JP2021128337A - 積層体及びフレキシブル表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】基材、中間層、撥水層がこの順で積層された積層体であって、耐摩耗性に優れた積層体を提供することを目的とする。
【解決手段】基材（ｓ）、中間層（ｃ）、及び撥水層（ｒ）をこの順に備える積層体であって、以下の（１）及び（２）の要件を満足することを特徴とする積層体。
（１）前記撥水層（ｒ）側表面で測定した入射角１２°及び反射角１２°における波長５３０ｎｍの分光反射率をＪＩＳ Ｚ８７０１の２度視野（Ｃ光源）により算出した反射率から表面反射損失、裏面反射損失を差し引いた反射率が４．５％以下である。
（２）前記積層体の厚みが５００μｍ以下である。
【選択図】なし

Description

本発明は、積層体及びフレキシブル表示装置に関する。

パーフルオロポリエーテル構造を有する化合物を含む組成物から形成される皮膜に代表されるフッ素系撥水性皮膜は、その表面自由エネルギーが非常に小さいため、タッチパネルディスプレイ等の表示装置、光学素子、半導体素子、建築材料、自動車や建物の窓ガラス等の種々の分野において防汚コーティング、又は撥水撥油コーティングなどとして用いられている。

撥水性の皮膜は、通常、基材の上に形成して用いられ、撥水性皮膜形成用組成物を基材に塗布するに際しては、基材に予めプライマー層などの他の層を形成した後に、前記組成物を塗布して防汚コーティング又は撥水撥油コーティングを形成する場合がある。

例えば、特許文献１には、基材の少なくとも一方の面にハードコート層（Ｘ）、プライマー層（Ｙ）及び表面層（Ｚ）が順に積層されたハードコートフィルムであって、前記表面層（Ｚ）が１１０°以上の水接触角を有するハードコートフィルムが開示されている。前記表面層（Ｚ）を形成するためには、ポリパーフルオロポリエーテル鎖を有するフッ素系化合物を用いるのが好ましいこと、またプライマー層（Ｙ）を形成するためには、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等のシラン化合物が好ましいことが記載されている。

特開２０１５−１２０２５３号公報

基材の上に撥水層を備えた積層体では、良好な撥水性を維持するために、おもて面側に曝される撥水層側から評価した際の耐摩耗性が要求される。そこで、本発明は、基材、中間層、撥水層がこの順で積層された積層体であって、薄膜であっても耐摩耗性に優れた積層体を提供することを目的とする。

本発明者らは、積層体表面における反射特性を調整することで、薄膜でありながら良好な耐摩耗性を実現できることを見出した。具体的には、上記課題を達成した本発明は以下の通りである。
［１］基材（ｓ）、中間層（ｃ）、及び撥水層（ｒ）をこの順に備える積層体であって、以下の（１）及び（２）の要件を満足することを特徴とする積層体。
（１）前記撥水層（ｒ）側表面で測定した入射角１２°及び反射角１２°における波長５３０ｎｍの分光反射率をＪＩＳ Ｚ８７０１の２度視野（Ｃ光源）により算出した反射率から表面反射損失及び裏面反射損失を差し引いた反射率が４．５％以下である。
（２）前記積層体の厚みが５００μｍ以下である。
［２］更に、下記（３）の要件を満足する［１］に記載の積層体。
（３）前記撥水層（ｒ）側の表面フッ素元素比が３０原子％以上である。
［３］更に、下記（４）及び（５）の要件の少なくとも１つを満足する［１］又は［２］に記載の積層体。
（４）前記撥水層（ｒ）側の算術平均高さＳａが０．０３〜１．００μｍである。
（５）前記撥水層（ｒ）側の水の滑落角が２５°以下である。
［４］前記基材（ｓ）の、前記中間層（ｃ）側の最表層の表面Ｓｉ比が１原子％以上である［１］〜［３］のいずれかに記載の積層体。
［５］前記撥水層（ｒ）は、下記式（ａ１）で表される有機ケイ素化合物（Ａ）と下記式（ｂ１）で表される有機ケイ素化合物（Ｂ）の混合組成物（ｃａ）の硬化層である［１］〜［４］のいずれかに記載の積層体。

上記式（ａ１）中、
Ｒｆ^a1は、両端が酸素原子である２価のパーフルオロポリエーテル構造であり、
Ｒ¹¹、Ｒ¹²、及びＲ¹³は、それぞれ独立して炭素数１〜２０のアルキル基であり、Ｒ¹¹が複数存在する場合は複数のＲ¹¹がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ¹²が複数存在する場合は複数のＲ¹²がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ¹³が複数存在する場合は複数のＲ¹³がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｅ¹、Ｅ²、Ｅ³、Ｅ⁴、及びＥ⁵は、それぞれ独立して水素原子又はフッ素原子であり、Ｅ¹が複数存在する場合は複数のＥ¹がそれぞれ異なっていてもよく、Ｅ²が複数存在する場合は複数のＥ²がそれぞれ異なっていてもよく、Ｅ³が複数存在する場合は複数のＥ³がそれぞれ異なっていてもよく、Ｅ⁴が複数存在する場合は複数のＥ⁴がそれぞれ異なっていてもよく、Ｅ⁵が複数存在する場合は複数のＥ⁵がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｇ¹及びＧ²は、それぞれ独立して、シロキサン結合を有する２〜１０価のオルガノシロキサン基であり、
Ｊ¹、Ｊ²、及びＪ³は、それぞれ独立して、加水分解性基又は−（ＣＨ₂）_e6−Ｓｉ（ＯＲ¹⁴）₃であり、ｅ６は１〜５であり、Ｒ¹⁴はメチル基又はエチル基であり、Ｊ¹が複数存在する場合は複数のＪ¹がそれぞれ異なっていてもよく、Ｊ²が複数存在する場合は複数のＪ²がそれぞれ異なっていてもよく、Ｊ³が複数存在する場合は複数のＪ³がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｌ¹及びＬ²は、それぞれ独立して、酸素原子、窒素原子、又はフッ素原子を含んでいてもよい炭素数１〜１２の２価の連結基であり、Ｌ¹が複数存在する場合は複数のＬ¹がそれぞれ異なっていてもよく、Ｌ²が複数存在する場合は複数のＬ²がそれぞれ異なっていてもよく、
ｄ１１は、１〜９であり、
ｄ１２は、０〜９であり、
ａ１０及びａ１４は、それぞれ独立して０〜１０であり、
ａ１１及びａ１５は、それぞれ独立して０又は１であり、
ａ１２及びａ１６は、それぞれ独立して０〜９であり、
ａ１３は、０又は１であり、
ａ２１、ａ２２、及びａ２３は、それぞれ独立して０〜２であり、
ｅ１、ｅ２、及びｅ３は、それぞれ独立して１〜３である。

上記式（ｂ１）中、
Ｒｆ^b10は、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１〜２０のアルキル基又はフッ素原子であり、
Ｒ^b11、Ｒ^b12、Ｒ^b13及びＲ^b14は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数が１〜４のアルキル基であり、Ｒ^b11が複数存在する場合は複数のＲ^b11がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ^b12が複数存在する場合は複数のＲ^b12がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ^b13が複数存在する場合は複数のＲ^b13がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ^b14が複数存在する場合は複数のＲ^b14がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｒｆ^b11、Ｒｆ^b12、Ｒｆ^b13及びＲｆ^b14は、それぞれ独立して、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１〜２０のアルキル基又はフッ素原子であり、Ｒｆ^b11が複数存在する場合は複数のＲｆ^b11がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^b12が複数存在する場合は複数のＲｆ^b12がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^b13が複数存在する場合は複数のＲｆ^b13がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^b14が複数存在する場合は複数のＲｆ^b14がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｒ^b15は、炭素数が１〜２０のアルキル基であり、Ｒ^b15が複数存在する場合は複数のＲ^b15がそれぞれ異なっていてもよく、
Ａ¹は、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＲ−、−ＮＲＣ（＝Ｏ）−、又は−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ−であり、前記Ｒは水素原子、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数１〜４の含フッ素アルキル基であり、Ａ¹が複数存在する場合は複数のＡ¹がそれぞれ異なっていてもよく、
Ａ²は、加水分解性基であり、Ａ²が複数存在する場合は複数のＡ²がそれぞれ異なっていてもよく、
ｂ１１、ｂ１２、ｂ１３、ｂ１４及びｂ１５は、それぞれ独立して０〜１００の整数であり、
ｃは、１〜３の整数であり、
Ｒｆ^b10−、−Ｓｉ（Ａ²）_c（Ｒ^b15）_3-c、ｂ１１個の−｛Ｃ（Ｒ^b11）（Ｒ^b12）｝−、ｂ１２個の−｛Ｃ（Ｒｆ^b11）（Ｒｆ^b12）｝−、ｂ１３個の−｛Ｓｉ（Ｒ^b13）（Ｒ^b14）｝−、ｂ１４個の−｛Ｓｉ（Ｒｆ^b13）（Ｒｆ^b14）｝−、ｂ１５個の−Ａ¹−は、Ｒｆ^b10−、−Ｓｉ（Ａ²）_c（Ｒ^b15）_3-cが末端となり、パーフルオロポリエーテル構造を形成せず、かつ−Ｏ−が−Ｏ−乃至−Ｆと連結しない限り、任意の順で並んで結合する。
［６］前記中間層（ｃ）は、下記式（ｃ１）〜（ｃ３）のいずれかで表される有機ケイ素化合物（Ｃ）の混合組成物（ｃｃ）の硬化層又は前記有機ケイ素化合物（Ｃ）の蒸着層である［１］〜［５］のいずれかに記載の積層体。

上記式（ｃ１）中、
Ｒ^x11、Ｒ^x12、Ｒ^x13、Ｒ^x14は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数が１〜４のアルキル基であり、Ｒ^x11が複数存在する場合は複数のＲ^x11がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ^x12が複数存在する場合は複数のＲ^x12がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ^x13が複数存在する場合は複数のＲ^x13がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ^x14が複数存在する場合は複数のＲ^x14がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｒｆ^x11、Ｒｆ^x12、Ｒｆ^x13、Ｒｆ^x14は、それぞれ独立して、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１〜２０のアルキル基又はフッ素原子であり、Ｒｆ^x11が複数存在する場合は複数のＲｆ^x11がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^x12が複数存在する場合は複数のＲｆ^x12がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^x13が複数存在する場合は複数のＲｆ^x13がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^x14が複数存在する場合は複数のＲｆ^x14がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｒ^x15は、炭素数が１〜２０のアルキル基であり、Ｒ^x15が複数存在する場合は複数のＲ^x15がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｘ¹¹は、加水分解性基であり、Ｘ¹¹が複数存在する場合は複数のＸ¹¹がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｙ¹¹は、−ＮＨ−、又は−Ｓ−であり、Ｙ¹¹が複数存在する場合は複数のＹ¹¹がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｚ¹¹は、ビニル基、α−メチルビニル基、スチリル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、アミノ基、イソシアネート基、イソシアヌレート基、エポキシ基、ウレイド基、又はメルカプト基であり、
ｐ１は、１〜２０の整数であり、ｐ２、ｐ３、ｐ４は、それぞれ独立して、０〜１０の整数であり、ｐ５は、１〜１０の整数であり、
ｐ６は、１〜３の整数であり、
Ｚ¹¹がアミノ基でない場合はＹ¹¹の少なくとも１つが−ＮＨ−であり、Ｙ¹¹が全て−Ｓ−である場合はＺ¹¹がアミノ基であり、
Ｚ¹¹−、−Ｓｉ（Ｘ¹¹）_ｐ6（Ｒ^x15）_3-ｐ6、ｐ１個の−｛Ｃ（Ｒ^x11）（Ｒ^x12）｝−、ｐ２個の−｛Ｃ（Ｒｆ^x11）（Ｒｆ^x12）｝−、ｐ３個の−｛Ｓｉ（Ｒ^x13）（Ｒ^x14）｝−、ｐ４個の−｛Ｓｉ（Ｒｆ^x13）（Ｒｆ^x14）｝−、ｐ５個の−Ｙ¹¹−は、Ｚ¹¹−及び−Ｓｉ（Ｘ¹¹）_ｐ6（Ｒ^x15）_3-ｐ6が末端となり、−Ｏ−が−Ｏ−と連結しない限り、任意の順で並んで結合する。

上記式（ｃ２）中、
Ｒ^x20及びＲ^x21は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数が１〜４のアルキル基であり、Ｒ^x20が複数存在する場合は複数のＲ^x20がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ^x21が複数存在する場合は複数のＲ^x21がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｒｆ^x20及びＲｆ^x21は、それぞれ独立して、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１〜２０のアルキル基又はフッ素原子であり、Ｒｆ^x20が複数存在する場合は複数のＲｆ^x20がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^x21が複数存在する場合は複数のＲｆ^x21がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｒ^x22及びＲ^x23はそれぞれ独立して、炭素数が１〜２０のアルキル基であり、Ｒ^x22及びＲ^x23が複数存在する場合は複数のＲ^x22及びＲ^x23がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｘ²⁰及びＸ²¹はそれぞれ独立して、加水分解性基であり、Ｘ²⁰及びＸ²¹が複数存在する場合は複数のＸ²⁰及びＸ²¹がそれぞれ異なっていてもよく、
ｐ２０は、それぞれ独立して１〜３０の整数であり、ｐ２１は、それぞれ独立して０〜３０の整数であり、ｐ２０又はｐ２１を付して括弧でくくられた繰り返し単位の少なくとも１つは、アミン骨格−ＮＲ¹⁰⁰−に置き換わっており、前記アミン骨格におけるＲ¹⁰⁰は水素原子又はアルキル基であり、
ｐ２２及びｐ２３はそれぞれ独立して、１〜３の整数であり、
ｐ２０個の−｛Ｃ（Ｒ^x20）（Ｒ^x21）｝−、ｐ２１個の−｛Ｃ（Ｒｆ^x20）（Ｒｆ^x21）｝−は、ｐ２０個又はｐ２１個が連続である必要はなく、任意の順で並んで結合し、両末端が−Ｓｉ（Ｘ²⁰）_ｐ22（Ｒ^x22）_3-ｐ22及び−Ｓｉ（Ｘ²¹）_ｐ23（Ｒ^x23）_3-ｐ23となる。

上記式（ｃ３）中、
Ｚ³¹、Ｚ³²は、それぞれ独立に、加水分解性基及びヒドロキシ基以外の、反応性官能基であり、
Ｒ^x31、Ｒ^x32、Ｒ^x33、Ｒ^x34は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数が１〜４のアルキル基であり、Ｒ^x31が複数存在する場合は複数のＲ^x31がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ^x32が複数存在する場合は複数のＲ^x32がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ^x33が複数存在する場合は複数のＲ^x33がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ^x34が複数存在する場合は複数のＲ^x34がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｒｆ^x31、Ｒｆ^x32、Ｒｆ^x33、Ｒｆ^x34は、それぞれ独立して、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１〜２０のアルキル基又はフッ素原子であり、Ｒｆ^x31が複数存在する場合は複数のＲｆ^x31がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^x32が複数存在する場合は複数のＲｆ^x32がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^x33が複数存在する場合は複数のＲｆ^x33がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^x34が複数存在する場合は複数のＲｆ^x34がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｙ³¹は、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ₃）−又は−Ｏ−であり、Ｙ³¹が複数存在する場合は複数のＹ³¹がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｘ³¹、Ｘ³²、Ｘ³³、Ｘ³⁴は、それぞれ独立に、−ＯＲ^c（Ｒ^cは、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、又はアミノＣ_1-3アルキルジＣ_1-3アルコキシシリル基である）であり、Ｘ³¹が複数存在する場合は複数のＸ³¹がそれぞれ異なっていてもよく、Ｘ³²が複数存在する場合は複数のＸ³²がそれぞれ異なっていてもよく、Ｘ³³が複数存在する場合は複数のＸ³³がそれぞれ異なっていてもよく、Ｘ³⁴が複数存在する場合は複数のＸ³⁴がそれぞれ異なっていてもよく、
ｐ３１は、０〜２０の整数であり、ｐ３２、ｐ３３、ｐ３４は、それぞれ独立して、０〜１０の整数であり、ｐ３５は、０〜５の整数であり、ｐ３６は、１〜１０の整数であり、ｐ３７は０又は１であり、
Ｚ³¹及びＺ³²の少なくとも一方がアミノ基であるか、又はＹ³¹の少なくとも一つが−ＮＨ−又は−Ｎ（ＣＨ₃）−であるという条件を満たし、かつ末端がＺ³¹−及びＺ³²−であり、−Ｏ−が−Ｏ−と連結しない限り、ｐ３１個の−｛Ｃ（Ｒ^x31）（Ｒ^x32）｝−、ｐ３２個の−｛Ｃ（Ｒｆ^x31）（Ｒｆ^x32）｝−、ｐ３３個の−｛Ｓｉ（Ｒ^x33）（Ｒ^x34）｝−、ｐ３４個の−｛Ｓｉ（Ｒｆ^x33）（Ｒｆ^x34）｝−、ｐ３５個の−Ｙ³¹−、ｐ３６個の−｛Ｓｉ（Ｘ³¹）（Ｘ³²）−Ｏ｝−、ｐ３７個の−｛Ｓｉ（Ｘ³³）（Ｘ³⁴）｝−が任意の順で並んで結合して構成される。
［７］［１］〜［６］のいずれかに記載の積層体、偏光板、タッチセンサ、及び表示パネルを含むフレキシブル表示装置。

基材（ｓ）、中間層（ｃ）、及び撥水層（ｒ）をこの順に備える本発明の積層体は、前記撥水層側表面で測定した入射角１２°及び反射角１２°における波長５３０ｎｍの分光反射率をＪＩＳ Ｚ８７０１の２度視野（Ｃ光源）により算出した反射率から表面反射損失及び裏面反射損失を差し引いた反射率が４．５％以下であるという要件を備えているため耐摩耗性に優れており、更に厚み５００μｍ以下という要件も備えており、耐摩耗性と薄膜を両立できる。

本発明の積層体は、基材（ｓ）、中間層（ｃ）、及び撥水層（ｒ）をこの順に備える積層体であって、以下の（１）及び（２）の要件を満足する。
（１）前記撥水層側表面で測定した入射角１２°及び反射角１２°における波長５３０ｎｍの分光反射率をＪＩＳ Ｚ８７０１の２度視野（Ｃ光源）により算出した反射率から表面反射損失及び裏面反射損失を差し引いた反射率が４．５％以下である。
（２）前記積層体の厚みが５００μｍ以下である。

前記要件（１）を満足することで、良好な耐摩耗性を実現できる。要件（１）において、前記反射率は４．３％以下が好ましく、より好ましくは３．５％以下であり、更に好ましくは２．５％以下であり、また０．５％以上であってもよい。

要件（２）において、本発明の積層体の厚みは、好ましくは４００μｍ以下であり、より好ましくは３００μｍ以下であり、更に好ましくは２００μｍ以下であり、１００μｍ以下が最も好ましく、また１０μｍ以上であってもよい。前記積層体の厚みを所定以下とすることで、本発明の積層体をタッチパネル用途に用いる際に感度が向上し、また視認性が向上する。

また、本発明の積層体は、前記要件（１）及び（２）を満足すると共に、更に下記（３）〜（５）の要件を少なくとも１つ満足することが好ましい。特に、前記要件（１）及び（２）を満足すると共に下記（３）の要件を満足することがより好ましく、要件（１）〜（５）を全て満足することが更に好ましい。

（３）前記撥水層（ｒ）側の表面フッ素元素比が３０原子％以上である。
前記（３）の要件を備えることで、より良好な撥水性を実現できる。前記表面フッ素元素比は、４０原子％以上がより好ましく、更に好ましくは５０原子％以上である。前記表面フッ素元素比の上限は特に限定されないが、例えば８０原子％である。前記表面フッ素元素比は後述の実施例に記載の方法により測定することができる。

（４）前記撥水層（ｒ）側の算術平均高さＳａが０．０３〜１．００μｍである。
前記（４）の要件を備えることで、耐摩耗性をより向上できる。また前記（４）の要件は、より良好な撥水性及び／又は滑落性の実現にも有効である。前記撥水層（ｒ）側の表面高さＳａは、より好ましくは０．７０μｍ以下であり、更に好ましくは０．５０μｍ以下であり、一層好ましくは０．３０μｍ以下である。また、前記表面高さＳａは、０．０４μｍ以上であってもよいし、０．０５μｍ以上であってもよい。なお、算術平均高さＳａは、ＩＳＯ ２５１７８に準拠して算出される。

（５）前記撥水層（ｒ）側の水の滑落角が２５°以下である。
前記（５）の要件において、水の滑落角は、２０°以下がより好ましく、更に好ましくは１５°以下であり、一層好ましくは１０°以下である。水の前記滑落角の下限は特に限定されないが、例えば１°である。

前記撥水層（ｒ）は、有機ケイ素化合物（Ａ）と有機ケイ素化合物（Ｂ）の混合組成物（ｃａ）の硬化層であることが好ましい。

Ｉ．有機ケイ素化合物（Ａ）
前記有機ケイ素化合物（Ａ）は、パーフルオロポリエーテル構造を有する１価の基がケイ素原子に結合すると共に、該ケイ素原子に連結基を介して又は連結基を介さずに加水分解性基が結合している化合物である。前記撥水層（ｒ）は前記組成物（ｃａ）を塗布して硬化させることにより得られることが好ましく、前記有機ケイ素化合物（Ａ）由来の構造を有している。上述の通り、上記有機ケイ素化合物（Ａ）はケイ素原子に結合した（連結基を介して結合していてもよい）加水分解性基を有しており、加水分解で生じた有機ケイ素化合物（Ａ）の−ＳｉＯＨ基（ＳｉとＯＨが連結基を介して結合していてもよい）同士が脱水縮合するため、撥水層（ｒ）は、通常有機ケイ素化合物（Ａ）由来の縮合構造を有する。前記加水分解性基としては、アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、アセトキシ基、イソシアネート基等が挙げられる。

前記パーフルオロポリエーテル構造は、パーフルオロオキシアルキレン基ともいうことができる。パーフルオロポリエーテル構造は、撥水性又は撥油性などの撥液性を有する。パーフルオロポリエーテル構造の最も長い直鎖部分に含まれる炭素数は、例えば５以上であることが好ましく、１０以上がより好ましく、更により好ましくは２０以上である。前記炭素数の上限は特に限定されず、例えば２００程度であってもよい。前記有機ケイ素化合物（Ａ）のパーフルオロポリエーテル構造を有する１価の基は、更に自由末端にパーフルオロアルキル基を有することが好ましい。

前記撥水層（ｒ）は、パーフルオロポリエーテル構造とポリシロキサン骨格を有する層として示すこともでき、好ましくは、パーフルオロアルキル基を更に有する。前記撥水層（ｒ）は、ポリシロキサン骨格の一部のケイ素原子に、自由末端がパーフルオロアルキル基であり、パーフルオロポリエーテル構造を有する１価の基が結合した構造を有していることが好ましい。パーフルオロアルキル基は自由末端側に存在することで、撥水性が向上する。

パーフルオロアルキル基の炭素数（特に最も長い直鎖部分の炭素数）は、例えば３以上であることが好ましく、５以上がより好ましく、より好ましくは７以上である。なお前記炭素数の上限は特に限定されず、例えば２０程度であっても優れた撥水特性を示す。

前記パーフルオロアルキル基は、炭化水素基及び／又は炭化水素基の少なくとも一部の水素原子がフッ素原子に置換した基と結合してフルオロアルキル基などの含フッ素基を形成していてもよく、例えば、ＣＦ₃（ＣＦ₂）_m−（ＣＨ₂）_n−、ＣＦ₃（ＣＦ₂）_m−Ｃ₆Ｈ₄−（ｍはいずれも１〜１０であり、好ましくは３〜７であり、ｎはいずれも１〜５であり、好ましくは２〜４である）が挙げられ、ＣＦ₃（ＣＦ₂）_m−（ＣＨ₂）_n−（ｍはいずれも１〜１０であり、好ましくは３〜７であり、ｎはいずれも１〜５であり、好ましくは２〜４である）が好ましい。前記パーフルオロアルキル基は、直接パーフルオロポリエーテル構造に結合していることがより好ましい。

前記有機ケイ素化合物（Ａ）では、パーフルオロポリエーテル構造を有する１価の基とケイ素原子は、適当な連結基を介して結合していてもよく、当該連結基なしで上記パーフルオロポリエーテルを有する１価の基が直接ケイ素原子に結合してもよい。連結基としては、例えば、アルキレン基、芳香族炭化水素基などの炭化水素基、（ポリ）アルキレングリコール基、又はこれらの水素原子の一部がフッ素原子又は置換基に置換された基、及びこれらが適当に連結した基などが挙げられる。連結基の炭素数は、例えば１以上、２０以下であり、好ましくは２以上、１５以下である。

前記加水分解性基は、加水分解・脱水縮合反応を通じて、有機ケイ素化合物（Ａ）同士を、又は有機ケイ素化合物（Ａ）と基材表面の活性水素（水酸基など）とを結合する作用を有する。こうした加水分解性基としては、例えばアルコキシ基（特に炭素数１〜４のアルコキシ基）、ヒドロキシ基、アセトキシ基、ハロゲン原子（特に塩素原子）などが挙げられる。好ましい加水分解性基は、アルコキシ基及びハロゲン原子であり、特にメトキシ基、エトキシ基、塩素原子が好ましい。

前記加水分解性基は連結基を介してケイ素原子に結合していてもよいし、連結基を介さずに直接ケイ素原子に結合していてもよい。ケイ素原子に結合する加水分解性基の数は、１つ以上であればよく、２又は３であってもよいが、２又は３であるのが好ましく、３であるのが特に好ましい。２つ以上の加水分解性基がケイ素原子に結合している場合、異なる加水分解性基がケイ素原子に結合していてもよいが、同じ加水分解性基がケイ素原子に結合しているのが好ましい。ケイ素原子に結合する含フッ素基と加水分解性基との合計数は、通常４であるが、２又は３（特に３）であってもよい。３以下の場合、残りの結合手には、加水分解性基以外の１価の基が結合していてもよく、例えば、アルキル基（特に炭素数が１〜４のアルキル基）、Ｈ、ＮＣＯなどが結合できる。

前記有機ケイ素化合物（Ａ）のパーフルオロポリエーテル構造を有する１価の基は、直鎖状であっても良いし、側鎖を有していてもよく、直鎖状であることが好ましい。

前記有機ケイ素化合物（Ａ）は、例えば下記式（ａ）で表すことができる。

上記式（ａ）中、Ｄ¹はパーフルオロポリエーテル構造を有する１価の基であり、Ｄ¹におけるＤ²と結合する側の末端は−ＣＦ₂−Ｏ−＊、−ＣＦＤ⁹−＊であり（＊はＤ²側の結合手）、Ｄ²は単結合又はフッ素原子に置換されていない２価の炭化水素基であり、Ｄ³はフッ素原子に置換されていない３価の炭化水素基であり、該炭化水素基のメチレン基の一部が酸素原子に置き換わっていてもよく、Ｄ⁴は水素原子又はフッ素原子であり、Ｄ⁵は単結合又は２価の炭化水素基であり、Ｄ⁶は加水分解性基以外の１価の基であり、Ｄ⁷は２価の基又は単結合であり、Ｄ⁸は加水分解性基であり、Ｄ⁹は水素原子、フッ素原子、又は炭化水素基であり、ｎ１は１〜３０であり、ｎ２は１〜３である。Ｄ⁸の加水分解性基としては上述のものが挙げられる。

前記有機ケイ素化合物（Ａ）は、下記式（ａ１）で表されることが好ましい。

上記式（ａ１）中、
Ｒｆ^a1は、両端が酸素原子である２価のパーフルオロポリエーテル構造であり、
Ｒ¹¹、Ｒ¹²、及びＲ¹³は、それぞれ独立して（すなわち、Ｒ¹¹とＲ¹²とＲ¹³は同一であってもよいし、互いに異なっていてもよく）炭素数１〜２０のアルキル基であり、Ｒ¹¹が複数存在する場合は複数のＲ¹¹がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ¹²が複数存在する場合は複数のＲ¹²がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ¹³が複数存在する場合は複数のＲ¹³がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｅ¹、Ｅ²、Ｅ³、Ｅ⁴、及びＥ⁵は、それぞれ独立して水素原子又はフッ素原子であり、Ｅ¹が複数存在する場合は複数のＥ¹がそれぞれ異なっていてもよく、Ｅ²が複数存在する場合は複数のＥ²がそれぞれ異なっていてもよく、Ｅ³が複数存在する場合は複数のＥ³がそれぞれ異なっていてもよく、Ｅ⁴が複数存在する場合は複数のＥ⁴がそれぞれ異なっていてもよく、Ｅ⁵が複数存在する場合は複数のＥ⁵がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｇ¹及びＧ²は、それぞれ独立して、シロキサン結合を有する２〜１０価のオルガノシロキサン基であり、
Ｊ¹、Ｊ²、及びＪ³は、それぞれ独立して、加水分解性基又は−（ＣＨ₂）_e6−Ｓｉ（ＯＲ¹⁴）₃であり、ｅ６は１〜５であり、Ｒ¹⁴はメチル基又はエチル基であり、Ｊ¹が複数存在する場合は複数のＪ¹がそれぞれ異なっていてもよく、Ｊ²が複数存在する場合は複数のＪ²がそれぞれ異なっていてもよく、Ｊ³が複数存在する場合は複数のＪ³がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｌ¹及びＬ²は、それぞれ独立して、酸素原子、窒素原子、又はフッ素原子を含んでいてもよい炭素数１〜１２の２価の連結基であり、Ｌ¹が複数存在する場合は複数のＬ¹がそれぞれ異なっていてもよく、Ｌ²が複数存在する場合は複数のＬ²がそれぞれ異なっていてもよく、
ｄ１１は、１〜９であり、
ｄ１２は、０〜９であり、
ａ１０及びａ１４は、それぞれ独立して０〜１０であり、
ａ１１及びａ１５は、それぞれ独立して０又は１であり、
ａ１２及びａ１６は、それぞれ独立して０〜９であり、
ａ１３は、０又は１であり、
ａ２１、ａ２２、及びａ２３は、それぞれ独立して０〜２であり、
ｅ１、ｅ２、及びｅ３は、それぞれ独立して１〜３である。

前記有機ケイ素化合物（Ａ）は、上記式（ａ１）で表される通り、Ｒｆ^a1で表されるパーフルオロポリエーテル構造を有するとともに、Ｊ²で表される加水分解性基又は−（ＣＨ₂）_e6−Ｓｉ（ＯＲ¹⁴）₃（但し、Ｒ¹⁴はメチル基又はエチル基）を少なくとも１つ有している。パーフルオロポリエーテル構造は、ポリオキシアルキレン基の全部の水素原子がフッ素原子に置き換わった構造であり、パーフルオロオキシアルキレン基ともいえ、得られる皮膜に撥水性を付与できる。また、Ｊ²によって、前記有機ケイ素化合物（Ａ）同士、又は他の単量体と共に重合反応（特に重縮合反応）を通じて結合することによって、得られる皮膜のマトリックスとなり得る化合物である。

Ｒｆ^a1は、−Ｏ−（ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ）_e4−、又は−Ｏ−（ＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ）_e5−が好ましい。ｅ４、ｅ５は、いずれも１５〜８０である。

Ｒ¹¹、Ｒ¹²、及びＲ¹³は、それぞれ独立して、炭素数１〜１０のアルキル基が好ましい。

Ｌ¹及びＬ²は、それぞれ独立して、フッ素原子を含んだ炭素数１〜５の２価の連結基が好ましい。

Ｇ¹及びＧ²は、それぞれ独立して、シロキサン結合を有する２〜５価のオルガノシロキサン基が好ましい。

Ｊ¹、Ｊ²、及びＪ³は、それぞれ独立して、メトキシ基、エトキシ基又は−（ＣＨ₂）_e6−Ｓｉ（ＯＲ¹⁴）₃が好ましい。

ａ１０は０〜５が好ましく（より好ましくは０〜３）、ａ１１は０が好ましく、ａ１２は０〜７が好ましく（より好ましくは０〜５）、ａ１４は１〜６が好ましく（より好ましくは１〜３）、ａ１５は０が好ましく、ａ１６は０〜６が好ましく、ａ２１〜ａ２３はいずれも０又は１が好ましく（より好ましくはいずれも０）、ｄ１１は１〜５が好ましく（より好ましくは１〜３）、ｄ１２は０〜３が好ましく（より好ましくは０又は１）、ｅ１〜ｅ３はいずれも３が好ましい。また、ａ１３は１が好ましい。

前記有機ケイ素化合物（Ａ）としては、上記式（ａ１）のＲｆ^a1が−Ｏ−（ＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ）_e5−であり、ｅ５が３５〜５０であり、Ｌ¹及びＬ²がいずれも炭素数１〜３のパーフルオロアルキレン基であり、Ｅ¹、Ｅ²、及びＥ³がいずれも水素原子であり、Ｅ⁴、及びＥ⁵が水素原子又はフッ素原子であり、Ｊ¹、Ｊ²、及びＪ³がいずれもメトキシ基又はエトキシ基（特にメトキシ基）であり、ａ１０が１〜３であり、ａ１１が０であり、ａ１２が０〜５であり、ａ１３が１であり、ａ１４が２〜５であり、ａ１５が０であり、ａ１６が０〜６であり、ａ２１〜ａ２３が、それぞれ独立して、０又は１であり（より好ましくはａ２１〜ａ２３が全て０）、ｄ１１が１であり、ｄ１２が０又は１であり、ｅ１〜ｅ３がいずれも３である化合物を用いることが好ましい。

前記有機ケイ素化合物（Ａ）としては、上記式（ａ１）のＲｆ^a1が−Ｏ−（ＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ）_e5−であり、ｅ５が２５〜４０であり、Ｌ¹がフッ素原子及び酸素原子を含む炭素数３〜６の２価の連結基であり、Ｌ²が炭素数１〜３のパーフルオロアルキレン基であり、Ｅ²、Ｅ³がいずれも水素原子であり、Ｅ⁵がフッ素原子であり、Ｊ²が−（ＣＨ₂）_e6−Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃であり、ｅ６が２〜４であり、ａ１０が１〜３であり、ａ１１が０であり、ａ１２が０であり、ａ１３が０であり、ａ１４が２〜５であり、ａ１５が０であり、ａ１６が０であり、ａ２１〜ａ２３が、それぞれ独立して、０又は１であり（より好ましくはａ２１〜ａ２３が全て０）、ｄ１１が１であり、ｄ１２が０であり、ｅ２が３である化合物を用いることも好ましい。

また、前記有機ケイ素化合物（Ａ）は、下記式（ａ２−１）で表される化合物であることも好ましい。

上記式（ａ２−１）中、
Ｒｆ^a21は、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１〜２０のアルキル基又はフッ素原子であり、
Ｒｆ^a22、Ｒｆ^a23、Ｒｆ^a24、及びＲｆ^a25は、それぞれ独立して、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１〜２０のアルキル基又はフッ素原子であり、Ｒｆ^a22が複数存在する場合は複数のＲｆ^a22がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^a23が複数存在する場合は複数のＲｆ^a23がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^a24が複数存在する場合は複数のＲｆ^a24がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^a25が複数存在する場合は複数のＲｆ^a25がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｒ²⁰、Ｒ²¹、Ｒ²²、及びＲ²³は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ²⁰が複数存在する場合は複数のＲ²⁰がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ²¹が複数存在する場合は複数のＲ²¹がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ²²が複数存在する場合は複数のＲ²²がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ²³が複数存在する場合は複数のＲ²³がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｒ²⁴は、炭素数１〜２０のアルキル基であり、Ｒ²⁴が複数存在する場合は複数のＲ²⁴がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｍ¹は、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｍ¹が複数存在する場合は複数のＭ¹がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｍ²は、水素原子又はハロゲン原子であり、
Ｍ³は、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＲ−、−ＮＲＣ（＝Ｏ）−、又は−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ−（Ｒは水素原子、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数１〜４の含フッ素アルキル基）であり、Ｍ³が複数存在する場合は複数のＭ³がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｍ⁴は、加水分解性基であり、Ｍ⁴が複数存在する場合は複数のＭ⁴がそれぞれ異なっていてもよく、
ｆ１１、ｆ１２、ｆ１３、ｆ１４、及びｆ１５はそれぞれ独立して０〜６００の整数であり、ｆ１１、ｆ１２、ｆ１３、ｆ１４、及びｆ１５の合計値は１３以上であり、
ｆ１６は、１〜２０の整数であり、
ｆ１７は、０〜２の整数であり、
ｇ１は、１〜３の整数であり、
Ｒｆ^a21−、Ｍ²−、ｆ１１個の−｛Ｃ（Ｒ²⁰）（Ｒ²¹）｝−、ｆ１２個の−｛Ｃ（Ｒｆ^a22）（Ｒｆ^a23）｝−、ｆ１３個の−｛Ｓｉ（Ｒ²²）（Ｒ²³）｝−、ｆ１４個の−｛Ｓｉ（Ｒｆ^a24）（Ｒｆ^a25）｝−、ｆ１５個の−Ｍ³−、及びｆ１６個の−［ＣＨ₂Ｃ（Ｍ¹）｛（ＣＨ₂）_f17−Ｓｉ（Ｍ⁴）_g1（Ｒ²⁴）_3-g1｝］−は、Ｒｆ^a21−、Ｍ²−が末端となり、少なくとも一部でパーフルオロポリエーテル構造を形成する順で並び、かつ−Ｏ−が−Ｏ−乃至−Ｆと連結しない限り、任意の順で並んで結合する。すなわち、式（ａ２−１）は、必ずしもｆ１１個の−｛Ｃ（Ｒ²⁰）（Ｒ²¹）｝−が連続し、ｆ１２個の−｛Ｃ（Ｒｆ^a22）（Ｒｆ^a23）｝−が連続し、ｆ１３個の−｛Ｓｉ（Ｒ²²）（Ｒ²³）｝−が連続し、ｆ１４個の−｛Ｓｉ（Ｒｆ^a24）（Ｒｆ^a25）｝−が連続し、ｆ１５個の−Ｍ³−が連続し、ｆ１６個の−［ＣＨ₂Ｃ（Ｍ¹）｛（ＣＨ₂）_f17−Ｓｉ（Ｍ⁴）_g1（Ｒ²⁴）_3-g1｝］−が連続して、この順で並ぶという意味ではなく、−Ｃ（Ｒ²⁰）（Ｒ²¹）−Ｓｉ（Ｒｆ^a24）（Ｒｆ^a25）−ＣＨ₂Ｃ（Ｍ¹）｛（ＣＨ₂）_f17−Ｓｉ（Ｍ⁴）_g1（Ｒ²⁴）_3-g1｝−Ｃ（Ｒｆ^a22）（Ｒｆ^a23）−Ｍ³−Ｓｉ（Ｒ²²）（Ｒ²³）−Ｃ（Ｒｆ^a22）（Ｒｆ^a23）−などのように、それぞれが任意の順番で並ぶことが可能である。

Ｒｆ^a21は、好ましくは１個以上のフッ素原子で置換された炭素数１〜１０のアルキル基であり、より好ましくは炭素数１〜１０のパーフルオロアルキル基であり、さらに好ましくは炭素数１〜５のパーフルオロアルキル基である。

Ｒｆ^a22、Ｒｆ^a23、Ｒｆ^a24、及びＲｆ^a25は、好ましくはそれぞれ独立して、フッ素原子、又は１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１〜２のアルキル基であり、より好ましくはすべてフッ素原子である。

Ｒ²⁰、Ｒ²¹、Ｒ²²、及びＲ²³は、好ましくはそれぞれ独立して、水素原子、又は炭素数１〜２のアルキル基であり、より好ましくはすべて水素原子である。

Ｒ²⁴は、炭素数１〜５のアルキル基が好ましい。

Ｍ¹は、好ましくはそれぞれ独立して、水素原子又は炭素数１〜２のアルキル基であり、より好ましくはすべて水素原子である。

Ｍ²は、好ましくは水素原子である。

Ｍ³は、好ましくは、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−であり、より好ましくはすべて−Ｏ−である。

Ｍ⁴は、アルコキシ基、ハロゲン原子が好ましく、メトキシ基、エトキシ基、塩素原子がより好ましい。

好ましくは、ｆ１１、ｆ１３、及びｆ１４は、それぞれｆ１２の１／２以下であり、より好ましくは１／４以下であり、さらに好ましくはｆ１３又はｆ１４は０であり、特に好ましくはｆ１３及びｆ１４は０である。

ｆ１５は、好ましくはｆ１１、ｆ１２、ｆ１３、ｆ１４の合計値の１／５以上であり、ｆ１１、ｆ１２、ｆ１３、ｆ１４の合計値以下である。

ｆ１２は、２０〜６００が好ましく、より好ましくは２０〜２００であり、更に好ましくは５０〜２００である（一層好ましくは３０〜１５０、特に好ましくは５０〜１５０、最も好ましくは８０〜１４０）。ｆ１５は４〜６００が好ましく、より好ましくは４〜２００であり、更に好ましくは１０〜２００である（一層好ましくは３０〜６０）。ｆ１１、ｆ１２、ｆ１３、ｆ１４、ｆ１５の合計値は、２０〜６００が好ましく、２０〜２００がより好ましく、５０〜２００が更に好ましい。

ｆ１６は、好ましくは１〜１８である。より好ましくは１〜１５である。更に好ましくは１〜１０である。

ｆ１７は、好ましくは０〜１である。

ｇ１は、２〜３が好ましく、３がより好ましい。

ｆ１１個の−｛Ｃ（Ｒ²⁰）（Ｒ²¹）｝−、ｆ１２個の−｛Ｃ（Ｒｆ^a22）（Ｒｆ^a23）｝−、ｆ１３個の−｛Ｓｉ（Ｒ²²）（Ｒ²³）｝−、ｆ１４個の−｛Ｓｉ（Ｒｆ^a24）（Ｒｆ^a25）｝−、及びｆ１５個の−Ｍ³−の順序は、少なくとも一部でパーフルオロポリエーテル構造を形成する順で並ぶ限り、式中において任意であるが、好ましくは最も固定端側（ケイ素原子と結合する側）のｆ１２を付して括弧でくくられた繰り返し単位（すなわち、−｛Ｃ（Ｒｆ^a22）（Ｒｆ^a23）｝−）は、最も自由端側のｆ１１を付して括弧でくくられた繰り返し単位（すなわち、−｛Ｃ（Ｒ²⁰）（Ｒ²¹）｝−）よりも自由端側に位置し、より好ましくは最も固定端側のｆ１２及びｆ１４を付して括弧でくくられた繰り返し単位（すなわち、−｛Ｃ（Ｒｆ^a22）（Ｒｆ^a23）｝−、及び−｛Ｓｉ（Ｒｆ^a24）（Ｒｆ^a25）｝−）は、最も自由端側のｆ１１及びｆ１３を付して括弧でくくられた繰り返し単位（すなわち、−｛Ｃ（Ｒ²⁰）（Ｒ²¹）｝−、及び−｛Ｓｉ（Ｒ²²）（Ｒ²³）｝−）よりも自由端側に位置する。

上記式（ａ２−１）において、Ｒｆ^a21が炭素数１〜５のパーフルオロアルキル基であり、Ｒｆ^a22、Ｒｆ^a23、Ｒｆ^a24、Ｒｆ^a25が全てフッ素原子であり、Ｍ³が全て−Ｏ−であり、Ｍ⁴が全てメトキシ基、エトキシ基又は塩素原子（特にメトキシ基又はエトキシ基）であり、Ｍ¹、Ｍ²がいずれも水素原子であり、ｆ１１が０、ｆ１２が３０〜１５０（より好ましくは８０〜１４０）、ｆ１５が３０〜６０、ｆ１３及びｆ１４が０、ｆ１７が０〜１（特に０）、ｇ１が３、ｆ１６が１〜１０であることが好ましい。

また、有機ケイ素化合物（Ａ）は、下記式（ａ２−２）で表される化合物であることも好ましい。

上記式（ａ２−２）中、
Ｒｆ^a26、Ｒｆ^a27、Ｒｆ^a28、及びＲｆ^a29は、それぞれ独立して、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１〜２０のアルキル基又はフッ素原子であり、Ｒｆ^a26が複数存在する場合は複数のＲｆ^a26がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^a27が複数存在する場合は複数のＲｆ^a27がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^a28が複数存在する場合は複数のＲｆ^a28がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^a29が複数存在する場合は複数のＲｆ^a29がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｒ²⁵、Ｒ²⁶、Ｒ²⁷、及びＲ²⁸は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ²⁵が複数存在する場合は複数のＲ²⁵がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ²⁶が複数存在する場合は複数のＲ²⁶がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ²⁷が複数存在する場合は複数のＲ²⁷がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ²⁸が複数存在する場合は複数のＲ²⁸がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｒ²⁹、及びＲ³⁰は、それぞれ独立して、炭素数１〜２０のアルキル基であり、Ｒ²⁹が複数存在する場合は複数のＲ²⁹がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ³⁰が複数存在する場合は複数のＲ³⁰がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｍ⁷は、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＲ−、−ＮＲＣ（＝Ｏ）−、又は−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ−であり、前記Ｒは水素原子、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数１〜４の含フッ素アルキル基であり、Ｍ⁷が複数存在する場合は複数のＭ⁷がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｍ⁵、Ｍ⁹は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｍ⁵が複数存在する場合は複数のＭ⁵がそれぞれ異なっていてもよく、Ｍ⁹が複数存在する場合は複数のＭ⁹がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｍ⁶、及びＭ¹⁰は、それぞれ独立して水素原子又はハロゲン原子であり、
Ｍ⁸、及びＭ¹¹は、それぞれ独立して、加水分解性基であり、Ｍ⁸が複数存在する場合は複数のＭ⁸がそれぞれ異なっていてもよく、Ｍ¹¹が複数存在する場合は複数のＭ¹¹がそれぞれ異なっていてもよく、
ｆ２１、ｆ２２、ｆ２３、ｆ２４、及びｆ２５はそれぞれ独立して０〜６００の整数であり、ｆ２１、ｆ２２、ｆ２３、ｆ２４、及びｆ２５の合計値は１３以上であり、
ｆ２６、及びｆ２８は、それぞれ独立して、１〜２０の整数であり、
ｆ２７、及びｆ２９は、それぞれ独立して、０〜２の整数であり、
ｇ２、ｇ３は、それぞれ独立して、１〜３の整数であり、
Ｍ¹⁰−、Ｍ⁶−、ｆ２１個の−｛Ｃ（Ｒ²⁵）（Ｒ²⁶）｝−、ｆ２２個の−｛Ｃ（Ｒｆ^a26）（Ｒｆ^a27）｝−、ｆ２３個の−｛Ｓｉ（Ｒ²⁷）（Ｒ²⁸）｝−、ｆ２４個の−｛Ｓｉ（Ｒｆ^a28）（Ｒｆ^a29）｝−、ｆ２５個の−Ｍ⁷−、ｆ２６個の−［ＣＨ₂Ｃ（Ｍ⁵）｛（ＣＨ₂）_f27−Ｓｉ（Ｍ⁸）_g2（Ｒ²⁹）_3-g2｝］、及びｆ２８個の−［ＣＨ₂Ｃ（Ｍ⁹）｛（ＣＨ₂）_f29−Ｓｉ（Ｍ¹¹）_g3（Ｒ³⁰）_3-g3｝］は、Ｍ¹⁰−、Ｍ⁶−が末端となり、少なくとも一部でパーフルオロポリエーテル構造を形成する順で並び、−Ｏ−が−Ｏ−と連続しない限り、任意の順で並んで結合する。任意の順で並んで結合することについては、上記式（ａ２−１）にて説明したのと同様であり、各繰り返し単位が連続して上記式（ａ２−２）に記載の通りの順に並ぶ意味に限定されない。

上記式（ａ２−２）において、Ｒｆ^a26、Ｒｆ^a27、Ｒｆ^a28、及びＲｆ^a29が全てフッ素原子であり、Ｍ⁷が全て−Ｏ−であり、Ｍ⁸及びＭ¹¹が全てメトキシ基、エトキシ基又は塩素原子（特にメトキシ基又はエトキシ基）であり、Ｍ⁵、Ｍ⁶、Ｍ⁹、及びＭ¹⁰がいずれも水素原子であり、ｆ２１が０、ｆ２２が３０〜１５０（より好ましくは８０〜１４０）、ｆ２５が３０〜６０、ｆ２３及びｆ２４が０、ｆ２７及びｆ２９が０〜１（特に好ましくは０）、ｇ２及びｇ３が３、ｆ２６及びｆ２８が１〜１０であることが好ましい。

前記有機ケイ素化合物（Ａ）として、より具体的には下記式（ａ３）の化合物が挙げられる。

上記式（ａ３）中、Ｒ³⁰は炭素数が２〜６のパーフルオロアルキル基であり、Ｒ³¹及びＲ³²はそれぞれ独立していずれも炭素数が２〜６のパーフルオロアルキレン基であり、Ｒ³³は炭素数が２〜６の３価の飽和炭化水素基であり、Ｒ³⁴は炭素数が１〜３のアルキル基である。Ｒ³⁰、Ｒ³¹、Ｒ³²、Ｒ³³の炭素数は、それぞれ独立に２〜４が好ましく、２〜３がより好ましい。ｈ１は５〜７０であり、ｈ２は１〜５であり、ｈ３は１〜１０である。ｈ１は１０〜６０が好ましく、２０〜５０がより好ましく、ｈ２は１〜４が好ましく、１〜３がより好ましく、ｈ３は１〜８が好ましく、１〜６がより好ましい。

前記有機ケイ素化合物（Ａ）としては、下記式（ａ４）で表される化合物も挙げることができる。

上記式（ａ４）中、Ｒ⁴⁰は炭素数が２〜５のパーフルオロアルキル基であり、Ｒ⁴¹は炭素数が２〜５のパーフルオロアルキレン基であり、Ｒ⁴²は炭素数２〜５のアルキレン基の水素原子の一部がフッ素に置換されたフルオロアルキレン基であり、Ｒ⁴³、Ｒ⁴⁴はそれぞれ独立に炭素数が２〜５のアルキレン基であり、Ｒ⁴⁵はメチル基又はエチル基である。ｋ１、ｋ２、ｋ３はそれぞれ独立に１〜５の整数である。

前記有機ケイ素化合物（Ａ）の数平均分子量は、２，０００以上が好ましく、より好ましくは４，０００以上であり、更に好ましくは６，０００以上、特に好ましくは７，０００以上であり、また４０，０００以下が好ましく、より好ましくは２０，０００以下であり、更に好ましくは１５，０００以下である。

前記有機ケイ素化合物（Ａ）としては、例えば下記式（１）で示される化合物、又は該化合物の類似構造を有する化合物が挙げられ、ダイキン工業株式会社製のオプツール（登録商標）ＵＦ５０３などが挙げられる。

上記式（１）で示される化合物としては、特開２０１４−１５６０９号公報の合成例１、２に記載の方法により合成したものが挙げられ、ｒは４３、ｓは１〜６の整数であり、数平均分子量は約８０００である。

前記類似構造としては、上記式（１）の炭化水素基の炭素数又はフッ素原子で置換された炭化水素基の炭素数が異なる構造、パーフルオロポリエーテル構造とケイ素原子が連結基を介さずに結合している構造、パーフルオロポリエーテル構造とケイ素原子の間の連結基の任意の位置に他の炭化水素基（少なくとも一部の水素原子がフッ素原子で置換された炭化水素基も含む）が介在する構造、ケイ素原子と加水分解性基が連結基を介して結合する構造、ｒ及びｓの値が異なる構造、などが挙げられるが、これらの構造に限定されない。

ＩＩ．有機ケイ素化合物（Ｂ）
下記式（ｂ１）で表される有機ケイ素化合物（Ｂ）は、後述する通り、Ａ²で表される加水分解性基を有しており、通常、加水分解で生じた有機ケイ素化合物（Ｂ）の−ＳｉＯＨ基が、加水分解で生じた有機ケイ素化合物（Ａ）の−ＳｉＯＨ基及び／又は加水分解で生じた有機ケイ素化合物（Ｂ）の−ＳｉＯＨ基と脱水縮合するため、好ましい態様において、前記混合組成物（ｃａ）の硬化層である撥水層（ｒ）は有機ケイ素化合物（Ａ）由来の縮合構造と共に、有機ケイ素化合物（Ｂ）由来の縮合構造を有する。前記加水分解性基としては、アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、アセトキシ基、イソシアネート基等が挙げられる。

上記式（ｂ１）中、
Ｒｆ^b10は、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１〜２０のアルキル基又はフッ素原子であり、
Ｒ^b11、Ｒ^b12、Ｒ^b13、Ｒ^b14は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数が１〜４のアルキル基であり、Ｒ^b11が複数存在する場合は複数のＲ^b11がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ^b12が複数存在する場合は複数のＲ^b12がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ^b13が複数存在する場合は複数のＲ^b13がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ^b14が複数存在する場合は複数のＲ^b14がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｒｆ^b11、Ｒｆ^b12、Ｒｆ^b13、Ｒｆ^b14は、それぞれ独立して、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１〜２０のアルキル基又はフッ素原子であり、Ｒｆ^b11が複数存在する場合は複数のＲｆ^b11がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^b12が複数存在する場合は複数のＲｆ^b12がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^b13が複数存在する場合は複数のＲｆ^b13がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^b14が複数存在する場合は複数のＲｆ^b14がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｒ^b15は、炭素数が１〜２０のアルキル基であり、Ｒ^b15が複数存在する場合は複数のＲ^b15がそれぞれ異なっていてもよく、
Ａ¹は、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＲ−、−ＮＲＣ（＝Ｏ）−、又は−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ−であり、前記Ｒは水素原子、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数１〜４の含フッ素アルキル基であり、Ａ¹が複数存在する場合は複数のＡ¹がそれぞれ異なっていてもよく、
Ａ²は、加水分解性基であり、Ａ²が複数存在する場合は複数のＡ²がそれぞれ異なっていてもよく、
ｂ１１、ｂ１２、ｂ１３、ｂ１４、ｂ１５は、それぞれ独立して０〜１００の整数であり、
ｃは、１〜３の整数であり、
Ｒｆ^b10−、−Ｓｉ（Ａ²）_c（Ｒ^b15）_3-c、ｂ１１個の−｛Ｃ（Ｒ^b11）（Ｒ^b12）｝−、ｂ１２個の−｛Ｃ（Ｒｆ^b11）（Ｒｆ^b12）｝−、ｂ１３個の−｛Ｓｉ（Ｒ^b13）（Ｒ^b14）｝−、ｂ１４個の−｛Ｓｉ（Ｒｆ^b13）（Ｒｆ^b14）｝−、ｂ１５個の−Ａ¹−は、Ｒｆ^b10−、−Ｓｉ（Ａ²）_c（Ｒ^b15）_3-cが末端となり、パーフルオロポリエーテル構造を形成せず、かつ−Ｏ−が−Ｏ−乃至−Ｆと連結しない限り、任意の順で並んで結合する。

Ｒｆ^b10は、それぞれ独立して、フッ素原子又は炭素数１〜１０（より好ましくは炭素数１〜５）のパーフルオロアルキル基が好ましい。

Ｒ^b11、Ｒ^b12、Ｒ^b13、及びＲ^b14は、水素原子が好ましい。

Ｒ^b15は、炭素数１〜５のアルキル基が好ましい。

Ａ¹は、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、又は−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−が好ましい。

Ａ²は、炭素数１〜４のアルコキシ基、又はハロゲン原子が好ましく、より好ましくはメトキシ基、エトキシ基、塩素原子である。

ｂ１１は１〜３０が好ましく、１〜２５がより好ましく、１〜１０が更に好ましく、１〜５が特に好ましく、最も好ましくは１〜２である。

ｂ１２は、０〜１５が好ましく、より好ましくは０〜１０である。

ｂ１３は、０〜５が好ましく、より好ましくは０〜２である。

ｂ１４は、０〜４が好ましく、より好ましくは０〜２である。

ｂ１５は、０〜４が好ましく、より好ましくは０〜２である。

ｃは、２〜３が好ましく、より好ましくは３である。

ｂ１１、ｂ１２、ｂ１３、ｂ１４、及びｂ１５の合計値は、３以上が好ましく、５以上が好ましく、また８０以下が好ましく、より好ましくは５０以下であり、更に好ましくは２０以下である。

特に、Ｒｆ^b10がフッ素原子又は炭素数１〜５のパーフルオロアルキル基であり、Ｒ^b11、Ｒ^b12がいずれも水素原子であり、Ａ²がメトキシ基又はエトキシ基であると共に、ｂ１１が１〜５、ｂ１２が０〜５であり、ｂ１３、ｂ１４、及びｂ１５が全て０であり、ｃが３であることが好ましい。

なお、後記する実施例にて、化合物（Ｂ）として用いるＦＡＳ１３Ｅを上記式（ｂ１）で表すと、Ｒ^b11、Ｒ^b12がいずれも水素原子、ｂ１１が２、ｂ１３、ｂ１４、及びｂ１５が全て０、ｃが３、Ａ²がエトキシ基であり、Ｒｆ^b10−｛Ｃ（Ｒｆ^b11）（Ｒｆ^b12）｝_b12−が末端となり、Ｃ₆Ｆ₁₃−となるように定められる。

上記式（ｂ１）で表される化合物としては、具体的に、ＣＦ₃−Ｓｉ−（ＯＣＨ₃）₃、Ｃ_jＦ_2j+1−Ｓｉ−（ＯＣ₂Ｈ₅）₃（ｊは１〜１２の整数）が挙げられ、この中で特にＣ₄Ｆ₉−Ｓｉ−（ＯＣ₂Ｈ₅）₃、Ｃ₆Ｆ₁₃−Ｓｉ−（ＯＣ₂Ｈ₅）₃、Ｃ₇Ｆ₁₅−Ｓｉ−（ＯＣ₂Ｈ₅）₃、Ｃ₈Ｆ₁₇−Ｓｉ−（ＯＣ₂Ｈ₅）₃が好ましい。また、ＣＦ₃ＣＨ₂Ｏ（ＣＨ₂）_kＳｉＣｌ₃、ＣＦ₃ＣＨ₂Ｏ（ＣＨ₂）_kＳｉ（ＯＣＨ₃）₃、ＣＦ₃ＣＨ₂Ｏ（ＣＨ₂）_kＳｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）₃、ＣＦ₃（ＣＨ₂）₂Ｓｉ（ＣＨ₃）₂（ＣＨ₂）_kＳｉＣｌ₃、ＣＦ₃（ＣＨ₂）₂Ｓｉ（ＣＨ₃）₂（ＣＨ₂）_kＳｉ（ＯＣＨ₃）₃、ＣＦ₃（ＣＨ₂）₂Ｓｉ（ＣＨ₃）₂（ＣＨ₂）_kＳｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）₃、ＣＦ₃（ＣＨ₂）₆Ｓｉ（ＣＨ₃）₂（ＣＨ₂）_kＳｉＣｌ₃、ＣＦ₃（ＣＨ₂）₆Ｓｉ（ＣＨ₃）₂（ＣＨ₂）_kＳｉ（ＯＣＨ₃）₃、ＣＦ₃（ＣＨ₂）₆Ｓｉ（ＣＨ₃）₂（ＣＨ₂）_kＳｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）₃、ＣＦ₃ＣＯＯ（ＣＨ₂）_kＳｉＣｌ₃、ＣＦ₃ＣＯＯ（ＣＨ₂）_kＳｉ（ＯＣＨ₃）₃、ＣＦ₃ＣＯＯ（ＣＨ₂）_kＳｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）₃が挙げられる（ｋはいずれも５〜２０であり、好ましくは８〜１５である）。また、ＣＦ₃（ＣＦ₂）_m−（ＣＨ₂）_nＳｉＣｌ₃、ＣＦ₃（ＣＦ₂）_m−（ＣＨ₂）_nＳｉ（ＯＣＨ₃）₃、ＣＦ₃（ＣＦ₂）_m−（ＣＨ₂）_nＳｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）₃を挙げることもできる（ｍはいずれも１〜１０であり、好ましくは３〜７であり、ｎはいずれも１〜５であり、好ましくは２〜４である）。ＣＦ₃（ＣＦ₂）_p−（ＣＨ₂）_q−Ｓｉ−（ＣＨ₂ＣＨ＝ＣＨ₂）₃を挙げることもできる（ｐはいずれも２〜１０であり、好ましくは２〜８であり、ｑはいずれも１〜５であり、好ましくは２〜４である）。更に、ＣＦ₃（ＣＦ₂）_p−（ＣＨ₂）_ｑＳｉＣＨ₃Ｃｌ₂、ＣＦ₃（ＣＦ₂）_p−（ＣＨ₂）_qＳｉＣＨ₃（ＯＣＨ₃）₂、ＣＦ₃（ＣＦ₂）_p−（ＣＨ₂）_qＳｉＣＨ₃（ＯＣ₂Ｈ₅）₂が挙げられる（ｐはいずれも２〜１０であり、好ましくは３〜７であり、ｑはいずれも１〜５であり、好ましくは２〜４である）。

上記式（ｂ１）で表される化合物の中で、下記式（ｂ２）で表される化合物が好ましい。

上記式（ｂ２）中、Ｒ⁶⁰は炭素数３〜８のパーフルオロアルキル基であり、Ｒ⁶¹は炭素数１〜５のアルキレン基であり、Ｒ⁶²は炭素数１〜３のアルキル基である。

なお、前記混合組成物（ｃａ）は、前記有機ケイ素化合物（Ａ）と前記有機ケイ素化合物（Ｂ）が混合された組成物であり、前記有機ケイ素化合物（Ａ）と前記有機ケイ素化合物（Ｂ）を混合することにより得られ、また前記有機ケイ素化合物（Ａ）と前記有機ケイ素化合物（Ｂ）以外の成分が混合されている場合は、前記有機ケイ素化合物（Ａ）と前記有機ケイ素化合物（Ｂ）と他の成分を混合することにより得られる。前記混合組成物（ｃａ）は、混合後、例えば保管中に反応が進んだものも含む。

ＩＩＩ．溶剤（Ｄ）
前記混合組成物（ｃａ）は、通常、溶剤（Ｄ）が混合されている。前記溶剤（Ｄ）としてはフッ素系溶剤を用いることが好ましく、例えばフッ素化エーテル系溶剤、フッ素化アミン系溶剤、フッ素化炭化水素系溶剤等を用いることができ、特に沸点が１００℃以上であることが好ましい。フッ素化エーテル系溶剤としては、フルオロアルキル（特に炭素数２〜６のパーフルオロアルキル基）−アルキル（特にメチル基又はエチル基）エーテルなどのハイドロフルオロエーテルが好ましく、例えばエチルノナフルオロブチルエーテル又はエチルノナフルオロイソブチルエーテルが挙げられる。エチルノナフルオロブチルエーテル又はエチルノナフルオロイソブチルエーテルとしては、例えばＮｏｖｅｃ（登録商標）７２００（３Ｍ社製、分子量約２６４）が挙げられる。フッ素化アミン系溶剤としては、アンモニアの水素原子の少なくとも１つがフルオロアルキル基で置換されたアミンが好ましく、アンモニアの全ての水素原子がフルオロアルキル基（特にパーフルオロアルキル基）で置換された第三級アミンが好ましく、具体的にはトリス（ヘプタフルオロプロピル）アミンが挙げられ、フロリナート（登録商標）ＦＣ−３２８３（３Ｍ社製、分子量約５２１）がこれに該当する。フッ素化炭化水素系溶剤としては、１，１，１，３，３−ペンタフルオロブタンなどのフッ素化脂肪族炭化水素系溶剤、１，３−ビス（トリフルオロメチルベンゼン）などのフッ素化芳香族炭化水素系溶剤が挙げられる。１，１，１，３，３−ペンタフルオロブタンとしては、例えばソルブ５５（ソルベックス社製）等が挙げられる。

前記フッ素系溶剤としては、上記の他、アサヒクリン（登録商標）ＡＫ２２５（ＡＧＣ社製）などのハイドロクロロフルオロカーボン、アサヒクリン（登録商標）ＡＣ２０００（旭ガラス社製）などのハイドロフルオロカーボンなどを用いることができる。

前記溶剤（Ｄ）として、少なくともフッ素化アミン系溶剤を用いることが好ましい。また溶剤（Ｄ）としては、２種以上のフッ素系溶剤を用いることが好ましく、フッ素化アミン系溶剤とフッ素化炭化水素系溶剤（特にフッ素化脂肪族炭化水素系溶剤）を用いることが好ましい。

前記混合組成物（ｃａ）における前記有機ケイ素化合物（Ａ）の量は、該組成物の全体を１００質量％に対して、例えば０．０１質量％以上であり、好ましくは０．０３質量％以上であり、より好ましくは０．０５質量％以上であり、また１．０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは０．５質量％以下であり、更に好ましくは０．３質量％以下であり、特に０．１質量％以下であることが好ましい。

前記混合組成物（ｃａ）における前記有機ケイ素化合物（Ｂ）の量は、該組成物の全体を１００質量％に対して、例えば０．０１質量％以上であり、好ましくは０．０３質量％以上であり、また０．３質量％以下であることが好ましく、より好ましくは０．２質量％以下である。

前記有機ケイ素化合物（Ａ）に対する前記有機ケイ素化合物（Ｂ）の質量比は、０．０１以上が好ましく、より好ましくは０．１以上であり、更に好ましくは０．３以上であり、また２．０以下が好ましく、より好ましくは１．５以下であり、更に好ましくは１．０以下である。

上記の有機ケイ素化合物（Ａ）及び（Ｂ）の量は、組成物の調製時に調整できる。前記有機ケイ素化合物（Ａ）及び（Ｂ）の量は、組成物の分析結果から算出してもよい。

また撥水層（ｒ）形成用の前記混合組成物（ｃａ）は、本発明の効果を阻害しない範囲で、シラノール縮合触媒、酸化防止剤、防錆剤、紫外線吸収剤、光安定剤、防カビ剤、抗菌剤、生物付着防止剤、消臭剤、顔料、難燃剤、帯電防止剤等、各種の添加剤が混合されていてもよい。

前記撥水層（ｒ）の厚みは、例えば１〜１０００ｎｍ程度である。

前記中間層（ｃ）は、ケイ素原子を有すると共にアミノ基又はアミン骨格（−ＮＲ¹⁰⁰−であり、Ｒ¹⁰⁰は水素原子又はアルキル基）を有する有機ケイ素化合物（Ｃ）の混合組成物（ｃｃ）の硬化層又は前記有機ケイ素化合物（Ｃ）の蒸着層であり、中間層（ｃ）はアミノ基又はアミン骨格を有する。好ましい態様においては、有機ケイ素化合物（Ｃ）のケイ素原子には加水分解性基又はヒドロキシ基が結合しており、有機ケイ素化合物（Ｃ）が有するＳｉ−ＯＨ基又はケイ素原子に結合した加水分解性基の加水分解で生じた有機ケイ素化合物（Ｃ）の−ＳｉＯＨ基同士が脱水縮合するため、中間層（ｃ）は、有機ケイ素化合物（Ｃ）由来の縮合構造を有することが好ましい。中間層（ｃ）は撥水層（ｒ）のプライマー層として機能することができる。有機ケイ素化合物（Ｃ）のケイ素原子に結合する加水分解性基としては、アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、アセトキシ基、イソシアネート基等が挙げられる。有機ケイ素化合物（Ｃ）のケイ素原子には、炭素数１〜４のアルコキシ基又はヒドロキシ基が結合していることが好ましい。

有機ケイ素化合物（Ｃ）は、下記式（ｃ１）〜（ｃ３）のいずれかで表される化合物であることが好ましい。

ＩＶ−１．下記式（ｃ１）で表される有機ケイ素化合物（Ｃ）（以下、有機ケイ素化合物（Ｃ１）

上記式（ｃ１）中、
Ｒ^x11、Ｒ^x12、Ｒ^x13、Ｒ^x14は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数が１〜４のアルキル基であり、Ｒ^x11が複数存在する場合は複数のＲ^x11がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ^x12が複数存在する場合は複数のＲ^x12がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ^x13が複数存在する場合は複数のＲ^x13がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ^x14が複数存在する場合は複数のＲ^x14がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｒｆ^x11、Ｒｆ^x12、Ｒｆ^x13、Ｒｆ^x14は、それぞれ独立して、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１〜２０のアルキル基又はフッ素原子であり、Ｒｆ^x11が複数存在する場合は複数のＲｆ^x11がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^x12が複数存在する場合は複数のＲｆ^x12がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^x13が複数存在する場合は複数のＲｆ^x13がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^x14が複数存在する場合は複数のＲｆ^x14がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｒ^x15は、炭素数が１〜２０のアルキル基であり、Ｒ^x15が複数存在する場合は複数のＲ^x15がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｘ¹¹は、加水分解性基であり、Ｘ¹¹が複数存在する場合は複数のＸ¹¹がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｙ¹¹は、−ＮＨ−、又は−Ｓ−であり、Ｙ¹¹が複数存在する場合は複数のＹ¹¹がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｚ¹¹は、ビニル基、α−メチルビニル基、スチリル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、アミノ基、イソシアネート基、イソシアヌレート基、エポキシ基、ウレイド基、又はメルカプト基であり、
ｐ１は、１〜２０の整数であり、ｐ２、ｐ３、ｐ４は、それぞれ独立して、０〜１０の整数であり、ｐ５は、１〜１０の整数であり、
ｐ６は、１〜３の整数であり、
Ｚ¹¹がアミノ基でない場合はＹ¹¹の少なくとも１つが−ＮＨ−であり、Ｙ¹¹が全て−Ｓ−である場合はＺ¹¹がアミノ基であり、
Ｚ¹¹−、−Ｓｉ（Ｘ¹¹）_ｐ6（Ｒ^x15）_3-ｐ6、ｐ１個の−｛Ｃ（Ｒ^x11）（Ｒ^x12）｝−、ｐ２個の−｛Ｃ（Ｒｆ^x11）（Ｒｆ^x12）｝−、ｐ３個の−｛Ｓｉ（Ｒ^x13）（Ｒ^x14）｝−、ｐ４個の−｛Ｓｉ（Ｒｆ^x13）（Ｒｆ^x14）｝−、ｐ５個の−Ｙ¹¹−は、Ｚ¹¹−及び−Ｓｉ（Ｘ¹¹）_ｐ6（Ｒ^x15）_3-ｐ6が末端となり、−Ｏ−が−Ｏ−と連結しない限り、任意の順で並んで結合する。

Ｒ^x11、Ｒ^x12、Ｒ^x13、及びＲ^x14は、水素原子であることが好ましい。

Ｒｆ^x11、Ｒｆ^x12、Ｒｆ^x13、及びＲｆ^x14は、それぞれ独立して、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１〜１０のアルキル基又はフッ素原子であることが好ましい。

Ｒ^x15は、炭素数が１〜５のアルキル基であることが好ましい。

Ｘ¹¹は、アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、又はイソシアネート基であることが好ましく、アルコキシ基であることがより好ましく、メトキシ基又はエトキシ基であることが更に好ましい。

Ｙ¹¹は、−ＮＨ−であることが好ましい。

Ｚ¹¹は、メタクリロイル基、アクリロイル基、メルカプト基又はアミノ基であることが好ましく、メルカプト基又はアミノ基がより好ましく、アミノ基が更に好ましい。

ｐ１は１〜１５が好ましく、より好ましくは２〜１０である。ｐ２、ｐ３及びｐ４は、それぞれ独立して、０〜５が好ましく、より好ましくは全て０〜２である。ｐ５は、１〜５が好ましく、より好ましくは１〜３である。ｐ６は、２〜３が好ましく、より好ましくは３である。

有機ケイ素化合物（Ｃ）としては、上記式（ｃ１）において、Ｒ^x11及びＲ^x12がいずれも水素原子であり、Ｙ¹¹が−ＮＨ−であり、Ｘ¹¹がアルコキシ基（特にメトキシ基又はエトキシ基）であり、Ｚ¹¹がアミノ基又はメルカプト基であり、ｐ１が１〜１０であり、ｐ２、ｐ３及びｐ４がいずれも０であり、ｐ５が１〜５（特に１〜３）であり、ｐ６が３である化合物を用いることが好ましい。

有機ケイ素化合物（Ｃ１）は、下記式（ｃ１−２）で表されることが好ましい。

上記式（ｃ１−２）中、
Ｘ¹²は、加水分解性基であり、Ｘ¹²が複数存在する場合は複数のＸ¹²がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｙ¹²は、−ＮＨ−であり、
Ｚ¹²は、アミノ基、又はメルカプト基であり、
Ｒ^ｘ16は、炭素数が１〜２０のアルキル基であり、Ｒ^x16が複数存在する場合は複数のＲ^x16がそれぞれ異なっていてもよく、
ｐは、１〜３の整数であり、ｑは２〜５の整数であり、ｒは０〜５の整数である。

Ｘ¹²は、アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、又はイソシアネート基であることが好ましく、アルコキシ基であることがより好ましく、炭素数が１〜４のアルコキシ基であることが更に好ましい。

Ｚ¹²は、アミノ基であることが好ましい。

Ｒ^ｘ16は、炭素数が１〜１０のアルキル基であることが好ましく、炭素数が１〜５のアルキル基であることがより好ましい。

ｐは、２〜３の整数であることが好ましく、３であることがより好ましい。

ｑは２〜３の整数であることが好ましく、ｒは２〜４の整数であることが好ましい。

ＩＶ−２．下記式（ｃ２）で表される有機ケイ素化合物（Ｃ）（以下、有機ケイ素化合物（Ｃ２））

上記式（ｃ２）中、
Ｒ^x20及びＲ^x21は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数が１〜４のアルキル基であり、Ｒ^x20が複数存在する場合は複数のＲ^x20がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ^x21が複数存在する場合は複数のＲ^x21がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｒｆ^x20及びＲｆ^x21は、それぞれ独立して、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１〜２０のアルキル基又はフッ素原子であり、Ｒｆ^x20が複数存在する場合は複数のＲｆ^x20がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^x21が複数存在する場合は複数のＲｆ^x21がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｒ^x22及びＲ^x23はそれぞれ独立して、炭素数が１〜２０のアルキル基であり、Ｒ^x22及びＲ^x23が複数存在する場合は複数のＲ^x22及びＲ^x23がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｘ²⁰及びＸ²¹はそれぞれ独立して、加水分解性基であり、Ｘ²⁰及びＸ²¹が複数存在する場合は複数のＸ²⁰及びＸ²¹がそれぞれ異なっていてもよく、
ｐ２０は、１〜３０の整数であり、ｐ２１は、０〜３０の整数であり、ｐ２０又はｐ２１を付して括弧でくくられた繰り返し単位の少なくとも１つは、アミン骨格−ＮＲ¹⁰⁰−に置き換わっており、前記アミン骨格におけるＲ¹⁰⁰は水素原子又はアルキル基であり、
ｐ２２及びｐ２３はそれぞれ独立して、１〜３の整数であり、
ｐ２０個の−｛Ｃ（Ｒ^x20）（Ｒ^x21）｝−、ｐ２１個の−｛Ｃ（Ｒｆ^x20）（Ｒｆ^x21）｝−は、ｐ２０又はｐ２１個が連続である必要はなく、任意の順で並んで結合し、両末端が−Ｓｉ（Ｘ²⁰）_ｐ22（Ｒ^ｘ22）_3-ｐ22及び−Ｓｉ（Ｘ²¹）_ｐ23（Ｒ^ｘ23）_3-ｐ23となる。

Ｒ^x20及びＲ^x21は、水素原子であることが好ましい。

Ｒｆ^x20及びＲｆ^x21は、は、それぞれ独立して、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１〜１０のアルキル基又はフッ素原子であることが好ましい。

Ｒ^x22及びＲ^x23は、炭素数が１〜５のアルキル基であることが好ましい。

Ｘ²⁰及びＸ²¹は、アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、又はイソシアネート基であることが好ましく、アルコキシ基であることがより好ましく、メトキシ基又はエトキシ基であることが更に好ましい。

アミン骨格−ＮＲ¹⁰⁰−は、上記の通り分子内に少なくとも１つ存在すればよく、ｐ２０又はｐ２１を付して括弧でくくられた繰り返し単位のいずれかが前記アミン骨格に置き換わっていればよいが、ｐ２０を付して括弧でくくられた繰り返し単位の一部であることが好ましい。前記アミン骨格は、複数存在してもよく、その場合のアミン骨格の数は、１〜１０であることが好ましく、１〜５であることがより好ましく、２〜５であることがさらに好ましい。また、この場合、隣り合うアミン骨格の間にアルキレン基を有することが好ましく、該アルキレン基の炭素数は、１〜１０であることが好ましく、１〜５であることがより好ましい。隣り合うアミン骨格の間のアルキレン基の炭素数は、ｐ２０又はｐ２１の総数に含まれる。

アミン骨格−ＮＲ¹⁰⁰−において、Ｒ¹⁰⁰がアルキル基である場合、炭素数は５以下であることが好ましく、３以下であることがより好ましい。アミン骨格−ＮＲ¹⁰⁰−は、−ＮＨ−（Ｒ¹⁰⁰が水素原子）であることが好ましい。

ｐ２０は、アミン骨格に置き変わった繰り返し単位の数を除いて、１〜１５が好ましく、より好ましくは１〜１０である。

ｐ２１は、アミン骨格に置き変わった繰り返し単位の数を除いて、０〜５が好ましく、より好ましくは全て０〜２である。

ｐ２２及びｐ２３は、２〜３が好ましく、より好ましくは３である。

有機ケイ素化合物（Ｃ２）としては、上記式（ｃ２）において、Ｒ^x20及びＲ^x21がいずれも水素原子であり、Ｘ²⁰及びＸ²¹がアルコキシ基（特にメトキシ基又はエトキシ基）であり、ｐ２０を付して括弧でくくられた繰り返し単位が、少なくとも１つアミン骨格−ＮＲ¹⁰⁰−に置き換わっており、Ｒ¹⁰⁰が水素原子であり、ｐ２０が１〜１０であり（ただし、アミン骨格に置き変わった繰り返し単位の数を除く）、ｐ２１が０であり、ｐ２２及びｐ２３が３である化合物を用いることが好ましい。

なお、後記する実施例で化合物（Ｃ）として用いる、特開２０１２−１９７３３０号公報に記載のＮ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシランとクロロプロピルトリメトキシシランの反応物（商品名；Ｘ−１２−５２６３ＨＰ、信越化学工業（株）製）を上記式（ｃ２）で表すと、Ｒ^x20及びＲ^x21がいずれも水素原子、ｐ２０が８、ｐ２１が０、アミン骨格が２つ（いずれもＲ¹⁰⁰が水素原子）、両末端が同一で、ｐ２２及びｐ２３が３でＸ²⁰及びＸ²¹がメトキシ基である。

有機ケイ素化合物（Ｃ２）は、下記式（ｃ２−２）で表される化合物であることが好ましい。

上記式（ｃ２−２）中、
Ｘ²²及びＸ²³は、それぞれ独立して、加水分解性基であり、Ｘ²²及びＸ²³が複数存在する場合は複数のＸ²²及びＸ²³がそれぞれ異なっていてもよく、
Ｒ^x24及びＲ^x25は、それぞれ独立して、炭素数が１〜２０のアルキル基であり、Ｒ^x24及びＲ^x25が複数存在する場合は複数のＲ^x24及びＲ^x25がそれぞれ異なっていてもよく、
−Ｃ_wＨ_2w−は、その一部のメチレン基の少なくとも１つがアミン骨格−ＮＲ¹⁰⁰−に置き換わっており、Ｒ¹⁰⁰は水素原子又はアルキル基であり、
ｗは１〜３０の整数であり（ただし、アミン骨格に置き換わったメチレン基の数を除く）、
ｐ２４及びｐ２５は、それぞれ独立して、１〜３の整数である。

Ｘ²²及びＸ²³は、アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、又はイソシアネート基であることが好ましく、アルコキシ基であることがより好ましく、炭素数１〜４のアルコキシ基（特にメトキシ基又はエトキシ基）であることが更に好ましい。

アミン骨格−ＮＲ¹⁰⁰−は、複数存在してもよく、その場合のアミン骨格の数は、１〜１０であることが好ましく、１〜５であることがより好ましく、２〜５であることがさらに好ましい。また、この場合、隣り合うアミン骨格の間にアルキレン基を有することが好ましい。前記アルキレン基の炭素数は、１〜１０であることが好ましく、１〜５であることがより好ましい。隣り合うアミン骨格の間のアルキレン基の炭素数は、ｗの総数に含まれる。

アミン骨格−ＮＲ¹⁰⁰−において、Ｒ¹⁰⁰がアルキル基である場合、炭素数は５以下であることが好ましく、３以下であることがより好ましい。アミン骨格−ＮＲ¹⁰⁰−は、−ＮＨ−（Ｒ¹⁰⁰が水素原子）であることが好ましい。

Ｒ^x24及びＲ^x25は、炭素数が１〜１０のアルキル基であることが好ましく、炭素数が１〜５のアルキル基であることがより好ましい。

ｐ２４及びｐ２５は、２〜３の整数であることが好ましく、３であることがより好ましい。

ｗは、１以上であることが好ましく、２以上であることがより好ましく、また２０以下であることが好ましく、１０以下であることがより好ましい。

ＩＶ−３．下記式（ｃ３）で表される有機ケイ素化合物（Ｃ）（以下、有機ケイ素化合物（Ｃ３））

上記式（ｃ３）中、
Ｚ³¹、Ｚ³²は、それぞれ独立に、加水分解性基及びヒドロキシ基以外の、反応性官能基である。反応性官能基としては、ビニル基、α−メチルビニル基、スチリル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、アミノ基、エポキシ基、ウレイド基、又はメルカプト基が挙げられる。Ｚ³¹、Ｚ³²としては、アミノ基、メルカプト基、又はメタクリロイル基が好ましく、特にアミノ基が好ましい。

Ｒ^x31、Ｒ^x32、Ｒ^x33、Ｒ^x34は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数が１〜４のアルキル基であり、Ｒ^x31が複数存在する場合は複数のＲ^x31がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ^x32が複数存在する場合は複数のＲ^x32がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ^x33が複数存在する場合は複数のＲ^x33がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ^x34が複数存在する場合は複数のＲ^x34がそれぞれ異なっていてもよい。Ｒ^x31、Ｒ^x32、Ｒ^x33、Ｒ^x34は、水素原子又は炭素数が１〜２のアルキル基であることが好ましく、水素原子であることがより好ましい。

Ｒｆ^x31、Ｒｆ^x32、Ｒｆ^x33、Ｒｆ^x34は、それぞれ独立して、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１〜２０のアルキル基又はフッ素原子であり、Ｒｆ^x31が複数存在する場合は複数のＲｆ^x31がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^x32が複数存在する場合は複数のＲｆ^x32がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^x33が複数存在する場合は複数のＲｆ^x33がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^x34が複数存在する場合は複数のＲｆ^x34がそれぞれ異なっていてもよい。Ｒｆ^x31、Ｒｆ^x32、Ｒｆ^x33、Ｒｆ^x34は、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１〜１０のアルキル基又はフッ素原子であることが好ましい。

Ｙ³¹は、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ₃）−又は−Ｏ−であり、Ｙ³¹が複数存在する場合は複数のＹ³¹がそれぞれ異なっていてもよい。Ｙ³¹は−ＮＨ−であることが好ましい。

Ｘ³¹、Ｘ³²、Ｘ³³、Ｘ³⁴は、それぞれ独立に、−ＯＲ^c（Ｒ^cは、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、又はアミノＣ_1-3アルキルジＣ_1-3アルコキシシリル基である）であり、Ｘ³¹が複数存在する場合は複数のＸ³¹がそれぞれ異なっていてもよく、Ｘ³²が複数存在する場合は複数のＸ³²がそれぞれ異なっていてもよく、Ｘ³³が複数存在する場合は複数のＸ³³がそれぞれ異なっていてもよく、Ｘ³⁴が複数存在する場合は複数のＸ³⁴がそれぞれ異なっていてもよい。Ｘ³¹、Ｘ³²、Ｘ³³、Ｘ³⁴は、Ｒ^cが水素原子、又は炭素数１〜２のアルキル基である−ＯＲ^cであることが好ましく、Ｒ^cは水素原子がより好ましい。

ｐ３１は、０〜２０の整数であり、ｐ３２、ｐ３３、ｐ３４は、それぞれ独立して、０〜１０の整数であり、ｐ３５は、０〜５の整数であり、ｐ３６は、１〜１０の整数であり、ｐ３７は０又は１である。ｐ３１は１〜１５が好ましく、より好ましくは３〜１３であり、さらに好ましくは５〜１０である。ｐ３２、ｐ３３及びｐ３４は、それぞれ独立して、０〜５が好ましく、より好ましくは全て０〜２である。ｐ３５は、１〜５が好ましく、より好ましくは１〜３である。ｐ３６は、１〜５が好ましく、より好ましくは１〜３である。ｐ３７は１が好ましい。

有機ケイ素化合物（Ｃ３）は、Ｚ³¹及びＺ³²の少なくとも一方がアミノ基であるか、又はＹ³¹の少なくとも一つが−ＮＨ−又は−Ｎ（ＣＨ₃）−であるという条件を満たし、かつ末端がＺ³¹−及びＺ³²−であり、−Ｏ−が−Ｏ−と連結しない限り、ｐ３１個の−｛Ｃ（Ｒ^x31）（Ｒ^x32）｝−、ｐ３２個の−｛Ｃ（Ｒｆ^x31）（Ｒｆ^x32）｝−、ｐ３３個の−｛Ｓｉ（Ｒ^x33）（Ｒ^x34）｝−、ｐ３４個の−｛Ｓｉ（Ｒｆ^x33）（Ｒｆ^x34）｝−、ｐ３５個の−Ｙ³¹−、ｐ３６個の−｛Ｓｉ（Ｘ³¹）（Ｘ³²）−Ｏ｝−、ｐ３７個の−｛Ｓｉ（Ｘ³³）（Ｘ³⁴）｝−が任意の順で並んで結合して構成される。ｐ３１個の−｛Ｃ（Ｒ^x31）（Ｒ^x32）｝−は、−｛Ｃ（Ｒ^x31）（Ｒ^x32）｝−が連続して結合している必要はなく、途中に他の単位を介して結合していてもよく、合計でｐ３１個であればよい。ｐ３２〜ｐ３７で括られる単位についても同様である。

有機ケイ素化合物（Ｃ３）としては、Ｚ³¹及びＺ³²がアミノ基であり、Ｒ^x31及びＲ^x32が水素原子であり、ｐ３１が３〜１３（好ましくは５〜１０）であり、Ｒ^x33及びＲ^x34がいずれも水素原子であり、Ｒｆ^x31〜Ｒｆ^x34がいずれも１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１〜１０のアルキル基又はフッ素原子であり、ｐ３２〜ｐ３４がいずれも０〜５であり、Ｙ³¹が−ＮＨ−であり、ｐ３５が０〜５（好ましくは０〜３）であり、Ｘ³¹〜Ｘ³⁴がいずれも−ＯＨであり、ｐ３６が１〜５（好ましくは１〜３）であり、ｐ３７が１である化合物が好ましい。

有機ケイ素化合物（Ｃ３）は、下記式（ｃ３−２）で表されることが好ましい。

前記式（ｃ３−２）中、Ｚ³¹、Ｚ³²、Ｘ³¹、Ｘ³²、Ｘ³³、Ｘ³⁴、Ｙ³¹は、式（ｃ３）中のこれらと同義であり、ｐ４１〜ｐ４４は、それぞれ独立に１〜６の整数であり、ｐ４５、４６はそれぞれ独立に０又は１である。

式（ｃ３−２）において、Ｚ³¹及びＺ³²は、アミノ基、メルカプト基、又はメタクリロイル基が好ましく、特にアミノ基が好ましい。Ｘ³¹、Ｘ³²、Ｘ³³、Ｘ³⁴、は、Ｒ^cが水素原子、又は炭素数１〜２のアルキル基である−ＯＲ^cであることが好ましく、Ｒ^cが水素原子であることがより好ましい。Ｙ³¹は−ＮＨ−であることが好ましい。ｐ４１〜ｐ４４は、２以上が好ましく、また５以下が好ましく、４以下がより好ましい。ｐ４５、ｐ４６はいずれも０であることが好ましい。

前記混合組成物（ｃｃ）は、前記有機ケイ素化合物（Ｃ）が混合された組成物であり、前記有機ケイ素化合物（Ｃ）としては１種でもよいし、２種以上でもよい。混合組成物（ｃｃ）は、有機ケイ素化合物（Ｃ）を混合することにより得られ、有機ケイ素化合物（Ｃ）以外の成分が混合されている場合は、有機ケイ素化合物（Ｃ）と、他の成分を混合することにより得られる。前記混合組成物（ｃｃ）は、混合後、例えば保管中に反応が進んだものも含む。

前記混合組成物（ｃｃ）の保管中に反応が進んだ例として、前記混合組成物（ｃｃ）が、前記有機ケイ素化合物（Ｃ）の縮合物を含むことが挙げられ、より具体的には前記混合組成物（ｃｃ）が、前記有機ケイ素化合物（Ｃ３）が上記Ｘ³¹〜Ｘ³⁴の少なくともいずれかで縮合して結合した有機ケイ素化合物（Ｃ３’）を含むことが挙げられる。

前記有機ケイ素化合物（Ｃ３’）は、下記式（ｃ３１−１）で表される構造（ｃ３１−１）を２以上有し、前記構造（ｃ３１−１）同士が、下記＊３又は＊４で鎖状又は環状に結合した化合物であって、下記＊３又は＊４での結合は、２以上の前記有機ケイ素化合物（Ｃ３）の前記Ｘ³¹又はＸ³²の縮合によるものであり、
下記式（ｃ３１−１）の＊１及び＊２には、それぞれ、下記式（ｃ３１−２）のｐ３１、ｐ３２、ｐ３３、ｐ３４、ｐ３５、（ｐ３６）−１、ｐ３７で括られた単位の少なくとも１種が任意の順で結合し末端がＺ−である基が結合しており、複数の前記構造（ｃ３１−１）ごとに、＊１及び＊２に結合する基は異なっていてもよく、
複数の前記構造（ｃ３１−１）が鎖状に結合しているときの末端となる＊３は水素原子であり、＊４はヒドロキシ基である。

前記式（ｃ３１−２）中、
Ｚは、加水分解性基及びヒドロキシ基以外の、反応性官能基であり、
Ｒ^x31、Ｒ^x32、Ｒ^x33、Ｒ^x34、Ｒｆ^x31、Ｒｆ^x32、Ｒｆ^x33、Ｒｆ³⁴、Ｙ³¹、Ｘ³¹、Ｘ³²、Ｘ³³、Ｘ³⁴、ｐ３１〜ｐ３７は、前記式（ｃ３）中のこれら符号と同義である。

有機ケイ素化合物（Ｃ３）が前記式（ｃ３−２）で表される化合物である場合、有機ケイ素化合物（Ｃ３’）としては、例えば下記式（ｃ３１−３）で表される構造が下記＊３又は＊４で鎖状又は環状に結合した化合物が挙げられる。下記式（ｃ３１−３）で表される構造が鎖状に結合する場合には、末端となる＊３は水素原子であり、末端となる＊４はヒドロキシ基である。

前記式（ｃ３１−３）中の符号は、全て前記式（ｃ３−２）の符号と同義である。

有機ケイ素化合物（Ｃ３’）は、前記式（ｃ３１−３）で表される構造が２〜１０（好ましくは３〜８）結合した化合物であることが好ましい。

Ｖ．溶剤（Ｅ）
前記混合組成物（ｃｃ）は、溶剤（Ｅ）が混合されていることが好ましい。溶剤（Ｅ）は特に限定されず、例えば水、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、炭化水素系溶剤、エステル系溶剤などを用いることができ、特に水、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤、炭化水素系溶剤が好ましい。

アルコール系溶剤としては、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノールなどが挙げられる。
ケトン系溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどが挙げられる。
エーテル系溶剤としては、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサンなどが挙げられる。
炭化水素系溶剤としては、ペンタン、ヘキサンなどの脂肪族炭化水素系溶剤、シクロヘキサンなどの脂環式炭化水素系溶剤、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶剤などが挙げられる。
エステル系溶剤としては、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチルなどが挙げられる。

前記組成物（ｃｃ）の全体を１００質量％としたときの、前記有機ケイ素化合物（Ｃ）の合計量は、０．００５質量％以上が好ましく、より好ましくは０．０１質量％以上であり、更に好ましくは０．０２質量％以上であり、一層好ましくは０．１質量％以上であり、また５質量％以下が好ましく、より好ましくは３質量％以下であり、更に好ましくは２質量％以下である。上記の有機ケイ素化合物（Ｃ）の量は、組成物の調製時に調整できる。前記有機ケイ素化合物（Ｃ）の量は、組成物の分析結果から算出してもよい。なお、本明細書において、各成分の量、質量比又はモル比の範囲を記載している場合、上記と同様に、該範囲は、組成物の調製時に調整できる。

前記基材（ｓ）は、前記中間層（ｃ）側の面で、入射した光の反射を防止する機能を有する層であることが好ましく、具体的には３８０〜７８０ｎｍの可視光領域において、前記中間層（ｃ）側の面で、反射率が５．０％以下程度に低減された反射特性を示す層であることが好ましく、より好ましくは４．８０％以下であり、更に好ましくは４．５％以下である。該反射率は、波長５３０ｎｍの分光反射率で評価してもよい。

前記基材（ｓ）は、少なくとも中間層（ｃ）側の最表層において、表面Ｓｉ比が１原子％以上であることが好ましく、基材（ｓ）は有機系材料または無機系材料が好ましい。前記表面Ｓｉ比が所定以上であると、基材（ｓ）表面と、中間層（ｃ）又は撥水層（ｒ）を構成する成分とが結合しやすくなり、本発明の積層体の撥水層（ｒ）側表面の耐摩耗性がより向上する。前記表面Ｓｉ比は、５原子％以上がより好ましく、更に好ましくは１０原子％以上であり、一層好ましくは２０原子％以上であり、また４０原子％以下であってもよい。

前記基材（ｓ）は、１種の材料で構成されていてもよいし、２種以上の材料で構成されていてもよい。前記基材（ｓ）を構成する材料としては例えば、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂（ポリエチレンテレフタレートなど）、スチレン樹脂、アクリル−スチレン共重合樹脂、セルロース樹脂、ポリオレフィン樹脂、ビニル系樹脂（ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ビニルベンジルクロライド系樹脂、ポリビニルアルコール等）などの熱可塑性樹脂；若しくはフェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン樹脂、ウレタン樹脂等の熱硬化性樹脂；若しくはポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂等のエンジニアリングプラスチック等の樹脂材、又はチタン、ジルコニウム、アルミニウム、ニオブ、タンタル、ランタン若しくはケイ素等の金属の酸化物が挙げられる。

前記基材（ｓ）が１種の材料で構成される場合、樹脂層であって、表面Ｓｉ比が１原子％以上である層であってよく、シリカ等の金属酸化物層であってもよい。

前記基材（ｓ）が２種以上の材料で構成される場合、樹脂層の上に、電子機器のディスプレイ等の耐摩耗性が要求される用途で物品を傷から守るために設けられる保護層（以下、ハードコート層という場合がある。）が設けられたものであることが好ましい。前記樹脂層を構成する材料としては、上述の熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、又はエンジニアリングプラスチックを用いることができ、特にポリエステル樹脂が好ましい。上記したハードコート層は、表面硬度を有する層であり、その硬度は例えば鉛筆硬度で２Ｈ以上である。ハードコート層は、単層構造であってもよく、多層構造であってもよい。ハードコート層はハードコート層樹脂を含んでなり、ハードコート層樹脂としては、例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ウレタン系樹脂、ビニルベンジルクロライド系樹脂、ビニル系樹脂もしくはシリコーン系樹脂又はこれらの混合樹脂等の紫外線硬化型、電子線硬化型、又は熱硬化型の樹脂が挙げられ、更に上記した通り、これらハードコート層を形成する樹脂において表面Ｓｉ比が１原子％以上であることが好ましい。特に、ハードコート層は、高硬度を発現するためには、アクリル系樹脂を含み、表面Ｓｉ比が１原子％以上であることが好ましい。上記中間層（ｃ）を介した上記撥水層（ｒ）との密着性が良好となる傾向が見られることから、エポキシ系樹脂を含むことも好ましい。

ハードコート層は、更に紫外線吸収剤を含んでいてもよいし、シリカ、アルミナ等の金属酸化物や、ポリオルガノシロキサン等の無機フィラーを含んでいてもよい。このような無機フィラーを含むことによって、上記中間層（ｃ）を介した上記撥水層（ｒ）との密着性を向上できる。

基材（ｓ）が２種以上の材料で構成される場合、樹脂層の上に反射防止層が設けられたものであってもよいし、また、樹脂層の上に設けられたハードコート層の上に更に反射防止層を有しているものであることも好ましく、この場合、樹脂層、ハードコート層、反射防止層、中間層（ｃ）、撥水層（ｒ）の順に積層される。前記樹脂層を構成する材料としては、上述の熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、又はエンジニアリングプラスチックを用いることができる。前記反射防止層は、入射した光の反射を防止する機能を有する層であり、３８０〜７８０ｎｍの可視光領域において、反射率が５％以下程度に低減された反射特性を示す層である。反射防止層の構造は特に限定されず、単層構造であってもよいし、多層構造であってもよい。多層構造の場合、低屈折率層と高屈折率層とを交互に積層した構造が好ましく、積層数は合計で２〜２０であることが好ましい。高屈折率層を構成する材料としては、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、ニオブ、タンタル又はランタンの酸化物などが挙げられ、低屈折率層を構成する材料としてはケイ素の酸化物（すなわちシリカ）などが挙げられる。多層構造の反射防止層としては、ＳｉＯ₂とＺｒＯ₂が、または、ＳｉＯ_２とＮｂ_２Ｏ_５が交互に積層され、基材（ｓ）と反対側の最外層がＳｉＯ₂である構造が好ましい。反射防止層は、例えば蒸着法によって形成することができる。

前記基材（ｓ）において、前記した反射特性及び／又は前記材料は、前記基材（ｓ）の少なくとも中間層（ｃ）側の最表層において満たしていればよく、好ましくは、前記基材（ｓ）の中間層（ｃ）側の最表層から１０％以上の厚み（前記基材（ｓ）の厚み）で満たしていればよく、より好ましくは４０％以上の厚みで満たしていればよく、基材（ｓ）の全体において満たしていることが更に好ましい。

前記基材（ｓ）の厚みは、例えば１〜４９８μｍであり、好ましくは１〜３００μｍ、より好ましくは１〜１００μｍであり、一層好ましくは１０〜９５μｍであり、特に好ましくは３０〜９０μｍである。

本発明の積層体を、後述の実施例に記載した方法に従って評価した際の水接触角（初期接触角）は、例えば１０５°以上であり、より好ましくは１１０°以上であり、また例えば１２５°以下である。

次に、本発明の積層体の製造方法について説明する。

本発明の積層体を製造する第１の方法は、（i）基材（ｓ）上に前記混合組成物（ｃｃ）を塗布する工程と、（ii）前記混合組成物（ｃｃ）の塗布面に、に前記混合組成物（ｃａ）を塗布する工程と、（iii）前記混合組成物（ｃｃ）と前記混合組成物（ｃａ）を硬化させる工程を含み、前記混合組成物（ｃｃ）の塗布層から前記中間層（ｃ）を形成し、前記混合組成物（ｃａ）の塗布層から前記撥水層（ｒ）を形成する。

前記混合組成物（ｃｃ）を塗布する方法としては、公知の方法で行うことができるが、スピンコート法またはディップコート法が好ましい。

次に、撥水層（ｒ）形成用の前記混合組成物（ｃａ）を前記混合組成物（ｃｃ）の塗布面に塗布し、乾燥することで前記混合組成物（ｃｃ）の塗布層から前記中間層（ｃ）を形成し、前記混合組成物（ｃａ）の塗布層から前記撥水層（ｒ）を形成できる。前記中間層（ｃ）は、前記混合組成物（ｃｃ）の塗布中に形成してもよいし、塗布後に形成してもよく、前記中間層（ｃ）と前記撥水層（ｒ）の形成が同時に進行してもよい。前記撥水層（ｒ）形成用の組成物を塗布する方法としては、例えばディップコート法、ロールコート法、バーコート法、スピンコート法、スプレーコート法、ダイコート法、グラビアコート法などが挙げられる。

撥水層（ｒ）形成用の組成物を塗布した後、常温、大気中で、例えば１時間以上（通常２４時間以下）静置することで本発明の積層体を製造できる。本発明において常温とは、５〜６０℃であり、好ましくは１５〜４０℃の温度範囲である。常温で静置する際の湿度条件は５０〜９０％ＲＨとしてもよい。また、撥水層（ｒ）形成用の組成物を塗布した後は、６０℃を超える温度（通常１００℃以下。８０℃以下であってもよい）に加熱して５分〜６０分（好ましくは２０分〜４０分）程度保持してもよい。

また、本発明の積層体を製造する第２の方法は、前記基材（ｓ）に、前記有機ケイ素化合物（Ｃ）を蒸着して中間層（ｃ）を形成し、前記中間層（ｃ）上に、前記混合組成物（ｃａ）を塗布して硬化させ、前記混合組成物（ｃａ）の塗布層から前記撥水層（ｒ）を形成する。前記有機ケイ素化合物（Ｃ）を蒸着して前記中間層（ｃ）を形成するに際しては、前記有機ケイ素化合物（Ｃ）単体を基材（ｓ）に蒸着してもよいし、前記有機ケイ素化合物（Ｃ）と溶剤の混合組成物から溶剤を除去して得られる固形物（すなわち前記有機ケイ素化合物（Ｃ））を基材（ｓ）に蒸着してもよい。撥水層（ｒ）形成用組成物を塗布した後は、前記第１の方法と同様にすればよい。

前記組成物（ｃｃ）を塗布する前又は前記有機ケイ素化合物（Ｃ）を蒸着する前に、前記基材（ｓ）に親水化処理を施しておくことが好ましい。前記親水化処理としては、コロナ処理、プラズマ処理、紫外線処理、イオンクリーニング処理等の親水化処理が挙げられ、プラズマ処理、イオンクリーニング処理がより好ましい。プラズマ処理等の親水化処理を行うことで、基材の表面にＯＨ基やＣＯＯＨ基などの官能基を形成させることができ、基材表面にこのような官能基が形成されている場合に特に前記中間層（ｃ）と前記基材（ｓ）との密着性がより向上できる。

＜フレキシブル表示装置＞
本発明は、本発明の光学積層体を備える、フレキシブル表示装置も提供する。本発明の積層体は、好ましくはフレキシブル表示装置において前面板として用いることができ、該前面板はウインドウフィルムと称されることがある。該フレキシブル表示装置は、フレキシブル表示装置用積層体と、有機ＥＬ表示パネルとからなることが好ましく、有機ＥＬ表示パネルに対して視認側にフレキシブル表示装置用積層体が配置され、折り曲げ可能に構成されている。フレキシブル表示装置用積層体は、さらに偏光板（好ましくは円偏光板）、タッチセンサ等を含有していてもよく、それらの積層順は任意であるが、視認側からウインドウフィルム（すなわち、本発明の積層体）、偏光板、タッチセンサの順、又は、ウインドウフィルム、タッチセンサ、偏光板の順に積層されていることが好ましい。タッチセンサよりも視認側に偏光板が存在すると、タッチセンサのパターンが視認されにくくなり表示画像の視認性が良くなるので好ましい。それぞれの部材は接着剤、粘着剤等を用いて積層することができる。また、フレキシブル表示装置は、前記ウインドウフィルム、偏光板、タッチセンサのいずれかの層の少なくとも一方の面に形成された遮光パターンを具備することができる。

＜円偏光板＞
本発明のフレキシブル表示装置は、上記の通り、偏光板、中でも円偏光板を備えることが好ましい。円偏光板は、直線偏光板にλ／４位相差板を積層することにより、右又は左円偏光成分のみを透過させる機能を有する機能層である。たとえば外光を右円偏光に変換して有機ＥＬパネルで反射されて左円偏光となった外光を遮断し、有機ＥＬの発光成分のみを透過させることで反射光の影響を抑制して画像を見やすくするために用いられる。円偏光機能を達成するためには、直線偏光板の吸収軸とλ／４位相差板の遅相軸は理論上４５度である必要があるが、実用的には４５±１０度である。直線偏光板とλ／４位相差板は必ずしも隣接して積層される必要はなく、吸収軸と遅相軸の関係が前述の範囲を満足していればよい。全波長において完全な円偏光を達成することが好ましいが実用上は必ずしもその必要はないので本発明における円偏光板は楕円偏光板をも包含する。直線偏光板の視認側にさらにλ／４位相差フィルムを積層して、出射光を円偏光とすることで偏光サングラスをかけた状態での視認性を向上させることも好ましい。

直線偏光板は、透過軸方向に振動している光は通すが、それとは垂直な振動成分の偏光を遮断する機能を有する機能層である。前記直線偏光板は、直線偏光子単独又は直線偏光子及びその少なくとも一方の面に貼り付けられた保護フィルムを備えた構成であってもよい。前記直線偏光板の厚さは、２００μｍ以下であってもよく、好ましくは０．５〜１００μｍである。直線偏光板の厚さが前記の範囲にあると直線偏光板の柔軟性が低下し難い傾向にある。

前記直線偏光子は、ポリビニルアルコール（以下、ＰＶＡと略すことがある）系フィルムを染色、延伸することで製造されるフィルム型偏光子であってもよい。延伸によって配向したＰＶＡ系フィルムに、ヨウ素等の二色性色素が吸着、又はＰＶＡに吸着した状態で延伸されることで二色性色素が配向し、偏光性能を発揮する。前記フィルム型偏光子の製造においては、他に膨潤、ホウ酸による架橋、水溶液による洗浄、乾燥等の工程を有していてもよい。延伸や染色工程はＰＶＡ系フィルム単独で行ってもよいし、ポリエチレンテレフタレートのような他のフィルムと積層された状態で行うこともできる。用いられるＰＶＡ系フィルムの厚さは好ましくは１０〜１００μｍであり、前記延伸倍率は好ましくは２〜１０倍である。
さらに前記偏光子の他の一例としては、液晶偏光組成物を塗布して形成する液晶塗布型偏光子が挙げられる。前記液晶偏光組成物は、液晶性化合物及び二色性色素化合物を含むことができる。前記液晶性化合物は、液晶状態を示す性質を有していればよく、特にスメクチック相等の高次の配向状態を有していると高い偏光性能を発揮することができるため好ましい。また、液晶性化合物は、重合性官能基を有することが好ましい。
前記二色性色素化合物は、前記液晶性化合物とともに配向して二色性を示す色素であって、重合性官能基を有していてもよく、また、二色性色素自身が液晶性を有していてもよい。
液晶偏光組成物に含まれる化合物のいずれかは重合性官能基を有する。前記液晶偏光組成物はさらに開始剤、溶剤、分散剤、レベリング剤、安定剤、界面活性剤、架橋剤、シランカップリング剤などを含むことができる。
前記液晶偏光層は、配向膜上に液晶偏光組成物を塗布して液晶偏光層を形成することにより製造される。液晶偏光層は、フィルム型偏光子に比べて厚さを薄く形成することができ、その厚さは好ましくは０．５〜１０μｍ、より好ましくは１〜５μｍである。

前記配向膜は、例えば基材上に配向膜形成組成物を塗布し、ラビング、偏光照射等により配向性を付与することにより製造される。前記配向膜形成組成物は、配向剤を含み、さらに溶剤、架橋剤、開始剤、分散剤、レベリング剤、シランカップリング剤等を含んでいてもよい。前記配向剤としては、例えば、ポリビニルアルコール類、ポリアクリレート類、ポリアミック酸類、ポリイミド類が挙げられる。偏光照射により配向性を付与する配向剤を用いる場合、シンナメート基を含む配向剤を使用することが好ましい。前記配向剤として使用される高分子の重量平均分子量は、例えば、１０，０００〜１，０００，０００程度である。前記配向膜の厚さは、好ましくは５〜１０，０００ｎｍであり、配向規制力が十分に発現される点で、より好ましくは１０〜５００ｎｍである。
前記液晶偏光層は基材から剥離して転写して積層することもできるし、前記基材をそのまま積層することもできる。前記基材が、保護フィルムや位相差板、ウインドウフィルムの透明基材としての役割を担うことも好ましい。

前記保護フィルムとしては、透明な高分子フィルムであればよく前記ウインドウフィルムの透明基材に使用される材料や添加剤と同じものが使用できる。また、エポキシ樹脂等のカチオン硬化組成物やアクリレート等のラジカル硬化組成物を塗布して硬化して得られるコーティング型の保護フィルムであってもよい。該保護フィルムは、必要により可塑剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、顔料や染料のような着色剤、蛍光増白剤、分散剤、熱安定剤、光安定剤、帯電防止剤、酸化防止剤、滑剤、溶剤等を含んでいてもよい。該保護フィルムの厚さは、好ましくは２００μｍ以下、より好ましくは１〜１００μｍである。保護フィルムの厚さが前記の範囲にあると、該フィルムの柔軟性が低下し難い傾向にある。

前記λ／４位相差板は、入射光の進行方向に直行する方向（フィルムの面内方向）にλ／４の位相差を与えるフィルムである。前記λ／４位相差板は、セルロース系フィルム、オレフィン系フィルム、ポリカーボネート系フィルム等の高分子フィルムを延伸することで製造される延伸型位相差板であってもよい。前記λ／４位相差板は、必要により位相差調整剤、可塑剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、顔料や染料のような着色剤、蛍光増白剤、分散剤、熱安定剤、光安定剤、帯電防止剤、酸化防止剤、滑剤、溶剤等を含んでいてもよい。
前記延伸型位相差板の厚さは、好ましくは２００μｍ以下、より好ましくは１〜１００μｍである。延伸型位相差板の厚さが前記の範囲にあると、該延伸型位相差板の柔軟性が低下し難い傾向にある。
さらに前記λ／４位相差板の他の一例としては、液晶組成物を塗布して形成する液晶塗布型位相差板が挙げられる。
前記液晶組成物は、ネマチック、コレステリック、スメクチック等の液晶状態を示す液晶性化合物を含む。前記液晶性化合物は、重合性官能基を有する。
前記液晶組成物は、さらに開始剤、溶剤、分散剤、レベリング剤、安定剤、界面活性剤、架橋剤、シランカップリング剤などを含むことができる。
前記液晶塗布型位相差板は、前記液晶偏光層と同様に、液晶組成物を下地上に塗布、硬化して液晶位相差層を形成することで製造することができる。液晶塗布型位相差板は、延伸型位相差板に比べて厚さを薄く形成することができる。前記液晶偏光層の厚さは、好ましくは０．５〜１０μｍ、より好ましくは１〜５μｍである。
前記液晶塗布型位相差板は基材から剥離して転写して積層することもできるし、前記基材をそのまま積層することもできる。前記基材が、保護フィルムや位相差板、ウインドウフィルムの透明基材としての役割を担うことも好ましい。

一般的には、短波長ほど複屈折が大きく長波長になるほど小さな複屈折を示す材料が多い。この場合には全可視光領域でλ／４の位相差を達成することはできないので、視感度の高い５６０ｎｍ付近に対してλ／４となるように、面内位相差は、好ましくは１００〜１８０ｎｍ、より好ましくは１３０〜１５０ｎｍとなるように設計される。通常とは逆の複屈折率波長分散特性を有する材料を用いた逆分散λ／４位相差板は、視認性が良好となる点で好ましい。このような材料としては、例えば延伸型位相差板は特開２００７−２３２８７３号公報等に、液晶塗布型位相差板は特開２０１０−３０９７９号公報等に記載されているものを用いることができる。
また、他の方法としてはλ／２位相差板と組合せることで広帯域λ／４位相差板を得る技術も知られている（例えば、特開平１０−９０５２１号公報など）。λ／２位相差板もλ／４位相差板と同様の材料方法で製造される。延伸型位相差板と液晶塗布型位相差板の組合せは任意であるが、どちらも液晶塗布型位相差板を用いることにより厚さを薄くすることができる。
前記円偏光板には斜め方向の視認性を高めるために、正のＣプレートを積層する方法が知られている（例えば、特開２０１４−２２４８３７号公報など）。正のＣプレートは、液晶塗布型位相差板であっても延伸型位相差板であってもよい。該位相差板の厚さ方向の位相差は、好ましくは−２００〜−２０ｎｍ、より好ましくは−１４０〜−４０ｎｍである。

＜タッチセンサ＞
本発明のフレキシブル表示装置は、上記の通り、タッチセンサを備えることが好ましい。タッチセンサは入力手段として用いられる。タッチセンサとしては、抵抗膜方式、表面弾性波方式、赤外線方式、電磁誘導方式、静電容量方式等様々な様式が挙げられ、好ましくは静電容量方式が挙げられる。
静電容量方式タッチセンサは活性領域及び前記活性領域の外郭部に位置する非活性領域に区分される。活性領域は表示パネルで画面が表示される領域（表示部）に対応する領域であって、使用者のタッチが感知される領域であり、非活性領域は表示装置で画面が表示されない領域（非表示部）に対応する領域である。タッチセンサはフレキシブルな特性を有する基板と、前記基板の活性領域に形成された感知パターンと、前記基板の非活性領域に形成され、前記感知パターンとパッド部を介して外部の駆動回路と接続するための各センシングラインを含むことができる。フレキシブルな特性を有する基板としては、前記ウインドウフィルムの透明基板と同様の材料が使用できる。

前記感知パターンは、第１方向に形成された第１パターン及び第２方向に形成された第２パターンを備えることができる。第１パターンと第２パターンとは互いに異なる方向に配置される。第１パターン及び第２パターンは、同一層に形成され、タッチされる地点を感知するためには、それぞれのパターンが電気的に接続されなければならない。第１パターンは複数の単位パターンが継ぎ手を介して互いに接続された形態であるが、第２パターンは複数の単位パターンがアイランド形態に互いに分離された構造になっているので、第２パターンを電気的に接続するためには別途のブリッジ電極が必要である。第２パターンの接続のための電極には、周知の透明電極を適用することができる。該透明電極の素材としては、例えば、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）、亜鉛酸化物（ＺｎＯ）、インジウム亜鉛スズ酸化物（ＩＺＴＯ）、インジウムガリウム亜鉛酸化物（ＩＧＺＯ）、カドミウムスズ酸化物（ＣＴＯ）、ＰＥＤＯＴ（ｐｏｌｙ（３，４−ｅｔｈｙｌｅｎｅｄｉｏｘｙｔｈｉｏｐｈｅｎｅ））、炭素ナノチューブ（ＣＮＴ）、グラフェン、金属ワイヤなどが挙げられ、好ましくはＩＴＯが挙げられる。これらは単独又は２種以上混合して使用できる。金属ワイヤに使用される金属は特に限定されず、例えば、銀、金、アルミニウム、銅、鉄、ニッケル、チタン、テレニウム、クロムなどが挙げられ、これらは単独又は２種以上混合して使用することができる。
ブリッジ電極は感知パターン上部に絶縁層を介して前記絶縁層上部に形成されることができ、基板上にブリッジ電極が形成されており、その上に絶縁層及び感知パターンを形成することができる。前記ブリッジ電極は感知パターンと同じ素材で形成することもでき、モリブデン、銀、アルミニウム、銅、パラジウム、金、白金、亜鉛、スズ、チタン又はこれらのうちの２種以上の合金で形成することもできる。
第１パターンと第２パターンは電気的に絶縁されなければならないので、感知パターンとブリッジ電極の間には絶縁層が形成される。該絶縁層は、第１パターンの継ぎ手とブリッジ電極との間にのみ形成することや、感知パターン全体を覆う層として形成することもできる。感知パターン全体を覆う層の場合、ブリッジ電極は絶縁層に形成されたコンタクトホールを介して第２パターンを接続することができる。

前記タッチセンサは、感知パターンが形成されたパターン領域と、感知パターンが形成されていない非パターン領域との間の透過率の差、具体的には、これらの領域における屈折率の差によって誘発される光透過率の差を適切に補償するための手段として基板と電極の間に光学調節層をさらに含むことができる。該光学調節層は、無機絶縁物質又は有機絶縁物質を含むことができる。光学調節層は光硬化性有機バインダー及び溶剤を含む光硬化組成物を基板上にコーティングして形成することができる。前記光硬化組成物は無機粒子をさらに含むことができる。前記無機粒子によって光学調節層の屈折率を高くすることができる。
前記光硬化性有機バインダーは、本発明の効果を損ねない範囲で、例えば、アクリレート系単量体、スチレン系単量体、カルボン酸系単量体などの各単量体の共重合体を含むことができる。前記光硬化性有機バインダーは、例えば、エポキシ基含有繰り返し単位、アクリレート繰り返し単位、カルボン酸繰り返し単位などの互いに異なる各繰り返し単位を含む共重合体であってもよい。
前記無機粒子としては、例えば、ジルコニア粒子、チタニア粒子、アルミナ粒子などが挙げられる。
前記光硬化組成物は、光重合開始剤、重合性モノマー、硬化補助剤などの各添加剤をさらに含むこともできる。

＜接着層＞
前記フレキシブル画像表示装置用積層体を形成する各層（ウインドウフィルム、円偏光板、タッチセンサ）並びに各層を構成するフィルム部材（直線偏光板、λ／４位相差板等）は接着剤によって接合することができる。該接着剤としては、水系接着剤、有機溶剤系、無溶剤系接着剤、固体接着剤、溶剤揮散型接着剤、湿気硬化型接着剤、加熱硬化型接着剤、嫌気硬化型、活性エネルギー線硬化型接着剤、硬化剤混合型接着剤、熱溶融型接着剤、感圧型接着剤（粘着剤）、再湿型接着剤等、通常使用されている接着剤等が使用でき、好ましくは水系溶剤揮散型接着剤、活性エネルギー線硬化型接着剤、粘着剤を使用できる。接着剤層の厚さは、求められる接着力等に応じて適宜調節することができ、好ましくは０．０１〜５００μｍ、より好ましくは０．１〜３００μｍである。前記フレキシブル画像表示装置用積層体には、複数の接着層が存在するが、それぞれの厚さや種類は、同じであっても異なっていてもよい。

前記水系溶剤揮散型接着剤としては、ポリビニルアルコール系ポリマー、でんぷん等の水溶性ポリマー、エチレン−酢酸ビニル系エマルジョン、スチレン−ブタジエン系エマルジョン等水分散状態のポリマーを主剤ポリマーとして使用することができる。前記主剤ポリマーと水とに加えて、架橋剤、シラン系化合物、イオン性化合物、架橋触媒、酸化防止剤、染料、顔料、無機フィラー、有機溶剤等を配合してもよい。前記水系溶剤揮散型接着剤によって接着する場合、前記水系溶剤揮散型接着剤を被接着層間に注入して被着層を貼合した後、乾燥させることで接着性を付与することができる。前記水系溶剤揮散型接着剤を用いる場合、その接着層の厚さは、好ましくは０．０１〜１０μｍ、より好ましくは０．１〜１μｍである。前記水系溶剤揮散型接着剤を複数層に用いる場合、それぞれの層の厚さや種類は同じであっても異なっていてもよい。

前記活性エネルギー線硬化型接着剤は、活性エネルギー線を照射して接着剤層を形成する反応性材料を含む活性エネルギー線硬化組成物の硬化により形成することができる。前記活性エネルギー線硬化組成物は、ハードコート組成物に含まれるものと同様のラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の少なくとも１種の重合物を含有することができる。前記ラジカル重合性化合物は、ハードコート組成物におけるラジカル重合性化合物と同じ化合物を用いることができる。
前記カチオン重合性化合物は、ハードコート組成物におけるカチオン重合性化合物と同じ化合物を用いることができる。
活性エネルギー線硬化組成物に用いられるカチオン重合性化合物としては、エポキシ化合物が特に好ましい。接着剤組成物としての粘度を下げるために単官能の化合物を反応性希釈剤として含むことも好ましい。

活性エネルギー線組成物は、粘度を低下させるために、単官能の化合物を含むことができる。該単官能の化合物としては、１分子中に１個の（メタ）アクリロイル基を有するアクリレート系単量体や、１分子中に１個のエポキシ基又はオキセタニル基を有する化合物、例えば、グリシジル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
活性エネルギー線組成物は、さらに重合開始剤を含むことができる。該重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤、ラジカル及びカチオン重合開始剤等が挙げられ、これらは適宜選択して用いられる。これらの重合開始剤は、活性エネルギー線照射及び加熱の少なくとも一種により分解されて、ラジカルもしくはカチオンを発生してラジカル重合とカチオン重合を進行させるものである。ハードコート組成物の記載の中で活性エネルギー線照射によりラジカル重合又はカチオン重合の内の少なくともいずれか開始することができる開始剤を使用することができる。
前記活性エネルギー線硬化組成物はさらに、イオン捕捉剤、酸化防止剤、連鎖移動剤、密着付与剤、熱可塑性樹脂、充填剤、流動粘度調整剤、可塑剤、消泡剤溶剤、添加剤、溶剤を含むことができる。前記活性エネルギー線硬化型接着剤によって２つの被接着層を接着する場合、前記活性エネルギー線硬化組成物を被接着層のいずれか一方又は両方に塗布後、貼合し、いずれかの被着層又は両方の被接着層に活性エネルギー線を照射して硬化させることにより、接着することができる。前記活性エネルギー線硬化型接着剤を用いる場合、その接着層の厚さは、好ましくは０．０１〜２０μｍ、より好ましくは０．１〜１０μｍである。前記活性エネルギー線硬化型接着剤を複数の接着層形成に用いる場合、それぞれの層の厚さや種類は同じであっても異なっていてもよい。

前記粘着剤としては、主剤ポリマーに応じて、アクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリコーン系粘着剤等に分類され何れを使用することもできる。粘着剤には主剤ポリマーに加えて、架橋剤、シラン系化合物、イオン性化合物、架橋触媒、酸化防止剤、粘着付与剤、可塑剤、染料、顔料、無機フィラー等を配合してもよい。前記粘着剤を構成する各成分を溶剤に溶解・分散させて粘着剤組成物を得て、該粘着剤組成物を基材上に塗布した後に乾燥させることで、粘着剤層接着層が形成される。粘着層は直接形成されてもよいし、別途基材に形成したものを転写することもできる。接着前の粘着面をカバーするためには離型フィルムを使用することも好ましい。前記活性エネルギー線硬化型接着剤を用いる場合、その接着層の厚さは、好ましくは０．１〜５００μｍ、より好ましくは１〜３００μｍである。前記粘着剤を複数層用いる場合には、それぞれの層の厚さや種類は同じであっても異なっていてもよい。

＜遮光パターン＞
前記遮光パターンは、前記フレキシブル画像表示装置のベゼル又はハウジングの少なくとも一部として適用することができる。遮光パターンによって前記フレキシブル画像表示装置の辺縁部に配置される配線が隠されて視認されにくくすることで、画像の視認性が向上する。前記遮光パターンは単層又は複層の形態であってもよい。遮光パターンのカラーは特に制限されることはなく、黒色、白色、金属色などの多様なカラーであってもよい。遮光パターンはカラーを具現するための顔料と、アクリル系樹脂、エステル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリウレタン、シリコーンなどの高分子で形成することができる。これらの単独又は２種類以上の混合物で使用することもできる。前記遮光パターンは、印刷、リソグラフィ、インクジェットなど各種の方法にて形成することができる。遮光パターンの厚さは、好ましくは１〜１００μｍ、より好ましくは２〜５０μｍである。また、遮光パターンの厚さ方向に傾斜等の形状を付与することも好ましい。

以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明する。本発明は以下の実施例によって制限を受けるものではなく、前記、後記の趣旨に適合し得る範囲で適当に変更を加えて実施することも勿論可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に包含される。

下記実施例及び比較例で得られる各層又は積層体を下記の方法で評価した。

基材（ｓ）の表面Ｓｉ比及び撥水層（ｒ）の表面フッ素比の測定
日本電子社製 ＪＦＳ−９０１０型を用い、励起Ｘ線：ＭｇＫα、Ｘ線出力は１１０Ｗとし、光電子脱出角度は４５°、パスエネルギー５０ｅＶにて、撥水層（ｒ）のフッ素（Ｆ１ｓ）、基材（ｓ）のケイ素の各種元素について、測定を行った。

算術平均高さＳａの測定
レーザー顕微鏡（ＯＬＳ４０００、オリンパス製）を用いて、積層体の撥水層（ｒ）の表面を拡大倍率２０倍で観察した。算術平均高さＳａはＩＳＯ２５１７８に準拠して評価した。算術平均高さＳａはＮ＝２の平均値とした。

接触角及び滑落角
得られた積層体の撥水層（ｒ）上に、３．０μＬの水滴を滴下し、接触角測定装置（協和界面科学社製、ＤＭ７００）を用い、θ／２法にて、液量:３．０μＬの水の接触角を測定した。
また、得られた積層体の撥水層（ｒ）上に、６．０μＬの水滴を滴下し、前記接触角測定装置（協和界面科学社製、ＤＭ７００）を用い、滑落法（水滴量：６．０μＬ、傾斜方法：連続傾斜、滑落検出：滑落後、滑落判定距離：０．２５ｍｍ）にて、積層体の撥水層（ｒ）面の動的撥水特性（滑落角）を測定した。

表面反射率
コニカミノルタ製測色計（ＣＭ−３７００Ａ、光源：Ｄ６５）を使用し、積層体の撥水層（ｒ）側表面で測定した入射角１２°及び反射角１２°における波長５３０ｎｍの分光反射率をＪＩＳ Ｚ８７０１の２度視野（Ｃ光源）により求めた。この値から、表面反射損失４．２％、裏面反射損失４．２％を差し引き、反射率を算出した。また、基材（ｓ）の中間層（ｃ）側表面での表面反射率も同様にして測定した。

耐摩耗試験
スチールウール♯００００（ボンスター社製）を具備したスチールウール試験機（大栄精機社製）を用い、スチールウールが積層体の表面（撥水層（ｒ））に接した状態で、荷重１０００ｇをかけて摩耗試験を行い、目視にて、剥がれ・傷が確認されるまで試験を繰り返し、剥がれ・傷が確認された際の試験回数で耐摩耗性を評価した。なお、剥がれ・傷の有無の確認は、照度１０００ルクスにて行った。

厚み測定
Ｎｉｋｏｎ社製、ＤＩＧＩＭＩＣＲＯ（型番：ＭＦＣ−１０１Ａ）を用いて基材（ｓ）の厚みを測定した。なお、いずれの実施例及び比較例においても、撥水層（ｒ）の厚みは数ｎｍ、中間層（ｃ）の厚みは約５〜３０ｎｍであった。

実施例１
有機ケイ素化合物（Ｃ）として下記式で示す、特開２０１２−１９７３３０号公報に記載のＮ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシランとクロロプロピルトリメトキシシランの反応物（商品名；Ｘ−１２−５２６３ＨＰ、信越化学工業株式会社製）を０．２５質量％、溶剤（Ｅ）としてヘキサンを９９．７５質量％混合した溶液を、室温で撹拌し、中間層（ｃ）形成用溶液を得た。

次に、基材（ｓ）として、厚み８４μｍのＡＲフィルムを用意した。前記ＡＲフィルムは、樹脂層の上に、真空蒸着法によりＳｉＯ₂及び金属酸化物（但し、ＳｉＯ₂以外）を交互に積層して最表面をＳｉＯ₂としたフィルムである。上述の方法で測定した基材（ｓ）の表面Ｓｉ比は３１．５原子％であった。前記ＡＲフィルムの表面を大気圧プラズマ処理によって活性化処理し、該活性化処理面に、前記中間層（ｃ）形成用溶液を、株式会社ＭＩＫＡＳＡ製ＯＰＴＩＣＯＡＴ ＭＳ−Ａ１００（スピンコーター）を用いて、塗布液量２００μｌ、回転スピード２０００ｒｐｍ、回転秒数２０秒の条件で塗布して中間層（ｃ）を得た。

次に、有機ケイ素化合物（Ａ）として、ダイキン工業株式会社製のオプツール（登録商標）ＵＦ５０３（有機ケイ素化合物（Ａ）を２０質量％と、溶媒としてＮｏｖｅｃ７２００を８０質量％含む）、有機ケイ素化合物（Ｂ）としてＦＡＳ１３Ｅ（Ｃ₆Ｆ₁₃−Ｃ₂Ｈ₄−Ｓｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）₃、東京化成工業株式会社製）、溶剤（Ｄ）としてＦＣ-３２８３（Ｃ₉Ｆ₂₁Ｎ、フロリナート、３Ｍ社製）を混合し、室温で所定の時間撹拌し、撥水層（ｒ）形成用溶液を得た。ここで、オプツール（登録商標）ＵＦ５０３は、パーフルオロポリエーテル構造を有する１価の基と加水分解性基とが、それぞれケイ素原子に結合している有機ケイ素化合物である。撥水層（ｒ）形成用溶液１００質量％中の有機ケイ素化合物（Ａ）の割合（固形分）は、０．０８５質量％であり、有機ケイ素化合物（Ｂ）の割合は０．０５質量％であった。撥水層（ｒ）形成用溶液を、中間層（ｃ）の上に株式会社アピロス製スプレーコーターを用いて塗布した。スプレーコートの条件は、スキャン速度：６００ｍｍ／ｓｅｃ、ピッチ：５ｍｍ、液量：６ｃｃ／ｍｉｎ、アトマイジングエアー：３５０ｋＰａ、ギャップ：７０ｍｍである。その後、８０℃で３０分焼成し、基材（ｓ）、中間層（ｃ）、撥水層（ｒ）をこの順で含む積層体を得た。

実施例２
基材（ｓ）を、表面Ｓｉ比が３１．３原子％であるＡＲフィルムに変更したこと以外は実施例１と同様にして、基材（ｓ）、中間層（ｃ）、撥水層（ｒ）をこの順で含む積層体を得た。

実施例３
溶剤（Ｅ）として、酢酸ブチルを用いたこと以外は実施例２と同様にして、基材（ｓ）、中間層（ｃ）、撥水層（ｒ）をこの順で含む積層体を得た。

実施例４
基材（ｓ）を、厚みが４５μｍのハードコートフィルムに変更したこと以外は実施例１と同様にして、基材（ｓ）、中間層（ｃ）、撥水層（ｒ）をこの順で含む積層体を得た。前記ハードコートフィルムは、ポリエチレンテレフタレートから構成される樹脂層に、表面Ｓｉ比が１．８原子％であるアクリル系ハードコート層が積層されたフィルムであり、実施例１と同様の大気圧プラズマ処理による活性化処理を、アクリル系ハードコート層の表面に施したものを用いた。

実施例５
有機ケイ素化合物（Ｃ）をＫＢＭ−９０３（信越化学工業株式会社製）に変更したこと、及び溶剤（Ｅ）として、酢酸ブチルを用いたこと以外は実施例１と同様にして、基材（ｓ）、中間層（ｃ）、撥水層（ｒ）をこの順で含む積層体を得た。

比較例１
基材（ｓ）を、厚みが６０μｍで、表面Ｓｉ比が０原子％であるアクリル系ハードコート層に変更したこと以外は実施例１と同様にして、基材（ｓ）、中間層（ｃ）、撥水層（ｒ）をこの順で含む積層体を得た。

比較例２
溶剤（Ｅ）をメチルエチルケトンに変更したこと以外は、比較例１と同様にして、基材（ｓ）、中間層（ｃ）、撥水層（ｒ）をこの順で含む積層体を得た。

実施例及び比較例で得られた積層体を、上記の方法で評価した結果を表１に示す。

本発明の積層体は、タッチパネルディスプレイ等の表示装置、光学素子、半導体素子、建築材料、ナノインプリント技術、太陽電池、自動車や建物の窓ガラス、調理器具などの金属製品、食器などのセラミック製品、プラスチック製の自動車部品等に好適に成膜することができ、産業上有用である。また、台所、風呂場、洗面台、鏡、トイレ周りの各部材の物品などにも好ましく用いられる。

Claims (7)

1. 基材（ｓ）、中間層（ｃ）、及び撥水層（ｒ）をこの順に備える積層体であって、以下の（１）及び（２）の要件を満足することを特徴とする積層体。
   （１）前記撥水層（ｒ）側表面で測定した入射角１２°及び反射角１２°における波長５３０ｎｍの分光反射率をＪＩＳ Ｚ８７０１の２度視野（Ｃ光源）により算出した反射率から表面反射損失及び裏面反射損失を差し引いた反射率が４．５％以下である。
   （２）前記積層体の厚みが５００μｍ以下である。
2. 更に、下記（３）の要件を満足する請求項１に記載の積層体。
   （３）前記撥水層（ｒ）側の表面フッ素元素比が３０原子％以上である。
3. 更に、下記（４）及び（５）の要件の少なくとも１つを満足する請求項１又は２に記載の積層体。
   （４）前記撥水層（ｒ）側の算術平均高さＳａが０．０３〜１．００μｍである。
   （５）前記撥水層（ｒ）側の水の滑落角が２５°以下である。
4. 前記基材（ｓ）の、前記中間層（ｃ）側の最表層の表面Ｓｉ比が１原子％以上である請求項１〜３のいずれかに記載の積層体。
5. 前記撥水層（ｒ）は、下記式（ａ１）で表される有機ケイ素化合物（Ａ）と下記式（ｂ１）で表される有機ケイ素化合物（Ｂ）の混合組成物（ｃａ）の硬化層である請求項１〜４のいずれかに記載の積層体。
   

   

   上記式（ａ１）中、
   Ｒｆ^a1は、両端が酸素原子である２価のパーフルオロポリエーテル構造であり、
   Ｒ¹¹、Ｒ¹²、及びＲ¹³は、それぞれ独立して炭素数１〜２０のアルキル基であり、Ｒ¹¹が複数存在する場合は複数のＲ¹¹がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ¹²が複数存在する場合は複数のＲ¹²がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ¹³が複数存在する場合は複数のＲ¹³がそれぞれ異なっていてもよく、
   Ｅ¹、Ｅ²、Ｅ³、Ｅ⁴、及びＥ⁵は、それぞれ独立して水素原子又はフッ素原子であり、Ｅ¹が複数存在する場合は複数のＥ¹がそれぞれ異なっていてもよく、Ｅ²が複数存在する場合は複数のＥ²がそれぞれ異なっていてもよく、Ｅ³が複数存在する場合は複数のＥ³がそれぞれ異なっていてもよく、Ｅ⁴が複数存在する場合は複数のＥ⁴がそれぞれ異なっていてもよく、Ｅ⁵が複数存在する場合は複数のＥ⁵がそれぞれ異なっていてもよく、
   Ｇ¹及びＧ²は、それぞれ独立して、シロキサン結合を有する２〜１０価のオルガノシロキサン基であり、
   Ｊ¹、Ｊ²、及びＪ³は、それぞれ独立して、加水分解性基又は−（ＣＨ₂）_e6−Ｓｉ（ＯＲ¹⁴）₃であり、ｅ６は１〜５であり、Ｒ¹⁴はメチル基又はエチル基であり、Ｊ¹が複数存在する場合は複数のＪ¹がそれぞれ異なっていてもよく、Ｊ²が複数存在する場合は複数のＪ²がそれぞれ異なっていてもよく、Ｊ³が複数存在する場合は複数のＪ³がそれぞれ異なっていてもよく、
   Ｌ¹及びＬ²は、それぞれ独立して、酸素原子、窒素原子、又はフッ素原子を含んでいてもよい炭素数１〜１２の２価の連結基であり、Ｌ¹が複数存在する場合は複数のＬ¹がそれぞれ異なっていてもよく、Ｌ²が複数存在する場合は複数のＬ²がそれぞれ異なっていてもよく、
   ｄ１１は、１〜９であり、
   ｄ１２は、０〜９であり、
   ａ１０及びａ１４は、それぞれ独立して０〜１０であり、
   ａ１１及びａ１５は、それぞれ独立して０又は１であり、
   ａ１２及びａ１６は、それぞれ独立して０〜９であり、
   ａ１３は、０又は１であり、
   ａ２１、ａ２２、及びａ２３は、それぞれ独立して０〜２であり、
   ｅ１、ｅ２、及びｅ３は、それぞれ独立して１〜３である。
   

   

   上記式（ｂ１）中、
   Ｒｆ^b10は、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１〜２０のアルキル基又はフッ素原子であり、
   Ｒ^b11、Ｒ^b12、Ｒ^b13及びＲ^b14は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数が１〜４のアルキル基であり、Ｒ^b11が複数存在する場合は複数のＲ^b11がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ^b12が複数存在する場合は複数のＲ^b12がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ^b13が複数存在する場合は複数のＲ^b13がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ^b14が複数存在する場合は複数のＲ^b14がそれぞれ異なっていてもよく、
   Ｒｆ^b11、Ｒｆ^b12、Ｒｆ^b13及びＲｆ^b14は、それぞれ独立して、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１〜２０のアルキル基又はフッ素原子であり、Ｒｆ^b11が複数存在する場合は複数のＲｆ^b11がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^b12が複数存在する場合は複数のＲｆ^b12がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^b13が複数存在する場合は複数のＲｆ^b13がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^b14が複数存在する場合は複数のＲｆ^b14がそれぞれ異なっていてもよく、
   Ｒ^b15は、炭素数が１〜２０のアルキル基であり、Ｒ^b15が複数存在する場合は複数のＲ^b15がそれぞれ異なっていてもよく、
   Ａ¹は、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＲ−、−ＮＲＣ（＝Ｏ）−、又は−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ−であり、前記Ｒは水素原子、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数１〜４の含フッ素アルキル基であり、Ａ¹が複数存在する場合は複数のＡ¹がそれぞれ異なっていてもよく、
   Ａ²は、加水分解性基であり、Ａ²が複数存在する場合は複数のＡ²がそれぞれ異なっていてもよく、
   ｂ１１、ｂ１２、ｂ１３、ｂ１４及びｂ１５は、それぞれ独立して０〜１００の整数であり、
   ｃは、１〜３の整数であり、
   Ｒｆ^b10−、−Ｓｉ（Ａ²）_c（Ｒ^b15）_3-c、ｂ１１個の−｛Ｃ（Ｒ^b11）（Ｒ^b12）｝−、ｂ１２個の−｛Ｃ（Ｒｆ^b11）（Ｒｆ^b12）｝−、ｂ１３個の−｛Ｓｉ（Ｒ^b13）（Ｒ^b14）｝−、ｂ１４個の−｛Ｓｉ（Ｒｆ^b13）（Ｒｆ^b14）｝−、ｂ１５個の−Ａ¹−は、Ｒｆ^b10−、−Ｓｉ（Ａ²）_c（Ｒ^b15）_3-cが末端となり、パーフルオロポリエーテル構造を形成せず、かつ−Ｏ−が−Ｏ−乃至−Ｆと連結しない限り、任意の順で並んで結合する。
6. 前記中間層（ｃ）は、下記式（ｃ１）〜（ｃ３）のいずれかで表される有機ケイ素化合物（Ｃ）の混合組成物（ｃｃ）の硬化層又は前記有機ケイ素化合物（Ｃ）の蒸着層である請求項１〜５のいずれかに記載の積層体。
   

   

   上記式（ｃ１）中、
   Ｒ^x11、Ｒ^x12、Ｒ^x13、Ｒ^x14は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数が１〜４のアルキル基であり、Ｒ^x11が複数存在する場合は複数のＲ^x11がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ^x12が複数存在する場合は複数のＲ^x12がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ^x13が複数存在する場合は複数のＲ^x13がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ^x14が複数存在する場合は複数のＲ^x14がそれぞれ異なっていてもよく、
   Ｒｆ^x11、Ｒｆ^x12、Ｒｆ^x13、Ｒｆ^x14は、それぞれ独立して、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１〜２０のアルキル基又はフッ素原子であり、Ｒｆ^x11が複数存在する場合は複数のＲｆ^x11がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^x12が複数存在する場合は複数のＲｆ^x12がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^x13が複数存在する場合は複数のＲｆ^x13がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^x14が複数存在する場合は複数のＲｆ^x14がそれぞれ異なっていてもよく、
   Ｒ^x15は、炭素数が１〜２０のアルキル基であり、Ｒ^x15が複数存在する場合は複数のＲ^x15がそれぞれ異なっていてもよく、
   Ｘ¹¹は、加水分解性基であり、Ｘ¹¹が複数存在する場合は複数のＸ¹¹がそれぞれ異なっていてもよく、
   Ｙ¹¹は、−ＮＨ−、又は−Ｓ−であり、Ｙ¹¹が複数存在する場合は複数のＹ¹¹がそれぞれ異なっていてもよく、
   Ｚ¹¹は、ビニル基、α−メチルビニル基、スチリル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、アミノ基、イソシアネート基、イソシアヌレート基、エポキシ基、ウレイド基、又はメルカプト基であり、
   ｐ１は、１〜２０の整数であり、ｐ２、ｐ３、ｐ４は、それぞれ独立して、０〜１０の整数であり、ｐ５は、１〜１０の整数であり、
   ｐ６は、１〜３の整数であり、
   Ｚ¹¹がアミノ基でない場合はＹ¹¹の少なくとも１つが−ＮＨ−であり、Ｙ¹¹が全て−Ｓ−である場合はＺ¹¹がアミノ基であり、
   Ｚ¹¹−、−Ｓｉ（Ｘ¹¹）_ｐ6（Ｒ^x15）_3-ｐ6、ｐ１個の−｛Ｃ（Ｒ^x11）（Ｒ^x12）｝−、ｐ２個の−｛Ｃ（Ｒｆ^x11）（Ｒｆ^x12）｝−、ｐ３個の−｛Ｓｉ（Ｒ^x13）（Ｒ^x14）｝−、ｐ４個の−｛Ｓｉ（Ｒｆ^x13）（Ｒｆ^x14）｝−、ｐ５個の−Ｙ¹¹−は、Ｚ¹¹−及び−Ｓｉ（Ｘ¹¹）_ｐ6（Ｒ^x15）_3-ｐ6が末端となり、−Ｏ−が−Ｏ−と連結しない限り、任意の順で並んで結合する。
   

   

   上記式（ｃ２）中、
   Ｒ^x20及びＲ^x21は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数が１〜４のアルキル基であり、Ｒ^x20が複数存在する場合は複数のＲ^x20がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ^x21が複数存在する場合は複数のＲ^x21がそれぞれ異なっていてもよく、
   Ｒｆ^x20及びＲｆ^x21は、それぞれ独立して、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１〜２０のアルキル基又はフッ素原子であり、Ｒｆ^x20が複数存在する場合は複数のＲｆ^x20がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^x21が複数存在する場合は複数のＲｆ^x21がそれぞれ異なっていてもよく、
   Ｒ^x22及びＲ^x23はそれぞれ独立して、炭素数が１〜２０のアルキル基であり、Ｒ^x22及びＲ^x23が複数存在する場合は複数のＲ^x22及びＲ^x23がそれぞれ異なっていてもよく、
   Ｘ²⁰及びＸ²¹はそれぞれ独立して、加水分解性基であり、Ｘ²⁰及びＸ²¹が複数存在する場合は複数のＸ²⁰及びＸ²¹がそれぞれ異なっていてもよく、
   ｐ２０は、それぞれ独立して１〜３０の整数であり、ｐ２１は、それぞれ独立して０〜３０の整数であり、ｐ２０又はｐ２１を付して括弧でくくられた繰り返し単位の少なくとも１つは、アミン骨格−ＮＲ¹⁰⁰−に置き換わっており、前記アミン骨格におけるＲ¹⁰⁰は水素原子又はアルキル基であり、
   ｐ２２及びｐ２３はそれぞれ独立して、１〜３の整数であり、
   ｐ２０個の−｛Ｃ（Ｒ^x20）（Ｒ^x21）｝−、ｐ２１個の−｛Ｃ（Ｒｆ^x20）（Ｒｆ^x21）｝−は、ｐ２０個又はｐ２１個が連続である必要はなく、任意の順で並んで結合し、両末端が−Ｓｉ（Ｘ²⁰）_ｐ22（Ｒ^x22）_3-ｐ22及び−Ｓｉ（Ｘ²¹）_ｐ23（Ｒ^x23）_3-ｐ23となる。
   

   

   上記式（ｃ３）中、
   Ｚ³¹、Ｚ³²は、それぞれ独立に、加水分解性基及びヒドロキシ基以外の、反応性官能基であり、
   Ｒ^x31、Ｒ^x32、Ｒ^x33、Ｒ^x34は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数が１〜４のアルキル基であり、Ｒ^x31が複数存在する場合は複数のＲ^x31がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ^x32が複数存在する場合は複数のＲ^x32がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ^x33が複数存在する場合は複数のＲ^x33がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒ^x34が複数存在する場合は複数のＲ^x34がそれぞれ異なっていてもよく、
   Ｒｆ^x31、Ｒｆ^x32、Ｒｆ^x33、Ｒｆ^x34は、それぞれ独立して、１個以上の水素原子がフッ素原子に置換された炭素数１〜２０のアルキル基又はフッ素原子であり、Ｒｆ^x31が複数存在する場合は複数のＲｆ^x31がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^x32が複数存在する場合は複数のＲｆ^x32がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^x33が複数存在する場合は複数のＲｆ^x33がそれぞれ異なっていてもよく、Ｒｆ^x34が複数存在する場合は複数のＲｆ^x34がそれぞれ異なっていてもよく、
   Ｙ³¹は、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ₃）−又は−Ｏ−であり、Ｙ³¹が複数存在する場合は複数のＹ³¹がそれぞれ異なっていてもよく、
   Ｘ³¹、Ｘ³²、Ｘ³³、Ｘ³⁴は、それぞれ独立に、−ＯＲ^c（Ｒ^cは、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、又はアミノＣ_1-3アルキルジＣ_1-3アルコキシシリル基である）であり、Ｘ³¹が複数存在する場合は複数のＸ³¹がそれぞれ異なっていてもよく、Ｘ³²が複数存在する場合は複数のＸ³²がそれぞれ異なっていてもよく、Ｘ³³が複数存在する場合は複数のＸ³³がそれぞれ異なっていてもよく、Ｘ³⁴が複数存在する場合は複数のＸ³⁴がそれぞれ異なっていてもよく、
   ｐ３１は、０〜２０の整数であり、ｐ３２、ｐ３３、ｐ３４は、それぞれ独立して、０〜１０の整数であり、ｐ３５は、０〜５の整数であり、ｐ３６は、１〜１０の整数であり、ｐ３７は０又は１であり、
   Ｚ³¹及びＺ³²の少なくとも一方がアミノ基であるか、又はＹ³¹の少なくとも一つが−ＮＨ−又は−Ｎ（ＣＨ₃）−であるという条件を満たし、かつ末端がＺ³¹−及びＺ³²−であり、−Ｏ−が−Ｏ−と連結しない限り、ｐ３１個の−｛Ｃ（Ｒ^x31）（Ｒ^x32）｝−、ｐ３２個の−｛Ｃ（Ｒｆ^x31）（Ｒｆ^x32）｝−、ｐ３３個の−｛Ｓｉ（Ｒ^x33）（Ｒ^x34）｝−、ｐ３４個の−｛Ｓｉ（Ｒｆ^x33）（Ｒｆ^x34）｝−、ｐ３５個の−Ｙ³¹−、ｐ３６個の−｛Ｓｉ（Ｘ³¹）（Ｘ³²）−Ｏ｝−、ｐ３７個の−｛Ｓｉ（Ｘ³³）（Ｘ³⁴）｝−が任意の順で並んで結合して構成される。
7. 請求項１〜６のいずれかに記載の積層体、偏光板、タッチセンサ、及び表示パネルを含むフレキシブル表示装置。