JP2643656B2 - ウェハ現像処理装置 - Google Patents
ウェハ現像処理装置Info
- Publication number
- JP2643656B2 JP2643656B2 JP13637391A JP13637391A JP2643656B2 JP 2643656 B2 JP2643656 B2 JP 2643656B2 JP 13637391 A JP13637391 A JP 13637391A JP 13637391 A JP13637391 A JP 13637391A JP 2643656 B2 JP2643656 B2 JP 2643656B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- developing
- wafer
- development processing
- cup
- development
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は半導体製造工程のうちフ
ォトリソグラフィー工程に使用するウェハ現像処理装置
に関するものである。
ォトリソグラフィー工程に使用するウェハ現像処理装置
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、この種のウェハ現像処理装置は、
図４の断面図に示す様に、回転機能を有する真空吸着台
（以下スピンチャック６と呼ぶ）上にウェハ１を搭載
し、ウェハ１の表面に現像ノズル２より現像液を吐出
し、その表面張力を利用し現像液の薄液層を形成し現像
反応を行わせた後、現像処理カップ５内でウェハ１をス
ピンチャック６により回転させながらリンスノズル３よ
りリンス液をウェハ１の表面へ吐出し、リンス処理を行
った後、ウェハ１を高速回転し乾燥させる枚葉型のウェ
ハ現像処理装置が主流となっている。
図４の断面図に示す様に、回転機能を有する真空吸着台
（以下スピンチャック６と呼ぶ）上にウェハ１を搭載
し、ウェハ１の表面に現像ノズル２より現像液を吐出
し、その表面張力を利用し現像液の薄液層を形成し現像
反応を行わせた後、現像処理カップ５内でウェハ１をス
ピンチャック６により回転させながらリンスノズル３よ
りリンス液をウェハ１の表面へ吐出し、リンス処理を行
った後、ウェハ１を高速回転し乾燥させる枚葉型のウェ
ハ現像処理装置が主流となっている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】現在主流となっている
枚葉式のウェハ現像処理装置では、現像処理の均一性を
向上させるために、現像液を扇状に広げて吐出すことが
できるいわゆる扇形スプレーノズルが現像ノズルとして
一般的に使われている。この扇形スプレーノズルは、現
像液を扇状に広げて細長く絞った形状で吐出できるた
め、回転しているウェハの直径方向に吐出することによ
り均一な現像処理ができるという利点を有しているもの
の、最適な形状の現像液の吐出を行う為には吐出圧を１
〜２ｋｇ／ｃｍ2 と従来のストレートノズルに比べて２
〜４倍程高くする必要があり、この為、吐出時にノズル
からの現像液の周囲への飛び散りが多く発生するといっ
た問題や、現像液のウェハへの衝突速度が高いことによ
って現像液の跳ね返りが多く発生するといった問題によ
り、現像液の吐出時には現像処理カップ内で多量の現像
ミストが発生し、これが現像処理カップ上部の開口より
外部へ飛散してカップ前後の待機ウェハに付着して現像
不良を作ってしまうという問題点があった。
枚葉式のウェハ現像処理装置では、現像処理の均一性を
向上させるために、現像液を扇状に広げて吐出すことが
できるいわゆる扇形スプレーノズルが現像ノズルとして
一般的に使われている。この扇形スプレーノズルは、現
像液を扇状に広げて細長く絞った形状で吐出できるた
め、回転しているウェハの直径方向に吐出することによ
り均一な現像処理ができるという利点を有しているもの
の、最適な形状の現像液の吐出を行う為には吐出圧を１
〜２ｋｇ／ｃｍ2 と従来のストレートノズルに比べて２
〜４倍程高くする必要があり、この為、吐出時にノズル
からの現像液の周囲への飛び散りが多く発生するといっ
た問題や、現像液のウェハへの衝突速度が高いことによ
って現像液の跳ね返りが多く発生するといった問題によ
り、現像液の吐出時には現像処理カップ内で多量の現像
ミストが発生し、これが現像処理カップ上部の開口より
外部へ飛散してカップ前後の待機ウェハに付着して現像
不良を作ってしまうという問題点があった。
【０００４】外部へ飛散した現像ミストが現像処理カッ
プの前後に待機していたウェハ表面に付着した場合１〜
２０μｍ程度の大きさの現像液のしみを作ってしまい、
現像不良となってしまう。従来のウェハ現像処理装置で
は、最悪の場合ウェハの表面に１０箇所前後の現像ミス
トの付着が認められた。
プの前後に待機していたウェハ表面に付着した場合１〜
２０μｍ程度の大きさの現像液のしみを作ってしまい、
現像不良となってしまう。従来のウェハ現像処理装置で
は、最悪の場合ウェハの表面に１０箇所前後の現像ミス
トの付着が認められた。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明のウェハ現像処理
装置は、現像処理カップ上部にそれぞれが異なった位置
に開口を有する少なくとも２枚の天井板を間隔をあけて
設置し、この少なくとも２枚の天井板は、現像液吐出中
に発生する現像ミストの現像処理カップ外への飛散を防
ぐために、開口同志が重ならないようにずらして設置さ
れている。
装置は、現像処理カップ上部にそれぞれが異なった位置
に開口を有する少なくとも２枚の天井板を間隔をあけて
設置し、この少なくとも２枚の天井板は、現像液吐出中
に発生する現像ミストの現像処理カップ外への飛散を防
ぐために、開口同志が重ならないようにずらして設置さ
れている。
【０００６】
【実施例】次に本発明について図面を参照して説明す
る。図１は本発明の実施例１の断面図である。ウェハの
現像処理は現像処理カップ５内で行われる。スピンチャ
ック６上に真空吸着されたウェハ１を１０００〜３００
０ｒｐｍ程度の回転数で回転させながら、現像ノズル駆
動部４によりウェハ直径上に現像液を吐出できる様に現
像ノズル２を移動した後、１〜２ｋｇ／ｃｍ2 程度の吐
出圧で現像ノズル２より現像液を吐出させる。この場
合、現像ノズル自体や現像液のウェハとの衝突により、
現像処理カップ５内では多量の現像ミストが発生する
が、上部に設置した２枚の天井板７，８によりこの部分
で現像ミストがトラップされ、現像ミストの現像処理カ
ップ外への飛散を防止することができる。
る。図１は本発明の実施例１の断面図である。ウェハの
現像処理は現像処理カップ５内で行われる。スピンチャ
ック６上に真空吸着されたウェハ１を１０００〜３００
０ｒｐｍ程度の回転数で回転させながら、現像ノズル駆
動部４によりウェハ直径上に現像液を吐出できる様に現
像ノズル２を移動した後、１〜２ｋｇ／ｃｍ2 程度の吐
出圧で現像ノズル２より現像液を吐出させる。この場
合、現像ノズル自体や現像液のウェハとの衝突により、
現像処理カップ５内では多量の現像ミストが発生する
が、上部に設置した２枚の天井板７，８によりこの部分
で現像ミストがトラップされ、現像ミストの現像処理カ
ップ外への飛散を防止することができる。
【０００７】天井板７，８は、図２の各平面図（ａ），
（ｂ）に示す形状になっており、天井板７は中央部に、
また天井板８は周辺部４箇所に開口を有しており、天井
板７と８を重ねた場合には共通する位置には開口部が重
ならない様な工夫を施してあり、さらにこの２枚の天井
板を適正な間隔で配置することにより、図１に矢印で示
した様な空気流れを発生させている。これらの効果によ
り、現像ミストの外部への飛散を防止することができ
る。図３は本発明の実施例２の断面図である。実施例２
の現像処理カップ５では、現像ノズル２の駆動を現像処
理カップ５上部の開口を通して行うようにした構造の
為、天井板９と１０には、図２の平面図（ｃ）と（ｄ）
に見られる様な半径方向に細長い開口が共通の位置に必
要となり、ここから現像ミストが外部へ飛散していくこ
とが考えられるため、現像ノズル配管の上部にさらに図
２（ｅ）に示す天井板１１を設置することにより、現像
ミストの外部への飛散を防止している。
（ｂ）に示す形状になっており、天井板７は中央部に、
また天井板８は周辺部４箇所に開口を有しており、天井
板７と８を重ねた場合には共通する位置には開口部が重
ならない様な工夫を施してあり、さらにこの２枚の天井
板を適正な間隔で配置することにより、図１に矢印で示
した様な空気流れを発生させている。これらの効果によ
り、現像ミストの外部への飛散を防止することができ
る。図３は本発明の実施例２の断面図である。実施例２
の現像処理カップ５では、現像ノズル２の駆動を現像処
理カップ５上部の開口を通して行うようにした構造の
為、天井板９と１０には、図２の平面図（ｃ）と（ｄ）
に見られる様な半径方向に細長い開口が共通の位置に必
要となり、ここから現像ミストが外部へ飛散していくこ
とが考えられるため、現像ノズル配管の上部にさらに図
２（ｅ）に示す天井板１１を設置することにより、現像
ミストの外部への飛散を防止している。
【０００８】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、現像処理
カップ上部にそれぞれが異なった位置に開口を有する２
枚の天井板を適切な間隔で設置し、いわゆる二重天井を
形成することにより、現像液吐出時に現像処理カップ内
で多量に発生する現像ミストの外部への飛散を防止し待
機しているウェハへの現像ミストの付着を皆無とするこ
とができる。
カップ上部にそれぞれが異なった位置に開口を有する２
枚の天井板を適切な間隔で設置し、いわゆる二重天井を
形成することにより、現像液吐出時に現像処理カップ内
で多量に発生する現像ミストの外部への飛散を防止し待
機しているウェハへの現像ミストの付着を皆無とするこ
とができる。
【図１】本発明の実施例１の断面図である。
【図２】本発明に使用する天井板の形状を示す図で、同
図（ａ）〜（ｅ）はそれぞれ平面図である。
図（ａ）〜（ｅ）はそれぞれ平面図である。
【図３】本発明の実施例２の断面図である。
【図４】従来のウェハ現像処理装置の断面図である。
１ ウェハ ２ 現像ノズル ３ リンスノズル ４ 現像ノズル駆動部 ５ 現像処理カップ ６ スピンチャック ７〜１１ 天井板
Claims (2)
- 【請求項１】 ウェハを現像処理カップ内の回転機能を
有する真空吸着台に保持し、ウェハ表面に現像液を吐出
して現像処理するウェハ現像処理装置において、現像処
理カップ上部の開口部に、現像液吐出中に発生する現像
ミストの現像処理カップ外への飛散を防ぐための天井板
を設置し、この天井板はそれぞれがある決められた位置
に開口を有する少なくとも２枚が間隔を保つ様に設置さ
れていることを特徴とするウェハ現像処理装置。 - 【請求項２】 前記少なくとも２枚の天井板の開口同志
が重ならないようにずらして設置されている請求項１記
載のウェハ現像処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13637391A JP2643656B2 (ja) | 1991-06-07 | 1991-06-07 | ウェハ現像処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13637391A JP2643656B2 (ja) | 1991-06-07 | 1991-06-07 | ウェハ現像処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04360517A JPH04360517A (ja) | 1992-12-14 |
| JP2643656B2 true JP2643656B2 (ja) | 1997-08-20 |
Family
ID=15173649
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13637391A Expired - Lifetime JP2643656B2 (ja) | 1991-06-07 | 1991-06-07 | ウェハ現像処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2643656B2 (ja) |
-
1991
- 1991-06-07 JP JP13637391A patent/JP2643656B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04360517A (ja) | 1992-12-14 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19970401 |