JP2022525522A - Hbvコアタンパク質アロステリック修飾剤の化合物の固体形態 - Google Patents
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Abstract
3-[(8aS)-7-[[(4S)-5-エトキシカルボニル-4-(3-フルオロ-2-メチル-フェニル)-2-チアゾール-2-イル-1,4-ジヒドロピリミジン-6-イル]メチル]-3-オキソ-5,6,8,8a-テトラヒドロ-1H-イミダゾ[1,5-a]ピラジン-2-イル]-2,2-ジメチル-プロパン酸の新規の固体形態、およびここに開示するその固体形態を含む薬学的組成物に関し、これらは、HBV感染またはHBV感染によって引き起こされる疾患に関する患者において、HBVカプシド阻害剤(もしくはHBVコアタンパク質アロステリック修飾剤)として、またはウイルス性疾患の治療もしくは予防のために使用することができる。
【選択図】なし
Description
ACN アセトニトリル
Cmax 観測された最高濃度
DSC 示差走査熱量測定
EtOAc 酢酸エチル
FaSSIF 空腹時人工腸液
IPA イソプロパノール
IPAc 酢酸イソプロピル
IPE ジイソプロピルエーテル
Pos. 位置
Rel.Int 相対強度
RT 室温
SGF 人工胃液
TGA 熱重量分析
Tmax 最高濃度(Cmax)が観測された時間
XRPD X線粉末回折
化合物(I)の形態Dの調製
5mLのn-プロパノール中10mgの化合物(I)の溶液を室温中に置き、エバポレートして乾燥させた。
XRPD:Cu-Kα照射を用いる、Bruker D8 Advance回折計のX線粉末回折計。管電圧は40KVであり、管電流は40mAであった。走査範囲は3~40度2θであった。ステップサイズは、6°/分の走査速度で0.02°であった。
化合物(I)の形態Dの代替的調製
n-プロパノールと2-ブタノールとの5mL混合物中(2:8、v:v)、10mgの化合物(I)の溶液を室温中に置き、エバポレートして乾燥させた。
化合物(I)の形態Aの調製
10mLのアセトン中10mgの化合物(I)の溶液を室温中に置き、エバポレートして乾燥させた。
XRPD:Cu-Kα照射を用いる、PANalytical EMPYREAN X線粉末回折計。管電圧は40KVであり、管電流は40mAであった。走査範囲は4~40であった。ステップサイズは、10.504°/分の走査速度で0.053°であった。
化合物(I)の形態Aの代替的調製
1mLの酢酸エチル中10mgの化合物(I)の溶液を室温中に置き、エバポレートして乾燥させた。
化合物(I)の形態Aの代替的調製
2mLの酢酸イソプロピル中10mgの化合物(I)の溶液を室温中に置き、エバポレートして乾燥させた。
化合物(I)の形態Aの代替的調製
4mLのアセトニトリル中10mgの化合物(I)の溶液を室温中に置き、エバポレートして乾燥させた。
化合物(I)の非晶質形態の調製
10mLのジクロロメタン中500mgの化合物(I)の溶液を、ロータリーエバポレーターを使用して速やかにエバポレートした。固体を30℃で一晩乾燥させた。固体をXRPDによって分析した。結果を図4に示す。
XRPD:Cu-Kα照射を用いる、PANalytical EMPYREAN X線粉末回折計。管電圧は40KVであり、管電流は40mAであった。走査範囲は4~40度2θであった。ステップサイズは、10.504°/分の走査速度で0.053°であった。
化合物(I)の非晶質形態の代替的調製
1mLのメタノール中10mgの化合物(I)の溶液を室温中に置き、エバポレートして乾燥させた。
化合物(I)の非晶質形態の代替的調製
メタノールとジクロロメタンとの1mL混合溶媒中(50:50、v:v)、10mgの化合物(I)の溶液を室温中に置き、エバポレートして乾燥させた。
化合物(I)の形態Bの調製
実施例7において調製した、およそ50mgの化合物(I)の非晶質形態を秤量し、ガラスバイアルに移した。0.4mLのエタノールを加えて、懸濁液を形成した。バイアルを振盪装置に取り付け、25℃で1200rpmで3分振盪し続けた。
XRPD:Cu-Kα照射を用いる、Bruker D8 Advance回折計のX線粉末回折計。管電圧は40KVであり、管電流は40mAであった。走査範囲は3~40度2θであった。ステップサイズは、6°/分の走査速度で0.02°であった。
化合物(I)の形態Cの調製
実施例7において調製した、およそ50mgの化合物(I)の非晶質形態を秤量し、ガラスバイアルに移した。エタノールとメチルシクロヘキサンとの0.5mL混合物(1:4、v:v)を加えて、懸濁液を形成した。懸濁液を10分かき混ぜた。
XRPD:Cu-Kα照射を用いる、PANalytical EMPYREAN X線粉末回折計。管電圧は40KVであり、管電流は40mAであった。走査範囲は4~40度2θであった。ステップサイズは、3.348°/分の走査速度で0.026°であった。
化合物(I)の形態Eの調製
実施例7において調製した、およそ10mgの化合物(I)の非晶質形態を秤量し、遠心分離管に移した。管を密閉容器内に置き、n-ヘプタンで満たし、16時間放置した。
XRPD:Cu-Kα照射を用いる、Bruker D8 Advance回折計のX線粉末回折計。管電圧は40KVであり、管電流は40mAであった。走査範囲は3~40度2θであった。ステップサイズは、6°/分の走査速度で0.02°であった。
化合物(I)の形態Fの調製
実施例7において調製した、およそ20mgの化合物(I)の非晶質形態を秤量し、乳鉢に移した。0.1mLのn-プロパノールを加えた。混合物を手作業で3分粉砕した。
XRPD:Cu-Kα照射を用いる、Bruker D8 Advance回折計のX線粉末回折計。管電圧は40KVであり、管電流は40mAであった。走査範囲は3~40度2θであった。ステップサイズは、6°/分の走査速度で0.02°であった。
化合物(I)の形態Gの調製
実施例3において調製した、およそ15mgの化合物(I)の形態Aを秤量し、ガラスバイアルに移した。2mLのエタノール/n-ヘプタン混合物(1:1、v:v)を加え、穏やかに音波処理をして、完全な溶解を確保した。約2mgのPEG 6000を加えた。溶液を室温でエバポレートして乾燥させた。
XRPD:Cu-Kα照射を用いる、Bruker D8 Advance回折計のX線粉末回折計。管電圧は40KVであり、管電流は40mAであった。走査範囲は3~40度2θであった。ステップサイズは、6°/分の走査速度で0.02°であった。
化合物(I)のナトリウム塩形態Jの調製
実施例3において調製した、1.0gの化合物(I)の形態Aをバイアルに秤量し、13mLのエタノールに溶解させた。溶液を、40℃の水浴下で5分撹拌した。73.19mgの水酸化ナトリウム(1.1eq.)を溶液に加え、撹拌を1分適用した。溶液は透明となり、次いで濁り、次いでジェル様となった。2.0mLのエタノールを加え、溶液が流動性になるまで、混合物を室温でかき混ぜた。室温で5時間かき混ぜた後、減圧濾過によって生成物を単離した。少量のエタノールを使用して湿潤ケーキを洗浄し、エアブローオーブン中で40℃で16時間乾燥させた。
XRPD:Cu-Kα照射を用いる、PANalytical EMPYREAN X線粉末回折計。管電圧は40KVであり、管電流は40mAであった。走査範囲は4~40度2θであった。ステップサイズは、10.504°/分の走査速度で0.053°であった。
化合物(I)の形態Hの調製
実施例15において調製した、200mgの化合物(I)のナトリウム塩形態Jをバイアルに秤量し、これに20mLのFaSSIF溶液を加えて、懸濁液を形成した。得られた懸濁液を、25℃で16時間かき混ぜた。次いで、固体を濾過によって収集し、エアブロー下で、40℃で16時間乾燥させた。XRPD分析、DSC分析、およびTGA分析のために、固体を収集した。
XRPD:Cu-Kα照射を用いる、PANalytical EMPYREAN X線粉末回折計。管電圧は40KVであり、管電流は40mAであった。走査範囲は4~40度2θであった。ステップサイズは、3.348°/分の走査速度で0.026°であった。
化合物(I)の形態Iの調製
実施例16において調製した、10mgの化合物(I)の形態Hを、可変温度チャンバに秤量した。試料を、60℃で5分置いた。
XRPD:Cu-Kα照射を用いる、Bruker D8 Advance回折計のX線粉末回折計。管電圧は40KVであり、管電流は40mAであった。走査範囲は3~30度2θであった。ステップサイズは、6°/分の走査速度で0.02°であった。
化合物(I)の塩酸塩形態Kの調製
実施例3において調製した、400mgの化合物(I)の形態Aと、9.0mLのアセトンとを、45℃の水浴中のバイアルに加え、混合物を撹拌して透明溶液を得た。1.0mLのアセトン中74.4mgの濃塩酸(1.1eq.)を溶液に加えると、溶液は直ちに濁った。室温で1時間かき混ぜた後、混合物は粘着性となり、固化した。2.0mLのアセトンを加えた後、混合物は流動性となった。懸濁液を室温でさらに5時間かき混ぜ、固体を減圧濾過によって収集し、少量のアセトンを用いて洗浄し、エアブローオーブン中で40℃で16時間乾燥させた。XRPD分析のために、固体を収集した。
XRPD:Cu-Kα照射を用いる、PANalytical EMPYREAN X線粉末回折計。管電圧は40KVであり、管電流は40mAであった。走査範囲は4~40度2θであった。ステップサイズは、3.348°/分の走査速度で0.026°であった。
化合物(I)の塩酸塩形態Lの調製
実施例18において調製した、150mgの化合物(I)の塩酸塩形態Kを、常温において100%RHに密閉した高相対湿度チャンバ内に、3日置いた。
XRPD:Cu-Kα照射を用いる、PANalytical EMPYREAN X線粉末回折計。管電圧は40KVであり、管電流は40mAであった。走査範囲は4~40度2θであった。ステップサイズは、3.348°/分の走査速度で0.026°であった。
化合物(I)の硫酸塩形態Mの調製
実施例3において調製した、9.98mgの化合物(I)の形態Aを、1.5mLのIPAに加え、1.8mgの硫酸(1.1eq.)を加えて、透明溶液を得た。溶媒を0.2mLまでエバポレートし、残りをさらに16時間かき混ぜて、懸濁液が生じた。固体を遠心分離によって収集し、減圧オーブン中で40℃で16時間乾燥させた。
XRPD:Cu-Kα照射を用いる、Bruker D8 Advance回折計のX線粉末回折計。管電圧は40KVであり、管電流は40mAであった。走査範囲は3~40度2θであった。ステップサイズは、6°/分の走査速度で0.02°であった。
化合物(I)の硫酸塩形態Nの調製
実施例3において調製した、401mgの化合物(I)の形態Aと、8.0mLのIPAとをバイアルに加え、水浴中で60℃に加熱した。溶液はかき混ぜた後に透明となり、次いで室温に冷却するとわずかに濁った。1.0mLのIPA中に希釈した76.6mgの硫酸(約1.1eq.)を加えると、透明な溶液が生じた。溶液を室温で0.5時間、次いで10℃で16時間かき混ぜたが、沈殿は発生しなかった。溶媒を2~3mLまでエバポレートし、これを10℃でかき混ぜた。溶液は2分以内に非常に濁り、10℃でかき混ぜを継続すると、懸濁液が生じた(空気への曝露後、油状物となった)。10℃で5.0mLのIPEを滴下した後、混合物を室温に加熱し、16時間かき混ぜた。固体を減圧濾過によって単離し、室温で空気乾燥させた。200mgの得られた固体を、1.0mLのEtOAcに加え、これを室温で24時間かき混ぜた。固体を濾過によって収集し、少量のEtOAcを用いて洗浄し、エアブローオーブン中で40℃で24時間乾燥させた。
XRPD:Cu-Kα照射を用いる、Bruker D8 Advance回折計のX線粉末回折計。管電圧は40KVであり、管電流は40mAであった。走査範囲は3~40度2θであった。ステップサイズは、6°/分の走査速度で0.02°であった。
化合物(I)のベシル酸塩形態Oの調製
実施例3において調製した、401mgの化合物(I)の形態Aと、12.0mLの酢酸エチルとを65℃でバイアルに加え、溶液が透明になるまでかき混ぜた。溶液を室温に冷却すると、わずかに濁った。0.5mLのIPA中の122.64mgのベンゼンスルホン酸(1.2eq.)を溶液に加えると、再び透明になった。溶液を室温で0.5時間、次いで10℃で16時間撹拌すると、沈殿が発生した。懸濁液を、室温で3日撹拌し続けた。クリーム状固体を濾過によって収集し、室温で乾燥させた。
XRPD:Cu-Kα照射を用いる、Bruker D8 Advance回折計のX線粉末回折計。管電圧は40KVであり、管電流は40mAであった。走査範囲は3~40度2θであった。ステップサイズは、6°/分の走査速度で0.02°であった。
化合物(I)のカリウム塩形態Pの調製
実施例3において調製した、10.02mgの化合物(I)の形態Aを、0.3mLのMeOHに溶解させた。1.22mgの水酸化カリウム(1.1eq.)を溶液に加え、かき混ぜて透明溶液を得た。さらに16時間かき混ぜた後、次いで溶媒を0.2mLに減少させ、10℃でさらに16時間かき混ぜを継続した。3.0mLのn-ヘプタンを溶液に加え、このとき、少量の固体が沈殿した。固体を遠心分離機によって収集し、減圧下で、40℃で24時間乾燥させた。
XRPD:Cu-Kα照射を用いる、Bruker D8 Advance回折計のX線粉末回折計。管電圧は40KVであり、管電流は40mAであった。走査範囲は3~40度2θであった。ステップサイズは、6°/分の走査速度で0.02°であった。
化合物(I)のカリウム塩形態Qの調製
実施例1において調製した、705.70mgの化合物(I)の形態Aを、50mLの酢酸エチルに溶解させた。バイアル中の溶液を40℃の水浴中に置き、かき混ぜて完全な溶解を確保し、次いで、218.28mgのフタルイミドカリウム(1.0eq.)を加えると、溶液はわずかに濁った。溶液を室温で16時間撹拌すると、有意に濁った。固体を濾過によって収集し、10mLの酢酸エチルによって洗浄し、エアブローオーブン中で40℃で5時間乾燥させた。
XRPD:Cu-Kα照射を用いる、Bruker D8 Advance回折計のX線粉末回折計。管電圧は40KVであり、管電流は40mAであった。走査範囲は3~40度2θであった。ステップサイズは、6°/分の走査速度で0.02°であった。
化合物(I)のカリウム塩形態Rの調製
実施例24において調製した、5.0mgの化合物(I)のカリウム塩形態Qを、0.5mLのIPAcに懸濁させた。懸濁液を、室温で3日撹拌した。
XRPD:Cu-Kα照射を用いる、Bruker D8 Advance回折計のX線粉末回折計。管電圧は40KVであり、管電流は40mAであった。走査範囲は3~40度2θであった。ステップサイズは、6°/分の走査速度で0.02°であった。
化合物(I)のカリウム塩形態Sの調製
実施例24において調製した、10mgの化合物(I)のカリウム塩形態Qを、可変温度チャンバに秤量した。試料を、120℃で5分置いた。
XRPD:Cu-Kα照射を用いる、Bruker D8 Advance回折計のX線粉末回折計。管電圧は40KVであり、管電流は40mAであった。走査範囲は3~30度2θであった。ステップサイズは、6°/分の走査速度で0.02°であった。
化合物(I)のカルシウム塩形態Tの調製
実施例15において調製した、20.04mgの化合物(I)のナトリウム塩形態Jを、室温の0.7mLの水に溶解させ、これに0.1mLの水中4.10mgの塩化カルシウム無水物(1.1eq.)を加え、エマルション様白色懸濁液が形成された。さらに0.4mLの水を加え、懸濁液を室温で1.5時間かき混ぜた。固体を遠心分離によって収集し、減圧オーブン中で40℃で16時間乾燥させた。
XRPD:Cu-Kα照射を用いる、Bruker D8 Advance回折計のX線粉末回折計。管電圧は40KVであり、管電流は40mAであった。走査範囲は3~40度2θであった。ステップサイズは、6°/分の走査速度で0.02°であった。
化合物(I)のカルシウム塩形態Uの調製
実施例15において調製した、304.32mgの化合物(I)のナトリウム塩形態Jを、室温の10mLの水に、音波処理を用いて溶解させた。1.0mLの水中、約59.90mgの塩化カルシウム無水物(1.1eq.)を、上記溶液に滴下すると、溶液は直ちに濁った。室温で1時間かき混ぜた後、懸濁液は粘着性となり、固化した。室温で16時間かき混ぜながら4.0mLの水を加えた後、これは流動性となり、固体を減圧濾過によって収集し、少量の水を用いて洗浄し、エアブローオーブン中で40℃で16時間乾燥させた。
XRPD:Cu-Kα照射を用いる、Bruker D8 Advance回折計のX線粉末回折計。管電圧は40KVであり、管電流は40mAであった。走査範囲は3~40度2θであった。ステップサイズは、6°/分の走査速度で0.02°であった。
化合物(I)のアンモニウム塩形態Vの調製
実施例3において調製した、10.34mgの化合物(I)の形態Aを、室温の0.3mLのメタノールに溶解させた。2.66mgのアンモニア溶液(1.1eq.、25%~28%)を溶液に加えると、混合物は透明であったが、16時間かき混ぜた後、沈殿が発生した。すべての溶媒を除去した後、油状物を得た。0.05mLのアセトニトリルと0.4mLのIPEとを残留物に加えると、固体が形成され、これを濾過によって収集し、減圧オーブン中で16時間乾燥させた。
XRPD:Cu-Kα照射を用いる、Bruker D8 Advance回折計のX線粉末回折計。管電圧は40KVであり、管電流は40mAであった。走査範囲は3~40度2θであった。ステップサイズは、6°/分の走査速度で0.02°であった。
化合物(I)のアンモニウム塩形態Wの調製
実施例3において調製した、10.47mgの化合物(I)の形態Aを、50℃で1.0mLのアセトニトリルに溶解させ、次いで、溶液を室温に冷やした。溶液への2.69mgのアンモニア溶液(1.1eq.、25%~28%)、混合物は透明であり、16時間かき混ぜた後、沈殿が発生した。溶媒の量を0.2mLまで減少させ、10℃で3日かき混ぜを継続した。固体を濾過によって収集し、減圧オーブン中で16時間乾燥させた。
XRPD:Cu-Kα照射を用いる、Bruker D8 Advance回折計のX線粉末回折計。管電圧は40KVであり、管電流は40mAであった。走査範囲は3~40度2θであった。ステップサイズは、6°/分の走査速度で0.02°であった。
化合物(I)のアンモニウム塩形態Xの調製
実施例3において調製した、400.46mgの化合物(I)の形態Aを、65℃で30mLのACNに溶解させ、室温に冷却した。100.35mgのアンモニア溶液(1.1eq.、25%~28%)を、かき混ぜながら溶液に加えると、溶液は直ちに濁った。懸濁液を室温で17時間かき混ぜた。固体を濾過によって収集し、少量のアセトニトリルを用いて洗浄し、減圧オーブン中で5時間乾燥させた。
XRPD:Cu-Kα照射を用いる、Bruker D8 Advance回折計のX線粉末回折計。管電圧は40KVであり、管電流は40mAであった。走査範囲は3~40度2θであった。ステップサイズは、6°/分の走査速度で0.02°であった。
固体形態の安定性
異なる固体形態の40mgの化合物(I)を、温度および湿度がそれぞれ40℃および75%RHに制御された安定性チャンバ中に貯蔵した。1カ月後、試料をXRPDによって分析し、固体形態を確かめ、初期の固体形態と比較した。表29に示す結果による。形態Dおよびナトリウム塩形態Jは、実施例1において調製した当初の形態Dよりも、良好な固体形態安定性を示した。
見掛け溶解度の研究
pHバッファー(50mM)を含む異なる生体関連媒体中、5mgの化合物(I)を懸濁させることによって、見掛け溶解度を決定した。懸濁液を、25℃で24時間平衡化した。次いで、懸濁液を0.22μmPVDFフィルタを通して、2mL HPLCバイアルに濾過した。濾液の数量化は、標準溶液を参照して、HPLCによって実施した。この発明において選択した新規な固体形態の溶解度の結果を、表30に示す。この発明の新規な固体形態である形態H、形態J、および形態Qは、pH7およびpH9において、形態Aよりも高い溶解度を示した。
形態Hの溶解度および安定性の研究
5mgの化合物(I)を精製水に懸濁させることによって、水中における見掛け溶解度を決定した。懸濁液を、25℃で24時間平衡化した。次いで、懸濁液を0.22μmPVDFフィルタを通して、2mL HPLCバイアルに濾過した。濾液の定量は、標準溶液を参照して、HPLCによって実施した。固体をXRPDによって分析した。この発明において選択した新規な固体形態の溶解度研究の結果を、表31に示す。
Claims (88)
- 非晶質形態、形態A、形態B、形態C、形態D、形態E、形態F、形態G、形態H、形態I、形態J、形態K、形態L、形態M、形態N、形態O、形態P、形態Q、形態R、形態S、形態T、形態U、形態V、形態W、もしくは形態X;またはこれらの組み合わせである、請求項1に記載の固体形態。
- 2θ度で表して6.8°±0.2°、13.0°±0.2°、20.3°±0.2°、27.1°±0.2°、27.4°±0.2°、28.8°±0.2°、および29.1°±0.2°に特徴的なピークを有するX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Dである、請求項1または2に記載の固体形態。
- 図1に示すX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Dである、請求項3に記載の固体形態。
- 2θ度で表して10.0°±0.2°、14.5°±0.2°、15.4°±0.2°、16.4°±0.2°、19.4°±0.2°、21.1°±0.2°、および23.2°±0.2°に特徴的なピークを有するX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Aである、請求項1または2に記載の固体形態。
- 2θ度で表して10.0°±0.2°、12.3°±0.2°、13.2°±0.2°、14.5°±0.2°、15.4°±0.2°、16.4°±0.2°、19.4°±0.2°、20.3°±0.2°、21.1°±0.2°、21.6°±0.2°、23.2°±0.2°、23.7°±0.2°、24.5°±0.2°、25.5°±0.2°、および26.8°±0.2°に特徴的なピークを有するX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Aである、請求項5に記載の固体形態。
- 図2に示すX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Aである、請求項5または6に記載の固体形態。
- 図4に示すX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する非晶質形態である、請求項1または2に記載の固体形態。
- 2θ度で表して3.9°±0.2°、4.8°±0.2°、7.3°±0.2°、7.8°±0.2°、10.7°±0.2°、15.6°±0.2°、および19.5°±0.2°に特徴的なピークを有するX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Bである、請求項1または2に記載の固体形態。
- 2θ度で表して3.9°±0.2°、4.8°±0.2°、7.3°±0.2°、7.8°±0.2°、10.7°±0.2°、15.6°±0.2°、16.2°±0.2°、16.4°±0.2°、19.5°±0.2°、20.4°±0.2°、および21.7°±0.2°に特徴的なピークを有するX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Bである、請求項9に記載の固体形態。
- 図5に示すX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Bである、請求項9または10に記載の固体形態。
- 2θ度で表して5.1°±0.2°、10.6°±0.2°、10.8°±0.2°、12.1°±0.2°、13.6°±0.2°、および13.9°±0.2°に特徴的なピークを有するX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Cである、請求項1または2に記載の固体形態。
- 図6に示すX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Cである、請求項12に記載の固体形態。
- 2θ度で表して4.0°±0.2°、5.1°±0.2°、5.4°±0.2°、10.2°±0.2°、13.3°±0.2°、15.5°±0.2°、および20.2°±0.2°に特徴的なピークを有するX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Eである、請求項1または2に記載の固体形態。
- 2θ度で表して4.0°±0.2°、5.1°±0.2°、5.4°±0.2°、10.2°±0.2°、10.5°±0.2°、11.8°±0.2°、12.2°±0.2°、13.3°±0.2°、13.8°±0.2°、14.6°±0.2°、15.5°±0.2°、15.8°±0.2°、16.5°±0.2°、19.5°±0.2°、20.2°±0.2°、および21.9°±0.2°に特徴的なピークを有するX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Eである、請求項14に記載の固体形態。
- 図7に示すX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Eである、請求項14または15に記載の固体形態。
- 2θ度で表して4.0°±0.2°、4.9°±0.2°、7.1°±0.2°、15.8°±0.2°、20.3°±0.2°、および21.9°±0.2°に特徴的なピークを有するX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Fである、請求項1または2に記載の固体形態。
- 2θ度で表して4.0°±0.2°、4.9°±0.2°、7.1°±0.2°、7.4°±0.2°、7.9°±0.2°、10.6°±0.2°、11.9°±0.2°、13.1°±0.2°、13.3°±0.2°、13.8°±0.2°、15.8°±0.2°、20.3°±0.2°、21.0°±0.2°、および21.9°±0.2°に特徴的なピークを有するX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Fである、請求項17に記載の固体形態。
- 図8に示すX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Fである、請求項17または18に記載の固体形態。
- 2θ度で表して3.7°±0.2°、4.1°±0.2°、5.0°±0.2°、6.2°±0.2°、7.7°±0.2°、8.2°±0.2°、および17.1°±0.2°に特徴的なピークを有するX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Gである、請求項1または2に記載の固体形態。
- 2θ度で表して3.7°±0.2°、4.1°±0.2°、5.0°±0.2°、6.2°±0.2°、7.7°±0.2°、8.2°±0.2°、11.3°±0.2°、13.3°±0.2°、13.8°±0.2°、14.5°±0.2°、16.3°±0.2°、17.1°±0.2°、19.3°±0.2°、21.1°±0.2°、および23.3°±0.2°に特徴的なピークを有するX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Gである、請求項20に記載の固体形態。
- 図9に示すX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Gである、請求項20または21に記載の固体形態。
- 2θ度で表して7.7°±0.2°、9.7°±0.2°、14.7°±0.2°、15.9°±0.2°、22.0°±0.2°、23.4°±0.2°に特徴的なピークを有するX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Jである、請求項1または2に記載の固体形態。
- 2θ度で表して7.7°±0.2°、9.7°±0.2°、11.5°±0.2°、13.0°±0.2°、14.7°±0.2°、15.3°±0.2°、15.9°±0.2°、16.5°±0.2°、19.0°±0.2°、22.0°±0.2°、22.6°±0.2°、23.4°±0.2°、23.9°±0.2°、24.5°±0.2°、および25.3°±0.2°に特徴的なピークを有するX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Jである、請求項23に記載の固体形態。
- 図10に示すX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Jである、請求項23または24に記載の固体形態。
- 形態Jが化合物(I)のナトリウム塩である、請求項23から25のいずれか一項に記載の固体形態。
- 2θ度で表して8.0°±0.2°、9.7°±0.2°、14.6°±0.2°、15.7°±0.2°、15.9°±0.2°、および24.1°±0.2°に特徴的なピークを有するX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Hである、請求項1または2に記載の固体形態。
- 2θ度で表して6.8°±0.2°、8.0°±0.2°、9.7°±0.2°、11.6°±0.2°、14.6°±0.2°、15.2°±0.2°、15.7°±0.2°、15.9°±0.2°、18.9°±0.2°、19.9°±0.2°、22.7°±0.2°、24.1°±0.2°、24.5°±0.2°、および26.0°±0.2°に特徴的なピークを有するX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Hである、請求項27に記載の固体形態。
- 図12に示すX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Hである、請求項27または28に記載の固体形態。
- 2θ度で表して6.4°±0.2°、7.8°±0.2°、9.9°±0.2°、11.6°±0.2°、16.2°±0.2°、および22.1°±0.2°に特徴的なピークを有するX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Iである、請求項1または2に記載の固体形態。
- 2θ度で表して6.4°±0.2°、7.8°±0.2°、9.6°±0.2°、9.9°±0.2°、11.6°±0.2°、13.0°±0.2°、14.5°±0.2°、15.0°±0.2°、15.7°±0.2°、16.2°±0.2°、18.3°±0.2°、22.1°±0.2°、23.0°±0.2°、24.3°±0.2°、および27.2°±0.2°に特徴的なピークを有するX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Iである、請求項30に記載の固体形態。
- 図15に示すX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Iである、請求項30または31に記載の固体形態。
- 2θ度で表して5.4°±0.2°、13.3°±0.2°、15.9°±0.2°、16.3°±0.2°、18.0°±0.2°、および22.7°±0.2°に特徴的なピークを有するX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Kである、請求項1または2に記載の固体形態。
- 2θ度で表して5.4°±0.2°、13.3°±0.2°、13.8°±0.2°、14.8°±0.2°、15.9°±0.2°、16.3°±0.2°、18.0°±0.2°、19.5°±0.2°、20.0°±0.2°、21.7°±0.2°、22.4°±0.2°、22.7°±0.2°、23.4°±0.2°、24.1°±0.2°、および28.0°±0.2°に特徴的なピークを有するX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Kである、請求項33に記載の固体形態。
- 図16に示すX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Kである、請求項33または34に記載の固体形態。
- 形態Kが化合物(I)の塩酸塩である、請求項33から35のいずれか一項に記載の固体形態。
- 2θ度で表して6.0°±0.2°、11.8°±0.2°、15.3°±0.2°、15.8°±0.2°、18.3°±0.2°、および24.4°±0.2°に特徴的なピークを有するX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Lである、請求項1または2に記載の固体形態。
- 2θ度で表して6.0°±0.2°、11.2°±0.2°、11.8°±0.2°、12.3°±0.2°、13.1°±0.2°、15.3°±0.2°、15.8°±0.2°、18.3°±0.2°、18.7°±0.2°、21.7°±0.2°、22.5°±0.2°、23.8°±0.2°、24.4°±0.2°、25.7°±0.2°、および27.7°±0.2°に特徴的なピークを有するX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Lである、請求項37に記載の固体形態。
- 図17に示すX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Lである、請求項37または38に記載の固体形態。
- 形態Lが化合物(I)の塩酸塩である、請求項37から39のいずれか一項に記載の固体形態。
- 2θ度で表して5.3°±0.2°、7.7°±0.2°、10.7°±0.2°、17.6°±0.2°、19.0°±0.2°、および19.2°±0.2°に特徴的なピークを有するX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Mである、請求項1または2に記載の固体形態。
- 2θ度で表して5.3°±0.2°、7.7°±0.2°、9.4°±0.2°、10.7°±0.2°、15.5°±0.2°、17.2°±0.2°、17.6°±0.2°、19.0°±0.2°、19.2°±0.2°、19.8°±0.2°、および24.4°±0.2°に特徴的なピークを有するX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Mである、請求項41に記載の固体形態。
- 図19に示すX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Mである、請求項41または42に記載の固体形態。
- 形態Mが化合物(I)の硫酸塩である、請求項41から43のいずれか一項に記載の固体形態。
- 2θ度で表して5.3°±0.2°、10.7°±0.2°、18.0°±0.2°、18.7°±0.2°、19.4°±0.2°、20.3°±0.2°、21.5°±0.2°、および24.7°±0.2°に特徴的なピークを有するX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Nである、請求項1または2に記載の固体形態。
- 図20に示すX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Nである、請求項45に記載の固体形態。
- 形態Nが化合物(I)の硫酸塩である、請求項45または46に記載の固体形態。
- 2θ度で表して4.9°±0.2°、10.6°±0.2°、14.3°±0.2°、22.4°±0.2°、および22.9°±0.2°に特徴的なピークを有するX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Oである、請求項1または2に記載の固体形態。
- 2θ度で表して4.9°±0.2°、10.6°±0.2°、13.2°±0.2°、14.3°±0.2°、16.9°±0.2°、17.9°±0.2°、19.1°±0.2°、20.2°±0.2°、21.1°±0.2°、22.4°±0.2°、22.9°±0.2°、23.9°±0.2°、および24.4°±0.2°に特徴的なピークを有するX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Oである、請求項48に記載の固体形態。
- 図21に示すX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Oである、請求項48または49に記載の固体形態。
- 形態Oが化合物(I)のベシル酸塩である、請求項48から50のいずれか一項に記載の固体形態。
- 2θ度で表して3.9°±0.2°、7.7°±0.2°、15.3°±0.2°、21.5°±0.2°、27.5°±0.2°、および31.8°±0.2°に特徴的なピークを有するX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Pである、請求項1または2に記載の固体形態。
- 図22に示すX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Pである、請求項52に記載の固体形態。
- 形態Pが化合物(I)のカリウム塩である、請求項52または53に記載の固体形態。
- 2θ度で表して7.9°±0.2°、8.7°±0.2°、13.2°±0.2°、15.4°±0.2°、21.8°±0.2°、26.3°±0.2°、および29.3°±0.2°に特徴的なピークを有するX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Qである、請求項1または2に記載の固体形態。
- 2θ度で表して7.9°±0.2°、8.7°±0.2°、10.5°±0.2°、11.0°±0.2°、13.2°±0.2°、15.4°±0.2°、16.8°±0.2°、17.4°±0.2°、18.1°±0.2°、18.5°±0.2°、21.2°±0.2°、21.8°±0.2°、26.3°±0.2°、26.7°±0.2°、および29.3°±0.2°に特徴的なピークを有するX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Qである、請求項55に記載の固体形態。
- 図23に示すX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Qである、請求項55または56に記載の固体形態。
- 形態Qが化合物(I)のカリウム塩である、請求項55から57のいずれか一項に記載の固体形態。
- 2θ度で表して7.5°±0.2°、7.8°±0.2°、9.9°±0.2°、14.8°±0.2°、15.4°±0.2°、15.7°±0.2°、および22.2°±0.2°に特徴的なピークを有するX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Rである、請求項1または2に記載の固体形態。
- 2θ度で表して7.5°±0.2°、7.8°±0.2°、8.8°±0.2°、9.9°±0.2°、11.2°±0.2°、11.7°±0.2°、12.4°±0.2°、14.8°±0.2°、15.4°±0.2°、15.7°±0.2°、17.2°±0.2°、22.2°±0.2°、および26.3°±0.2°に特徴的なピークを有するX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Rである、請求項59に記載の固体形態。
- 図24に示すX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Rである、請求項59または60に記載の固体形態。
- 形態Rが化合物(I)のカリウム塩である、請求項59から61のいずれか一項に記載の固体形態。
- 2θ度で表して8.3°±0.2°、8.7°±0.2°、13.7°±0.2°、15.8°±0.2°、18.0°±0.2°、および21.7°±0.2°に特徴的なピークを有するX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Sである、請求項1または2に記載の固体形態。
- 2θ度で表して8.3°±0.2°、8.7°±0.2°、11.0°±0.2°、11.2°±0.2°、13.4°±0.2°、13.7°±0.2°、15.8°±0.2°、16.6°±0.2°、18.0°±0.2°、20.9°±0.2°、21.7°±0.2°、24.5°±0.2°、26.2°±0.2°、26.7°±0.2°、および28.6°±0.2°に特徴的なピークを有するX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Sである、請求項63に記載の固体形態。
- 図25に示すX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Sである、請求項63または64に記載の固体形態。
- 形態Sが化合物(I)のカリウム塩である、請求項63から65のいずれか一項に記載の固体形態。
- 2θ度で表して8.0°±0.2°、10.8°±0.2°、11.1°±0.2°、13.3°±0.2°、15.5°±0.2°、21.5°±0.2°、および31.6°±0.2°に特徴的なピークを有するX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Tである、請求項1または2に記載の固体形態。
- 図26に示すX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Tである、請求項67に記載の固体形態。
- 形態Tが化合物(I)のカルシウム塩である、請求項66または67に記載の固体形態。
- 2θ度で表して7.5°±0.2°、10.1°±0.2°、10.6°±0.2°、13.7°±0.2°、18.9°±0.2°、20.3°±0.2°、および21.0°±0.2°に特徴的なピークを有するX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Uである、請求項1または2に記載の固体形態。
- 2θ度で表して7.5°±0.2°、9.6°±0.2°、10.1°±0.2°、10.6°±0.2°、11.9°±0.2°、12.6°±0.2°、12.9°±0.2°、13.7°±0.2°、16.2°±0.2°、17.8°±0.2°、18.9°±0.2°、20.3°±0.2°、および21.0°±0.2°に特徴的なピークを有するX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Uである、請求項70に記載の固体形態。
- 図27に示すX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Uである、請求項70または71に記載の固体形態。
- 形態Uが化合物(I)のカルシウム塩である、請求項70から72のいずれか一項に記載の固体形態。
- 2θ度で表して5.6°±0.2°、8.5°±0.2°、14.2°±0.2°、16.2°±0.2°、21.9°±0.2°、および22.4°±0.2°に特徴的なピークを有するX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Vである、請求項1または2に記載の固体形態。
- 図28に示すX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Vである、請求項74に記載の固体形態。
- 形態Vが化合物(I)のアンモニウム塩である、請求項74または75に記載の固体形態。
- 2θ度で表して6.2°±0.2°、7.5°±0.2°、7.8°±0.2°、11.4°±0.2°、15.8°±0.2°、および21.4°±0.2°に特徴的なピークを有するX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Wである、請求項1または2に記載の固体形態。
- 2θ度で表して6.2°±0.2°、6.6°±0.2°、7.5°±0.2°、7.8°±0.2°、9.5°±0.2°、9.8°±0.2°、11.4°±0.2°、12.5°±0.2°、13.5°±0.2°、14.5°±0.2°、15.8°±0.2°、19.8°±0.2°、21.4°±0.2°、22.5°±0.2°、24.0°±0.2°、および26.5°±0.2°に特徴的なピークを有するX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Wである、請求項77に記載の固体形態。
- 図29に示すX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Wである、請求項77または78に記載の固体形態。
- 形態Wが化合物(I)のアンモニウム塩である、請求項77から79のいずれか一項に記載の固体形態。
- 2θ度で表して8.6°±0.2°、11.1°±0.2°、11.4°±0.2°、14.3°±0.2°、16.0°±0.2°、16.3°±0.2°、および22.0°±0.2°に特徴的なピークを有するX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Xである、請求項1または2に記載の固体形態。
- 2θ度で表して7.6°±0.2°、8.6°±0.2°、11.1°±0.2°、11.4°±0.2°、12.6°±0.2°、14.3°±0.2°、16.0°±0.2°、16.3°±0.2°、19.8°±0.2°、21.5°±0.2°、22.0°±0.2°、および23.2°±0.2°に特徴的なピークを有するX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Xである、請求項81に記載の固体形態。
- 図30に示すX線粉末回折(XRPD)パターンを呈する形態Xである、請求項81または82に記載の固体形態。
- 形態Xが化合物(I)のアンモニウム塩である、請求項81から83のいずれか一項に記載の固体形態。
- 請求項1から84のいずれか一項に記載の固体形態と、薬学的に許容される担体、添加物、希釈剤、アジュバント、ビヒクル、またはこれらの組み合わせとを含む、薬学的組成物。
- 患者におけるウイルス性疾患の治療または予防のための医薬を製造するための、請求項1から84のいずれか一項に記載の固体形態または請求項85に記載の薬学的組成物の使用。
- ウイルス性疾患がHBV感染である、請求項86に記載の使用。
- HBV感染またはHBV感染によって引き起こされる疾患の治療または予防のための方法であって、治療的有効量の、請求項1から84のいずれか一項に記載の固体形態または請求項85に記載の薬学的組成物を投与することを含む、方法。
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