[go: up one dir, main page]

JP2533339Y2 - Substrate rotation processing equipment - Google Patents

Substrate rotation processing equipment

Info

Publication number
JP2533339Y2
JP2533339Y2 JP10424291U JP10424291U JP2533339Y2 JP 2533339 Y2 JP2533339 Y2 JP 2533339Y2 JP 10424291 U JP10424291 U JP 10424291U JP 10424291 U JP10424291 U JP 10424291U JP 2533339 Y2 JP2533339 Y2 JP 2533339Y2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
inner container
spin chuck
substrate
container
drainage
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP10424291U
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH0520321U (en
Inventor
薫 新原
康弘 倉田
英行 谷口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Screen Holdings Co Ltd
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Screen Holdings Co Ltd
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Screen Holdings Co Ltd, Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd filed Critical Screen Holdings Co Ltd
Priority to JP10424291U priority Critical patent/JP2533339Y2/en
Publication of JPH0520321U publication Critical patent/JPH0520321U/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2533339Y2 publication Critical patent/JP2533339Y2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Description

【考案の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この考案は半導体基板や液晶用ガ
ラス基板等の薄板状被処理基板(以下単に基板という)
を、スピンチャックで保持してその表面処理をするのに
用いられる回転処理装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION This invention relates to a thin substrate to be processed such as a semiconductor substrate or a glass substrate for liquid crystal (hereinafter simply referred to as a substrate).
And a rotary processing apparatus used for performing surface treatment by holding the substrate with a spin chuck.

【0002】[0002]

【従来の技術】この種の表面処理装置としては、従来よ
り例えば図6で示すもの(実公昭63−50847号公
報 考案の名称「半導体装置の製造装置」)が知られて
いる。それは、基板Wを保持して回転するスピンチャッ
ク101と、スピンチャック101で保持した基板Wに
複数種の処理液を供給する処理液吐出ノズル100a・
100bと、スピンチャック101を回転駆動するチャ
ック駆動モータ105と、底部に排液口111を有しス
ピンチャック101の周囲を囲うように設けられた内容
器110と、底部に複数のドレン口121a・121b
を有し内容器110を囲うように設けられた外容器12
0と、内容器110をスピンチャック101の支軸10
3の保護筒104を介して水平回動し、排液口111を
外容器120のいずれかのドレン口121a・121b
に位置選択して臨ませる回動手段125とを具備して成
り、複数種の処理排液を分離回収するように構成されて
いる。
2. Description of the Related Art As this kind of surface treatment apparatus, for example, the apparatus shown in FIG. 6 (Japanese Utility Model Publication No. 63-50847, entitled "Semiconductor Device Manufacturing Apparatus") has been known. It is a spin chuck 101 that holds and rotates a substrate W, and a processing liquid discharge nozzle 100a that supplies a plurality of types of processing liquids to the substrate W held by the spin chuck 101.
100b, a chuck drive motor 105 for rotationally driving the spin chuck 101, an inner container 110 having a drain port 111 on the bottom and surrounding the periphery of the spin chuck 101, and a plurality of drain ports 121a. 121b
And an outer container 12 provided so as to surround the inner container 110.
0 and the inner container 110 is connected to the spindle 10 of the spin chuck 101.
3 through the protection cylinder 104, and the drain port 111 is connected to one of the drain ports 121a and 121b of the outer container 120.
And a rotating means 125 for selecting and facing the position, and configured to separate and collect a plurality of types of processing wastewater.

【0003】[0003]

【考案が解決しようとする課題】上記従来例は、複数種
の処理排液を分離回収するものとして、回動手段125
で内容器110を水平回動させ、単一の排液口111を
外容器120のいずれかのドレン口121a・121b
に位置選択して臨ませる構造であるため、次のような不
都合がある。 イ.排液口111が一つで、その開口面積が小さいた
め、排液を迅速に回収することができない。 ロ.内容器110自体に処理液吐出ノズルや洗浄液供給
ノズルを付設する場合には、内容器110と外容器12
0との間にノズルに連通する変形自在のチューブ等を配
管しなければならず、それにはかなり余分な空間が必要
になる。また、取り付けできるノズルの個数も限られ
る。 ハ.内容器110を回動させる構造のため、チューブ等
の配管が内容器110の回動により破損し易く、しか
も、内容器110自体に排気ダクトを連通連結すること
が困難であり、内容器110内の排気を十分円滑にでき
ない。また外容器120に排気口を設けても、内容器1
10内は間接的な排気しか行えず、排気を速やかに十分
に行うことが困難である。本考案はこのような難点を解
消するためになされたもので、内容器を回動させずに、
かつ複数種の排液を迅速に分離回収可能にすることを技
術課題とする。
In the above-mentioned prior art, the rotating means 125 is used to separate and collect a plurality of types of processing wastewater.
To rotate the inner container 110 horizontally, and set the single drain port 111 to one of the drain ports 121a and 121b of the outer container 120.
In this structure, there is the following inconvenience. I. Since there is only one drain port 111 and its opening area is small, it is not possible to quickly collect drain liquid. B. When the processing liquid discharge nozzle and the cleaning liquid supply nozzle are attached to the inner container 110 itself, the inner container 110 and the outer container 12
A deformable tube or the like that communicates with the nozzle must be provided between the nozzles, and this requires a considerable extra space. Also, the number of nozzles that can be attached is limited. C. Due to the structure of rotating the inner container 110, piping such as a tube is easily damaged by the rotation of the inner container 110, and it is difficult to connect and connect the exhaust duct to the inner container 110 itself. The exhaust of the car cannot be done smoothly. Also, even if an exhaust port is provided in the outer container 120, the inner container 1
Only indirect evacuation can be performed in the interior 10, and it is difficult to exhaust sufficiently quickly. The present invention has been made to solve such difficulties, without rotating the inner container,
Another object of the present invention is to make it possible to quickly separate and collect a plurality of types of wastewater.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本考案は上記課題を解決
するものとして、以下のように構成される。即ち、基板
を保持して回転するスピンチャックと、スピンチャック
を回転駆動するチャック駆動モータと、スピンチャック
で保持した基板に複数種の処理液を供給する処理液吐出
ノズルと、底部に排液口を有しスピンチャックの周囲を
囲うように設けられた内容器と、底部に複数のドレン口
を有し内容器を囲うように設けられた外容器とを具備し
て成り、複数種の処理排液を分離回収するように構成し
た基板の回転処理装置において、内容器及び外容器を固
定配置するとともに、内容器の底部に複数個若しくは円
弧状又はリング状の排液口を、スピンチャックの支軸を
中心とする同心円上に開口形成し、内容器と外容器との
間にスピンチャックの支軸3を回動中心とする排液流通
用樋部材を水平回動自在に付設し、排液流通用樋部材1
5は、その上面に内容器の排液口11と対向するリング
状の樋溝17を凹設するとともに、下面に樋溝17と連
通する単一の排液流下口18を有して成り、樋部材の排
液流下口を外容器のドレン口に位置選択して臨ませる回
動手段を設けたことを特徴とするものである。
The present invention is configured as follows to solve the above-mentioned problems. That is, a spin chuck that holds and rotates the substrate, a chuck drive motor that rotates the spin chuck, a processing liquid discharge nozzle that supplies a plurality of types of processing liquid to the substrate held by the spin chuck, and a drain port at the bottom. Having an inner container provided to surround the periphery of the spin chuck, and an outer container having a plurality of drain ports at the bottom and provided to surround the inner container. In a substrate rotation processing apparatus configured to separate and collect a liquid, an inner container and an outer container are fixedly arranged, and a plurality of or arc-shaped or ring-shaped drain ports are provided at the bottom of the inner container to support a spin chuck. An opening is formed on a concentric circle around the axis, and a drainage flow gutter member is provided between the inner container and the outer container so as to be horizontally rotatable around the support shaft 3 of the spin chuck, and the drainage is performed. Gutter 1 for distribution
5 has a ring-shaped gutter groove 17 facing the liquid outlet 11 of the inner container on the upper surface thereof, and has a single drain flow outlet 18 communicating with the gutter groove 17 on the lower surface thereof. Rotation means is provided for selectively selecting the position of the drainage outlet of the gutter member to face the drain port of the outer container.

【0005】[0005]

【作 用】本考案では、内容器の底部に複数個若しく
は円弧状又はリング状の排液口が、スピンチャックの支
軸を中心とする同心円上に開口形成されており、排液口
の開口面積は十分大きく確保されている。一方、内容器
と外容器との間に付設配置されている排液流通用樋部材
の上面には、内容器の上記排液口と対向するリング状の
樋溝が凹設されており、開口面積の大きい排液口から流
下する排液を、この樋溝で漏れなく回収する。従ってあ
らかじめ回動手段で当該樋部材を回動させることによ
り、樋部材の排液流下口を外容器のいずれかのドレン口
に位置選択して臨ませておけば、内容器から流下する排
液は樋部材を介して回収され、その排液流下口より選択
されたドレン口に流下する。これにより、内容器を回動
させることなく、迅速に排液を回収することができる。
[Operation] In the present invention, a plurality of or arc-shaped or ring-shaped drain ports are formed in a concentric circle centered on the spindle of the spin chuck at the bottom of the inner container. The area is sufficiently large. On the other hand, a ring-shaped gutter groove facing the drainage port of the inner container is formed in the upper surface of the drainage flow gutter member provided between the inner container and the outer container. The drainage flowing down from the drainage outlet having a large area is collected by this gutter without leakage. Therefore, if the drainage outlet of the gutter member is selected and faced to any of the drain ports of the outer container by rotating the gutter member in advance by the rotating means, the drainage flowing down from the inner container is provided. Is collected via a gutter member and flows down to a drain port selected from the drain flow port. Thus, the drainage can be quickly collected without rotating the inner container.

【0006】[0006]

【実施例】以下本考案の実施例を図面に基づいて説明す
る。図1は本考案の第1の実施例に係る回転処理装置の
縦断面図である。この実施例装置は、基板を保持して回
転するスピンチャック1と、スピンチャック1を回転駆
動するチャック駆動モータ5と、スピンチャック1で保
持した基板Wに複数種の処理液Q1・Q2を供給する複数
の処理液吐出ノズル8a・8b及び洗浄液Q3・Q4を供
給する洗浄液吐出ノズル8c・8dと、底部に複数の排
液口11・11を有し、スピンチャック1の周囲を囲う
ように設けられた内容器10と、底部に複数のドレン口
21a〜21d(21c・21dは図示せず)を有し内
容器10を囲うように設けられた外容器20と、内容器
10と外容器20との間に介在させた排液流通用樋部材
15と、排液流通用樋部材15の排液流下口18を、外
容器20のいずれかのドレン口21a〜21dに位置選
択して臨ませる回動手段25とを具備して成り、複数種
の処理排液Q1・Q2、及び洗浄液Q3・Q4をそれぞれ分
離回収するように構成されている。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a longitudinal sectional view of a rotation processing device according to a first embodiment of the present invention. The apparatus of this embodiment includes a spin chuck 1 that holds and rotates a substrate, a chuck driving motor 5 that rotates the spin chuck 1, and a plurality of types of processing liquids Q 1 and Q 2 on a substrate W held by the spin chuck 1. and the cleaning liquid discharge nozzle 8c-8d for supplying a plurality of processing liquid discharge nozzle 8a-8b and washings Q 3, Q 4 supplies, a plurality of drain port 11, 11 at the bottom, around the spin chuck 1 An inner container 10 provided to surround the inner container 10, an outer container 20 having a plurality of drain ports 21a to 21d (21c and 21d are not shown) at the bottom and provided to surround the inner container 10, and an inner container 10; The drainage gutter member 15 interposed between the outer container 20 and the drainage outlet 18 of the drainage gutter member 15 is positioned at any of the drain ports 21 a to 21 d of the outer container 20. And turning means 25 Made by Bei it is composed plural kinds of processing liquid discharge Q 1 · Q 2, and the cleaning liquid Q 3 · Q 4 and to separate and recover, respectively.

【0007】スピンチャック1は、ボス部2を駆動モー
タ5の駆動軸と伝動連結した支軸3で水平回転可能に支
持され、その上面に基板Wを吸着保持して回転するよう
に構成されている。
The spin chuck 1 is horizontally rotatably supported by a support shaft 3 which communicatively connects the boss 2 to a drive shaft of a drive motor 5, and is configured to rotate while sucking and holding the substrate W on its upper surface. I have.

【0008】上記内容器10は、支軸3の保護筒4に固
定した下カップ10Aと、下カップ10Aに対して分離
自在に構成した上カップ10Bとから成り、上カップ1
0Bを下カップ10Aから分離上昇させて、その間にス
ピンチャック1へ基板Wを着脱するように構成されてい
る。
The inner container 10 comprises a lower cup 10A fixed to the protective cylinder 4 of the support shaft 3 and an upper cup 10B which is configured to be separable from the lower cup 10A.
OB is separated and raised from the lower cup 10A, and the substrate W is attached to and detached from the spin chuck 1 during that time.

【0009】一方、下カップ10Aには基板Wの下面に
洗浄液Q3・Q4を噴射して洗浄する洗浄液吐出ノズル8
c・8dが付設され、その底部には複数の排液口11・
11が開口され、側部には排気口14が開口されてい
る。そして各排液口11・11は、その開口面積を十分
大きく確保して、処理排液を迅速に排出するため、スピ
ンチャック1の支軸3を中心とする同心円上に長孔円弧
状に形成され、各排液口11にはメッシュフィルター1
2が装着されている。なお、この内容器10の上部開口
13より気流Fを流下させて、排気口14より処理液ミ
ストを排出するように構成されている。
On the other hand, a cleaning liquid discharge nozzle 8 for spraying cleaning liquids Q 3 and Q 4 onto the lower surface of the substrate W to clean the lower cup 10A.
c · 8d is provided, and a plurality of drain ports 11 ·
11 is opened, and an exhaust port 14 is opened on the side. Each drain port 11 is formed in a long hole arc shape on a concentric circle centered on the support shaft 3 of the spin chuck 1 in order to secure a sufficiently large opening area and quickly discharge the processing drain liquid. Each drain port 11 has a mesh filter 1
2 is installed. The air flow F is caused to flow down from the upper opening 13 of the inner container 10, and the processing liquid mist is discharged from the exhaust port 14.

【0010】上記排液流通用樋部材15は、平面視円形
の回動基枠16を上記保護筒4に軸受7を介して水平回
動可能に支持させ、回動基枠16の上面に内容器10の
長孔円弧状の排液口11と対向するリング状の樋溝17
を形成し、回動基枠16の下面に樋溝17と連通する単
一の排液流下口18を凸設して成り、開口面積の大きな
排液口11から流下する各排液Q1〜Q4を、樋溝17で
漏れなく回収して排液流下口18より流下させるように
構成されている。
The drainage flow gutter member 15 supports a circular base frame 16 having a circular shape in a plan view on the protective cylinder 4 via a bearing 7 so as to be horizontally rotatable. Ring-shaped gutter groove 17 facing the long-hole arc-shaped drain port 11 of the vessel 10
To form a composed and projectingly provided a single drainage falling port 18 which communicates with the Toimizo 17 on the lower surface of Kaidomotowaku 16, each drainage Q 1 ~ flowing down from a large drain port 11 opening area Q 4 is collected without being leaked in the gutter groove 17 and is caused to flow down from the drainage flow outlet 18.

【0011】上記回動手段25は、外容器20の下面に
固定具23及び軸受24を介して固設された駆動モータ
26と、駆動モータ26の駆動軸に固設された駆動ギア
27と、上記回動基枠16の外周に固設されたリングギ
ア28とから成り、排液流通用樋部材15を回動させて
その排液流下口18を、外容器20のいずれかのドレン
口21a〜21b(21c・21dは図示せず)に位置
選択して臨ませるように構成されている。なお外容器2
0の底部には、前記ドレン口21a〜21dの他に、液
漏れ等によって外容器20自体に溜まる排液を回収する
ドレン口21が設けられている。
The rotation means 25 includes a drive motor 26 fixedly mounted on the lower surface of the outer container 20 via a fixture 23 and a bearing 24, a drive gear 27 fixedly mounted on a drive shaft of the drive motor 26, And a ring gear 28 fixedly mounted on the outer periphery of the rotation base frame 16. The drainage flow gutter member 15 is rotated so that the drainage flow-down port 18 is connected to one of the drain ports 21 a of the outer container 20. To 21b (21c and 21d are not shown). Outer container 2
In addition to the drain ports 21a to 21d, a drain port 21 for collecting drainage collected in the outer container 20 itself due to liquid leakage or the like is provided at the bottom of 0.

【0012】図2は本考案の第2の実施例に係る回転処
理装置の要部破断縦断面図である。この実施例装置は、
内容器10の上部開口13を開閉蓋13Aで開閉自在に
閉止し、開閉蓋13Aに不活性窒素ガスN2のガス吐出
ノズル9を付設し、内容器10の上カップ10Bに複数
の処理液吐出ノズル8a・8bを付設して成り、処理液ミ
ストを不活性窒素ガスN2の流下気流に乗せて排気口1
4より排出するように構成されている。なおその他の点
では第1の実施例と同様に構成されている。
FIG. 2 is a fragmentary vertical sectional view of a rotary processing apparatus according to a second embodiment of the present invention. This embodiment device is
The upper opening 13 of the inner container 10 is opened and closed by an open / close lid 13A, and a gas discharge nozzle 9 for inert nitrogen gas N 2 is attached to the open / close lid 13A, and a plurality of processing liquids are discharged to an upper cup 10B of the inner container 10. made by attaching a nozzle 8a · 8b, exhaust put the processing liquid mist flow down stream of inert nitrogen gas N 2 inlet 1
4 so as to be discharged. In other respects, the configuration is the same as that of the first embodiment.

【0013】図3は本考案の第3の実施例に係る回転処
理装置の縦断面図、図4は図3のIV−IV線横断平面図で
ある。以下この実施例装置が先の実施例装置と相違する
点について説明する。開閉蓋13Aは、外容器20の上
側に開閉自在に設けられている。この開閉蓋13Aには
図2と同様にガス吐出ノズル9が付設され、このガス吐
出ノズル9より不活性窒素ガスN2を吐出させて、ダウ
ンフローFを形成するように構成されている。
FIG. 3 is a longitudinal sectional view of a rotary processing apparatus according to a third embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a plan view taken along line IV-IV of FIG. Hereinafter, differences between this embodiment and the previous embodiment will be described. The opening / closing lid 13A is provided on the upper side of the outer container 20 so as to be freely opened and closed. This is the opening and closing lid 13A 2 in the same manner as in gas discharge nozzle 9 is attached, the gas discharge by discharging the inert nitrogen gas N 2 from the nozzle 9, and is configured to form a downflow F.

【0014】基板Wを保持して回転するスピンチャック
は、いわゆるメカニカルスピンチャック31である。こ
のメカニカルスピンチャック31は、支軸3の上端ボス
部32より複数の水平アーム33を放射状に延出して、
相対向する各水平アーム33の先端部に一対をなす基板
支持具34を立設し、一方の基板支持具を固定支持具3
4a、他方の基板支持具を可動支持具34bとし、リン
ク35で可動支持具34bを操作して、各基板支持具3
4a・34bの段差部に基板Wを保持して回転するよう
に構成されている。このメカニカルスピンチャック31
によれば、洗浄液吐出ノズル8c・8dから吐出する洗
浄液が基板Wの下面に十分供給され、基板の下面の洗浄
が容易になる。
The spin chuck that rotates while holding the substrate W is a so-called mechanical spin chuck 31. This mechanical spin chuck 31 radially extends a plurality of horizontal arms 33 from an upper end boss portion 32 of the support shaft 3,
A pair of substrate supports 34 are erected at the distal ends of the opposed horizontal arms 33, and one of the substrate supports is fixed to the fixed support 3.
4a, the other substrate support is a movable support 34b, and the movable support 34b is
The substrate W is configured to rotate while holding the substrate W at the stepped portions of 4a and 34b. This mechanical spin chuck 31
According to this, the cleaning liquid discharged from the cleaning liquid discharge nozzles 8c and 8d is sufficiently supplied to the lower surface of the substrate W, and the lower surface of the substrate can be easily cleaned.

【0015】内容器40は、支軸3の保護筒4の上側端
に円錐台形の固定具38を介して固定された下カップ4
0Aと、下カップ40Aに対して下降し内嵌可能に構成
された上カップ40Bとから成り、上カップ40Bを仮
想線で示すように、下カップ40A内に内嵌下降させた
状態で、基板Wをメカニカルスピンチャック31へ装着
し、実線で示す位置で処理液吐出ノズル8より処理液を
基板Wに供給して基板の表面処理をするように構成され
ている。
The inner container 40 includes a lower cup 4 fixed to the upper end of the protective cylinder 4 of the support shaft 3 via a frusto-conical fixing member 38.
0A and an upper cup 40B that is configured to be lowered and capable of being fitted into the lower cup 40A, and the upper cup 40B is fitted into the lower cup 40A as shown by the phantom line. W is mounted on the mechanical spin chuck 31, and the processing liquid is supplied to the substrate W from the processing liquid discharge nozzle 8 at a position indicated by a solid line to perform the surface treatment of the substrate.

【0016】上記下カップ40Aの底壁には、スピンチ
ャック31の軸心Zに対して同心状に、4つの長孔円弧
状の排液口11が開口形成され、また底壁の内面は、円
弧状の排液口11に向かって下り勾配に形成されてお
り、迅速に処理液を流下させて排出するように構成され
ている。また、図3〜図4で示すように、下カップ40
Aの周壁部にはリング状の排気チャンバ41が一体に形
成されている。この排気チャンバ41は、チャンバ内壁
41aに平面視で等間隔にあけた複数個の連通孔42を
介して内容器40内と連通し、この排気チャンバ41に
は強制排気ダクト45が接続されている。なお、上記連
通孔42は、処理液ないし処理液ミストの排出を容易に
するため、下り勾配に形成された底壁内面に沿ってあけ
られており、この連通孔42に代えて連通スリットをチ
ャンバ内壁41aに形成してもよい。
On the bottom wall of the lower cup 40A, there are formed four elongated arc-shaped drain ports 11 concentrically with respect to the axis Z of the spin chuck 31, and an inner surface of the bottom wall is formed as follows. The processing liquid is formed so as to have a downward slope toward the arc-shaped liquid discharge port 11, and is configured to quickly flow down and discharge the processing liquid. Also, as shown in FIGS.
A ring-shaped exhaust chamber 41 is formed integrally with the peripheral wall of A. The exhaust chamber 41 communicates with the inside of the inner container 40 via a plurality of communication holes 42 equally spaced in plan view on the chamber inner wall 41a, and a forced exhaust duct 45 is connected to the exhaust chamber 41. . The communication hole 42 is formed along the inner surface of the bottom wall formed with a downward slope in order to facilitate the discharge of the processing liquid or the processing liquid mist. It may be formed on the inner wall 41a.

【0017】この排気チャンバ41を介して内容器40
内を排気することにより、内容器40内へ流下したダウ
ンフローFは、基板Wの表面に触れた後、放射状方向へ
均等に流れて流下し、各連通孔42とリング状の排気チ
ャンバ41とを順に通って強制排気ダクト45から排出
される。これにより、内容器40内ではダウンフローF
の均等な流れが形成され、図1の側壁部に直接排気口1
4を開口したものに比べて、基板Wの表面処理品質が一
段と向上する。また、ダウンフローFが下り勾配の底壁
内面に沿ってあけられている連通孔42と排気チャンバ
41とを順に通過することにより、ダウンフローFに含
まれている処理液は排気と分離され、処理液の持ち出し
を防止する。これにより、処理液の無駄な消費を抑制す
ることができる。
The inner container 40 is provided through the exhaust chamber 41.
The downflow F that has flowed down into the inner container 40 by exhausting the inside flows down uniformly after flowing down in the radial direction after coming into contact with the surface of the substrate W, so that each communication hole 42 and the ring-shaped exhaust chamber 41 Are sequentially discharged from the forced exhaust duct 45. As a result, the downflow F
1 is formed directly on the side wall of FIG.
The surface treatment quality of the substrate W is further improved as compared with the one having the openings 4. Further, the processing liquid contained in the downflow F is separated from the exhaust gas by sequentially passing the downflow F through the communication hole 42 and the exhaust chamber 41 formed along the inner surface of the bottom wall of the downward slope, Prevents removal of processing liquid. Thereby, useless consumption of the processing liquid can be suppressed.

【0018】前記処理液吐出ノズル8は、図3の仮想線
で示す待機位置と実線で示す液供給位置との間を、斜め
に昇降可能に設けられ、実線で示す位置で処理液を基板
Wに供給して基板の表面処理をするように構成されてい
る。なお、この処理液吐出ノズル8は、複数種の表面処
理液を適宜切り替えて供給するように構成されている。
一方、下カップ10Aの底壁には、図4で示すように、
2種類の洗浄液吐出ノズル8c・8dが付設されされて
いる。これらは4個の洗浄液吐出ノズル8cと2個の洗
浄液吐出ノズル8dとでそれぞれ2つの洗浄系統を構成
している。また、4個のノズル8cを2個づつ2組に分
け、合計3種類の洗浄液を使用するようにしても良い。
その場合外容器20のドレン口21a〜21dはさらに
1個増やす必要がある。さらに1つのノズルにつき1種
類の洗浄液を使用するとすれば、ドレン口も4個増加し
て最大で合計6種類の洗浄系統を構成することもでき
る。これにより、複数種の表面処理に対応し得るように
構成されている。なお、その他の排液流通用樋部材15
やその回動動手段25等については、図1と同様に構成
されている。
The processing liquid discharge nozzle 8 is provided so as to be able to ascend and descend obliquely between a standby position indicated by a virtual line in FIG. 3 and a liquid supply position indicated by a solid line. For surface treatment of the substrate. The processing liquid discharge nozzle 8 is configured to supply a plurality of types of surface processing liquids by appropriately switching.
On the other hand, on the bottom wall of the lower cup 10A, as shown in FIG.
Two types of cleaning liquid discharge nozzles 8c and 8d are additionally provided. These form two cleaning systems each with four cleaning liquid discharge nozzles 8c and two cleaning liquid discharge nozzles 8d. Alternatively, the four nozzles 8c may be divided into two sets of two nozzles, and a total of three types of cleaning liquids may be used.
In that case, it is necessary to further increase the number of drain ports 21a to 21d of the outer container 20. Further, if one type of cleaning liquid is used for one nozzle, the number of drain ports can be increased by four, and a total of six types of cleaning systems can be configured. Thereby, it is constituted so that it can respond to a plurality of types of surface treatments. In addition, other drainage flow gutter members 15
And its rotating means 25 are configured in the same manner as in FIG.

【0019】図5は内容器の変形例を示す縦断面図であ
る。この内容器50は、周壁部にリング状の排気チャン
バ51を一体に形成し、チャンバ内壁51aには複数の
連通孔52を、スピンチャック1で保持した基板Wの高
さに位置させて開口し、ダウンフローFが基板Wの表面
に触れた後、そのまま放射方向へ均一に拡がって排気チ
ャンバ51内に流入するように構成されている。また、
チャンバ内壁51aの下縁には、処理液の排出孔53が
あけられており、ダウンフローFに含まれている処理液
は、排気チャンバ51内で分離されて排出孔53より流
下するように構成されている。なお、この場合スピンチ
ャック1は昇降可能に設けられ、その他の点は図3と同
様に構成されている。
FIG. 5 is a longitudinal sectional view showing a modification of the inner container. In the inner container 50, a ring-shaped exhaust chamber 51 is integrally formed on a peripheral wall portion, and a plurality of communication holes 52 are opened and opened at a height of the substrate W held by the spin chuck 1 on a chamber inner wall 51a. After the down flow F touches the surface of the substrate W, the down flow F spreads uniformly in the radial direction and flows into the exhaust chamber 51. Also,
A discharge hole 53 for the processing liquid is formed in the lower edge of the chamber inner wall 51a, and the processing liquid contained in the downflow F is separated in the exhaust chamber 51 and flows down from the discharge hole 53. Have been. In this case, the spin chuck 1 is provided so as to be able to move up and down, and the other points are configured similarly to FIG.

【0020】上記実施例では、内容器10の排液口11
が複数個形成され、各排液口11・11がそれぞれ支軸
3を円弧の中心とする長孔円弧状に形成され、各排液口
11にはメッシュフィルター12が装着されているもの
について説明したが、本考案は上記実施例に限るもので
はなく、内容器10を固定したまま、排液口11の開口
断面積を十分大きく確保して処理排液を迅速に排出でき
るものであれば良く、 排液口を2個以上設けたもの、 長孔円弧状の排液口を1個設けたもの、 リング状の排液口を1個設けたもの、等適宜変形可
能であり、さらに回動手段、内容器の形状、処理液吐出
ノズルの配置及び個数、外容器の形状、ドレン口の個数
等についても、本考案の範囲内で多様な変形を加えて実
施することができる。
In the above embodiment, the drain port 11 of the inner container 10
Are formed, each drain port 11 is formed in the shape of a long hole arc having the support shaft 3 as the center of an arc, and each drain port 11 is provided with a mesh filter 12. However, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and any device can be used as long as the drainage port 11 can be secured with a sufficiently large opening cross-sectional area and the treated wastewater can be quickly discharged while the inner container 10 is fixed. , One provided with two or more drain outlets, one provided with a long arc-shaped drain outlet, one provided with a ring-shaped drain outlet, etc. The means, the shape of the inner container, the arrangement and number of the processing liquid discharge nozzles, the shape of the outer container, the number of the drain ports, and the like can be variously modified within the scope of the present invention.

【0021】[0021]

【考案の効果】以上の説明で明らかなように、本考案で
は内容器の底部に開口面積を十分大きくした排液口が、
スピンチャックの支軸を中心とする同心円上に開口形成
されており、一方、内容器の上記排液口と対向するリン
グ状の樋溝を有する排液流通用樋部材を、内容器と外容
器との間に介在させたので以下の効果を奏する。 イ.内容器から流下する排液を複数種の排液毎に分離し
て漏れなく、迅速に回収することができる。 ロ.内容器を回動させる必要がないので、内容器自体に
処理液吐出ノズルや洗浄液供給ノズルを固設した場合で
も、内容器と外容器との間にノズルに連通する変形自在
のチューブ等を配管するための余分な空間を必要としな
い。また、従来よりもノズルを多く付設できる。 ハ.内容器を回動させる必要がないので、ノズルの配管
が破損するおそれもなくなり、また、内容器自体に排気
ダクトを連通連結することが容易であり、内容器内の排
気を十分速やかに円滑にできる。 ニ.内容器の周壁部に排気チャンバを設け、チャンバ内
壁にあけた連通孔又は連通スリット及び排気チャンバを
介して排気する場合には、内容器内のダウンフローが均
一になり、基板の表面処理品質が一段と向上する。しか
も、処理液の無駄な消費量を抑制することができる。
[Effects of the invention] As is clear from the above description, in the present invention, a drain port with a sufficiently large opening area is provided at the bottom of the inner container.
A drainage flow gutter member having a ring-shaped gutter groove formed in a concentric circle centered on a spindle of the spin chuck and having a ring-shaped gutter groove facing the drainage port of the inner container is provided with an inner container and an outer container. Thus, the following effects can be obtained. I. The drainage liquid flowing down from the inner container can be separated for each of a plurality of types of drainage liquid and can be promptly collected without leakage. B. Since there is no need to rotate the inner container, even if a processing liquid discharge nozzle or cleaning liquid supply nozzle is fixed to the inner container itself, a deformable tube that communicates with the nozzle is piped between the inner container and the outer container. No extra space is needed to do so. Further, more nozzles can be provided than before. C. Since there is no need to rotate the inner container, there is no danger of damaging the piping of the nozzle, and it is easy to connect and connect the exhaust duct to the inner container itself. it can. D. When an exhaust chamber is provided on the peripheral wall of the inner container and air is exhausted through a communication hole or a communication slit formed in the inner wall of the chamber and the exhaust chamber, the downflow in the inner container becomes uniform, and the surface treatment quality of the substrate is improved. Improve further. In addition, useless consumption of the processing liquid can be suppressed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本考案の第1の実施例に係る回転処理装置の縦
断面図である。
FIG. 1 is a longitudinal sectional view of a rotation processing device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本考案の第2の実施例を示す回転処理装置の要
部破断縦断面図である。
FIG. 2 is a fragmentary vertical sectional view of a main part of a rotation processing device showing a second embodiment of the present invention.

【図3】本考案の第3の実施例に係る回転処理装置の縦
断面図である。
FIG. 3 is a vertical sectional view of a rotation processing device according to a third embodiment of the present invention.

【図4】本考案の第3の実施例に係る回転処理装置の横
断平面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional plan view of a rotation processing device according to a third embodiment of the present invention.

【図5】本考案に係る内容器の変形例を示す縦断面図で
ある。
FIG. 5 is a longitudinal sectional view showing a modified example of the inner container according to the present invention.

【図6】従来例に係る回転処理装置の縦断面図である。FIG. 6 is a longitudinal sectional view of a rotation processing device according to a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1・31…スピンチャック、 3…スピンチャ
ックの支軸、5…チャック駆動モータ、 8
a〜8d…処理液吐出ノズル、10・40…内容器、
11…排液口、15…排液流通用樋部
材、 17…リング状の樋溝、18…排液流
下口、 20…外容器、21a・21b…
ドレン口、 25…回動手段、41・51…排
気チャンバ、 41a・51a…チャンバ内
壁、42…連通孔又は連通スリット、 W…基板。
1, 31: Spin chuck, 3: Spindle spindle, 5: Chuck drive motor, 8
a to 8d: processing liquid discharge nozzle, 10/40: inner container,
Reference numeral 11: drainage outlet, 15: drainage gutter member, 17: ring-shaped gutter groove, 18: drainage outlet, 20: outer container, 21a / 21b ...
Drain port, 25: rotating means, 41, 51: exhaust chamber, 41a, 51a: chamber inner wall, 42: communication hole or slit, W: substrate.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)考案者 谷口 英行 滋賀県彦根市高宮町480番地の1 大日 本スクリーン製造株式会社 彦根地区事 業所内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Hideyuki Taniguchi 1 480 Takamiyacho, Hikone City, Shiga Prefecture Dainippon Screen Manufacturing Co., Ltd.

Claims (2)

(57)【実用新案登録請求の範囲】(57) [Scope of request for utility model registration] 【請求項1】 基板を保持して回転するスピンチャック
と、スピンチャックを回転駆動するチャック駆動モータ
と、スピンチャックで保持した基板に複数種の処理液を
供給する処理液吐出ノズルと、底部に排液口を有しスピ
ンチャックの周囲を囲うように設けられた内容器と、底
部に複数のドレン口を有し内容器を囲うように設けられ
た外容器とを具備して成り、複数種の処理排液を分離回
収するように構成した基板の回転処理装置において、 内容器及び外容器を固定配置するとともに、内容器の底
部に複数個若しくは円弧状又はリング状の排液口をスピ
ンチャックの支軸を中心とする同心円上に開口形成し、 内容器と外容器との間にスピンチャックの支軸を回動中
心とする排液流通用樋部材を水平回動自在に付設し、排
液流通用樋部材は、その上面に内容器の排液口と対向す
るリング状の樋溝を凹設するとともに、下面に樋溝と連
通する単一の排液流下口を有して成り、 樋部材の排液流下口を外容器のドレン口に位置選択して
臨ませる回動手段を設けたことを特徴とする基板の回転
処理装置。
1. A spin chuck that holds and rotates a substrate, a chuck drive motor that rotationally drives the spin chuck, a processing liquid discharge nozzle that supplies a plurality of types of processing liquid to the substrate held by the spin chuck, An inner container having a drain port and provided so as to surround the periphery of the spin chuck; and an outer container having a plurality of drain ports at the bottom and provided so as to surround the inner container. In the substrate rotation processing apparatus configured to separate and collect the processing wastewater, the inner container and the outer container are fixedly arranged, and a plurality of or arc-shaped or ring-shaped drainage ports are provided at the bottom of the inner container by a spin chuck. An opening is formed on a concentric circle centered on the support shaft of the spin chuck, and a drainage flow gutter member about the support shaft of the spin chuck is provided between the inner container and the outer container so as to be horizontally rotatable. The gutter member for liquid distribution is A ring-shaped gutter groove facing the drainage outlet of the inner container is recessed on the upper surface of the inner container, and a single drainage flow outlet communicating with the gutter groove is formed on the lower surface. A substrate rotation processing device provided with a rotating means for selecting a position of the substrate to a drain port of an outer container so as to face the drain port.
【請求項2】 前記内容器の周壁部にリング状の排気チ
ャンバを設け、チャンバ内壁に複数個の連通孔又は連通
スリットを開口形成して排気チャンバと内容器内とを連
通した請求項1に記載の基板の回転処理装置。
2. A method according to claim 1, wherein a ring-shaped exhaust chamber is provided on a peripheral wall of the inner container, and a plurality of communication holes or communication slits are formed in the inner wall of the chamber to communicate the exhaust chamber with the inner container. A substrate rotation processing apparatus according to any one of the preceding claims.
JP10424291U 1991-06-28 1991-11-22 Substrate rotation processing equipment Expired - Lifetime JP2533339Y2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10424291U JP2533339Y2 (en) 1991-06-28 1991-11-22 Substrate rotation processing equipment

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5841991 1991-06-28
JP3-58419 1991-06-28
JP10424291U JP2533339Y2 (en) 1991-06-28 1991-11-22 Substrate rotation processing equipment

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0520321U JPH0520321U (en) 1993-03-12
JP2533339Y2 true JP2533339Y2 (en) 1997-04-23

Family

ID=26399477

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10424291U Expired - Lifetime JP2533339Y2 (en) 1991-06-28 1991-11-22 Substrate rotation processing equipment

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2533339Y2 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190035549A (en) 2017-09-26 2019-04-03 시바우라 메카트로닉스 가부시끼가이샤 Substrate treatment device and substrate treatment method

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002329705A (en) * 2001-04-26 2002-11-15 Shibaura Mechatronics Corp Spin treatment unit

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190035549A (en) 2017-09-26 2019-04-03 시바우라 메카트로닉스 가부시끼가이샤 Substrate treatment device and substrate treatment method

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0520321U (en) 1993-03-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6417117B1 (en) Spin coating spindle and chuck assembly
US5829156A (en) Spin dryer apparatus
JPH0715150B2 (en) Thin material cleaning equipment
JPH1154472A (en) Device for treating wafer-like object, particularly silicon wafer
JP3731995B2 (en) Substrate processing equipment
US6494220B1 (en) Apparatus for cleaning a substrate such as a semiconductor wafer
JPH081064A (en) Rotary treating device
US20090000645A1 (en) Device and Method for Liquid Treating Disc-Like Articles
JPH07106233A (en) Rotary type substrate treater
JP2533339Y2 (en) Substrate rotation processing equipment
JP2004265910A (en) Fractional recovery system of liquid for processing substrate, processing system of substrate equipped with that system, and fractional recovery method of liquid for processing substrate
JP4255702B2 (en) Substrate processing apparatus and method
JP2002170805A (en) Wafer washing apparatus
JP2957383B2 (en) Rotary coating device
US4735000A (en) Apparatus for drying substrates
JP2002329705A (en) Spin treatment unit
JPH1041270A (en) Wafer treating apparatus
JP2002016031A (en) Substrate treatment method
JP2000021841A (en) Wafer treatment method and wafer treatment apparatus
JP2908224B2 (en) Rotary coating device
JP2003282516A (en) Substrate treatment equipment
JP2003047903A (en) Substrate treating apparatus and rectification plate thereof
WO2012156858A2 (en) Device and process for liquid treatment of wafer shaped articles
JPS5850742A (en) Apparatus for wafer washing and drying
JP4217095B2 (en) Substrate cleaning processing equipment

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term