[go: up one dir, main page]

JP2020059664A - パーフルオロシクロアルケン化合物の製造方法 - Google Patents

パーフルオロシクロアルケン化合物の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2020059664A
JP2020059664A JP2018190994A JP2018190994A JP2020059664A JP 2020059664 A JP2020059664 A JP 2020059664A JP 2018190994 A JP2018190994 A JP 2018190994A JP 2018190994 A JP2018190994 A JP 2018190994A JP 2020059664 A JP2020059664 A JP 2020059664A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
compound represented
general formula
formula
perfluorocycloalkene
catalyst
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2018190994A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6753443B2 (ja
Inventor
友亮 江藤
Yusuke Eto
友亮 江藤
中村　新吾
Shingo Nakamura
新吾 中村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Daikin Industries Ltd
Original Assignee
Daikin Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority to JP2018190994A priority Critical patent/JP6753443B2/ja
Application filed by Daikin Industries Ltd filed Critical Daikin Industries Ltd
Priority to RU2021137864A priority patent/RU2021137864A/ru
Priority to CN201980066353.2A priority patent/CN112912360B/zh
Priority to KR1020217011885A priority patent/KR102737400B1/ko
Priority to PCT/JP2019/039726 priority patent/WO2020075729A1/ja
Priority to CN202410053061.8A priority patent/CN117924020A/zh
Priority to SG11202103673UA priority patent/SG11202103673UA/en
Priority to TW108136677A priority patent/TWI791907B/zh
Publication of JP2020059664A publication Critical patent/JP2020059664A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6753443B2 publication Critical patent/JP6753443B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
    • C07C17/35—Preparation of halogenated hydrocarbons by reactions not affecting the number of carbon or of halogen atoms in the reaction
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
    • C07C17/35—Preparation of halogenated hydrocarbons by reactions not affecting the number of carbon or of halogen atoms in the reaction
    • C07C17/358—Preparation of halogenated hydrocarbons by reactions not affecting the number of carbon or of halogen atoms in the reaction by isomerisation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C21/00—Acyclic unsaturated compounds containing halogen atoms
    • C07C21/22—Acyclic unsaturated compounds containing halogen atoms containing carbon-to-carbon triple bonds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C23/00—Compounds containing at least one halogen atom bound to a ring other than a six-membered aromatic ring
    • C07C23/02—Monocyclic halogenated hydrocarbons
    • C07C23/06—Monocyclic halogenated hydrocarbons with a four-membered ring
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
    • C23F1/10—Etching compositions
    • C23F1/12—Gaseous compositions
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
    • H01L21/302—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
    • H01L21/306—Chemical or electrical treatment, e.g. electrolytic etching
    • H01L21/3065—Plasma etching; Reactive-ion etching
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07B—GENERAL METHODS OF ORGANIC CHEMISTRY; APPARATUS THEREFOR
    • C07B61/00—Other general methods
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C2601/00—Systems containing only non-condensed rings
    • C07C2601/04—Systems containing only non-condensed rings with a four-membered ring

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)

Abstract

【課題】反応の転化率が高く、パーフルオロシクロアルケン化合物を高収率及び高選択率に得る。
【解決手段】CR1 2=CR2-CR3=CR4 2［式中、R1〜R4は同一又は異なって、フッ素原子又はパーフルオロアルキル基を示す。］で表されるパーフルオロアルカジエン化合物の環化反応を行うことで、
Figure 2020059664

［式中、R1〜R4は同一又は異なって、フッ素原子又はパーフルオロアルキル基を示す。］で表されるパーフルオロシクロアルケン化合物を得る。前記環化反応は、触媒存在下、気相流通連続式、又は触媒存在下且つ気相連続流通式にて行うことができる。
【選択図】なし

Description

本開示は、パーフルオロシクロアルケン化合物の製造方法に関する。
パーフルオロシクロアルケン化合物は、半導体用ドライエッチングガスの他、有機合成用ビルディングブロック等として期待される化合物であり、炭素−炭素二重結合を1つ有する環状化合物である。
このパーフルオロシクロアルケン化合物の製造方法として、例えば、非特許文献１では、バッチ反応でヘキサフルオロブタジエンを300℃で64時間加熱することでヘキサフルオロシクロブテンが47%の収率で得られている。
Journal of Fluorine Chemistry, 61 (1993) 57-83
本開示は、反応の転化率が高く、パーフルオロシクロアルケン化合物を高収率及び高選択率に得ることができる方法を提供することを目的とする。
本開示は、以下の構成を包含する。
項１．一般式（1）：
Figure 2020059664
［式中、R1〜R4は同一又は異なって、フッ素原子又はパーフルオロアルキル基を示す。］
で表されるパーフルオロシクロアルケン化合物の製造方法であって、
触媒存在下に、
一般式（2）：
CR1 2=CR2-CR3=CR4 2 （2）
［式中、R1〜R4は同一又は異なって、フッ素原子又はパーフルオロアルキル基を示す。］
で表されるパーフルオロアルカジエン化合物の環化反応を行う工程
を備える、製造方法。
項２．一般式（1）：
Figure 2020059664
［式中、R1〜R4は同一又は異なって、フッ素原子又はパーフルオロアルキル基を示す。］
で表されるパーフルオロシクロアルケン化合物の製造方法であって、
一般式（2）：
CR1 2=CR2-CR3=CR4 2 （2）
［式中、R1〜R4は同一又は異なって、フッ素原子又はパーフルオロアルキル基を示す。］
で表されるパーフルオロアルカジエン化合物の環化反応を気相連続流通式で行う工程
を備える、製造方法。
項３．一般式（1）：
Figure 2020059664
［式中、R1〜R4は同一又は異なって、フッ素原子又はパーフルオロアルキル基を示す。］
で表されるパーフルオロシクロアルケン化合物の製造方法であって、
触媒存在下に、
一般式（2）：
CR1 2=CR2-CR3=CR4 2 （2）
［式中、R1〜R4は同一又は異なって、フッ素原子又はパーフルオロアルキル基を示す。］
で表されるパーフルオロアルカジエン化合物の環化反応を気相連続流通式で行う工程
を備える、製造方法。
項４．前記触媒が、周期表第1族〜第12族に属する金属元素の少なくとも1種を含むフッ化物である、項１又は３に記載の製造方法。
項５．前記フッ化物が、アルカリ金属、アルカリ土類金属及び周期表第4族に属する金属元素よりなる群から選ばれる少なくとも1種を含むフッ化物である、項４に記載の製造方法。
項６．前記環化反応が、270℃以上で行われる、項１〜５のいずれか1項に記載の製造方法。
項７．前記環化反応工程が、前記一般式（1）で表されるパーフルオロシクロアルケン化合物の他、一般式（3）：
CR1 2R2-C≡C-CR3R4 2 （3）
［式中、R1〜R4は前記に同じである。］
で表されるパーフルオロアルキン化合物も製造する工程である、項１〜６のいずれか1項に記載の製造方法。
項８．一般式（3）：
CR1 2R2-C≡C-CR3R4 2 （3）
［式中、R1〜R4は同一又は異なって、フッ素原子又はパーフルオロアルキル基を示す。］
で表されるパーフルオロアルキン化合物の製造方法であって、
項１〜７のいずれか1項に記載の製造方法により副生されたパーフルオロシクロアルケン化合物を基質として用いて、前記パーフルオロアルカジエン化合物を得る工程を備える、製造方法。
項９．一般式（1）：
Figure 2020059664
［式中、R1〜R4は同一又は異なって、フッ素原子又はパーフルオロアルキル基を示す。］
で表されるパーフルオロシクロアルケン化合物と、
一般式（3）：
CR1 2R2-C≡C-CR3R4 2 （3）
［式中、R1〜R4は前記に同じである。］
で表されるパーフルオロアルキン化合物とを含有する組成物であって、
組成物全量を100モル%として、前記一般式（1）で表されるパーフルオロシクロアルケン化合物の含有量が60〜99.9モル%である、組成物。
項１０．エッチングガス又は有機合成用ビルディングブロックとして用いられる、項９に記載の組成物。
本開示によれば、反応の転化率が高く、パーフルオロシクロアルケン化合物を高収率及び高選択率に得ることができる。
本明細書において、「含有」は、「含む（comprise）」、「実質的にのみからなる（consist essentially of）」、及び「のみからなる（consist of）」のいずれも包含する概念である。また、本明細書において、数値範囲を「A〜B」で示す場合、A以上B以下を意味する。
１．パーフルオロシクロアルケン化合物の製造方法（その１：触媒存在下）
本開示のパーフルオロシクロアルケン化合物の製造方法は、一般式（1）：
Figure 2020059664
［式中、R1〜R4は同一又は異なって、フッ素原子又はパーフルオロアルキル基を示す。］
で表されるパーフルオロシクロアルケン化合物の製造方法であって、
触媒存在下に、
一般式（2）：
CR1 2=CR2-CR3=CR4 2 （2）
［式中、R1〜R4は同一又は異なって、フッ素原子又はパーフルオロアルキル基を示す。］
で表されるパーフルオロアルカジエン化合物の環化反応を行う工程
を備える。
従来は、非特許文献１に示されているように、300℃と高温で反応させた場合であっても、パーフルオロシクロアルケン化合物の収率は47%に過ぎず十分とは言えないうえに加熱条件によってはフルオロシクロアルケン化合物を製造できない例も記載されており、収率の改善は困難であった。本開示においては、反応の転化率が高く、パーフルオロシクロアルケン化合物を高収率及び高選択率に得ることができる。
また、本開示において、連続式の場合は特に経済的に有利である。連続式の場合は原料を一括仕込みするバッチ式と比較して、原料が常に供給されるため時間の経過とともに原料濃度が減少することなく速い反応速度を維持できる。よって単位時間当たりにおける高い生産量を達成できる。
一般式（1）及び（2）において、R1〜R4で示されるパーフルオロアルキル基としては、特に制限されず、炭素数1〜6（特に1〜4）のパーフルオロアルキル基が挙げられ、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基等が挙げられる。
一般式（1）及び（2）において、R1〜R4としては、反応の転化率、得られるパーフルオロシクロアルケン化合物の高収率及び高選択率等の観点から、いずれもフッ素原子であることが好ましい。なお、R1〜R4は同一でも異なっていてもよい。
以上から、製造しようとする一般式（1）で表されるパーフルオロシクロアルケン化合物は、例えば、
Figure 2020059664
等が挙げられる。
また、以上のような条件を満たす一般式（2）で表されるパーフルオロアルカジエン化合物としては、例えば、CF2=CFCF=CF2、CF2=CFCF=CFCF3、CF3CF=CFCF=CFCF3、CF(CF3)=CFCF=CF2、C(CF3)2=CFCF=CF2、CF(CF3)=CFCF=CF(CF3)、C(CF3)2=CFCF=CF(CF3)、C(CF3)2=CFCF=C(CF3)2、CF2=C(CF3)C(CF3)=CF2等が挙げられる。これらの一般式（2）で表されるパーフルオロアルカジエン化合物は、単独で用いることもでき、2種以上を組合せて用いることもできる。このようなパーフルオロアルカジエン化合物は、公知又は市販品を採用することができる。また、特開２００１−１９２３４５号公報等の常法にしたがって合成することも可能である。
本開示においては、環化反応の触媒としては、特に制限されないが、反応の転化率が特に高く、パーフルオロシクロアルケン化合物をより高収率及び高選択率に得ることができる観点から、周期表第1族〜第12族に属する金属元素の少なくとも1種を含むフッ化物が好ましく、アルカリ金属、アルカリ土類金属、周期表第4族に属する金属元素等の少なくとも1種を含むフッ化物が好ましく、ナトリウム、マグネシウム、ジルコニウム等の少なくとも1種を含むフッ化物がさらに好ましい。環化反応の触媒には、上記した金属元素が1種のみ含まれていてもよいし、2種以上が含まれていてもよい。
このような条件を満たす環化反応の触媒としては、例えば、NaF、MgF2、ZrF4等が挙げられる。これらの環化反応の触媒として使用するフッ化物は単独で用いることもでき、2種以上を組合せて用いることもできる。
以上のような環化反応の触媒の使用量は触媒量とすることができ、特に制限されないが、反応の転化率が特に高く、パーフルオロシクロアルケン化合物をより高収率及び高選択率に得ることができる観点から、時間あたりのパーフルオロアルカジエン化合物供給速度に対する触媒重量比（W/F）は0.1〜200g・sec./ccが好ましく、0.5〜150g・sec./ccがより好ましい。なお、環化反応の触媒を複数使用する場合は、その合計量が上記範囲内となるように調整することが好ましい。上記のW/Fは特に気相反応の場合の触媒量を特定したものであるが、液相反応を採用する場合も、フッ化物の使用量は触媒量とすることができ、適宜調整することができる。
本開示の製造方法において、環化反応工程は、基質である一般式（2）で表されるパーフルオロアルカジエン化合物と、環化反応の触媒以外にも、伝熱や触媒濃度を薄める目的で、金属ニッケル（特に金属ニッケルビーズ）や活性炭等を、W/Fが0.1〜200g・sec./cc、特に0.5〜150 g・sec./ccになるように使用することも可能である。上記のW/Fは特に気相反応の場合の使用量を特定したものであるが、液相反応を採用する場合も、金属ニッケルや活性炭の使用量は適宜調整することができる。
本開示の製造方法は、液相中で行うことも可能であるが、気相中、特に固定床反応器を用いた気相連続流通式で行うことが好ましい。気相連続流通式で行う場合は、装置、操作等を簡略化できるとともに、経済的に有利である。
本開示の製造方法において、環化反応工程は加熱して行われることが好ましい。具体的には、系中に基質である一般式（2）で表されるパーフルオロアルカジエン化合物と、環化反応の触媒とを接触させた後に加熱することが好ましい。この際の加熱温度は、反応の転化率が特に高く、パーフルオロシクロアルケン化合物をより高収率及び高選択率に得ることができる観点から、270℃以上が好ましく、320〜800℃がより好ましい。
本開示の製造方法において、環化反応工程における雰囲気は特に制限はなく、例えば、反応雰囲気は不活性ガス雰囲気（窒素ガス雰囲気、アルゴンガス雰囲気等）が好ましく、反応時間（最高到達温度における維持時間）は反応が十分に進行する程度とすることができる。
本開示の製造方法においては、一般式（1）で表されるパーフルオロシクロアルケン化合物のみならず、一般式（3）：
CR1 2R2-C≡C-CR3R4 2 （3）
［式中、R1〜R4は前記に同じである。］
で表されるパーフルオロアルキン化合物も製造され得る。なお、一般式（3）で表されるパーフルオロアルキン化合物の詳細については後述する。
このため、反応終了後は、必要に応じて常法にしたがって精製処理を行い、一般式（1）で表されるパーフルオロシクロアルケン化合物を得ることができる。
また、本開示の製造方法により製造された一般式（1）で表されるパーフルオロシクロアルケン化合物については、必要に応じて常法にしたがって精製処理を行った後に、当該パーフルオロシクロアルケン化合物を基質として用いて、一般式（3）で表されるパーフルオロアルキン化合物を得ることも可能である。この際の方法や条件等については、特開２０１４−０５８４８８号公報に記載のものを採用することができる。好ましい具体例も採用することができる。
具体的には、一般式（1）で表されるパーフルオロシクロアルケン化合物を基質として用いて、異性化触媒を用いた異性化により一般式（3）で表されるパーフルオロアルキン化合物を得ることができる。この工程は、気相中、特に固定床反応器を用いた気相連続流通式で行うことができるが、バッチ式反応により行うことも可能である。
異性化反応における触媒として、低吸湿性であるため大気中で扱いやすく、高活性、高選択率の得られるフッ化ナトリウムを使用することが好ましい。フッ化ナトリウムそのものを触媒とする場合は、粉末状でもよいが、ペレット状の方が気相連続流通式反応に好ましい。また、フッ化ナトリウムをアルミナ、多孔性フッ化アルミニウム、活性炭、シリカ、ゼオライト等の担体に担持させたものを使用することも可能である。また、フッ化ナトリウムに他の成分を混合して使用することも可能である。
異性化反応の温度は、通常200〜800℃が好ましく、400〜600℃がより好ましい。
２．パーフルオロシクロアルケン化合物の製造方法（その２：気相下）
本開示の製造方法においては、一般式（1）：
Figure 2020059664
［式中、R1〜R4は同一又は異なって、フッ素原子又はパーフルオロアルキル基を示す。］
で表されるパーフルオロシクロアルケン化合物の製造方法であって、
一般式（2）：
CR1 2=CR2-CR3=CR4 2 （2）
［式中、R1〜R4は同一又は異なって、フッ素原子又はパーフルオロアルキル基を示す。］
で表されるパーフルオロアルカジエン化合物の環化反応を気相下で行う工程
を備える方法によっても、パーフルオロシクロアルケン化合物を製造することができる。この方法においても、反応の転化率が高く、パーフルオロシクロアルケン化合物を高収率及び高選択率に得ることができる。
一般式（1）で表されるパーフルオロシクロアルケン化合物及び一般式（2）で表されるパーフルオロアルカジエン化合物としては、上記「１．パーフルオロシクロアルケン化合物の製造方法（その１：触媒存在下）」で説明したものを採用できる。好ましい具体例も同様である。
本開示においては、環化反応の触媒を使用することが好ましい。このような触媒としては、反応の転化率が特に高く、パーフルオロシクロアルケン化合物をより高収率及び高選択率に得ることができる観点から、周期表第1族〜第12族に属する金属元素の少なくとも1種を含むフッ化物が好ましく、アルカリ金属、アルカリ土類金属、周期表第4族に属する金属元素等の少なくとも1種を含むフッ化物が好ましく、ナトリウム、マグネシウム、ジルコニウム等の少なくとも1種を含むフッ化物がさらに好ましい。環化反応の触媒には、上記した金属元素が1種のみ含まれていてもよいし、2種以上が含まれていてもよい。このような環化反応の触媒は、上記「１．パーフルオロシクロアルケン化合物の製造方法（その１：触媒存在下）」で説明したものを採用できる。好ましい具体例や含有量も同様である。触媒を使用する場合、その使用量は触媒量とすることができ、特に制限されないが、反応の転化率が特に高く、パーフルオロシクロアルケン化合物をより高収率及び高選択率に得ることができる観点から、時間あたりのパーフルオロアルカジエン化合物供給速度に対する触媒重量比（W/F）は0.1〜200g・sec./ccが好ましく、0.5〜150 g・sec./ccがより好ましい。なお、環化反応の触媒を複数使用する場合は、その合計量が上記範囲内となるように調整することが好ましい。
本開示の製造方法において、環化反応工程は、基質である一般式（2）で表されるパーフルオロアルカジエン化合物と、環化反応の触媒以外にも、伝熱や触媒濃度を薄める目的で、金属ニッケル（特に金属ニッケルビーズ）や活性炭等を、W/Fが0.1〜200g・sec./cc、特に0.5〜150g・sec./ccになるように使用することも可能である。
本開示の製造方法は、気相下、好ましくは固定床反応器を用いた気相連続流通式で行う。気相連続流通式で行う場合は、装置、操作等を簡略化できるとともに、経済的に有利である。
本開示の製造方法において、環化反応工程は加熱して行われることが好ましい。具体的には、基質である一般式（2）で表されるパーフルオロアルカジエン化合物と、必要に応じて環化反応の触媒とを接触させた後に加熱することが好ましい。この際の加熱温度は、反応の転化率が特に高く、パーフルオロシクロアルケン化合物をより高収率及び高選択率に得ることができる観点から、270℃以上が好ましく、280〜800℃がより好ましい。なお、加熱温度については、触媒を使用しない場合は280〜800℃が特に好ましく、触媒を使用する場合は320〜800℃が特に好ましい。
本開示の製造方法において、環化反応工程における雰囲気は特に制限はなく、例えば、反応雰囲気は不活性ガス雰囲気（窒素ガス雰囲気、アルゴンガス雰囲気等）が好ましく、反応時間（最高到達温度における維持時間）は反応が十分に進行する程度とすることができる。
本開示の製造方法においては、一般式（1）で表されるパーフルオロシクロアルケン化合物のみならず、一般式（3）：
CR1 2R2-C≡C-CR3R4 2 （3）
［式中、R1〜R4は前記に同じである。］
で表されるパーフルオロアルキン化合物も製造され得る。なお、一般式（3）で表されるパーフルオロアルキン化合物の詳細については後述する。
このため、反応終了後は、必要に応じて常法にしたがって精製処理を行い、一般式（1）で表されるパーフルオロシクロアルケン化合物を得ることができる。
また、本開示の製造方法により製造された一般式（1）で表されるパーフルオロシクロアルケン化合物については、必要に応じて常法にしたがって精製処理を行った後に、当該パーフルオロシクロアルケン化合物を基質として用いて、一般式（3）で表されるパーフルオロアルキン化合物を得ることも可能である。この際の方法や条件等については、上記したものを採用できる。
３．パーフルオロシクロアルケン化合物の製造方法（その３：触媒存在下且つ気相下）
本開示の製造方法においては、一般式（1）：
Figure 2020059664
［式中、R1〜R4は同一又は異なって、フッ素原子又はパーフルオロアルキル基を示す。］
で表されるパーフルオロシクロアルケン化合物の製造方法であって、
触媒存在下に、
一般式（2）：
CR1 2=CR2-CR3=CR4 2 （2）
［式中、R1〜R4は同一又は異なって、フッ素原子又はパーフルオロアルキル基を示す。］
で表されるパーフルオロアルカジエン化合物の環化反応を気相下で行う工程
を備える方法によっても、パーフルオロシクロアルケン化合物を製造することができる。この方法においても、反応の転化率が高く、パーフルオロシクロアルケン化合物を高収率及び高選択率に得ることができる。
一般式（1）で表されるパーフルオロシクロアルケン化合物、一般式（2）で表されるパーフルオロアルカジエン化合物及び触媒としては、上記「１．パーフルオロシクロアルケン化合物の製造方法（その１：触媒存在下）」で説明したものを採用できる。好ましい具体例も同様である。
本開示の製造方法において、環化反応工程は、基質である一般式（2）で表されるパーフルオロアルカジエン化合物と、環化反応の触媒以外にも、伝熱や触媒濃度を薄める目的で、金属ニッケル（特に金属ニッケルビーズ）や活性炭等を、W/Fが0.1〜200g・sec./cc、特に0.5〜150g・sec./ccになるように使用することも可能である。
本開示の製造方法は、気相下、好ましくは固定床反応器を用いた気相連続流通式で行う。気相連続流通式で行う場合は、装置、操作等を簡略化できるとともに、経済的に有利である。
本開示の製造方法において、環化反応工程は加熱して行われることが好ましい。具体的には、基質である一般式（2）で表されるパーフルオロアルカジエン化合物と、環化反応の触媒とを接触させた後に加熱することが好ましい。この際の加熱温度は、反応の転化率が特に高く、パーフルオロシクロアルケン化合物をより高収率及び高選択率に得ることができる観点から、270℃以上が好ましく、320〜800℃がより好ましい。
本開示の製造方法において、環化反応工程における雰囲気は特に制限はなく、例えば、反応雰囲気は不活性ガス雰囲気（窒素ガス雰囲気、アルゴンガス雰囲気等）が好ましく、反応時間（最高到達温度における維持時間）は反応が十分に進行する程度とすることができる。
本開示の製造方法においては、一般式（1）で表されるパーフルオロシクロアルケン化合物のみならず、一般式（3）：
CR1 2R2-C≡C-CR3R4 2 （3）
［式中、R1〜R4は前記に同じである。］
で表されるパーフルオロアルキン化合物も製造され得る。なお、一般式（3）で表されるパーフルオロアルキン化合物の詳細については後述する。
このため、反応終了後は、必要に応じて常法にしたがって精製処理を行い、一般式（1）で表されるパーフルオロシクロアルケン化合物を得ることができる。
また、本開示の製造方法により製造された一般式（1）で表されるパーフルオロシクロアルケン化合物については、必要に応じて常法にしたがって精製処理を行った後に、当該パーフルオロシクロアルケン化合物を基質として用いて、一般式（3）で表されるパーフルオロアルキン化合物を得ることも可能である。この際の方法や条件等については、上記したものを採用できる。
４．パーフルオロシクロアルケン組成物
以上のようにして、一般式（1）で表されるパーフルオロシクロアルケン化合物を得ることができるが、上記のように、一般式（1）で表されるパーフルオロアルカジエン化合物と、一般式（3）：
CR1 2R2-C≡C-CR3R4 2 （3）
［式中、R1〜R4は前記に同じである。］
で表されるパーフルオロアルキン化合物とを含有する、パーフルオロシクロアルケン組成物の形で得られることもある。この本開示のパーフルオロシクロアルケン組成物において、一般式（1）で表されるパーフルオロシクロアルケン化合物は単独で用いることもでき、2種以上を組合せて用いることもできる。
一般式（3）で表されるパーフルオロアルキン化合物としては、例えば、CF3C≡CCF3、CF3C≡CCF2CF3、CF3C≡CCF(CF3)2、CF3C≡CC(CF3)3、CF3CF2C≡CCF2CF3、CF3CF2C≡CCF(CF3)2、CF3CF2C≡CC(CF3)3、(CF3)2CFC≡CCF(CF3)2、(CF3)2CFC≡CC(CF3)3、(CF3)3CC≡CC(CF3)3等が挙げられる。一般式（3）で表されるパーフルオロアルキン化合物は単独で用いることもでき、2種以上を組合せて用いることもできる。
この本開示のパーフルオロシクロアルケン組成物において、本開示のパーフルオロシクロアルケン組成物の総量を100モル%として、一般式（1）で表されるパーフルオロシクロアルケン化合物の含有量は60〜99.9モル%が好ましく、70〜99.8モル%がより好ましく、80〜99.7モル%がさらに好ましい。また、一般式（3）で表されるパーフルオロアルキン化合物の含有量は、同様に本開示のパーフルオロシクロアルケン組成物の総量を100モル%として、0.1〜40モル%が好ましく、0.2〜30モル%がより好ましく、0.3〜20モル%がさらに好ましい。
また、本開示の製造方法によれば、上記一般式（1）で表されるパーフルオロシクロアルケン化合物及び一般式（3）で表されるパーフルオロアルキン化合物以外にも、
一般式（4A）：
CR1 2=CR2-CFR3-CFR4 2 （4A）
［式中、R1〜R4は前記に同じである。］
で表されるパーフルオロアルケン化合物や、
一般式（4B）：
CFR1 2-CR2=CH-CFR4 2 （4B）
［式中、R1〜R4は前記に同じである。］
で表されるフルオロアルケン化合物
等も製造され得る。
このため、本開示のパーフルオロシクロアルケン組成物には、一般式（4A）で表されるパーフルオロアルケン化合物や、一般式（4B）で表されるフルオロアルケン化合物も含まれ得る。本開示のパーフルオロシクロアルケン組成物中に一般式（4A）で表されるパーフルオロアルケン化合物が含まれる場合、その含有量は、エッチャント性能の点から、パーフルオロシクロアルケン組成物の総量を100モル%として、0.05モル%以下が好ましく、0.03モル%以下がより好ましい。また、製造コストの点から、0.0001モル%以上が好ましく、0.0002モル%以上がより好ましい。また、本開示のパーフルオロシクロアルケン組成物中に一般式（4B）で表されるフルオロアルケン化合物が含まれる場合、その含有量は、エッチャント性能の点から、パーフルオロシクロアルケン組成物の総量を100モル%として、0.3モル%以下が好ましく、0.2モル%以下がより好ましい。また、製造コストの点から、0.001モル%以上が好ましく、0.002モル%以上がより好ましい。
なお、本開示の製造方法によれば、パーフルオロシクロアルケン組成物として得られた場合であっても、上記のように一般式（1）で表されるパーフルオロシクロアルケン化合物を特に高収率且つ高選択率で得ることができるため、パーフルオロシクロアルケン組成物中の一般式（1）で表されるパーフルオロシクロアルケン化合物以外の成分を少なくすることが可能であるため、一般式（1）で表されるパーフルオロシクロアルケン化合物を得るための精製の労力を削減することができる。
このような本開示のパーフルオロシクロアルケン組成物は、上記したパーフルオロシクロアルケン化合物単独の場合と同様に、半導体、液晶等の最先端の微細構造を形成するためのエッチングガスの他、有機合成用ビルディングブロック等の各種用途に有効利用できる。なお、有機合成用ビルディングブロックとは、反応性が高い骨格を有する化合物の前駆体となり得る物質を意味する。例えば、本開示の本開示のパーフルオロシクロアルケン組成物とCF3Si(CH3)3等の含フッ素有機ケイ素化合物とを反応させると、CF3基等のフルオロアルキル基を導入して洗浄剤や含フッ素医薬中間体となり得る物質に変換することが可能である。
以上、本開示の実施形態を説明したが、特許請求の範囲の趣旨及び範囲から逸脱することなく、形態や詳細の多様な変更が可能である。
以下に実施例を示し、本開示の特徴を明確にする。本開示はこれら実施例に限定されるものではない。
実施例1：触媒NaF；W/F= 30g・sec./cc；350℃
触媒として、フッ化ナトリウム(NaF)を金属製管状反応器に充填した。この反応管を350℃まで加熱してW/Fが30g・sec./ccとなるようにヘキサフルオロブタジエン(CF2CF=CFCF2)を反応管に供給することで、気相連続流通式で反応を進行させた。約1時間経過後、反応管からの流出ガスをガスクロトマトグラフィーで分析したところ、転化率は99.2モル%であり、各成分の選択率は、1,2,3,3,4,4-ヘキサフルオロ-1-シクロブテン（c-C4F6）が98.1モル%、1,1,1,4,4,4-ヘキサフルオロ-2-ブチン（CF3C≡CCF3）が1.60モル%、1,1,2,3,3,4,4,4-オクタフルオロ-1-ブテン（CF2=CFCF2CF3）が0.00272モル%（E体及びZ体の合計量）、1,1,1,2,4,4,4-ヘプタフルオロ-2-ブテン（CF3CF=CHCF3）が0.0492モル%（E体及びZ体の合計量）、その他副生成物が合計0.245モル%であった。
実施例2：触媒NaF；W/F= 30g・sec./cc；400℃
加熱温度を400℃としたこと以外は実施例1と同様に反応を進行させた。約1時間経過後、反応管からの流出ガスをガスクロトマトグラフィーで分析したところ、転化率は99.3モル%であり、各成分の選択率は、1,2,3,3,4,4-ヘキサフルオロ-1-シクロブテン（c-C4F6）が98.3モル%、1,1,1,4,4,4-ヘキサフルオロ-2-ブチン（CF3C≡CCF3）が0.696モル%、1,1,2,3,3,4,4,4-オクタフルオロ-1-ブテン（CF2=CFCF2CF3）が0.00215モル%（E体及びZ体の合計量）、1,1,1,2,4,4,4-ヘプタフルオロ-2-ブテン（CF3CF=CHCF3）が0.0410モル%（E体及びZ体の合計量）、その他副生成物が合計0.956モル%であった。
実施例3：触媒NaF；W/F= 90g・sec./cc；400℃
W/Fを90g・sec./ccとし、加熱温度を400℃としたこと以外は実施例1と同様に反応を進行させた。約1時間経過後、反応管からの流出ガスをガスクロトマトグラフィーで分析したところ、転化率は98.9モル%であり、各成分の選択率は、1,2,3,3,4,4-ヘキサフルオロ-1-シクロブテン（c-C4F6）が98.3モル%、1,1,1,4,4,4-ヘキサフルオロ-2-ブチン（CF3C≡CCF3）が0.941モル%、1,1,2,3,3,4,4,4-オクタフルオロ-1-ブテン（CF2=CFCF2CF3）が0.0238モル%（E体及びZ体の合計量）、1,1,1,2,4,4,4-ヘプタフルオロ-2-ブテン（CF3CF=CHCF3）が0.0391モル%（E体及びZ体の合計量）、その他副生成物が合計0.695モル%であった。
実施例4：触媒MgF 2 ；W/F= 30g・sec./cc；350℃
触媒としてMgF2を使用したこと以外は実施例1と同様に反応を進行させた。約1時間経過後、反応管からの流出ガスをガスクロトマトグラフィーで分析したところ、転化率は99.7モル%であり、各成分の選択率は、1,2,3,3,4,4-ヘキサフルオロ-1-シクロブテン（c-C4F6）が98.3モル%、1,1,1,4,4,4-ヘキサフルオロ-2-ブチン（CF3C≡CCF3）が1.21モル%、1,1,2,3,3,4,4,4-オクタフルオロ-1-ブテン（CF2=CFCF2CF3）が0.00220モル%（E体及びZ体の合計量）、1,1,1,2,4,4,4-ヘプタフルオロ-2-ブテン（CF3CF=CHCF3）が0.0440モル%（E体及びZ体の合計量）、その他副生成物が合計0.414モル%であった。
実施例5：触媒MgF 2 ；W/F= 30g・sec./cc；400℃
触媒としてMgF2を使用し、加熱温度を400℃としたこと以外は実施例1と同様に反応を進行させた。約1時間経過後、反応管からの流出ガスをガスクロトマトグラフィーで分析したところ、転化率は99.8モル%であり、各成分の選択率は、1,2,3,3,4,4-ヘキサフルオロ-1-シクロブテン（c-C4F6）が99.0モル%、1,1,1,4,4,4-ヘキサフルオロ-2-ブチン（CF3C≡CCF3）が0.340モル%、1,1,2,3,3,4,4,4-オクタフルオロ-1-ブテン（CF2=CFCF2CF3）が0.00190モル%（E体及びZ体の合計量）、1,1,1,2,4,4,4-ヘプタフルオロ-2-ブテン（CF3CF=CHCF3）が0.00440モル%（E体及びZ体の合計量）、その他副生成物が合計0.654モル%であった。
実施例6：触媒ZrF 4 ；W/F=15g・sec./cc；350℃
触媒としてZrF4を使用し、W/Fを15g・sec./ccとしたこと以外は実施例1と同様に反応を進行させた。約1時間経過後、反応管からの流出ガスをガスクロトマトグラフィーで分析したところ、転化率は99.1モル%であり、各成分の選択率は、1,2,3,3,4,4-ヘキサフルオロ-1-シクロブテン（c-C4F6）が95.3モル%、1,1,1,4,4,4-ヘキサフルオロ-2-ブチン（CF3C≡CCF3）が3.71モル%、1,1,2,3,3,4,4,4-オクタフルオロ-1-ブテン（CF2=CFCF2CF3）が0.0163モル%（E体及びZ体の合計量）、1,1,1,2,4,4,4-ヘプタフルオロ-2-ブテン（CF3CF=CHCF3）が0.0851モル%（E体及びZ体の合計量）、その他副生成物が合計0.923モル%であった。
実施例7：触媒ZrF 4 ；W/F=30g・sec./cc；350℃
触媒としてZrF4を使用したこと以外は実施例1と同様に反応を進行させた。約1時間経過後、反応管からの流出ガスをガスクロトマトグラフィーで分析したところ、転化率は99.5モル%であり、各成分の選択率は、1,2,3,3,4,4-ヘキサフルオロ-1-シクロブテン（c-C4F6）が96.3モル%、1,1,1,4,4,4-ヘキサフルオロ-2-ブチン（CF3C≡CCF3）が2.68モル%、1,1,2,3,3,4,4,4-オクタフルオロ-1-ブテン（CF2=CFCF2CF3）が0.0127モル%（E体及びZ体の合計量）、1,1,1,2,4,4,4-ヘプタフルオロ-2-ブテン（CF3CF=CHCF3）が0.118モル%（E体及びZ体の合計量）、その他副生成物が合計0.916モル%であった。
実施例8：触媒なし；W/F= 30g・sec./cc；300℃
触媒を使用せず、加熱温度を300℃としたこと以外は実施例1と同様に反応を進行させた。約1時間経過後、反応管からの流出ガスをガスクロトマトグラフィーで分析したところ、転化率は97.9モル%であり、各成分の選択率は、1,2,3,3,4,4-ヘキサフルオロ-1-シクロブテン（c-C4F6）が77.8モル%、その他副生成物が合計22.2モル%であった。
実施例9：触媒なし；W/F= 30g・sec./cc；400℃
触媒を使用せず、加熱温度を400℃としたこと以外は実施例1と同様に反応を進行させた。約1時間経過後、反応管からの流出ガスをガスクロトマトグラフィーで分析したところ、転化率は98.1モル%であり、各成分の選択率は、1,2,3,3,4,4-ヘキサフルオロ-1-シクロブテン（c-C4F6）が67.4モル%、その他副生成物が合計32.6モル%であった。
結果を表１に示す。
Figure 2020059664
また、本開示において、気相連続流通式の場合は特に経済的に有利である。気相連続流通式の場合は原料を一括仕込みするバッチ式と比較して、原料が常に供給されるため時間の経過とともに原料濃度が減少することなく速い反応速度を維持できる。よって単位時間当たりにおける高い生産量を達成できる。
２．パーフルオロシクロアルケン化合物の製造方法（その２：気相連続流通式）
本開示の製造方法においては、一般式（1）：
［式中、R1〜R4は同一又は異なって、フッ素原子又はパーフルオロアルキル基を示す。］
で表されるパーフルオロシクロアルケン化合物の製造方法であって、
一般式（2）：
CR1 2=CR2-CR3=CR4 2 （2）
［式中、R1〜R4は同一又は異なって、フッ素原子又はパーフルオロアルキル基を示す。］
で表されるパーフルオロアルカジエン化合物の環化反応を気相連続流通式で行う工程
を備える方法によっても、パーフルオロシクロアルケン化合物を製造することができる。この方法においても、反応の転化率が高く、パーフルオロシクロアルケン化合物を高収率及び高選択率に得ることができる。
本開示の製造方法は、固定床反応器を用いた気相連続流通式で行う。気相連続流通式で行う場合は、装置、操作等を簡略化できるとともに、経済的に有利である。
３．パーフルオロシクロアルケン化合物の製造方法（その３：触媒存在下且つ気相連続流通式）
本開示の製造方法においては、一般式（1）：
［式中、R1〜R4は同一又は異なって、フッ素原子又はパーフルオロアルキル基を示す。］
で表されるパーフルオロシクロアルケン化合物の製造方法であって、
触媒存在下に、
一般式（2）：
CR1 2=CR2-CR3=CR4 2 （2）
［式中、R1〜R4は同一又は異なって、フッ素原子又はパーフルオロアルキル基を示す。］
で表されるパーフルオロアルカジエン化合物の環化反応を気相連続流通式で行う工程
を備える方法によっても、パーフルオロシクロアルケン化合物を製造することができる。この方法においても、反応の転化率が高く、パーフルオロシクロアルケン化合物を高収率及び高選択率に得ることができる。
本開示の製造方法は、固定床反応器を用いた気相連続流通式で行う。気相連続流通式で行う場合は、装置、操作等を簡略化できるとともに、経済的に有利である。

Claims (10)

  1. 一般式（1）：
    Figure 2020059664
     ［式中、R1〜R4は同一又は異なって、フッ素原子又はパーフルオロアルキル基を示す。］
    で表されるパーフルオロシクロアルケン化合物の製造方法であって、
    触媒存在下に、
    一般式（2）：
    CR1 2=CR2-CR3=CR4 2 （2）
    ［式中、R1〜R4は同一又は異なって、フッ素原子又はパーフルオロアルキル基を示す。］
    で表されるパーフルオロアルカジエン化合物の環化反応を行う工程
    を備える、製造方法。
  2. 一般式（1）：
    Figure 2020059664
     ［式中、R1〜R4は同一又は異なって、フッ素原子又はパーフルオロアルキル基を示す。］
    で表されるパーフルオロシクロアルケン化合物の製造方法であって、
    一般式（2）：
    CR1 2=CR2-CR3=CR4 2 （2）
    ［式中、R1〜R4は同一又は異なって、フッ素原子又はパーフルオロアルキル基を示す。］
    で表されるパーフルオロアルカジエン化合物の環化反応を気相連続流通式で行う工程
    を備える、製造方法。
  3. 一般式（1）：
    Figure 2020059664
     ［式中、R1〜R4は同一又は異なって、フッ素原子又はパーフルオロアルキル基を示す。］
    で表されるパーフルオロシクロアルケン化合物の製造方法であって、
    触媒存在下に、
    一般式（2）：
    CR1 2=CR2-CR3=CR4 2 （2）
    ［式中、R1〜R4は同一又は異なって、フッ素原子又はパーフルオロアルキル基を示す。］
    で表されるパーフルオロアルカジエン化合物の環化反応を気相連続流通式で行う工程
    を備える、製造方法。
  4. 前記触媒が、周期表第1族〜第12族に属する金属元素の少なくとも1種を含むフッ化物である、請求項１又は３に記載の製造方法。
  5. 前記フッ化物が、アルカリ金属、アルカリ土類金属及び周期表第4族に属する金属元素よりなる群から選ばれる少なくとも1種を含むフッ化物である、請求項４に記載の製造方法。
  6. 前記環化反応が、270℃以上で行われる、請求項１〜５のいずれか1項に記載の製造方法。
  7. 前記環化反応工程が、前記一般式（1）で表されるパーフルオロシクロアルケン化合物の他、一般式（3）：
    CR1 2R2-C≡C-CR3R4 2 （3）
    ［式中、R1〜R4は前記に同じである。］
    で表されるパーフルオロアルキン化合物も製造する工程である、請求項１〜６のいずれか1項に記載の製造方法。
  8. 一般式（3）：
    CR1 2R2-C≡C-CR3R4 2 （3）
    ［式中、R1〜R4は同一又は異なって、フッ素原子又はパーフルオロアルキル基を示す。］
    で表されるパーフルオロアルキン化合物の製造方法であって、
    請求項１〜７のいずれか1項に記載の製造方法により副生されたパーフルオロシクロアルケン化合物を基質として用いて、前記パーフルオロアルカジエン化合物を得る工程を備える、製造方法。
  9. 一般式（1）：
    Figure 2020059664
     ［式中、R1〜R4は同一又は異なって、フッ素原子又はパーフルオロアルキル基を示す。］
    で表されるパーフルオロシクロアルケン化合物と、
    一般式（3）：
    CR1 2R2-C≡C-CR3R4 2 （3）
    ［式中、R1〜R4は前記に同じである。］
    で表されるパーフルオロアルキン化合物とを含有する組成物であって、
    組成物全量を100モル%として、前記一般式（1）で表されるパーフルオロシクロアルケン化合物の含有量が60〜99.9モル%である、組成物。
  10. エッチングガス又は有機合成用ビルディングブロックとして用いられる、請求項９に記載の組成物。
JP2018190994A 2018-10-09 2018-10-09 パーフルオロシクロアルケン化合物の製造方法 Active JP6753443B2 (ja)

Priority Applications (8)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018190994A JP6753443B2 (ja) 2018-10-09 2018-10-09 パーフルオロシクロアルケン化合物の製造方法
CN201980066353.2A CN112912360B (zh) 2018-10-09 2019-10-08 全氟环烯烃化合物的制造方法
KR1020217011885A KR102737400B1 (ko) 2018-10-09 2019-10-08 퍼플루오로시클로알켄 화합물의 제조 방법
PCT/JP2019/039726 WO2020075729A1 (ja) 2018-10-09 2019-10-08 パーフルオロシクロアルケン化合物の製造方法
RU2021137864A RU2021137864A (ru) 2018-10-09 2019-10-08 Способ получения перфторциклоалкенового соединения
CN202410053061.8A CN117924020A (zh) 2018-10-09 2019-10-08 含有全氟环烯烃化合物的组合物
SG11202103673UA SG11202103673UA (en) 2018-10-09 2019-10-08 Method for producing perfluorocycloalkene compound
TW108136677A TWI791907B (zh) 2018-10-09 2019-10-09 全氟環烯烴化合物之製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018190994A JP6753443B2 (ja) 2018-10-09 2018-10-09 パーフルオロシクロアルケン化合物の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2020059664A true JP2020059664A (ja) 2020-04-16
JP6753443B2 JP6753443B2 (ja) 2020-09-09

Family

ID=70164534

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018190994A Active JP6753443B2 (ja) 2018-10-09 2018-10-09 パーフルオロシクロアルケン化合物の製造方法

Country Status (7)

Country Link
JP (1) JP6753443B2 (ja)
KR (1) KR102737400B1 (ja)
CN (2) CN112912360B (ja)
RU (1) RU2021137864A (ja)
SG (1) SG11202103673UA (ja)
TW (1) TWI791907B (ja)
WO (1) WO2020075729A1 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114436759B (zh) * 2020-11-04 2023-10-27 浙江省化工研究院有限公司 一种1,1,1,2,4,4,4-七氟-2-丁烯的气相制备方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014058488A (ja) * 2012-09-19 2014-04-03 National Institute Of Advanced Industrial & Technology １，１，１，４，４，４−ヘキサフルオロ−２−ブチンの製造方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU2001236108A1 (en) * 2000-06-02 2001-12-17 Asahi Glass Company, Limited Process for preparing unsaturated compounds by pyrolysis
AU2002233670A1 (en) * 2001-02-23 2002-09-04 Showa Denko K.K. Process for producing perfluorocarbons and use thereof
JP5598910B2 (ja) * 2010-06-14 2014-10-01 独立行政法人産業技術総合研究所 フッ素化合物の製造方法
CN105348034B (zh) * 2015-12-07 2018-06-01 天津医科大学 一种合成六氟-2-丁炔的方法
CN107602340B (zh) * 2017-10-17 2020-05-15 北京宇极科技发展有限公司 气相异构化制备全氟二烯烃和全氟炔烃的方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014058488A (ja) * 2012-09-19 2014-04-03 National Institute Of Advanced Industrial & Technology １，１，１，４，４，４−ヘキサフルオロ−２−ブチンの製造方法

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
JOURNAL OF FLUORINE CHMISTRY, 2011, 132, P.1188-1193, JPN6019050855, ISSN: 0004182037 *
TETRAHEDRON LETTERS, 1986, 27(37), P.4387-4390, JPN6019050857, ISSN: 0004182038 *

Also Published As

Publication number Publication date
CN112912360A (zh) 2021-06-04
TW202033482A (zh) 2020-09-16
SG11202103673UA (en) 2021-05-28
CN112912360B (zh) 2024-05-07
JP6753443B2 (ja) 2020-09-09
TWI791907B (zh) 2023-02-11
KR102737400B1 (ko) 2024-12-03
WO2020075729A1 (ja) 2020-04-16
CN117924020A (zh) 2024-04-26
KR20210063381A (ko) 2021-06-01
RU2021137864A (ru) 2022-01-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6673413B2 (ja) フルオロオレフィンの製造方法
JP6827246B2 (ja) ハロゲン化ブテン化合物の製造方法
JP7624144B2 (ja) フルオロオレフィン化合物の製造方法
TWI777113B (zh) 環丁烯之製造方法
JP6753443B2 (ja) パーフルオロシクロアルケン化合物の製造方法
JP5946821B2 (ja) ヒドロクロロフルオロアルカン類の脱塩化水素方法
CN112209803B (zh) 乙烯基化合物的制造方法
JP7206501B2 (ja) ハロゲン化シクロアルカン化合物の製造方法
JP6874778B2 (ja) シクロブタンの製造方法
JP7341953B2 (ja) アルカンの製造方法
RU2779442C1 (ru) Способ получения перфторциклоалкенового соединения
KR20220097494A (ko) 알칸 화합물의 제조 방법
JP7712582B2 (ja) フッ化ビニル化合物の製造方法
JP7656161B2 (ja) フッ化ビニル化合物の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20191009

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20191009

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20200107

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20200306

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20200721

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20200803

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 6753443

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151