[go: up one dir, main page]

JP2613124B2 - 新規シロキサン誘導体、その製造方法及びこれを含有する化粧料 - Google Patents

新規シロキサン誘導体、その製造方法及びこれを含有する化粧料

Info

Publication number
JP2613124B2
JP2613124B2 JP2228958A JP22895890A JP2613124B2 JP 2613124 B2 JP2613124 B2 JP 2613124B2 JP 2228958 A JP2228958 A JP 2228958A JP 22895890 A JP22895890 A JP 22895890A JP 2613124 B2 JP2613124 B2 JP 2613124B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ppm
nmr
cdcl
group
mmol
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP2228958A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH04108795A (ja
Inventor
賢 竹内
浩二 吉野
裕二 鈴木
章 川俣
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kao Corp
Original Assignee
Kao Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kao Corp filed Critical Kao Corp
Priority to JP2228958A priority Critical patent/JP2613124B2/ja
Priority to DE69128321T priority patent/DE69128321T2/de
Priority to ES91113876T priority patent/ES2110967T3/es
Priority to EP91113876A priority patent/EP0475130B1/en
Priority to MYPI91001536A priority patent/MY129994A/en
Priority to US07/750,535 priority patent/US5144054A/en
Publication of JPH04108795A publication Critical patent/JPH04108795A/ja
Priority to US07/926,186 priority patent/US5306838A/en
Priority to US08/255,753 priority patent/US5466849A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2613124B2 publication Critical patent/JP2613124B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Emulsifying, Dispersing, Foam-Producing Or Wetting Agents (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Silicon Polymers (AREA)
  • Cosmetics (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、乳化剤として有用な、界面活性作用を有す
る新規シロキサン誘導体、その製造方法及びこれを含有
する化粧料に関する。
〔従来の技術及び発明が解決しようとする課題〕
界面活性作用を有するシリコーン化合物は、その変性
親水基の種類から、アニオン系親水基を有する化合物、
カチオン系親水基を有する化合物、ベタイン系親水基を
有する化合物及びノニオン系親水基を有する化合物の4
種に大別される。
上記のうちノニオン系親水基を有する化合物として
は、ポリオキシアルキルン基を親水基として有するポリ
オキシアルキレン変性シリコーン系界面活性剤が公知で
あるが、このものは乳化安定性に劣るため、化粧料等の
乳化剤として用いた場合、満足な乳化安定性を得るため
にはシリカ、粘度鉱物等の増粘剤を更に添加する必要が
あった。
一方、ポリオキシアルキレン以外のノニオン系の親水
基としては多価アルコール性水酸基が考えられるが、多
価アルコール性水酸基を親水基として有するシリコーン
系界面活性剤は現在のところほとんど知られておらず、
わずかに特公昭62−34039号公報に記載されている(ポ
リ)グリセリン変性シリコーン及び特開昭57−209295号
公報に記載されているソルビタン変性シリコーンが界面
活性作用を有することが知られているのみである。
また、多価アルコール性水酸基であるグリセリル基に
より変性されたシリコーン化合物は公知であり、特開昭
62−195389号公報、特開昭64−16793号公報及び特開昭6
3−101388号公報に記載されているが、これら化合物は
ヒドロキシル基の反応性を利用した合成樹脂の表面改質
剤であり、その界面活性作用については不明である。
このように、満足な性能を有するノニオン系のシリコ
ーン系界面活性剤は現在のところ皆無に等しいものであ
る。
〔課題を解決するための手段〕
かかる実情において、本発明者らは鋭意研究を重ねた
結果、後述のグリセリル基を有する新規シロキサン誘導
体が、化粧料等の乳化剤として好適なノニオン系界面活
性剤であることを見いだし、本発明を完成した。
すなわち本発明は、次の一般式(I) 〔式中、R1〜R12のうち、少なくとも1つは次式(II) (式中、Qは炭素数3〜20の二価炭化水素基を示し、R
13及びR14はそれぞれ水素原子又は炭素数1〜5の炭化
水素基を示し、そのうち少なくとも一方は水素原子であ
る。) で表わされる基であり、残りが炭素数1〜30の直鎖、分
岐鎖もしくは環状の炭化水素基又は次式(III) −X−R15 (III) (式中、Xはエーテル結合及び/又はエステル結合を含
む二価炭化水素基を、R15は炭素数1〜30の直鎖、分岐
鎖又は環状の炭化水素基を示す。)で表わされる基であ
り、l、m及びnは0以上2000以下の数を示し、l+m
+n=0のとき、R1〜R3、R10〜R12のうち少なくとも1
つは基(II)である。ただしR1〜R12のうち少なくとも
1つが、QがトリメチレンでR13及びR14が共に水素原子
である基(II)であるとき、前記炭素数1〜30の直鎖、
分岐鎖又は環状の炭化水素基の少なくとも1つは、炭素
数6〜30の直鎖、分岐鎖又は環状の炭化水素基であ
る。〕 で表わされるシロキサン誘導体、その製造方法及びこれ
を含有する化粧料を提供するものである。
上記一般式(I)において、Qで示される炭素数3〜
20の二価炭化水素基としては、トリメチレン、テトラメ
チレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、ヘプタメチ
レン、オクタメチレン、ノナメチレン、デカメチレン、
ウンデカメチレン、ドデカメチレン、テトラデカメチレ
ン、ヘキサデカメチレン、オクタデカメチレン等の直鎖
アルキレン基;プロピレン、2−メチルトリメチレン、
2−メチルテトラメチレン、2−メチルペンタメチレ
ン、3−メチルペンタメチレン等の分岐鎖アルキレン基
等が挙げられる。R13又はR14で示される炭素数1〜5の
炭化水素基としては、メチル、エチル、プロピル、ブチ
ル、ペンチル、イソプロピル、sec−ブチル、tert−ブ
チル、ネオペンチル、シクロペンチル等の直鎖、分岐鎖
又は環状のアルキル基等が挙げられる。またXで示され
るエーテル結合及び/又はエステル結合を含む二価炭化
水素基としてはCH2 OC2H4 OC3H6 qO−
(ここでp及びqは0以上50以下の数、rは3以上20以
下の整数)、CH2 rO−CO−、CH2 rCOO−等が挙げ
られる。更に炭素数1〜30の直鎖、分岐鎖又は環状の炭
化水素基としては、メチル、エチル、プロピル、ブチ
ル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、デシル、ドデシ
ル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、エイ
コシル、ドエイコシル、テトラエイコシル、ヘキサエイ
コシル、オクタエイコシル、トリアコンチル等の直鎖ア
ルキル基;イソプロピル、sec−ブチル、tert−ブチ
ル、ネオペンチル、1−エチルプロピル、1−ヘプチル
デシル等の分岐鎖アルキル基;シクロペンチル、シクロ
ヘキシル、アビエチル、コレステリル等の環状アルキル
基などが挙げられる。そして、l、m及びnは、原料と
なるオルガノハイドロジェンポリシロキサンの入手のし
やすさ、製造時の操作性などの点から、0以上2000以下
の範囲とすることが好ましい。
本発明のシロキサン誘導体(I)は、例えば次の反応
式に従って製造することができる。
(1) 基(III)を有さないシロキサン誘導体(I a)
の製法 〔式中、R16〜R27は少なくとも1つが水素原子であり、
残りが炭素数1〜30の直鎖、分岐鎖又は環状の炭化水素
基であり、l、m及びnは0以上2000以下の数を示し、
l+m+n=0のとき、R16〜R18、R25〜R27のうち少な
くとも1つは水素原子である。
Q′は少なくとも1個の二重結合を有する炭素数3〜
20の炭化水素基を有し、R13及びR14は前記と同じ意味を
有する。
1′〜R12′のうち、少なくとも1つは基(II)で
あり、残りが炭素数1〜30の直鎖、分岐鎖又は感情の炭
化水素基であり、l+m+n=0のとき、R1′〜R
3′、R10′〜R12′のうち、少なくとも1つは基(I
I)である。ただし、R1′〜R12′のうち1つが、Q
がトリメチレンでR13及びR14が共に水素原子である基
(II)であり、かつ残り全てがメチル基である場合を除
く。〕 すなわち、少なくとも1個のケイ素−水素結合を有す
るオルガノハイドロジェンポリシロキサン(IV)に、ア
ルケニルグリセリルエーテル(II′)を反応させること
により、基(III)を有さないシロキサン誘導体(I a)
が得られる。
(2) 基(III)を有するシロキサン誘導体(I b)の
製法 〔式中、R16′〜R27′は少なくとも2つが水素原子で
あり、乗りが炭素数1〜30の直鎖、分岐鎖又は環状の炭
化水素基であり、l、m及びnは前記と同じ意味を示
し、l+m+n=0のとき、R16′〜R18′、R25′
27′のうち少なくとも2つは水素原子である。
Q′、R13及びR14は前記と同じ意味を示す。
X′は少なくとも1個の二重結合を有し、かつエーテ
ル結合及び/又はエステル結合を含む炭化水素基を、R
15は前記と同じ意味を示す。
1″〜R12″のうち、少なくとも1つは基(II)で
あり、残りのうち少なくとも1つは基(III)であり、
残りが炭素数1〜30の直鎖、分岐鎖又は環状の炭化水素
基であり、l+m+n=0のとき、R1″〜R3″、R
10″〜R12″のうち少なくとも1つは基(II)であり、
残りのうち少なくとも1つは基(III)である。
すなわち、少なくとも2個のケイ素−水素係合を有す
るオルガノハイドロジェンポリシロキサン(IV′)に、
アルケニルグリセリルエーテル(II′)及び化合物(II
I′)を反応させることにより、基(III)を有するシロ
キサン誘導体(I b)が得られる。ここで、化合物(I
I′)と化合物(III′)は、どちらを先に化合物(I
V′)に反応させても、また同時に化合物(IV′)に反
応させてもよい。
原料であるオルガノハイドロジェンポリシロキサン
(IV)又は(IV′)は、分子中に少なくとも1個〔(I
V)〕又は少なくとも2個〔(IV′)〕のケイ素−水素
結合を有することが必須とされるほかは、粘度、分子構
造等に特に制限はなく、公知の種々のものを使用するこ
とができるが、原料の入手のしやすさ、製造時の操作性
などの点からl、m及びnが0以上2000以下のものが好
ましい。
化合物(II′)としては、一般式(II′)において
Q′がω−アルケニル基であるものが好ましい。
また、化合物(III′)としては、一般式(III′)に
おいてX′が CH2=CHCH2OC2H4 OC3H6 qO−(p及びqは前記
と同じ)、 (r′は1以上18以下の整数) 等であるものが好ましい。
前記(1)及び(2)の反応は、触媒の存在下に行わ
れ、触媒としては一般にヒドロシリル化に用いられるも
の、例えば遊離ラジカル開始剤;光開始剤;ルテニウ
ム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、
白金等の金属の錯体化合物;これらをシリカゲル又はア
ルミナに担持させたものなどが挙げられる。これらのう
ち、特に塩化白金酸、speier試薬(塩化白金酸のイソプ
ロピルアルコール溶液)等が好ましい。触媒の使用量は
オルガノハイドロジェンポリシロキサン(IV)又は(I
V′)とアルケニルグリセルエーテル(II′)及び/又
は化合物(III′)との反応を促進するのに充分な量で
あればよく、特に限定されないが、使用されるオレフィ
ン1molに対して10-6〜10-1molの範囲が好ましい。
本反応においては反応溶媒の使用は必須ではないが、
必要に応じて適当な溶媒中で反応を行ってもよい。反応
溶媒としては、反応を阻害しないものであれば特に限定
されず、例えばペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン等
の炭化水素系溶媒;ベンゼン、トルエン、キシレン等の
ベンゼン系溶媒;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエ
ーテル等のエーテル系溶媒;メタノール、エタノール、
イソプロピルアルコール、ブタノール等のアルコール系
溶媒などが挙げられる。アルコール系溶媒を使用する場
合には、Si−Hと−OHとの間における脱水素反応を防止
ないし抑制するために、酢酸カリウム等のpH調整剤(特
開昭57−149290号公報)を用いるのが好ましい。
本反応に使用されるオルガノハイドロジェンポリシロ
キサン(IV)又は(IV′)に対するアルケニルグリセリ
ルエーテル(II′)及び/又は化合物(III′)の割合
は、得られるシロキサン誘導体(I)が分子中に少なく
とも1個以上のケイ素結合グリセリル基(II)を有する
に充分な量のアルケニルグリセリルエーテル(II′)が
あれば、その他の割合は任意でよいが、得られる化合物
(I)を用いて炭素系の油剤を乳化する場合は、基(I
I)と基(III)の合計ユニット数が、残存するジメチル
シロキサンユニット数と同じ割合か又はそれ以上の範囲
とし、シリコン系の油剤を乳化する場合は、基(II)と
基(III)の合計ユニット数が、残存するジメチルシロ
キサンユニット数の1/5以下の範囲とするのが好まし
い。
ヒドロシリル化は、0℃〜200℃で進行するが、反応
速度や生成物の着色などを考え、0〜100℃で行うのが
好ましい。また、反応時間は0.5〜24時間程度とするの
が好ましい。
このようにして得られた本発明シロキサン誘導体
(I)は、化粧料用成分、特に乳化剤として好適に用い
ることができる。適用し得る化粧料の剤型、種類等は特
に限定されず、例えば乳液、ローション、ファンデーシ
ョン等のスキンケア化粧料;シャンプー、リンス、トリ
ートメント等のヘアケア化粧料などが挙げられる。化粧
料中への本発明シロキサン誘導体(I)の配合量も特に
限定されないが、通常、0.001〜90重量%、特に1〜50
重量%の範囲が好ましい。
〔実施例〕
以下、実施例を挙げて更に詳細に説明するが、本発明
はこれらに限定されるものではない。
実施例1 (1) 冷却管及び磁気撹拌子を備えた100ml2口フラス
コに、1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン97g(0.72mo
l)及び1−ヘキセン30g(0.36mol)を仕込み、これに
塩化白金酸の5%イソプロピルアルコール溶液0.72g
(7.2mmol)を加え、氷水浴下16時間撹拌した。蒸留に
より無色透明液体52.8g(bp55−61℃/4Torr)(収率67
%)を得た。得られた生成物はIR及びNMRスペクトルに
より、1−ヘキシル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキ
サンであることを確認した。
(2) 冷却管及び磁気撹拌子を備えた100ml2口フラス
コに、(1)で合成した1−ヘキシル−1,1,3,3−テト
ラメチルジシロキサン15g(69mmol)、アリルグリセリ
ルエーテル12g(91mmol)、酢酸カリウムの10%エタノ
ール溶液1.8g(1.8mmol)及びイソプロピルアルコール2
4gを仕込み、これに塩化白金酸の5%イソプロピルアル
コール溶液0.18g(0.017mmol)を加え、40℃で17時間撹
拌した。溶媒留去後、反応生成物をシリカゲルカラムに
かけて精製し、無色透明液体22g(収率93%)を得た。
得られた生成物はIR及びNMRスペクトルにより、3−
(3−ヘキシル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサニ
ル)プロピルグリセリルエーテル(A)であることが確
認された。
IR(液膜,cm-1) 3400(−OH) 2928(C−H) 1256(Si−Me) 1064,842,796(Si−O−Si)1 H−NMR〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準(7.28ppm)〕 0.04,0.06(s,12H)Si−C 0.08−1.02(t,3H)−C 1.14−1.46(br,8H)−C − 0.40−0.66(m,4H)Si−C − 1.48−1.72(m,2H)C −CH2−O 3.32−3.59(m,4H)C −O 3.79−3.98(m,1H)C−OH 3.59−3.79(m,2H)C −OH 2.83−2.93(d,1H)CH−O 2.46−2.59(dd,1H)CH2−O 13 C−NMR〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準(77.2ppm)〕 0.46,0.53 Si−H3 14.3,14.4 −H3,H2−CH2CH2O 18.5 Si−H2− 64.4 H2−OH 70.7 H−OH 72.5 CH2 H2−O 74.6 CH−H2−O29 Si−NMR〔δppm,CDCl3中、TMS基準(0ppm)〕 7.22,7.89 実施例2 (1) 実施例1の(1)と同様の方法により、1−デ
シル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサンを合成した
(収率70%)。
(2) 実施例1の(2)と同様の方法により3−(3
−デシル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサニル)プ
ロピルグリセリルエーテル(B)を合成した(収率93
%)。
IR(液膜,cm-1) 3424(−OH) 2928(C−H) 1254(Si−Me) 1066,840,796(Si−O−Si)1 H−NMR〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準(7.28ppm)〕 0.04,0.06(s,12H)Si−C 0.08−0.95(t,3H)−C 1.15−1.42(br,16H)−C − 1.48−1.68(m,2H)C −CH2−O 3.38−3.53(m,4H)C −O 0.38−0.57(m,4H)Si−C − 3.77−3.94(m,1H)C−OH 3.53−3.77(m,2H)C −OH 3.25−3.32(d,1H)CH−O 2.98−3.08(t,1H)CH2−O 13 C−NMR〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準(77.2ppm)〕 0.42,0.50 Si−H3 14.2,14.3 −H3,H2−CH2CH2O 18.5 Si−H2 23.5 H2CH2−O 72.4 CH2 H2−O 74.6 CH−H2−O 70.9 H−OH 64.3 H2−OH29 Si−NMR〔δppm,CDCl3中、TMS基準(0ppm)〕 7.22,7.89 実施例3 (1) 実施例1の(1)と同様の方法により、1−ヘ
キサデシル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサンを合
成した(収率70%)。
(2) 実施例1の(2)と同様の方法により3−(3
−ヘキサデシル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサニ
ル)プロピルグリセリルエーテル(C)を合成した(収
率93%)。
IR(液膜,cm-1) 3404(−OH) 2956(C−H) 1254(Si−Me) 1064,840,796(Si−O−Si)1 H−NMR〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準(7.28ppm)〕 0.04,0.06(s,12H)Si−C 0.81−0.96(t,3H)−C 1.16−0.96(br,28H)−C − 0.41−0.59(m,4H)Si−C − 1.53−1.70(m,2H)C −CH2−O 3.36−3.59(m,4H)C −O 3.59−3.80(m,2H)C−OH 2.83−2.93(d,1H)CH−O 2.46−2.59(dd,1H)CH2−O 13 C−NMR〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準(77.2ppm)〕 0.47,0.54 Si−H3 14.3,14.4 −H3,H2−CH2CH2O 18.6 Si−H2 23.6 H2CH2−O 64.4 H2−OH 70.7 H−OH 72.6 CH2H2−O 74.6 CH−H2−O29 Si−NMR〔δppm,CDCl3中、TMS基準(0ppm)〕 7.22,7.93 実施例4 冷却管及び磁気撹拌子を備えた100ml2口フラスコにノ
ナデカメチルナノシロキサン20g(30mmol)、10−ウン
デセニルグリセリルエーテル9.5g(39mmol)、酢酸カリ
ウムの10%エタノール溶液0.77g(0.78mmol)及びイソ
プロピルアルコール18.5gを仕込み、塩化白金酸の2%
イソプロピルアルコール溶液0.20g(7.7×10-3mmol)を
加え、加熱し昇温した。内容物の温度を40℃に保ち3.5
時間撹拌した。溶媒留去後、得られた反応生成物をヘキ
サンに溶解し、ろ過を行い溶媒を留去したのち、得られ
た反応生成物をシリカゲルカラムにかけて精製し、無色
透明オイル21.7g(収率80%)を得た。得られた生成物
は、IR及びNMRスペクトルにより、ノナデカメチルノナ
シロキサニルウンデシルグリセリルエーテル(D)であ
ることを確認した。
1H−NMR〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準(7.28ppm)〕 0.00−0.18(m,57H)Si−C 0.48−0.64(m,2H)Si−C 1.20−1.42(br,16H)−C − 1.50−1.68(m,2H)C −CH2−O 3.40−3.58(m,4H)C −O 3.78−3.96(m,1H)C−OH 3.58−3.78(m,2H)C −OH 2.67−2.72(d,1H)CH−O 2.21−2.35(dd,1H)CH2−O 13 C−NMR〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準(77.2ppm)〕 18.5 Si−H264.5 H2−OH 70.7 H−OH 72.1 CH2H2−O 72.7 CH−H2−O29 Si−NMR〔δppm,CDCl3中、TMS基準(0ppm)〕 7.28,7.60 a,i 実施例5 実施例4と同様の方法により、ペンタメチルジシロキ
サニルウンデシルグリセリルエーテル(E)を合成した
(収率56%)。
IR(液膜,cm-1) 3394(−OH) 2926,2860(C−H) 1254(Si−Me) 1062,843(Si−O−Si)1 H−NMR〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準(7.28ppm)〕 0.05,0.07(s,15H)Si−C 0.43−0.62(m,2H)Si−C 1.14−1.40(br,16H)−C − 1.50−1.68(m,2H)C −CH2−O 3.38−3.58(m,4H)C −O 3.80−3.95(m,1H)C−OH 3.58−3.80(m,2H)C −OH 2.72−2.81(d,1H)CH−O 2.31−2.47(br,1H)CH2−O 13 C−NMR〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準(77.2ppm)〕 0.51,2.14 Si−H3 18.6 Si−H2 64.4 H2−OH 70.7 H−OH 72.0 CH−H2−O 72.6 CH−H2−O29 Si−NMR〔δppm,CDCl3中、TMS基準(0ppm)〕 6.97,7.61 実施例6 実施例4と同様の方法により、ウンデカメチルペンタ
シロキサニルウンデシルグリセリルエーテル(F)を合
成した(収率48%)。この際、原料ウンデカメチルペン
タンシロキサン中に、1,5−ジヒドロデカメチルペンタ
シロキサンが含まれていたため、同時に1,5−ビス〔11
−(2,3−ジヒドロキシプロポキシ)ウンデシル〕デカ
メチルペンタシロキサン(G)が得られた。得られた1,
5−ビス〔11−(2,3−ジヒドロキシプロポキシ)ウンデ
シル〕デカメチルペンタシロキサン(G)は、シリカゲ
ルカラムにより単離精製した。その構造はIR及びMMRス
ペクトルにより確認された。
IR(液膜,cm-1) 3406(−OH) 2962,2926,2860(C−H) 1260(Si−Me) 1035,801(Si−O−Si)1 H−NMR〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準(7.28ppm)〕 −0.02−0.18(m,33H)Si−C 0.46−0.63(m,2H)Si−C − 1.17−1.42(br,16H)−C − 1.48−1.70(m,2H)C −CH2−O 3.38−3.59(m,4H)C −O 3.77−3.97(m,1H)C−OH 3.59−3.77(m,2H)C −OH 2.83−2.98(br,1H)CH−O 2.46−2.64(br,1H)CH2−O 13 C−NMR〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準(77.2ppm)〕 18.5 Si−H264.4 H2−OH 70.7 H−OH 72.0 CH2H2−O 72.7 CH−H2−O29 Si−NMR〔δppm,CDCl3中、TMS基準(0ppm)〕 7.28,7.61 a,e −21.4,−21.7,−22.2 b,c,d IR(液膜,cm-1) 3404(−OH) 2924,2856(C−H) 1260(Si−Me) 1080,103,802(Si−O−Si)1 H−NMR〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準(7.28ppm)〕 0.03,0.05(s,30H)Si−C 0.54(t,4H)Si−C − 1.28(br,32H)−C 1.48−1.69(m,4H)C −CH2−O 2.92(t,2H)CH2−O 3.20(d,2H)CH−O 3.36−3.57(m,8H)C−O 3.57−3.78(m,4H)C −OH 3.78−3.96(m,2H)C−OH13 C−NMR〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準(77.2ppm)〕 0.35,1.34 a,b 1.24 c 18.4 Si−H264.4 −H2−OH 70.8 −H−OH 72.0 −CH−H2−O 72.5 −CH−H2−O29 Si−NMR〔δppm,CDCl3中、TMS基準(0ppm)〕 −22.3 C −21.7 B 7.62 A 実施例7 冷却管及び磁気撹拌子を備えた100ml2口フラスコに、
α,ω−ジヒドロジメチルポリシロキサン(平均鎖長2
0)30g(18.5mmol)、10−ウンデセニルグリセリルエー
テル11.8g(48.3mmol)、酢酸カリウムノ10%エタノー
ル溶液0.95g(0.97mmol)及びイソプロピルアルコール2
4gを仕込み、これに塩化白金酸の2%イソプロピルアル
ローウ溶液0.26g(0.010mmol)を加え、加熱し昇温し
た。内容物の温度を50℃に保ち、2時間撹拌した。溶媒
を留去したのち、減圧蒸留により未反応10−ウンデセニ
ルグリセリルエーテルを留去することにより、褐色高粘
稠物を得た。この褐色高粘稠物を活性炭で処理し、無色
透明の高粘稠物35.0g(収率89.7%)を得た。
得られた生成物はIRおよびNMRスペクトルにより、
α,ω−ビス〔11−(2,3−ジヒドロキシプロポキシ)
ウンデシル〕ジメチルポリシロキサン(平均鎖長20)
(H)であることを確認した。
IR(液膜,cm-1) 3420(−OH) 2964,2928,2860(C−H) 1262(Si−Me) 1100,1026,802(Si−O−Si)1 H−NMR〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準(7.28ppm)〕 0.00(br,約132H)Si−C 0.57(t,4H)Si−C − 1.39(br,32H)−C − 1.47−1.70(m,4H)C −CH2−O 2.22(br 2H)−CH−O 2.62(br 2H)−CH−O 3.30−3.59(m,8H)C −O 3.59−3.80(m,4H)C −OH 3.80−3.96(m,2H)C−OH13 C−NMR〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準(77.2ppm)〕 0.39,1.23,1.36 Si−H3 18.5 Si−H264.7 −H2OH 70.6 −H−OH 72.0 −CH2H2−O 72.7 −CH−H2−O29 Si−NMR〔δppm,CDCl3中、TMS基準(0ppm)〕 実施例8 実施例7と同様の方法によりα,ω−ビス〔11−(2,
3−ジヒドロキシプロポキシ)ウンデシル〕ジメチルポ
リキロキサン(平均鎖長50(I)を含成した(収率95.3
%)。
IR(液膜,cm-1) 3420(−OH) 2968,2932(C−H) 1264(Si−Me) 1H−NMR〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準(7.28ppm)〕 0.08(br,約312H)Si−C 0.57(t,4H)Si−C − 1.30(br,32H)−C − 1.48−1.80(m,4H)C −CH2−O 2.20(br 2H)CH−O 2.63(br 2H)CH−O 3.38−3.60(m,8H)C −O 3.60−3.81(m,4H)C −OH 3.81−3.97(m,2H)C−OH13 C−NMR〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準(77.2ppm)〕 0.38,1.22,1.36,1.96 Si−H3 18.5 Si−H2 64.7 H2OH 70.8 H−OH 72.1 CH2 H2−O 72.7 CHH2−O29 Si−NMR〔δppm,CDCl3中、TMS基準(0ppm)〕 実施例9 (1) 冷却管及び磁気撹拌子を備えた50ml2口フラス
コにα,ω−ジヒドロヘキサデカメチルオクタシロキサ
ン32.8g(56.6mmol)及び1−デセン4.0g(28.5mmol)
を仕込み、これ塩化白金酸3.0mg(5.8×10-3mmol)を加
え、水浴下6時間撹拌した。蒸留により無色透明液体1
1.0g(bp160℃/0.005Torr)(収率54%)を得た。得ら
れた生成物はIR及びNMRスペクトルにより1−デシル−1
5−ヒドロヘキサデカメチルオクタシロキサンであるこ
とを確認した。
(2) 冷却管及び磁気撹拌子を備えた50ml2口フラス
コに、(1)で合成した1−デシル−15−ヒドロヘキサ
デカメチルオクタシロキサン10g(13.9mmol)、10−ウ
ンデセニルグリセリルエーテル4.4g(18.0mmol)、酢酸
カリウムの10%エタノール溶液0.35g(0.36mmol)及び
イソプロピルアルコール10gを仕込み、これに塩化白金
酸の2%イソプロピルアルコール溶液0.093g(3.6×10
-3mmol)を加え加熱し昇温した。内容物の温度を40℃に
保ち、40℃で3時間撹拌した。溶媒留去後、反応生成物
をシリカゲルカラムにかけて精製し、無色透明オイル1
1.8g(収率88%)を得た。得られた精製物はIR及びNMR
スペクトルにより15−デシルヘキサデカメチルオクタシ
ロキサニルウンデシルグリセリルエーテル(J)である
ことが確認された。
IR(液膜,cm-1) 3400(−OH) 2964,2928,2860(C−H) 1262(Si−Me) 1H−NMR〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準(7.28ppm)〕 −0.02−0.10(m,48)Si−C 0.50(t,4H)Si−C − 0.87(t,3H)−C 1.24(br,32H)−C − 1.47−1.66(m,2H)C −CH2−O 2.32(t,1H)CH2−O 2.71(d,1H)CH−O 3.36−3.57(m,4H)−C −O 3.57−3.73(m,2H)−C −OH 3.73−3.90(m,1H)C−OH13 C−NMR〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準(77.2ppm)〕 0.38,1.25,1.35 Si−H3 14.3 −H3 18.5 Si−H2 64.5 H2OH 70.7 HOH 72.1 CH2 H2O 72.7 CHH2O 実施例10 冷却管及び磁気撹拌子を備えた100ml2口フラスコに式
(K′) で示されるオルガノハイドロジェンシロキサン15g(4.4
mmol)、10−ウンデセニルグリセリルエーテル8.1g(33
mmol)、酢酸カリウムの10%エタノール溶液0.65g(0.6
6mmol)及びイソプロピルアルコール50gを仕込み、これ
に塩化白金酸の2%イソプロピルアルコール溶液0.17g
(6.6×10-3mmol)を加え、加熱し昇温した。内容物の
温度を40℃に保ち2.5時間撹拌した。溶媒を留去し活性
炭処理を行ったのち、減圧蒸留により、未反応の10−ウ
ンデセニルグリセリルエーテルを留去し褐色粘稠を得
た。得られた生成物はIRはNMRスペクトルにより下記の
式で示される化合物(K)であることが確認された。
IR(液膜,cm-1) 3400(−OH) 2968,2932,2860(C−H) 1262(Si−Me) 1096,1022,844(Si−O−Si)1 H−NMR〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準(7.28ppm)〕 0.01(s,約273H)Si−C 0.38−0.58(m,10H)Si−C − 1.10−1.41(br,80H)−C − 1.44−1.86(m,10H)C −CH2−O 3.30−3.55(m,20H)C −O 3.55−3.77(m,10H)C −OH 3.77−3.90(m,5H)C−OH 実施例11 実施例10と同様の方法により下記の式で示される化合
物(L)を合成した(収率97%)。
IR(液膜,cm-1) 3420(−OH) 2968,2932,2860(C−H) 1264(Si−Me) 1096,1026,802(Si−O−Si)1 H−NMR〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準(7.28ppm)〕 0.00(s,約390H)Si−C 0.35−0.50(m,8H)Si−C − 1.08−1.39(br,64H)−C − 1.39−1.62(br,8H)C −CH2−O 1.96−2.29(br,4H)CH2−O 2.43−2.68(br,4H)CH−O 3.88−3.50(m,16H)C −O 3.50−3.70(m,8H)C −OH 3.70−3.86(m,4H)C−OH 実施例12 実施例10と同様の方法により下記の式で示される化合
物(M)を合成した(収率99%)。
IR(液膜,cm-1) 3424(−OH) 2964,2928,2860(C−H) 1262(Si−Me) 1090,1034,864,798(Si−O−Si)1 H−NMR〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準(7.28ppm)〕 0.00(s,約510H)Si−C 0.34−0.55(m,8H)Si−C 1.02−1.38(br,64H)−C − 1.38−1.66(br,8H)C −CH2−O 1.98−2.40(br,4H)CH2O 2.40−2.78(br,4H)CH−O 3.26−3.53(m,16H)C −O 3.53−3.70(m,8H)C −OH 3.70−3.88(m,4H)C−OH 実施例13 冷却管および磁気撹拌子を備えた100mlフラスコに式
(N′) で示されるオルガノハイドロジェンシロキサン10g(7.5
mmol)、デセン8.4g(60.2mmol)を仕込み、これに塩化
白金酸の2%イソプロピルアルコール溶液8.3×10-3ml
を加え、40℃に加熱した。2時間後イソプロピルアルコ
ール20g、アリルグリセリルエーテル4.6g(35mmol)、
酢酸カリウムの10%エタノール溶液0.44gおよび塩化白
金酸の2%イソプロピルアルコール溶液0.12mlを加え40
℃に加熱した。2時間後イソプロピルアルコールを留去
し、活性炭処理を行った後、未反応のアリルグリセリル
エーテルを減圧留去すると無色粘稠物22gが得られた。
得られた生成物は、IRおよび1H−NMRスペクトルによ
り、下式(N)で示される化合物であることが確認され
た。
IR(液膜,cm-1) 3400(−OH) 2965,2925,2860(C−H) 805,850,1260(Si−Me) 1090,1030(Si−O−Si)1 H−NMR〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準(7.28ppm)〕 0.06−0.11(bs,90H)Si−C 0.51(m,24H)Si−C −CH2− 0.90(t,24H)CH2C 1.28(br,136H)−C − 1.64−1.68(br,8H)−O 実施例14 デセン11.7g(83mmol)、アリルグリセリルエーテル
1.1g(8.3mmol)を用いた以外は実施例13と同様な方法
で反応を行い、下式(O)で示される化合物23gを得
た。
IR(液膜,cm-1) 3425(−OH) 2970,2930,2865(C−H) 805,845,1260(Si−Me) 1095,1025(Si−O−Si)1 H−NMR〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準(7.28ppm)〕 0.06−0.12(bs,90H)Si−C 0.50(m,24H)Si−C −CH2− 0.90(t,33.2H)−CH2C 1.28(br,179.1H)−C − 1.62−1.67(br,1.8H)−O 試験例1 実施例1〜14で製造された本発明化合物(A)〜
(O)について、シリコーン/水系における乳化安定性
を調べた。
評価方法 シリコーン/水=1/1に化合物(A)〜(O)を2重
量%添加し、室温においてよく振盪して乳化させた後1
日静置し、乳化安定性を調べた。シリコーンは信越化学
社製KF−96(5cs)及びKF−96(50cs)を使用した。表
1にその結果を示す。
表1に示したように、本発明品はシリコーン/水系に
おいて良好な乳化性能を示した。
実施例15 下記表2に示す配合組成の液状ファンデーションを製
造し、その乳化安定性を調べた。この結果を表3に示
す。なお製法は次の通りである。
(製法) 粉体と油脂を混合し、撹拌により粉体を均一に分散し
たものを40℃に加熱し、これに撹拌下で40℃に調整した
水相を添加し、乳化を行った。その後ガラス容器に充填
し、室温中放冷した。
表3から明らかな如く、本発明の乳化化粧料は良好な
安定性を示した。又、使用感もべとつかず、のびのよい
良好なものであった。
〔発明の効果〕
以上のように、本発明の新規シロキサン誘導体(I)
は、乳化剤として好適なノニオン系界面活性剤であり、
これを含有する本発明化粧料は乳化安定性に優れるもの
である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C08G 77/38 NUG C08G 77/38 NUG (72)発明者 川俣 章 栃木県宇都宮市花房3丁目1―17 (56)参考文献 特開 昭61−293226(JP,A) 特開 昭64−16793(JP,A) 特開 昭62−195389(JP,A) 特開 平1−193276(JP,A) 特開 平3−6230(JP,A) 特開 昭57−149290(JP,A) Chem.Phys.Chem.An wendungstech.Grenz flaechenactiuen St offe,Ber.Int.Kong r.,6th,Meeting Dat e 11 Sep1972−15 Sep1972, Volume Band3,623−30 Chemical Abstract s,83[2](1975),13046b

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】次の一般式(I) 〔式中、R1〜R12のうち、少なくとも1つは次式 で表わされる基であり、残りはすべてメチル基である
    か、又は少なくとも1つは炭素数6〜30の直鎖若しくは
    分岐鎖の炭化水素基で、他はすべてメチル基である。
    l、m及びnは0以上2000以下の数を示し、l+m+n
    =0のとき、R1〜R3、R10〜R12のうち少なくとも1つは
    基(II c)である。〕 で表わされるシロキサン誘導体。
JP2228958A 1990-08-30 1990-08-30 新規シロキサン誘導体、その製造方法及びこれを含有する化粧料 Expired - Lifetime JP2613124B2 (ja)

Priority Applications (8)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2228958A JP2613124B2 (ja) 1990-08-30 1990-08-30 新規シロキサン誘導体、その製造方法及びこれを含有する化粧料
ES91113876T ES2110967T3 (es) 1990-08-30 1991-08-19 Producto derivado de polisiloxano, utilizacion como emulsionante y preparaciones cosmeticas.
EP91113876A EP0475130B1 (en) 1990-08-30 1991-08-19 Siloxane derivative, its use as emulsifier and cosmetic preparations
DE69128321T DE69128321T2 (de) 1990-08-30 1991-08-19 Polysiloxanderivat, dessen Verwendung als Emulgator und kosmetische Präparationen
MYPI91001536A MY129994A (en) 1990-08-30 1991-08-23 Novel siloxane derivatives, producing method thereof and agents including siloxane derivative
US07/750,535 US5144054A (en) 1990-08-30 1991-08-27 Siloxane derivatives, producing method thereof and agents including siloxane derivative
US07/926,186 US5306838A (en) 1990-08-30 1992-08-07 Siloxane derivatives, producing method thereof and agents including siloxane derivative
US08/255,753 US5466849A (en) 1990-08-30 1994-06-07 Siloxane derivatives, producing method thereof and agents including siloxane derivative

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2228958A JP2613124B2 (ja) 1990-08-30 1990-08-30 新規シロキサン誘導体、その製造方法及びこれを含有する化粧料

Related Child Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6318128A Division JP2587797B2 (ja) 1994-12-21 1994-12-21 化粧料
JP8261696A Division JP2844453B2 (ja) 1996-10-02 1996-10-02 新規シロキサン誘導体

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH04108795A JPH04108795A (ja) 1992-04-09
JP2613124B2 true JP2613124B2 (ja) 1997-05-21

Family

ID=16884529

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2228958A Expired - Lifetime JP2613124B2 (ja) 1990-08-30 1990-08-30 新規シロキサン誘導体、その製造方法及びこれを含有する化粧料

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2613124B2 (ja)

Cited By (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3118060B2 (ja) 1992-02-28 2000-12-18 花王株式会社 乳化化粧料
EP1935924A1 (en) 2002-09-12 2008-06-25 Shin-Etsu Chemical Company, Ltd. Novel organopolysiloxane polymer, pasty composition, and cosmetic preparation containing the same
EP1946799A2 (en) 2007-01-19 2008-07-23 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Silicone copolymer and cosmetics comprising the same
EP2014701A2 (en) 2007-06-18 2009-01-14 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Organopolysiloxane, a method of preparing the same and a cosmetic comprising the same
EP2103301A1 (en) 2008-03-21 2009-09-23 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Polyglycerin-modified silicone and a cosmetic comprising the same
WO2011049248A1 (ja) 2009-10-23 2011-04-28 東レ・ダウコーニング株式会社 新規な共変性オルガノポリシロキサン
EP2487195A1 (en) 2011-02-09 2012-08-15 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Paste composition and cosmetic containing it
EP2505612A1 (en) 2011-03-28 2012-10-03 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Organopolysiloxane elastomer composition and cosmetic containing the same
EP2602279A1 (en) 2011-12-07 2013-06-12 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Silicone-modified wax, composition and cosmetic preparation containing the same, and production method of silicone-modified wax
WO2013100207A1 (en) 2011-12-27 2013-07-04 Dow Corning Toray Co., Ltd. Novel liquid organopolysiloxane and uses thereof
WO2013100169A1 (en) 2011-12-27 2013-07-04 Dow Corning Toray Co., Ltd. Co-modified organopolysiloxane, emulsifier for water-in-oil emulsion, external use preparation, and cosmetic composition using the same
WO2013100176A2 (en) 2011-12-27 2013-07-04 Dow Corning Toray Co., Ltd. Method of producing a low odor glycerin derivative-modified silicone or a composition comprising the same
WO2013103147A1 (en) 2011-12-27 2013-07-11 Dow Corning Toray Co., Ltd. Diglycerin derivate-modified silicone, emulsifier for water-in-oil emulsion using the same, external use preparation, and cosmetic composition
WO2014104256A1 (ja) 2012-12-28 2014-07-03 東レ・ダウコーニング株式会社 高純度グリセリン誘導体変性シリコーンの製造法
WO2014104257A1 (ja) 2012-12-28 2014-07-03 東レ・ダウコーニング株式会社 高純度有機ケイ素化合物の製造方法
WO2014200111A1 (ja) 2013-06-13 2014-12-18 東レ・ダウコーニング株式会社 長鎖炭化水素基含有ジグリセリン誘導体変性シリコーン及びその利用
EP3072915A1 (en) 2015-03-13 2016-09-28 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Gel paste composition and cosmetic using the gel paste composition
WO2017130257A1 (ja) 2016-01-29 2017-08-03 信越化学工業株式会社 シロキサン骨格を有する吸水性樹脂およびこれを含む化粧料
US10406092B2 (en) 2012-12-28 2019-09-10 Dow Silicones Corporation Method for producing transparent or semi-transparent liquid glycerin-derivative-modified silicone composition

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4584697B2 (ja) * 2003-12-10 2010-11-24 花王株式会社 変性ポリシロキサン及び該変性ポリシロキサンを用いた化粧料
JP4982048B2 (ja) * 2005-02-25 2012-07-25 花王株式会社 毛髪洗浄剤組成物
JP5502337B2 (ja) 2008-03-04 2014-05-28 花王株式会社 毛髪用洗浄剤組成物
DE102009002415A1 (de) * 2009-04-16 2010-10-21 Evonik Goldschmidt Gmbh Emulgator enthaltend glycerinmodifizierte Organopolysiloxane
KR101768154B1 (ko) 2009-10-23 2017-08-16 다우 코닝 도레이 캄파니 리미티드 신규한 오가노폴리실록산 코폴리머
EP2492333B1 (en) 2009-10-23 2014-04-30 Dow Corning Toray Co., Ltd. Thickening or gelling agent for oily raw materials
JP5827790B2 (ja) * 2010-04-28 2015-12-02 東レ・ダウコーニング株式会社 高級アルコール変性シリコーンを含有してなる化粧料および皮膚外用剤
CN104136001B (zh) 2012-02-28 2016-11-09 花王株式会社 化妆品
JP6068097B2 (ja) * 2012-11-02 2017-01-25 花王株式会社 化粧料
EP3147307A4 (en) 2014-04-21 2018-02-28 Dow Corning Toray Co., Ltd. Method for producing liquid high-purity polyhydric alcohol derivative-modified silicone or composition thereof
JP6614643B2 (ja) * 2015-07-23 2019-12-04 株式会社ダイセル 乳化化粧料用組成物
JP6546127B2 (ja) 2016-07-14 2019-07-17 信越化学工業株式会社 新規シリコーン化合物およびこれを含む化粧料
KR102225181B1 (ko) * 2016-08-31 2021-03-09 도레이 카부시키가이샤 폴리실록산, 반도체용 재료, 반도체 및 태양 전지 제조 방법

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57149290A (en) * 1981-03-13 1982-09-14 Shin Etsu Chem Co Ltd Production of glycerol-modified silicone
DE3517615C2 (de) * 1985-05-15 1987-04-09 Titmus Eurocon Kontaktlinsen GmbH, 8750 Aschaffenburg Verfahren zur Hydrophilierung eines Siliconkautschukformkörpers an seiner Oberfläche
JP2583412B2 (ja) * 1986-02-24 1997-02-19 チッソ株式会社 ヒドロキシル基含有シロキサン化合物
US4689383A (en) * 1986-03-18 1987-08-25 Thoratec Laboratories Corp. Hydroxyl-functional disiloxanes and polysiloxane oligomers
JPH07110897B2 (ja) * 1988-01-29 1995-11-29 信越化学工業株式会社 片末端アミノアルキル停止オルガノシロキサン化合物
JPH0692481B2 (ja) * 1989-06-02 1994-11-16 信越化学工業株式会社 ポリラクトン変性オルガノポリシロキサン化合物

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Chem.Phys.Chem.Anwendungstech.Grenzflaechenactiuen Stoffe,Ber.Int.Kongr.,6th,Meeting Date 11 Sep1972−15 Sep1972,Volume Band3,623−30
Chemical Abstracts,83[2](1975),13046b

Cited By (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3118060B2 (ja) 1992-02-28 2000-12-18 花王株式会社 乳化化粧料
EP1935924A1 (en) 2002-09-12 2008-06-25 Shin-Etsu Chemical Company, Ltd. Novel organopolysiloxane polymer, pasty composition, and cosmetic preparation containing the same
EP1992656A1 (en) 2002-09-12 2008-11-19 Shin-Etsu Chemical Company, Ltd. Novel Organopolysiloxanpolymer, Pasty Composition, and Cosmetic Preparation Containing the Composition
EP1946799A2 (en) 2007-01-19 2008-07-23 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Silicone copolymer and cosmetics comprising the same
EP2014701A2 (en) 2007-06-18 2009-01-14 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Organopolysiloxane, a method of preparing the same and a cosmetic comprising the same
EP2103301A1 (en) 2008-03-21 2009-09-23 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Polyglycerin-modified silicone and a cosmetic comprising the same
WO2011049248A1 (ja) 2009-10-23 2011-04-28 東レ・ダウコーニング株式会社 新規な共変性オルガノポリシロキサン
EP2487195A1 (en) 2011-02-09 2012-08-15 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Paste composition and cosmetic containing it
EP2505612A1 (en) 2011-03-28 2012-10-03 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Organopolysiloxane elastomer composition and cosmetic containing the same
EP2602279A1 (en) 2011-12-07 2013-06-12 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Silicone-modified wax, composition and cosmetic preparation containing the same, and production method of silicone-modified wax
US9688821B2 (en) 2011-12-27 2017-06-27 Dow Corning Toray Co., Ltd. Method of producing a low odor glycerin derivative-modified silicone or a composition comprising the same
US9480630B2 (en) 2011-12-27 2016-11-01 Dow Corning Toray Co., Ltd. Co-modified organopolysiloxane, emulsifier for water-in-oil emulsion, external use preparation, and cosmetic composition using the same
WO2013100176A2 (en) 2011-12-27 2013-07-04 Dow Corning Toray Co., Ltd. Method of producing a low odor glycerin derivative-modified silicone or a composition comprising the same
WO2013103147A1 (en) 2011-12-27 2013-07-11 Dow Corning Toray Co., Ltd. Diglycerin derivate-modified silicone, emulsifier for water-in-oil emulsion using the same, external use preparation, and cosmetic composition
US10085928B2 (en) 2011-12-27 2018-10-02 Dow Corning Toray Co., Ltd. Diglycerin derivate-modified silicone, emulsifier for water-in-oil emulsion using the same, external use preparaton, and cosmetic composition
WO2013100169A1 (en) 2011-12-27 2013-07-04 Dow Corning Toray Co., Ltd. Co-modified organopolysiloxane, emulsifier for water-in-oil emulsion, external use preparation, and cosmetic composition using the same
KR20140106745A (ko) 2011-12-27 2014-09-03 다우 코닝 도레이 캄파니 리미티드 동시-개질된 유기폴리실록산, 이를 이용한 유중수 에멀젼용 유화제, 외용 제제, 및 화장 조성물
KR20140127231A (ko) 2011-12-27 2014-11-03 다우 코닝 도레이 캄파니 리미티드 다이글리세린 유도체-개질된 실리콘, 이를 이용한 유중수 에멀젼용 유화제, 외용 제제, 및 화장 조성물
US9975999B2 (en) 2011-12-27 2018-05-22 Dow Corning Toray Co., Ltd. Liquid organopolysiloxane and uses thereof
WO2013100207A1 (en) 2011-12-27 2013-07-04 Dow Corning Toray Co., Ltd. Novel liquid organopolysiloxane and uses thereof
WO2014104257A1 (ja) 2012-12-28 2014-07-03 東レ・ダウコーニング株式会社 高純度有機ケイ素化合物の製造方法
WO2014104256A1 (ja) 2012-12-28 2014-07-03 東レ・ダウコーニング株式会社 高純度グリセリン誘導体変性シリコーンの製造法
US10406092B2 (en) 2012-12-28 2019-09-10 Dow Silicones Corporation Method for producing transparent or semi-transparent liquid glycerin-derivative-modified silicone composition
WO2014200111A1 (ja) 2013-06-13 2014-12-18 東レ・ダウコーニング株式会社 長鎖炭化水素基含有ジグリセリン誘導体変性シリコーン及びその利用
EP3072915A1 (en) 2015-03-13 2016-09-28 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Gel paste composition and cosmetic using the gel paste composition
US11020327B2 (en) 2015-03-13 2021-06-01 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Gel paste composition and cosmetic using the gel paste composition
WO2017130257A1 (ja) 2016-01-29 2017-08-03 信越化学工業株式会社 シロキサン骨格を有する吸水性樹脂およびこれを含む化粧料
US10786440B2 (en) 2016-01-29 2020-09-29 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Water absorbing resin having siloxane skeleton and cosmetic containing the same

Also Published As

Publication number Publication date
JPH04108795A (ja) 1992-04-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2613124B2 (ja) 新規シロキサン誘導体、その製造方法及びこれを含有する化粧料
JP2844453B2 (ja) 新規シロキサン誘導体
US5466849A (en) Siloxane derivatives, producing method thereof and agents including siloxane derivative
US5929164A (en) Quenching post cure
US5889108A (en) Thickening solvents with elastomeric silicone polyethers
TWI459973B (zh) 凝膠組成物及化粧料
JP2601738B2 (ja) 化粧料
JP2587797B2 (ja) 化粧料
US6162888A (en) Method of making silicone polyether copolymers having reduced odor
EP0446938B1 (en) An ester-modified silicone derivative and a cosmetic composition containing the same
EP0478284A2 (en) Organic silicon compounds and cosmetic compositions
EP0698633A2 (en) Method of emulsion polymerization
WO1994014822A1 (en) Polyvalent metal salts of phosphoric diester and organo(poly)siloxanes modified with polyvalent metal salt of phosphoric diester
JP3493535B2 (ja) シリコーン化合物及びそれを含有する化粧料
JPS59175445A (ja) 新規なポリオ−ルエ−テル化合物およびその製造法ならびにこれを含有する化粧料
JP2004231608A (ja) 化粧料
JPH0648916A (ja) 化粧料
JP4764547B2 (ja) 化粧料
JPH05139949A (ja) 美白化粧料
JPH10279692A (ja) シロキサンブロックコポリマー及びその使用
JP2613142B2 (ja) 油中水型乳化化粧料
JP2631550B2 (ja) 新規シロキサン誘導体並びにこれを含有する化粧料用油剤及び化粧料
JP3118060B2 (ja) 乳化化粧料
JP2691654B2 (ja) 油中水型乳化化粧料
WO1995003352A1 (fr) Compose de polyoxyethylene a terminaison hydroxysilyle, copolymere sequence a terminaison de sel quaternaire et promoteur d'absorption percutanee

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080227

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090227

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100227

Year of fee payment: 13

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100227

Year of fee payment: 13

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110227

Year of fee payment: 14

EXPY Cancellation because of completion of term
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110227

Year of fee payment: 14