JP2023178219A - Fixing film and method for manufacturing the same, fixing device, and electrophotographic image forming apparatus - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 48
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 9
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 229
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 220
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims abstract description 111
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims abstract description 37
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 claims abstract description 19
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 claims description 92
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims description 91
- 239000012791 sliding layer Substances 0.000 claims description 62
- 229920005575 poly(amic acid) Polymers 0.000 claims description 50
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 39
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 31
- 241000428199 Mustelinae Species 0.000 claims description 21
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 15
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 13
- 239000000470 constituent Substances 0.000 claims description 12
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims description 7
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 4
- FFBHFFJDDLITSX-UHFFFAOYSA-N benzyl N-[2-hydroxy-4-(3-oxomorpholin-4-yl)phenyl]carbamate Chemical compound OC1=C(NC(=O)OCC2=CC=CC=C2)C=CC(=C1)N1CCOCC1=O FFBHFFJDDLITSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 29
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 abstract description 11
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 8
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 23
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 19
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 15
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 11
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 11
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 10
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 10
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 9
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 9
- 238000013006 addition curing Methods 0.000 description 7
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 239000003495 polar organic solvent Substances 0.000 description 6
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 6
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 6
- 239000004944 Liquid Silicone Rubber Substances 0.000 description 5
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- WKDNYTOXBCRNPV-UHFFFAOYSA-N bpda Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(C=2C=C3C(=O)OC(C3=CC=2)=O)=C1 WKDNYTOXBCRNPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000011231 conductive filler Substances 0.000 description 5
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 5
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 5
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 5
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 5
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 5
- CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 1,4-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=C(N)C=C1 CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 4-Aminophenyl ether Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 description 4
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 4
- 125000005462 imide group Chemical group 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- -1 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 4
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 4
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 3
- 150000004984 aromatic diamines Chemical class 0.000 description 3
- 239000002199 base oil Substances 0.000 description 3
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 3
- 239000004519 grease Substances 0.000 description 3
- 238000007373 indentation Methods 0.000 description 3
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 3
- 239000010702 perfluoropolyether Substances 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 238000007363 ring formation reaction Methods 0.000 description 3
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 3
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 3
- WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 1,3-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC(N)=C1 WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-dichlorophosphoryloxybenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1OP(Cl)(Cl)=O VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N ac1mqpva Chemical compound CC12C(=O)OC(=O)C1(C)C1(C)C2(C)C(=O)OC1=O GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229940018564 m-phenylenediamine Drugs 0.000 description 2
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 2
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000003058 platinum compounds Chemical group 0.000 description 2
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 2
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 2
- 125000006158 tetracarboxylic acid group Chemical group 0.000 description 2
- 230000000930 thermomechanical effect Effects 0.000 description 2
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 2
- VQVIHDPBMFABCQ-UHFFFAOYSA-N 5-(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-carbonyl)-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(C(C=2C=C3C(=O)OC(=O)C3=CC=2)=O)=C1 VQVIHDPBMFABCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N Aluminum nitride Chemical compound [Al]#N PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000106 Liquid crystal polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004977 Liquid-crystal polymers (LCPs) Substances 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- MHABMANUFPZXEB-UHFFFAOYSA-N O-demethyl-aloesaponarin I Natural products O=C1C2=CC=CC(O)=C2C(=O)C2=C1C=C(O)C(C(O)=O)=C2C MHABMANUFPZXEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001252 Pd alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001774 Perfluoroether Polymers 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005370 alkoxysilyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 230000032798 delamination Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 description 1
- 229920006015 heat resistant resin Polymers 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 238000013532 laser treatment Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- CWQXQMHSOZUFJS-UHFFFAOYSA-N molybdenum disulfide Chemical compound S=[Mo]=S CWQXQMHSOZUFJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052982 molybdenum disulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- DOBFTMLCEYUAQC-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,3,6,7-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C=C2C=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC2=C1 DOBFTMLCEYUAQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- SWELZOZIOHGSPA-UHFFFAOYSA-N palladium silver Chemical compound [Pd].[Ag] SWELZOZIOHGSPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000002952 polymeric resin Substances 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
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- Fixing For Electrophotography (AREA)
Abstract
Description
本発明は、定着フィルム及びその製造方法、定着装置並びに電子写真画像形成装置に関する。 The present invention relates to a fixing film, a method for manufacturing the same, a fixing device, and an electrophotographic image forming apparatus.
電子写真画像形成装置に搭載されているオンデマンド定着方式の定着装置は、定着フィルムと、その内部に固定されたセラミックヒータと、加圧ローラとを有する。そして、該セラミックヒータが、該定着フィルムを介して、加圧ローラに向けて押圧され、定着ニップ部が形成されている。加圧ローラの回転駆動に伴い、定着フィルムは、その内周面がセラミックヒータと摺動しながら従動回転される。定着フィルムにおいて、円筒状の金属製の基体(以下、「金属基体」という場合がある)の内周面には、セラミックヒータとの摺動性の向上を図る観点から、ポリイミドの如き耐熱性樹脂からなる摺動層が設けられることがある。 An on-demand fixing type fixing device installed in an electrophotographic image forming apparatus includes a fixing film, a ceramic heater fixed inside the fixing film, and a pressure roller. Then, the ceramic heater is pressed toward the pressure roller via the fixing film to form a fixing nip. As the pressure roller is rotated, the fixing film is driven to rotate while its inner peripheral surface slides on the ceramic heater. In the fixing film, the inner peripheral surface of the cylindrical metal base (hereinafter sometimes referred to as "metal base") is coated with a heat-resistant resin such as polyimide to improve sliding properties with the ceramic heater. A sliding layer consisting of may be provided.
特許文献1に係る発明は、未定着画像を加熱定着処理する像加熱装置に用いられる定着ベルトに関する。そして、特許文献1は、当該ポリイミド樹脂層のイミド化率が70~93%であって、かつ特定の構成単位の組み合わせを含むことにより、優れた柔軟性と高い耐摩耗性とを兼ね備えたポリイミド樹脂層とすることができることを開示している。 The invention disclosed in Patent Document 1 relates to a fixing belt used in an image heating device that heats and fixes an unfixed image. Patent Document 1 discloses a polyimide resin layer having an imidization rate of 70 to 93% and containing a combination of specific structural units, thereby having both excellent flexibility and high abrasion resistance. It is disclosed that it can be made into a resin layer.
本発明者が特許文献1に係る定着ベルトを検討したところ、セラミックヒータと摺動層との摺動摩擦においては、特にプロセス速度が小さい低速での駆動時に、スティックスリップ現象による異音が生じる場合があった。異音の発生は、セラミックヒータと摺動層との静摩擦力が動摩擦力よりも大きい場合に生じやすい。その理由は、プロセス速度が低速になるほど、セラミックヒータと定着ベルトの内周面との固着時間が長く、静摩擦力が大きくなるためであると考えられる。 When the present inventor examined the fixing belt according to Patent Document 1, it was found that abnormal noise may occur due to the stick-slip phenomenon in the sliding friction between the ceramic heater and the sliding layer, especially when driving at low speed where the process speed is low. there were. Abnormal noise is likely to occur when the static frictional force between the ceramic heater and the sliding layer is greater than the dynamic frictional force. The reason for this is thought to be that as the process speed becomes lower, the fixation time between the ceramic heater and the inner circumferential surface of the fixing belt becomes longer, and the static frictional force becomes larger.
本開示の少なくとも一の態様は、摺動層の基体からの剥離と、電子写真画像の形成時における異音の発生とを高いレベルで防止し得る定着フィルムの提供に向けたものである。また、本開示の少なくとも一の態様は、長期に亘って高品位な電子写真画像の安定的な形成に資する定着装置及び高品位な電子写真画像を安定的に形成することができる電子写真画像形成装置の提供に向けたものである。 At least one aspect of the present disclosure is directed to providing a fixing film that can prevent, at a high level, peeling of a sliding layer from a substrate and generation of abnormal noise during formation of an electrophotographic image. Further, at least one aspect of the present disclosure provides a fixing device that contributes to the stable formation of high-quality electrophotographic images over a long period of time, and an electrophotographic image forming system that can stably form high-quality electrophotographic images. It is aimed at providing equipment.
本開示の少なくとも一の態様によれば、定着フィルムであって、円筒状の基体と、該基体の内周面側に形成された、ポリイミド樹脂を含む摺動層と、該基体の外周面側に形成された離型層と、を有し、該摺動層は、該基体に近い側から順に第一被膜及び第二被膜が積層されてなり、該第一被膜は、下記式(A)で示される第1の構成単位、又は該第1の構成単位と下記式(B)で示される第2の構成単位と、を含み、かつ、該第1の構成単位と該第2の構成単位の含有量の質量比率(A):(B)が100:0~60:40であり、該第二被膜は、該第2の構成単位のみを含む定着フィルムが提供される: According to at least one aspect of the present disclosure, the fixing film includes a cylindrical base, a sliding layer containing a polyimide resin formed on the inner peripheral surface of the base, and an outer peripheral surface of the base. a release layer formed on the substrate, the sliding layer is formed by laminating a first coating and a second coating in order from the side closer to the base, and the first coating has the following formula (A): A first structural unit represented by the formula (B), or the first structural unit and the second structural unit represented by the following formula (B), and the first structural unit and the second structural unit A fixing film is provided in which the mass ratio (A):(B) of the content of is 100:0 to 60:40, and the second coating contains only the second structural unit:
また、本開示の少なくとも一の態様によれば、上記した定着フィルムの製造方法であって、前記基体の内周面に、下記式(a)で示される構成単位Aを有するポリアミック酸Aと、下記式(b)で示される構成単位Bを有するポリアミック酸Bとを、該構成単位Aと該構成単位Bの質量比率(構成単位A:構成単位B)が100:0~60:40となるように混合してなる第一ポリイミド前駆体溶液の塗膜aを形成する第1工程と、該塗膜aの内周面に、唯一のポリアミック酸として該ポリアミック酸Bを含む第二ポリイミド前駆体溶液の塗膜bを形成する第2工程と、該塗膜a中の該ポリアミック酸A、又は該ポリアミック酸A及び該ポリアミック酸Bをイミド化させて前記第一被膜を形成し、該塗膜b中の該ポリアミック酸Bをイミド化させて前記第二被膜を形成する第3工程と、を有する定着フィルムの製造方法が提供される: Further, according to at least one aspect of the present disclosure, the method for manufacturing the fixing film described above includes polyamic acid A having a structural unit A represented by the following formula (a) on the inner circumferential surface of the base; A polyamic acid B having a constituent unit B represented by the following formula (b) is prepared such that the mass ratio of the constituent unit A and the constituent unit B (constituent unit A: constituent unit B) is 100:0 to 60:40. a first step of forming a coating film a of a first polyimide precursor solution mixed as described above; and a second polyimide precursor containing the polyamic acid B as the only polyamic acid on the inner peripheral surface of the coating film a. a second step of forming a coating film b of a solution, imidizing the polyamic acid A in the coating film a, or the polyamic acid A and the polyamic acid B to form the first coating film; A third step of imidizing the polyamic acid B in b to form the second coating is provided.
また、本開示の少なくとも一の態様によれば、上記の定着フィルムを有する定着装置が提供される。 Further, according to at least one aspect of the present disclosure, a fixing device including the above-described fixing film is provided.
さらに、本開示の少なくとも一の態様によれば、上記の定着装置を具備する電子写真画像形成装置が提供される。 Further, according to at least one aspect of the present disclosure, an electrophotographic image forming apparatus including the above fixing device is provided.
本開示の少なくとも一の態様によれば、摺動層の基体からの剥離と、電子写真画像の形成時における異音の発生とを高いレベルで防止し得る定着フィルムを得ることができる。また、本開示の少なくとも一の態様によれば、長期に亘って高品位な電子写真画像の安定的な形成に資する定着装置及び高品位な電子写真画像を安定的に形成することができる電子写真画像形成装置を得ることができる。 According to at least one aspect of the present disclosure, it is possible to obtain a fixing film that can highly prevent peeling of a sliding layer from a substrate and generation of abnormal noise during formation of an electrophotographic image. Further, according to at least one aspect of the present disclosure, there is provided a fixing device that contributes to the stable formation of high-quality electrophotographic images over a long period of time, and an electrophotography that can stably form high-quality electrophotographic images. An image forming apparatus can be obtained.
本発明者は、上記の課題の解決に向けて検討を重ねた。その結果、下記の構成を備えた定着フィルムは、摺動層の基体からの剥離と、電子写真画像の形成時における異音の発生とを高いレベルで防止し得ることを見出した。
<構成>
円筒状の基体と、該基体の内周面側に形成された、ポリイミド樹脂を含む摺動層と、該基体の外周面側に形成された離型層と、を有し、該摺動層は、該基体に近い側から順に第一被膜及び第二被膜が積層されてなり、該第一被膜は、下記式(A)で示される第1の構成単位、又は該第1の構成単位と下記式(B)で示される第2の構成単位と、を含み、かつ、該第1の構成単位と該第2の構成単位の含有量の質量比率(A):(B)が100:0~60:40であり、該第二被膜は、該第2の構成単位のみを含む定着フィルム:
The present inventor has made repeated studies to solve the above problems. As a result, it has been found that a fixing film having the following structure can prevent the sliding layer from peeling off from the substrate and the generation of abnormal noise during the formation of an electrophotographic image at a high level.
<Configuration>
A cylindrical base body, a sliding layer containing a polyimide resin formed on the inner circumferential side of the base body, and a release layer formed on the outer circumferential side of the base body, the sliding layer is formed by laminating a first film and a second film in order from the side closest to the substrate, and the first film is a first structural unit represented by the following formula (A), or a first structural unit. a second structural unit represented by the following formula (B), and the mass ratio (A):(B) of the content of the first structural unit and the second structural unit is 100:0. ~60:40, and the second coating contains only the second structural unit:
以下、図面を参照して本開示の実施形態を説明するが、本開示の範囲は、この形態のみに限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能である。 Hereinafter, embodiments of the present disclosure will be described with reference to the drawings, but the scope of the present disclosure is not limited to only this embodiment, and various changes can be made without departing from the gist of the present invention.
<定着装置>
本開示の一実施形態に係る定着装置について、図1を用いて説明する。
本実施形態の定着装置40は、面状発熱体としてセラミックヒータ43を使用したオンデマンド定着方式である。定着装置40は、円筒状の定着フィルム41と、発熱体兼摺動部材であるセラミックヒータ43と、摺動部材であるフィルムガイド兼ヒータホルダ42と、定着フィルム41との間に定着ニップ部46を形成する加圧ローラ45と、を備える。定着フィルム41は、定着ニップ部46において、セラミックヒータ43とフィルムガイド兼ヒータホルダ42にバックアップされる。すなわち、セラミックヒータ43及びフィルムガイド兼ヒータホルダ42は、定着フィルム41のバックアップ部材ともいえる。
<Fixing device>
A fixing device according to an embodiment of the present disclosure will be described using FIG. 1.
The
セラミックヒータ43は、窒化アルミニウムの基板上に、銀・パラジウム合金を含む導電ペーストをスクリーン印刷法によって均一な厚さの膜状に塗布することで、抵抗発熱体を形成している。セラミックヒータ43は、フィルムガイド兼ヒータホルダ42の長手方向(記録材搬送方向に直交する幅方向、図1の紙面表裏方向)に沿って具備された溝部に嵌入して固定支持されている。そして、定着フィルム41の内周面と前記基板裏面(抵抗発熱体の形成面とは反対の面)とが、摺動可能な構成となっている。また、セラミックヒータ43は、不図示の手段によって通電されて発熱し、所定の設定温度に制御される。
The
定着フィルム41は、後述するように、円筒状の基体の内周面側にポリイミド樹脂を用いた摺動層が形成された構成を有する。定着フィルム41は、使用状態において、内周面側がフィルムガイド兼ヒータホルダ42及びセラミックヒータ43に摺擦されながら、加圧ローラ45の回転に伴い従動回転される無端フィルムである。定着フィルム41の回転軸方向両端部は、定着装置40のフレーム等の不図示の固定部分に回転自在に支持されている。
また、定着フィルム41の内部には、フィルムガイド兼ヒータホルダ42、セラミックヒータ43、及び支持部材であるステイ44が配置されている。ステイ44は、定着フィルム41の回転軸方向に配置され、その両端部を定着装置40のフレーム等の不図示の固定部分に支持されている。そして、ステイ44によって、フィルムガイド兼ヒータホルダ42が支持されている。
As will be described later, the
Further, inside the
フィルムガイド兼ヒータホルダ42は、耐熱性及び断熱性を有する液晶ポリマー等によって成型され、ステイ44に沿って、定着フィルム41の回転軸方向に配設される。定着フィルム41は、このフィルムガイド兼ヒータホルダ42にルーズに外嵌されている。そして、定着フィルム41の内周面が、部分円筒面状に形成されたフィルムガイド兼ヒータホルダ42の外周面に摺擦されながら、定着フィルム41の回転が規制され案内される。
The film guide/
定着フィルム41の内周面には、固体成分(増ちょう剤)と基油成分(オイル)とを含む不図示の半固体状の潤滑剤(グリース)が塗布される。これにより、セラミックヒータ43と定着フィルム41の摺動層との摺動性を確保している。増ちょう剤としては、例えば、グラファイトや二硫化モリブデンなどの固体潤滑剤、酸化亜鉛やシリカなど金属酸化物、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)やテトラフルオロエチレン-パーフルオロエーテル共重合体(PFA)、テトラフルオロエチレン-ヘキサフルオロプロピレン共重合体(FEP)などのフッ素樹脂の微粒子が挙げられる。これらの増ちょう剤は、粒径が3μm程度の粉体として潤滑剤に添加される。また、基油成分としては、シリコーンオイルやフルオロシリコーンオイル、パーフルオロポリエーテル(PFPE)などの耐熱性を有する高分子樹脂オイルが挙げられる。
An unillustrated semi-solid lubricant (grease) containing a solid component (thickener) and a base oil component (oil) is applied to the inner circumferential surface of the
加圧ローラ45は、ステンレス製の芯金45aと、シリコーンゴム弾性層45bと、離型性を付与するためのフッ素樹脂(PFA)チューブからなる表層45cとから構成される。そして、芯金45aの両端軸部が、不図示の固定部分に回転可能に軸受支持されている。このような加圧ローラ45は、モータの如き回転駆動装置(不図示)と連結されて、使用時に回転駆動される。
また、ステイ44の両端部は、不図示のバネ加圧機構により、その一端側が16kgf(156.8N)、総圧32kgf(313.6N)の力で加圧ローラ45に付勢されている。これにより、セラミックヒータ43の下面を、定着フィルム41を介して、加圧ローラ45の弾性層に抗して所定の押圧力をもって圧接させ、トナーの定着に必要な所定幅の定着ニップ部46を形成する。
加圧ローラ45は、不図示の回転駆動装置と連結されており、定着フィルム41が加圧ローラ45に従動回転することにより、定着ニップ部46において記録材を挟持搬送する。また、定着フィルム41は、セラミックヒータ43により、その表面を、トナーを溶融するために必要な所定温度に加熱される。この所定温度は、定着フィルム41の内周面に接するように設けられた不図示の温度検知手段としてのサーミスタにより検知され、不図示の制御器によりセラミックヒータ43への通電を制御することで調整される。
このように、定着フィルム41の表面を所定温度に温調した状態で、定着ニップ部46に、未定着トナーによって画像が形成された記録材Pを挟持搬送させる。これにより、定着フィルム41の外周面に当接する記録材Pを加熱することで、記録材P上のトナー画像Tが加熱・加圧され、溶融・混色し、その後冷却されて、記録材P上にトナー画像Tが加熱定着される。
The
Further, both ends of the
The
In this manner, while the surface of the fixing
<定着フィルム>
本実施形態に係る定着フィルムは、内周面側が潤滑剤の介在においてバックアップ部材に摺動しながら回転し、外周面にて記録材上のトナー画像を加熱定着するために用いられる。本実施形態の定着フィルム41について、図2及び図3を用いて説明する。
図2に示すように、定着フィルム41は、少なくとも、円筒状の基体12と、基体12の内周面側に形成された摺動層11と、基体12の外周面側に形成された表層としての離型層15とを有する。定着フィルム41は、基体12と離型層15との間に、弾性層13を有していてもよく、また、弾性層13は、プライマーを介して配してもよい。また、離型層15は、弾性層13との間に、接着層14を介して配してもよい。
以下、各構成について具体的に説明する。
<Fixing film>
The fixing film according to this embodiment rotates while sliding on the backup member with the inner circumferential surface in the presence of a lubricant, and is used to heat and fix the toner image on the recording material on the outer circumferential surface. The fixing
As shown in FIG. 2, the fixing
Each configuration will be specifically explained below.
[基体]
基体12の材料としては、耐熱性及び耐屈曲性を必要とすることに鑑みて、ステンレス鋼(SUS)、ニッケル、ニッケル合金等の金属が好適に用いられる。基体12は、熱容量を小さくする一方で機械的強度を高くする必要がある。そのため、基体12の厚みは20μm~50μmであることが好ましく、25μm~45μmであることがより好ましい。
[Base]
In view of the need for heat resistance and bending resistance, metals such as stainless steel (SUS), nickel, and nickel alloys are preferably used as the material for the
[弾性層]
弾性層13は、定着時に、トナー画像と用紙の凹凸に対して均一な圧力を与えるために定着部材に担持させる層として機能する。かかる機能を発現させる上で、弾性層13としては、加工が容易である、高い寸法精度での加工ができる、加熱硬化時に副生成物が発生しない等の理由から、付加反応架橋型の液状シリコーンゴムの硬化物を用いることが好ましい。また、後述するフィラーの種類や添加量に応じて、その架橋度を調整し、弾性を調整することができる点からも、付加反応架橋型の液状シリコーンゴムが好ましい。
一般に、付加反応架橋型の液状シリコーンゴムは、不飽和脂肪族基を有するオルガノポリシロキサンと、ケイ素に結合した活性水素を有するオルガノポリシロキサンと、架橋触媒としての白金化合物とを含む。ケイ素に結合した活性水素を有するオルガノポリシロキサンは、白金化合物の触媒作用により、不飽和脂肪族基を有するオルガノポリシロキサン中のアルケニル基との反応によって架橋構造を形成させる。
[Elastic layer]
The
Generally, addition reaction crosslinking type liquid silicone rubber contains an organopolysiloxane having an unsaturated aliphatic group, an organopolysiloxane having active hydrogen bonded to silicon, and a platinum compound as a crosslinking catalyst. Organopolysiloxanes having silicon-bonded active hydrogen react with alkenyl groups in organopolysiloxanes having unsaturated aliphatic groups to form a crosslinked structure under the catalytic action of a platinum compound.
弾性層13は、定着フィルムにおける熱伝導性の向上及び補強、並びに耐熱性の向上等のために、フィラーを含んでいてもよい。フィラーとしては、熱伝導性を向上させる観点から、無機物、特に金属、金属化合物等の高熱伝導性フィラーが好ましい。
高熱伝導性フィラーとしては、具体的に、炭化ケイ素(SiC)、窒化ケイ素(Si3N4)、窒化ホウ素(BN)、窒化アルミニウム(AlN)、アルミナ(Al2O3)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化マグネシウム(MgO)、シリカ(SiO2)、銅(Cu)、アルミニウム(Al)、銀(Ag)、鉄(Fe)、ニッケル(Ni)等が挙げられる。これらは、単独で又は2種以上を混合して用いることができる。高熱伝導性フィラーの平均粒径は、取り扱い易さ、及び分散性の観点から、1μm以上50μm以下が好ましい。また、高熱伝導性フィラーとしては、球状、粉砕状、板状、ウィスカ状などの形状が用いられるが、分散性の観点から球状のものが好ましい。
The
Specific examples of highly thermally conductive fillers include silicon carbide (SiC), silicon nitride (Si 3 N 4 ), boron nitride (BN), aluminum nitride (AlN), alumina (Al 2 O 3 ), and zinc oxide (ZnO). ), magnesium oxide (MgO), silica (SiO 2 ), copper (Cu), aluminum (Al), silver (Ag), iron (Fe), nickel (Ni), and the like. These can be used alone or in combination of two or more. The average particle diameter of the highly thermally conductive filler is preferably 1 μm or more and 50 μm or less from the viewpoint of ease of handling and dispersibility. Further, the highly thermally conductive filler may have a spherical, pulverized, plate-like, whisker-like, or other shape, but a spherical filler is preferable from the viewpoint of dispersibility.
弾性層13は、例えば、以下のように形成される。まず、付加反応架橋型の液状シリコーンゴムと任意にフィラーとが配合された付加反応架橋型シリコーンゴム組成物を、公知の方法により、摺動層11を形成した基体12の外周面に塗工し、該組成物の塗膜を形成する。その後、電気炉などの加熱手段にて、塗膜を一定時間加熱し、架橋反応を進行させることによって、弾性層13を形成することができる。
定着フィルム41の表面硬度への寄与、及び定着時の未定着トナーへの熱伝導の効率の点から、弾性層13の厚みは、100μm以上500μm以下が好ましく、200μm以上400μm以下がより好ましい。
For example, the
In terms of contribution to the surface hardness of the fixing
[接着層]
接着層14は、弾性層13の表面に塗工した付加硬化型シリコーンゴム接着剤の硬化物から形成される。付加硬化型シリコーンゴム接着剤は、アクリロキシ基、ヒドロシリル基(SiH基)、エポキシ基、及びアルコキシシリル基等の官能基を有するシランに代表される自己接着成分が配合された付加硬化型シリコーンゴムを含む。接着層14の厚みは、例えば、1μm~10μmとすることができる。
[Adhesive layer]
The
[離型層]
離型層15としては、例えば、テトラフルオロエチレン-パーフルオロ(アルキルビニルエーテル)共重合体(PFA)、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、テトラフルオロエチレン-ヘキサフルオロプロピレン共重合体(FEP)などの樹脂をチューブ状に成形したフッ素樹脂チューブが用いられる。これらの中でも、成形性やトナー離型性の観点からPFAチューブが好ましい。フッ素樹脂チューブの内面に、予め、ナトリウム処理やエキシマレーザ処理、アンモニア処理等を施すことにより、接着性を向上させることができる。
離型層15の厚みは、50μm以下であることが好ましい。厚みが50μm以下であれば、積層した際に、下層の弾性層13の弾性を維持し、定着部材としての表面硬度が過度に高くなることを抑制することができる。離型層15の厚みは、フッ素樹脂チューブ被覆時のムラの抑制及び耐久性の観点から、5μm以上であることが好ましい。
[Release layer]
The
The thickness of the
離型層15は、例えば、付加硬化型シリコーンゴム接着剤が塗布された弾性層13の外周面上に、PFAチューブを、公知の技術を用いて被覆することによって形成される。PFAチューブを被覆する方法は特に限定されないが、例えば、PFAチューブを外側から真空拡張して被覆する方法(真空拡張被覆法)を用いることができる。被覆後のPFAチューブと弾性層13との間には、接着に寄与しない余剰の付加硬化型シリコーンゴム接着剤と、チューブ被覆時に巻き込んだ空気が存在する。この余剰な接着剤と空気を扱き出す手法としては、定着フィルムの外径よりもわずかに大きな内径を有するリング状のノズルからエアーを噴出させながら定着フィルムの長手方向へ移動させることにより扱き落とす方法が挙げられる。また、定着フィルムの外径よりも小さい内径を有するOリングを用いて扱き落とす等の方法を用いて、余剰の接着剤と空気を除去することもできる。
次に、電気炉などの加熱手段にて所定の時間加熱することで、付加硬化型シリコーンゴム接着剤を硬化・接着させる。そして、両端部を所望の長さに切断することで、本実施形態に係る定着部材としての定着フィルムを製造することができる。
The
Next, the addition-curing silicone rubber adhesive is cured and bonded by heating for a predetermined time using a heating means such as an electric furnace. Then, by cutting both ends to a desired length, a fixing film as a fixing member according to the present embodiment can be manufactured.
[摺動層]
摺動層11としては、ポリイミド樹脂の如き高耐久性、高耐熱性を併せ持つ樹脂が好適に用いられる。ポリイミド樹脂から形成される摺動層11は、ポリイミド前駆体(ポリアミック酸)を含有する溶液やゲルを前記基体12の内周面に塗布、乾燥した後、加熱することにより、該前駆体を脱水閉環反応(イミド化反応)させることによって得られる。前記ポリイミド前駆体は、芳香族テトラカルボン酸二無水物又はその誘導体と、芳香族ジアミンとの略等モル量を、非プロトン系の極性有機溶媒中で重合させることにより得られる。
[Sliding layer]
As the sliding
芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、ピロメリット酸二無水物(PMDA)、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(BPDA)、3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(BTDA)、2,3,6,7-ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、などが挙げられる。これら芳香族テトラカルボン酸二無水物は、単独又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
芳香族ジアミンとしては、4,4’-オキシジアニリン(4,4’-ODA)、p-フェニレンジアミン(PPDA)、m-フェニレンジアミン(MPDA)などが挙げられる。これら芳香族ジアミンは、単独又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
非プロトン系の極性有機溶媒としては、N,N-ジメチルアセトアミド(DMAC)、ジメチルホルムアミド(DMF)、N-メチル-2-ピロリドン(NMP)などが挙げられる。
Examples of the aromatic tetracarboxylic dianhydride include pyromellitic dianhydride (PMDA), 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA), 3,3',4,4 '-benzophenonetetracarboxylic dianhydride (BTDA), 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, and the like. These aromatic tetracarboxylic dianhydrides can be used alone or in combination of two or more.
Examples of aromatic diamines include 4,4'-oxydianiline (4,4'-ODA), p-phenylenediamine (PPDA), m-phenylenediamine (MPDA), and the like. These aromatic diamines can be used alone or in combination of two or more.
Examples of the aprotic polar organic solvent include N,N-dimethylacetamide (DMAC), dimethylformamide (DMF), and N-methyl-2-pyrrolidone (NMP).
図3に示すように、本開示における摺動層11は、基体12に近い側から順に第一被膜11-aと、第二被膜11-bとが積層されてなる。第一被膜11-aは、下記式(A)で示される第1の構成単位、又は該第1の構成単位と下記式(B)で示される第2の構成単位と、を含み、該第1の構成単位と該第2の構成単位の含有量の質量比率(A):(B)が100:0~60:40である。また、第二被膜11-bは、該第2の構成単位のみを含む。摺動層11を、上記のように第一被膜及び第二被膜からなる積層構造とすることにより、摺動層11の基体からの剥離と、電子写真画像形成時における異音の発生と、を高いレベルで防止することができる。すなわち、第2の構成単位のみを含むポリイミド樹脂を含む第二被膜11-bは、高いマルテンス硬さを示す。そのため、プロセス速度が小さい場合においてもスティックスリップが生じ難く、異音の発生を防止し得る。その反面、第二被膜11-bは、線膨張係数が小さいため、金属基体と直接接している場合、温度変化に伴う金属基体の伸縮に十分に追従できず、剥離することがある。そこで、本開示においては、第二被膜11-bと金属基体12との間に、線膨張係数が第二被膜11-bよりも大きい第一被膜11-aを介在させている。第一被膜11-aは、金属基体12の伸縮によく追従することができるため、摺動層11の金属基体からの剥離をより確実に防止し得る。
As shown in FIG. 3, the sliding
(第一ポリイミド前駆体溶液)
第一被膜11-aの形成に用いる第一ポリイミド前駆体溶液について説明する。
第1の構成単位を有するポリイミド樹脂は、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物と4,4’-オキシジアニリンとの略等モル量を、非プロトン系の極性有機溶媒中で反応させることで得られる、下記式(a)で示される構成単位Aを有するポリイミド前駆体(ポリアミック酸A)の溶液(以下、「ポリイミド前駆体溶液(a)」ともいう)を加熱して、該溶液中の溶媒(前記非プロトン系の極性有機溶媒)を除去し、さらに該ポリアミック酸Aをイミド化させることによって得ることができる。
一方、第2の構成単位を有するポリイミド樹脂は、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物とp-フェニレンジアミンとの略等モル量を、非プロトン系の極性有機溶媒中で反応させることで得られる、下記式(b)で示される構成単位Bを有するポリイミド前駆体(ポリアミック酸B)の溶液(以下、「ポリイミド前駆体溶液(b)」ともいう)を加熱して、該溶液中の溶媒(前記非プロトン系の極性有機溶媒)を除去し、さらに該ポリアミック酸Bをイミド化させることによって得ることができる。
ポリイミド前駆体溶液(a)及び(b)を、該構成単位Aと該構成単位Bの質量比率(構成単位A:構成単位B)が100:0~60:40となるように混合して、第一ポリイミド前駆体溶液を得る。なお、前記質量比率が100:0である場合は、ポリイミド前駆体溶液(a)が、第一ポリイミド前駆体溶液となる。
(First polyimide precursor solution)
The first polyimide precursor solution used to form the first coating 11-a will be explained.
The polyimide resin having the first structural unit contains approximately equimolar amounts of 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride and 4,4'-oxydianiline in an aprotic polar A solution of a polyimide precursor (polyamic acid A) having a structural unit A represented by the following formula (a) obtained by reacting in an organic solvent (hereinafter also referred to as "polyimide precursor solution (a)") It can be obtained by heating to remove the solvent in the solution (the aprotic polar organic solvent) and further imidizing the polyamic acid A.
On the other hand, the polyimide resin having the second structural unit contains approximately equimolar amounts of 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride and p-phenylenediamine in an aprotic polar organic solvent. A solution of a polyimide precursor (polyamic acid B) having a structural unit B represented by the following formula (b) (hereinafter also referred to as "polyimide precursor solution (b)") obtained by reacting in The polyamic acid B can be obtained by removing the solvent (the aprotic polar organic solvent) in the solution and further imidizing the polyamic acid B.
Mix polyimide precursor solutions (a) and (b) so that the mass ratio of the structural unit A and the structural unit B (structural unit A: structural unit B) is 100:0 to 60:40, Obtain a first polyimide precursor solution. Note that when the mass ratio is 100:0, the polyimide precursor solution (a) becomes the first polyimide precursor solution.
(第二ポリイミド前駆体溶液)
第二被膜11-bの形成に用いる第二ポリイミド前駆体溶液について説明する。
第2の構成単位のみを有するポリイミド樹脂は、上記ポリイミド前駆体溶液(b)を加熱して、該溶液中の溶媒(前記非プロトン系の極性有機溶媒)を除去し、さらに該ポリアミック酸Bをイミド化させることによって得ることができる。したがって、ポリイミド前駆体溶液(b)が、唯一のポリアミック酸として該ポリアミック酸Bを含む第二ポリイミド前駆体溶液となる。
(Second polyimide precursor solution)
The second polyimide precursor solution used to form the second coating 11-b will be explained.
The polyimide resin having only the second structural unit is obtained by heating the polyimide precursor solution (b) to remove the solvent (the aprotic polar organic solvent) in the solution, and then adding the polyamic acid B to the polyimide resin. It can be obtained by imidization. Therefore, the polyimide precursor solution (b) becomes a second polyimide precursor solution containing the polyamic acid B as the only polyamic acid.
(摺動層11の形成方法)
次に、ポリイミド樹脂による摺動層11の形成方法について、図4を用いて説明する。
一般的に、ポリイミド樹脂の膜は、上述のようなポリイミド前駆体溶液を塗工すること等によって形成することができる。本実施形態においても、前記ポリイミド前駆体溶液を基体12の内周面に塗工した後、加熱乾燥し、脱水閉環反応によってポリイミド摺動層を形成する。塗工方法は、ディップ法、リングコート法、スプレー法といった公知の方法が適用可能である。これらの中でも、リングコート法が好ましい。
(Method for forming sliding layer 11)
Next, a method for forming the sliding
Generally, a polyimide resin film can be formed by coating a polyimide precursor solution as described above. In this embodiment as well, the polyimide precursor solution is applied to the inner circumferential surface of the
図4に示すリングコート法塗工装置20は、基板21上に、互いに平行な支柱201及び202を配置している。支柱201上には、塗工ヘッド22aが固定されており、塗工液供給装置(不図示)が接続されている。塗工ヘッド22aは、円柱状に形成され、塗工液供給装置からの供給路を中心部に配置し、外周面に支柱201と直交するスリット(不図示)を有する。そして、塗工液供給装置から供給される塗工液(ポリイミド前駆体溶液)が、塗工ヘッド22aの外周面を覆うようにスリットから排出される。
支柱202には、ワーク移動装置26が、支柱202に沿って移動自在に支持されている。ワーク移動装置26は、支柱202に設けられたモータ27の回転駆動により、支柱202に沿って図4の紙面上下に移動する。ワーク移動装置26の先端には、基体12を保持するワークハンド25が配置されている。したがって、ワークハンド25に保持された基体12は、ワーク移動装置26により、ワークハンド25と共に図4の紙面上下に移動する。
基体12の内周面に塗工液を塗布する際は、塗工液供給装置から塗工ヘッド22aの外周面に、塗工液であるポリイミド前駆体溶液を供給しつつ、基体12を塗工ヘッド22aの外周に沿って移動させる。これにより、基体12の内周面全体に亘って、ほぼ均等に塗工液を塗布することができる。塗工装置20において、塗工液の塗布厚みは、塗工液の供給速度やワーク移動装置26の移動速度を調整することで、任意に変更することができる。
A ring coating
A
When applying the coating liquid to the inner peripheral surface of the
基体12の内周面に塗布されたポリイミド前駆体溶液は、電気炉等の加熱手段により焼成され、ポリイミド摺動層11が得られる。塗布されたポリイミド前駆体溶液の加熱は、多段階によって行うことが好ましい。すなわち、まず、焼成の1段階目(1段階目焼成)においては、加熱により、ポリイミド前駆体溶液に含まれる溶媒の少なくとも一部を除去し、ポリイミド前駆体の塗膜を形成する。そして、焼成の2段階目(2段階目焼成)以降で、ポリイミド前駆体のイミド化反応を進行させることが好ましい。特に、1段階目焼成では、ポリイミド前駆体溶液の塗膜中の溶媒の乾燥を、該溶媒の沸点よりも低い温度T1で加熱して行うことが好ましい。次いで、1段階目焼成後に得られるポリイミド前駆体の塗膜中のポリアミック酸A及びポリアミック酸Bのイミド化を、該1段階目焼成よりも高い温度T2で行う2段階目焼成と、該2段階目焼成における温度T2よりもさらに高い温度T3で行う3段階目焼成とを含む多段階で行うことが好ましい。
The polyimide precursor solution applied to the inner circumferential surface of the
具体的には、まず、基体12の内周面に第一ポリイミド前駆体溶液を塗布して、該第一ポリイミド前駆体溶液の塗膜aを形成する(第1工程)。この際、必要に応じて、該塗膜aを、第一ポリイミド前駆体溶液が含む溶媒の沸点よりも低い温度T1-1で加熱して、該塗膜a中の溶媒を蒸発させて、該塗膜aを乾燥させる(乾燥工程1、塗膜aの1段階目焼成)。
次いで、該塗膜aの内周面に第二ポリイミド前駆体溶液を塗布して、該第二ポリイミド前駆体溶液の塗膜bを形成する(第2工程)。この際、必要に応じて、該塗膜bを、第二ポリイミド前駆体溶液が含む溶媒の沸点よりも低い温度T1-2で加熱して、該塗膜b中の溶媒を蒸発させて、該塗膜bを乾燥させる(乾燥工程2、塗膜bの1段階目焼成)。
次いで、乾燥工程1を経た該塗膜aと乾燥工程2を経た塗膜bとが積層された状態において、該塗膜a及び該塗膜bを、温度T1-1及び温度T1-2よりも高い温度T2で加熱し(2段階目焼成)、引き続いて、温度T2よりもさらに高い温度T3で加熱する(3段階目焼成)。こうして、塗膜a中のポリアミック酸A又はポリアミック酸Aとポリアミック酸Bをイミド化させて第一被膜11-aを形成し、塗膜b中のポリアミック酸Bをイミド化させて、第二被膜11-bを形成する(第3工程)。その結果、第一被膜11-a及び第二被膜11-bの積層膜からなる摺動層11が得られる。
Specifically, first, a first polyimide precursor solution is applied to the inner peripheral surface of the
Next, a second polyimide precursor solution is applied to the inner peripheral surface of the coating film a to form a coating film b of the second polyimide precursor solution (second step). At this time, if necessary, the coating film b is heated at a temperature T1-2 lower than the boiling point of the solvent contained in the second polyimide precursor solution to evaporate the solvent in the coating film b. Dry the coating film b (drying step 2, first stage baking of the coating film b).
Next, in a state in which the coating film a that has undergone the drying step 1 and the coating film b that has undergone the drying step 2 are laminated, the coating film a and the coating film b are heated to a temperature lower than the temperature T1-1 and the temperature T1-2. Heating is performed at a high temperature T2 (second stage firing), and subsequently, heating is performed at a temperature T3 higher than temperature T2 (third stage firing). In this way, polyamic acid A or polyamic acid A and polyamic acid B in coating film a are imidized to form a first coating 11-a, and polyamic acid B in coating film b is imidized to form a second coating. 11-b is formed (third step). As a result, a sliding
塗膜aの2段階目焼成(イミド化反応)の前に、塗膜aの内周面に第二ポリイミド前駆体溶液を塗布して塗膜bを形成し、その後、塗膜a及び塗膜b中のポリアミック酸をイミド化させることで、第一被膜と第二被膜との界面においてもイミド化反応を進行させ得る。そのため、第一被膜と第二被膜との界面における層間剥離を防止することができる。なお、2段階目焼成は、ポリアミック酸の分子運動性を遮らずにイミド化を進めるという点から、260℃以下の温度で徐々に行うことが好ましい。また、3段階目焼成は、ポリイミドの特性を得るためのイミド化反応を十分に進めるという点から、350℃以上の高温で行うことが好ましい。3段階目焼成は、2段階目焼成と同様、徐々に温度を上げて行ってもよく、その場合、最も高温となる温度が、350℃以上であることが好ましい。 Before the second step of baking (imidization reaction) of coating film a, a second polyimide precursor solution is applied to the inner peripheral surface of coating film a to form coating film b, and then coating film a and coating film By imidizing the polyamic acid in b, the imidization reaction can also proceed at the interface between the first coating and the second coating. Therefore, delamination at the interface between the first coating and the second coating can be prevented. Note that the second stage baking is preferably carried out gradually at a temperature of 260° C. or lower in order to proceed with imidization without blocking the molecular mobility of the polyamic acid. Further, the third stage firing is preferably performed at a high temperature of 350° C. or higher in order to sufficiently advance the imidization reaction for obtaining the properties of polyimide. Similarly to the second stage firing, the third stage firing may be performed by gradually raising the temperature, and in that case, the highest temperature is preferably 350° C. or higher.
摺動層11の厚みは、第一被膜11-aと第二被膜11-bとの合計が、5μm~25μmであることが好ましい。特に、前記合計の厚みが7μm~20μmであれば、定着ニップ部における摩耗性とヒータからの熱を基体12に伝える伝熱性とが両立しやすい。
摺動層11の厚みを、例えば第一被膜11-aと第二被膜11-bがそれぞれ7μmになるようにするには、例えば、以下の方法を用いることができる。すなわち、第一ポリイミド前駆体溶液及び第二ポリイミド前駆体溶液のポリイミド前駆体固形分濃度(約18質量%)に応じて、各前駆体溶液の塗布厚みが40μmとなるように、基体12の内周面にリングコート法等により前駆体溶液を塗工すればよい。
As for the thickness of the sliding
In order to set the thickness of the sliding
(イミド化率)
本実施形態において、第二被膜11-bのイミド化率は75%以上であることが好ましい。ここで、イミド化率とは、ポリイミド前駆体溶液中の前駆体(ポリアミック酸)を加熱、焼成して脱水環化(イミド化)させることによってポリイミドを生成する際の、イミド化反応における反応率のことである。イミド化率は、フーリエ変換赤外分光光度計(FT-IR)を用いて、全反射測定(ATR)法により求めることができる。具体的な測定方法は、実施例にて説明する。
第二被膜のイミド化率が75%以上であれば、摺動層自体の柔軟性のために耐摩耗性が低下することがなく、定着ニップ部の摩耗粉がトルクの上昇を引き起こすことを抑制できる。なお、第二被膜のイミド化率は、一般的に、100%以下である。
(Imidization rate)
In this embodiment, the imidization rate of the second coating 11-b is preferably 75% or more. Here, the imidization rate is the reaction rate in the imidization reaction when polyimide is produced by heating and baking the precursor (polyamic acid) in the polyimide precursor solution to dehydrate and cyclize (imidize). It is about. The imidization rate can be determined by the total reflection measurement (ATR) method using a Fourier transform infrared spectrophotometer (FT-IR). A specific measuring method will be explained in Examples.
If the imidization rate of the second coating is 75% or more, the abrasion resistance will not decrease due to the flexibility of the sliding layer itself, and the abrasion powder at the fixing nip area will be suppressed from causing an increase in torque. can. Note that the imidization rate of the second coating is generally 100% or less.
(マルテンス硬さ)
本実施形態においては、第二被膜のナノインデンター法により測定したマルテンス硬さが、前記第一被膜のナノインデンター法により測定したマルテンス硬さよりも大きいことが好ましい。具体的には、第二被膜のマルテンス硬さが350N/mm2以上450N/mm2以下であり、かつ第一被膜のマルテンス硬さが200N/mm2以上300N/mm2以下であることが好ましい。第一被膜及び第二被膜のマルテンス硬さが、それぞれ上記範囲内であることにより、セラミックヒータとの摺動摩擦におけるスティックスリップ現象が生じにくく、異音の発生に対する抑制力により優れた摺動層を得ることができる。
なお、測定方法の詳細は実施例にて説明する。
(Martens hardness)
In this embodiment, it is preferable that the Martens hardness of the second coating measured by the nanoindenter method is larger than the Martens hardness of the first coating measured by the nanoindenter method. Specifically, it is preferable that the Martens hardness of the second coating is 350 N/mm 2 or more and 450 N/mm 2 or less, and the Martens hardness of the first coating is 200 N/mm 2 or more and 300 N/mm 2 or less. . Since the Martens hardness of the first coating and the second coating are within the above ranges, the stick-slip phenomenon during sliding friction with the ceramic heater is less likely to occur, and the sliding layer has excellent suppressive power against the generation of abnormal noise. Obtainable.
Note that the details of the measurement method will be explained in Examples.
(線膨張係数)
本実施形態においては、第二被膜の線膨張係数が、前記第一被膜の線膨張係数よりも小さいことが好ましい。具体的には、第二被膜の線膨張係数が1.5×10-6/℃以上5.0×10-6/℃以下であり、かつ第一被膜の線膨張係数が2.0×10-5/℃以上5.0×10-5/℃以下であることが好ましい。第一被膜及び第二被膜の線膨張係数が、それぞれ上記範囲内であることにより、摺動層の金属基体からの剥離の防止、及び、電子写真画像形成時における異音の発生の防止を、より一層高いレベルで達成し得る。なお、測定方法の詳細は実施例にて説明する。
(linear expansion coefficient)
In this embodiment, it is preferable that the linear expansion coefficient of the second coating is smaller than that of the first coating. Specifically, the linear expansion coefficient of the second coating is 1.5×10 -6 /℃ or more and 5.0×10 -6 /℃ or less, and the linear expansion coefficient of the first coating is 2.0×10 It is preferably -5 /°C or more and 5.0×10 -5 /°C or less. By setting the linear expansion coefficients of the first coating and the second coating within the above ranges, it is possible to prevent the sliding layer from peeling off from the metal substrate and to prevent the generation of abnormal noise during electrophotographic image formation. achievable at an even higher level. Note that the details of the measurement method will be explained in Examples.
以下、実施例及び比較例を挙げて、本発明をより具体的に説明するが、本発明は、これら実施例によって限定されるものではない。
まず、物性評価方法について説明する。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited by these Examples.
First, the physical property evaluation method will be explained.
[マルテンス硬さ]
摺動層11の法線方向(押込み方向)のマルテンス硬さの測定は、微小硬さ試験機(商品名:ピコデンターHM-500、フィッシャー・インストルメンツ社製)を用いて、ナノインデンター法により行った。プローブ(圧子)には、ダイヤモンドビッカース圧子を使用した。試料は、摺動層11を基層12から剃刀等で剥がして単離し、測定対象面を表面側にした状態で、裏面側を厚み300μmのSUS板に接着剤等を用いて貼り付けた状態にて測定した。測定条件は、温度23℃、試験荷重2mN、荷重アプリケーション時間7秒とした。測定によって得られる荷重変位曲線(荷重と押込み変位のグラフ)から、マルテンス硬さを算出した。より具体的には、最大荷重Fをかけたときの圧子の最大押し込み深さhから計算される表面積をAs(h)とすると、マルテンス硬さ(HM)は、次式により得ることができる。
HM[N/mm2]=F/As(h)=F/(26.43×h2)
[Martens hardness]
The Martens hardness in the normal direction (indentation direction) of the sliding
HM [N/mm 2 ]=F/As(h)=F/(26.43×h 2 )
[線膨張係数]
摺動層11の周方向の線膨張係数は、日本産業規格(JIS) K 7197:2012(プラスチックの熱機械分析による線膨脹率試験方法)に準拠し、熱機械分析装置(TMA)を用いて得られる、温度に対する変形量の曲線から算出した。ただし、第一被膜と第二被膜が積層された状態では、各々の被膜の線膨張係数を得ることはできない。そのため、基層12の内周面に、第一被膜11-aのみからなる摺動層と、第二被膜11-bのみからなる摺動層を別々に作製することにより、それぞれから単離した試料を用いて線膨張係数を測定した。測定寸法は、周方向長さ10mm×幅5mmとし、測定条件を、荷重0.02N、昇温速度5℃/分として、1℃あたりの変形量を50~200℃の平均値として算出し、それを線膨張係数[/℃]とした。
[Linear expansion coefficient]
The linear expansion coefficient in the circumferential direction of the sliding
[イミド化率]
第二被膜11-bのイミド化率は、フーリエ変換赤外分光光度計(FT-IR)を用いて、全反射測定(ATR)法により算出した。ATRプリズムとしてゲルマニウムを用いて、分解能4cm-1、積算回数8回の条件で、摺動層11の第二被膜11-bの表面から赤外吸収スペクトルを得た。そのうち、イミド環のC=O振動に基づく1712cm-1付近のピークの吸光度をαとした。また、第二被膜が第2の構成単位を含む場合は、イミド環の骨格振動に基づく1515cm-1付近のピークの吸光度をβとした。第二被膜が第1の構成単位を含む場合は、イミド環の骨格振動に基づくピークが1500cm-1付近に現れることから、その吸光度をβとした。これらの比であるα/βがイミド環の生成、すなわちイミド化の進行度合いの指標となる。さらに、最終的なイミド化温度を450℃として4時間焼成して得られた第二被膜11-bを、イミド化反応が完全に完結した時の状態(イミド化率100%)と仮定し、そのときのα/βを(α/β)100で表すと、イミド化率は次式により定義される。
イミド化率[%]=(α/β)/(α/β)100×100
[Imidization rate]
The imidization rate of the second coating 11-b was calculated by the total reflection measurement (ATR) method using a Fourier transform infrared spectrophotometer (FT-IR). Using germanium as an ATR prism, an infrared absorption spectrum was obtained from the surface of the second coating 11-b of the sliding
Imidization rate [%] = (α/β)/(α/β) 100 ×100
以下、後述する一連の工程によって形成される定着フィルム41の評価について説明する。
Evaluation of the fixing
[耐久性評価]
定着フィルム41の耐久性評価は、実施例又は比較例の定着フィルムを組み込んでなる図1に示すオンデマンド方式の定着装置40を用いて行った。加圧力を、一端側が156.8N(16kgf)、総加圧力が313.6N(32kgf)となるようにした状態で、加圧ローラ45表面の移動スピード(周速)が320mm/秒となるように回転駆動させた。定着フィルム41の通紙部表面温度が170℃に温調された状態で、同一サイズの紙(A4横、商品名:GF-C081、キヤノン社製)を、70枚/分にて50万枚連続通紙した。なお、定着フィルム41の内周面には、潤滑剤としてのグリース(商品名:モリコートHP-300、デュポン・東レ・スペシャルティ・マテリアル社製)を0.8g塗布した。該グリースは、増ちょう剤としてPTFE粉体微粒子(粒径3μm)と、基油成分としてパーフルオロポリエーテルを含む。そして、以下の基準に基づき評価を行った。
ランクAA:負荷トルクが600mN・m以下のまま50万枚通紙できた。
ランクA:負荷トルクが600mN・m超、800mN・m以下のまま50万枚通紙できた。
ランクB:通紙枚数が30万枚に至った時点で負荷トルクが800mN・mを超えた。
ランクC:通紙枚数が10万枚に至った時点で摺動層の一部が剥離し、基体が露出した。
[Durability evaluation]
The durability evaluation of the fixing
Rank AA: 500,000 sheets could be passed while the load torque was 600 mN·m or less.
Rank A: 500,000 sheets could be passed with the load torque exceeding 600 mN·m and below 800 mN·m.
Rank B: The load torque exceeded 800 mN·m when the number of sheets passed reached 300,000.
Rank C: When the number of sheets passed reached 100,000, a part of the sliding layer peeled off and the base was exposed.
[摺動性評価]
定着フィルム41の摺動性評価は、初期状態と50万枚通紙後の状態において行い、以下の基準で評価した。
ランクAA:定着装置のプロセス速度を60mm/秒としたときに、初期状態及び50万枚通紙後のいずれの状態においても、スティックスリップの発生に伴う定着フィルム自励振動に起因する異音の発生が認められなかった。なお、スティックスリップは、プロセス速度が遅いほど生じやすい。従って、本評価については、プロセス速度が遅いほど、過酷な条件である。
ランクA:定着装置のプロセス速度を120mm/秒としたときに、初期状態及び50万枚通紙後のいずれの状態においても、スティックスリップの発生に伴う定着フィルムの自励振動に起因する異音の発生が認められなかった。
ランクB:定着装置のプロセス速度を120mm/秒としたときに、初期状態及び50万枚通紙後のいずれかの状態において、スティックスリップの発生に伴う定着フィルムの自励振動に起因する異音の発生が認められた。
続いて、実施例と比較例について具体的に説明する。
[Slidability evaluation]
The sliding properties of the fixing
Rank AA: When the process speed of the fixing device is 60 mm/sec, abnormal noise caused by self-excited vibration of the fixing film due to stick-slip occurs in both the initial state and after passing 500,000 sheets. No occurrence was observed. Note that stick-slip is more likely to occur as the process speed is slower. Therefore, for this evaluation, the slower the process speed, the more severe the conditions.
Rank A: When the process speed of the fixing device is 120 mm/sec, abnormal noise is caused by self-excited vibration of the fixing film due to stick-slip in both the initial state and after 500,000 sheets have been passed. No occurrence of this was observed.
Rank B: When the process speed of the fixing device is 120 mm/sec, abnormal noise is caused by self-excited vibration of the fixing film due to stick-slip in either the initial state or after 500,000 sheets have been passed. The occurrence of was observed.
Next, Examples and Comparative Examples will be specifically described.
[実施例1]
3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物と4,4’-オキシジアニリンの略等モル量をN-メチル-2-ピロリドン(NMP)中で反応させた。これにより、固形分濃度18質量%、粘度6Pa・sの、前記式(a)で示される構成単位Aを有するポリアミック酸Aを含むポリイミド前駆体溶液(a)を得た。そして、該ポリイミド前駆体溶液(a)を、第一ポリイミド前駆体溶液として用いた。該第一ポリイミド前駆体溶液を、基体12の内周面に、塗布厚みが40μmとなるようにリングコート法により塗布して、該第一ポリイミド前駆体溶液の塗膜aを形成した。なお、円筒状基体12としては、内径24mm、厚み30μmのステンレス鋼(SUS)を用いた。次いで、円筒状基体を温度150℃の加熱炉内で5分間加熱して、塗膜aから、NMPを蒸発させた(塗膜aの1段階目焼成)。円筒状基体を加熱炉から取り出し、次いで、塗膜aの内周面上に、以下のようにして、第二ポリイミド前駆体溶液を塗布した。
まず、第二ポリイミド前駆体溶液としては、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物とp-フェニレンジアミンの略等モル量をNMP中で反応させることにより得られた固形分濃度18質量%、粘度6Pa・sの、前記式(b)で示される構成単位Bを有するポリアミック酸Bを含むポリイミド前駆体溶液(b)を用いた。この第二ポリイミド前駆体溶液を、塗膜aの内周面上に、塗布厚みが40μmとなるようにリングコート法により塗布して、第二ポリイミド前駆体溶液の塗膜bを形成した。次いで、円筒状基体を、再び温度150℃の加熱炉内で5分間加熱して、塗膜bからNMPを蒸発させた(塗膜bの1段階目焼成)。そして、塗膜aと塗膜bとの積層膜を有する円筒状基体を、加熱炉に入れた。そして、塗膜a及び塗膜bを、温度200℃~260℃で段階的に1時間加熱し(2段階目焼成)、さらに、温度260℃~350℃まで段階的に1時間加熱した(3段階目焼成)。こうして、塗膜a中のポリアミック酸A、及び塗膜b中のポリアミック酸Bをイミド化させ、第一被膜11-a及び第二被膜11-bが、各々7μmで積層された摺動層11を得た。
[Example 1]
Approximately equimolar amounts of 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride and 4,4'-oxydianiline were reacted in N-methyl-2-pyrrolidone (NMP). As a result, a polyimide precursor solution (a) containing polyamic acid A having the structural unit A represented by the formula (a) and having a solid content concentration of 18% by mass and a viscosity of 6 Pa·s was obtained. The polyimide precursor solution (a) was then used as a first polyimide precursor solution. The first polyimide precursor solution was applied to the inner circumferential surface of the
First, as the second polyimide precursor solution, a solid obtained by reacting approximately equimolar amounts of 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride and p-phenylenediamine in NMP was used. A polyimide precursor solution (b) containing polyamic acid B having a constituent unit B represented by the above formula (b) and having a concentration of 18% by mass and a viscosity of 6 Pa·s was used. This second polyimide precursor solution was applied onto the inner circumferential surface of coating film a by a ring coating method to a coating thickness of 40 μm to form coating film b of the second polyimide precursor solution. Next, the cylindrical substrate was heated again in a heating furnace at a temperature of 150° C. for 5 minutes to evaporate NMP from coating film b (first stage baking of coating film b). Then, the cylindrical substrate having the laminated film of coating film a and coating film b was placed in a heating furnace. Then, coating film a and coating film b were heated stepwise for 1 hour at a temperature of 200°C to 260°C (second stage baking), and then heated stepwise for 1 hour to a temperature of 260°C to 350°C (3 Stage firing). In this way, the polyamic acid A in the coating film a and the polyamic acid B in the coating film b are imidized, and the first coating 11-a and the second coating 11-b are laminated in the sliding
続いて、摺動層11を形成した円筒状基体12の外周面上に、ヒドロシリル系のシリコーンプライマー(商品名:DY39-051 A/B、ダウ・東レ社製)を塗工し、200℃にて5分間加熱硬化した。そして、その外周面に、付加反応架橋型液状シリコーンゴムと高熱伝導性フィラーとしてのアルミナを含む付加反応架橋型液状シリコーンゴム組成物を250μmの厚みで塗工し、200℃にて30分間加熱硬化して、シリコーンゴム弾性層13を形成した。なお、弾性層13の熱伝導率は1.0W/mKであった。さらに、弾性層13の外周面に、付加硬化型シリコーンゴム接着剤(商品名:SE1819 CV A/B、ダウ・東レ社製)からなる3μm厚の接着層14を形成した。そして、接着層14の外周面に、フッ素樹脂離型層15として、押し出し成形で得られた20μm厚のPFAチューブを、外側から真空拡張して被覆する方法(真空拡張被覆法)により被覆し、200℃にて2分間加熱硬化させた。なお、該PFAチューブとしては、内面を予めアンモニア処理したものを用いた。
上記のようにして作製した定着フィルム41を、前記定着装置に組み込み、摺動層11の耐久性及び摺動性を上記の条件にて評価した。結果を表1に示す。
Subsequently, a hydrosilyl silicone primer (trade name: DY39-051 A/B, manufactured by Dow Toray Industries, Inc.) was coated on the outer peripheral surface of the
The fixing
[実施例2]
実施例1で調製したポリイミド前駆体溶液(a)とポリイミド前駆体溶液(b)を、質量比率(構成単位A:構成単位B)が80:20となるように混合した溶液を、第一ポリイミド前駆体溶液として用いた。それ以外は、実施例1と同様の手順にて、第一被膜及び第二被膜が各々厚み7μmで積層された摺動層11を有する定着フィルムを得た。
[Example 2]
A solution obtained by mixing the polyimide precursor solution (a) and the polyimide precursor solution (b) prepared in Example 1 so that the mass ratio (constituent unit A:constituent unit B) was 80:20 was added to the first polyimide. It was used as a precursor solution. Other than that, the same procedure as in Example 1 was followed to obtain a fixing film having a sliding
[実施例3]
実施例1で調製したポリイミド前駆体溶液(a)とポリイミド前駆体溶液(b)を、質量比率(構成単位A:構成単位B)が60:40となるように混合した溶液を、第一ポリイミド前駆体溶液として用いた。それ以外は、実施例1と同様の手順にて、第一被膜及び第二被膜が各々厚み7μmで積層された摺動層11を有する定着フィルムを得た。
[Example 3]
A solution obtained by mixing the polyimide precursor solution (a) and the polyimide precursor solution (b) prepared in Example 1 at a mass ratio (constituent unit A:constituent unit B) of 60:40 was added to the first polyimide. It was used as a precursor solution. Other than that, the same procedure as in Example 1 was followed to obtain a fixing film having a sliding
[実施例4]
第一ポリイミド前駆体溶液及び第二ポリイミド前駆体溶液については、実施例1と同様のものを用いた。第一被膜11-a及び第二被膜11-bの成膜工程において、2段階目焼成までは実施例1と同様の手順にて行った。そして、3段階目焼成において、260℃~300℃まで段階的に1時間加熱してイミド化を進行させた以外は、実施例1と同様の手順にて、各々の被膜が厚み7μmで積層された摺動層11を有する定着フィルムを得た。
[Example 4]
Regarding the first polyimide precursor solution and the second polyimide precursor solution, the same ones as in Example 1 were used. In the film forming process of the first coating 11-a and the second coating 11-b, the same procedure as in Example 1 was performed up to the second stage baking. Then, in the third firing step, each film was laminated to a thickness of 7 μm using the same procedure as in Example 1, except that it was heated stepwise from 260°C to 300°C for 1 hour to advance imidization. A fixing film having a sliding
[実施例5]
第一ポリイミド前駆体溶液及び第二ポリイミド前駆体溶液については、実施例1と同様のものを用いた。第一被膜11-a及び第二被膜11-bの成膜工程において、2段階目焼成までは実施例1と同様の手順にて行った。そして、3段階目焼成において、260℃~400℃まで段階的に1時間加熱してイミド化を進行させた以外は、実施例1と同様の手順にて、各々の被膜が厚み7μmで積層された摺動層11を有する定着フィルムを得た。
[Example 5]
Regarding the first polyimide precursor solution and the second polyimide precursor solution, the same ones as in Example 1 were used. In the film forming process of the first coating 11-a and the second coating 11-b, the same procedure as in Example 1 was performed up to the second stage baking. Then, in the third stage firing, each film was laminated to a thickness of 7 μm using the same procedure as in Example 1, except that it was heated stepwise from 260°C to 400°C for 1 hour to advance imidization. A fixing film having a sliding
[実施例6]
第一ポリイミド前駆体溶液及び第二ポリイミド前駆体溶液については、実施例2と同様のものを用いた。第一被膜11-a及び第二被膜11-bの成膜工程以降は、実施例5と同様の手順にて行い、各々の被膜が厚み7μmで積層された摺動層11を有する定着フィルムを得た。
[Example 6]
Regarding the first polyimide precursor solution and the second polyimide precursor solution, the same ones as in Example 2 were used. The process of forming the first coating 11-a and the second coating 11-b and subsequent steps were performed in the same manner as in Example 5, and a fixing film having a sliding
[実施例7]
第一ポリイミド前駆体溶液及び第二ポリイミド前駆体溶液については、実施例3と同様のものを用いた。第一被膜11-a及び第二被膜11-bの成膜工程以降は、実施例5と同様の手順にて行い、各々の被膜が厚み7μmで積層された摺動層11を有する定着フィルムを得た。
[Example 7]
Regarding the first polyimide precursor solution and the second polyimide precursor solution, the same ones as in Example 3 were used. The process of forming the first coating 11-a and the second coating 11-b and subsequent steps were performed in the same manner as in Example 5, and a fixing film having a sliding
[比較例1]
実施例1で調製したポリイミド前駆体溶液(a)を、第一ポリイミド前駆体溶液及び第二ポリイミド前駆体溶液として用いた。このポリイミド前駆体溶液(a)を、基体12の内周面に、塗布厚みが80μmとなるようにリングコート法により塗工した。これを150℃の加熱炉内部にて5分間加熱し、溶媒であるNMPを蒸発させて塗膜を固化させた後、200℃~260℃で段階的に1時間加熱した。さらに260℃~350℃まで段階的に1時間加熱した。これらの工程により、第一被膜と第二被膜との区別がない、同一組成からなる厚み14μmの摺動層11を有する定着フィルムを得た。
[Comparative example 1]
The polyimide precursor solution (a) prepared in Example 1 was used as the first polyimide precursor solution and the second polyimide precursor solution. This polyimide precursor solution (a) was coated on the inner peripheral surface of the
[比較例2]
実施例1で調製したポリイミド前駆体溶液(b)を、第一ポリイミド前駆体溶液及び第二ポリイミド前駆体溶液として用いた。それ以外は、実施例5と同様の手順にて、第一被膜と第二被膜との区別がない、同一組成からなる厚み14μmの摺動層11を有する定着フィルムを得た。
[Comparative example 2]
The polyimide precursor solution (b) prepared in Example 1 was used as the first polyimide precursor solution and the second polyimide precursor solution. Other than that, the same procedure as in Example 5 was followed to obtain a fixing film having a sliding
[比較例3]
第一ポリイミド前駆体溶液として、実施例1で調製したポリイミド前駆体溶液(b)を用いた。一方、第二ポリイミド前駆体溶液として、実施例1で調製したポリイミド前駆体溶液(a)を用いた。それ以外は、実施例4と同様の手順にて、各々の被膜が厚み7μmで積層された摺動層11を有する定着フィルムを得た。
[Comparative example 3]
The polyimide precursor solution (b) prepared in Example 1 was used as the first polyimide precursor solution. On the other hand, the polyimide precursor solution (a) prepared in Example 1 was used as the second polyimide precursor solution. Other than that, the same procedure as in Example 4 was followed to obtain a fixing film having a sliding
[比較例4]
比較例1と同様に、実施例1で調製したポリイミド前駆体溶液(a)を、第一ポリイミド前駆体溶液及び第二ポリイミド前駆体溶液として用いた。それ以外は、実施例5と同様の手順にて、第一被膜と第二被膜との区別がない、同一組成からなる厚み14μmの摺動層11を有する定着フィルムを得た。
[Comparative example 4]
Similarly to Comparative Example 1, the polyimide precursor solution (a) prepared in Example 1 was used as the first polyimide precursor solution and the second polyimide precursor solution. Other than that, the same procedure as in Example 5 was followed to obtain a fixing film having a sliding
上記のようにして作製した実施例2~7及び比較例1~4に係る定着フィルム41を、前記定着装置40に組み込み、実施例1と同様に、摺動層11の耐久性及び摺動性を評価した。結果を表1に示す。
The fixing
実施例1~7の結果から、摺動層11として、基体12側には、柔軟性の高い式(A)で示される第1の構成単位を60質量%以上含有するポリイミド樹脂からなる第一被膜11-aを設け、一方で、セラミックヒータとの摺動面側には、硬く剛直な式(B)で示される第2の構成単位を有するポリイミド樹脂からなる第二被膜11-bを設けることによって、基体12との密着性が良好で、かつ異音の発生と摩耗に対する抑制力が高い摺動層が得られることがわかった。
比較例1及び4においては、基体の露出はなく、摺動層と基体との密着性は問題なかった。しかしながら、第二被膜が、第1の構成単位を有するポリイミド樹脂により形成されているため、耐久初期から異音が発生し、かつ耐久による摩耗が進行してトルクの上昇がみられた。一方、比較例2及び3においては、摺動層と基体との密着性が不足し、耐久中に基体が露出してトルクが上昇した。
From the results of Examples 1 to 7, it was found that as the sliding
In Comparative Examples 1 and 4, the substrate was not exposed, and there was no problem in the adhesion between the sliding layer and the substrate. However, since the second coating was formed of a polyimide resin having the first structural unit, abnormal noise was generated from the beginning of the durability, and as wear progressed due to the durability, an increase in torque was observed. On the other hand, in Comparative Examples 2 and 3, the adhesion between the sliding layer and the base was insufficient, and the base was exposed during durability, resulting in an increase in torque.
本開示には、以下の構成が含まれる。 The present disclosure includes the following configurations.
[構成1]
定着フィルムであって、
円筒状の基体と、
該基体の内周面側に形成された、ポリイミド樹脂を含む摺動層と、
該基体の外周面側に形成された離型層と、
を有し、
該摺動層は、該基体に近い側から順に第一被膜及び第二被膜が積層されてなり、
該第一被膜は、下記式(A)で示される第1の構成単位、又は該第1の構成単位と下記式(B)で示される第2の構成単位と、を含み、かつ、該第1の構成単位と該第2の構成単位の含有量の質量比率(A):(B)が100:0~60:40であり、
該第二被膜は、該第2の構成単位のみを含む
定着フィルム:
[Configuration 1]
A fixing film,
a cylindrical base;
a sliding layer containing polyimide resin formed on the inner peripheral surface side of the base;
a release layer formed on the outer peripheral surface side of the base;
has
The sliding layer is formed by laminating a first coating and a second coating in order from the side closer to the base,
The first coating includes a first structural unit represented by the following formula (A), or the first structural unit and a second structural unit represented by the following formula (B), and The mass ratio (A):(B) of the content of the first structural unit and the second structural unit is 100:0 to 60:40,
The second coating is a fixing film containing only the second structural unit:
[構成2]
前記第二被膜のイミド化率が75%以上である、構成1に記載の定着フィルム。
[構成3]
前記第二被膜のナノインデンター法により測定したマルテンス硬さが、前記第一被膜のナノインデンター法により測定したマルテンス硬さよりも大きく、かつ、前記第二被膜の線膨張係数が、前記第一被膜の線膨張係数よりも小さい、構成1又は2に記載の定着フィルム。
[構成4]
前記第二被膜のマルテンス硬さが350N/mm2以上450N/mm2以下であり、かつ前記第一被膜のマルテンス硬さが200N/mm2以上300N/mm2以下である、構成1~3のいずれかに記載の定着フィルム。
[構成5]
前記第二被膜の線膨張係数が1.5×10-6/℃以上5.0×10-6/℃以下であり、かつ前記第一被膜の線膨張係数が2.0×10-5/℃以上5.0×10-5/℃以下である、構成1~4のいずれかに記載の定着フィルム。
[Configuration 2]
The fixing film according to configuration 1, wherein the second coating has an imidization rate of 75% or more.
[Configuration 3]
The Martens hardness of the second coating measured by the nanoindenter method is larger than the Martens hardness of the first coating measured by the nanoindenter method, and the linear expansion coefficient of the second coating is greater than the Martens hardness measured by the nanoindenter method of the second coating. The fixing film according to configuration 1 or 2, which has a coefficient of linear expansion smaller than that of the coating.
[Configuration 4]
Structures 1 to 3, wherein the Martens hardness of the second coating is 350 N/mm 2 or more and 450 N/mm 2 or less, and the Martens hardness of the first coating is 200 N/mm 2 or more and 300 N/mm 2 or less. The fixing film according to any one of the above.
[Configuration 5]
The linear expansion coefficient of the second coating is 1.5×10 −6 /°C or more and 5.0×10 −6 /°C or less, and the linear expansion coefficient of the first coating is 2.0×10 −5 /°C. The fixing film according to any one of configurations 1 to 4, which has a temperature of at least 5.0×10 −5 /° C.
[構成6]
構成1~5のいずれかに記載の定着フィルムの製造方法であって、
前記基体の内周面に、下記式(a)で示される構成単位Aを有するポリアミック酸Aと、下記式(b)で示される構成単位Bを有するポリアミック酸Bとを、該構成単位Aと該構成単位Bの質量比率(構成単位A:構成単位B)が100:0~60:40となるように混合してなる第一ポリイミド前駆体溶液の塗膜aを形成する第1工程と、
該塗膜aの内周面に、唯一のポリアミック酸として該ポリアミック酸Bを含む第二ポリイミド前駆体溶液の塗膜bを形成する第2工程と、
該塗膜a中の該ポリアミック酸A、又は該ポリアミック酸A及び該ポリアミック酸Bをイミド化させて前記第一被膜を形成し、該塗膜b中の該ポリアミック酸Bをイミド化させて前記第二被膜を形成する第3工程と、
を有することを特徴とする定着フィルムの製造方法:
[Configuration 6]
A method for producing a fixing film according to any one of configurations 1 to 5, comprising:
A polyamic acid A having a structural unit A represented by the following formula (a) and a polyamic acid B having a structural unit B represented by the following formula (b) are placed on the inner circumferential surface of the base, and the structural units A and A first step of forming a coating film a of a first polyimide precursor solution obtained by mixing the structural unit B so that the mass ratio (constituent unit A: structural unit B) is 100:0 to 60:40;
a second step of forming a coating film b of a second polyimide precursor solution containing the polyamic acid B as the only polyamic acid on the inner peripheral surface of the coating film a;
The polyamic acid A in the coating film a, or the polyamic acid A and the polyamic acid B, are imidized to form the first coating, and the polyamic acid B in the coating film b is imidized to form the first coating. a third step of forming a second coating;
A method for producing a fixing film characterized by having:
[構成7]
前記第1工程が、前記塗膜aを、前記第一ポリイミド前駆体溶液が含む溶媒の沸点よりも低い温度T1-1で加熱して該塗膜aを乾燥させる乾燥工程1を含み、
前記第2工程が、前記塗膜bを、前記第二ポリイミド前駆体溶液が含む溶媒の沸点よりも低い温度T1-2で加熱して該塗膜bを乾燥させる乾燥工程2を含み、
前記第3工程が、該乾燥工程1を経た該塗膜a、及び該乾燥工程2を経た該塗膜bを、該温度T1-1及び該温度T1-2よりも高い温度T2で加熱し、次いで、該温度T2よりもさらに高い温度T3で加熱して、前記ポリアミック酸A及び前記ポリアミック酸Bをイミド化して、前記第一被膜及び前記第二被膜を形成する工程を含む、
構成6に記載の定着フィルムの製造方法。
[構成8]
構成1~5のいずれかに記載の定着フィルムを有する定着装置。
[構成9]
構成8に記載の定着装置を具備する電子写真画像形成装置。
[Configuration 7]
The first step includes a drying step 1 of heating the coating film a at a temperature T1-1 lower than the boiling point of the solvent contained in the first polyimide precursor solution to dry the coating film a,
The second step includes a drying step 2 of heating the coating film b at a temperature T1-2 lower than the boiling point of the solvent contained in the second polyimide precursor solution to dry the coating film b,
The third step heats the coating film a that has undergone the drying process 1 and the coating film b that has undergone the drying process 2 at a temperature T2 higher than the temperature T1-1 and the temperature T1-2, Next, heating at a temperature T3 higher than the temperature T2 to imidize the polyamic acid A and the polyamic acid B to form the first coating and the second coating.
The method for producing a fixing film according to configuration 6.
[Configuration 8]
A fixing device comprising the fixing film according to any one of configurations 1 to 5.
[Configuration 9]
An electrophotographic image forming apparatus comprising the fixing device according to configuration 8.
11…摺動層
11-a…第一被膜
11-b…第二被膜
12…基体
15…離型層
41…定着フィルム
42…フィルムガイド兼ヒータホルダ
43…セラミックヒータ
11...Sliding layer 11-a...First coating 11-b...
Claims (9)
円筒状の基体と、
該基体の内周面側に形成された、ポリイミド樹脂を含む摺動層と、
該基体の外周面側に形成された離型層と、
を有し、
該摺動層は、該基体に近い側から順に第一被膜及び第二被膜が積層されてなり、
該第一被膜は、下記式(A)で示される第1の構成単位、又は該第1の構成単位と下記式(B)で示される第2の構成単位と、を含み、かつ、該第1の構成単位と該第2の構成単位の含有量の質量比率(A):(B)が100:0~60:40であり、
該第二被膜は、該第2の構成単位のみを含む
ことを特徴とする定着フィルム:
a cylindrical base;
a sliding layer containing polyimide resin formed on the inner peripheral surface side of the base;
a release layer formed on the outer peripheral surface side of the base;
has
The sliding layer is formed by laminating a first coating and a second coating in order from the side closer to the base,
The first coating includes a first structural unit represented by the following formula (A), or the first structural unit and a second structural unit represented by the following formula (B), and The mass ratio (A):(B) of the content of the first structural unit and the second structural unit is 100:0 to 60:40,
A fixing film characterized in that the second coating contains only the second structural unit:
前記基体の内周面に、下記式(a)で示される構成単位Aを有するポリアミック酸Aと、下記式(b)で示される構成単位Bを有するポリアミック酸Bとを、該構成単位Aと該構成単位Bの質量比率(構成単位A:構成単位B)が100:0~60:40となるように混合してなる第一ポリイミド前駆体溶液の塗膜aを形成する第1工程と、
該塗膜aの内周面に、唯一のポリアミック酸として該ポリアミック酸Bを含む第二ポリイミド前駆体溶液の塗膜bを形成する第2工程と、
該塗膜a中の該ポリアミック酸A、又は該ポリアミック酸A及び該ポリアミック酸Bをイミド化させて前記第一被膜を形成し、該塗膜b中の該ポリアミック酸Bをイミド化させて前記第二被膜を形成する第3工程と、
を有することを特徴とする定着フィルムの製造方法:
A polyamic acid A having a structural unit A represented by the following formula (a) and a polyamic acid B having a structural unit B represented by the following formula (b) are placed on the inner circumferential surface of the base, and the structural units A and A first step of forming a coating film a of a first polyimide precursor solution obtained by mixing the structural unit B so that the mass ratio (constituent unit A: structural unit B) is 100:0 to 60:40;
a second step of forming a coating film b of a second polyimide precursor solution containing the polyamic acid B as the only polyamic acid on the inner peripheral surface of the coating film a;
The polyamic acid A in the coating film a, or the polyamic acid A and the polyamic acid B, are imidized to form the first coating, and the polyamic acid B in the coating film b is imidized to form the first coating. a third step of forming a second coating;
A method for producing a fixing film characterized by having:
前記第2工程が、前記塗膜bを、前記第二ポリイミド前駆体溶液が含む溶媒の沸点よりも低い温度T1-2で加熱して該塗膜bを乾燥させる乾燥工程2を含み、
前記第3工程が、該乾燥工程1を経た該塗膜a、及び該乾燥工程2を経た該塗膜bを、該温度T1-1及び該温度T1-2よりも高い温度T2で加熱し、次いで、該温度T2よりもさらに高い温度T3で加熱して、前記ポリアミック酸A及び前記ポリアミック酸Bをイミド化して、前記第一被膜及び前記第二被膜を形成する工程を含む、
請求項6に記載の定着フィルムの製造方法。 The first step includes a drying step 1 of heating the coating film a at a temperature T1-1 lower than the boiling point of the solvent contained in the first polyimide precursor solution to dry the coating film a,
The second step includes a drying step 2 of heating the coating film b at a temperature T1-2 lower than the boiling point of the solvent contained in the second polyimide precursor solution to dry the coating film b,
The third step heats the coating film a that has undergone the drying process 1 and the coating film b that has undergone the drying process 2 at a temperature T2 higher than the temperature T1-1 and the temperature T1-2, Next, heating at a temperature T3 higher than the temperature T2 to imidize the polyamic acid A and the polyamic acid B to form the first coating and the second coating.
The method for manufacturing a fixing film according to claim 6.
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US18/322,749 US20230393506A1 (en) | 2022-06-03 | 2023-05-24 | Fixing film and method of producing same, fixing device, and electrophotographic image forming apparatus |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2022091019 | 2022-06-03 | ||
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2023178219A true JP2023178219A (en) | 2023-12-14 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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