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JP2020045440A - Semiconductor fine particle composition, coating liquid using the composition, ink composition, and ink-jet ink, coating, printed matter, wavelength conversion film, color filter, light emitting element - Google Patents

Semiconductor fine particle composition, coating liquid using the composition, ink composition, and ink-jet ink, coating, printed matter, wavelength conversion film, color filter, light emitting element Download PDF

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JP2020045440A
JP2020045440A JP2018175678A JP2018175678A JP2020045440A JP 2020045440 A JP2020045440 A JP 2020045440A JP 2018175678 A JP2018175678 A JP 2018175678A JP 2018175678 A JP2018175678 A JP 2018175678A JP 2020045440 A JP2020045440 A JP 2020045440A
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鬼久保 俊一
Shunichi Onikubo
俊一 鬼久保
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Abstract

【課題】
本発明の課題は、半導体微粒子組成物の諸特性、特に量子ドットの蛍光特性を損なうことなく、塗工液やインキ、特にインクジェット法で印刷可能なインキを提供することであり、それを使用して、特性や経時安定性に優れた塗工物や印刷物、より具体的には、蛍光特性に優れた波長変換フィルムやカラーフィルター、発光素子を提供することである。
【解決手段】
上記課題は、半導体微粒子と当該粒子の表面を覆う被覆材料からなり、被覆材料が、下記一般式(1)又は一般式(2)で表される構造を有することを特徴とする、半導体微粒子組成物によって解決される。
【選択図】なし
【Task】
An object of the present invention is to provide a coating liquid or an ink, particularly an ink that can be printed by an inkjet method, without impairing various characteristics of the semiconductor fine particle composition, particularly, the fluorescent characteristics of the quantum dots. Accordingly, it is an object of the present invention to provide a coated or printed material having excellent properties and stability over time, more specifically, a wavelength conversion film, a color filter, and a light-emitting element having excellent fluorescence characteristics.
[Solution]
The object is to provide a semiconductor fine particle composition comprising semiconductor fine particles and a coating material covering the surface of the particles, wherein the coating material has a structure represented by the following general formula (1) or general formula (2). Solved by things.
[Selection diagram] None

Description

本発明は、半導体微粒子組成物及び量子ドット、及びそれらを含有する塗工液とインキ組成物、インクジェットインキ、及びそれらを使用した塗工物と印刷物、波長変換フィルム、カラーフィルター、発光素子に関する。   The present invention relates to a semiconductor fine particle composition and quantum dots, a coating liquid and an ink composition containing them, an inkjet ink, and coated and printed materials using them, a wavelength conversion film, a color filter, and a light emitting device.

本発明の主要構成をなす量子ドットは、量子力学に従う独特な光学特性を発現させるために、電子を微小な空間に閉じ込めるために形成された極小さな粒(ドット)である。1粒の量子ドットの大きさは、直径1ナノメートルから数10ナノメートルであり、約1万個以下の原子で構成されている。発する蛍光の波長が、粒の大きさで連続的に制御できること、蛍光強度の波長分布が対称性の高いシャープな発光が得られることから近年注目を集めている。
量子ドットは、人体を透過しやすい波長に蛍光を調整でき、体内のあらゆる場所に送達できることより発光材料として生体イメージング用途(非特許文献1)、褪色の恐れがない波長変換材料として太陽電池用途(特許文献1)、鮮明な発光材料、波長変換材料としてエレクトロニクス・フォトニクス用途(特許文献2,3)への展開検討が行われている。
The quantum dots that constitute the main component of the present invention are extremely small grains (dots) formed to confine electrons in a minute space in order to express unique optical characteristics according to quantum mechanics. The size of one quantum dot is 1 nanometer to several tens of nanometers in diameter, and is composed of about 10,000 atoms or less. In recent years, attention has been paid to the fact that the wavelength of emitted fluorescence can be continuously controlled by the size of the particles, and sharp emission having a highly symmetrical fluorescence intensity wavelength distribution can be obtained.
Quantum dots can adjust fluorescence to a wavelength that is easily transmitted through the human body, and can be delivered to any part of the body. Therefore, quantum dots can be used for bioimaging applications as a luminescent material (Non-Patent Document 1). Patent Literature 1), and development into applications for electronics and photonics (Patent Literatures 2 and 3) as clear light emitting materials and wavelength conversion materials are being studied.

これらの用途に展開するときに、微細なパターンを形成することが必要になる。パターン形成のために感光材料を用いて、レジスト液作成し、マスクを介して光照射する方法が提案されている(特許文献4)。しかし、感光材料や光照射時に量子ドットが劣化したり、現像で取り除く部分にも量子ドットが含まれ、量子ドット材料の利用効率が悪い等の問題があった。
レジスト化しない方法としてはインクジェット法が知られているが、これまでインクジェット法に用いることのできる実用的な量子ドットインキは作成されていない。
When developing for these uses, it is necessary to form a fine pattern. A method has been proposed in which a resist solution is prepared using a photosensitive material for pattern formation, and light is irradiated through a mask (Patent Document 4). However, there has been a problem that the quantum dots are deteriorated when the photosensitive material or light is irradiated, and the quantum dots are also included in the portions to be removed by development, so that the efficiency of using the quantum dot material is low.
An ink-jet method is known as a method of not forming a resist, but a practical quantum dot ink that can be used in the ink-jet method has not yet been prepared.

また現状の量子ドット自体の課題として、発光効率(量子収率)は非常に高いものの、励起エネルギー源となる光の吸収効率はそれほど高くなく、強い蛍光発光を得るためには量子ドットを多量に使用する、厚膜化する、光散乱物質を併用する等の工夫が必要で、それらを適用しても、従来の有機や無機の蛍光材料に及ばなかったり、他の必要特性を低下させてしまうことがあった。   Also, as a problem of the current quantum dots themselves, although the luminous efficiency (quantum yield) is very high, the absorption efficiency of light, which is the excitation energy source, is not so high. It is necessary to devise such measures as using, thickening, and using a light-scattering substance in combination, and even if they are applied, they do not reach the level of conventional organic or inorganic fluorescent materials, or lower other required characteristics. There was something.

一方、量子ドットを電界発光素子の発光材料に用いる際には、電極から注入された正負電荷を量子ドット内(又は近傍)で再結合させて、量子ドットを励起状態にする必要があるが、電荷の取込みを促進させる方法として、例えば量子ドットの外側に芳香環等の共役構造を導入して電荷が量子ドット上に流れ込む設計をしている(特許文献5、6)。しかし、この方法では、量子ドット表面の被覆材料まで電荷が到達しても、量子ドット上で正負電荷の再結合が起こり、さらに量子ドット内部に励起エネルギーが移動する保証は得られない。   On the other hand, when a quantum dot is used as a light emitting material of an electroluminescent device, it is necessary to make the quantum dot an excited state by recombining positive and negative charges injected from an electrode within (or near) the quantum dot. As a method of promoting the charge intake, for example, a design is adopted in which a conjugate structure such as an aromatic ring is introduced outside the quantum dot so that the charge flows into the quantum dot (Patent Documents 5 and 6). However, according to this method, even if the charge reaches the coating material on the surface of the quantum dot, recombination of positive and negative charges occurs on the quantum dot, and further, there is no guarantee that the excitation energy moves into the inside of the quantum dot.

特開2006−216560号公報JP 2006-216560 A 特開2008−112154号公報JP 2008-112154 A 特開2009−251129号公報JP 2009-251129 A 特開2015−127733号公報JP-A-2015-127733 特開2010−209141号公報JP 2010-209141 A 特表2005−502176号公報JP-T-2005-502176

神隆、「半導体量子ドット、その合成法と生命科学への応用」、生産と技術、第63巻、第2号、2011年、p58〜p65Shintaka, "Semiconductor Quantum Dots, Their Synthesis and Application to Life Sciences," Production and Technology, Vol. 63, No. 2, 2011, p58-p65 Journal of the American chemical society 2007 129 15432-15433Journal of the American chemical society 2007 129 15432-15433

本発明の目的は、半導体微粒子組成物の諸特性、特に量子ドットの蛍光特性を損なうことなく、塗工液やインキ、特にインクジェット法で印刷可能なインキを提供することであり、それを使用して、特性や経時安定性に優れた塗工物や印刷物、より具体的には、蛍光特性に優れた波長変換フィルムやカラーフィルター、発光素子を提供することである。   An object of the present invention is to provide coating liquids and inks, particularly inks that can be printed by an inkjet method, without impairing the properties of the semiconductor fine particle composition, particularly the fluorescent properties of quantum dots, and using the same. Accordingly, it is an object of the present invention to provide a coated or printed material having excellent properties and stability over time, more specifically, a wavelength conversion film, a color filter, and a light-emitting element having excellent fluorescence characteristics.

本発明者は、前記課題を解決するために、鋭意検討した結果、量子ドットの被覆材料として特定構造の化合物を用いることで、量子ドット等の諸特性を損なうことなく、前記塗工液やインキ、特にインクジェット法で印刷可能なインキを作製し、それらを使用した前記塗工物、印刷物、特にインキジェット法による印刷物、さらにはそれらを利用した波長変換フィルム、カラーフィルター、発光素子が提供可能であることを見出した。   The present inventors have conducted intensive studies to solve the above problems, and as a result, by using a compound having a specific structure as a coating material for quantum dots, without impairing various properties such as quantum dots, the coating liquid and the ink. In particular, it is possible to produce inks which can be printed by an ink-jet method, and to provide the above-mentioned coated products and printed materials using them, especially printed materials by an ink-jet method, and further provide a wavelength conversion film, a color filter, and a light-emitting element using them. I found something.

すなわち、本発明は、半導体微粒子と当該粒子の表面を覆う被覆材料からなり、被覆材料が、下記一一般式(1)又は一般式(2)で表される構造を有することを特徴とする半導体微粒子組成物に関する。本発明〔1〕〜〔16〕は以下のとおりである。   That is, the present invention comprises semiconductor fine particles and a coating material covering the surface of the particles, and the coating material has a structure represented by the following general formula (1) or general formula (2). It relates to a particulate composition. The present inventions [1] to [16] are as follows.

〔1〕 半導体微粒子と当該粒子の表面を覆う被覆材料からなり、被覆材料が、下記一般式(1)又は一般式(2)で表される構造を有することを特徴とする、半導体微粒子組成物。
一般式(1)
一般式(2)
[1] A semiconductor fine particle composition comprising semiconductor fine particles and a coating material covering the surface of the particles, wherein the coating material has a structure represented by the following general formula (1) or general formula (2). .
General formula (1)
General formula (2)

[一般式(1)及び(2)において、
〜Xは、各々独立して、N、S、O、NR、NR、OR又はSRであり、
〜Yは、各々独立して、C又はNであり、
〜Rは、各々独立して、水素原子又は置換基を有してもよい1価のアルキル基である。
間及びX間はπ共役し、
〜X及びY〜Yは、隣り合う基を含む環構造Ar〜Arを形成していてもよく、
環構造Ar〜Arを形成する場合は、
Ar〜Arは、各々独立して、置換基を有してもよい2価のπ共役ユニットであり、
は、Arの構成原子団又はArと直接結合する基であり、
は、Arの構成原子団又はArと直接結合する基であり、
は、Arの構成原子団又はArと直接結合する基であり、
は、Arの構成原子団又はArと直接結合する基である。]
[In the general formulas (1) and (2),
X 1 to X 4 are each independently N, S, O, NR 1 , NR 2 R 3 , OR 4 or SR 5 ;
Y 1 to Y 5 are each independently C or N;
R 1 to R 5 are each independently a hydrogen atom or a monovalent alkyl group which may have a substituent.
X 1 Y 1 Y 2 X 2 and X 3 Y 3 Y 4 Y 5 X 4 are π-conjugated,
X 1 to X 4 and Y 1 to Y 5 may form a ring structure Ar 1 to Ar 7 containing adjacent groups,
When forming the ring structures Ar 1 to Ar 7 ,
Ar 1 to Ar 7 are each independently a divalent π-conjugated unit which may have a substituent,
X 1 is a constituent atomic group of Ar 1 or a group directly bonded to Ar 2 ;
X 2 is a constituent atomic group of Ar 3 or a group directly bonded to Ar 2 ;
X 3 is a constituent atomic group of Ar 4 or a group directly bonded to Ar 5 ;
X 4 is a constituent atomic group of Ar 7 or a group directly bonded to Ar 6 . ]

〔2〕 一般式(1)のAr〜Ar又は一般式(2)のAr〜Arのうち、各々いずれか2個以上が、隣接するπ共役ユニット同士が縮合しても良く、置換基を有しても良い、5員若しくは6員の芳香環であることを特徴とする、〔1〕に記載の半導体微粒子組成物。 [2] Any two or more of Ar 1 to Ar 3 in the general formula (1) or Ar 4 to Ar 7 in the general formula (2) may be condensed with adjacent π-conjugated units, The semiconductor fine particle composition according to [1], which is a 5- or 6-membered aromatic ring which may have a substituent.

〔3〕 前記一般式(1)及び(2)中のX〜Xが、各々独立して、N又はORであることを特徴とする、〔1〕又は〔2〕に記載の半導体微粒子組成物。 [3] The semiconductor according to [1] or [2], wherein X 1 to X 4 in the general formulas (1) and (2) are each independently N or OR 4. Fine particle composition.

〔4〕 前記被覆材料が、置換基を有しても良い、8−ヒドロキシキノリン環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環、及びトリアジン環からなる群から選ばれる少なくとも1種の環構造を有することを特徴とする、〔1〕〜〔3〕いずれか1項に記載の半導体微粒子組成物。   [4] The coating material may have a substituent, and at least one selected from the group consisting of an 8-hydroxyquinoline ring, a benzoxazole ring, a benzothiazole ring, a benzimidazole ring, a benzotriazole ring, and a triazine ring. The semiconductor fine particle composition according to any one of [1] to [3], having a kind of ring structure.

〔5〕 前記被覆材料が、下記式(3)〜(6)のいずれかで表される複素芳香環構造を有することを特徴とする、〔1〕〜〔4〕いずれか1項に記載の半導体微粒子組成物。   [5] The coating material according to any one of [1] to [4], wherein the coating material has a heteroaromatic ring structure represented by any of the following formulas (3) to (6). Semiconductor fine particle composition.

式(3)
Equation (3)

式(4)
Equation (4)

式(5)
[式(5)において、ZはO、S又はNHのいずれかを表す。]
Equation (5)
[In the formula (5), Z represents O, S or NH. ]

式(6)
Equation (6)

〔6〕 半導体微粒子が量子ドットであることを特徴とする、〔1〕〜〔5〕いずれか1項に記載の半導体微粒子組成物。   [6] The semiconductor fine particle composition according to any one of [1] to [5], wherein the semiconductor fine particles are quantum dots.

〔7〕 さらに溶剤を含有することを特徴とする、〔1〕〜〔6〕いずれか1項に記載の半導体微粒子組成物。   [7] The semiconductor fine particle composition according to any one of [1] to [6], further comprising a solvent.

〔8〕 さらに樹脂を含有することを特徴とする、〔1〕〜〔7〕いずれか1項に記載の半導体微粒子組成物。   [8] The semiconductor fine particle composition according to any one of [1] to [7], further comprising a resin.

〔9〕 〔1〕〜〔8〕いずれか1項に記載の半導体微粒子組成物を含有することを特徴とする、塗工液。   [9] A coating liquid comprising the semiconductor fine particle composition according to any one of [1] to [8].

〔10〕 〔9〕に記載の塗工液を使用してなる塗工物。   [10] A coated article obtained by using the coating liquid according to [9].

〔11〕 〔1〕〜〔8〕いずれか1項に記載の半導体微粒子組成物を含有することを特徴とする、インキ組成物。   [11] An ink composition comprising the semiconductor fine particle composition according to any one of [1] to [8].

〔12〕 〔11〕に記載のインキ組成物を含有することを特徴とする、インクジェットインキ。   [12] An inkjet ink comprising the ink composition according to [11].

〔13〕 〔11〕に記載のインキ組成物を用いてなる、印刷物。   [13] A printed matter obtained by using the ink composition according to [11].

〔14〕 基材上に、〔9〕に記載の塗工液、又は〔11〕に記載のインキ組成物を用いて形成された波長変換フィルム。   [14] A wavelength conversion film formed on a substrate using the coating liquid according to [9] or the ink composition according to [11].

〔15〕 基材上に、〔9〕に記載の塗工液、又は〔11〕に記載のインキ組成物を用いて形成されたカラーフィルター。   [15] A color filter formed on a substrate using the coating liquid according to [9] or the ink composition according to [11].

〔16〕 基材上に、発光層が〔9〕に記載の塗工液、又は〔11〕に記載のインキ組成物を用いて形成された発光素子。   [16] A light-emitting element in which a light-emitting layer is formed on a substrate using the coating liquid according to [9] or the ink composition according to [11].

本発明により、半導体微粒子組成物の諸特性、特に量子ドットの蛍光特性を損なうことなく、塗工液やインキ、特にインクジェット法で印刷可能なインキが提供される。また、それを使用して、特性や経時安定性に優れた塗工物や印刷物、より具体的には、蛍光特性に優れた波長変換フィルムやカラーフィルター、発光素子が提供される。   According to the present invention, there is provided a coating liquid or an ink, particularly an ink which can be printed by an inkjet method, without impairing various characteristics of the semiconductor fine particle composition, particularly, a fluorescent characteristic of the quantum dot. In addition, a coating or printed matter having excellent properties and stability over time, more specifically, a wavelength conversion film, a color filter, and a light-emitting element having excellent fluorescence properties are provided using the composition.

以下、本発明を詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail.

<半導体微粒子組成物と量子ドット>
本発明の主要構成をなす量子ドットは、特定の半導体微粒子からなる組成物であり、半導体微粒子は、無機物を成分とする半導体であり、一般的には、単一組成でも、コアシェル型でも、3層以上の複数層になっていてもよい。
本発明の半導体は、2族元素、10属元素、11族元素、12族元素、13族元素、14族元素、15族元素及び16族元素で示される元素の群から選ばれる単体、又は2種以上の元素を含む化合物からなる半導体である。前記のうち好ましくは化合物半導体である。化合物半導体は、Zn、Cd、B、Al、Ga、In、C、Si、Ge、Sn、N、P、As、Sb、Pb、S,Se,Teで示される元素群から選ばれる少なくとも2種の元素を含む化合物からなる半導体である。さらに好ましくは、人に対する安全性が懸念される元素を除いた、Zn、B、Al、Ga、In、C、Si、Ge、Sn、N、P、S,Teで示される元素群から選ばれる少なくとも2種の元素を含む化合物からなる半導体である。可視光を発光する用途では、バンドギャップの狭さからInを構成元素として含む半導体が、さらに好ましい。
<Semiconductor fine particle composition and quantum dots>
The quantum dot that constitutes the main component of the present invention is a composition composed of specific semiconductor fine particles, and the semiconductor fine particles are a semiconductor containing an inorganic substance as a component. It may be composed of a plurality of layers or more.
The semiconductor of the present invention is a simple substance selected from the group consisting of group 2 elements, 10 group elements, 11 group elements, 12 group elements, 13 group elements, 14 group elements, 15 group elements and 16 group elements; A semiconductor made of a compound containing at least one kind of element. Among them, a compound semiconductor is preferable. The compound semiconductor is at least two selected from the group consisting of Zn, Cd, B, Al, Ga, In, C, Si, Ge, Sn, N, P, As, Sb, Pb, S, Se, and Te. Is a semiconductor made of a compound containing the following elements. More preferably, it is selected from the group of elements represented by Zn, B, Al, Ga, In, C, Si, Ge, Sn, N, P, S, and Te, excluding elements that are concerned about human safety. A semiconductor made of a compound containing at least two kinds of elements. For applications that emit visible light, a semiconductor containing In as a constituent element is more preferable because of its narrow band gap.

材質として、より具体的には、炭素(C)(不定形炭素、グラファイト、グラフェン、カーボンナノチューブ、ダイアモンド等)、ケイ素(Si)、ゲルマニウム(Ge)、錫(Sn)等の周期表第IV族元素の単体、リン(P)(黒リン)等の周期表第V族元素の単体、セレン(Se)、テルル(Te)等の周期表第VI族元素の単体、酸化錫(IV)窒化ホウ素(BN)、リン化ホウ素(BP)、砒化ホウ素(BAs)、窒化アルミニウム(AlN)、リン化アルミニウム(AlP)、砒化アルミニウム(AlAs)、アンチモン化アルミニウム(AlSb)、窒化ガリウム(GaN)、リン化ガリウム(GaP)、砒化ガリウム(GaAs)、アンチモン化ガリウム(GaSb)、窒化インジウム(InN)、リン化インジウム(InP)、砒化インジウム(InAs)、アンチモン化インジウム(InSb)等の周期表第III族元素と周期表第V族元素との化合物硫化アルミニウム(Al)、セレン化アルミニウム(AlSe)、硫化ガリウム(Ga)、セレン化ガリウム(GaSe、GaSe)テルル化ガリウム(GaTe、GaTe)、酸化インジウム(In)、硫化インジウム(In、InS)、セレン化インジウム(InSe)、テルル化インジウム(InTe)等の周期表第III族元素と周期表第VI族元素との化合物、酸化亜鉛(ZnO)、硫化亜鉛(ZnS)、セレン化亜鉛(ZnSe)、テルル化亜鉛(ZnTe)、酸化カドミウム(CdO)、硫化カドミウム(CdS)、セレン化カドミウム(CdSe)、テルル化カドミウム(CdTe)、硫化水銀(HgS)、セレン化水銀(HgSe)、テルル化水銀(HgTe)等の周期表第II族元素と周期表第VI族元素との化合物、酸化銅(I)(CuO)等の周期表第I族元素と周期表第VI族元素との化合物、塩化銅(I)(CuCl)、臭化銅(I)(CuBr)、ヨウ化銅(I)(CuI)、塩化銀(AgCl)、臭化銀(AgBr)等の周期表第I族元素と周期表第VII族元素との化合物等が挙げられ、必要によりこれらの2種以上を併用しても良い。これらの半導体には、構成元素以外の元素が含有されていても構わない。例えばIII−V族を例にとれば、INGaP、INGaNの様な合金系であってもよい。また上記材料中に、希土類元素あるいは遷移金属元素がドープされた半導体微粒子も使われる。例えば、ZnS:Mn、ZnS:Tb、ZnS:Ce、LaPO:Ce等が挙げられる。 As the material, more specifically, Group IV of the periodic table such as carbon (C) (amorphous carbon, graphite, graphene, carbon nanotube, diamond, etc.), silicon (Si), germanium (Ge), tin (Sn), etc. Elemental simple substance, simple substance of Group V element of the periodic table such as phosphorus (P) (black phosphorus), simple substance of Group VI element of the periodic table such as selenium (Se), tellurium (Te), tin oxide (IV) boron nitride (BN), boron phosphide (BP), boron arsenide (BAs), aluminum nitride (AlN), aluminum phosphide (AlP), aluminum arsenide (AlAs), aluminum antimonide (AlSb), gallium nitride (GaN), phosphorus Gallium arsenide (GaP), gallium arsenide (GaAs), gallium antimonide (GaSb), indium nitride (InN), indium phosphide (In) ), Indium arsenide (InAs), indium antimonide (InSb) periodic table compounds aluminum sulfide of a group III element and the periodic table group V element such as (Al 2 S 3), aluminum selenide (Al 2 Se 3) Gallium sulfide (Ga 2 S 3 ), gallium selenide (GaSe, Ga 2 Se 3 ), gallium telluride (GaTe, Ga 2 Te 3 ), indium oxide (In 2 O 3 ), indium sulfide (In 2 S 3 , InS), indium selenide (In 2 Se 3 ), compounds of group III elements of the periodic table such as indium telluride (In 2 Te 3 ) and group VI elements of the periodic table, zinc oxide (ZnO), zinc sulfide ( ZnS), zinc selenide (ZnSe), zinc telluride (ZnTe), cadmium oxide (CdO), cadmium sulfide (CdS), Of cadmium lenide (CdSe), cadmium telluride (CdTe), mercury sulfide (HgS), mercury selenide (HgSe), mercury telluride (HgTe), etc. compounds, copper oxide (I) (Cu 2 O) periodic table compounds of the group I element and periodic table group VI elements such as copper chloride (I) (CuCl), copper bromide (I) (CuBr), Compounds of a Group I element of the Periodic Table and a Group VII element of the Periodic Table, such as copper (I) iodide (CuI), silver chloride (AgCl), and silver bromide (AgBr). More than one species may be used in combination. These semiconductors may contain elements other than the constituent elements. For example, if the group III-V is taken as an example, an alloy system such as INGaP or INGaN may be used. In addition, semiconductor fine particles in which a rare earth element or a transition metal element is doped in the above materials are also used. For example, ZnS: Mn, ZnS: Tb, ZnS: Ce, LaPO 4 : Ce, and the like can be given.

この中でもケイ素(Si)、ゲルマニウム(Ge)、窒化ガリウム(GaN)、リン化ガリウム(GaP)、砒化ガリウム(GaAs)、窒化インジウム(InN)、リン化インジウム(InP)、砒化インジウム(InAs)、セレン化ガリウム(GaSe、GaSe)、硫化インジウム(In、InS)、酸化亜鉛(ZnO)、硫化亜鉛(ZnS)、セレン化亜鉛(ZnSe)、テルル化亜鉛(ZnTe)、酸化カドミウム(CdO)、硫化カドミウム(CdS)、セレン化カドミウム(CdSe)、テルル化カドミウム(CdTe)、InGaP、InGaN等の合金系等が好ましく用いられ、特に、リン化インジウム(InP)、セレン化カドミウム(CdSe)、硫化亜鉛(ZnS)、セレン化亜鉛(ZnSe)が特に好ましく用いられる。 Among them, silicon (Si), germanium (Ge), gallium nitride (GaN), gallium phosphide (GaP), gallium arsenide (GaAs), indium nitride (InN), indium phosphide (InP), indium arsenide (InAs), Gallium selenide (GaSe, Ga 2 Se 3 ), indium sulfide (In 2 S 3 , InS), zinc oxide (ZnO), zinc sulfide (ZnS), zinc selenide (ZnSe), zinc telluride (ZnTe), oxide Cadmium (CdO), cadmium sulfide (CdS), cadmium selenide (CdSe), cadmium telluride (CdTe), alloys such as InGaP, InGaN, and the like are preferably used. In particular, indium phosphide (InP), cadmium selenide (CdSe), zinc sulfide (ZnS), zinc selenide (ZnSe) Particularly preferably used.

また、半導体微粒子の材質としては、ペロブスカイト結晶も好ましく用いることができる。本発明の量子ドットとして好適なペロブスカイト結晶は、下記一般式(7)で表される組成を有し、3次元結晶構造を持つものである。
一般式(7): AB(Hal)
[一般式(7)において、Aはメチルアンモニウム(CHNH)、及び、ホルムアミジニウム(NHCHNH)から選ばれる少なくとも1つであるアミン化合物の1価陽イオンであるか、又は、ルビジウム(Rb)、セシウム(Cs)、及び、フランシウム(Fr)から選ばれる少なくとも1つのアルカリ金属元素の1価陽イオンであり、Bは鉛(Pb)及び錫(Sn)から選ばれる少なくとも1つである金属元素の2価陽イオンであり、Halはヨウ素(I)、臭素(Br)、及び塩素(Cl)から選ばれる少なくとも1つのハロゲン元素の1価陰イオンである。]
Further, as a material of the semiconductor fine particles, a perovskite crystal can also be preferably used. The perovskite crystal suitable as the quantum dot of the present invention has a composition represented by the following general formula (7) and has a three-dimensional crystal structure.
General formula (7): AB (Hal) 3
[In the general formula (7), A is a monovalent cation of an amine compound which is at least one selected from methylammonium (CH 3 NH 2 ) and formamidinium (NH 2 CHNH), or R is a monovalent cation of at least one alkali metal element selected from rubidium (Rb), cesium (Cs), and francium (Fr), and B is at least one selected from lead (Pb) and tin (Sn). Hal is a monovalent anion of at least one halogen element selected from iodine (I), bromine (Br), and chlorine (Cl). ]

本発明で好適に用いられるコア/シェル型の半導体微粒子は、コアを形成する半導体成分と異なる半導体成分でコア構造を被覆された構造となる。外部がバントギャップの大きい半導体をすることで、光等のエネルギー励起によって生成された励起子(電子−正孔対)はコア内に閉じ込められる。その結果、半導体微粒子表面での無輻射遷移の確率が減少し、発光の量子収率及び半導体量子ドットの蛍光特性の安定性が向上する。量子ドットとして使用される場合に、前記の条件を満たす好適な材料の組合せとしては、CdSe/ZnS、CdSe/ZnSe、CdS/ZnS、CdSe/CdS、CdTe/CdS、InP/ZnS、PbSe/PbS、GaP/ZnS、Si/ZnS、InN/GaN、InP/CdSSe、InP/ZnSeTe、InGaP/ZnSe、InGaP/ZnS、Si/AlP、InP/ZnSTe、InGaP/ZnSTe、InGaP/ZnSSe等が挙げられる。
また、微粒子のシェル成分としては、ZnS、CdS、ZnSe等が良く用いられるが、この中でも微粒子のコア成分がInを構成元素として含む半導体微粒子の場合、ZnSが元素毒性がなく、量子ドットとしての励起子閉じ込め等の特性的にも特に優れており、好適に使用される。
The core / shell type semiconductor fine particles suitably used in the present invention have a structure in which the core structure is coated with a semiconductor component different from the semiconductor component forming the core. Since the outside is a semiconductor having a large band gap, excitons (electron-hole pairs) generated by energy excitation such as light are confined in the core. As a result, the probability of non-radiative transition on the surface of the semiconductor fine particles is reduced, and the quantum yield of light emission and the stability of the fluorescent properties of the semiconductor quantum dots are improved. When used as a quantum dot, suitable combinations of materials satisfying the above conditions include CdSe / ZnS, CdSe / ZnSe, CdS / ZnS, CdSe / CdS, CdTe / CdS, InP / ZnS, PbSe / PbS, GaP / ZnS, Si / ZnS, InN / GaN, InP / CdSSe, InP / ZnSeTe, InGaP / ZnSe, InGaP / ZnS, Si / AlP, InP / ZnSTe, InGaP / ZnSTe, InGaP / ZnSSe, and the like.
As the shell component of the fine particles, ZnS, CdS, ZnSe, etc. are often used. Among them, in the case of semiconductor fine particles containing In as a constituent element of the fine particles, ZnS has no elemental toxicity, and is used as a quantum dot. It is particularly excellent in characteristics such as exciton confinement and is preferably used.

本発明の半導体微粒子の無機材料部分の平均粒径は0.5nm〜100nmであることが好ましく、所望の特性が得られる粒径を選択することができる。コア/シェル型の場合、一つの半導体微粒子の中に複数のシェル微粒子を含有してもよい。単一半導体組成である場合の半導体微粒子の平均粒径及び、コア/シェル型のコアの平均粒径は0.5nm〜10nmであることが好ましい。平均粒径が0.5nm未満となる合成は困難であり、また、量子ドットの場合、10nmを超えると量子閉じ込め効果が得られず、求める蛍光が得られない。量子ドットにおいては同じ材料であってもコア粒径を変えることで蛍光波長を任意に変化出来ることが特徴であり、求める蛍光波長に応じて粒径を設定することになる。シェルの平均厚みは無機材料部分の粒子半径とコア粒子半径の差に相当するが、シェルの厚みが薄いとシェルの強度や閉じ込め効果が十分でなく、厚すぎると全体粒径が大きくなるため塗工液やインキにした場合の分散性に劣ったり、量子ドットの場合、励起方法によってはコアを励起させることが難しくなる。また、被覆材料を含む微粒子全体の平均粒径は2nm〜1μmであることが好ましい。半導体微粒子の形状は、球状に限らず、棒状、円盤状、そのほかの形状であっても良い。   The average particle size of the inorganic material portion of the semiconductor fine particles of the present invention is preferably 0.5 nm to 100 nm, and a particle size that can obtain desired characteristics can be selected. In the case of the core / shell type, a plurality of shell fine particles may be contained in one semiconductor fine particle. In the case of a single semiconductor composition, the average particle diameter of the semiconductor fine particles and the average particle diameter of the core / shell type core are preferably 0.5 nm to 10 nm. Synthesis with an average particle diameter of less than 0.5 nm is difficult, and in the case of a quantum dot, if it exceeds 10 nm, the quantum confinement effect cannot be obtained, and the desired fluorescence cannot be obtained. The quantum dot is characterized in that the fluorescence wavelength can be arbitrarily changed by changing the core particle diameter even with the same material, and the particle diameter is set according to the required fluorescence wavelength. The average shell thickness is equivalent to the difference between the particle radius of the inorganic material portion and the core particle radius.If the shell thickness is too small, the strength and confinement effect of the shell are not sufficient. In the case of using a working liquid or ink, the dispersibility is poor, or in the case of quantum dots, it becomes difficult to excite the core depending on the excitation method. Further, the average particle diameter of the whole fine particles including the coating material is preferably 2 nm to 1 μm. The shape of the semiconductor fine particles is not limited to a spherical shape, but may be a rod shape, a disk shape, or another shape.

本発明の半導体微粒子が量子ドットの場合、塗工液やインキ中の量子ドットは、赤色と緑色のように、複数の発光ピークを得るために、それに対応した粒径の異なる複数種の量子ドットを混合して用いることもでき、その比率は合計でインキ中の含有率の範囲で、自由に選択することができる。   When the semiconductor fine particles of the present invention are quantum dots, the quantum dots in the coating liquid or ink, such as red and green, in order to obtain a plurality of emission peaks, a plurality of types of quantum dots having different particle diameters corresponding thereto. Can be used in combination, and the ratio can be freely selected within the range of the content in the ink in total.

<被覆材料>
本発明の半導体微粒子は無機材料部分が剥き出しで用いることも可能であるが、微粒子作成時に必要であったり、塗工液やインキとしたときの安定性や、塗工、印刷適性、さらに塗工物や印刷物として最終形態になった時の特性発揮や経時安定性等の環境耐性を向上させるために、有機物で被覆処理されていることが好ましい。これらの有機物は被覆材料又は保護材料と称されたり、特に合成時には微粒子表面の処理剤、さらには量子ドットの場合には、リガンド又は配位子と呼ばれることも多い。
<Coating material>
The semiconductor fine particles of the present invention can be used by exposing the inorganic material portion, but it is necessary at the time of fine particle preparation, stability when used as a coating liquid or ink, coating, printability, and coating. It is preferable that the material or the printed material is coated with an organic material in order to exhibit characteristics when the product is in the final form and improve environmental resistance such as stability over time. These organic substances are often referred to as a coating material or a protective material. In particular, they are often referred to as a treating agent for the surface of fine particles during synthesis, and in the case of quantum dots, as a ligand or a ligand.

本発明における被覆材料は、一般式(1)又は一般式(2)で示される構造を有することを特徴とする。   The coating material of the present invention has a structure represented by the general formula (1) or the general formula (2).

一般式(1)
General formula (1)

一般式(2)
General formula (2)

[一般式(1)及び(2)において、
〜Xは、各々独立して、N、S、O、NR、NR、OR又はSRであり、
〜Yは、各々独立して、C又はNであり、
〜Rは、各々独立して、水素原子又は置換基を有してもよい1価のアルキル基である。
間及びX間はπ共役し、
〜X及びY〜Yは、隣り合う基を含む環構造Ar〜Arを形成していてもよく、
環構造Ar〜Arを形成する場合は、
Ar〜Arは、各々独立して、置換基を有してもよい2価のπ共役ユニットであり、
は、Arの構成原子団又はArと直接結合する基であり、
は、Arの構成原子団又はArと直接結合する基であり、
は、Arの構成原子団又はArと直接結合する基であり、
は、Arの構成原子団又はArと直接結合する基である。]
[In the general formulas (1) and (2),
X 1 to X 4 are each independently N, S, O, NR 1 , NR 2 R 3 , OR 4 or SR 5 ;
Y 1 to Y 5 are each independently C or N;
R 1 to R 5 are each independently a hydrogen atom or a monovalent alkyl group which may have a substituent.
X 1 Y 1 Y 2 X 2 and X 3 Y 3 Y 4 Y 5 X 4 are π-conjugated,
X 1 to X 4 and Y 1 to Y 5 may form a ring structure Ar 1 to Ar 7 containing adjacent groups,
When forming the ring structures Ar 1 to Ar 7 ,
Ar 1 to Ar 7 are each independently a divalent π-conjugated unit which may have a substituent,
X 1 is a constituent atomic group of Ar 1 or a group directly bonded to Ar 2 ;
X 2 is a constituent atomic group of Ar 3 or a group directly bonded to Ar 2 ;
X 3 is a constituent atomic group of Ar 4 or a group directly bonded to Ar 5 ;
X 4 is a constituent atomic group of Ar 7 or a group directly bonded to Ar 6 . ]

一般式(1)又は一般式(2)で示される構造を有する化合物の多くは、金属錯体におけるキレート配位子として知られるもので、金属原子を安定化させるとともに、金属原子と配位子間の強い電子的相互作用により強い吸光性を示したり、中には強い蛍光性を示すものも多い。金属錯体のこれらの性質を利用することで、色素として使用したり、昇華性や溶媒溶解性のあるものについては電界発光素子における発光材料や電荷輸送材料としても使用される。本発明においては、金属単原子に配位するのではなく、半導体微粒子表面の金属原子への吸着となるが、従来の一般的な半導体微粒子の被覆材料のように、1つの吸着基での結合ではなく、π共役で結ばれたX及びXからなる少なくとも2つの吸着基で結合することにより、より強く微粒子が被覆され、微粒子が安定化される。さらに、金属錯体と同様に、環構造と一体化したπ共役系により強い吸光性を示して照射された光を効率よく利用できるとともに、吸収によって得た励起エネルギーを、吸着した金属原子を介して効率的に微粒子内部に送り込むことが可能となる。また、電界発光素子に使用した場合には、π共役環を有するので電荷輸送性があり、電荷を効率よく取込むことが出来る。さらに吸着基と金属原子の結合を介することで、被覆材料上での正負電荷の再結合により生じた励起エネルギーを効率的に微粒子内部に送り込んだり、正負電荷を別々の被覆材料から微粒子内部に送り込んで微粒子内で再結合励起を起させることが可能となる。 Many of the compounds having a structure represented by the general formula (1) or (2) are known as chelating ligands in a metal complex, stabilizing a metal atom, and furthermore, a compound between the metal atom and the ligand. Many exhibit strong absorption due to strong electronic interaction, and some exhibit strong fluorescence. By utilizing these properties of the metal complex, it can be used as a dye, and those having sublimability or solvent solubility can also be used as a light emitting material or a charge transport material in an electroluminescent device. In the present invention, instead of coordinating to a single metal atom, it is adsorbed to metal atoms on the surface of the semiconductor fine particles. Instead, the fine particles are more strongly coated and stabilized by binding with at least two adsorbing groups consisting of X 1 and X 2 linked by π conjugation. Furthermore, like the metal complex, the π-conjugated system integrated with the ring structure shows strong light absorption, and the irradiated light can be used efficiently, and the excitation energy obtained by absorption is absorbed through the adsorbed metal atom. It is possible to efficiently feed the inside of the fine particles. In addition, when used in an electroluminescent device, it has a π-conjugated ring and thus has a charge transporting property, so that charges can be efficiently taken in. In addition, through the bond between the adsorptive group and the metal atom, the excitation energy generated by the recombination of positive and negative charges on the coating material can be efficiently sent into the fine particles, and the positive and negative charges can be sent into the fine particles from different coating materials. Thus, recombination excitation can be caused in the fine particles.

本発明で、一般式(1)又は一般式(2)で形成しても良いπ共役ユニットの具体例としては、
ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン、フルオレン、ピレン、クリセン、ナフタセン、ペリレン、アズレン、フルオレノン、アントラキノン、ジベンゾスベレノン、テトラシアノキノジメタン等の置換若しくは未置換の芳香環又は縮合芳香環からなる基、
フラン、チオフェン、ピロール、ピリジン、ピロン、オキサゾール、ピラジン、トリアジン、オキサジアゾール、トリアゾール、チアジアゾール、インドール、キノリン、イソキノリン、カルバゾール、アクリジン、チオキサントン、クマリン、アクリドン、ジフェニレンスルホン、キノキサリン、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール、フェナジン、フェナントロリン、フェノチアジン、キナクリドン、フラバンスロン、インダンスロン等の置換若しくは未置換の複素芳香環又は縮合複素芳香環からなる基、
ビフェニル、ターフェニル、ビナフチル、ビフルオレニリデン、ビピリジン、ビキノリン、フラボン、フェニルトリアジン、ビスベンゾチアゾール、ビチオフェン、フェニルベンゾトリアゾール、フェニルベンズイミダゾール、フェニルアクリジン、ビス(ベンゾオキサゾリル)チオフェン、ビス(フェニルオキサゾリル)ベンゼン、ビフェニリルフェニルオキサジアゾール、ジフェニルベンゾキノン、ジフェニルイソベンゾフラン、ジフェニルピリジン、スチルベン、ジベンジル、ジフェニルメタン、ビス(フェニルイソプロピル)ベンゼン、ジフェニルフルオレン、ジフェニルヘキサフルオロプロパン、ジベンジルナフチルケトン、ジベンジリデンシクロヘキサノン、ジスチリルナフタレン、(フェニルエチル)ベンジルナフタレン、ジフェニルエーテル、メチルジフェニルアミン、ベンゾフェノン、安息香酸フェニル、ジフェニル尿素、ジフェニルスルフィド、ジフェニルスルホン、ジフェノキシビフェニル、ビス(フェノキシフェニル)スルホン、ビス(フェノキシフェニル)プロパン、ジフェノキシベンゼン、エチレングリコールジフェニルエーテル、ネオペンチルグリコールジフェニルエーテル、ジピコリルアミン、ジピリジルアミン等の同種又は異なる2種以上の環構造単位が2個以上連結した骨格を有する基、等が挙げられる。
このうち、好ましくは、置換若しくは未置換の芳香環、縮合芳香環、複素芳香環、縮合複素芳香環として挙げた化合物からなる基である。
In the present invention, specific examples of the π-conjugated unit which may be formed by the general formula (1) or the general formula (2) include:
Substituted or unsubstituted aromatic rings or condensation such as benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, naphthalene, anthracene, phenanthrene, fluorene, pyrene, chrysene, naphthacene, perylene, azulene, fluorenone, anthraquinone, dibenzosuberenone, tetracyanoquinodimethane, etc. A group consisting of an aromatic ring,
Furan, thiophene, pyrrole, pyridine, pyrone, oxazole, pyrazine, triazine, oxadiazole, triazole, thiadiazole, indole, quinoline, isoquinoline, carbazole, acridine, thioxanthone, coumarin, acridone, diphenylene sulfone, quinoxaline, benzoxazole, benzo Thiazole, benzimidazole, benzotriazole, phenazine, phenanthroline, phenothiazine, quinacridone, flavanthrone, a group consisting of a substituted or unsubstituted heteroaromatic ring or fused heteroaromatic ring such as indanthrone,
Biphenyl, terphenyl, binaphthyl, bifluorenylidene, bipyridine, biquinoline, flavone, phenyltriazine, bisbenzothiazole, bithiophene, phenylbenzotriazole, phenylbenzimidazole, phenylacridine, bis (benzoxazolyl) thiophene, bis (phenyl) Oxazolyl) benzene, biphenylylphenyloxadiazole, diphenylbenzoquinone, diphenylisobenzofuran, diphenylpyridine, stilbene, dibenzyl, diphenylmethane, bis (phenylisopropyl) benzene, diphenylfluorene, diphenylhexafluoropropane, dibenzylnaphthyl ketone, diphenyl Benzylidenecyclohexanone, distyrylnaphthalene, (phenylethyl) benzylnaphthalene, Phenyl ether, methyldiphenylamine, benzophenone, phenyl benzoate, diphenylurea, diphenylsulfide, diphenylsulfone, diphenoxybiphenyl, bis (phenoxyphenyl) sulfone, bis (phenoxyphenyl) propane, diphenoxybenzene, ethylene glycol diphenyl ether, neopentyl glycol A group having a skeleton in which two or more of the same or different two or more ring structural units such as diphenyl ether, dipicolylamine, and dipyridylamine are linked; and the like.
Among these, a group consisting of the compounds exemplified as the substituted or unsubstituted aromatic ring, fused aromatic ring, heteroaromatic ring, and fused heteroaromatic ring is preferable.

一般式(1)又は(2)で表される構造において、一般式(1)のAr〜Ar又は一般式(2)のAr〜Arのうち、各々いずれか2個以上が、隣同士で縮合しても良く置換基を有しても良い環構造であることが好ましく、環構造として好ましくは芳香環又は複素芳香環であり、より好ましくはπ共役系を安定化させる観点から5員若しくは6員の芳香環又は複素芳香環であり、Y〜Yは、いずれも共役ユニットである環構造を構成する原子であることが好ましい。 In the structure represented by the general formula (1) or (2), at least two of each of Ar 1 to Ar 3 of the general formula (1) or Ar 4 to Ar 7 of the general formula (2) are: The ring structure is preferably a ring structure which may be condensed with each other or may have a substituent, and the ring structure is preferably an aromatic ring or a heteroaromatic ring, and more preferably from the viewpoint of stabilizing a π-conjugated system. It is a 5- or 6-membered aromatic or heteroaromatic ring, and Y 1 to Y 5 are preferably atoms constituting a ring structure which is a conjugate unit.

一般式(1)のX及びX、又は一般式(2)のX及びXは、それぞれ半導体微粒子表面上の同じ金属元素に配位することが好ましく、好ましくはN又はOHであり、より好ましくは、X及びXがN及びOHであるか、X及びXがN及びOHである。また、一般式(1)のX若しくはX、又は一般式(2)のX若しくはX上の1つの水素が脱離して、1価のアニオンとして金属元素に配位していることが好ましい。 X 1 and X 2 in the general formula (1) or X 3 and X 4 in the general formula (2) are preferably coordinated to the same metal element on the surface of the semiconductor fine particles, and are preferably N or OH. More preferably, X 1 and X 2 are N and OH, or X 3 and X 4 are N and OH. In addition, one hydrogen on X 1 or X 2 of the general formula (1) or X 3 or X 4 of the general formula (2) is eliminated and coordinated to the metal element as a monovalent anion. Is preferred.

以下に、本発明の一般式(1)又は一般式(2)で表される構造を有する被覆材料の代表例を、表1〜表6に具体的に例示するが、本発明は、これらに限定されるものではない。   Hereinafter, typical examples of the coating material having the structure represented by the general formula (1) or the general formula (2) of the present invention are specifically exemplified in Tables 1 to 6, and the present invention is not limited thereto. It is not limited.

表1〜6に掲げた被覆材料の多くは、試薬や工業用原料として市販されているものをそのまま用いることが出来る。その他の対象化合物についても置換基の導入や変換、部分構造のカップリングなどによって適宜合成可能である。   For many of the coating materials listed in Tables 1 to 6, commercially available reagents and industrial raw materials can be used as they are. Other target compounds can be appropriately synthesized by introducing or converting a substituent, coupling a partial structure, or the like.

前記被覆材料としては、置換基を有しても良い、8−ヒドロキシキノリン環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環、及びトリアジン環からなる群から選ばれる少なくとも1種の環構造を有することが好ましく、より好ましくは、下記式(3)〜(6)のいずれかで表される複素芳香環構造を有するものである。これら環構造は置換基を有していてもよい。   As the coating material, at least one selected from the group consisting of an 8-hydroxyquinoline ring, a benzoxazole ring, a benzothiazole ring, a benzimidazole ring, a benzotriazole ring, and a triazine ring, which may have a substituent. It preferably has a ring structure, and more preferably has a heteroaromatic ring structure represented by any of the following formulas (3) to (6). These ring structures may have a substituent.

式(3)
Equation (3)

式(4)
Equation (4)

式(5)
[式(5)において、ZはO、S又はNHのいずれかを表す。]
Equation (5)
[In the formula (5), Z represents O, S or NH. ]

式(6)
Equation (6)

すなわち、表1〜6に掲げた被覆材料のうち、特に好適なものは、式(3)に属する化合物として、化合物(1)、(2)、(3)、(47)、式(4)に属する化合物として、化合物(58)、(59)、(60)、式(5)に属する化合物として、化合物(44)、(45)、(52)、式(6)に属する化合物として、化合物(41)が挙げられる。   That is, among the coating materials listed in Tables 1 to 6, particularly preferable ones are compounds (1), (2), (3), (47), and (4) as compounds belonging to formula (3). Compounds belonging to compounds (58), (59), (60), compounds belonging to formula (5), compounds (44), (45), (52), compounds belonging to formula (6) (41).

本発明の被覆材料は、半導体微粒子の合成時の処理剤として使用することも可能であるが、性質の相違により、合成がうまく進行しなかったり、被覆材料自体が合成時に変質してしまう恐れがある。このため、合成時には一般的な処理剤を用い、後から本発明の被覆材料に交換する方が、どちらかというと好ましい。   The coating material of the present invention can be used as a treating agent at the time of synthesizing the semiconductor fine particles. However, due to the difference in properties, there is a risk that the synthesis does not proceed well or the coating material itself is deteriorated during the synthesis. is there. For this reason, it is rather preferable to use a general treating agent at the time of synthesis and replace the coating material with the coating material of the present invention later.

本発明の半導体微粒子の合成時の処理剤として用いることのできる有機物としては、無機半導体微粒子の金属部分に吸着する強い極性、又は非共有電子対を有し、さらに、炭素鎖や芳香環が連結した構造、ポリアルキレングリコール構造等を有することで、塗液やインキとして使用する溶剤や樹脂との親和性が高い部分構造を有する有機物である。このような有機物は一般的には、有機及び無機顔料や無機化合物材料の分散剤や、洗剤やエマルジョン形成等の際に使用される界面活性剤、乳化剤として良く知られているものであり、本発明でもこれらの化合物を使用することが出来る。また、金属錯体の配位子(リガンド)として使用される部分構造を有する化合物、特に金属への配位座を2個以上有するキレート配位子構造を有する化合物は、半導体微粒子の金属部分へ吸着しやすく、かつ脱離しにくいため、使用することが可能である。特に本発明で合成時に処理剤として用いることのできる有機物は沸点が高く、アルキル鎖部分の相互作用が期待できる、炭素数8以上のアルキル基を部分構造として有する有機物が好ましい。また、半導体微粒子への作用を強固にするために極性基を有した方が良く、処理できる有機物として、有機酸、有機アミン、硫黄含有有機物、リン含有有機物が挙げられる。   The organic substance that can be used as a treating agent at the time of synthesizing the semiconductor fine particles of the present invention has a strong polarity adsorbed on the metal portion of the inorganic semiconductor fine particles, or has an unshared electron pair, and further has a carbon chain or an aromatic ring linked thereto. Is an organic substance having a partial structure having a high affinity for a solvent or a resin used as a coating liquid or an ink by having the above-mentioned structure, a polyalkylene glycol structure or the like. Such organic substances are generally well-known as dispersants for organic and inorganic pigments and inorganic compound materials, surfactants and emulsifiers used in detergents and emulsion formation, and the like. In the invention, these compounds can be used. A compound having a partial structure used as a ligand (ligand) of a metal complex, particularly a compound having a chelate ligand structure having two or more coordination sites to a metal, is adsorbed to the metal portion of the semiconductor fine particles. It can be used because it is easy to remove and hard to remove. In particular, an organic substance which can be used as a treating agent in the synthesis in the present invention has a high boiling point and is expected to have an interaction of an alkyl chain portion, and is preferably an organic substance having an alkyl group having 8 or more carbon atoms as a partial structure. Further, it is better to have a polar group in order to strengthen the action on the semiconductor fine particles. Examples of the organic substance that can be treated include an organic acid, an organic amine, a sulfur-containing organic substance, and a phosphorus-containing organic substance.

有機酸としては、芳香環、エーテル基を有しても良い、末端にカルボン酸基を有する化合物を用いることができる。具体例として、安息香酸、ビフェニルカルボン酸、ブチル安息香酸、ヘキシル安息香酸、シクロヘキシル安息香酸、ナフタレンカルボン酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸、オクタン酸、エチルヘキサン酸、ヘキセン酸、オクテン酸、シトロネル酸、スベリン酸、エチレングリコールビス(4−カルボキシフェニル)エーテル、(2−ブトキシエトキシ)酢酸等が挙げられる。
炭素数8以上のアルキル基を部分構造として有する有機酸としては、有機酸のうち、炭素数8以上のアルキル基を有する化合物であり、具体的には、ノナン酸、デカン酸、ラウリル酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、トリコサン酸、リグノセリン酸、オレイン酸、エイコサジエン酸、リノレン酸、セバシン酸、(2−オクチルオキシ)酢酸、等が挙げられる。
As the organic acid, a compound having a carboxylic acid group at a terminal, which may have an aromatic ring or an ether group, can be used. Specific examples include benzoic acid, biphenylcarboxylic acid, butylbenzoic acid, hexylbenzoic acid, cyclohexylbenzoic acid, naphthalenecarboxylic acid, hexanoic acid, heptanoic acid, octanoic acid, ethylhexanoic acid, hexenoic acid, octenoic acid, citronellic acid, suberin Acid, ethylene glycol bis (4-carboxyphenyl) ether, (2-butoxyethoxy) acetic acid and the like.
The organic acid having an alkyl group having 8 or more carbon atoms as a partial structure is a compound having an alkyl group having 8 or more carbon atoms among organic acids, and specifically, nonanoic acid, decanoic acid, lauric acid, and myristine. Acids, palmitic acid, stearic acid, tricosanoic acid, lignoceric acid, oleic acid, eicosadienoic acid, linolenic acid, sebacic acid, (2-octyloxy) acetic acid, and the like.

有機アミンとしては、芳香環、エーテル基を有しても良い、末端にアミノ基を有する化合物を用いることができる。具体例として、n−ブチルアミン、iso−ブチルアミン、tert−ブチルアミン、n−ヘキシルアミン、n−ヘプチルアミン、シクロヘキシルアミンが挙げられる。炭素数8以上のアルキル基を部分構造として有する有機アミンとしては、オクチルアミン、ドデカアミン、ヘプタデカン−9−アミン、N,N−ジメチル−n−オクチルアミン等が挙げられる。   As the organic amine, a compound having an amino group at a terminal which may have an aromatic ring or an ether group can be used. Specific examples include n-butylamine, iso-butylamine, tert-butylamine, n-hexylamine, n-heptylamine, and cyclohexylamine. Examples of the organic amine having an alkyl group having 8 or more carbon atoms as a partial structure include octylamine, dodecaamine, heptadecane-9-amine, and N, N-dimethyl-n-octylamine.

硫黄含有有機物としては、芳香環、エーテル基を有しても良い、チオール類とジスルフィド類が挙げられる。
チオール類としては、アリルメルカプタン、1,3-ベンゼンジメタンチオール、2-アミノ-5-メルカプト-1,3,4-チアジアゾール、3-アミノ-5-メルカプト-1,2,4-トリアゾールブタンチオール、n-ヘキサンチオール、n−ヘプタンチオール、等が挙げられる。炭素数8以上のアルキル基を部分構造として有するチオール類の硫黄含有有機物としては、ドデカンチオール、1-ドコサンチオール、tert-ドデシルメルカプタン等が挙げられる。
ジスルフィド類としては、ビス(4-クロロ-2-ニトロフェニル)ジスルフィド、ヘキシルスルフィド、3,3',5,5'-テトラクロロジフェニルジスルフィド等が挙げられる。炭素数8以上のアルキル基を部分構造として有するスルフィド類の硫黄含有有機物としては、ドデシルジスルフィド、オクタデシルジスルフィド、ドデシルオクタデシルジスルフィド等が挙げられる。
Examples of the sulfur-containing organic substance include thiols and disulfides which may have an aromatic ring and an ether group.
As thiols, allyl mercaptan, 1,3-benzenedimethanethiol, 2-amino-5-mercapto-1,3,4-thiadiazole, 3-amino-5-mercapto-1,2,4-triazolebutanethiol , N-hexanethiol, n-heptanethiol, and the like. Examples of the sulfur-containing organic substances of thiols having an alkyl group having 8 or more carbon atoms as a partial structure include dodecanethiol, 1-docosanthiol, tert-dodecylmercaptan and the like.
Examples of the disulfide include bis (4-chloro-2-nitrophenyl) disulfide, hexyl sulfide, 3,3 ′, 5,5′-tetrachlorodiphenyl disulfide, and the like. Examples of the sulfur-containing organic substances of sulfides having an alkyl group having 8 or more carbon atoms as a partial structure include dodecyl disulfide, octadecyl disulfide, dodecyl octadecyl disulfide, and the like.

リン含有有機物としては、芳香環、エーテル基を有しても良い、末端にリン酸基を有する化合物を用いることができる。具体例として、リン酸ブチル、リン酸ヘキシル、リン酸ジイソプロピル、(2-エチルヘキシル)ホスホン酸モノ-2-エチルヘキシル、プロピルホスホン酸、ヘキシルホスホン酸、ヘキシルホスホン酸メチル、イソプロピルホスホン酸ヘキシル等が挙げられる。
炭素数8以上のアルキル基を部分構造として有するリン含有有機物としては、リン酸オクチル、リン酸ジドデシル、リン酸ドデシル、ドデシルホスホン酸、ヘキシルホスホン酸ドデシル、デシルホスホン酸、デシルホスホン酸イソプロピル等が挙げられる。
As the phosphorus-containing organic substance, a compound which may have an aromatic ring or an ether group and has a terminal phosphate group can be used. Specific examples include butyl phosphate, hexyl phosphate, diisopropyl phosphate, mono-2-ethylhexyl (2-ethylhexyl) phosphonate, propyl phosphonic acid, hexyl phosphonic acid, methyl hexyl phosphonate, hexyl isopropyl phosphonate, and the like. .
Examples of the phosphorus-containing organic substance having an alkyl group having 8 or more carbon atoms as a partial structure include octyl phosphate, didodecyl phosphate, dodecyl phosphate, dodecylphosphonic acid, dodecyl hexylphosphonate, decylphosphonic acid, and isopropyl decylphosphonate. Can be

合成時の処理剤として用いることのできる有機物には、上記の有機酸基、アミノ基、硫黄含有基、リン含有基のうちの同じまたは異なるグループから選ばれる基を複数有していても良い。   The organic substance that can be used as a treating agent at the time of synthesis may have a plurality of groups selected from the same or different groups among the above organic acid groups, amino groups, sulfur-containing groups, and phosphorus-containing groups.

本発明の半導体微粒子の合成方法としては、ガラス中で作成する方法、水溶液中で合成する方法、有機溶媒中で合成する方法など、一般的に知られている方法を用いることができる。特に、InP/ZnSコアシェル型量子ドットに関しては技術文献「Journal of American Chemical Society.2007,129,15432−15433」、「Journal of American Chemical Society.2016,138,5923−5929」、InCuS2/ZnSコアシェル型量子ドットに関しては技術文献「Journal of American Chemical Society.2009,131,5691−5697」 技術文献 「Chemistry of Materials.2009,21,2422−2429」、Si量子ドットに関しては技術文献「Journal of American Chemical Society.2010,132,248−253」記載されている方法を参照して合成することができる。   As a method for synthesizing the semiconductor fine particles of the present invention, generally known methods such as a method for preparing in a glass, a method for synthesizing in an aqueous solution, and a method for synthesizing in an organic solvent can be used. In particular, regarding the InP / ZnS core-shell type quantum dots, the technical documents “Journal of American Chemical Society. 2007, 129, 15432-15433”, “Journal of American Chemical Society. 2016, 138, 5923-592Zn core”. Technical documents "Journal of American Chemical Society. 2009, 131, 5691-5697" for quantum dots, technical documents "Chemistry of Materials. 2009, 21, 4222-2429", and technical documents "Journalic anonymous company for Si quantum dots. .2010, 132, 2 48-253 ", and can be synthesized.

合成時に用いた処理剤で表面処理された半導体微粒子組成物の本発明の被覆材料への交換は、表面処理された半導体微粒子組成物と本発明の被覆材料を混合し、溶剤中で撹拌するか、表面処理された半導体微粒子組成物を遠心沈降などで溶剤をおおよそ取り除いた後、本発明の被覆材料を含む溶剤に半導体微粒子を再分散させる方法などで行うことができる。これによって塗工液やインキに好適な所望の溶剤や樹脂との親和性の高い被覆材料に表面処理することで、目的とする塗工物や印刷物という最終形態を得ることができ、前記の通り、半導体微粒子組成物、特に量子ドットとして非常に高特性の組成物として最終形態に好適に使用できることになる。なお、合成時や塗工液、インキとする際に、本発明の被覆材料と、前記の一般的な合成時の処理剤を被覆材料として併用しても構わない。   Exchange of the semiconductor fine particle composition surface-treated with the treating agent used in the synthesis to the coating material of the present invention is performed by mixing the surface-treated semiconductor fine particle composition with the coating material of the present invention and stirring in a solvent, or After the solvent is roughly removed from the treated semiconductor fine particle composition by centrifugal sedimentation or the like, the method can be performed by, for example, redispersing the semiconductor fine particles in the solvent containing the coating material of the present invention. By performing a surface treatment on a coating material having a high affinity with a desired solvent or resin suitable for a coating liquid or an ink, a final form of a target coated product or printed material can be obtained as described above. As a result, the semiconductor fine particle composition, particularly a composition having very high characteristics as a quantum dot, can be suitably used in the final form. The coating material of the present invention may be used in combination with the above-mentioned general synthesis processing agent as a coating material when synthesizing, or when forming a coating liquid or ink.

<溶剤と樹脂、添加剤>
本発明で使用される溶剤としては、トルエン、1,2,3−トリクロロプロパン、1,3-ブチレングリコール、1,3-ブチレングリコールジアセテート、1,4−ジオキサン、2−ヘプタノン、2−メチル−1,3−プロパンジオール、3,5,5-トリメチル-2-シクロヘキセン-1-オン、3,3,5−トリメチルシクロヘキサノン、3−エトキシプロピオン酸エチル、3−メチル−1,3−ブタンジオール、3−メトキシ−3−メチル−1−ブタノール、3−メトキシ−3−メチルブチルアセテート、3-メトキシブタノール、3−メトキシブチルアセテート、4−ヘプタノン、m−キシレン、m−ジエチルベンゼン、m−ジクロロベンゼン、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、n−ブチルアルコール、n−ブチルベンゼン、n−プロピルアセテート、N−メチルピロリドン、o−キシレン、o−クロロトルエン、o−ジエチルベンゼン、o−ジクロロベンゼン、P−クロロトルエン、P−ジエチルベンゼン、sec−ブチルベンゼン、tert−ブチルベンゼン、γ―ブチロラクトン、水、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ターシャルターシャルブタノール、イソブチルアルコール、イソホロン、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノターシャリーブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジイソブチルケトン、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、シクロヘキサノール、シクロヘキサノールアセテート、シクロヘキサノン、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ダイアセトンアルコール、トリアセチン、トリプロピレングリコールモノブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールジアセテート、プロピレングリコールフェニルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート、ベンジルアルコール、メチルイソブチルケトン、メチルシクロヘキサノール、酢酸n−アミル、酢酸n−ブチル、酢酸イソアミル、酢酸イソブチル、酢酸プロピル、及び二塩基酸エステル等が挙げられる。
<Solvent and resin, additive>
The solvent used in the present invention includes toluene, 1,2,3-trichloropropane, 1,3-butylene glycol, 1,3-butylene glycol diacetate, 1,4-dioxane, 2-heptanone, 2-methyl -1,3-propanediol, 3,5,5-trimethyl-2-cyclohexen-1-one, 3,3,5-trimethylcyclohexanone, ethyl 3-ethoxypropionate, 3-methyl-1,3-butanediol , 3-methoxy-3-methyl-1-butanol, 3-methoxy-3-methylbutyl acetate, 3-methoxybutanol, 3-methoxybutyl acetate, 4-heptanone, m-xylene, m-diethylbenzene, m-dichlorobenzene , N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, n-butyl alcohol, n-butylbenzene, n-propyl acetate, N-methylpyrrolidone, o-xylene, o-chlorotoluene, o-diethylbenzene, o-dichlorobenzene, P-chlorotoluene, P-diethylbenzene, sec-butylbenzene, tert-butylbenzene, γ-butyrolactone , Water, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, tertiary tert-butanol, isobutyl alcohol, isophorone, ethylene glycol diethyl ether, ethylene glycol dibutyl ether, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene Glycol monotertiary butyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monobutyl Ether acetate, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monohexyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, diisobutyl ketone, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol monoisopropyl ether, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monobutyl ether , Diethylene glycol monobutyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether, cyclohexanol, cyclohexanol acetate, cyclohexanone, dipropylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol methyl ether acetate, Propylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monobutyl ether, dipropylene glycol monopropyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, diacetone alcohol, triacetin, tripropylene glycol monobutyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, propylene glycol diacetate, propylene glycol Phenyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monopropyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether Propionate, benzyl alcohol, methyl isobutyl ketone, methyl cyclohexanol, acetic acid n- amyl acetate n- butyl, isoamyl acetate, isobutyl acetate, propyl acetate, and dibasic acid esters.

このうちインクジェット法で印刷するためには、吐出ヘッドでの乾燥を防ぐために、常圧における沸点が120℃以上の溶剤である必要がある。常圧における沸点が120℃以上の溶剤の例を挙げる。1,4-ブタンジオール(228℃)、1,3-ブタンジオール(208℃)、2-エチル-1-ヘキサノール(185℃)、ベンジルアルコール(205℃)、ジイソブチルケトン(168℃)、シクロヘキサノン(156℃)、ジアセトンアルコール(168℃)、酢酸ブチル(121℃)、酢酸メトキシブチル(171℃)、酢酸セロソルブ(156℃)、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(146℃)、酢酸アミル(130℃)、乳酸メチル(145℃)乳酸エチル(154℃)、乳酸ブチル(188℃)、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート(145℃)、エチレングリコールモノメチルエーテル(125℃)、エチレングリコールモノエチルエーテル(134℃)、エチレングリコールモノブチルエーテル(171℃)、エチレングリコール(197℃)、プロピレングリコール(187℃)、プロピレングリコールモノメチルエーテル(121℃)、メトキシメチルブタノール(173℃)、ジエチレングリコールジメチルエーテル(162℃)、エチレングリコールジエチルエーテル(121℃)、パークロロエチレン(121℃)、ジクロロベンゼン(180℃)、N-メチル-2-ピロリドン(202℃)、ジメチルホルムアミド(153℃)、3-エトキシプロピオン酸エチル(170℃)、γ―ブチロラクトン(203℃)、ジメチルスルホキシシド(189℃)等が挙げられる。
溶解性から炭化水素系の常圧における沸点が120℃以上の溶剤が好ましく、特に芳香族炭化水素系の常圧における沸点が120℃以上の溶剤は好ましい。
Among these, in order to perform printing by the ink jet method, it is necessary that the solvent has a boiling point at normal pressure of 120 ° C. or higher in order to prevent drying by the discharge head. Examples of solvents having a boiling point of 120 ° C. or higher at normal pressure are given. 1,4-butanediol (228 ° C.), 1,3-butanediol (208 ° C.), 2-ethyl-1-hexanol (185 ° C.), benzyl alcohol (205 ° C.), diisobutyl ketone (168 ° C.), cyclohexanone ( 156 ° C), diacetone alcohol (168 ° C), butyl acetate (121 ° C), methoxybutyl acetate (171 ° C), cellosolve acetate (156 ° C), propylene glycol monomethyl ether acetate (146 ° C), amyl acetate (130 ° C) Methyl lactate (145 ° C) ethyl lactate (154 ° C), butyl lactate (188 ° C), ethylene glycol monomethyl ether acetate (145 ° C), ethylene glycol monomethyl ether (125 ° C), ethylene glycol monoethyl ether (134 ° C), Ethylene glycol monobutyl ether (17 1 ° C.), ethylene glycol (197 ° C.), propylene glycol (187 ° C.), propylene glycol monomethyl ether (121 ° C.), methoxymethyl butanol (173 ° C.), diethylene glycol dimethyl ether (162 ° C.), ethylene glycol diethyl ether (121 ° C.) , Perchloroethylene (121 ° C), dichlorobenzene (180 ° C), N-methyl-2-pyrrolidone (202 ° C), dimethylformamide (153 ° C), ethyl 3-ethoxypropionate (170 ° C), γ-butyrolactone ( 203 ° C.) and dimethylsulfoxyside (189 ° C.).
From the viewpoint of solubility, a hydrocarbon solvent having a boiling point of 120 ° C. or more at normal pressure is preferable, and an aromatic hydrocarbon solvent having a boiling point of 120 ° C. or more at normal pressure is particularly preferable.

常圧における沸点が120℃以上の炭化水素系溶剤としては、オクタン(125℃)、デカン(174℃)、1−デセン(171℃)、デカヒドロナフタレン(191℃)、ブチルシクロヘキサン(180℃)、2,3,−ジメチルヘプタン(140℃)等が挙げられる。
常圧における沸点が120℃以上の芳香族炭化水素系溶剤としては、キシレン(138℃)、メシチレン(164℃)、メチルナフタレン(245℃)、tert−ブチルベンゼン(168℃)、n−ブチルベンゼン(183℃)等が挙げられる。
Octane (125 ° C), decane (174 ° C), 1-decene (171 ° C), decahydronaphthalene (191 ° C), and butylcyclohexane (180 ° C) include hydrocarbon solvents having a boiling point of 120 ° C or more at normal pressure. , 2,3, -dimethylheptane (140 ° C).
Examples of aromatic hydrocarbon solvents having a boiling point of 120 ° C. or higher at normal pressure include xylene (138 ° C.), mesitylene (164 ° C.), methylnaphthalene (245 ° C.), tert-butylbenzene (168 ° C.), and n-butylbenzene. (183 ° C.).

また、本発明のインクジェットインキでは、沸点が120℃未満の溶剤も含有することができる。含有する溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ノルマルプロピルアルコール、ブタノール、イソブタノール、ターシャリーブタノール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸メチル、酢酸ノルマルプロピル、酢酸イソプロピル、1,4-ジオキサン、メチルターシャリーブチルエーテル、イソプロピルエーテル)、エチレングリコールジメチルエーテル、塩化メチレン、トリクロロエチレン、フルオロカーボン、ブロモプロパン、クロロホルム、テトラヒドロフラン、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、アセトニトリル、1,3-ジオキソラン等を挙げることができる。
沸点が120℃未満の溶剤は、揮発分中0〜60%の範囲内で混合することが好ましい。これ以上の含有率では、インキの乾燥が早くなり、インクジェットの吐出が困難になる場合がある。
Further, the inkjet ink of the present invention may also contain a solvent having a boiling point of less than 120 ° C. Examples of the contained solvent include methanol, ethanol, isopropyl alcohol, normal propyl alcohol, butanol, isobutanol, tert-butanol, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, ethyl acetate, methyl acetate, normal propyl acetate, isopropyl acetate, 1,4 -Dioxane, methyl tert-butyl ether, isopropyl ether), ethylene glycol dimethyl ether, methylene chloride, trichloroethylene, fluorocarbon, bromopropane, chloroform, tetrahydrofuran, dimethyl carbonate, diethyl carbonate, acetonitrile, 1,3-dioxolan and the like.
It is preferable that the solvent having a boiling point of less than 120 ° C. is mixed within a range of 0 to 60% of the volatile components. If the content is more than this, drying of the ink is accelerated, and it may be difficult to discharge the ink jet.

樹脂としては、石油系樹脂、マレイン酸樹脂、ニトロセルロース、セルロースアセテートブチレート、環化ゴム、塩化ゴム、アルキド樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、アミノ樹脂、ビニル樹脂、又はブチラール樹脂等があげられ、塗工、印刷方式や基材により適時選択することができる。さらに、含有してもよい樹脂として、直鎖オレフィン系樹脂、芳香族ポリエーテル系樹脂、ポリイミド系樹脂、フルオレンポリカーボネート系樹脂、フルオレンポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド(アラミド)系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリサルホン系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリパラフェニレン系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリエチレンナフタレート(PEN)系樹脂、フッ素化芳香族ポリマー系樹脂、(変性)アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、アリルエステル系硬化型樹脂及びシルセスキオキサン系紫外線硬化樹脂等が挙げられる。   Examples of the resin include petroleum resin, maleic acid resin, nitrocellulose, cellulose acetate butyrate, cyclized rubber, chlorinated rubber, alkyd resin, acrylic resin, polyester resin, amino resin, vinyl resin, and butyral resin. It can be selected as appropriate depending on the coating, printing method and base material. Further, as resins that may be contained, linear olefin resins, aromatic polyether resins, polyimide resins, fluorene polycarbonate resins, fluorene polyester resins, polycarbonate resins, polyamide (aramid) resins, polyarylates Resin, polysulfone resin, polyethersulfone resin, polyparaphenylene resin, polyamideimide resin, polyethylene naphthalate (PEN) resin, fluorinated aromatic polymer resin, (modified) acrylic resin, epoxy Resins, allyl ester-based curable resins, and silsesquioxane-based ultraviolet curable resins.

本発明の塗工液、インキには、表面張力を調整し印刷基材上でのインキの濡れ性を確保する目的で、界面活性剤を添加してもよい。本発明では、陽イオン性、陰イオン性、両性、非イオン性の何れの界面活性剤も用いる事が可能である。   A surfactant may be added to the coating liquid and the ink of the present invention for the purpose of adjusting the surface tension and ensuring the wettability of the ink on the printing substrate. In the present invention, any of cationic, anionic, amphoteric, and nonionic surfactants can be used.

陽イオン性界面活性剤としては、脂肪酸アミン塩、脂肪族4級アンモニウム塩、ベンザルコニウム塩、塩化ベンゼトニウム、ピリジニウム塩、イミダゾリニウム塩等が挙げられる。   Examples of the cationic surfactant include fatty acid amine salts, aliphatic quaternary ammonium salts, benzalkonium salts, benzethonium chloride, pyridinium salts, imidazolinium salts and the like.

陰イオン性界面活性剤としては、脂肪酸石鹸、N−アシル−N−メチルグリシン塩、N−アシル−N−メチル−β−アラニン塩、N−アシルグルタミン酸塩、アシル化ペプチド、アルキルスルフォン酸塩、アルキルベンゼンスルフォン酸塩、アルキルナフタレンスルフォン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸エステル塩、アルキルスルホ酢酸塩、α−オレフィンスルホン酸塩、N−アシルメチルタウリン、硫酸化油、高級アルコール硫酸エステル塩、 第二級高級アルコール硫酸エステル塩、アルキルエーテル硫酸塩、第二級高級アルコールエトキシサルフェート、脂肪酸アルキロールアミド硫酸エステル塩、アルキルエーテルリン酸エステル塩、アルキルリン酸エステル塩等が挙げられる。   Examples of the anionic surfactant include fatty acid soap, N-acyl-N-methylglycine salt, N-acyl-N-methyl-β-alanine salt, N-acylglutamate, acylated peptide, alkyl sulfonate, Alkyl benzene sulfonate, alkyl naphthalene sulfonate, dialkyl sulfosuccinate, alkyl sulfo acetate, α-olefin sulfonate, N-acylmethyl taurine, sulfated oil, higher alcohol sulfate, secondary higher alcohol Sulfate, alkyl ether sulfate, secondary higher alcohol ethoxy sulfate, fatty acid alkylolamide sulfate, alkyl ether phosphate, alkyl phosphate, and the like.

両性界面活性剤としては、カルボキシベタイン型、スルホベタイン型、アミノカルボン酸塩、イミダゾリニウムベタイン等が挙げられる。
非イオン界面活性剤としては、例えばポリオキシエチレン二級アルコールエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンステロールエーテル、ポリオキシエチレンラノリン誘導体ポリオキシエチレンポリプロピレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンヒマシ油、硬化ヒマシ油、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸エステル、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル、脂肪酸モノグリセリド、ポリグリセリン脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、プロピレングリコール脂肪酸エステル、ショ糖脂肪酸エステル、脂肪酸アルカノールアミド、ポリオキシエチレン脂肪酸アミド、ポリオキシエチレンアルキルアミン、アルキルアミンオキサイド、アセチレングリコール、アセチレンアルコール等が挙げられる。
Examples of the amphoteric surfactant include a carboxybetaine type, a sulfobetaine type, an aminocarboxylate, and imidazolinium betaine.
Examples of the nonionic surfactant include polyoxyethylene secondary alcohol ether, polyoxyethylene alkylphenyl ether, polyoxyethylene sterol ether, polyoxyethylene lanolin derivative polyoxyethylene polypropylene alkyl ether, polyoxyethylene glycerin fatty acid ester, and polyoxyethylene glycerin fatty acid ester. Oxyethylene castor oil, hydrogenated castor oil, polyoxyethylene sorbitol fatty acid ester, polyethylene glycol fatty acid ester, fatty acid monoglyceride, polyglycerin fatty acid ester, sorbitan fatty acid ester, propylene glycol fatty acid ester, sucrose fatty acid ester, fatty acid alkanolamide, polyoxyethylene Fatty acid amide, polyoxyethylene alkylamine, alkylamine oxide, Ji glycol, acetylene alcohol, and the like.

界面活性剤のなかでも、印刷基材への濡れ性を向上させるためにも、表面張力調整剤を用いる事が好ましく、具体的には、アセチレンジオール系、シリコン系、アクリル系、フッ素系が好ましい。上記の界面活性剤は単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。   Among the surfactants, in order to improve the wettability to the printing substrate, it is preferable to use a surface tension adjuster, specifically, acetylene diol type, silicon type, acrylic type, and fluorine type are preferable. . The above surfactants may be used alone or in combination of two or more.

本発明の塗工液、インキは可塑剤、紫外線防止剤、光安定化剤、酸化防止剤、加水分解防止剤等の種々の添加剤も使用することができる。   Various additives such as a plasticizer, an ultraviolet ray inhibitor, a light stabilizer, an antioxidant, and a hydrolysis inhibitor can be used in the coating liquid and ink of the present invention.

<印刷方式>
本発明の塗工物、印刷物は、基材上に本発明の塗工液を成膜、又は塗布することで得ることができる。公知の湿式成膜法、例えば、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイアーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、インクジェットプリント法、キャピラリ−コート法、ノズルコート法等の塗布法を用いて作製することができる。
基材としては、ガラス板や樹脂板等が挙げられる。
<Printing method>
The coating and printed matter of the present invention can be obtained by forming or coating the coating liquid of the present invention on a substrate. Known wet film forming methods, for example, spin coating, casting, microgravure coating, gravure coating, bar coating, roll coating, wire bar coating, dip coating, spray coating, screen printing, It can be prepared by using a coating method such as a flexographic printing method, an offset printing method, an ink jet printing method, a capillary coating method, a nozzle coating method and the like.
Examples of the substrate include a glass plate and a resin plate.

このうち本発明に用いるインクジェット印刷方式として、記録媒体に対しインクジェットインキを1回だけ吐出して記録するシングルパス方式、及び、記録媒体の最大記録幅の間を、記録媒体の搬送方向と直行する方向に短尺のシャトルヘッドを往復走査させながら記録を行うシリアル型方式の何れを採用しても良い。またインクジェット記録装置としては、インクジェットインキを吐出するインクジェットヘッド(インク吐出手段)と、インクジェットヘッドから吐出されたインキを乾燥させる乾燥工程を備える必要がある。インクジェットヘッドからインキが吐出されると、吐出されたインキは印刷基材上に着弾し画像が記録され、画像は印刷基材が搬送されるに従い、乾燥装置内に搬送され、乾燥処理が行われる。   Among them, the ink jet printing method used in the present invention includes a single pass method in which the ink jet ink is ejected to the recording medium only once and performs recording, and a recording medium having a maximum recording width, which is perpendicular to the conveying direction of the recording medium. Any of a serial type in which recording is performed while reciprocally scanning a short shuttle head in the direction may be employed. Further, the ink jet recording apparatus needs to include an ink jet head (ink discharging means) for discharging the ink jet ink and a drying step for drying the ink discharged from the ink jet head. When the ink is ejected from the ink jet head, the ejected ink lands on the printing substrate and an image is recorded, and the image is transported in a drying device as the printing substrate is transported, and a drying process is performed. .

インクジェット法には特に制限は無く、公知の方法、例えば静電誘引力を利用してインキを吐出させる電荷制御方法、ピエゾ素子の振動圧力を利用するドロップオンデマンド方式(圧力パルス方式)、電気信号を音響ビームに変えインキに照射して放射圧を利用しインキを吐出させる音響インクジェット方式、及びインキを加熱して気泡を形成し、生じた圧力を利用するサーマルインクジェット(バブルジェット(登録商標))方式等の何れであっても良い。   The ink jet method is not particularly limited, and is a known method, for example, a charge control method for discharging ink using electrostatic attraction, a drop-on-demand method (pressure pulse method) using a vibration pressure of a piezo element, an electric signal. Acoustic ink jet system that emits ink using radiation pressure by irradiating the ink into an acoustic beam and using thermal radiation, and thermal ink jet (bubble jet (registered trademark)) that heats the ink to form bubbles and uses the generated pressure Any method may be used.

またインクジェット法で用いるインクジェットヘッドは、オンデマンド方式でもコンティニアス方式でも構わない。さらに吐出法式としては、電気‐機械変換方式(例:シングルキャビティー型、ダブルキャビティー型、ベンダー型、ピストン型、シェアモード型、シェアードウォール型等)、電気‐熱変換方式(例:サーマルインクジェット型、バブルジェット(登録商標)型等)、静電吸引方式(例:電解制御型、スリットジェット型等)、及び放電方式(例:スパークジェット型等)等を具体的な例として挙げる事ができるが、何れの吐出方式を用いても構わない。なお、インクジェット法により記録を行う際に使用するインクノズル等については特に制限はなく、目的に応じて適宜選択する事ができる。   The ink jet head used in the ink jet method may be of an on-demand type or a continuous type. In addition, the discharge method includes electro-mechanical conversion method (eg, single cavity type, double cavity type, bender type, piston type, share mode type, shared wall type, etc.), and electro-thermal conversion method (eg, thermal inkjet) Type, bubble jet (registered trademark) type, etc., electrostatic suction type (eg, electrolytic control type, slit jet type, etc.), and discharge type (eg, spark jet type, etc.). However, any discharge method may be used. There is no particular limitation on the ink nozzles and the like used for recording by the ink jet method, and they can be appropriately selected according to the purpose.

インクジェットヘッドから吐出されるインキの液滴量としては、乾燥負荷軽減効果が大きく、画像品質の向上という点でも、0.2〜20ピコリットル(pL)が好ましく、1〜15ピコリットル(pL)がより好ましい。   The amount of ink droplets ejected from the inkjet head is preferably 0.2 to 20 picoliters (pL), and more preferably 1 to 15 picoliters (pL), from the viewpoint of a large drying load reduction effect and improvement in image quality. Is more preferred.

<波長変換フィルム及びカラーフィルター>
本発明の最終形態の一つである波長変換フィルム及びカラーフィルターは、光源からの光を吸収させ、吸収されなかった透過光又は光吸収によって生じた蛍光発光によって所望の波長の光を取り出す際に用いられるものである。特に本発明において量子ドットを使用する場合には、優れた量子収率の蛍光発光を利用することになる。本発明の波長変換フィルムは、基材上に本発明の塗工液又はインキ組成物を基材に塗布することで得られ、緑色と赤色の蛍光色を発する量子ドットを含有させた塗工又は印刷フィルムで、主にディスプレイパネルや照明において光源の青色光を白色光に変換する、あるいは色調の整っていない疑似白色光等を所望の色調に調整する平面状の部材である。
基材としては、ガラス板や樹脂板等が挙げられる。
<Wavelength conversion film and color filter>
The wavelength conversion film and the color filter, which are one of the final forms of the present invention, absorb light from a light source, and when extracting light of a desired wavelength by fluorescence light generated by transmitted light or light absorption that has not been absorbed. What is used. In particular, when quantum dots are used in the present invention, fluorescence emission with an excellent quantum yield will be used. The wavelength conversion film of the present invention is obtained by applying the coating liquid or the ink composition of the present invention on a substrate, and contains a quantum dot that emits green and red fluorescent colors. A printing film is a planar member that mainly converts blue light of a light source into white light in a display panel or lighting, or adjusts pseudo white light or the like having an untuned color to a desired color.
Examples of the substrate include a glass plate and a resin plate.

また、本発明のカラーフィルターは本発明の塗工液又はインキ組成物を用いてフィルターセグメントの少なくとも一つのセグメントを形成することで得られるカラーフィルターであり、特に液晶ディスプレイパネルに使用されるものであり、具体的には、ガラス等の透明な基板の表面に3種以上の異なる色相の微細なストライプ状のフィルターセグメントを平行又は交差して配置したもの、あるいは微細なモザイク状のフィルターセグメントを縦横一定の配列に配置したものからなっている。本発明においては、従来の白色光源から青、緑、赤の光を取り出す光吸収型カラーフィルターとは異なり、主に青色LED等を光源に、蛍光フィルターによって緑、赤を取り出すものである。量子ドットを使用した場合、光吸収による減光ではなく量子収率の高い蛍光での取出しになるためエネルギーロスが減るとともに、波長分布が狭く純色に近い色が得られるため、高効率のディスプレイを作製可能である。またこの時に、緑、赤の蛍光を出す量子ドットとして、本発明の被覆材料を用いた青色光部の吸光度の高いものを使用すれば、効率的に蛍光へ変換できるとともに、元の青色光の抜けも防止できるので、別途、青色を吸収する色素や光散乱物質を使わずとも、色純度の高いフィルターを得ることが可能となる。   Further, the color filter of the present invention is a color filter obtained by forming at least one of the filter segments using the coating liquid or the ink composition of the present invention, and is particularly used for a liquid crystal display panel. Yes, specifically, three or more types of fine stripe filter segments of different hues are arranged in parallel or intersecting on the surface of a transparent substrate such as glass, or fine mosaic filter segments are arranged vertically and horizontally. It consists of those arranged in a fixed array. In the present invention, unlike a light absorption type color filter that extracts blue, green, and red light from a conventional white light source, green and red are extracted mainly by using a blue LED or the like as a light source and a fluorescent filter. When quantum dots are used, energy loss is reduced because fluorescence is extracted with a high quantum yield rather than light reduction due to light absorption, and a color with a narrow wavelength distribution and close to a pure color is obtained. Can be manufactured. Also, at this time, if a quantum dot that emits green and red fluorescence has a high absorbance in the blue light portion using the coating material of the present invention, it can be efficiently converted to fluorescence and the original blue light can be converted. Since the omission can be prevented, a filter having high color purity can be obtained without using a pigment or a light scattering substance that absorbs blue separately.

カラーフィルターの製造は、一般的には、ベタ塗りの薄膜を作製後に、パターニング露光と現像での不要部取り除きというレジスト法によって作製することが多く、本発明における微粒子組成物においても適用することは可能であるが、工程数の違いによる生産性及び現像工程での材料ロスがないという低コスト観点から、本発明においてはインクジェット法を適用することが有利である。   In general, a color filter is often produced by a resist method of removing unnecessary portions by patterning exposure and development after producing a solid-coated thin film, and it is also applicable to the fine particle composition of the present invention. Although it is possible, it is advantageous to apply the inkjet method in the present invention from the viewpoint of productivity due to the difference in the number of steps and low cost in that there is no material loss in the developing step.

<発光素子>
また、本発明の最終形態の一つである塗工液又はインキ組成物を使用して形成された発光層を有する発光素子について詳細に説明する。
<Light emitting element>
Further, a light-emitting element having a light-emitting layer formed using a coating liquid or an ink composition, which is one of the final modes of the present invention, will be described in detail.

本発明における発光素子は、一般には電界発光素子と称され、陽極と陰極間に一層又は多層の有機層を形成した素子から構成されるが、ここで、一層型電界発光素子とは、陽極と陰極との間に発光層のみからなる素子を指す。一方、多層型電界発光素子とは、発光層の他に、発光層への正孔や電子の注入を容易にしたり、発光層内での正孔と電子との再結合を円滑に行わせたりすることを目的として、正孔注入層、正孔輸送層、正孔阻止層、電子注入層等を積層させたものを指す。また、発光層と陽極との間で発光層に隣接して存在し、発光層と陽極、又は発光層と、正孔注入層若しくは正孔輸送層とを隔離する役割をもつ層であるインターレイヤー層を挿入しても良い。したがって、多層型電界発光素子の代表的な素子構成としては、(1)陽極/正孔注入層/発光層/陰極、(2)陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/陰極、(3)陽極/正孔注入層/発光層/電子注入層/陰極、(4)陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/電子注入層/陰極、(5)陽極/正孔注入層/発光層/正孔阻止層/電子注入層/陰極、(6)陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/正孔阻止層/電子注入層/陰極、(7)陽極/発光層/正孔阻止層/電子注入層/陰極、(8)陽極/発光層/電子注入層/陰極(9)陽極/正孔注入層/正孔輸送層/インターレイヤー層/発光層/陰極、(10)陽極/正孔注入層/インターレイヤー層/発光層/電子注入層/陰極、(11)陽極/正孔注入層/正孔輸送層/インターレイヤー層/発光層/電子注入層/陰極、等の多層構成で積層した素子構成が考えられる。   The light-emitting element of the present invention is generally called an electroluminescent element, and is constituted by an element in which one or more organic layers are formed between an anode and a cathode. It refers to an element consisting of only a light emitting layer between the light emitting layer and the cathode. On the other hand, the multi-layer electroluminescent device is intended to facilitate the injection of holes and electrons into the light emitting layer in addition to the light emitting layer, and to facilitate the recombination of holes and electrons in the light emitting layer. For the purpose of doing so, it refers to a laminate of a hole injection layer, a hole transport layer, a hole blocking layer, an electron injection layer, and the like. Further, an interlayer which is adjacent to the light emitting layer between the light emitting layer and the anode and has a role of isolating the light emitting layer and the anode or the light emitting layer and the hole injection layer or the hole transport layer. Layers may be inserted. Therefore, typical device configurations of the multilayer electroluminescent device include (1) anode / hole injection layer / light emitting layer / cathode, and (2) anode / hole injection layer / hole transport layer / light emitting layer / cathode. (3) anode / hole injection layer / light emitting layer / electron injection layer / cathode, (4) anode / hole injection layer / hole transport layer / light emitting layer / electron injection layer / cathode, (5) anode / positive (6) anode / hole injection layer / hole transport layer / light emitting layer / hole blocking layer / electron injection layer / cathode; (7) anode / hole injection layer / hole blocking layer / electron injection layer / cathode Anode / light emitting layer / hole blocking layer / electron injection layer / cathode, (8) anode / light emitting layer / electron injection layer / cathode (9) anode / hole injection layer / hole transport layer / interlayer layer / light emitting layer / Cathode, (10) anode / hole injection layer / interlayer layer / emission layer / electron injection layer / cathode, (11) anode / hole injection layer / hole transport layer / inter Layer / light emitting layer / electron injection layer / cathode, an element formed by laminating a multilayer structure etc. can be considered.

上述した各層は、それぞれ二層以上の層構成により形成されても良く、いくつかの層が繰り返し積層されていても良い。そのような例として、近年、光取り出し効率の向上を目的に、上述の多層型電界発光素子の一部の層を多層化する「マルチ・フォトン・エミッション」と呼ばれる素子構成が提案されている。これは例えば、ガラス基板/陽極/正孔輸送層/電子輸送性発光層/電子注入層/電荷発生層/発光ユニット/陰極から構成される電界発光素子に於いて、電荷発生層と発光ユニットの部分を複数層積層するといった方法が挙げられる。   Each of the above-described layers may be formed of two or more layers, and some layers may be repeatedly laminated. As such an example, in recent years, an element configuration called “multi-photon emission” has been proposed in which some layers of the above-mentioned multilayer electroluminescent element are multilayered for the purpose of improving light extraction efficiency. For example, in an electroluminescent device composed of a glass substrate / anode / hole transporting layer / electron transporting light emitting layer / electron injection layer / charge generating layer / light emitting unit / cathode, the charge generating layer and the light emitting unit There is a method of laminating a plurality of portions.

正孔注入層には、発光層に対して優れた正孔注入効果を示し、かつ陽極界面との密着性と薄膜形成性に優れた正孔注入層を形成できる正孔注入材料が用いられる。また、このような材料を多層積層させ、正孔注入効果の高い材料と正孔輸送効果の高い材料とを多層積層させた場合、それぞれに用いる材料を正孔注入材料、正孔輸送材料と呼ぶことがある。本発明の電界発光素子用材料は、正孔注入材料、正孔輸送材料いずれにも好適に使用することができる。これら正孔注入材料や正孔輸送材料は、正孔移動度が大きく、イオン化エネルギーが通常5.5eV以下と小さい必要がある。このような正孔注入層としては、より低い電界強度で正孔を発光層に輸送する材料が好ましく、さらに正孔の移動度が、例えば10〜10V/cmの電界印加時に、少なくとも10−6cm/V・秒であるものが好ましい。本発明の電界発光素子用材料と混合して使用することができる、他の正孔注入材料及び正孔輸送材料としては、上記の好ましい性質を有するものであれば特に制限はなく、従来、光導伝材料において正孔の電荷輸送材料として慣用されているものや、電界発光素子の正孔注入層に使用されている公知のものの中から任意のものを選択して用いることができる。 For the hole injection layer, a hole injection material that exhibits an excellent hole injection effect with respect to the light emitting layer, and that can form a hole injection layer having excellent adhesion to the anode interface and excellent thin film formation properties is used. In the case where such materials are stacked in multiple layers and a material having a high hole-injection effect and a material having a high hole-transport effect are stacked in layers, the materials used for each are called a hole-injection material and a hole-transport material. Sometimes. The electroluminescent device material of the present invention can be suitably used as both a hole injection material and a hole transport material. These hole injection materials and hole transport materials need to have a high hole mobility and a small ionization energy of usually 5.5 eV or less. As such a hole injecting layer, a material that transports holes to the light emitting layer with a lower electric field strength is preferable, and the mobility of holes is, for example, at least when an electric field of 10 4 to 10 6 V / cm is applied. It is preferably 10 −6 cm 2 / V · sec. The other hole injecting material and hole transporting material that can be used by being mixed with the material for an electroluminescent element of the present invention are not particularly limited as long as they have the above preferable properties. In the conductive material, an arbitrary material can be selected from those commonly used as a hole charge transporting material and known materials used in a hole injection layer of an electroluminescent element.

このような正孔注入材料や正孔輸送材料としては、具体的には、例えばトリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、ポリシラン系誘導体、アニリン系共重合体、導電性高分子オリゴマー(特にチオフェンオリゴマー)等をあげることができる。   Specific examples of such a hole injection material and a hole transport material include, for example, a triazole derivative, an oxadiazole derivative, an imidazole derivative, a polyarylalkane derivative, a pyrazoline derivative and a pyrazolone derivative, a phenylenediamine derivative, and an arylamine derivative. , Amino-substituted chalcone derivatives, oxazole derivatives, styryl anthracene derivatives, fluorenone derivatives, hydrazone derivatives, stilbene derivatives, silazane derivatives, polysilane derivatives, aniline copolymers, conductive polymer oligomers (particularly thiophene oligomers) and the like. it can.

このうち、好適なものとして、ポルフィリン化合物、芳香族第三級アミン化合物及びスチリルアミン化合物を用いることもできる。例えば、2個の縮合芳香族環を分子内に有する4,4’−ビス(N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ)ビフェニル等や、トリフェニルアミンユニットが3つスターバースト型に連結された4,4’,4”−トリス(N−(3−メチルフェニル)−N−フェニルアミノ)トリフェニルアミン等をあげることができる。また、正孔注入材料として銅フタロシアニンや水素フタロシアニン等のフタロシアニン誘導体も挙げられる。さらに、その他、芳香族ジメチリデン系化合物、p型Si、p型SiC等の無機化合物も正孔注入材料や正孔輸送材料として使用することができる。   Among them, porphyrin compounds, aromatic tertiary amine compounds and styrylamine compounds can be preferably used. For example, 4,4′-bis (N- (1-naphthyl) -N-phenylamino) biphenyl having two condensed aromatic rings in a molecule, and three triphenylamine units linked in a star burst type 4,4 ', 4 "-tris (N- (3-methylphenyl) -N-phenylamino) triphenylamine and the like. Further, as a hole injecting material, copper phthalocyanine, hydrogen phthalocyanine, or the like can be used. In addition, an inorganic compound such as an aromatic dimethylidene-based compound, p-type Si, or p-type SiC can also be used as a hole injection material or a hole transport material.

さらに、正孔注入層に使用できる材料としては、酸化モリブデン(MnO)、酸化バナジウム(VO)、酸化ルテニウム(RuO)、酸化銅(CuO)、酸化タングステン(WO)、酸化イリジウム(IrO)等の無機酸化物も挙げられる。 Further, materials usable for the hole injection layer include molybdenum oxide (MnO x ), vanadium oxide (VO x ), ruthenium oxide (RuO x ), copper oxide (CuO x ), tungsten oxide (WO x ), and iridium oxide. Inorganic oxides such as (IrO x ) are also included.

上に説明した正孔注入層を形成するには、上述の化合物を、例えば真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、LB法等の公知の方法により薄膜化する。正孔注入層の膜厚は、特に制限はないが、通常は5nm〜5μmである。   In order to form the above-described hole injection layer, the above compound is thinned by a known method such as a vacuum evaporation method, a spin coating method, a casting method, and an LB method. The thickness of the hole injection layer is not particularly limited, but is usually 5 nm to 5 μm.

インターレイヤー層に用いる材料として、ポリビニルカルバゾール及びその誘導体、側鎖又は主鎖に芳香族アミンを有するポリアリーレン誘導体、アリールアミン誘導体、トリフェニルジアミン誘導体等の芳香族アミンを含むポリマーが例示される。また、インターレイヤー層の成膜方法は、高分子量の材料を用いる場合には、溶液からの成膜による方法が例示される。   Examples of the material used for the interlayer include polyvinyl carbazole and derivatives thereof, and polymers containing aromatic amines such as polyarylene derivatives having an aromatic amine in a side chain or a main chain, arylamine derivatives, and triphenyldiamine derivatives. In the case where a high molecular weight material is used, a method of forming a film from a solution is exemplified as a method of forming the interlayer.

溶液からのインターレイヤー層の成膜には、公知の湿式成膜法、例えば、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイアーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、インクジェットプリント法、キャピラリ−コート法、ノズルコート法等の塗布法を用いることができる。   For forming an interlayer from a solution, a known wet film forming method, for example, a spin coating method, a casting method, a microgravure coating method, a gravure coating method, a bar coating method, a roll coating method, a wire bar coating method, Coating methods such as dip coating, spray coating, screen printing, flexographic printing, offset printing, inkjet printing, capillary coating, and nozzle coating can be used.

インターレイヤー層の厚さは、用いる材料によって最適値が異なり、駆動電圧と発光効率が適度な値となるように選択すればよく、通常、1nm〜1μmであり、好ましくは2〜500nmであり、より好ましくは5〜200nmである。   The thickness of the interlayer is optimally different depending on the material used, and may be selected so that the driving voltage and the luminous efficiency have appropriate values. Usually, the thickness is 1 nm to 1 μm, and preferably 2 to 500 nm. More preferably, it is 5 to 200 nm.

一方、電子注入層には、発光層に対して優れた電子注入効果を示し、かつ陰極界面との密着性と薄膜形成性に優れた電子注入層を形成できる電子注入材料が用いられる。そのような電子注入材料の例としては、金属錯体化合物、含窒素五員環誘導体、フルオレノン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、ジフェノキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、ペリレンテトラカルボン酸誘導体、フレオレニリデンメタン誘導体、アントロン誘導体、シロール誘導体、トリアリールホスフィンオキシド誘導体、ポリキノリン及びその誘導体、ポリキノキサリン及びその誘導体、ポリフルオレン及びその誘導体、カルシウムアセチルアセトナート、酢酸ナトリウム等が挙げられる。また、セシウム等の金属をバソフェナントロリンにドープした無機/有機複合材料や、第50回応用物理学関連連合講演会講演予稿集、No.3、1402頁、2003年発行記載のBCP、TPP、T5MPyTZ等も電子注入材料の例として挙げられるが、素子作成に必要な薄膜を形成し、陰極からの電子を注入できて、電子を輸送できる材料であれば、特にこれらに限定されるものではない。   On the other hand, for the electron injection layer, an electron injection material that exhibits an excellent electron injection effect with respect to the light emitting layer, and that can form an electron injection layer having excellent adhesion to the cathode interface and excellent thin film formation properties is used. Examples of such electron injecting materials include metal complex compounds, nitrogen-containing five-membered ring derivatives, fluorenone derivatives, anthraquinodimethane derivatives, diphenoquinone derivatives, thiopyrandioxide derivatives, perylenetetracarboxylic acid derivatives, fluorenylidenemethane Derivatives, anthrone derivatives, silole derivatives, triarylphosphine oxide derivatives, polyquinolines and derivatives thereof, polyquinoxalines and derivatives thereof, polyfluorenes and derivatives thereof, calcium acetylacetonate, sodium acetate and the like. Also, an inorganic / organic composite material obtained by doping a metal such as cesium into bathophenanthroline, and a proceedings of the 50th Federation of Applied Physics-related lectures; 3, 1402, BCP, TPP, T5MPyTZ, etc., published in 2003, are also examples of electron injecting materials. However, a thin film necessary for device fabrication can be formed, electrons can be injected from a cathode, and electrons can be transported. The material is not particularly limited as long as it is a material.

上記電子注入材料の中で好ましいものとしては、金属錯体化合物、含窒素五員環誘導体、シロール誘導体、トリアリールホスフィンオキシド誘導体が挙げられる。本発明に使用可能な好ましい金属錯体化合物としては、8−ヒドロキシキノリン又はその誘導体の金属錯体が好適である。8−ヒドロキシキノリン又はその誘導体の金属錯体の具体例としては、トリス(8−ヒドロキシキノリナート)アルミニウム、トリス(2−メチル−8−ヒドロキシキノリナート)アルミニウム、トリス(4−メチル−8−ヒドロキシキノリナート)アルミニウム、トリス(5−メチル−8−ヒドロキシキノリナート)アルミニウム、トリス(5−フェニル−8−ヒドロキシキノリナート)アルミニウム、ビス(8−ヒドロキシキノリナート)(1−ナフトラート)アルミニウム、ビス(8−ヒドロキシキノリナート)(2−ナフトラート)アルミニウム、ビス(8−ヒドロキシキノリナート)(フェノラート)アルミニウム、ビス(8−ヒドロキシキノリナート)(4−シアノ−1−ナフトラート)アルミニウム、ビス(4−メチル−8−ヒドロキシキノリナート)(1−ナフトラート)アルミニウム、ビス(5−メチル−8−ヒドロキシキノリナート)(2−ナフトラート)アルミニウム、ビス(5−フェニル−8−ヒドロキシキノリナート)(フェノラート)アルミニウム、ビス(5−シアノ−8−ヒドロキシキノリナート)(4−シアノ−1−ナフトラート)アルミニウム、ビス(8−ヒドロキシキノリナート)クロロアルミニウム、ビス(8−ヒドロキシキノリナート)(o−クレゾラート)アルミニウム等のアルミニウム錯体化合物、トリス(8−ヒドロキシキノリナート)ガリウム、トリス(2−メチル−8−ヒドロキシキノリナート)ガリウム、トリス(4−メチル−8−ヒドロキシキノリナート)ガリウム、トリス(5−メチル−8−ヒドロキシキノリナート)ガリウム、トリス(2−メチル−5−フェニル−8−ヒドロキシキノリナート)ガリウム、ビス(2−メチル−8−ヒドロキシキノリナート)(1−ナフトラート)ガリウム、ビス(2−メチル−8−ヒドロキシキノリナート)(2−ナフトラート)ガリウム、ビス(2−メチル−8−ヒドロキシキノリナート)(フェノラート)ガリウム、ビス(2−メチル−8−ヒドロキシキノリナート)(4−シアノ−1−ナフトラート)ガリウム、ビス(2、4−ジメチル−8−ヒドロキシキノリナート)(1−ナフトラート)ガリウム、ビス(2、5−ジメチル−8−ヒドロキシキノリナート)(2−ナフトラート)ガリウム、ビス(2−メチル−5−フェニル−8−ヒドロキシキノリナート)(フェノラート)ガリウム、ビス(2−メチル−5−シアノ−8−ヒドロキシキノリナート)(4−シアノ−1−ナフトラート)ガリウム、ビス(2−メチル−8−ヒドロキシキノリナート)クロロガリウム、ビス(2−メチル−8−ヒドロキシキノリナート)(o−クレゾラート)ガリウム等のガリウム錯体化合物の他、8−ヒドロキシキノリナートリチウム、ビス(8−ヒドロキシキノリナート)銅、ビス(8−ヒドロキシキノリナート)マンガン、ビス(10−ヒドロキシベンゾ[h]キノリナート)ベリリウム、ビス(8−ヒドロキシキノリナート)亜鉛、ビス(10−ヒドロキシベンゾ[h]キノリナート)亜鉛等の金属錯体化合物が挙げられる。   Preferred examples of the electron injecting material include a metal complex compound, a nitrogen-containing five-membered ring derivative, a silole derivative, and a triarylphosphine oxide derivative. As a preferable metal complex compound usable in the present invention, a metal complex of 8-hydroxyquinoline or a derivative thereof is suitable. Specific examples of the metal complex of 8-hydroxyquinoline or a derivative thereof include tris (8-hydroxyquinolinato) aluminum, tris (2-methyl-8-hydroxyquinolinato) aluminum, tris (4-methyl-8- (Hydroxyquinolinato) aluminum, tris (5-methyl-8-hydroxyquinolinato) aluminum, tris (5-phenyl-8-hydroxyquinolinato) aluminum, bis (8-hydroxyquinolinato) (1-naphtholate) ) Aluminum, bis (8-hydroxyquinolinato) (2-naphtholate) aluminum, bis (8-hydroxyquinolinato) (phenolate) aluminum, bis (8-hydroxyquinolinato) (4-cyano-1-naphtholate) ) Aluminum, bis (4-methyl-8-) Droxyquinolinato) (1-naphtholate) aluminum, bis (5-methyl-8-hydroxyquinolinato) (2-naphtholate) aluminum, bis (5-phenyl-8-hydroxyquinolinato) (phenolate) aluminum, Bis (5-cyano-8-hydroxyquinolinato) (4-cyano-1-naphtholate) aluminum, bis (8-hydroxyquinolinato) chloroaluminum, bis (8-hydroxyquinolinato) (o-cresolate) Aluminum complex compounds such as aluminum, tris (8-hydroxyquinolinato) gallium, tris (2-methyl-8-hydroxyquinolinato) gallium, tris (4-methyl-8-hydroxyquinolinato) gallium, tris ( 5-methyl-8-hydroxyquinolinate) Lium, tris (2-methyl-5-phenyl-8-hydroxyquinolinate) gallium, bis (2-methyl-8-hydroxyquinolinate) (1-naphtholate) gallium, bis (2-methyl-8-hydroxy) Quinolinato) (2-naphtholate) gallium, bis (2-methyl-8-hydroxyquinolinato) (phenolate) gallium, bis (2-methyl-8-hydroxyquinolinate) (4-cyano-1-naphtholate) Gallium, bis (2,4-dimethyl-8-hydroxyquinolinate) (1-naphtholate) gallium, bis (2,5-dimethyl-8-hydroxyquinolinate) (2-naphtholate) gallium, bis (2 -Methyl-5-phenyl-8-hydroxyquinolinato) (phenolate) gallium, bis (2-methyl-5-cy Ano-8-hydroxyquinolinate) (4-cyano-1-naphtholate) gallium, bis (2-methyl-8-hydroxyquinolinate) chlorogallium, bis (2-methyl-8-hydroxyquinolinate) ( In addition to gallium complex compounds such as (o-cresolate) gallium, lithium 8-hydroxyquinolinato, bis (8-hydroxyquinolinato) copper, bis (8-hydroxyquinolinato) manganese, bis (10-hydroxybenzo [h ] Quinolinato) beryllium, bis (8-hydroxyquinolinato) zinc, metal complex compounds such as bis (10-hydroxybenzo [h] quinolinato) zinc.

また、本発明に使用可能な電子注入材料の内、好ましい含窒素五員環誘導体としては、オキサゾール誘導体、チアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、チアジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体があげられ、具体的には、2,5−ビス(1−フェニル)−1,3,4−オキサゾール、2,5−ビス(1−フェニル)−1,3,4−チアゾール、2,5−ビス(1−フェニル)−1,3,4−オキサジアゾール、2−(4’−tert−ブチルフェニル)−5−(4”−ビフェニル)1,3,4−オキサジアゾール、2,5−ビス(1−ナフチル)−1,3,4−オキサジアゾール、1,4−ビス[2−(5 −フェニルオキサジアゾリル)]ベンゼン、1,4−ビス[2−(5−フェニルオキサジアゾリル)−4−tert−ブチルベンゼン]、2−(4’−tert− ブチルフェニル)−5−(4”−ビフェニル)−1,3,4−チアジアゾール、2,5−ビス(1−ナフチル)−1,3,4−チアジアゾール、1,4−ビス[2−(5−フェニルチアジアゾリル)]ベンゼン、2−(4’−tert−ブチルフェニル)−5−(4”−ビフェニル)−1,3,4−トリアゾール、2,5−ビス(1−ナフチル)−1,3,4−トリアゾール、1,4−ビス[2−(5−フェニルトリアゾリル)]ベンゼン等が挙げられる。   Among the electron injecting materials that can be used in the present invention, preferred nitrogen-containing five-membered ring derivatives include oxazole derivatives, thiazole derivatives, oxadiazole derivatives, thiadiazole derivatives, and triazole derivatives. , 5-bis (1-phenyl) -1,3,4-oxazole, 2,5-bis (1-phenyl) -1,3,4-thiazole, 2,5-bis (1-phenyl) -1, 3,4-oxadiazole, 2- (4′-tert-butylphenyl) -5- (4 ″ -biphenyl) 1,3,4-oxadiazole, 2,5-bis (1-naphthyl) -1 , 3,4-oxadiazole, 1,4-bis [2- (5-phenyloxadiazolyl)] benzene, 1,4-bis [2- (5-phenyloxadiazolyl) -4-tert-butyl benzene], 2- (4′-tert-butylphenyl) -5- (4 ″ -biphenyl) -1,3,4-thiadiazole, 2,5-bis (1-naphthyl) -1,3,4-thiadiazole, 1, 4-bis [2- (5-phenylthiadiazolyl)] benzene, 2- (4′-tert-butylphenyl) -5- (4 ″ -biphenyl) -1,3,4-triazole, 2,5- Bis (1-naphthyl) -1,3,4-triazole, 1,4-bis [2- (5-phenyltriazolyl)] benzene and the like can be mentioned.

さらに、電子注入層に使用できる材料としては、酸化亜鉛(ZnO)、酸化チタン(TiO)等の無機酸化物も挙げられる。 Further, examples of a material that can be used for the electron injection layer include inorganic oxides such as zinc oxide (ZnO) and titanium oxide (TiO 2 ).

さらに、正孔阻止層には、発光層を経由した正孔が電子注入層に達するのを防ぎ、薄膜形成性に優れた層を形成できる正孔阻止材料が用いられる。そのような正孔阻止材料の例としては、ビス(8−ヒドロキシキノリナート)(4−フェニルフェノラート)アルミニウム等のアルミニウム錯体化合物や、ビス(2−メチル−8−ヒドロキシキノリナート)(4−フェニルフェノラート)ガリウム等のガリウム錯体化合物、2,9−ジメチル−4,7−ジフェニル−1,10−フェナントロリン(BCP)等の含窒素縮合芳香族化合物が挙げられる。   Further, the hole blocking layer is made of a hole blocking material that prevents holes passing through the light emitting layer from reaching the electron injection layer and can form a layer having excellent thin film forming properties. Examples of such a hole blocking material include aluminum complex compounds such as bis (8-hydroxyquinolinato) (4-phenylphenolate) aluminum and bis (2-methyl-8-hydroxyquinolinate) ( Gallium complex compounds such as (4-phenylphenolate) gallium; and nitrogen-containing condensed aromatic compounds such as 2,9-dimethyl-4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline (BCP).

本発明の電界発光素子の発光層としては、以下の機能を併せ持つものが好適である。
注入機能;電界印加時に陽極又は正孔注入層より正孔を注入することができ、陰極又は電子注入層より電子を注入することができる機能
輸送機能;注入した電荷(電子と正孔)を電界の力で移動させる機能
発光機能;電子と正孔の再結合の場を提供し、これを発光につなげる機能
ただし、正孔の注入されやすさと電子の注入されやすさには、違いがあってもよく、また正孔と電子の移動度で表される輸送能に大小があってもよい。
As the light emitting layer of the electroluminescent device of the present invention, those having the following functions are suitable.
Injection function; Capability of injecting holes from the anode or hole injection layer and injecting electrons from the cathode or electron injection layer when applying an electric field Transport function; Transfer of injected charges (electrons and holes) to the electric field The function of moving by the force of light; the function of providing a field of recombination of electrons and holes, and the function of connecting it to light emission. However, there is a difference between the ease of hole injection and the ease of electron injection. And the transport capacity represented by the mobility of holes and electrons may be large or small.

本発明の塗工液又はインキ組成物を使用して形成された発光層は好適に用いることが出来る。本発明の塗工液又はインキ組成物を使用して形成された発光層を得るために、本発明の塗工液又はインキ組成物に他の発光性の化合物と組み合わせて発光層を形成することができる。   The light emitting layer formed using the coating liquid or the ink composition of the present invention can be suitably used. Forming a light-emitting layer by combining the coating liquid or ink composition of the present invention with another light-emitting compound in order to obtain a light-emitting layer formed using the coating liquid or the ink composition of the present invention. Can be.

本発明の塗工液又はインキ組成物を使用して形成された発光層を得るために、本発明の塗工液又はインキ組成物に添加しても良い、青色から緑色の発光を示す化合物としては、ベンゾチアゾール系、ベンゾイミダゾール系、ベンゾオキサゾール系等の蛍光増白剤、金属キレート化オキシノイド化合物、スチリルベンゼン系化合物を用いることができる。   In order to obtain a light emitting layer formed using the coating liquid or the ink composition of the present invention, it may be added to the coating liquid or the ink composition of the present invention, as a compound that emits blue to green light. For example, benzothiazole-based, benzimidazole-based, benzoxazole-based fluorescent brighteners, metal-chelated oxinoid compounds, and styrylbenzene-based compounds can be used.

前記金属キレート化オキシノイド化合物としては、トリス(8−キノリノール)アルミニウム等の8−ヒドロキシキノリン系金属錯体や、ジリチウムエピントリジオン等が好適な化合物としてあげることができる。   Preferred examples of the metal chelated oxinoid compound include 8-hydroxyquinoline-based metal complexes such as tris (8-quinolinol) aluminum and dilithium epthridione.

また、前記スチリルベンゼン系化合物としては、例えば、ジスチリルピラジン誘導体も、発光層の材料として用いることができる。この他、ポリフェニル系化合物も、本発明の塗工液又はインキ組成物に加えても良い。   Further, as the styrylbenzene-based compound, for example, a distyrylpyrazine derivative can also be used as a material for the light emitting layer. In addition, a polyphenyl compound may be added to the coating liquid or the ink composition of the present invention.

さらに、上述した蛍光増白剤、金属キレート化オキシノイド化合物及びスチリルベンゼン系化合物等以外に、例えば12−フタロペリノン、1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、1,1,4,4−テトラフェニル−1,3−ブタジエン、ナフタルイミド誘導体、ペリレン誘導体、オキサジアゾール誘導体、アルダジン誘導体、ピラジリン誘導体、シクロペンタジエン誘導体、ピロロピロール誘導体、スチリルアミン誘導体、クマリン系化合物、高分子化合物、9,9’,10,10’−テトラフェニル−2,2’−ビアントラセン、PPV(ポリパラフェニレンビニレン)誘導体、ポリフルオレン誘導体やそれら共重合体等が挙げられる。さらにビス(2−メチル−8−キノリノラート)(パラ−フェニルフェノラート)アルミニウム(III)、ビス(2−メチル−8−キノリノラート)(1−ナフトラート)アルミニウム(III)等のフェノラート配位子と、置換8−キノリノラート配位子を同時に有する金属錯体が挙げられる。   Further, in addition to the above-described fluorescent whitening agent, metal chelated oxinoid compound, styrylbenzene-based compound, and the like, for example, 12-phthaloperinone, 1,4-diphenyl-1,3-butadiene, 1,1,4,4-tetraphenyl -1,3-butadiene, naphthalimide derivative, perylene derivative, oxadiazole derivative, aldazine derivative, pyrazin derivative, cyclopentadiene derivative, pyrrolopyrrole derivative, styrylamine derivative, coumarin compound, polymer compound, 9,9 ′, Examples thereof include 10,10′-tetraphenyl-2,2′-bianthracene, PPV (polyparaphenylene vinylene) derivatives, polyfluorene derivatives, and copolymers thereof. Phenolate ligands such as bis (2-methyl-8-quinolinolate) (para-phenylphenolate) aluminum (III) and bis (2-methyl-8-quinolinolate) (1-naphtholate) aluminum (III); Metal complexes having a substituted 8-quinolinolate ligand simultaneously are mentioned.

白色の発光を得る場合の発光層としては特に制限はないが、下記のものを用いることができる。電界発光積層構造体の各層のエネルギー準位を規定し、トンネル注入を利用して発光させるもの(欧州特許第0390551号公報)。同じくトンネル注入を利用する素子で実施例として白色発光素子が記載されているもの(特開平3−230584号公報)。二層構造の発光層が記載されているもの(特開平2−220390号公報及び特開平2−216790号公報)。発光層を複数に分割してそれぞれ発光波長の異なる材料で構成されたもの(特開平4−51491号公報)。青色発光体(蛍光ピーク380〜480nm)と緑色発光体(480〜580nm)とを積層させ、さらに赤色蛍光体を含有させた構成のもの(特開平6−207170号公報)。青色発光層が青色蛍光色素を含有し、緑色発光層が赤色蛍光色素を含有した領域を有し、さらに緑色蛍光体を含有する構成のもの(特開平7−142169号公報)。   The light emitting layer for emitting white light is not particularly limited, but the following can be used. One in which the energy level of each layer of the electroluminescent laminated structure is specified and light is emitted by utilizing tunnel injection (EP 0390551). Similarly, a white light-emitting element is described as an example of an element utilizing tunnel injection (Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-230584). One in which a light emitting layer having a two-layer structure is described (JP-A-2-220390 and JP-A-2-216790). The light-emitting layer is divided into a plurality of light-emitting layers, each of which is made of a material having a different emission wavelength (Japanese Patent Laid-Open No. 4-51491). A structure in which a blue light emitter (fluorescence peak: 380 to 480 nm) and a green light emitter (480 to 580 nm) are laminated, and a red phosphor is further contained (Japanese Patent Laid-Open No. 6-207170). A structure in which a blue light-emitting layer contains a blue fluorescent dye, a green light-emitting layer has a region containing a red fluorescent dye, and further contains a green phosphor (Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-142169).

さらに、本発明の電界発光素子の陽極に使用される材料は、仕事関数の大きい(4eV以上)金属、合金、電気伝導性化合物又はこれらの混合物を電極物質とするものが好ましく用いられる。このような電極物質の具体例としては、Au等の金属、CuI、ITO、SnO、ZnO等の導電性材料が挙げられる。この陽極を形成するには、これらの電極物質を、蒸着法やスパッタリング法等の方法で薄膜を形成させることができる。この陽極は、上記発光層からの発光を陽極から取り出す場合、陽極の発光に対する透過率が10%より大きくなるような特性を有していることが望ましい。また、陽極のシート抵抗は、数百Ω/□以下としてあるものが好ましい。さらに、陽極の膜厚は、材料にもよるが通常10nm〜1μm、好ましくは10〜200nmの範囲で選択される。 Further, as the material used for the anode of the electroluminescent device of the present invention, a material having a large work function (4 eV or more), a metal, an alloy, an electrically conductive compound, or a mixture thereof is preferably used. Specific examples of such an electrode material include metals such as Au, and conductive materials such as CuI, ITO, SnO 2 , and ZnO. In order to form this anode, a thin film can be formed from these electrode substances by a method such as an evaporation method or a sputtering method. The anode desirably has such a property that, when light emitted from the light emitting layer is extracted from the anode, the transmittance of the anode to the emitted light is greater than 10%. Further, the sheet resistance of the anode is preferably several hundred Ω / □ or less. Further, the thickness of the anode is selected in the range of usually 10 nm to 1 μm, preferably 10 to 200 nm, although it depends on the material.

また、本発明の電界発光素子の陰極に使用される材料は、仕事関数の小さい(4eV以下)金属、合金、電気伝導性化合物及びこれらの混合物を電極物質とするものが用いられる。このような電極物質の具体例としては、ナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、マグネシウム、リチウム、マグネシウム・銀合金、アルミニウム/酸化アルミニウム、アルミニウム・リチウム合金、インジウム、希土類金属等が挙げられる。この陰極はこれらの電極物質を蒸着やスパッタリング等の方法により薄膜を形成させることにより、作製することができる。ここで、発光層からの発光を陰極から取り出す場合、陰極の発光に対する透過率は10%より大きくすることが好ましい。また、陰極としてのシート抵抗は数百Ω/□以下が好ましく、さらに、膜厚は通常10nm〜1μm、好ましくは50〜200nmである。   Further, as a material used for the cathode of the electroluminescent device of the present invention, a metal, an alloy, an electrically conductive compound having a low work function (4 eV or less), and a mixture thereof are used as an electrode material. Specific examples of such an electrode material include sodium, sodium-potassium alloy, magnesium, lithium, magnesium-silver alloy, aluminum / aluminum oxide, aluminum-lithium alloy, indium, and rare earth metals. This cathode can be manufactured by forming a thin film from these electrode substances by a method such as vapor deposition or sputtering. Here, when the light emitted from the light emitting layer is taken out from the cathode, it is preferable that the transmittance of the cathode with respect to the emitted light be greater than 10%. Further, the sheet resistance as the cathode is preferably several hundred Ω / □ or less, and the film thickness is usually 10 nm to 1 μm, preferably 50 to 200 nm.

本発明の電界発光素子を作製する方法については、上記の材料及び方法により陽極、発光層、必要に応じて正孔注入層、及び必要に応じて電子注入層を形成し、最後に陰極を形成すればよい。また、陰極から陽極へ、前記と逆の順序で電界発光素子を作製することもできる。   With respect to the method of manufacturing the electroluminescent device of the present invention, the anode and the light emitting layer, the hole injection layer as needed, and the electron injection layer as needed are formed by the above-mentioned materials and the method, and finally the cathode is formed. do it. In addition, an electroluminescent element can be manufactured in the reverse order from the cathode to the anode.

この電界発光素子は、透光性の基板上に作製する。この透光性基板は電界発光素子を支持する基板であり、その透光性については、400〜700nmの可視領域の光の透過率が50%以上、好ましくは90%以上であるものが望ましく、さらに平滑な基板を用いるのが好ましい。   This electroluminescent element is manufactured over a light-transmitting substrate. The light-transmitting substrate is a substrate that supports the electroluminescent element. The light-transmitting substrate preferably has a light transmittance of 50% or more, preferably 90% or more in the visible region of 400 to 700 nm. It is preferable to use a smoother substrate.

これら基板は、機械的、熱的強度を有し、透明であれば特に限定されるものではないが、例えば、ガラス板、合成樹脂板等が好適に用いられる。ガラス板としては、特にソーダ石灰ガラス、バリウム・ストロンチウム含有ガラス、鉛ガラス、アルミノケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、バリウムホウケイ酸ガラス、石英などで成形された板が挙げられる。また、合成樹脂板としては、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエーテルサルファイド樹脂、ポリサルフォン樹脂等の板が挙げられる。   These substrates are not particularly limited as long as they have mechanical and thermal strength and are transparent. For example, a glass plate, a synthetic resin plate, or the like is preferably used. Examples of the glass plate include a plate formed of soda lime glass, barium / strontium-containing glass, lead glass, aluminosilicate glass, borosilicate glass, barium borosilicate glass, quartz, or the like. Examples of the synthetic resin plate include plates made of polycarbonate resin, acrylic resin, polyethylene terephthalate resin, polyether sulfide resin, polysulfone resin, and the like.

本発明の電界発光素子の発光層を除く各層の形成方法としては、真空蒸着、電子線ビーム照射、スパッタリング、プラズマ、イオンプレーティング等の乾式成膜法、若しくはスピンコーティング、ディッピング、フローコーティング等の湿式成膜法のいずれかの方法を適用することができる。また、特表2002−534782や、S.T.Lee, et al., Proceedings of SID’02, p.784(2002)に記載されているLITI(Laser Induced Thermal Imaging、レーザー熱転写)法や、印刷(オフセット印刷、フレキソ印刷、グラビア印刷、スクリーン印刷)、インクジェット等の方法を適用することもできる。   Examples of the method for forming each layer except for the light emitting layer of the electroluminescent device of the present invention include vacuum deposition, electron beam irradiation, sputtering, plasma, dry film forming methods such as ion plating, or spin coating, dipping, flow coating, and the like. Any of the wet film forming methods can be applied. In addition, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-534784 and S.I. T. Lee, et al. , Proceedings of SID '02, p. 784 (2002), a laser induced thermal imaging (LITI) method, a printing method (offset printing, flexographic printing, gravure printing, screen printing), an ink jet method, and the like.

ポリマー材料を除く有機層は、特に分子堆積膜であることが好ましい。ここで分子堆積膜とは、気相状態の材料化合物から沈着され形成された薄膜や、溶液状態又は液相状態の材料化合物から固体化され形成された膜のことであり、通常この分子堆積膜は、LB法により形成された薄膜(分子累積膜)とは凝集構造、高次構造の相違や、それに起因する機能的な相違により区分することができる。また特開昭57−51781号公報に開示されているように、樹脂等の結着剤と材料化合物とを溶剤に溶かして溶液とした後、これをスピンコート法等により薄膜化することによっても、有機層を形成することができる。各層の膜厚は特に限定されるものではないが、膜厚が厚すぎると一定の光出力を得るために大きな印加電圧が必要となり効率が悪くなり、逆に膜厚が薄すぎるとピンホール等が発生し、電界を印加しても充分な発光輝度が得にくくなる。したがって、各層の膜厚は、1nmから1μmの範囲が適しているが、10nmから0.2μmの範囲がより好ましい。   The organic layer excluding the polymer material is particularly preferably a molecular deposition film. Here, the molecular deposition film refers to a thin film formed by deposition from a material compound in a gaseous state or a film formed by solidification from a material compound in a solution state or a liquid phase state. Can be distinguished from a thin film (molecule accumulation film) formed by the LB method by a difference in an aggregated structure and a higher-order structure and a functional difference caused by the difference. Further, as disclosed in JP-A-57-51781, a binder and a material compound such as a resin are dissolved in a solvent to form a solution, which is then formed into a thin film by spin coating or the like. An organic layer can be formed. The thickness of each layer is not particularly limited. However, if the thickness is too large, a large applied voltage is required to obtain a constant light output, resulting in poor efficiency. Are generated, and it becomes difficult to obtain sufficient light emission luminance even when an electric field is applied. Therefore, the thickness of each layer is suitably in the range of 1 nm to 1 μm, but is more preferably in the range of 10 nm to 0.2 μm.

また、電界発光素子の温度、湿度、雰囲気等に対する安定性向上のために、素子の表面に保護層を設けたり、樹脂等により素子全体を被覆や封止を施したりしても良い。特に素子全体を被覆や封止する際には、光によって硬化する光硬化性樹脂が好適に使用される。   In order to improve the stability of the electroluminescent device against temperature, humidity, atmosphere, and the like, a protective layer may be provided on the surface of the device, or the entire device may be covered or sealed with a resin or the like. In particular, when covering or sealing the entire device, a photocurable resin that is cured by light is preferably used.

本発明の電界発光素子に印加する電流は通常、直流であるが、パルス電流や交流を用いてもよい。電流値、電圧値は、素子破壊しない範囲内であれば特に制限はないが、素子の消費電力や寿命を考慮すると、なるべく小さい電気エネルギーで効率良く発光させることが望ましい。   The current applied to the electroluminescent device of the present invention is usually a direct current, but a pulse current or an alternating current may be used. The current value and the voltage value are not particularly limited as long as they are within a range in which the element is not destroyed. However, considering the power consumption and the life of the element, it is desirable to emit light efficiently with as little electric energy as possible.

本発明の電界発光素子の駆動方法は、パッシブマトリクス法のみならず、アクティブマトリックス法での駆動も可能である。また、本発明の電界発光素子から光を取り出す方法としては、陽極側から光を取り出すボトム・エミッションという方法のみならず、陰極側から光を取り出すトップ・エミッションという方法にも適用可能である。これらの方法や技術は、城戸淳二著、「電界発光のすべて」、日本実業出版社(2003年発行)に記載されている。   The driving method of the electroluminescent device of the present invention can be driven not only by the passive matrix method but also by the active matrix method. In addition, as a method of extracting light from the electroluminescent device of the present invention, not only a method of bottom emission for extracting light from the anode side but also a method of top emission for extracting light from the cathode side is applicable. These methods and techniques are described in Junji Kido, "All about Electroluminescence", published by Nihon Jitsugyo Shuppan (2003).

本発明の電界発光素子のフルカラー化方式の主な方式としては、3色塗り分け方式、色変換方式、カラーフィルター方式が挙げられる。3色塗り分け方式では、シャドウマスクを使った蒸着法や、インクジェット法や印刷法が挙げられる。また、特表2002−534782や、S.T.Lee, et al., Proceedings of SID’02, p.784(2002)に記載されているレーザー熱転写法(Laser Induced Thermal Imaging、LITI法ともいわれる)も用いることができる。色変換方式では、青色発光の発光層を使って、蛍光色素を分散した色変換(CCM)層を通して、青色より長波長の緑色と赤色に変換する方法である。カラーフィルター方式では、白色発光の電界発光素子を使って、液晶用カラーフィルターを通して3原色の光を取り出す方法であるが、これら3原色に加えて、一部白色光をそのまま取り出して発光に利用することで、素子全体の発光効率をあげることもできる。   The main methods of the full-color electroluminescent device of the present invention include a three-color coating method, a color conversion method, and a color filter method. Examples of the three-color coating method include an evaporation method using a shadow mask, an ink jet method, and a printing method. In addition, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-534784 and S.I. T. Lee, et al. , Proceedings of SID '02, p. 784 (2002), which is also referred to as Laser Induced Thermal Imaging (LITI). In the color conversion method, a blue light-emitting layer is used to convert green and red wavelengths longer than blue through a color conversion (CCM) layer in which a fluorescent dye is dispersed. The color filter method is a method of extracting light of three primary colors through a color filter for liquid crystal using a white light emitting electroluminescent element. In addition to these three primary colors, a part of white light is directly extracted and used for light emission. Thus, the luminous efficiency of the entire device can be increased.

さらに、本発明の電界発光素子は、マイクロキャビティ構造を採用しても構わない。これは、電界発光素子は、発光層が陽極と陰極との間に挟持された構造であり、発光した光は陽極と陰極との間で多重干渉を生じるが、陽極及び陰極の反射率、透過率等の光学的な特性と、これらに挟持された有機層の膜厚とを適当に選ぶことにより、多重干渉効果を積極的に利用し、素子より取り出される発光波長を制御するという技術である。これにより、発光色度を改善することも可能となる。この多重干渉効果のメカニズムについては、J.Yamada等によるAM−LCD Digest of Technical Papers,OD−2,p.77〜80(2002)に記載されている。   Further, the electroluminescent device of the present invention may employ a microcavity structure. The electroluminescent device has a structure in which a light emitting layer is sandwiched between an anode and a cathode, and emitted light causes multiple interference between the anode and the cathode. By appropriately selecting the optical characteristics such as the ratio and the thickness of the organic layer sandwiched between them, the multiple interference effect is actively used to control the emission wavelength extracted from the element. . Thereby, the emission chromaticity can be improved. The mechanism of this multiple interference effect is described in AM-LCD Digest of Technical Papers, OD-2, p. 77-80 (2002).

以上述べたように、本発明の塗工液又はインキ組成物を使用して形成された発光層を用いた電界発光素子は、低い駆動電圧で長時間の発光を得ることが可能である。故に、本電界発光素子は、壁掛けテレビ等のフラットパネルディスプレイや各種の平面発光体として、さらには、複写機やプリンター等の光源、液晶ディスプレイや計器類等の光源、表示板、標識灯等への応用が考えられる。   As described above, the electroluminescent device using the light emitting layer formed using the coating liquid or the ink composition of the present invention can emit light for a long time at a low driving voltage. Therefore, the present electroluminescent device can be used as a flat panel display such as a wall-mounted television and various kinds of flat light emitters, and further, a light source such as a copier and a printer, a light source such as a liquid crystal display and instruments, a display board, and a sign lamp. The application of is considered.

以下、実施例をあげて本発明を具体的に説明するが、本発明は実施例に特に限定されるものではない。なお、実施例中、「部」及び「%」は「質量部」及び「質量%」を表す。   Hereinafter, the present invention will be described specifically with reference to examples, but the present invention is not particularly limited to the examples. In Examples, “parts” and “%” represent “parts by mass” and “% by mass”.

<半導体微粒子(量子ドット)組成物の調整>
[実施例1](量子ドット分散液QD−1)
QD:InP/ZnSコアシェル型量子ドットは技術文献「Inorganic Chemistry 2016,(17)、pp8381−8386」の記載に従い、次のように合成した。
塩化インジウム0.22部、オクチルアミン8.25部を反応容器に入れ、窒素バブリングを行いながら、180℃に加熱した。塩化インジウムが溶解した後、ジエチルアミノホスフィン0.86部を短時間で注入し、20分間180℃に制御した。その後、40℃まで急冷した。別途、無水酢酸亜鉛0.55部、表6に記載の化合物(58)の15.0部を加熱溶解した添加液を注入し、220℃で5時間加熱した後に、室温まで放冷した。放冷後、ヘキサンとエタノールを用いて再沈殿法で精製を行った。さらにトルエンを用いて、固形分濃度10%に調製し、化合物(58)で表面被覆処理された量子ドット分散液QD−1を得た。
<Preparation of semiconductor fine particle (quantum dot) composition>
[Example 1] (Quantum dot dispersion liquid QD-1)
QD: InP / ZnS core-shell quantum dots were synthesized as follows in accordance with the description in the technical document “Inorganic Chemistry 2016, (17), pp8381-8386”.
0.22 parts of indium chloride and 8.25 parts of octylamine were placed in a reaction vessel and heated to 180 ° C. while performing nitrogen bubbling. After the indium chloride was dissolved, 0.86 parts of diethylaminophosphine was injected in a short time, and the temperature was controlled at 180 ° C. for 20 minutes. Thereafter, it was rapidly cooled to 40 ° C. Separately, 0.55 part of anhydrous zinc acetate and an additive solution obtained by heating and dissolving 15.0 parts of the compound (58) shown in Table 6 were injected, and the mixture was heated at 220 ° C. for 5 hours and then allowed to cool to room temperature. After allowing to cool, purification was performed by a reprecipitation method using hexane and ethanol. Further, the solid content concentration was adjusted to 10% using toluene, and a quantum dot dispersion liquid QD-1 surface-coated with the compound (58) was obtained.

[比較例1](量子ドット分散液QD−2)
塩化インジウム0.22部、オクチルアミン8.25部を反応容器に入れ、窒素バブリングを行いながら、165℃に加熱した。塩化インジウムが溶解した後、ジエチルアミノホスフィン0.86部を短時間で注入し、20分間165℃に制御した。その後、40℃まで急冷した。別途、無水酢酸亜鉛0.55部、ドデカンチオール7.0部、オレイルアミン5.0部を加熱溶解した添加液を注入し、240℃で2時間加熱した後に、室温まで放冷した。放冷後、ヘキサンとエタノールを用いて再沈殿法で精製を行った。さらにトルエンを用いて、固形分濃度10%に調製し、ドデカンチオール(C−1)で表面被覆処理された量子ドット分散液QD−2を得た。
[Comparative Example 1] (Quantum dot dispersion liquid QD-2)
0.22 parts of indium chloride and 8.25 parts of octylamine were placed in a reaction vessel and heated to 165 ° C. while performing nitrogen bubbling. After the indium chloride was dissolved, 0.86 parts of diethylaminophosphine was injected in a short time, and the temperature was controlled at 165 ° C for 20 minutes. Thereafter, it was rapidly cooled to 40 ° C. Separately, an additive solution obtained by heating and dissolving 0.55 part of anhydrous zinc acetate, 7.0 parts of dodecanethiol, and 5.0 parts of oleylamine was injected, heated at 240 ° C. for 2 hours, and allowed to cool to room temperature. After allowing to cool, purification was performed by a reprecipitation method using hexane and ethanol. Further, the solid content concentration was adjusted to 10% using toluene, and a quantum dot dispersion liquid QD-2 surface-treated with dodecanethiol (C-1) was obtained.

[実施例2](量子ドット分散液QD−3)
得られた分散液QD−2を、トルエンを用いてさらに固形分濃度1%まで希釈した。表1に記載の化合物(2)の5%トルエン溶液を調製して同量添加し、12時間撹拌した。ヘキサンとエタノールを用いて再沈殿法で精製を行った。トリメチルベンゼンを用いて、固形分濃度10%に調製し、化合物(2)で表面被覆処理された量子ドット分散液QD−3を得た。
[Example 2] (Quantum dot dispersion liquid QD-3)
The obtained dispersion liquid QD-2 was further diluted to a solid concentration of 1% using toluene. A 5% toluene solution of the compound (2) shown in Table 1 was prepared, added in the same amount, and stirred for 12 hours. Purification was performed by a reprecipitation method using hexane and ethanol. The solid content concentration was adjusted to 10% using trimethylbenzene, and a quantum dot dispersion QD-3 surface-coated with the compound (2) was obtained.

[実施例3〜10](量子ドット分散液QD−4〜QD−11)
分散液QD−3の表面被覆処理剤である化合物(2)を、表7に記載の被覆材料(表1〜6に記載の化合物)に変えて、表面被覆処理し、前記と同様の精製、調製を行うことで、本発明のそれぞれの化合物で表面被覆処理された量子ドット分散液QD−4〜QD−11を得た。
[Examples 3 to 10] (Quantum dot dispersion liquids QD-4 to QD-11)
Compound (2), which is a surface coating treatment agent of the dispersion QD-3, was changed to a coating material shown in Table 7 (compounds shown in Tables 1 to 6), and subjected to a surface coating treatment. By performing the preparation, quantum dot dispersions QD-4 to QD-11 surface-coated with the respective compounds of the present invention were obtained.

[比較例2](量子ドット分散液QD−12)
塩化インジウム0.22部、オクチルアミン8.25部を反応容器に入れ、窒素バブリングを行いながら、165℃に加熱した。塩化インジウムが溶解した後、ジエチルアミノホスフィン0.86部を短時間で注入し、20分間165℃に制御した。その後、40℃まで急冷した。別途、無水酢酸亜鉛0.55部、3,6,9,12−テトラオキサデカンアミン15.0部を加熱溶解した添加液を注入し、240℃で2時間加熱した後に、室温まで放冷した。放冷後、ヘキサンとエタノールを用いて再沈殿法で精製を行った。さらに2−アセトキシ−1−メトキシプロパンを用いて、固形分濃度10%に調製し、3,6,9,12−テトラオキサデカンアミン(C−2)で表面被覆処理された量子ドット分散液QD−12を得た。
[Comparative Example 2] (Quantum dot dispersion liquid QD-12)
0.22 parts of indium chloride and 8.25 parts of octylamine were placed in a reaction vessel and heated to 165 ° C. while performing nitrogen bubbling. After the indium chloride was dissolved, 0.86 parts of diethylaminophosphine was injected in a short time, and the temperature was controlled at 165 ° C for 20 minutes. Thereafter, it was rapidly cooled to 40 ° C. Separately, an additive solution obtained by heating and dissolving 0.55 parts of anhydrous zinc acetate and 15.0 parts of 3,6,9,12-tetraoxadecaneamine was injected, heated at 240 ° C. for 2 hours, and then allowed to cool to room temperature. . After allowing to cool, purification was performed by a reprecipitation method using hexane and ethanol. Further, a quantum dot dispersion QD prepared by using 2-acetoxy-1-methoxypropane to a solid concentration of 10% and surface-coated with 3,6,9,12-tetraoxadecaneamine (C-2) is used. -12 was obtained.

[実施例11〜14](量子ドット分散液QD−13〜QD−16)
得られた分散液QD−12を、2−アセトキシ−1−メトキシプロパンを用いてさらに固形分濃度1%まで希釈した。表7に記載の被覆材料(表1〜6に記載の化合物)の5%2−アセトキシ−1−メトキシプロパン溶液をそれぞれ調製して同量添加し、12時間撹拌した。ヘキサンとエタノールを用いて再沈殿法で精製を行った。2−アセトキシ−1−メトキシプロパンを用いて、固形分濃度10%に調製し、本発明のそれぞれの化合物で表面被覆処理された量子ドット分散液QD−13〜QD−16を得た。
[Examples 11 to 14] (Quantum dot dispersion liquids QD-13 to QD-16)
The obtained dispersion QD-12 was further diluted to a solid concentration of 1% using 2-acetoxy-1-methoxypropane. 5% 2-acetoxy-1-methoxypropane solutions of the coating materials described in Table 7 (the compounds described in Tables 1 to 6) were respectively prepared and added in the same amount, followed by stirring for 12 hours. Purification was performed by a reprecipitation method using hexane and ethanol. The solid content concentration was adjusted to 10% using 2-acetoxy-1-methoxypropane, and quantum dot dispersions QD-13 to QD-16 surface-treated with the respective compounds of the present invention were obtained.

<樹脂溶液の調製>
(樹脂溶液1)
パラフィンワックス155(日本精蝋製)をデカンにNV10%となるように溶解し、樹脂溶液1を調製した。
<Preparation of resin solution>
(Resin solution 1)
Paraffin wax 155 (manufactured by Nippon Seiro) was dissolved in decane so as to have an NV of 10% to prepare a resin solution 1.

(樹脂溶液2)
セパラブル4口フラスコに温度計、冷却管、窒素ガス導入管、撹拌装置を取り付けた反応容器にキシレン70.0部を仕込み、80℃に昇温し、反応容器内を窒素置換した後、滴下管よりn−ブチルメタクリレート18.0部、メタクリル酸メチル12.0部、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル0.4部の混合物を2時間かけて滴下した。滴下終了後、更に3時間反応を継続し、質量平均分子量(Mw)26000のアクリル樹脂の溶液を得た。室温まで冷却した後、樹脂溶液約2gをサンプリングして180℃、20分加熱乾燥して不揮発分を測定し、先に合成した樹脂溶液に不揮発分が20質量%になるようにキシレンを添加して樹脂溶液2を調製した。
(Resin solution 2)
A reaction vessel equipped with a thermometer, a cooling pipe, a nitrogen gas introduction pipe, and a stirrer in a separable four-necked flask was charged with 70.0 parts of xylene, the temperature was raised to 80 ° C., and the inside of the reaction vessel was purged with nitrogen. A mixture of 18.0 parts of n-butyl methacrylate, 12.0 parts of methyl methacrylate, and 0.4 part of 2,2′-azobisisobutyronitrile was added dropwise over 2 hours. After completion of the dropwise addition, the reaction was further continued for 3 hours to obtain a solution of an acrylic resin having a mass average molecular weight (Mw) of 26,000. After cooling to room temperature, about 2 g of the resin solution was sampled, heated and dried at 180 ° C. for 20 minutes to measure the nonvolatile content, and xylene was added to the previously synthesized resin solution so that the nonvolatile content was 20% by mass. Thus, a resin solution 2 was prepared.

<インクジェットインキの作成>
[実施例1〜14 、比較例1、2]
表7に示した配合組成にて、密閉できる容器に、量子ドット分散液、樹脂溶液、溶剤の順番で計量し、その後、密閉して、3分間、振とうしてインクジェットインキを作成した。
<Preparation of inkjet ink>
[Examples 1 to 14, Comparative Examples 1 and 2]
In the container having the composition shown in Table 7, the quantum dot dispersion liquid, the resin solution, and the solvent were weighed in a sealable container in this order, and then sealed and shaken for 3 minutes to prepare an inkjet ink.

<インクジェットインキの評価>
[粘度]
インクジェットインキの粘度は、振動式粘度計ビスコメイトVM−10A−L(SEKONIC社製)を用いて、25℃における粘度を測定した。
<Evaluation of inkjet ink>
[viscosity]
The viscosity of the inkjet ink was measured at 25 ° C. using a vibration type viscometer Viscomate VM-10AL (manufactured by SEKONIC).

[インキ外観]
得られたインクジェットインキについて、下記基準でインキ外観の目視評価を行った。△〜×ではインキを作成することができない。
○:インキ外観濁りなく透明な状態なもの(使用可能)
△:濁りがあるもの(使用不可)
×:析出物が生じたもの(使用不可)
[Ink appearance]
The obtained ink-jet ink was visually evaluated for the appearance of the ink according to the following criteria. In the case of Δ to ×, ink cannot be prepared.
:: Transparent state without turbidity of ink appearance (usable)
△: cloudy (cannot be used)
×: Deposits formed (cannot be used)

[吐出性]
得られたインクジェットインキについて、下記条件にて印刷を行い、下記基準で吐出性を評価した。
○ :印刷パターン通りに吐出できたもの(良好)
○△:吐出中断後の再吐出で僅かに異常があったもの(使用可能)
△ :連続吐出で徐々にノズルつまり等が生じたもの(使用不可)
× :初期からノズルつまり等異常があったもの(使用不可)
≪インクジェット吐出試験条件≫
印刷機:DimatixMaterialsPrinter
カートリッジ:10DimatixMaterialsCartriges、10pL
印刷パターン:1mm間隔の格子模様
基板:丸カバーガラス・松浪ガラス工業製
基板温度:30℃
印刷後乾燥:40℃20分
[Dischargeability]
The obtained inkjet ink was printed under the following conditions, and the dischargeability was evaluated based on the following criteria.
:: Discharged according to print pattern (good)
○ △: Slight abnormalities in re-discharge after discharge interruption (usable)
Δ: Nozzle clogging etc. gradually occurred during continuous discharge (cannot be used)
×: An abnormality such as nozzle clogging from the beginning (cannot be used)
≪Inkjet discharge test conditions≫
Printing machine: DimatixMaterialsPrinter
Cartridges: 10 Dimatix Materials Cartridges, 10 pL
Print pattern: Lattice pattern at 1mm interval Substrate: Round cover glass, manufactured by Matsunami Glass Industry Substrate temperature: 30 ° C
Drying after printing: 40 ° C for 20 minutes

[印刷物外観]
吐出性試験で得られた印刷物について、下記基準で印刷物外観を評価した。
○ :印刷物外観印字パターン通りの画像である場合(良好)
○△:かすれが見られる場合(使用可能)
△ :歪んだ画像である場合(使用不可)
× :印刷パターンの形跡なく付着した状態である場合(使用不可)
[Print appearance]
The printed matter obtained in the ejection test was evaluated for the appearance of the printed matter according to the following criteria.
:: When the image conforms to the printed pattern of the printed matter appearance (good)
○ △: When fading is observed (usable)
Δ: When the image is distorted (cannot be used)
×: When adhered without trace of print pattern (cannot be used)

[量子収率測定]
得られたインクジェットインキについて、下記条件で量子収率を測定した。QY維持率は印刷初期の量子効率(以下、QYともいう)を1として、4週間後の比率を示した。
測定機:大塚電子(株)量子効率測定装置QE−2000
励起波長:400nm、積分範囲:375〜425nm
蛍光積分範囲:430〜800nm
[Quantum yield measurement]
The quantum yield of the obtained inkjet ink was measured under the following conditions. The QY maintenance ratio is a ratio after 4 weeks, where the quantum efficiency (hereinafter, also referred to as QY) at the beginning of printing is 1.
Measurement device: Otsuka Electronics Co., Ltd. QE-2000
Excitation wavelength: 400 nm, integration range: 375-425 nm
Fluorescence integration range: 430-800 nm

本発明のインクジェットインキを用いると、インクジェット印刷可能であり、量子収率も高く印刷できることが確認された。その他の塗工液、インキを用いて他の塗工法、印刷法で作製した塗工物、印刷物もほぼ同等の特性を有すると想定され、これらを使用した波長変換フィルム、カラーフィルターが所望の性能を発揮できることが示された。   It was confirmed that, when the inkjet ink of the present invention was used, inkjet printing was possible and printing was possible with a high quantum yield. It is assumed that coating materials and printed materials produced by other coating methods and printing methods using other coating liquids and inks have almost the same characteristics, and wavelength conversion films and color filters using these are expected to have the desired performance. It was shown that can be exhibited.

<電界発光素子用半導体微粒子(量子ドット)組成物の調製>
[実施例29〜33](量子ドット分散液QD−17〜QD−21)
電界発光素子用の量子ドット分散液として、分散液QD−2を、トルエンを用いてさらに固形分濃度1%まで希釈した。表1〜6に記載の化合物(1)、(39)又は(51)の5%トルエン溶液をそれぞれ調製して同量添加し、12時間撹拌した。ヘキサンとエタノールを用いて再沈殿法で精製を行った。トリメチルベンゼンを用いて、固形分濃度10%に調製し、それぞれ化合物(1)、(39)又は(51)で表面被覆処理された量子ドット分散液QD−17〜QD−19を得た。また、分散液QD−16を、2−アセトキシ−1−メトキシプロパンを用いてさらに固形分濃度1%まで希釈した。表1の化合物(50)又は(59)の5%2−アセトキシ−1−メトキシプロパン溶液をそれぞれ調製して同量添加し、12時間撹拌した。ヘキサンとエタノールを用いて再沈殿法で精製を行った。2−アセトキシ−1−メトキシプロパンを用いて、固形分濃度10%に調製し、それぞれ化合物(50)又は(59)で表面被覆処理された量子ドット分散液QD−20、QD−21を得た。
<Preparation of semiconductor fine particle (quantum dot) composition for electroluminescent device>
[Examples 29 to 33] (Quantum dot dispersion liquids QD-17 to QD-21)
As a quantum dot dispersion for an electroluminescent device, the dispersion QD-2 was further diluted to a solid content concentration of 1% using toluene. 5% toluene solutions of the compounds (1), (39) and (51) described in Tables 1 to 6 were respectively prepared, added in the same amounts, and stirred for 12 hours. Purification was performed by a reprecipitation method using hexane and ethanol. The solid content concentration was adjusted to 10% using trimethylbenzene, and quantum dot dispersions QD-17 to QD-19 each of which was surface-coated with compound (1), (39) or (51) were obtained. Further, the dispersion QD-16 was further diluted to a solid concentration of 1% using 2-acetoxy-1-methoxypropane. A 5% 2-acetoxy-1-methoxypropane solution of the compound (50) or (59) in Table 1 was prepared, added in the same amount, and stirred for 12 hours. Purification was performed by a reprecipitation method using hexane and ethanol. Using 2-acetoxy-1-methoxypropane, the solid content concentration was adjusted to 10%, and quantum dot dispersions QD-20 and QD-21 surface-coated with compound (50) or (59), respectively, were obtained. .

<電界発光素子の作製>
以下に記載のとおり、電界発光素子を作成した。実施例においては、特に断りのない限り、混合比は全て質量比を示す。蒸着(真空蒸着)は10−6Torrの真空中にて、基板の加熱や冷却といった温度制御無しの条件下で行った。また、素子の発光特性は、発光素子面積2mm×2mmの電界発光素子を用いて特性を測定した。
≪インクジェット吐出試験条件≫
印刷機:DimatixMaterialsPrinter
カートリッジ:10DimatixMaterialsCartriges、10pL
印刷パターン:ベタ印刷パターン(2mm×2mmの素子が合計6つ形成される1.2cm×1.2cm範囲の面積のもの)
基板温度:30℃
印刷後乾燥:40℃20分
<Preparation of electroluminescent element>
An electroluminescent device was prepared as described below. In the examples, all mixing ratios indicate mass ratios, unless otherwise specified. The vapor deposition (vacuum vapor deposition) was performed in a vacuum of 10 −6 Torr without any temperature control such as heating and cooling of the substrate. The light emission characteristics of the element were measured using an electroluminescent element having a light emitting element area of 2 mm x 2 mm.
≪Inkjet discharge test conditions≫
Printing machine: DimatixMaterialsPrinter
Cartridges: 10 Dimatix Materials Cartridges, 10 pL
Print pattern: solid print pattern (1.2 cm x 1.2 cm area with a total of 6 2 mm x 2 mm elements)
Substrate temperature: 30 ° C
Drying after printing: 40 ° C for 20 minutes

[実施例34]
密閉できる容器に、量子ドット分散液QD−1を1部、樹脂溶液1を1部、次いで、溶剤としてトリメチルベンゼンを30部の順番で計量し、その後、密閉して、3分間、振とうしてインクジェットインキを調整した。
洗浄したITO電極付きガラス板上に、PEDOT/PSS(ポリ(3,4−エチレンジオキシ)−2,5−チオフェン/ポリスチレンスルホン酸、Heraeus社製CLEVIOUS(登録商標) PVP CH8000)をスピンコート法にて製膜し、110℃にて20分間乾燥させて膜厚35nmの正孔注入層を得た。次いで、ポリ(N−ビニルカルバゾール)を、1.0質量%の濃度でモノクロロベンゼンに溶解させ、スピンコート法で製膜し110℃にて20分間乾燥させて、35nmの膜厚の正孔輸送層を形成した。その上に、作成したインクジェットインキを用い、上述の吐出条件でインクジェット印刷を行い、20nmの膜厚の発光層を形成した。その上に、Avantama社製 酸化亜鉛のイソプロパノール分散液 N−10を、スピンコート法で製膜し、80nmの電子輸送層を形成した。最後に、アルミニウム(Al)を200nm蒸着して電極を形成し、電界発光素子を得た。
この素子は、8Vにて外部量子効率5.0%、発光輝度32000(cd/m)の赤色発光を示し、その発光スペクトルのピーク波長は655nmであり、半値全幅は52nmであった。この素子を発光輝度1000(cd/m)で室温にて定電流駆動したときの輝度半減寿命は1000時間以上であった。また、電流密度10(mA/cm)で駆動させた時の発光効率は6.3(cd/A)、及び80℃の環境で100時間連続駆動させた後の相対輝度(=(100時間後の輝度)/(初期輝度))は0.86であった。
[Example 34]
In a sealable container, 1 part of the quantum dot dispersion liquid QD-1, 1 part of the resin solution 1, and 30 parts of trimethylbenzene as a solvent are weighed in this order, and then sealed and shaken for 3 minutes. To prepare the inkjet ink.
PEDOT / PSS (poly (3,4-ethylenedioxy) -2,5-thiophene / polystyrene sulfonic acid, CLEVIUS (registered trademark) PVP CH8000 manufactured by Heraeus) is spin-coated on a washed glass plate with an ITO electrode. And dried at 110 ° C. for 20 minutes to obtain a hole injection layer having a thickness of 35 nm. Next, poly (N-vinylcarbazole) is dissolved in monochlorobenzene at a concentration of 1.0% by mass, formed into a film by spin coating, dried at 110 ° C. for 20 minutes, and transported with a hole thickness of 35 nm. A layer was formed. Using the prepared ink-jet ink, ink-jet printing was performed under the above-described discharge conditions to form a light-emitting layer having a thickness of 20 nm. A zinc oxide isopropanol dispersion N-10 manufactured by Avantama was formed thereon by spin coating to form an 80 nm electron transport layer. Finally, 200 nm of aluminum (Al) was vapor-deposited to form an electrode, and an electroluminescent device was obtained.
This device exhibited red light emission with an external quantum efficiency of 5.0% and an emission luminance of 32000 (cd / m 2 ) at 8 V, a peak wavelength of an emission spectrum of 655 nm, and a full width at half maximum of 52 nm. When the device was driven at a constant current at room temperature at a light emission luminance of 1000 (cd / m 2 ), the luminance half life was 1000 hours or more. The luminous efficiency when driven at a current density of 10 (mA / cm 2 ) was 6.3 (cd / A), and the relative luminance after continuous driving in an environment of 80 ° C. for 100 hours (= (100 hours) (Later luminance) / (initial luminance)) was 0.86.

[実施例35]
密閉できる容器に、量子ドット分散液QD−6を1部、樹脂溶液2を1部、次いで、溶剤としてトリメチルベンゼンを30部の順番で計量し、その後、密閉して、3分間、振とうしてインクジェットインキを作成した。
これを実施例34のインクジェットインキに変えて発光層を形成する以外は実施例34と同様に各層を作成し、電界発光素子を得た。得られた電界発光素子について、実施例34と同様にして、外部量子効率等の評価を行った。
[Example 35]
In a container that can be sealed, 1 part of the quantum dot dispersion liquid QD-6, 1 part of the resin solution 2, and 30 parts of trimethylbenzene as a solvent are weighed in this order, and then sealed and shaken for 3 minutes. To produce an ink jet ink.
Each layer was formed in the same manner as in Example 34 except that a light-emitting layer was formed by changing this to the ink-jet ink of Example 34, and an electroluminescent element was obtained. About the obtained electroluminescent element, evaluation of external quantum efficiency etc. was performed like Example 34.

[実施例36]
密閉できる容器に、量子ドット分散液QD−10を1部、樹脂溶液2を1部、次いで、溶剤としてトリメチルベンゼンを30部の順番で計量し、その後、密閉して、3分間、振とうしてインクジェットインキを作成した。
これを実施例34のインクジェットインキに変えて発光層を形成する以外は実施例34と同様に各層を作成し、電界発光素子を得た。得られた電界発光素子について、実施例34と同様にして、外部量子効率等の評価を行った。
[Example 36]
In a container that can be sealed, 1 part of the quantum dot dispersion liquid QD-10, 1 part of the resin solution 2, and 30 parts of trimethylbenzene as a solvent are weighed in this order, and then sealed and shaken for 3 minutes. To produce an ink jet ink.
Each layer was formed in the same manner as in Example 34 except that a light-emitting layer was formed by changing this to the ink-jet ink of Example 34, and an electroluminescent element was obtained. About the obtained electroluminescent element, evaluation of external quantum efficiency etc. was performed like Example 34.

[実施例37]
密閉できる容器に、量子ドット分散液QD−15を1部、樹脂溶液2を1部、次いで、溶剤として2−アセトキシ−1−メトキシプロパンを30部の順番で計量し、その後、密閉して、3分間、振とうしてインクジェットインキを作成した。
これを実施例34のインクジェットインキに変えて発光層を形成する以外は実施例34と同様に各層を作成し、電界発光素子を得た。得られた電界発光素子について、実施例34と同様にして、外部量子効率等の評価を行った。
[Example 37]
In a sealable container, 1 part of the quantum dot dispersion liquid QD-15, 1 part of the resin solution 2, and then 30 parts of 2-acetoxy-1-methoxypropane as a solvent were weighed in this order, and then sealed, Shaking was performed for 3 minutes to produce an ink jet ink.
Each layer was formed in the same manner as in Example 34 except that a light-emitting layer was formed by changing this to the ink-jet ink of Example 34, and an electroluminescent element was obtained. About the obtained electroluminescent element, evaluation of external quantum efficiency etc. was performed like Example 34.

[実施例38]
密閉できる容器に、量子ドット分散液QD−17を1部、樹脂溶液2を1部、次いで、溶剤としてトリメチルベンゼンを30部の順番で計量し、その後、密閉して、3分間、振とうしてインクジェットインキを作成した。
これを実施例34のインクジェットインキに変えて発光層を形成する以外は実施例34と同様に各層を作成し、電界発光素子を得た。得られた電界発光素子について、実施例34と同様にして、外部量子効率等の評価を行った。
[Example 38]
In a container that can be sealed, 1 part of the quantum dot dispersion liquid QD-17, 1 part of the resin solution 2, and then 30 parts of trimethylbenzene as a solvent are weighed in this order, and then sealed and shaken for 3 minutes. To produce an ink jet ink.
Each layer was formed in the same manner as in Example 34 except that a light-emitting layer was formed by changing this to the ink-jet ink of Example 34, and an electroluminescent element was obtained. About the obtained electroluminescent element, evaluation of external quantum efficiency etc. was performed like Example 34.

[実施例39]
密閉できる容器に、量子ドット分散液QD−18を1部、樹脂溶液2を1部、次いで、溶剤としてトリメチルベンゼンを30部の順番で計量し、その後、密閉して、3分間、振とうしてインクジェットインキを作成した。
これを実施例34のインクジェットインキに変えて発光層を形成する以外は実施例34と同様に各層を作成し、電界発光素子を得た。得られた電界発光素子について、実施例34と同様にして、外部量子効率等の評価を行った。
[Example 39]
In a sealable container, 1 part of the quantum dot dispersion liquid QD-18, 1 part of the resin solution 2, and then 30 parts of trimethylbenzene as a solvent are weighed in this order, and then sealed and shaken for 3 minutes. To produce an ink jet ink.
Each layer was formed in the same manner as in Example 34 except that a light-emitting layer was formed by changing this to the ink-jet ink of Example 34, and an electroluminescent element was obtained. About the obtained electroluminescent element, evaluation of external quantum efficiency etc. was performed like Example 34.

[実施例40]
密閉できる容器に、量子ドット分散液QD−19を1部、樹脂溶液2を1部、次いで、溶剤としてトリメチルベンゼンを30部の順番で計量し、その後、密閉して、3分間、振とうしてインクジェットインキを作成した。
これを実施例34のインクジェットインキに変えて発光層を形成する以外は実施例34と同様に各層を作成し、電界発光素子を得た。この素子は、8Vにて外部量子効率7.2%、発光輝度56000(cd/m)の緑色発光を示し、その発光スペクトルのピーク波長は547nmであり、半値全幅は37nmであった。得られた電界発光素子について、実施例34と同様にして、外部量子効率等の評価を行った。
[Example 40]
In a container that can be sealed, 1 part of the quantum dot dispersion liquid QD-19, 1 part of the resin solution 2, and then 30 parts of trimethylbenzene as a solvent are weighed in this order, and then sealed and shaken for 3 minutes. To produce an ink jet ink.
Each layer was formed in the same manner as in Example 34 except that a light-emitting layer was formed by changing this to the ink-jet ink of Example 34, and an electroluminescent element was obtained. This device emitted green light with an external quantum efficiency of 7.2% and an emission luminance of 56000 (cd / m 2 ) at 8 V. The peak wavelength of the emission spectrum was 547 nm, and the full width at half maximum was 37 nm. About the obtained electroluminescent element, evaluation of external quantum efficiency etc. was performed like Example 34.

[実施例41]
密閉できる容器に、量子ドット分散液QD−20を1部、樹脂溶液2を1部、次いで、溶剤として2−アセトキシ−1−メトキシプロパンを30部の順番で計量し、その後、密閉して、3分間、振とうしてインクジェットインキを作成した。
これを実施例34のインクジェットインキに変えて発光層を形成する以外は実施例34と同様に各層を作成し、電界発光素子を得た。得られた電界発光素子について、実施例34と同様にして、外部量子効率等の評価を行った。
[Example 41]
In a container that can be sealed, 1 part of the quantum dot dispersion liquid QD-20, 1 part of the resin solution 2, and then 30 parts of 2-acetoxy-1-methoxypropane as a solvent are weighed in this order, and then sealed, Shaking was performed for 3 minutes to produce an ink jet ink.
Each layer was formed in the same manner as in Example 34 except that a light-emitting layer was formed by changing this to the ink-jet ink of Example 34, and an electroluminescent element was obtained. About the obtained electroluminescent element, evaluation of external quantum efficiency etc. was performed like Example 34.

[実施例42]
密閉できる容器に、量子ドット分散液QD−21を1部、樹脂溶液2を1部、次いで、溶剤として2−アセトキシ−1−メトキシプロパンを30部の順番で計量し、その後、密閉して、3分間、振とうしてインクジェットインキを作成した。
これを実施例34のインクジェットインキに変えて発光層を形成する以外は実施例34と同様に各層を作成し、電界発光素子を得た。得られた電界発光素子について、実施例34と同様にして、外部量子効率等の評価を行った。
[Example 42]
In a container that can be sealed, 1 part of the quantum dot dispersion liquid QD-21, 1 part of the resin solution 2, and then 30 parts of 2-acetoxy-1-methoxypropane as a solvent are weighed in this order, and then sealed, Shaking was performed for 3 minutes to produce an ink jet ink.
Each layer was formed in the same manner as in Example 34 except that a light-emitting layer was formed by changing this to the ink-jet ink of Example 34, and an electroluminescent element was obtained. About the obtained electroluminescent element, evaluation of external quantum efficiency etc. was performed like Example 34.

[比較例5]
密閉できる容器に、量子ドット分散液QD−12を1部、樹脂溶液2を1部、次いで、溶剤として2−アセトキシ−1−メトキシプロパンを30部の順番で計量し、その後、密閉して、3分間、振とうしてインクジェットインキを作成した。
これを実施例34のインクジェットインキに変えて発光層を形成する以外は実施例34と同様に各層を作成し、電界発光素子を得た。得られた電界発光素子について、実施例34と同様にして、外部量子効率等の評価を行った。
[Comparative Example 5]
In a sealable container, 1 part of the quantum dot dispersion liquid QD-12, 1 part of the resin solution 2, and then 30 parts of 2-acetoxy-1-methoxypropane as a solvent were weighed in this order, and then sealed, Shaking was performed for 3 minutes to produce an ink jet ink.
Each layer was formed in the same manner as in Example 34 except that a light-emitting layer was formed by changing this to the ink-jet ink of Example 34, and an electroluminescent element was obtained. About the obtained electroluminescent element, evaluation of external quantum efficiency etc. was performed like Example 34.

<電界発光素子の評価>
得られた電界発光素子について評価結果を表10に示す。
<Evaluation of electroluminescent element>
Table 10 shows the evaluation results of the obtained electroluminescent devices.

本発明の半導体微粒子組成物からなるインクジェットインキを用いて発光素子を作成することにより、発光特性及び安定性に優れた素子を作成することができた。その他の塗工液、インキを用いて他の塗工法、印刷法で作製した発光素子においても優れた特性を発揮できると想定される。
By producing a light emitting device using an inkjet ink comprising the semiconductor fine particle composition of the present invention, a device having excellent light emitting characteristics and stability could be produced. It is presumed that excellent characteristics can be exhibited also in light emitting devices manufactured by other coating methods and printing methods using other coating liquids and inks.

Claims (16)

半導体微粒子と当該粒子の表面を覆う被覆材料からなり、被覆材料が、下記一般式(1)又は一般式(2)で表される構造を有することを特徴とする、半導体微粒子組成物。
一般式(1)
一般式(2)
[一般式(1)及び(2)において、
〜Xは、各々独立して、N、S、O、NR、NR、OR又はSRであり、
〜Yは、各々独立して、C又はNであり、
〜Rは、各々独立して、水素原子又は置換基を有してもよい1価のアルキル基である。
間及びX間はπ共役し、
〜X及びY〜Yは、隣り合う基を含む環構造Ar〜Arを形成していてもよく、
環構造Ar〜Arを形成する場合は、
Ar〜Arは、各々独立して、置換基を有してもよい2価のπ共役ユニットであり、
は、Arの構成原子団又はArと直接結合する基であり、
は、Arの構成原子団又はArと直接結合する基であり、
は、Arの構成原子団又はArと直接結合する基であり、
は、Arの構成原子団又はArと直接結合する基である。]
A semiconductor fine particle composition comprising semiconductor fine particles and a coating material covering the surface of the particles, wherein the coating material has a structure represented by the following general formula (1) or general formula (2).
General formula (1)
General formula (2)
[In the general formulas (1) and (2),
X 1 to X 4 are each independently N, S, O, NR 1 , NR 2 R 3 , OR 4 or SR 5 ;
Y 1 to Y 5 are each independently C or N;
R 1 to R 5 are each independently a hydrogen atom or a monovalent alkyl group which may have a substituent.
X 1 Y 1 Y 2 X 2 and X 3 Y 3 Y 4 Y 5 X 4 are π-conjugated,
X 1 to X 4 and Y 1 to Y 5 may form a ring structure Ar 1 to Ar 7 containing adjacent groups,
When forming the ring structures Ar 1 to Ar 7 ,
Ar 1 to Ar 7 are each independently a divalent π-conjugated unit which may have a substituent,
X 1 is a constituent atomic group of Ar 1 or a group directly bonded to Ar 2 ;
X 2 is a constituent atomic group of Ar 3 or a group directly bonded to Ar 2 ;
X 3 is a constituent atomic group of Ar 4 or a group directly bonded to Ar 5 ;
X 4 is a constituent atomic group of Ar 7 or a group directly bonded to Ar 6 . ]
一般式(1)のAr〜Ar又は一般式(2)のAr〜Arのうち、各々いずれか2個以上が、隣接するπ共役ユニット同士が縮合しても良く、置換基を有しても良い、5員若しくは6員の芳香環であることを特徴とする、請求項1に記載の半導体微粒子組成物。 Any two or more of Ar 1 to Ar 3 in the general formula (1) or Ar 4 to Ar 7 in the general formula (2) may be formed by condensing adjacent π-conjugated units with each other. The semiconductor fine particle composition according to claim 1, wherein the composition is a 5- or 6-membered aromatic ring that may have. 前記一般式(1)及び(2)中のX〜Xが、各々独立して、N又はORであることを特徴とする、請求項1又は2に記載の半導体微粒子組成物。 3. The semiconductor fine particle composition according to claim 1, wherein X 1 to X 4 in the general formulas (1) and (2) are each independently N or OR 4. 4 . 前記被覆材料が、置換基を有しても良い、8−ヒドロキシキノリン環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環、及びトリアジン環からなる群から選ばれる少なくとも1種の環構造を有することを特徴とする、請求項1〜3いずれか1項に記載の半導体微粒子組成物。   At least one ring selected from the group consisting of an 8-hydroxyquinoline ring, a benzoxazole ring, a benzothiazole ring, a benzoimidazole ring, a benzotriazole ring, and a triazine ring, wherein the coating material may have a substituent; The semiconductor fine particle composition according to any one of claims 1 to 3, having a structure. 前記被覆材料が、下記式(3)〜(6)のいずれかで表される複素芳香環構造を有することを特徴とする、請求項1〜4いずれか1項に記載の半導体微粒子組成物。
式(3)
式(4)
式(5)
[式(5)において、ZはO、S又はNHのいずれかを表す。]

式(6)
The semiconductor fine particle composition according to any one of claims 1 to 4, wherein the coating material has a heteroaromatic ring structure represented by any of the following formulas (3) to (6).
Equation (3)
Equation (4)
Equation (5)
[In the formula (5), Z represents O, S or NH. ]

Equation (6)
半導体微粒子が量子ドットであることを特徴とする、請求項1〜5いずれか1項に記載の半導体微粒子組成物。   The semiconductor fine particle composition according to any one of claims 1 to 5, wherein the semiconductor fine particles are quantum dots. さらに溶剤を含有することを特徴とする、請求項1〜6いずれか1項に記載の半導体微粒子組成物。   The semiconductor fine particle composition according to any one of claims 1 to 6, further comprising a solvent. さらに樹脂を含有することを特徴とする、請求項1〜7いずれか1項に記載の半導体微粒子組成物。   The semiconductor fine particle composition according to any one of claims 1 to 7, further comprising a resin. 請求項1〜8いずれか1項に記載の半導体微粒子組成物を含有することを特徴とする、塗工液。   A coating liquid comprising the semiconductor fine particle composition according to claim 1. 請求項9に記載の塗工液を使用してなる塗工物。   A coated article obtained by using the coating liquid according to claim 9. 請求項1〜8いずれか1項に記載の半導体微粒子組成物を含有することを特徴とする、インキ組成物。   An ink composition comprising the semiconductor fine particle composition according to claim 1. 請求項11に記載のインキ組成物を含有することを特徴とする、インクジェットインキ。   An inkjet ink comprising the ink composition according to claim 11. 請求項11に記載のインキ組成物を用いてなる、印刷物。   A printed matter using the ink composition according to claim 11. 基材上に、請求項9に記載の塗工液、又は請求項11に記載のインキ組成物を用いて形成された波長変換フィルム。   A wavelength conversion film formed on a substrate using the coating liquid according to claim 9 or the ink composition according to claim 11. 基材上に、請求項9に記載の塗工液、又は請求項11に記載のインキ組成物を用いて形成されたカラーフィルター。   A color filter formed on a substrate using the coating liquid according to claim 9 or the ink composition according to claim 11. 基材上に、発光層が請求項9に記載の塗工液、又は請求項11に記載のインキ組成物を用いて形成された発光素子。   A light-emitting element in which a light-emitting layer is formed on a substrate using the coating liquid according to claim 9 or the ink composition according to claim 11.
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