JP2024542694A - 抗菌組成物 - Google Patents

Abstract

本発明は、抗菌組成物、詳細にはニキビを予防又は治療する方法及び組成物に関する。それは、特定の置換されたフェノール化合物と組み合わせてアルキル置換されたジヒドロキシベンゼンを含む組成物によって達成される。本組成物は、悪臭を抑制する効果を有することもわかる。

Description

本発明は、抗菌組成物、詳細にはニキビを予防又は治療する方法及び組成物に関する。本組成物は、特にヒトの脇の下の悪臭を抑制する効果を有することもわかる。

ニキビは尋常性座瘡とも呼ばれ、ほぼすべての青少年や成人が人生のある時点で罹る一般的な皮膚状態である。その病因は複雑で、異常な角質化、過剰な皮脂産生、アンドロゲン機能、細菌増殖、免疫過敏などが関与している。上記のプロセスの１以上がニキビと関連しているが、ニキビ病変の形成につながる一つの誘因と正確な事象の順序については完全には解明されていない。ニキビと関連している他の要因としては、フリーラジカルの存在とそれに続く酸化ストレスによる細胞損傷が挙げられる。ニキビは通常、顔、首及び背中などの皮脂腺が豊富な領域に発生することが観察されている。

細菌キューティバクテリウム・アクネス（Ｃｕｔｉｂａｃｔｅｒｉｕｍ ａｃｎｅｓ）（Ｃ．アクネス（Ｃ． ａｃｎｅｓ））は以前はプロピオニバクテリウム・アクネス（Ｐｒｏｐｉｏｎｉｂａｃｔｅｒｉｕｍ ａｃｎｅｓ）と称されていたが、ニキビの発生においても示唆されてきた。それは、ヒトの顔の皮膚表面に生息する重要かつ優勢な細菌の一つである。Ｃ．アクネス（Ｃ． ａｃｎｅｓ）は、酸素耐性嫌気性で、増殖が遅い、桿形状のグラム陽性菌である。それは皮脂腺に生息し、皮膚常在細菌叢の重要な部分を構成している。Ｃ．アクネス（Ｃ． ａｃｎｅｓ）は、皮脂や周囲の皮膚組織からの副産物をエネルギー源や栄養源として利用する。その結果、脂肪酸が放出され、それが毛包壁を刺激して炎症を引き起こすことで、ニキビ又は尋常性座瘡を引き起こし得る。尋常性座瘡は、毛包脂腺の慢性の炎症性障害である。それは、ほぼすべての青年が人生のある時点で罹患し、１５～２０％が中等度から重度のニキビに悩まされている。

ニキビはこれまで多くの方法で治療されてきた。ほとんどの治療では、目立った変化が見られるまでに数週間から数ヶ月かかる。抗菌作用のある過酸化ベンゾイルは、軽度の面皰の症例に使用されてきた。非常に重度のニキビの症例では、テトラサイクリン、エリスロマイシン及びクリンダマイシンなどの抗生物質が使用されてきた。抗生物質はいくつかの機序によって作用すると考えられており、最も重要なのは毛包内及び毛包周囲の細菌数の減少である。また、抗生物質は皮脂中の白血球によって産生される刺激性化学物質を減らし、それによって炎症反応を軽減すると考えられている。しかしながら、抗生物質や他の種類の一般的な抗菌治療の欠点は、広スペクトラムであって、皮膚上のほとんどの細菌を殺したり抑制するのを助けることである。

ヒトにおいては、腋の下の皮膚は細菌にとって独特の生息場所となっている。皮膚に開口するさまざまな腺の分泌物により、環境が栄養分豊富となり、独特の微生物群を形成させる。ヒトでは、脇の下のアポクリン腺分泌物、脇の下の細菌及び体臭の間の関連が古くから知られている。この関係に関する培養に基づく試験で、脇の下微生物叢はブドウ球菌、コリネバクテリウム、プロピオニバクテリウム属が優勢であることが認められた。より最近の培養に依存しない研究では、これらの属の存在が確認され、さらに、アナエロコッカス属及びペプトニフィラス属に属するグラム陽性嫌気性球菌（ＧＰＡＣ）の存在が示された。これらの研究の主たる理由は、脇の下の悪臭の原因となる標的細菌種を特定し、脇の下の悪臭軽減効果をもたらすためにその細菌種を抑制する戦略を考案することにあった。

ヒトの体臭はいくつかの化学物質を含むが、最も刺激が強く、認識しやすいのはチオアルコールである。これらの分子は、無臭の前駆体である脇の下にある腺で産生される化合物から始まる一連の化学反応によって生成される。一般的な理論では、スタフィロコッカス・ホミニス（Ｓｔａｐｈｙｌｏｃｏｃｃｕｓ ｈｏｍｉｎｉｓ）（Ｓ．ホミニス（Ｓ．ｈｏｍｏｎｉｓ））と呼ばれる一種の細菌がこれらの分子を取り込み、それを、体に悪臭を与えるチオアルコールに変換すると考えられている。

体臭には、さまざまな方法で対処がなされてきた。これらの手法のいくつかは、香料を使用して悪臭を隠すことであるが、この手法は限られた期間しか効果がない。制汗剤組成物も利用可能であるが、それらは汗腺をブロックすることにより、体から汗を通して望ましくない化学物質を排出する機序を奪う。本発明者らは、悪臭の問題を解決しようと、脇の下領域の細菌集団を抑制する方法に取り組んだ。アルコールなどの薬剤を使用することで、皮膚上のすべての細菌を完全に根絶又は低減することができる。しかしながら、多くの消費者が、アルコールは皮膚に刺激が強いと感じている。

上記課題を解決するために、本発明者らは、例えばレゾルシノール誘導体と置換フェノール化合物との組み合わせが関与する課題解決法を思いついた。

本発明の目的は、ニキビの発生を予防又は軽減することである。

本発明の別の目的は、体臭に対処する抗菌組成物を提供することである。

本発明の第１の態様は、
（ｉ）アルキル置換されたジヒドロキシベンゼンであって、当該アルキル基が２～１０個の炭素原子を含むジヒドロキシベンゼン；
（ｉｉ）４－ｓｅｃブチルフェノール、４－シクロペンチルフェノール、４－ベンジルフェノール、及び２－シクロペンチルフェノールの１以上から選択される置換されたフェノール化合物；及び
（ｉｉｉ）美容上許容されるベース
を含む、抗菌組成物に関するものである。

本発明の別の態様は、第１の態様の組成物を所望の皮膚表面に適用して、皮膚に抗ニキビ効果を提供するための第１の態様による組成物に関するものである。

本発明のさらに別の態様は、第１の態様の組成物を所望の皮膚表面に適用して、皮膚の悪臭を軽減する第１の態様による組成物に関するものである。

これら及び他の態様、特徴及び利点は、以下の詳細な説明及び添付の特許請求の範囲を読むことにより、当業者には明らかとなるであろう。誤解を避けるために、本発明の１態様の任意の特徴を、本発明の他の任意の態様で利用することができる。「含む（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」という言葉は、「含む（ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ）」を意味することを意図しているが、必ずしも「からなる（ｃｏｎｓｉｓｔｉｎｇ ｏｆ）」又は「構成されている（ｃｏｍｐｏｓｅｄ ｏｆ）」とは限らない。言い換えれば、列記された段階又は選択肢は網羅的である必要はない。留意すべき点として、下記の説明に記載されている例は、本発明を明確にすることを意図するものであり、本発明をそれらの例自体に限定することを意図していない。同様に、別断の断りがない限り、全てのパーセントは重量／重量パーセントである。

動作例及び比較例を除いて、又は別断で明瞭に示されている場合を除き、材料の量又は反応条件、材料の物性、及び／又は使用を示す本説明における全ての数字は、「約」という単語によって修飾されているものと理解されるべきである。別断の断りがない限り、「ｘからｙまで」の形式で表される数値範囲は、ｘ及びｙを含むものと理解される。特定の特徴について、複数の好ましい範囲が「ｘからｙまで」の形式で記述される場合、異なるエンドポイントを組み合わせた全ての範囲も想到されることは明らかである。

本発明による組成物は、哺乳動物、特にヒトの皮膚及び／又は毛髪などの局所領域に効果をもたらすために、リーブオン又はウォッシュオフ形式の形態とすることができると考えられる。このような組成物は、外観、クレンジング又は一般的な美しさを改善するためにも人体に適用されるあらゆる製品を含む。本発明の組成物は、無水ベース、液体、ローション、クリーム、フォーム、スクラブ、ジェル、エマルジョン又は推進剤であることができる局所／美容上許容されるベースとともに送達させることができる。本明細書で使用される場合、「皮膚」は、身体のあらゆる部分（例えば、首、胸、背中、腕、脇の下、手、脚、臀部、及び頭皮）の皮膚、特に脇の下又は顔を含むことを意味する。それは、脇の下（又は腋窩）又は悪臭が発生する身体の他のいずれかの部分からの悪臭を軽減するのに特に有用である。所望の抗ニキビ効果を得るために、本発明の組成物は、一般的にニキビに悩まされているように見える身体のあらゆる部分に適用することができる。そのような表面には、顔やニキビが形成される体の他のあらゆる部分が含まれる。

本発明の抗菌組成物は、アルキル基が２～１０個の炭素原子を含むアルキル置換されたジヒドロキシベンゼン；４－ｓｅｃブチルフェノール、４－シクロペンチルフェノール、４－ベンジルフェノール、及び２－シクロペンチルフェノールの１以上から選択される置換されたフェノール化合物；及び美容上許容されるベースを含む。

アルキル置換されたジヒドロキシベンゼンは、下記で提供される一般化学構造（Ｉ）を有する。

式中、Ｒ_１はＣ_２～Ｃ_１０アルキル基であり、Ｒ_２～Ｒ_６はそれぞれはＯＨ基又はＨであり；
Ｒ_２～Ｒ_６のうち少なくとも二つはＯＨである。

本発明で使用するためのより好ましいアルキル置換されたジヒドロキシベンゼンの構造は、以下のものである。

式中、Ｒ_１はＣ_２～Ｃ_１０アルキル基であり；Ｒ_２及びＲ_３はＯＨである。

好ましくは、Ｒ_１は２～６個の炭素原子を含む、最も好ましくは２、４又は６個の炭素原子を含むアルキル基である。前記二つのヒドロキシ基は、通常、１位及び３位にある。このような化合物は、置換されたレゾルシノールと呼ばれることが多い。したがって、最も好ましい化合物は、エチルレゾルシノール、ブチルレゾルシノール又はヘキシルレゾルシノールである。４－置換されたレゾルシノールが最も好ましい。したがって、使用可能なレゾルシノールは、４－エチルレゾルシノール、４－ブチルレゾルシノール又は４－ヘキシルレゾルシノールである。本発明で使用するのに最も好ましい化合物は、４－ヘキシルレゾルシノールである。この化合物は、以下に提供される構造を有する。

この化合物は、同義語である４－ヘキシルベンゼン－１，３－ジオール、４－ヘキシル－１，３－ベンゼンジオールとしても知られる。

ヘキシルレゾルシノールは、防腐特性及び局所麻酔特性を示すことが知られている。それは、軽度の皮膚感染症に対する局所適用及び鎮痛のための経口液剤で、そして応急処置の防腐剤として使用されてきた。それはまた、スキンケアのスキングロー剤としても使用されてきた。この化合物は抗酸化特性があることも知られており、均一な顔色を皮膚に与えるスキンケア組成物や老化防止製品にも使用されてきた。

当該組成物は、好ましくは、組成物の０．０００５重量％～１０重量％のアルキル置換されたジヒドロキシベンゼンを含む。それはより好ましくは、組成物の０．００１重量％～２重量％の範囲の量で存在する。

本発明の組成物は、好ましくは、４－ｓｅｃ－ブチルフェノール、４－シクロペンチルフェノール、４－ベンジルフェノール、及び２－シクロペンチルフェノールの１以上から選択される置換されたフェノール化合物を含む。

選択される置換されたフェノール化合物の化学構造は下記の通りである。

４－Ｓｅｃブチルフェノール

４－シクロペンチルフェノール

４－ベンジルフェノール

２－シクロペンチルフェノール

本発明の組成物で用いられるより好ましい置換されたフェノールは、４－ｓｅｃ－ブチルフェノール及び４－シクロペンチルフェノールの一方又は両方である。前記置換されたフェノール化合物は、組成物の重量０．００１重量％～５重量％、好ましくは０．００５重量％～１重量％、さらに好ましくは０．００５重量％～０．５重量％で含まれる。

理論に拘束されることを望むものではないが、本発明者らは、本発明で特許請求される活性剤の組み合わせが以下の理由により機能すると考えている。アルキル置換されたジヒドロキシベンゼン、例えばヘキシルレゾルシノールは、細菌の生体膜及び細胞内タンパク質と相互作用する。両親媒性の性質のため、それは、細菌細胞に浸透して膜の完全性を損ない、透過性を高める。細胞内に入ると、それは複数の標的に作用して細菌を殺す可能性がある。本発明者らは、特許請求される置換されたフェノール化合物が細菌膜を不安定にする即効性の抗菌剤であることを認めた。これらを総合すると、アルキル置換されたジヒドロキシベンゼン（例えば、ヘキシルレゾルシノール）と被験の置換されたフェノール化合物の相乗効果が見られる。置換されたフェノール化合物の即効性がヘキシルレゾルシノールの浸透を助け、そのため組み合わせるとそれは強力で即効性の相乗的抗菌剤組み合わせとして機能すると仮定される。

本発明の組成物は、美容上許容されるベースを含む。美容上許容されるベースは、好ましくは、ジェル、エマルジョン、ローション、ペースト、スプレー、又はクリームを含む。上記形式において、美容上許容されるベースは、好ましくは、水、界面活性剤又はそれらの組み合わせを含む。界面活性剤は、好ましくは、アニオン界面活性剤、好ましくは石鹸である。

抗ニキビ効果をもたらすスキンケア用組成物
本発明の組成物は、スキンケアに使用することができる。このような場合の美容上許容されるベースは、液体又は固体の物質であってもよい。代表的には、美容上許容されるベースは、組成物の全重量基準で１０～９９．９％、より好ましくは２０～９５％、最も好ましくは４０～８５％の範囲の量で存在し、その範囲に含まれるすべての範囲を含む。

美容上許容される担体が水を含むことが特に好ましい。水は、好ましくは、日焼け止め組成物の総重量基準で３０～９０％、より好ましくは３０～８５％、最も好ましくは３０～８０％の量で含まれる。水以外に、好適な担体の種類には、シリコーン、多価アルコール、炭化水素、トリグリセリド及び増粘粉末などがある。

好ましくは水を含む形態で好ましく提供される美容上許容されるベースには、例えば、ジェル、クリーム、ローション又はエマルジョンの形態が含まれる。本発明のスキンケア組成物は、皮膚への局所適用に適したトナー、ローション、クリーム、ムース、スクラブ、美容液又はジェルなどの任意の形態であることができる。当該組成物は、スキンローション、クリーム、口紅、ファンデーション、マスカラ、サンレスタナー及び日焼け止めローションなどのリーブオン製品、又はシャワージェル及びトイレバーなどのリンスオフ製品のいずれかであることができる。組成物がスキンローション又はクリームであることが好ましい。

一つのこうした形態は、水を含む製品を増粘剤を使用して増粘して、ゲルを形成するものである。ローション又はクリーム形態の水中油型エマルジョンは、好ましくは組成物が脂肪酸を含むものである。ローションは一般に３～８重量％の脂肪酸を含む。Ｃ_１２～Ｃ_２０脂肪酸が特に好ましく、Ｃ_１４～Ｃ_１８脂肪酸がさらに好ましい。脂肪酸は好ましくは、実質的に（一般に約９０～９５％）ステアリン酸とパルミチン酸の混合物である。重量比５５：４５のステアリン酸とパルミチン酸の混合物は、ヒステリック酸として知られている。

好ましくは、本発明の組成物は、バニシングクリームの形態で提供される。バニシングクリームとは、ヒトの皮膚に塗布して擦り込むと、皮膚上で消え、組成物の大きな筋が全く残らないクリームである。脂肪酸が石鹸とともに組成物中に存在する場合、いわゆるバニシングクリーム効果が得られる。好ましくは、リーブオン組成物は、１０～３０、より好ましくは１２～２５、さらにより好ましくは１４～２０、さらにより好ましくは１６～１８個の炭素原子を有する脂肪酸を含む。組成物に使用できる脂肪酸の例には、ペラルゴン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、イソステアリン酸、オレイン酸、リノール酸、アラキジン酸、ベヘン酸、エルカ酸、及びそれらの混合物などがある。好ましくは、使用できる脂肪酸は、ステアリン酸又はパルミチン酸、又はそれらの混合物である。本発明における脂肪酸は好ましくは、実質的にステアリン酸とパルミチン酸の５５：４５～４５：５５の比率の混合物（通常約９０～９５％）であるヒステリック酸である。

好ましくは、組成物は、２．２５～２５重量％、より好ましくは４～２２重量％、さらにより好ましくは６～２０重量％、さらに好ましくは８～１９重量％、さらにより好ましくは１０～１８重量％、さらにより好ましくは１２～１６重量％の脂肪酸を含む。

好ましくは、組成物は石鹸を含む。石鹸は、組成物中で脂肪酸と組み合わされて存在する場合、上記の消失効果を提供する。好ましくは、組成物中の石鹸は、一般に、組成物中に存在し得る脂肪酸のイン・サイツ中和によって調製される。したがって、その石鹸は、組成物中の脂肪酸の鎖長に対応する炭素鎖長を有することが好ましい。石鹸は、アルカリ金属水酸化物、例えば水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムの使用によって脂肪酸から形成される。この二つのうち、水酸化カリウムがより好ましい。したがって、石鹸は、好ましくはカリウム石鹸（脂肪酸のカリウム塩）である。

好ましくは、組成物は、０．１～１０重量％、より好ましくは０．２５重量％～８重量％、さらにより好ましくは０．５～７重量％、さらにより好ましくは０．５～５重量％の石鹸、さらにより好ましくは０．５％～３％の石鹸を含む。

組成物は、共溶媒として作用するエモリエントオイルを含んでもよい。適切なエモリエントオイルには、例えば、アルコキシル化芳香族アルコールと脂肪族カルボン酸とのエステル、ポリグリコール又はジオールのカプリル酸／カプリン酸トリグリセリドなどの脂肪族カルボン酸とのエステル、脂肪アルコール及び脂肪酸のエステル、ベンジルアルコールのアルコキシル化誘導体、及びそれらの混合物などがある。好ましくは、エモリエントオイルはカプリル酸／カプリン酸トリグリセリドである。

代表的には、このような組成物は、日焼け止め組成物の全重量基準で０．０１～１０％、より好ましくは０．１～８％、最も好ましくは１～６％の量の共溶媒を含み、これに含まれるすべての範囲を含む。

クリームは、組成物が一般に８～２４重量％の脂肪酸を含むものである。脂肪酸の一部を中和して石鹸を形成することができ、それは組成物の１～１０重量％で存在してもよい。このような美容上許容されるベースは、通常、組成物の１０～９９．９重量％、好ましくは５０～９９重量％である。美容上許容されるベースは、好ましくは水を含む。水は、好ましくは組成物の３５～９０重量％、より好ましくは５０～８５重量％、さらに好ましくは５０～８０重量％で含まれる。

美容上許容されるベースとして、油中水型エマルジョンが含まれていても良い。このようなエマルジョン中の美容上許容されるベースは、通常、ベースの５～５０重量％、好ましくは１０～３０重量％のシリコーンエラストマーを含む。シリコーンエラストマーは、好ましくは組成物の１～１５重量％で存在する。

シリコーンエラストマーは、架橋のため直鎖ポリマーと異なる。多くのシリコーンエラストマーは、ポリマー鎖に沿って反応性部位を含む直鎖シリコーンポリマーから製造される。エラストマーは直鎖ポリマーとは非常に異なる物理的及び化学的特性を有し、エラストマーの特性は架橋の数に非常に大きく依存する。架橋の数が比較的少ないエラストマーは非常に柔らかく、適合性溶媒の存在下では大きく膨潤する。架橋数が増えると、エラストマーの硬度が増し、溶媒の存在下でのエラストマーの膨潤度は低下する。本発明の組成物での使用に非常に適したシリコーンエラストマーは、Ｄｏｗ Ｃｏｎｒｎｉｎｇから市販されているジメチコンクロスポリマーであるＤＣ９０４５である。ＤＣ９０４５は、化学的にはシクロペンタシロキサン膨潤剤とジメチコンクロスポリマー（１２～１３％）の混合物である。

膨潤剤は、最も好ましくはシリコーン流体又は機能性シリコーン流体である。膨潤剤は、シリコーンエラストマーが製造される反応混合物に対して、好ましくは１：１０～１０：１、より好ましくは１：１～５：１の重量比での量で使用される。膨潤剤は、最も好ましくは、（ｉ）低分子量の直鎖及び環状の揮発性メチルシロキサン、（ｉｉ）低分子量の直鎖及び環状の揮発性及び非揮発性のアルキル及びアリールシロキサン、及び（ｉｉｉ）低分子量の直鎖及び環状の機能性シロキサンを含む低分子量シリコーンオイルである。しかし、最も好ましいのは、低分子量の直鎖及び環状の揮発性メチルシロキサン（ＶＭＳ）である。この段落における「低分子量」とは、分子量が１０００～９０００の化合物を意味する。

本発明で使用できる他の有用なシリコーンエラストマーブレンドは、（ｉ）Ｄｏｗ Ｃｏｎｒｎｉｎｇから入手可能なＤＣ９０２７（超高粘度ジメチコノールとシリコーンエラストマーのシクロペンタシロキサン中ブレンド）、（ｉｉ）Ｄｏｗ Ｃｏｎｒｎｉｎｇから入手可能なＤＣ９５４６（高分子量シリコーンエラストマー、シクロペンタシロキサン及び高分子量直鎖シリコーンポリマーのブレンド）、（ｉｉｉ）Ｄｏｗ Ｃｏｎｒｎｉｎｇから入手可能なＥＬ８０５０（高分子量ポリグリコール変性シリコーンエラストマーのイソドデカン中ブレンド）、及び（ｉｖ）Ｄｏｗ Ｃｏｎｒｎｉｎｇから入手可能なＥＬ８０５１（高分子量ポリグリコール変性シリコーンエラストマーのイソデシルネオペンタノエート中ブレンド）として市販されている。

このような油中水型エマルジョン組成物は、好ましくは組成物の１０～７０重量％、より好ましくは３０～５０重量％の水を含む。

好ましくは、有用な日焼け防止剤、例えば無機日焼け止め剤を本発明で使用することができる。それには、例えば、酸化亜鉛、酸化鉄、シリカ、例えばフュームドシリカ、又は二酸化チタンなどがある。本発明による組成物に好ましく組み込まれる無機日焼け止め剤の総量は、組成物の１～８重量％、好ましくは３～８重量％である。無機日焼け止め剤を含めることで、本発明の必須成分に加えて、ＳＰＦにさらなる相乗効果が提供されることが認められている。本発明の組成物は、ジベンゾイルメタン誘導体、トリアジン誘導体、ベンゾフェノン誘導体、及びそれらの混合物からなる群から選択されるＵＶ－Ａ日焼け止め剤を含むことができる。好ましい実施形態において、ＵＶ－Ａ日焼け止め剤は、ジベンゾイルメタン誘導体、例えばブチルメトキシジベンゾイルメタン（商品名Ｐａｒｓｏｌ １７８９で販売）を含むか、又はそれ自体である。

代表的には、本発明の日焼け止め組成物は、組成物の全重量基準で０．１～１５重量％、より好ましくは０．１～１０％、最も好ましくは１～５％のＵＶ－Ａ日焼け止め剤を含み、これに含まれるすべての範囲を含む。

本発明の組成物は、ＵＶ－Ｂ日焼け止め剤も含み得る。本発明の好適なＵＶ－Ｂ日焼け止め剤は、ベンゾフェノン、アントラニレート、サリチル酸塩、シンナメート、カンファー、ベンジリデンマロネート、トリアゾン、及びそれらの誘導体からなる群から選択される。好ましい実施形態において、ＵＶ－Ｂ日焼け止め剤はケイ皮酸誘導体、例えばメトキシケイ皮酸エチルヘキシル（商品名Ｐａｒｓｏｌ ＭＣＸで販売）を含むか、又はそれ自体である。

代表的には、当該組成物は、組成物の全重量基準で０．１～２０重量％、より好ましくは０．５～１８％、最も好ましくは１～１５％のＵＶ－Ｂ日焼け止め剤を含み、これには、そこに含まれるすべての範囲が含まれる。

本発明の組成物は、さらに、スキングロー剤を含んでもよい。スキングロー剤は、好ましくは、ビタミンＢ３化合物又はその誘導体、例えば、ナイアシン、ニコチン酸、ナイアシンアミド、又は他の既知のスキングロー剤、例えば、アロエ抽出物、乳酸アンモニウム、アゼライン酸、コウジ酸、クエン酸エステル、エラグ酸、グリコール酸、緑茶抽出物、ヒドロキノン、レモン抽出物、リノール酸、リン酸アスコルビルマグネシウム、ビタミン、例えば、ビタミンＢ６、ビタミンＢ１２、ビタミンＣ、ビタミンＡ、ジカルボン酸、レゾルシノール誘導体、ヒドロキシカルボン酸、例えば、乳酸、及びその塩、例えば、乳酸ナトリウム、及びそれらの混合物から選択される。ビタミンＢ３化合物又はその誘導体、例えば、ナイアシン、ニコチン酸、ナイアシンアミドは、本発明に従ってより好ましいスキングロー剤であり、最も好ましいのはナイアシンアミドである。ナイアシンアミドは、使用する場合、好ましくは組成物の０．１～１０重量％、より好ましくは０．２～５重量％の範囲の量で存在する。

本発明による組成物は、他の希釈剤も含み得る。希釈剤は、組成物中に存在する他の物質の分散剤又は担体として作用することで、組成物が皮膚に適用されたときにそれらの分布を容易にする。水以外の希釈剤には、液体又は固体の皮膚軟化剤、溶媒、保湿剤、増粘剤及び粉末などがあり得る。

本発明の組成物は、広範囲の他の任意成分を含むことができる。ＣＴＦＡ Ｃｏｓｍｅｔｉｃ Ｉｎｇｒｅｄｉｅｎｔ Ｈａｎｄｂｏｏｋ， Ｓｅｃｏｎｄ Ｅｄｉｔｉｏｎ， １９９２（参照によって全体が本明細書に組み込まれる）に、スキンケア業界で一般的に使用されている、本発明の組成物に使用するのに適した、非常に多様な非限定的な化粧品成分及び医薬品成分が記載されている。例としては、抗酸化剤、結合剤、生物学的添加剤、緩衝剤、着色剤、増粘剤、ポリマー、収斂剤、香料、保湿剤、乳白剤、コンディショナー、角質除去剤、ｐＨ調節剤、防腐剤、天然抽出物、精油、皮膚感覚剤、皮膚鎮静剤及び皮膚治癒剤などがある。

抗悪臭（消臭効果）をもたらす本発明の組成物
特に腋の下にデオドラント効果をもたらす本発明の組成物の特に好ましい形態は、無水の美容上許容されるベースが関与するものである。このような無水組成物は、特に腋窩領域に適用するデオドラント製品に有用である。

このような組成物は、通常、スティックの形で、又はロールオンデバイスから、又はエアロゾル缶から、又はスプレーとして送達される。

当該組成物は、組成物の重量基準で６０％を超えるエタノールを含む消毒剤の形態で送達されてもよい。

当該組成物は、好ましくは無水である局所的／美容上許容されるベースを含む。無水ベースとは、組成物中の水分含有量が５重量％未満、好ましくは２重量％未満、より好ましくは１重量％未満であり、至適には組成物中に水分が存在しないことを意味する。これを可能にするために、無水ベースは好ましくはシリコーン化合物、アルコール又はロウを含む。アルコールを使用する場合、アルコールは、低沸点（Ｃ_２～Ｃ_４）アルコール又は多価アルコール、好ましくは多価アルコールであることができると考えられる。

組成物のｐＨは、好ましくは３．５より高く、より好ましくは４～７の範囲である。本発明の組成物のｐＨは、次の手順で測定される。すなわち、等体積の組成物とモデルイオン汗（ｐＨ６．１）を混合し、正確な範囲のｐＨ試験紙を使用してｐＨ値を測定する。

本発明の無水組成物は、好ましくは多価アルコールを含む。多価アルコールは、略してポリオールとも呼ばれる。本発明による多価アルコールは、２以上のヒドロキシル基を有する化合物である。本発明の組成物に含まれ得る多価アルコールの適切な種類は、モノマーポリオール、ポリアルキレングリコール又は糖である。好ましいモノマーポリオールは、グリコール；アルキレングリコール、例えばプロピレングリコール；グリセロール；、又はキシリトールであり、より好ましくはプロピレングリコールである。

好適なポリアルキレングリコールは、ポリエチレングリコール又はポリプロピレングリコールである。本発明で含まれる糖は、モノマー、ダイマー、トリマー又はポリマー形態であり得る。好ましい糖には、グルコース、果糖、マンノース、ショ糖、トレイトール、エリスリトール、ソルビトール、マンニトール、ガラクチトール、アドニトール、デキストラン又はシクロデキストリンなどがある。これらのうち、より好ましい糖は、グルコース、果糖、ショ糖、ソルビトール、マンニトール、アドニトール、デキストラン又はシクロデキストリンである。

従来の組成物に一般に含まれる他の成分も、本発明の組成物に組み込むことができる。このような成分には、皮膚軟化剤、保湿剤及び皮膚バリア促進剤などのスキンケア剤；スキングロー剤及び皮膚平滑化剤などの皮膚外観調整剤；抗菌剤、特に有機抗菌剤、及び防腐剤などがある。

本発明の組成物は、大まかに言えば、二つの方法のうちの一つによって、皮膚に化粧として及び局所的に適用することができる。消費者の中には、一方の方法を好む人もいれば、他の方法を好む人もいる。接触法と呼ばれることもある一つの方法では、組成物を皮膚の表面全体に拭いて塗りつけ、その組成物が通過するときにその一部を沈着させる。非接触法と呼ばれることもある第２の方法では、組成物は、皮膚の近くに保持されたディスペンサーから、多くの場合、約１０～２０ｃｍ^２の領域に噴霧される。そのスプレーは、ポンプや絞り可能な側壁など、ディスペンサーの内容物への圧力を発生する機械的手段によって、又は液化推進剤の一部が揮発することによって生じる内部発生圧力によって発生させることができ、そのディスペンサーは一般にエアロゾルと呼ばれる。

接触組成物には、大まかに言って二つの種類があり、一つは液体であり、通常はロールオンディスペンサーを使用して適用されるか、ワイプ内又はワイプ上に吸収される。もう一つは、制汗剤の活性物質が担体液内に分散され、ゲル化された連続相を形成している。一つの変形形態では、担体液は制汗剤用の溶媒を含み、第２の変形形態では、制汗剤は油（通常は油のブレンド）に懸濁された粒子状固体のままである。

スティック又はソフトな固形組成物
連続油相用のゲル化剤としては、ロウ、小分子ゲル化剤及びポリマーなどの多くの異なる材料が提案されてきた。それらはそれぞれに利点を有しており、その中でも、最も一般的な種類のよく使用されるゲル化剤の一つにロウがあり、それは部分的には少なくとも、それが容易に入手でき、加工しやすいという理由からであり、特に直鎖脂肪アルコールロウ系ゲル化剤が挙げられる。ゲル化した制汗剤組成物は、皮膚に拭いて塗布して皮膚に接触させることで、皮膚に薄膜を堆積させることで局所塗布される。

その薄膜の性質は、使用されるゲル化剤に大きく依存する。ロウ脂肪アルコールは長年にわたりゲル化剤として使用されており、ゲル化に関しては有効であるが、結果として得られる製品は、組成物を塗布した皮膚、特に脇の下の皮膚の外観を改善するのにはあまり効果がない。この問題は、改善物質、例えば二価又は多価保湿剤及び／又はトリグリセリド油を含めることで解決されてきた。

ロールオン
ロールオンから適用可能な液体組成物は、大まかに言って、揮発性シリコーンなどの疎水性担体に制汗活性物質を懸濁させたものと、制汗活性物質を担体液に溶解させたものの二つの種類に分けられる。後者の方が人気があることがわかっている。溶解担体液には主に２種類があり、すなわち、主にアルコール系の担体、つまり溶解担体液の大部分がエタノールで構成されるものと、担体液が主に水である第２の種類である。エタノール自体が温和な殺菌剤であることから前者が非常に人気があったが、特に組成物を適用した表面が傷ついたり切れたりしている場合（例えば、剃毛やその他の脱毛操作時に簡単に起こり得る）は刺激が強いため、その人気は衰えた。

アルコール製剤の代替となる第２の種類の製剤は、制汗剤の水溶液中に水不溶性又は非常に水難溶性の成分の分散液を含む。ここでは、このような組成物をエマルジョンと呼ぶ。制汗剤のロールオンエマルジョンは、一般に、水溶性成分の分布を維持するために１以上の乳化剤を含む。

エアロゾル組成物
本発明の組成物は、上記で説明した他の成分に加えて推進剤を含むエアロゾル組成物によって送達することができる。一般に、推進剤は、ベース製剤に対する重量比９５：５～５：９５で用いられる。推進剤に応じて、このようなエアロゾル組成物において推進剤とベース製剤の比率は通常少なくとも２０：８０、一般的に少なくとも３０：７０、特には少なくとも４０：６０であり、多くの製剤において、重量比は９０：１０～５０：５０である。場合により、７０：３０～９０：１０の比率範囲が好ましい。

この場合の推進剤は、一般的に、ｉ）圧縮により液化された低沸点ガス、ｉｉ）揮発性エーテル、及びｉｉｉ）圧縮された非酸化性ガスの三つのクラスのいずれかである。

クラスｉ）は、好都合には、低沸点材料、代表的には－５℃以下の沸点、多くの場合－１５℃以下の沸点であり、特にはアルカン及び／又はハロゲン化炭化水素である。このクラスの推進剤は、通常、エアロゾルキャニスター内の圧力で液化され、蒸発して圧力を生じさせて、組成物をキャニスターから排出する。適切なアルカンの例としては、特にはプロパン、ブタン、又はイソブタンなどがある。第２のクラスの推進剤は、非常に揮発性の高いエーテルを含み、その中で今日まで最も広く使用されているエーテルはジメチルエーテルである。この推進剤は、推進剤のベース製剤に対する重量比が比較的低く、例えば５：９５という低さまで使用できるのが有利である。また、たとえば圧縮性／液化性アルカンガスと混合して使用することもできる。第３クラスの推進剤は、圧縮された非酸化性ガス、特には二酸化炭素又は窒素を含む。ネオンなどの不活性ガスは、理論上の代替物である。

本発明の組成物がロールオン、固形物又はスティックの形態で送達される場合、局所的に許容されるベースは疎水性担体又は水性担体を含む。このような場合の疎水性担体は、シリコーン化合物、低沸点アルコール又はロウを含むことができる。当該組成物が推進剤を含む場合、それはエアロゾルとして送達される。

本発明の組成物は、好ましくはさらに香料を含む。香料とは、心地よい香りを発する分子又は分子群を含む組成物を意味する。当該組成物は、好ましくは、組成物の０．１～３重量％の香料を含む。

本発明の別の態様は、所望の皮膚表面に組成物を適用することにより皮膚の悪臭を軽減する、第１の態様による組成物に関する。この方法は、好ましくは非治療的である。

さらに別の態様によれば、本発明の組成物を所望の皮膚表面に適用すると皮膚に抗ニキビ効果をもたらすための、第１の態様による組成物が開示される。

本発明のさらに別の態様は、皮膚の悪臭を軽減するための、第１の態様の組成物の使用に関する。

本発明のさらに別の態様は、皮膚に抗ニキビ効果をもたらすための、第１の態様の組成物の使用に関する。この使用は、好ましくは非治療的である。

以下、非限定的な実施例により本発明を説明する。

例Ａ～Ｆ、１、２：個々の化合物と比較した、置換されたフェノール化合物と４－ヘキシルレゾルシノールの組み合わせのＣ．アクネス（Ｃ． ａｃｎｅｓ）の増殖阻害に及ぼす効果

表－１に示すように、単独で又は組み合わせて使用される活性物質について、以下に提供のイン・ビトロプロトコールを使用してＣ．アクネス（Ｃ． ａｃｎｅｓ）の増殖を調べた。

増殖を測定するために用いたプロトコール（ＭＩＣプレート法）
試験生物の作業培養：
Ｃ．アクネス（Ｃ． ａｃｎｅｓ）（ＡＴＣＣ６９１９）について：試験の約４～５日前に、再生クロストリジウム寒天培地（ＲＣＭ寒天）の滅菌プレートに負荷細菌試験生物を接種し、嫌気的に３７℃±１℃で４～５日間インキュベートした。

試験生物懸濁液（使用直前に調製すべき）：
負荷微生物の懸濁液を滅菌０．８５％生理食塩水中で調製し、細胞密度を６２０ｎｍで調節して、細菌の負荷懸濁液濃度が約１．０×１０^８コロニー形成単位／ｍＬになるようにした。

サンプル濃縮物の調製：
サンプルの小分け量を取り、寒天システム２０ｍＬで必要な試験濃度を達成した。

試験サンプルを、最初にサンプル希釈液（滅菌ｄ／水又は溶媒）１ｍＬに溶かして、試験溶液を得た。
試験溶液を、温度４５～５０℃に保たれた滅菌溶融寒天２０ｍＬに加え、十分に混和し、シャーレに注ぎ入れた。寒天を室温で固化させた。
固化したら、調製した試験培養物の接種物１０μＬを各寒天表面に二連で付着させた。
接種したプレートを、接種スポットが寒天に吸収されるまで室温で放置した。プレートを、嫌気的に３７℃±１℃で４～５日間インキュベートした。インキュベーション完了後、プレートの増殖の有無を調べて、ＭＩＣ値を求めた。

表１

上記の表において、
４ＨＲは、４－ヘキシルレゾルシノールを指す。
４ｓＢＰは、４－ｓｅｃブチルフェノールを指す。
４ＣＰは、４－シクロペンチルフェノールを指す。

上記の表データは、個別に各種濃度での化合物（例Ａ～Ｆ）がＣ．アクネス（Ｃ． ａｃｎｅｓ）の増殖を阻害するのに有効ではないが、活性物質（例１～２）の組み合わせは細菌の増殖を確かに停止させるものであることを示している。

Claims (12)

1. （ｉ）アルキル置換されたジヒドロキシベンゼンであって、当該アルキル基が２～１０個の炭素原子を含むジヒドロキシベンゼン；
   （ｉｉ）４－ｓｅｃブチルフェノール、４－シクロペンチルフェノール、４－ベンジルフェノール、及び２－シクロペンチルフェノールの１以上から選択される置換されたフェノール化合物；及び
   （ｉｉｉ）美容上許容されるベース
   を含む、抗菌組成物。
2. 前記アルキル置換されたジヒドロキシベンゼンが２～６個の炭素原子を含む、請求項１に記載の組成物。
3. 前記アルキル置換されたジヒドロキシベンゼンが、下記化学構造を有するヘキシルレゾルシノールである、請求項１または２に記載の組成物。
   

   
4. 前記組成物の０．０００５～１０重量％のアルキル置換されたジヒドロキシベンゼンを含む、請求項１または２に記載の組成物。
5. 前記組成物の０．００１～５重量％の置換されたフェノール化合物を含む、請求項１または２に記載の組成物。
6. 前記美容上許容されるベースがジェル、エマルジョン、ローション、ペースト、スプレー又はクリームを含む、請求項１または２に記載の組成物。
7. 前記美容上許容されるベースが水、界面活性剤又はそれらの組み合わせを含む、請求項６に記載の組成物。
8. 前記美容上許容されるベースが無水である、請求項１または２に記載の組成物。
9. スティック形態であるか、ロールオンデバイスで送達されるか、エアロゾル缶からもしくはスプレーとして送達される、請求項８に記載の組成物。
10. ６０重量％超のエタノールを含む消毒剤の形態である、請求項１または２に記載の組成物。
11. 所望の皮膚表面に前記組成物を適用して抗ニキビ効果を提供するための、請求項１または２に記載の組成物。
12. 所望の皮膚表面に前記組成物を適用して皮膚への悪臭を軽減するための、請求項１または２に記載の組成物。