下THFと称す。）、N,N−ジメチルホルムアミド（以
下DMFと称す。）等が挙げられる。
は、例えば塩化メチレン、トルエン、アセトニトリル、
ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン
（以下THFと称す。）、N,N−ジメチルホルムアミド（以
下DMFと称す。）等が挙げられる。
次に一般的な反応操作について説明する。まず、溶媒
中に、原料（Ｉ）に対して１〜10モル％程度の触媒（II
I）を溶解または懸濁させておき、室温（５〜30℃）に
おいて1.2〜1.5倍モル程度のシアノ化剤（II）を加え10
分〜３時間程度撹拌した後、原料（Ｉ）を加え、室温に
おいて１〜60時間（原料の種類により反応時間は異な
る）撹拌する。反応終了後、リン酸緩衝液（pH＝７）、
炭酸水素ナトリウム水溶液などを加えて、適当な有機溶
媒で抽出する。溶媒留去後、シリカゲル薄層クロマトグ
ラフィー、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等で精
製することにより、目的物であるα−アルコキシニトリ
ル化合物が得られる。
中に、原料（Ｉ）に対して１〜10モル％程度の触媒（II
I）を溶解または懸濁させておき、室温（５〜30℃）に
おいて1.2〜1.5倍モル程度のシアノ化剤（II）を加え10
分〜３時間程度撹拌した後、原料（Ｉ）を加え、室温に
おいて１〜60時間（原料の種類により反応時間は異な
る）撹拌する。反応終了後、リン酸緩衝液（pH＝７）、
炭酸水素ナトリウム水溶液などを加えて、適当な有機溶
媒で抽出する。溶媒留去後、シリカゲル薄層クロマトグ
ラフィー、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等で精
製することにより、目的物であるα−アルコキシニトリ
ル化合物が得られる。
以下、実施例を挙げて更に詳細に説明するが、本発明
はこれらに限定されるものではない。
はこれらに限定されるものではない。
実施例１ （Ｅ）−２−メトキシ−４−フェニル−３−ブテンニト
リルの製造： アルゴン気流下、0.04mmolの二塩化ニッケルを1.5ml
の乾燥した塩化メチレンに懸濁させておき、0.60mmolの
トリメチルシリルシアニドの1.5ml塩化メチレン溶液を
室温にて加え、同温度で30分間撹拌した。次いで0.40mm
olの（Ｅ）−シンナムアルデヒド ジメチルアセタール
の1.0ml塩化メチレン溶液を室温にて加え、同温度で３
時間撹拌した。反応液にpH7のリン酸緩衝液を加えた
後、塩化メチレンで有機物を抽出した。抽出液を無水硫
酸ナトリウムにて乾燥後、ろ過し、ろ液を減圧留去す
る。残分を薄層クロマトグラフィー（展開溶媒，ヘキサ
ン：酢酸エチル＝5:1）にて精製し、標記化合物0.396mm
ol（収率99％）を得た。
リルの製造： アルゴン気流下、0.04mmolの二塩化ニッケルを1.5ml
の乾燥した塩化メチレンに懸濁させておき、0.60mmolの
トリメチルシリルシアニドの1.5ml塩化メチレン溶液を
室温にて加え、同温度で30分間撹拌した。次いで0.40mm
olの（Ｅ）−シンナムアルデヒド ジメチルアセタール
の1.0ml塩化メチレン溶液を室温にて加え、同温度で３
時間撹拌した。反応液にpH7のリン酸緩衝液を加えた
後、塩化メチレンで有機物を抽出した。抽出液を無水硫
酸ナトリウムにて乾燥後、ろ過し、ろ液を減圧留去す
る。残分を薄層クロマトグラフィー（展開溶媒，ヘキサ
ン：酢酸エチル＝5:1）にて精製し、標記化合物0.396mm
ol（収率99％）を得た。
NMR（CDCl3,TMS標準）δppm: 7.23（5H,s）,6.78（1H,d,J＝16Hz）,6.02（1H,dd,J＝6
Hz,16Hz）,4.71（1H,d,J＝6Hz）,3.42（3H,s） 実施例２〜13 実施例１と同じ反応を触媒と溶媒を変更して実施し
た。結果を第１表に示す。反応時間は実施例13が44時間
で、他はすべて３時間である。
Hz,16Hz）,4.71（1H,d,J＝6Hz）,3.42（3H,s） 実施例２〜13 実施例１と同じ反応を触媒と溶媒を変更して実施し
た。結果を第１表に示す。反応時間は実施例13が44時間
で、他はすべて３時間である。
実施例14 ２−メトキシ−２−（ｐ−メトキシフェニル）アセトニ
トリルの製造： 0.40mmolのｐ−メトキシベンズアルデヒドジメチルア
セタールと0.60mmolのTMS−CNとを、0.008mmolのCoCl2
を用い、実施例１と同様にして塩化メチレン中で１時間
反応させ、標記化合物0.36mmolを得た（収率90％）。
トリルの製造： 0.40mmolのｐ−メトキシベンズアルデヒドジメチルア
セタールと0.60mmolのTMS−CNとを、0.008mmolのCoCl2
を用い、実施例１と同様にして塩化メチレン中で１時間
反応させ、標記化合物0.36mmolを得た（収率90％）。
NMR（CCl4,TMS標準）δppm: 7.21（1H,d,J＝8Hz）,6.72（1H,d,J＝8Hz）,4.95（1H,
s）,3.70（3H,s）,3.34（3H,s） 実施例15 ２−エトキシ−２フェニルアセトニトリルの製造： 0.40mmolのベンズアルデヒドジエチルアセタールと0.
60mmolのTMS−CNとを、0.008mmolのCoCl2を用い、実施
例１と同様にして41時間反応させ、標記化合物0.392mmo
lを得た（収率98％）。
s）,3.70（3H,s）,3.34（3H,s） 実施例15 ２−エトキシ−２フェニルアセトニトリルの製造： 0.40mmolのベンズアルデヒドジエチルアセタールと0.
60mmolのTMS−CNとを、0.008mmolのCoCl2を用い、実施
例１と同様にして41時間反応させ、標記化合物0.392mmo
lを得た（収率98％）。
NMR（CCl4,TMS標準）δppm: 7.25（5H,s）,5.06（1H,s）,3.9−3.2（2H,m）,2.24（3
H,t,J＝7Hz） 実施例16 （Ｅ）−２−メトキシ−３−ヘプテンニトリルの製造： 0.40mmolの（Ｅ）−２−ヘキセナールジメチルアセタ
ールと0.60mmolのTMS−CNとを、0.008mmolのCoCl2を用
い、実施例１と同様にして18時間反応させ、標記化合物
0.384mmolを得た（収率96％）。
H,t,J＝7Hz） 実施例16 （Ｅ）−２−メトキシ−３−ヘプテンニトリルの製造： 0.40mmolの（Ｅ）−２−ヘキセナールジメチルアセタ
ールと0.60mmolのTMS−CNとを、0.008mmolのCoCl2を用
い、実施例１と同様にして18時間反応させ、標記化合物
0.384mmolを得た（収率96％）。
NMR（CCl4,TMS標準）δppm: 5.90（1H,dt,J＝15Hz,7Hz）,5.31（1H,dd,J＝5Hz,15H
z）,4.43（1H,d,J＝5Hz）,3.32（3H,s）,2.3−1.9（2H,
m）,1.7−0.8（5H,m） 実施例17 （Ｅ）−2,4−ジフェニル−２−メトキシ−３−ブテン
ニトリルの製造： 0.40mmolのカルコンジメチルアセタールと0.60mmolの
TMS−CNとを、0.008mmolのCoCl2を用い、実施例１と同
様にして18時間反応させ、標記化合物0.396mmolを得た
（収率99％）。
z）,4.43（1H,d,J＝5Hz）,3.32（3H,s）,2.3−1.9（2H,
m）,1.7−0.8（5H,m） 実施例17 （Ｅ）−2,4−ジフェニル−２−メトキシ−３−ブテン
ニトリルの製造： 0.40mmolのカルコンジメチルアセタールと0.60mmolの
TMS−CNとを、0.008mmolのCoCl2を用い、実施例１と同
様にして18時間反応させ、標記化合物0.396mmolを得た
（収率99％）。
NMR（CCl4,TMS標準）δppm: 7.3−7.0（10H,m）,6.84（1H,d,J＝16Hz）,5.98（1H,d,
J＝16Hz）,3.34（3H,s） 実施例18 2,2−ジフェニル−２−メトキシアセトニトリルの製
造： 0.40mmolのベンゾフェノンジメチルアセタールと0.60
mmolのTMS−CNとを、0.008mmolのCoCl2を用い、実施例
１と同様にして24時間反応させ、標記化合物0.376mmol
を得た（収率94％）。
J＝16Hz）,3.34（3H,s） 実施例18 2,2−ジフェニル−２−メトキシアセトニトリルの製
造： 0.40mmolのベンゾフェノンジメチルアセタールと0.60
mmolのTMS−CNとを、0.008mmolのCoCl2を用い、実施例
１と同様にして24時間反応させ、標記化合物0.376mmol
を得た（収率94％）。
NMR（CCl4,TMS標準）δppm: 7.2（10H,m）,3.31（3H,s） 実施例19 １−エトキシ−３−フェニル−２−プロペン−1,1−ジ
カルボニトリルの製造： 0.40mmolのトリエチル（Ｅ）−オルトシンナメートと
1.20mmolのTMS−CNとを、0.008mmolのCoCl2を用い、実
施例１と同様にして55時間反応させ、標記化合物0.364m
molを得た（収率91％）。
カルボニトリルの製造： 0.40mmolのトリエチル（Ｅ）−オルトシンナメートと
1.20mmolのTMS−CNとを、0.008mmolのCoCl2を用い、実
施例１と同様にして55時間反応させ、標記化合物0.364m
molを得た（収率91％）。
NMR（CCl4,TMS標準）δppm: 7.45（1H,d,J＝16Hz）,7.3−7.1（5H,m）,6.18（1H,d,J
＝16Hz）,3.12（2H,q,J＝7Hz）,1.27（3H,t,J＝7Hz） 〔発明の効果〕 以上のごとく、本発明はα−アルコキシニトリル化合
物の製造方法は、従来のルイス酸を使用する方法と異な
り、THF、エーテル、DMF等のルイス塩基となる反応溶媒
が使用可能である。また、ほぼ中性条件で反応が進行す
るため、酸や塩基に不安定な有機化合物の合成への適用
が可能である。
＝16Hz）,3.12（2H,q,J＝7Hz）,1.27（3H,t,J＝7Hz） 〔発明の効果〕 以上のごとく、本発明はα−アルコキシニトリル化合
物の製造方法は、従来のルイス酸を使用する方法と異な
り、THF、エーテル、DMF等のルイス塩基となる反応溶媒
が使用可能である。また、ほぼ中性条件で反応が進行す
るため、酸や塩基に不安定な有機化合物の合成への適用
が可能である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 255/37 9357−4Ｈ Ｃ０７Ｃ 255/37 // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００
Claims (1)
- 【請求項１】次式（Ｉ） （式中、R1は置換基を有していてもよいアルキル基、R2
は置換基を有していてもよい１−アルケニル基またはア
リール基、R3は水素原子または置換基を有していてもよ
いアルキル基、アルコキシル基もしくはアリール基を示
す） で表わされるアセタール、ケタールまたはオルトエステ
ル類と、次式（II） （式中R4、R5及びR6は、それぞれ同一でも異なってもよ
く、アルキル基またはアリール基を示す） で表わされるシリルシアニド化合物とを、触媒量の次式
（III） MXn （III） 〔式中、Ｍは遷移金属、Ｘはハロゲン原子、基 （R7、R8及びR9はそれぞれ同一でも異なってもよく、水
素原子、アルキル基またはアリール基を示す）、ｎは１
〜３の整数を示す〕 で表わされる遷移金属化合物の存在下で反応せしめるこ
とを特徴とする次式（IV） （式中、R1及びR2は前記と同じ意味を示し、R10は水素
原子、シアノ基または置換基を有していてもよいアルキ
ル基、アルコキシル基もしくはアリール基を示す） で表わされるアルコキシニトリル化合物の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1138065A JP2646266B2 (ja) | 1989-05-31 | 1989-05-31 | アルコキシニトリル化合物の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1138065A JP2646266B2 (ja) | 1989-05-31 | 1989-05-31 | アルコキシニトリル化合物の製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH035447A JPH035447A (ja) | 1991-01-11 |
| JP2646266B2 true JP2646266B2 (ja) | 1997-08-27 |
Family
ID=15213159
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1138065A Expired - Fee Related JP2646266B2 (ja) | 1989-05-31 | 1989-05-31 | アルコキシニトリル化合物の製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2646266B2 (ja) |
-
1989
- 1989-05-31 JP JP1138065A patent/JP2646266B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH035447A (ja) | 1991-01-11 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2646266B2 (ja) | アルコキシニトリル化合物の製法 | |
| JP2652248B2 (ja) | アルコキシニトリル化合物の製法 | |
| JP2579547B2 (ja) | アルコキシカルボニル化合物の製法 | |
| JP2867847B2 (ja) | ５−メチレン−１，３−ジオキソラン−４−オン類の製造方法 | |
| JP3072314B2 (ja) | γ−アルキリデン−γ−ブチロラクトン誘導体の製造方法 | |
| JP2002308818A (ja) | ミカエル−アダクトの製法、および新規アダクト | |
| JP4288372B2 (ja) | アルファーピロン類およびその製造方法 | |
| EP1315712A1 (en) | Intermediates for use in the preparation of vitamin e | |
| JP2883756B2 (ja) | アミノカリックスアレーンとその製造方法 | |
| JP3292559B2 (ja) | カテコール誘導体の製造方法 | |
| JP3819473B2 (ja) | ４，４−ビスハロメチル−３−オキソアルカンカルボン酸誘導体とそれを用いる３−シクロプロピル−３−オキソプロピオン酸誘導体の製造方法 | |
| JPH07267968A (ja) | （ｚ）−３−メチル−２−シクロペンタデセン−１−オンの製造法 | |
| JPH07188092A (ja) | 光学活性ノルボルネン誘導体の製造方法 | |
| JP2001247514A (ja) | α，α−ジフルオロ−β−ケトエステルの製造方法、及びジフルオロケテンシリルアセタールの製造方法、並びに光学活性なα，α−ジフルオロ−β−ヒドロキシエステルの製造方法 | |
| JP2000229903A (ja) | ベンジルフェニルケトン誘導体の製造方法 | |
| JPH0796549B2 (ja) | テトラヒドロピラン−３−オン類の製造法 | |
| JP2003311156A (ja) | 触媒、及びそれを用いたアリル化合物の製法 | |
| JPH0687781A (ja) | アセタール類の製造方法 | |
| JPH0243732B2 (ja) | Shinkinaarudehidokagobutsuoyobisonoseizohoho | |
| JPH0471070B2 (ja) | ||
| JPH05255297A (ja) | 新規なΔ▲α，β▼−ブテノリド誘導体およびその製造方法 | |
| JPS6113698B2 (ja) | ||
| JPH09208566A (ja) | 光学活性オキサゾリン化合物及び不斉アリル酸化反応 | |
| JPH10182523A (ja) | １位置換−２，２−ジフロロ−３−ブテン−１−オール類の製造法 | |
| JPS6314696B2 (ja) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |