JP2021173656A - 画像計測システム、画像計測方法、画像計測プログラムおよび記録媒体 - Google Patents
画像計測システム、画像計測方法、画像計測プログラムおよび記録媒体 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2021173656A JP2021173656A JP2020078205A JP2020078205A JP2021173656A JP 2021173656 A JP2021173656 A JP 2021173656A JP 2020078205 A JP2020078205 A JP 2020078205A JP 2020078205 A JP2020078205 A JP 2020078205A JP 2021173656 A JP2021173656 A JP 2021173656A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- image
- measurement
- dimensional
- measurement object
- dimensional defect
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000005259 measurement Methods 0.000 title claims abstract description 281
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 title claims description 21
- 230000007547 defect Effects 0.000 claims abstract description 226
- 230000008859 change Effects 0.000 claims abstract description 64
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims abstract description 6
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 claims description 29
- 230000006870 function Effects 0.000 claims description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 abstract description 34
- 229910052571 earthenware Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 32
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 22
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 22
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 7
- 230000008569 process Effects 0.000 description 7
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 5
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 238000013473 artificial intelligence Methods 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 3
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 2
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 2
- 238000003908 quality control method Methods 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 230000004397 blinking Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000013500 data storage Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 238000010191 image analysis Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
- 238000011179 visual inspection Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/8806—Specially adapted optical and illumination features
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/8851—Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/956—Inspecting patterns on the surface of objects
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/8806—Specially adapted optical and illumination features
- G01N2021/8829—Shadow projection or structured background, e.g. for deflectometry
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/8851—Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges
- G01N2021/8854—Grading and classifying of flaws
- G01N2021/8861—Determining coordinates of flaws
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/8851—Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges
- G01N2021/8854—Grading and classifying of flaws
- G01N2021/8874—Taking dimensions of defect into account
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/8851—Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges
- G01N2021/8887—Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges based on image processing techniques
Landscapes
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Immunology (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Pathology (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
- Signal Processing (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
【解決手段】計測対象物に計測用パターン光を投影するパターン光投影手段11と、計測対象物を第1焦点距離で撮影した第1画像と、計測対象物を第1焦点距離とは異なる第2焦点距離で撮影した第2画像とを得る撮影手段12と、第1画像および第2画像のいずれか一方または両方から計測対象物の表面の色強度変化を解析することにより二次元不良を検出する二次元不良検出手段13と、第1画像および第2画像のいずれか一方または両方から計測対象物に投影した計測用パターン光の変化を解析することにより三次元不良を検出する三次元不良検出手段15とを含む。
【選択図】図2
Description
投影パターン生成手段10は、計測に必要な投影パターンである計測用パターンを生成するものである。光沢のある計測対象物Xや表面反射の強い計測対象物Xへパターン光投影技術を適用するために、計測用パターンの模様と強度分布等を工夫する必要がある。計測用パターンの生成は、オンラインでも、オフラインでも可能である。オフラインとは、事前に大きさと形状を固定した計測用パターンを予めいくつか生成しておくことをいう。オンラインとは、計測の際に、計測対象物Xの大きさや形状などに応じて、大きさや形状を決定したその計測対象物X専用の計測用パターンを生成することをいう。
パターン光投影手段11は、投影機3により計測対象物Xに計測用パターン光を投影するものである。パターン光投影手段11では、上記投影パターン生成手段10で生成した計測用パターンを投影機3より計測対象物Xに投光する。パターン光投影手段11により計測用パターン光を投影する面を投影パターン面5という。
撮影手段12は、パターン光投影手段11により計測用パターン光を計測対象物Xに投影した状態で、カメラ2により計測対象物Xを2つの異なる焦点距離で撮影した第1画像および第2画像を得るものである。撮影手段12は、計測対象物Xを第1焦点距離と第2焦点距離とでそれぞれ1回ずつ、合計2回撮影することにより、計測対象物Xを第1焦点距離で撮影した第1画像と、計測対象物Xを第1焦点距離とは異なる第2焦点距離で撮影した第2画像とを得る。なお、本実施形態においては、第2焦点距離は第1焦点距離よりも長く、第2焦点距離は第1焦点距離の2倍である。
二次元不良検出手段13は、第1画像から計測対象物Xの表面6の色強度変化を解析することにより計測対象物Xの二次元不良を検出するものである。二次元不良とは、計測対象物Xの表面6の形状変化を伴わない擦りキズ、印刷ムラや印刷ズレなどの平面的な不良をいう。二次元不良検出手段13は、第1画像(物体表面画像)の色強度を解析し、注目点とその周囲の色強度の差の変化の大きさおよび変化の規則性を求める。二次元不良検出手段13は、注目点の色強度の差の変化および変化の規則性の分布状況の解析や人工知能技術を使用することにより、計測対象物Xの表面6の形状変化を伴わない二次元不良を検出する。
二次元不良解析手段14は、二次元不良検出手段13により検出された二次元不良をいくつかの種類に分類し、その二次元不良の寸法を算出するものである。具体的には、二次元不良解析手段14は、二次元不良検出手段13により検出された二次元不良の大きさや形状特性などの形状解析を行い、二次元不良をさらに予め指定された点状不良、線状不良や領域不良などの種類に分類する。
三次元不良検出手段15は、第2画像から計測対象物Xに投影した計測用パターン光の変化を解析することにより計測対象物Xの三次元不良を検出するものである。三次元不良とは、計測対象物Xの表面形状の変化を伴う凹みなどの立体的な不良をいう。三次元不良検出手段15は、第2画像(投影パターン画像)の色強度解析および周波数解析により、注目点とその周囲形状の三次元形状変化情報を算出し、三次元座標の変化の大きさと規則性分布により、計測対象物Xの表面6の形状変化を伴う三次元不良を検出する。
三次元不良解析手段16は、三次元不良検出手段15により検出された三次元不良をいくつかの種類に分類し、その三次元不良の寸法を算出するものである。三次元不良解析手段16は、三次元不良検出手段15により検出された三次元不良の三次元形状変化の解析を行い、三次元不良をさらに凸不良と凹不良に分類する。
キャリブレーション手段17は、計測精度を向上するためのものである。上記二次元計測および三次元計測の計測精度を向上するために、カメラ2のキャリブレーションが必要である。本実施形態においては、形状既知のサンプルを用い、サンプルの実寸と画像計測の結果とを比較し、最小二乗法を用いてカメラ2と画像計測システムのパラメータを計算して最適化する。これにより、画像計測の精度を保つことができる。
検出結果出力手段18は、二次元不良および三次元不良の検出結果をテキスト方式、画像方式やCAD方式などの方式で出力するものである。二次元不良と三次元不良の検出結果は、必要に応じてTXTやCSVなどの文章形式、BMPやJPGなどの画像形式、DXFやSXFなどのCAD形式などのファイル形式に変換して出力する。
記憶手段19は、主に計算機1の内蔵メモリや、SSD(ソリッドステートドライブ)やHDD(ハードディスクドライブ)などのデータ保存装置により構成される。図2に示すように記憶手段19は、主に投影パターン生成手段10、パターン光投影手段11、撮影手段12、二次元不良検出手段13、二次元不良解析手段14、三次元不良検出手段15、三次元不良解析手段16、キャリブレーション手段17および検出結果出力手段18により、投影機3とカメラ2の制御、カメラ2による撮影画像の取り込みと画像処理、処理結果の保存と出力、カメラ2のキャリブレーションなどに利用される。
計測には、まず計測対象物Xを設置する(S100)。続いて、投影パターン生成手段10によりオンラインもしくはオフラインで生成された計測用パターン(S101)を、パターン光投影手段11により計測対象物Xに投影する(S102)。また、計測対象物Xの表面6にピントを合わせて第1焦点距離で計測対象物Xの第1画像(物体表面画像)をカメラ2により撮影し(S103)、投影パターン面5にピントを合わせて第2焦点距離で計測対象物Xの表面6の第2画像(投影パターン画像)をカメラ2により撮影し(S104)、これらの撮影画像を計算機1に通信ケーブル4を通じて計算機1に送信する。
1 計算機
2 カメラ
3 投影機
4 通信ケーブル
5 投影パターン面
10 投影パターン生成手段
11 パターン光投影手段
12 撮影手段
13 二次元不良検出手段
14 二次元不良解析手段
15 三次元不良検出手段
16 三次元不良解析手段
17 キャリブレーション手段
18 検出結果出力手段
19 記憶手段
Claims (9)
- 計測対象物に計測用パターン光を投影するパターン光投影手段と、
前記計測対象物を第1焦点距離で撮影した第1画像と、前記計測対象物を前記第1焦点距離とは異なる第2焦点距離で撮影した第2画像とを得る撮影手段と、
前記第1画像および前記第2画像のいずれか一方または両方から前記計測対象物の表面の色強度変化を解析することにより二次元不良を検出する二次元不良検出手段と、
前記第1画像および前記第2画像のいずれか一方または両方から前記計測対象物に投影した計測用パターン光の変化を解析することにより三次元不良を検出する三次元不良検出手段と
を含む画像計測システム。 - 前記二次元不良検出手段および前記三次元不良検出手段は、前記パターン光投影手段により投影する同一の計測用パターンを使用するものである請求項1記載の画像計測システム。
- 前記第1画像は、前記計測対象物の表面にピントを合わせて前記計測対象物の表面が鮮明に、かつ前記計測対象物の表面に反射した計測用パターン光が非鮮明に撮影された画像であり、
前記第2画像は、前記計測対象物の表面に反射する計測用パターン光を投影する面にピントを合わせて前記計測用パターン光が鮮明に、かつ前記計測対象物の表面が非鮮明に撮影された画像である
請求項1または2に記載の画像計測システム。 - 前記第2焦点距離が前記第1焦点距離の2倍である請求項1から3のいずれか1項に記載の画像計測システム。
- 前記二次元不良検出手段により検出された前記二次元不良を分類し、前記二次元不良の寸法を算出する二次元不良解析手段を含む請求項1から4のいずれか1項に記載の画像計測システム。
- 前記三次元不良検出手段により検出された前記三次元不良を分類し、前記三次元不良の寸法を算出する三次元不良解析手段を含む請求項1から5のいずれか1項に記載の画像計測システム。
- 投影機により計測対象物に計測用パターン光を投影すること、
カメラにより前記計測対象物を第1焦点距離で撮影した第1画像と、前記計測対象物を前記第1焦点距離とは異なる第2焦点距離で撮影した第2画像とを得ること、
計算機により前記第1画像および前記第2画像のいずれか一方または両方から前記計測対象物の表面の色強度変化を解析することにより二次元不良を検出すること、
計算機により前記第1画像および前記第2画像のいずれか一方または両方から前記計測対象物に投影した計測用パターン光の変化を解析することにより三次元不良を検出すること
を含む画像計測方法。 - 計測対象物に計測用パターン光を投影するパターン光投影手段と、
前記計測対象物を第1焦点距離で撮影した第1画像と、前記計測対象物を前記第1焦点距離とは異なる第2焦点距離で撮影した第2画像とを得る撮影手段と、
前記第1画像および前記第2画像のいずれか一方または両方から前記計測対象物の表面の色強度変化を解析することにより二次元不良を検出する二次元不良検出手段と、
前記第1画像および前記第2画像のいずれか一方または両方から前記計測対象物に投影した計測用パターン光の変化を解析することにより三次元不良を検出する三次元不良検出手段と
してコンピュータを機能させるための画像計測プログラム。 - 請求項8に記載の画像計測プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020078205A JP7279882B2 (ja) | 2020-04-27 | 2020-04-27 | 画像計測システム、画像計測方法、画像計測プログラムおよび記録媒体 |
CN202110463568.7A CN113640296A (zh) | 2020-04-27 | 2021-04-25 | 图像测量系统、图像测量方法以及图像测量存储介质 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020078205A JP7279882B2 (ja) | 2020-04-27 | 2020-04-27 | 画像計測システム、画像計測方法、画像計測プログラムおよび記録媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021173656A true JP2021173656A (ja) | 2021-11-01 |
JP7279882B2 JP7279882B2 (ja) | 2023-05-23 |
Family
ID=78281567
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020078205A Active JP7279882B2 (ja) | 2020-04-27 | 2020-04-27 | 画像計測システム、画像計測方法、画像計測プログラムおよび記録媒体 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7279882B2 (ja) |
CN (1) | CN113640296A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20250036652A (ko) * | 2023-09-07 | 2025-03-14 | 주식회사 이노젼 | 인공지능 기반 제품 품질 검사를 위한 비전 시스템 및 이를 이용한 품질 검사 방법 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN116297451A (zh) * | 2023-03-08 | 2023-06-23 | 电子科技大学 | 一种用于抗蚀干膜解析能力判定的图形结构及判定方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06186168A (ja) * | 1992-12-16 | 1994-07-08 | Nikon Corp | 欠陥検査方法及び装置 |
WO2008136111A1 (ja) * | 2007-04-26 | 2008-11-13 | Fujitsu Limited | 表面検査装置及び方法 |
-
2020
- 2020-04-27 JP JP2020078205A patent/JP7279882B2/ja active Active
-
2021
- 2021-04-25 CN CN202110463568.7A patent/CN113640296A/zh active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06186168A (ja) * | 1992-12-16 | 1994-07-08 | Nikon Corp | 欠陥検査方法及び装置 |
WO2008136111A1 (ja) * | 2007-04-26 | 2008-11-13 | Fujitsu Limited | 表面検査装置及び方法 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
盧 存偉ら: "中古自動車車体部品のキズとヘコミの自動検査システム開発", 電子情報通信学会論文誌 D, vol. 101, no. 1, JPN6023001238, 2018, pages 124 - 134, ISSN: 0004965245 * |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20250036652A (ko) * | 2023-09-07 | 2025-03-14 | 주식회사 이노젼 | 인공지능 기반 제품 품질 검사를 위한 비전 시스템 및 이를 이용한 품질 검사 방법 |
KR102791130B1 (ko) * | 2023-09-07 | 2025-04-07 | 주식회사 이노젼 | 인공지능 기반 제품 품질 검사를 위한 비전 시스템 및 이를 이용한 품질 검사 방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN113640296A (zh) | 2021-11-12 |
JP7279882B2 (ja) | 2023-05-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN110198395B (zh) | 光学成像系统中用于自动聚焦的范围区别器 | |
JP5133626B2 (ja) | 表面反射特性測定装置 | |
CN109716495B (zh) | 用于晶片中开口尺寸的光学测量的方法和系统 | |
JP5913903B2 (ja) | 形状検査方法およびその装置 | |
WO2013061976A1 (ja) | 形状検査方法およびその装置 | |
EP3187861B1 (en) | Substrate inspection device and substrate inspection method | |
KR20100110357A (ko) | 정보 처리 장치 및 방법 | |
TW201224442A (en) | Scratch detection method and apparatus | |
TW201945721A (zh) | 結合模擬及光學顯微鏡以判定檢查模式 | |
JP2015075483A (ja) | 光透過性フィルムの欠陥検出方法 | |
JP7279882B2 (ja) | 画像計測システム、画像計測方法、画像計測プログラムおよび記録媒体 | |
Landstrom et al. | Sub-millimeter crack detection in casted steel using color photometric stereo | |
Yang et al. | Surface defects evaluation system based on electromagnetic model simulation and inverse-recognition calibration method | |
JP5979387B2 (ja) | 物品面上の突起ないし突条の高さを計測する方法及びそのための装置 | |
CN110402386A (zh) | 圆筒体表面检查装置及圆筒体表面检查方法 | |
CN111179248B (zh) | 一种透明平滑曲面缺陷识别方法及检测装置 | |
TW201809592A (zh) | 自動化三維量測 | |
JP2007199089A (ja) | 表面検査装置 | |
JP2006003168A (ja) | 表面形状の測定方法およびその装置 | |
CN119555708B (zh) | 一种用于柱镜光栅玻璃基板缺陷检测的成像系统及控制方法 | |
US20250113103A1 (en) | Image-based focusing for autofluorescence microscopy | |
JP6991600B2 (ja) | 画像計測システム、画像計測方法、画像計測プログラムおよび記録媒体 | |
JP2005351845A (ja) | 基板検査装置および方法 | |
KR102015384B1 (ko) | 투명면 및 반사면 검사 방법 및 장치 | |
JP2022061224A (ja) | 三次元画像生成システム、三次元画像生成方法、三次元画像生成プログラムおよび記録媒体 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20221216 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20221216 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230117 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230317 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230404 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230426 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7279882 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |