JP7582403B2 - INK COMPOSITION, LIGHT-EMITTING LAYER AND ELECTROLUMINESCENT DEVICE - Google Patents
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Description
本発明は、量子ドット及び溶剤を含むインキ組成物、及び、該インキ組成物を用いてなる発光層及び電界発光素子に関する。 The present invention relates to an ink composition containing quantum dots and a solvent, and a light-emitting layer and an electroluminescent device made using the ink composition.
軽量・薄型で消費電力が少なく、且つ形状の自由度に優れた面発光型素子として、電界発光素子(EL、ElectroLuminescence)が注目されている。電界発光素子は、高輝度発光、高速応答、広視野角、薄型軽量、高解像度等の多くの優れた特徴を有し、フラットパネルディスプレイや照明への応用が検討されており、電界発光素子の1つとして量子ドットの利用が注目されている。 Electroluminescent devices (EL, ElectroLuminescence) have attracted attention as surface-emitting devices that are lightweight, thin, consume little power, and have excellent freedom of shape. Electroluminescent devices have many excellent features, such as high-brightness emission, fast response, wide viewing angle, thin and lightweight, and high resolution, and their application to flat panel displays and lighting is being considered, with the use of quantum dots as one type of electroluminescent device attracting attention.
量子ドットは、電荷キャリア及び励起子が3次元の全ての方向に閉じ込められナノスケールの半導体粒子であり、半導体ナノ粒子とも呼ばれる。量子ドットは、原子又は分子的な挙動と、バルク形態のような巨視的固体の挙動との中間的な挙動を示し、粒子サイズの減少にともない、有効なバンドギャップが増大する。つまり、量子ドットのサイズが小さくなると、その吸収と発光がより短波長側、即ち赤色方向から青色方向へとシフトする。また、量子ドットの組成と粒子サイズとの組み合わせを制御することにより、赤外領域から紫外領域までの広範囲のスペクトルを得ることができ、更に粒子サイズの分布を制御することにより、半値幅が狭く色純度に優れたスペクトルを得ることができる。
近年、これらの特性を生かして、発光材料として量子ドットを用いた、電界発光素子が提案されている。
Quantum dots are nanoscale semiconductor particles in which charge carriers and excitons are confined in all three dimensions, and are also called semiconductor nanoparticles. Quantum dots exhibit intermediate behavior between atomic or molecular behavior and macroscopic solid behavior such as bulk form, and the effective band gap increases with decreasing particle size. That is, as the size of quantum dots decreases, their absorption and emission shift to shorter wavelengths, i.e., from red to blue. In addition, by controlling the combination of the composition and particle size of the quantum dots, a wide spectrum from the infrared region to the ultraviolet region can be obtained, and by further controlling the distribution of particle size, a spectrum with a narrow half-width and excellent color purity can be obtained.
In recent years, taking advantage of these characteristics, electroluminescent devices using quantum dots as the light-emitting material have been proposed.
一般的に量子ドットは、水や有機溶剤中に分散した量子ドット含有組成物として扱われ、コーティングや印刷等の湿式方法で製膜加工される。そのため、電界発光素子を構成する多層の層の内、量子ドット含有組成物により形成される発光層の下層は、該組成物に含まれる溶剤等によってダメージを受けるため、下層を構成する材料や有機溶剤の選択には制限がある。
特に、電界発光素子では、発光層の下層に正孔輸送層を有していることが多く、芳香族低分子や芳香族高分子を用いた正孔輸送層上に、芳香族系の有機溶剤を含む量子ドット含有組成物を塗布すると、正孔輸送層に大きなダメージが発生する。
Generally, quantum dots are treated as a quantum dot-containing composition dispersed in water or an organic solvent, and are processed into a film by a wet method such as coating, printing, etc. Therefore, among the multiple layers constituting an electroluminescent device, the lower layer of the light-emitting layer formed of the quantum dot-containing composition is damaged by the solvent contained in the composition, and therefore there are limitations on the selection of materials and organic solvents constituting the lower layer.
In particular, electroluminescent elements often have a hole transport layer below the light-emitting layer, and when a quantum dot-containing composition containing an aromatic organic solvent is applied onto a hole transport layer made of an aromatic low molecule or aromatic polymer, significant damage occurs to the hole transport layer.
上記課題に対し、特許文献1には、量子ドット含有組成物中の溶剤により下層が溶解し、混合層となることを利用して特性を改善する技術が開示されている。また、特許文献2には、トリフェニルアミン骨格を有しフォスフィンオキシドを吸着基としたリガンを有する量子ドットをジエチレングリコールジブチルエーテルに分散させたインキが記載されている。 In response to the above-mentioned problems, Patent Document 1 discloses a technology for improving characteristics by utilizing the fact that the solvent in the quantum dot-containing composition dissolves the lower layer, forming a mixed layer. Patent Document 2 also describes an ink in which quantum dots having a triphenylamine skeleton and ligands with phosphine oxide as an adsorption group are dispersed in diethylene glycol dibutyl ether.
しかしながら、特許文献1の発明は、下層と有機溶剤との組合せによっては必ずしも改善につながるわけではなく、むしろ悪化する場合が多い。さらに、混合層の再現性が悪く素子特性が安定しないという課題がある。また特許文献2は、吸着基がフォスフィンオキ
シドのリガンドと、ジエチレングリコールジブチルエーテルとを組み合わせており、素子特性及びインキのインクジェット吐出性が低いという課題がある。
即ち、本発明の課題は、量子ドットへの電気エネルギー注入を阻害することなく駆動電圧の低減が可能であり、かつ、積層による下層へのダメージが抑制された発光効率や耐久性に優れた電界発光素子と、その発光層、さらに、それらを形成するためのインキ組成物を提供することである。
However, the invention of Patent Document 1 does not necessarily lead to an improvement depending on the combination of the lower layer and the organic solvent, and in many cases, it worsens. Furthermore, there is a problem that the reproducibility of the mixed layer is poor and the element characteristics are not stable. Furthermore, Patent Document 2 combines a ligand having an adsorption group of phosphine oxide with diethylene glycol dibutyl ether, and there is a problem that the element characteristics and the ink jet ejection property of the ink are poor.
In other words, the object of the present invention is to provide an electroluminescent element that allows for a reduction in driving voltage without impeding the injection of electrical energy into quantum dots, and that has excellent luminous efficiency and durability while suppressing damage to underlying layers due to lamination, a light-emitting layer thereof, and an ink composition for forming them.
上記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、以下に示す実施形態により、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。 As a result of extensive research into solving the above problems, we discovered that the above problems could be solved by the embodiment shown below, and thus completed the present invention.
本発明の実施形態は、量子ドット及び溶剤を含むインキ組成物であって、前記量子ドットが、スルファニル基及びカルボキシル基からなる群から選ばれる少なくとも1種の官能基を有するキャリア輸送性リガンドを含み、前記溶剤が、下記一般式(1)~(4)で表わされる溶剤を少なくとも1種含み、下記一般式(1)~(4)で表わされる溶剤の合計量が、溶剤全量に対して50質量%以上である、インキ組成物に関する。
一般式(1): R36CO(OR37)pOR38
一般式(2): R39CO(OR40)qOCOR41
一般式(3): R42(OR43)rOR44
一般式(4): R45(OR46)sOR47
[一般式(1)~(4)中、
R36、R38、R39、R41、R42及びR44は、各々独立して、炭素数1~4のアルキル基を表し、R37、R40及びR43は、各々独立して、炭素数2~4のアルキレン基を表し、R45及びR47は、各々独立して、水素原子又は炭素数1~6のアルキル基を表し、R45及びR47のうち少なくとも1つは水素原子であり、R46は、炭素数1~10のアルキレン基を表し、p、q、r及びsは、各々独立して、1~6の整数を表す。]
An embodiment of the present invention relates to an ink composition comprising quantum dots and a solvent, wherein the quantum dots comprise a carrier transporting ligand having at least one functional group selected from the group consisting of a sulfanyl group and a carboxyl group, the solvent comprises at least one solvent represented by the following general formulas (1) to (4), and the total amount of the solvents represented by the following general formulas (1) to (4) is 50 mass% or more with respect to the total amount of the solvent.
General formula (1): R 36 CO(OR 37 ) p OR 38
General formula (2): R 39 CO(OR 40 ) q OCOR 41
General formula (3): R 42 (OR 43 ) r OR 44
General formula (4): R 45 (OR 46 ) s OR 47
[In general formulas (1) to (4),
R 36 , R 38 , R 39 , R 41 , R 42 and R 44 each independently represent an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, R 37 , R 40 and R 43 each independently represent an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, R 45 and R 47 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, at least one of R 45 and R 47 is a hydrogen atom, R 46 represents an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, and p, q, r and s each independently represent an integer of 1 to 6.]
本発明の他の実施形態は、前記キャリア輸送性リガンドが、一般式(5)で表わされる基を有する化合物である、上記記載のインキ組成物に関する。
一般式(5)
General formula (5)
本発明の他の実施形態は、インクジェット方式で用いられる、上記記載のインキ組成物に関する。 Another embodiment of the present invention relates to the ink composition described above for use in an inkjet system.
本発明の他の実施形態は、上記記載のインキ組成物を用いて形成される発光層に関する
。
Another embodiment of the present invention relates to a light-emitting layer formed using the ink composition described above.
本発明の他の実施形態は、基板上に、陽極、正孔輸送層、上記記載の発光層及び陰極が、この順に積層されている構成を備えた電界発光素子であって、前記正孔輸送層に接して前記発光層が設けられている、電界発光素子に関する。 Another embodiment of the present invention relates to an electroluminescent device having a configuration in which an anode, a hole transport layer, the above-described light-emitting layer, and a cathode are laminated in this order on a substrate, and the light-emitting layer is provided in contact with the hole transport layer.
本発明により、量子ドットへの電気エネルギー注入を阻害することなく駆動電圧の低減が可能であり、かつ、積層による下層へのダメージが抑制された発光効率や耐久性に優れた電界発光素子と、その発光層、さらに、それらを形成するためのインキ組成物を提供することができる。 The present invention makes it possible to reduce the driving voltage without impeding the injection of electrical energy into the quantum dots, and to provide an electroluminescent element with excellent luminous efficiency and durability, in which damage to the lower layers due to lamination is suppressed, as well as the light-emitting layer thereof, and an ink composition for forming them.
<インキ組成物>
本発明のインキ組成物は、量子ドット及び溶剤を含み、前記量子ドットが、スルファニル基及びカルボキシル基からなる群から選ばれる少なくとも1種の官能基を有するキャリア輸送性リガンドを含み、前記溶剤が、特定の構造に属する溶剤を含み、特定の構造に属する溶剤の合計量が、溶剤全量に対して50質量%以上であることを特徴とする。
このようなインキ組成物を用いることで、該組成物を用いて形成される発光層及び電界発光素子は、量子ドットへの電気エネルギー注入が阻害されることなく駆動電圧の低減が可能となり、かつ積層による下層へのダメージが抑制されるため、優れた発光効率や耐久性を示す。
以下に、本発明について詳細に説明する。
<Ink composition>
The ink composition of the present invention comprises quantum dots and a solvent, the quantum dots comprise a carrier transporting ligand having at least one functional group selected from the group consisting of a sulfanyl group and a carboxyl group, the solvent comprises a solvent belonging to a specific structure, and the total amount of the solvents belonging to the specific structure is 50 mass% or more relative to the total amount of the solvent.
By using such an ink composition, the light-emitting layer and electroluminescent element formed using the composition can reduce the driving voltage without impeding the injection of electrical energy into the quantum dots, and damage to the lower layers due to lamination is suppressed, thereby exhibiting excellent light-emitting efficiency and durability.
The present invention will be described in detail below.
<量子ドット>
本発明における量子ドットは、数nm~十数nm程度の半導体ナノ粒子と、リガンドと呼ばれる材料から構成されている。リガンドは、主として半導体ナノ粒子の表面に物理的又は化学的に吸着しており、溶剤への分散性を付与することに加え、半導体ナノ粒子表面を保護する役割を担っている。
<Quantum dots>
The quantum dots in the present invention are composed of semiconductor nanoparticles of about several nm to several tens of nm in size and a material called a ligand. The ligand is mainly physically or chemically adsorbed onto the surface of the semiconductor nanoparticles, and in addition to imparting dispersibility in a solvent, it also plays a role in protecting the surface of the semiconductor nanoparticles.
<半導体ナノ粒子>
半導体ナノ粒子の材質としては、炭素(C)(不定形炭素、グラファイト、グラフェン、カーボンナノチューブ等)、ケイ素(Si)、ゲルマニウム(Ge)、錫(Sn)等の周期表第IV族元素の単体、リン(P)(黒リン)等の周期表第V族元素の単体、セレン(Se)、テルル(Te)等の周期表第VI族元素の単体、酸化錫(IV)窒化ホウ素(BN)、リン化ホウ素(BP)、砒化ホウ素(BAs)、窒化アルミニウム(AlN)、リン化アルミニウム(AlP)、砒化アルミニウム(AlAs)、アンチモン化アルミニウム(AlSb)、窒化ガリウム(GaN)、リン化ガリウム(GaP)、砒化ガリウム(GaAs)、アンチモン化ガリウム(GaSb)、窒化インジウム(InN)、リン化インジウム(InP)、砒化インジウム(InAs)、アンチモン化インジウム(InSb)等の周期表第III族元素と周期表第V族元素との化合物硫化アルミニウム(Al2S3)、セレン化アルミニウム(Al2Se3)、硫化ガリウム(Ga2S3)、セレン化ガリウム(GaSe、Ga2Se3)テルル化ガリウム(GaTe、Ga2Te3)、酸化インジウム(In2O3)、硫化インジウム(In2S3、InS)、セレン化インジウム(In2Se3)、テルル化インジウム(In2Te3)等の周期表第III族元素と周期表第VI族元素との化合物、酸化亜鉛(ZnO)、硫化亜鉛(ZnS)、セレン化亜鉛(ZnSe)、テルル化亜鉛(ZnTe)、酸化カドミウム(CdO)、硫化カドミウム(CdS)、セレン化カドミウム(CdSe)、テルル化カドミウム(CdTe)、硫化水銀(HgS)、セレン化水銀(HgSe)、テルル化水銀(HgTe)等の周期表第II族元素と周期表第VI族元素との化合物、酸化銅(I)(Cu2O)等の周期表第I
族元素と周期表第VI族元素との化合物、塩化銅(I)(CuCl)、臭化銅(I)(CuBr)、ヨウ化銅(I)(CuI)、塩化銀(AgCl)、臭化銀(AgBr)等の周期表第I族元素と周期表第VII族元素との化合物等が挙げられ、必要に応じてこれらの2種以上を併用してもよい。
これらの半導体には、構成元素以外の元素が含有されていてもよく、例えばIII-V族を例にとれば、INGaP、INGaNの様な合金系であってもよい。また上記材料中に、希土類元素あるいは遷移金属元素がドープされた半導体ナノ粒子も使用でき、例えば、ZnS:Mn、ZnS:Tb、ZnS:Ce、LaPO4:Ce等が挙げられる。
<Semiconductor nanoparticles>
Examples of materials for semiconductor nanoparticles include carbon (C) (amorphous carbon, graphite, graphene, carbon nanotubes, etc.), silicon (Si), germanium (Ge), tin (Sn), and other elements in group IV of the periodic table, elements in group V of the periodic table such as phosphorus (P) (black phosphorus), elements in group VI of the periodic table such as selenium (Se) and tellurium (Te), tin oxide (IV), boron nitride (BN), boron phosphide (BP), boron arsenide (BAs), aluminum nitride (AlN), Compounds of elements in Group III of the periodic table and elements in Group V of the periodic table, such as aluminum phosphide (AlP), aluminum arsenide (AlAs), aluminum antimonide (AlSb), gallium nitride (GaN), gallium phosphide (GaP), gallium arsenide (GaAs), gallium antimonide (GaSb), indium nitride (InN), indium phosphide (InP), indium arsenide (InAs), and indium antimonide (InSb), aluminum sulfide (Al 2 S 3 ), aluminum selenide (Al 2 Se 3 ), gallium sulfide (Ga 2 S 3 ), gallium selenide (GaSe, Ga 2 Se 3 ), gallium telluride (GaTe, Ga 2 Te 3 ), indium oxide (In 2 O 3 ), indium sulfide (In 2 S 3 , InS), indium selenide (In 2 Se 3 ), indium telluride (In 2 Te 3 compounds of Group III elements of the periodic table and Group VI elements of the periodic table, such as zinc oxide (ZnO), zinc sulfide (ZnS), zinc selenide (ZnSe), zinc telluride (ZnTe), cadmium oxide (CdO), cadmium sulfide (CdS), cadmium selenide (CdSe), cadmium telluride (CdTe), mercury sulfide (HgS), mercury selenide (HgSe), and mercury telluride (HgTe); compounds of Group II elements of the periodic table and Group VI elements of the periodic table, such as copper(I) oxide (Cu 2 O);
and compounds of Group I elements and Group VII elements of the periodic table, such as copper chloride (I) (CuCl), copper bromide (I) (CuBr), copper iodide (I) (CuI), silver chloride (AgCl), and silver bromide (AgBr). Two or more of these may be used in combination, if necessary.
These semiconductors may contain elements other than the constituent elements, and in the case of III-V group semiconductors, they may be alloys such as INGaP and INGaN. Semiconductor nanoparticles doped with rare earth elements or transition metal elements may also be used, such as ZnS:Mn, ZnS:Tb, ZnS:Ce, and LaPO4 :Ce.
この中でも、ケイ素(Si)、ゲルマニウム(Ge)、窒化ガリウム(GaN)、リン化ガリウム(GaP)、砒化ガリウム(GaAs)、窒化インジウム(InN)、リン化インジウム(InP)、砒化インジウム(InAs)、セレン化ガリウム(GaSe、Ga2Se3)、硫化インジウム(In2S3、InS)、酸化亜鉛(ZnO)、硫化亜鉛(ZnS)、セレン化亜鉛(ZnSe)、テルル化亜鉛(ZnTe)、酸化カドミウム(CdO)、硫化カドミウム(CdS)、セレン化カドミウム(CdSe)、テルル化カドミウム(CdTe)、InGaP、InGaN等の合金系が好ましく用いられ、より好ましくは、リン化インジウム(InP)、セレン化カドミウム(CdSe)、硫化亜鉛(ZnS)、セレン化亜鉛(ZnSe)であり、さらに好ましくは、InPをコアに、ZnS、及び/又は、ZnSeをシェルに有するものである。 Among these, silicon (Si), germanium (Ge), gallium nitride (GaN), gallium phosphide (GaP), gallium arsenide (GaAs), indium nitride (InN), indium phosphide ( InP ) , indium arsenide (InAs), gallium selenide (GaSe, Ga2Se3 ), indium sulfide ( In2S3 Preferably used are alloy systems such as InS, zinc oxide (ZnO), zinc sulfide (ZnS), zinc selenide (ZnSe), zinc telluride (ZnTe), cadmium oxide (CdO), cadmium sulfide (CdS), cadmium selenide (CdSe), cadmium telluride (CdTe), InGaP, and InGaN, more preferably indium phosphide (InP), cadmium selenide (CdSe), zinc sulfide (ZnS), and zinc selenide (ZnSe), and even more preferably those having InP as a core and ZnS and/or ZnSe as a shell.
さらに、半導体ナノ粒子の材質としてペロブスカイト結晶を好適に用いることができる。ペロブスカイト結晶は、下記式(I)で表される組成を有し、3次元結晶構造を持つものである。
式(I): AQX3
[式(I)において、Aは、メチルアンモニウム(CH3NH2)及びホルムアミジニウム(NH2CHNH)からなる群から選ばれる少なくとも1種であるアミン化合物の1価陽イオン、又は、ルビジウム(Rb)、セシウム(Ce)及びフランシウ(Fr)からなる群から選ばれる少なくとも1種であるアルカリ金属元素の1価陽イオンであり、Qは、鉛(Pb)及び錫(Sn)からなる群から選ばれる少なくとも1種である金属元素の2価陽イオンであり、Xは、ヨウ素(I)、臭素(Br)及び塩素(Cl)からなる群から選ばれる少なくとも1種のハロゲン元素の1価陰イオンである。]
Furthermore, perovskite crystals can be suitably used as the material for the semiconductor nanoparticles. The perovskite crystals have a composition represented by the following formula (I) and have a three-dimensional crystal structure.
Formula (I): AQX3
[In formula (I), A is a monovalent cation of at least one amine compound selected from the group consisting of methylammonium (CH 3 NH 2 ) and formamidinium (NH 2 CHNH), or a monovalent cation of at least one alkali metal element selected from the group consisting of rubidium (Rb), cesium (Ce), and francium (Fr); Q is a divalent cation of at least one metal element selected from the group consisting of lead (Pb) and tin (Sn); and X is a monovalent anion of at least one halogen element selected from the group consisting of iodine (I), bromine (Br), and chlorine (Cl)]
半導体ナノ粒子は、コアシェル構造を有するものであることが好ましい。コアシェル型の半導体ナノ粒子は、コアを形成する材質と異なる成分からなる材質でコア構造を被覆した構造となる。シェルにバントギャップの大きい半導体を選択することで、光励起によって生成された励起子(電子-正孔対)はコア内に閉じ込められる。その結果、粒子表面での無輻射遷移の確率が減少し、発光の量子収率及び蛍光特性の安定性が向上する。また、シェルは複数層あってもよい。更に、コアとシェル、及び、あるシェルと他のシェルの境界は明確であっても濃度勾配を設けて徐々に接合されたグラージェント構造で合ってもよい。更に、シェルはコアの一部だけを被覆している状態でも、全体を被覆していてもよい。 The semiconductor nanoparticles preferably have a core-shell structure. Core-shell type semiconductor nanoparticles have a structure in which the core structure is covered with a material made of a component different from the material forming the core. By selecting a semiconductor with a large band gap for the shell, excitons (electron-hole pairs) generated by photoexcitation are confined within the core. As a result, the probability of non-radiative transitions on the particle surface is reduced, improving the quantum yield of light emission and the stability of the fluorescent properties. The shell may have multiple layers. Furthermore, the boundaries between the core and the shell, and between one shell and another shell, may be clear or may have a gradient structure in which the shells are gradually joined together by providing a concentration gradient. Furthermore, the shell may cover only a part of the core, or the entire core.
コアとシェルとを含めた半導体ナノ粒子の平均粒径は、通常0.5nm~100nmであり、好ましくは1~50nmであり、さらに好ましくは1~15nmである。 The average particle size of the semiconductor nanoparticles, including the core and shell, is usually 0.5 nm to 100 nm, preferably 1 to 50 nm, and more preferably 1 to 15 nm.
ここで言う平均粒径とは、半導体ナノ粒子を透過型電子顕微鏡で観察し、無作為に30個のサイズを計測してその平均値を採用した値を指す。この際、半導体ナノ粒子は後述のリガンドを伴うため、エネルギー分散型X線分析が付帯した走査型透過電子顕微鏡を用いることで、半導体材質部を特定した上で、透過型電子顕微鏡像において電子密度の違いから後述のリガンドに対し半導体ナノ粒子部分は暗く撮像されることを利用し粒径を計測す
る。半導体ナノ粒子の形状は、球状に限らず、棒状、円盤状、その他形状であっても良い。
The average particle size referred to here refers to a value obtained by observing semiconductor nanoparticles with a transmission electron microscope, measuring the size of 30 randomly selected particles, and adopting the average value. In this case, since the semiconductor nanoparticles are accompanied by a ligand described below, a scanning transmission electron microscope equipped with an energy dispersive X-ray analysis is used to identify the semiconductor material portion, and the particle size is measured by utilizing the fact that the semiconductor nanoparticle portion is imaged darker than the ligand described below due to the difference in electron density in the transmission electron microscope image. The shape of the semiconductor nanoparticles is not limited to spherical, but may be rod-shaped, disk-shaped, or other shapes.
<リガンド>
本発明における量子ドットは、スルファニル基及びカルボキシル基からなる群から選ばれる少なくとも1種の官能基を有するキャリア輸送性リガンドを含むことを特徴とする。ここでリガンドとは、半導体ナノ粒子の表面処理に用いられ、前記半導体ナノ粒子表面の少なくとも一部を覆うものであり、アルキルチオール等の従来のリガンドは絶縁物質であるために、量子ドットへの電気エネルギー注入を阻害する課題があるところ、本発明では、キャリアである正孔及び電子の輸送性を有するキャリア輸送性リガンドを含むことで、量子ドットへの電気エネルギー注入を阻害することなく駆動電圧を低減し、優れた発光効率や耐久性を発揮することができる。
<Ligand>
The quantum dots of the present invention are characterized by including a carrier transporting ligand having at least one functional group selected from the group consisting of a sulfanyl group and a carboxyl group. The ligand is used in the surface treatment of semiconductor nanoparticles and covers at least a part of the surface of the semiconductor nanoparticles. Conventional ligands such as alkylthiols are insulating substances, and therefore have a problem of inhibiting injection of electric energy into the quantum dots. However, the present invention includes a carrier transporting ligand having the transport properties of holes and electrons, which are carriers, and thus reduces the driving voltage without inhibiting injection of electric energy into the quantum dots, and can exhibit excellent luminous efficiency and durability.
表面処理の方法としては、例えば、半導体ナノ粒子の合成の際にリガンドを添加することにより、半導体ナノ粒子に予めリガンドを化学吸着させ表面処理する方法;半導体ナノ粒子、又は、別のリガンドで表面処理された半導体ナノ粒子と、リガンドとを溶剤中で撹拌することで、半導体ナノ粒子の表面にリガンドを化学吸着、物理吸着又は化学結合させて表面処理する方法;半導体ナノ粒子、又は、別のリガンドで表面処理された半導体ナノ粒子を、遠心沈降等で溶剤を除去した後、リガンドを含む溶剤に再分散し、化学吸着、物理吸着又は化学結合させて表面処理する方法;が挙げられる。 Surface treatment methods include, for example, a method in which a ligand is added during the synthesis of semiconductor nanoparticles to chemically adsorb the ligand to the semiconductor nanoparticles in advance for surface treatment; a method in which semiconductor nanoparticles or semiconductor nanoparticles that have been surface-treated with another ligand are stirred in a solvent to chemically adsorb, physically adsorb, or chemically bond the ligand to the surface of the semiconductor nanoparticles; and a method in which the solvent is removed from semiconductor nanoparticles or semiconductor nanoparticles that have been surface-treated with another ligand by centrifugal sedimentation or the like, and then the semiconductor nanoparticles are redispersed in a solvent containing the ligand and surface-treated by chemical adsorption, physically adsorb, or chemically bond.
<キャリア輸送性リガンド>
本発明におけるキャリア輸送性リガンドは、半導体ナノ粒子への吸着部位である、スルファニル基及びカルボキシル基からなる群から選ばれる少なくとも1種の官能基と、芳香族骨格部位とを有するものである。芳香族骨格は、σ電子に比べて動きやすいπ電子を共役する形で有しているため、正孔や電子等のキャリアの授受をし易いためキャリア輸送性を有する。キャリア輸送性としては、正孔輸送性及び電子輸送性が挙げられ、キャリア輸送性リガンドは、正孔輸送性を備える正孔輸送性リガンドであってもよく、電子輸送性を備える電子輸送性リガンドであってもよく、正孔輸送性と電子輸送性を兼ね備えるリガンドであってもよい。以下、正孔輸送性と電子輸送性を兼ね備えるリガンドは、正孔輸送性リガンド又は電子輸送性リガンドのいずれにも含まれるものとする。キャリア輸送性が、正孔輸送性又は電子輸送性のいずれかであるかは、芳香族骨格やイオン化ポテンシャルによって決定される。
以下に、正孔輸送性リガンド及び電子輸送性リガンドについて説明する。
<Carrier transporting ligand>
The carrier transporting ligand in the present invention has at least one functional group selected from the group consisting of a sulfanyl group and a carboxyl group, which is an adsorption site to the semiconductor nanoparticles, and an aromatic skeleton portion. The aromatic skeleton has π electrons, which are more mobile than σ electrons, in a conjugated form, and therefore has carrier transportability because it is easy to transfer carriers such as holes and electrons. Examples of carrier transportability include hole transportability and electron transportability, and the carrier transporting ligand may be a hole transporting ligand having hole transportability, an electron transporting ligand having electron transportability, or a ligand having both hole transportability and electron transportability. Hereinafter, the ligand having both hole transportability and electron transportability is included in either a hole transporting ligand or an electron transporting ligand. Whether the carrier transportability is either hole transportability or electron transportability is determined by the aromatic skeleton and the ionization potential.
The hole transporting ligand and the electron transporting ligand will be described below.
[正孔輸送性リガンド]
正孔輸送性リガンドは、前述のとおり、半導体ナノ粒子表面への吸着部位である、スルファニル基及びカルボキシル基からなる群から選ばれる少なくとも1種の官能基と、正孔輸送する機能を持つ正孔輸送性部位とを有し、吸着部位と正孔輸送性部位とは完全に分離している必要は無く、例えば、正孔輸送性部位の一部が吸着部位となっていてもよい。
[Hole-transporting ligand]
As described above, the hole transporting ligand has at least one functional group selected from the group consisting of a sulfanyl group and a carboxyl group, which is an adsorption site onto the surface of the semiconductor nanoparticle, and a hole transporting site having the function of transporting holes. The adsorption site and the hole transporting site do not need to be completely separate, and for example, part of the hole transporting site may serve as the adsorption site.
正孔輸送性部位は、有機電界発光素子材料として用いられる公知の正孔輸送性化合物及びその誘導体からなる構造を有する部位が挙げられ、特に限定されないが、例えば、第三級芳香族アミン、チオフェンオリゴマー、チオフェンポリマー、ピロールオリゴマー、ピロールポリマー、フェニレンビニレンオリゴマー、フェニレンビニレンポリマー、ビニルカルバゾールオリゴマー、ビニルカルバゾールポリマー、フルオレンオリゴマー、フルオレンポリマー、フェニレンエチンオリゴマー、フェニレンエチンポリマー、フェニレンオリゴマー、フェニレンポリマー、アセチレンオリゴマー、アセチレンポリマー、フタロシアニン、フタロシアニン誘導体、ポルフィリン、及びポルフィリン誘導体が挙げられる。また、以下に示す化合物及びその誘導体も、正孔輸送性部位として使用できる。 The hole transporting portion may be a portion having a structure consisting of a known hole transporting compound and its derivatives used as an organic electroluminescent device material, and is not particularly limited. Examples of the hole transporting portion include, but are not limited to, tertiary aromatic amines, thiophene oligomers, thiophene polymers, pyrrole oligomers, pyrrole polymers, phenylene vinylene oligomers, phenylene vinylene polymers, vinyl carbazole oligomers, vinyl carbazole polymers, fluorene oligomers, fluorene polymers, phenylene ethene oligomers, phenylene ethene polymers, phenylene oligomers, phenylene polymers, acetylene oligomers, acetylene polymers, phthalocyanines, phthalocyanine derivatives, porphyrins, and porphyrin derivatives. In addition, the following compounds and their derivatives can also be used as the hole transporting portion.
さらに、正孔輸送リガンドの好ましい構造として下記一般式(6)、一般式(7)又は一般式(8)で表されるものが挙げられる。 Furthermore, preferred structures of the hole transport ligand include those represented by the following general formula (6), general formula (7), or general formula (8).
一般式(6)
[一般式(6)中、X1は、水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、又は置換基を有してもよいアシル基であり、R1~R8は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアシル基、置換基を有してもよいアミノ基、置換基を有してもよい(ポリ)オルガノシロキサン基、カルボキシル基又はスルファニル基であり、X1及びR1~R8の内、少なくとも1つが、カルボキシル基を有する基又はスルファニル基を有する基である。] [In general formula (6), X 1 is a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, or an acyl group which may have a substituent, and R 1 to R 8 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, an alkoxy group which may have a substituent, an aryloxy group which may have a substituent, an acyl group which may have a substituent, an amino group which may have a substituent, a (poly)organosiloxane group which may have a substituent, a carboxyl group, or a sulfanyl group, and at least one of X 1 and R 1 to R 8 is a group having a carboxyl group or a group having a sulfanyl group.]
一般式(7)
[一般式(7)中、R11~R25は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアシル基、置換基を有
してもよい(ポリ)オルガノシロキサン基、ニトロ基、置換基を有してもよいアミノ基、カルボキシル基又はスルファニル基であり、R11~R25の内、少なくとも1つが、カルボキシル基を有する基又はスルファニル基を有する基である。]
[In general formula (7), R 11 to R 25 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, an alkoxy group which may have a substituent, an aryloxy group which may have a substituent, an acyl group which may have a substituent, a (poly)organosiloxane group which may have a substituent, a nitro group, an amino group which may have a substituent, a carboxyl group, or a sulfanyl group, and at least one of R 11 to R 25 is a group having a carboxyl group or a group having a sulfanyl group.]
一般式(8)
[一般式(8)中、X2は、水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基(ただしフェニル基を除く)、又は置換基を有してもよいアシル基であり、R26~R35は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよい(ポリ)オルガノシロキサン基、置換基を有してもよいアミノ基、置換基を有してもよいアシル基、カルボキシル基又はスルファニル基であり、X2及びR26~R35の内、少なくとも1つが、カルボキシル基を有する基又はスルファニル基を有する基である。]
以下に、上記一般式(6)~(8)における置換基について説明する。
[In general formula (8), X 2 is a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent (excluding a phenyl group), or an acyl group which may have a substituent, and R 26 to R 35 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, an alkoxy group which may have a substituent, an aryloxy group which may have a substituent, a (poly)organosiloxane group which may have a substituent, an amino group which may have a substituent, an acyl group which may have a substituent, a carboxyl group, or a sulfanyl group, and at least one of X 2 and R 26 to R 35 is a group having a carboxyl group or a group having a sulfanyl group.]
The substituents in the above general formulas (6) to (8) will be described below.
アルキル基は、直鎖、分岐又は環状のアルキル基であり、一部の水素原子が脱落し2重結合や3重結合を形成していてもよい。組成物中における半導体微粒子の含有率を高めることが可能となる点から、処理剤の分子量は小さいことが好ましく、アルキル基の炭素数が1~30であることが好ましい。
上記アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ヘキシル基、ドデシル基、エイコシル基等の直鎖アルキル基;2-エチルヘキシル基等の分岐アルキル基;シクロヘキシル基、3-シクロヘキシルプロピル基等の環状アルキル基;エテニル基、ドデセン基等のアルケニル基;プロパ-2-イン-1-基、プロパルギル基等のアルキニル基が挙げられる。
The alkyl group may be linear, branched or cyclic, and may have some hydrogen atoms removed to form a double bond or a triple bond. In order to increase the content of semiconductor fine particles in the composition, it is preferable that the molecular weight of the treatment agent is small, and the alkyl group preferably has 1 to 30 carbon atoms.
Examples of the alkyl group include linear alkyl groups such as methyl, ethyl, hexyl, dodecyl, and eicosyl groups; branched alkyl groups such as 2-ethylhexyl groups; cyclic alkyl groups such as cyclohexyl and 3-cyclohexylpropyl groups; alkenyl groups such as ethenyl and dodecene groups; and alkynyl groups such as prop-2-yn-1- and propargyl groups.
アリール基は、芳香環から形式的に水素原子を1つ取り除いた残基であり、より好ましくは、炭素数6から30の芳香環から形式的に水素原子を1つ取り除いた残基である。
芳香環としては例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、ピレン環、ピリジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、ピラジン環、キノリン環、フラン環、ピロール環、チオフェン環、イミダゾール環、ピラゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、インドール環、ベンズイミダゾール環、ベンゾフラン環、プリン環、アクリジン環、フェノチアジン環、ビフェニル基、又はターフェニル基等を挙げることができる。
The aryl group is a residue in which one hydrogen atom has been formally removed from an aromatic ring, and more preferably a residue in which one hydrogen atom has been formally removed from an aromatic ring having 6 to 30 carbon atoms.
Examples of the aromatic ring include a benzene ring, a naphthalene ring, a pyrene ring, a pyridine ring, a pyrimidine ring, a pyridazine ring, a pyrazine ring, a quinoline ring, a furan ring, a pyrrole ring, a thiophene ring, an imidazole ring, a pyrazole ring, an oxazole ring, a thiazole ring, an indole ring, a benzimidazole ring, a benzofuran ring, a purine ring, an acridine ring, a phenothiazine ring, a biphenyl group, and a terphenyl group.
アルコキシ基は、エーテル結合を介してアルキル基が結合した官能基であり、当該アルキル基としては、前述の一般式(6)~(8)におけるアルキル基と同義である。 An alkoxy group is a functional group to which an alkyl group is bonded via an ether bond, and the alkyl group has the same meaning as the alkyl group in the above general formulas (6) to (8).
アリールオキシ基は、エーテル結合を介してアリール基が結合した官能基であり、当該アリール基としては、前述の一般式(6)~(8)におけるアリール基と同義である。 An aryloxy group is a functional group to which an aryl group is bonded via an ether bond, and the aryl group has the same meaning as the aryl group in the above general formulas (6) to (8).
アシル基は、カルボニル基を介してアルキル基又はアリール基が結合した官能基であり、当該アルキル基及びアリール基としては、前述の一般式(6)~(8)におけるアルキル基及びアリール基と同義である。 An acyl group is a functional group in which an alkyl group or an aryl group is bonded via a carbonyl group, and the alkyl group and the aryl group have the same meaning as the alkyl group and the aryl group in the above general formulas (6) to (8).
(ポリ)オルガノシロキサン基は、シロキサン化合物から形式的に水素原子を1つ取り除いた残基であり、シロキサン化合物のケイ素には、アルキル基が置換していてもよい。置換してもよいアルキル基は、前述の一般式(6)~(8)におけるアルキル基と同義である。シロキサン化合物の例としては、例えば、ペンタメチルジシロキサン、ヘプタエチルトリシロキサン、ウンデカメチルテトラシロキサン、トリメチルシロキシジメチルシラノール、1,1,3,3,テトラメチル-1,3-ジヒドロキシジシロキサン又は1,1,3,3,5,5-ヘキサメチル-1,5-ジヒドロキシ-トリシロキサンが挙げられる。
インキ組成物中における半導体微粒子の含有率を高めることが可能となる点から、リガンドの分子量は小さいことが好ましく、シロキサン結合の繰り返し数は4回以下であることが好ましい。
The (poly)organosiloxane group is a residue obtained by formally removing one hydrogen atom from a siloxane compound, and the silicon of the siloxane compound may be substituted with an alkyl group. The alkyl group that may be substituted has the same meaning as the alkyl group in the above general formulas (6) to (8). Examples of the siloxane compound include pentamethyldisiloxane, heptaethyltrisiloxane, undecamethyltetrasiloxane, trimethylsiloxydimethylsilanol, 1,1,3,3,tetramethyl-1,3-dihydroxydisiloxane, and 1,1,3,3,5,5-hexamethyl-1,5-dihydroxytrisiloxane.
Since this makes it possible to increase the content of semiconductor fine particles in the ink composition, it is preferable that the molecular weight of the ligand is small, and the number of repeating siloxane bonds is preferably 4 or less.
置換基を有してもよいアミノ基は、アミノ基及び置換アミノ基を含み、置換アミノ基の置換基としては、アルキル基、アリール基又はアシル基が挙げられる。上記アルキル基、アリール基及びアシル基は、前述の一般式(6)~(8)におけるアルキル基、アリール基又はアシル基と同義である。 The amino group which may have a substituent includes an amino group and a substituted amino group, and examples of the substituent of the substituted amino group include an alkyl group, an aryl group, and an acyl group. The above alkyl group, aryl group, and acyl group are the same as the alkyl group, aryl group, and acyl group in the above general formulas (6) to (8).
また、一般式(6)~(8)におけるアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アミノ基、アリールオキシ基及びアシル基は、置換基を有していてもよい。
有してもよい置換基としては、例えば、ハロゲノ基、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、アルコキシ基、アルキル基、アラルキル基、アリール基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ、アミノ基(アニリノ基を含む)、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキル及びアリールスルホニルアミノ基、スルファニル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アルキル及びアリールスルフィニル基、アルキル及びアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基、又はシロキサン結合を含む基等が挙げられる。
本発明における有してもよい置換基は、上述の1価の置換基と、必要に応じてアルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、ヘテロアリーレン基、エーテル結合、エステル結合、スルフィド結合、カルボニル基、イミノ基又はそれらを組み合わせた2価の連結基と、を組み合わせた1価の基であってもよい。
In addition, the alkyl group, aryl group, alkoxy group, amino group, aryloxy group and acyl group in the general formulae (6) to (8) may have a substituent.
Examples of the substituent that may be possessed include a halogeno group, a cyano group, a hydroxy group, a nitro group, an alkoxy group, an alkyl group, an aralkyl group, an aryl group, an aryloxy group, a silyloxy group, a heterocyclic oxy group, an acyloxy group, a carbamoyloxy group, an alkoxycarbonyloxy group, an aryloxycarbonyloxy group, an amino group (including an anilino group), an acylamino group, an aminocarbonylamino group, an alkoxycarbonylamino group, an aryloxycarbonylamino group, a sulfamoylamino group, an alkyl and arylsulfonylamino group, a sulfanyl group, an alkylthio group, an arylthio group, a heterocyclic thio group, an alkyl and arylsulfinyl group, an alkyl and arylsulfonyl group, an acyl group, an aryloxycarbonyl group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, an imido group, a phosphino group, a phosphinyl group, a phosphinyloxy group, a phosphinylamino group, a silyl group, or a group containing a siloxane bond.
The substituent that may be possessed in the present invention may be a monovalent group obtained by combining the above-mentioned monovalent substituent and, if necessary, an alkylene group, an alkenylene group, an arylene group, a heteroarylene group, an ether bond, an ester bond, a sulfide bond, a carbonyl group, an imino group, or a divalent linking group obtained by combining them.
また、カルボキシル基又はスルファニル基を有する基とは、カルボキシル基及びスルファニル基のほか、置換基としてカルボキシル基又はスルファニル基を有する、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、(ポリ)オルガノシロキサン基又はアシル基を含む。ここで、カルボキシル基及びスルファニル基のほか、置換基としてカルボキシル基又はスルファニル基を有する、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、(ポリ)オルガノシロキサン基、アシル基又はニトロ基は、前述の一般式(6)~(8)における基と同義である。 The group having a carboxyl group or a sulfanyl group includes, in addition to the carboxyl group and the sulfanyl group, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an amino group, a (poly)organosiloxane group, or an acyl group having a carboxyl group or a sulfanyl group as a substituent. Here, the carboxyl group and the sulfanyl group, as well as the alkyl group, the aryl group, the alkoxy group, the aryloxy group, the (poly)organosiloxane group, the acyl group, or the nitro group having a carboxyl group or a sulfanyl group as a substituent, are the same as the groups in the above general formulae (6) to (8).
カルボキシル基を有するアルキル基、又はカルボキシル基を有するアリール基の例としては、例えば、2-カルボシキシルエチル基、2,2-ジカルボキシルエチル基、2-カルボシキシルエテニル基、2-シアノ-2-カルボシキシルエテニル基、2-トリフルオロメチル-2-カルボシキシルエテニル基、2-フルオロ-2-カルボシキシルエテニル基が挙げられる。 Examples of alkyl groups having a carboxyl group or aryl groups having a carboxyl group include, for example, 2-carboxyethyl groups, 2,2-dicarboxyethyl groups, 2-carboxylethenyl groups, 2-cyano-2-carboxylethenyl groups, 2-trifluoromethyl-2-carboxylethenyl groups, and 2-fluoro-2-carboxylethenyl groups.
スルファニル基を有するアルキル基、スルファニル基を有するアリール基、又はスルファニル基を有するアシル基としては、例えば、[(3-スルファニルプロパノイル)オキシ]エチル基、[(2-スルファニルアセチル)オキシ]エチル基、4-(スルファニルメチル)フェニル基、[(3-スルファニルプロパノイル)オキシ]プロピル基、3-スルファニル[(3-スルファニルプロパノイル)オキシ]エチル基、又は{[(2-スルファニルエトキシ)プロパノイル]オキシ}エチル基が挙げられる。 Examples of alkyl groups having a sulfanyl group, aryl groups having a sulfanyl group, or acyl groups having a sulfanyl group include the [(3-sulfanylpropanoyl)oxy]ethyl group, the [(2-sulfanylacetyl)oxy]ethyl group, the 4-(sulfanylmethyl)phenyl group, the [(3-sulfanylpropanoyl)oxy]propyl group, the 3-sulfanyl[(3-sulfanylpropanoyl)oxy]ethyl group, and the {[(2-sulfanylethoxy)propanoyl]oxy}ethyl group.
以下に、一般式(6)~(8)で表されるリガンドの具体例を示すが、これらに限定されるものではない。なお、下記構造式において、シス型及びトランス型の幾何異性体が存在する場合は、シス型であってもよく、トランス型であってもよく、シス型及びトランス型の異性体混合物であってもよい。シン-アンチの幾何異性についても同様である。 Specific examples of ligands represented by general formulas (6) to (8) are shown below, but are not limited to these. In addition, in the following structural formulas, when cis- and trans-type geometric isomers exist, they may be either the cis type, the trans type, or a mixture of cis- and trans-type isomers. The same applies to syn-anti geometric isomerism.
[電子輸送性リガンド]
電子輸送性リガンドは、前述のとおり、半導体ナノ粒子表面への吸着部位である、スルファニル基及びカルボキシル基からなる群から選ばれる少なくとも1種の官能基と、電子輸送する機能を持つ電子輸送性部位とを有し、吸着部位と電子輸送性部位とは完全に分離している必要は無く、例えば、電子輸送性部位の一部が吸着部位となっていてもよい。
[Electron transporting ligand]
As described above, the electron transport ligand has at least one functional group selected from the group consisting of a sulfanyl group and a carboxyl group, which is an adsorption site onto the surface of the semiconductor nanoparticle, and an electron transport site having the function of transporting electrons. The adsorption site and the electron transport site do not need to be completely separate, and for example, part of the electron transport site may serve as the adsorption site.
電子輸送性部位は、有機電界発光素子材料として用いられる公知の電子輸送性化合物及びその誘導体からなる構造を有する部位が挙げられ、特に限定されないが、例えば、オキサジアゾール、オキサジアゾール誘導体、オキサゾール、オキサゾール誘導体、イソオキサゾール、イソオキサゾール誘導体、チアゾール、チアゾール誘導体、イソチアゾール、イソチアゾール誘導体、チアジアゾール、チアジアゾール誘導体、1,2,3-トリアゾール、1,2,3-トリアゾール誘導体、1,3,5-トリアジン、1,3,5-トリアジン誘導体、キノキサリン、キノキサリン誘導体、ピロールオリゴマー、ピロールポリマー、フェニレンビニレンオリゴマー、フェニレンビニレンポリマー、ビニルカルバゾールオリゴマー、ビニルカルバゾールポリマー、フルオレンオリゴマー、フルオレンポリマー、フェニレンエチンオリゴマー、フェニレンエチンポリマー、フェニレンオリゴマー、フェニレンポリマー、チオフェンオリゴマー、チオフェンポリマー、アセチレンポリマー、及びアセチレンオリゴマー誘導体が挙げられる。また、以下に示す化合物及びその誘導体も電子輸送性部位として使用できる。 Examples of the electron transport moiety include moieties having a structure consisting of known electron transport compounds and derivatives thereof used as organic electroluminescent device materials, and are not particularly limited thereto. Examples include oxadiazole, oxadiazole derivatives, oxazole, oxazole derivatives, isoxazole, isoxazole derivatives, thiazole, thiazole derivatives, isothiazole, isothiazole derivatives, thiadiazole, thiadiazole derivatives, 1,2,3-triazole, 1,2,3-triazole derivatives, 1,3,5-triazine, 1,3,5-triazine derivatives, quinoxaline, quinoxaline derivatives, pyrrole oligomers, pyrrole polymers, phenylene vinylene oligomers, phenylene vinylene polymers, vinyl carbazole oligomers, vinyl carbazole polymers, fluorene oligomers, fluorene polymers, phenylene ethyne oligomers, phenylene ethyne polymers, phenylene oligomers, phenylene polymers, thiophene oligomers, thiophene polymers, acetylene polymers, and acetylene oligomer derivatives. Additionally, the following compounds and their derivatives can also be used as electron transport moieties.
なお、上述の正孔輸送性部位及び電子輸送性部位に、同一の構造が含まれているが、これは、電子輸送性部位と正孔輸送性部位のどちらにもなりえるためである。リガンドが正孔輸送性又は電子輸送性のどちらとして振る舞うかは、正孔輸送性リガンドと電子輸送性リガンドの相対的なHOMO-LUMOの関係、及び電界発光素子で用いられる他の化合物との相対的なHOMO-LUMOの関係によって決まり、さらに、特定の構造であっても、電子吸引性や電子供与性の置換基の存在によりHOMOやLUMOは変化する。上記理由により、一部の構造は、正孔輸送性部位及び電子輸送性部位のどちらにもなりえるため、双方に記載している。 The above-mentioned hole transporting moieties and electron transporting moieties contain the same structure, but this is because they can be either electron transporting moieties or hole transporting moieties. Whether a ligand behaves as a hole transporting or electron transporting moiety is determined by the relative HOMO-LUMO relationship between the hole transporting ligand and the electron transporting ligand, and the relative HOMO-LUMO relationship with other compounds used in the electroluminescent device, and even for a specific structure, the HOMO or LUMO changes depending on the presence of electron-withdrawing or electron-donating substituents. For the above reasons, some structures can be either hole transporting moieties or electron transporting moieties, and are therefore described as both.
正孔輸送性リガンド及び電子輸送性リガンドは、上述の正孔輸送性部位と吸着部位、又は、電子輸送性部位と吸着部位が、直接結合していてもよいし、アルキレン基等の連結基を介して結合していてもよい。この場合のアルキレン基としては、分岐又は直鎖のアルキレン基が挙げられ、好ましくは直鎖状アルキレン基である。また、アルキレン基の炭素数は1~5程度が好適であり、具体例としては、メチレン基、エチレン基、n-プロピレン基、n-ブチレン基、又はn-ペンチレン基等が挙げられる。 In the hole transporting ligand and the electron transporting ligand, the hole transporting moiety and the adsorption moiety, or the electron transporting moiety and the adsorption moiety, may be directly bonded or may be bonded via a linking group such as an alkylene group. In this case, the alkylene group may be a branched or straight-chain alkylene group, and is preferably a straight-chain alkylene group. In addition, the alkylene group preferably has a carbon number of about 1 to 5, and specific examples include a methylene group, an ethylene group, an n-propylene group, an n-butylene group, and an n-pentylene group.
本発明のキャリア輸送性リガンドは、下記一般式(5)に示す置換基を有することが好ましい。 The carrier transporting ligand of the present invention preferably has a substituent shown in the following general formula (5).
一般式(5)
[一般式(5)中、L1は、直接結合又は炭素数1~5のアルキレン基であり、L2は、炭素数1~5のアルキレン基であり、R48は、炭素数1~5のアルキル基であり、nは、0~4の整数である。] [In general formula (5), L 1 is a direct bond or an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, L 2 is an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, R 48 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and n is an integer of 0 to 4.]
一般式(5)のL1~L2における、炭素数1~5のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、n-プロピレン基、イソプロピレン基、n-ブチレン基、イソブチレン基、sec-ブチレン基、tert-ブチレン基、n-ペンチレン基が挙げられる。中でも好ましくは炭素数1~3のアルキレン基である。
繰り返し単位に含まれるL2は、繰り返し構造中において、同一であってもよいし、異なるものであってもよい。
Examples of the alkylene group having 1 to 5 carbon atoms in L 1 and L 2 in general formula (5) include a methylene group, an ethylene group, an n-propylene group, an isopropylene group, an n-butylene group, an isobutylene group, a sec-butylene group, a tert-butylene group, and an n-pentylene group. Among these, an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms is preferred.
L2 's contained in the repeating unit may be the same or different in the repeating structure.
一般式(5)のR48における、炭素数1~5のアルキル基としては、例えば、メチル
基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基が挙げられる。中でも、好ましくは炭素数1~3のアルキル基である。
In R48 of general formula (5), examples of the alkyl group having 1 to 5 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, and an n-pentyl group. Among these, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms is preferable.
<溶剤>
本発明のインキ組成物は、下記一般式(1)~(4)より選ばれる少なくとも1種の溶剤を含み、一般式(1)~(4)の溶剤の合計量が、溶剤全量に対して50質量%以上であることを特徴とする。
一般式(1): R36CO(OR37)pOR38
一般式(2): R39CO(OR40)qOCOR41
一般式(3): R42(OR43)rOR44
一般式(4): R45(OR46)sOR47
[一般式(1)~(4)中、
R36、R38、R39、R41、R42及びR44は、各々独立して、炭素数1~4のアルキル基を表し、R37、R40及びR43は、各々独立して、炭素数2~4のアルキレン基を表し、R45及びR47は、各々独立して、水素原子又は炭素数1~6のアルキル基を表し、R45及びR47のうち少なくとも1つは水素原子であり、R46は、炭素数1~10のアルキレン基を表し、p~sは、各々独立して、1~6の整数を表す。]
<Solvent>
The ink composition of the present invention is characterized in that it contains at least one solvent selected from the following general formulas (1) to (4), and the total amount of the solvents of the general formulas (1) to (4) is 50 mass % or more based on the total amount of the solvents:
General formula (1): R 36 CO(OR 37 ) p OR 38
General formula (2): R 39 CO(OR 40 ) q OCOR 41
General formula (3): R 42 (OR 43 ) r OR 44
General formula (4): R 45 (OR 46 ) s OR 47
[In general formulas (1) to (4),
R 36 , R 38 , R 39 , R 41 , R 42 and R 44 each independently represent an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, R 37 , R 40 and R 43 each independently represent an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, R 45 and R 47 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, at least one of R 45 and R 47 is a hydrogen atom, R 46 represents an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, and p to s each independently represent an integer of 1 to 6.]
上記特定の構造に属する溶剤を所定量以上含有することで、インクジェット印刷性が優れたものとなり、平滑で欠陥の無い発光層が得られる。加えてこれらの溶剤は、芳香族系の低分子化合物や高分子化合物をほとんど溶解せず、さらに、芳香族化合物を含む下層への濡れ性に優れることから、芳香族化合物を含む下層上に発光層を積層する場合においても、下層と発光層との界面が乱されることがなく、下層と密着した発光層を形成することができる。そのため、本発明のインキ組成物を用いて形成される発光層及び電界発光素子は、量子ドットへの電気エネルギー注入が阻害されることなく駆動電圧の低減が可能とな
り、かつ積層による下層へのダメージが抑制されるため、優れた発光効率や耐久性を示す。
By containing a predetermined amount or more of the solvent belonging to the above specific structure, the inkjet printability is excellent, and a smooth and defect-free light-emitting layer is obtained. In addition, these solvents hardly dissolve aromatic low molecular weight compounds or high molecular weight compounds, and furthermore, have excellent wettability to the lower layer containing an aromatic compound, so that even when the light-emitting layer is laminated on the lower layer containing an aromatic compound, the interface between the lower layer and the light-emitting layer is not disturbed, and the light-emitting layer can be formed in close contact with the lower layer. Therefore, the light-emitting layer and the electroluminescent element formed by using the ink composition of the present invention can reduce the driving voltage without impeding the injection of electric energy into the quantum dots, and damage to the lower layer due to lamination is suppressed, so that they show excellent light-emitting efficiency and durability.
一般式(1)に該当する溶剤の具体例としては、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート、エチレングリコールモノエチルエーテルプロピオネート、エチレングリコールモノブチルエーテルプロピオネート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルプロピオネート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート、エチレングリコールモノメチルエーテルブチレート、エチレングリコールモノエチルエーテルブチレート、エチレングリコールモノブチルエーテルブチレート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルブチレート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルブチレート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルブチレート、プロピレングリコールモノメチルエーテルブチレート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルブチレート、メトキシブチルアセテート等のグリコールモノアセテート類が挙げられる。 Specific examples of solvents that fall under the general formula (1) include ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol monobutyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monobutyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, dipropylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monomethyl ether propionate, ethylene glycol monoethyl ether propionate, ethylene glycol monobutyl ether propionate, diethylene glycol monomethyl ether propionate, diethylene glycol Examples of glycol monoacetates include glycol monoethyl ether propionate, diethylene glycol monobutyl ether propionate, propylene glycol monomethyl ether propionate, dipropylene glycol monomethyl ether propionate, ethylene glycol monomethyl ether butyrate, ethylene glycol monoethyl ether butyrate, ethylene glycol monobutyl ether butyrate, diethylene glycol monomethyl ether butyrate, diethylene glycol monoethyl ether butyrate, diethylene glycol monobutyl ether butyrate, propylene glycol monomethyl ether butyrate, dipropylene glycol monomethyl ether butyrate, and methoxybutyl acetate.
一般式(2)に該当する溶剤の具体例としては、エチレングリコールジアセテート、ジエチレングリコールジアセテート、プロピレングリコールジアセテート、ジプロピレングリコールジアセテート、エチレングリコールアセテートプロピオネート、エチレングリコールアセテートブチレート、エチレングリコールプロピオネートブチレート、エチレングリコールジプロピオネート、エチレングリコールアセテートジブチレート、ジエチレングリコールアセテートプロピオネート、ジエチレングリコールアセテートブチレート、ジエチレングリコールプロピオネートブチレート、ジエチレングリコールジプロピオネート、ジエチレングリコールアセテートジブチレート、プロピレングリコールアセテートプロピオネート、プロピレングリコールアセテートブチレート、プロピレングリコールプロピオネートブチレート、プロピレングリコールジプロピオネート、プロピレングリコールアセテートジブチレート、ジプロピレングリコールアセテートプロピオネート、ジプロピレングリコールアセテートブチレート、ジプロピレングリコールプロピオネートブチレート、ジプロピレングリコールジプロピオネート、ジプロピレングリコールアセテートジブチレート等のグリコールジアセテート類が挙げられる。 Specific examples of solvents that fall under the general formula (2) include ethylene glycol diacetate, diethylene glycol diacetate, propylene glycol diacetate, dipropylene glycol diacetate, ethylene glycol acetate propionate, ethylene glycol acetate butyrate, ethylene glycol propionate butyrate, ethylene glycol dipropionate, ethylene glycol acetate dibutyrate, diethylene glycol acetate propionate, diethylene glycol acetate butyrate, diethylene glycol propionate butyrate, and diethylene glycol di Examples of glycol diacetates include propionate, diethylene glycol acetate dibutyrate, propylene glycol acetate propionate, propylene glycol acetate butyrate, propylene glycol propionate butyrate, propylene glycol dipropionate, propylene glycol acetate dibutyrate, dipropylene glycol acetate propionate, dipropylene glycol acetate butyrate, dipropylene glycol propionate butyrate, dipropylene glycol dipropionate, and dipropylene glycol acetate dibutyrate.
一般式(3)に該当する溶剤の具体例としては、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルブチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジエチルエーテル、トリエチレングリコールメチルブチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、トリプロピレングリコールジメチルエーテル、等のグリコールジアルキルエーテル類が挙げられる。 Specific examples of solvents that fall under the general formula (3) include glycol dialkyl ethers such as ethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, diethylene glycol methyl butyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, triethylene glycol diethyl ether, triethylene glycol methyl butyl ether, tetraethylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol diethyl ether, and tripropylene glycol dimethyl ether.
一般式(4)に該当する溶剤の具体例としては、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールモノ2-エチルヘキシルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル(1-メトキシ-2-プロパノール)、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールn-プロピ
ルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノ2-エチルヘキシルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールn-プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノブチルエーテル、3-メトキシ-3メチルブタノール、3-メトキシブタノール等のグリコールモノアルキルエーテル類;エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、1,3-ブチレングリコール、1,2-ヘキサンジオール、2-エチル-1,3-ヘキサンジオール、2,5-ジメチルヘキサンジオール等のアルカンジオール類;が挙げられる。
Specific examples of the solvent represented by the general formula (4) include ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monohexyl ether, ethylene glycol mono 2-ethylhexyl ether, propylene glycol monomethyl ether (1-methoxy-2-propanol), propylene glycol monobutyl ether, propylene glycol n-propyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monoisopropyl ether, diethylene glycol monohexyl ether, diethylene glycol mono 2-ethylhexyl ether, and dipropylene glycol monomethyl ether. glycol monoalkyl ethers such as dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol n-propyl ether, dipropylene glycol monobutyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, triethylene glycol monobutyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, tripropylene glycol monobutyl ether, 3-methoxy-3-methylbutanol, and 3-methoxybutanol; and alkanediols such as ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, 1,3-butylene glycol, 1,2-hexanediol, 2-ethyl-1,3-hexanediol, and 2,5-dimethylhexanediol.
本発明では、一般式(1)~(4)で示したもの以外の従来公知の溶剤を含んでもよい。このような溶剤としては、特に限定されないが、例えば、トルエン、o-キシレン、m-キシレン、p-キシレン、メチシレン、シクロヘキシルベンゼン、テトラリン等の芳香族炭化水素;クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素;1,2-ジメトキシベンゼン、1,3-ジメトキシベンゼン、アニソール、フェネトール、2-メトキシトルエン、3-メトキシトルエン、4-メトキシトルエン、2,3-ジメチルアニソール、2,4-ジメチルアニソール等の芳香族エーテル;酢酸フェニル、プロピオン酸フェニル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸プロピル、安息香酸n-ブチル等の芳香族エステル;シクロヘキサノン、シクロオクタノン等の脂環を有するケトン;メチルエチルケトン、ジブチルケトン等の脂肪族ケトン;メチルエチルケトン、シクロヘキサノール、シクロオクタノール等の脂環を有するアルコール;ブタノール、ヘキサノール等の脂肪族アルコール;酢酸エチル、酢酸n-ブチル、乳酸エチル、乳酸n-ブチル等の脂肪族エステル;n-ヘキサン、2-メチルペンタン、3-メチルペンタン、2,2-ジメチルブタン、2,3-ジメチルブタン、n-ヘプタン、n-デカン、2,2,4-トリメチルペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ミネラルスピリット等の脂肪族炭化水素;が挙げられる。
これら溶剤は、1種を単独で使用してもよく、複数種を混合して用いてもよい。
In the present invention, the solvent may contain a conventionally known solvent other than those represented by the general formulas (1) to (4). Such a solvent is not particularly limited, but examples thereof include aromatic hydrocarbons such as toluene, o-xylene, m-xylene, p-xylene, methylene, cyclohexylbenzene, and tetralin; halogenated aromatic hydrocarbons such as chlorobenzene, dichlorobenzene, and trichlorobenzene; aromatic ethers such as 1,2-dimethoxybenzene, 1,3-dimethoxybenzene, anisole, phenetole, 2-methoxytoluene, 3-methoxytoluene, 4-methoxytoluene, 2,3-dimethylanisole, and 2,4-dimethylanisole; and aromatic ethers such as phenyl acetate, phenyl propionate, methyl benzoate, ethyl benzoate, propyl benzoate, and n-butyl benzoate. alicyclic alcohols such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, cyclooctanone, etc.; aliphatic alcohols such as butanol, hexanol, etc.; aliphatic esters such as ethyl acetate, n-butyl acetate, ethyl lactate, n-butyl lactate, etc.; and aliphatic hydrocarbons such as n-hexane, 2-methylpentane, 3-methylpentane, 2,2-dimethylbutane, 2,3-dimethylbutane, n-heptane, n-decane, 2,2,4-trimethylpentane, cyclohexane, methylcyclohexane, mineral spirits, etc.
These solvents may be used alone or in combination of two or more.
本発明のインキ組成物は、本発明の効果を損なわない範囲で、後述する他の公知の発光材料や公知の添加剤を添加してもよい。公知の添加剤としては、特に限定されないが、例えば、消泡剤、レベリング剤、及び、増粘剤が挙げられる。 The ink composition of the present invention may contain other known luminescent materials and known additives, as described below, within the scope of not impairing the effects of the present invention. Known additives are not particularly limited, but examples thereof include defoamers, leveling agents, and thickeners.
また本発明のインキ組成物は、インクジェットインクとして特にインクジェット方式に好適に用いることができる。
本発明のインキ組成物がインクジェットインキとして用いられる場合、インクジェットインキの25℃での粘度は、好ましくは2~100mPa・s、より好ましくは2~40mPa・s、さらに好ましくは4~20mPa・sである。この粘度領域であれば、通常の4~10KHzの周波数を有するヘッドから10~50KHzの高周波数のヘッドにおいても安定した吐出特性を示すことができる。粘度が2mPa・s以上であると、高周波数のヘッドにおいて吐出の追随性の低下が認められず好ましい。100mPa・s以下であると、吐出性が良好であり吐出安定性に優れるため好ましい。
Furthermore, the ink composition of the present invention can be suitably used as an inkjet ink, particularly in the inkjet method.
When the ink composition of the present invention is used as an inkjet ink, the viscosity of the inkjet ink at 25°C is preferably 2 to 100 mPa·s, more preferably 2 to 40 mPa·s, and even more preferably 4 to 20 mPa·s. This viscosity range allows stable ejection characteristics to be exhibited from heads having a normal frequency of 4 to 10 KHz to high-frequency heads of 10 to 50 KHz. A viscosity of 2 mPa·s or more is preferred because no decrease in ejection followability is observed in high-frequency heads. A viscosity of 100 mPa·s or less is preferred because the ejection properties are good and the ejection stability is excellent.
インキ組成物がインクジェット方式で用いられる場合、インクジェットインクの表面張力は、好ましくは20~40mN/m、より好ましくは24~35mN/mである。20mN/m以上であるとインクが液滴を形成することができ、40mN/m以下であるとヘッドからインクが安定して吐出することができる。 When the ink composition is used in an inkjet system, the surface tension of the inkjet ink is preferably 20 to 40 mN/m, more preferably 24 to 35 mN/m. If it is 20 mN/m or more, the ink can form droplets, and if it is 40 mN/m or less, the ink can be stably ejected from the head.
またインキ組成物は、ピエゾヘッドにおいては、10μS/cm以下の電気伝導率とし、ヘッド内部での電気的な腐食のないインキとすることが好ましい。またコンティニュアスタイプにおいては、電解質による電気伝導率の調整が必要であり、この場合には0.5mS/cm以上の電気伝導率に調整することが好ましい。 In addition, for piezo heads, the ink composition preferably has an electrical conductivity of 10 μS/cm or less, and is an ink that does not cause electrical corrosion inside the head. In addition, for continuous types, it is necessary to adjust the electrical conductivity using an electrolyte, and in this case it is preferable to adjust the electrical conductivity to 0.5 mS/cm or more.
<発光層>
本発明の発光層は、上述の本発明のインキ組成物を用いて形成することができる。
発光層の形成方法として好ましくは湿式成膜法であり、例えば、塗布法、インクジェット法、ディップコート法、ダイコート法、スプレーコート法、スピンコート法、ロールコーター法、湿漬塗布法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷、スクリーン印刷法、LB法が挙げられる。
<Light-emitting layer>
The light-emitting layer of the present invention can be formed using the above-mentioned ink composition of the present invention.
The method for forming the light-emitting layer is preferably a wet film formation method, such as a coating method, an inkjet method, a dip coating method, a die coating method, a spray coating method, a spin coating method, a roll coater method, a wet coating method, a screen printing method, a flexographic printing method, a screen printing method, or an LB method.
発光層の厚みは、好ましくは1~500nm、より好ましくは5~100nm、さらに好ましくは5~50nmである。500nm以上であると通電が困難となり、1nm以下である場合、量子ドットがほとんど無い疎な状態となり、発光層として機能しない。 The thickness of the light-emitting layer is preferably 1 to 500 nm, more preferably 5 to 100 nm, and even more preferably 5 to 50 nm. If it is more than 500 nm, it becomes difficult to pass electricity through it, and if it is less than 1 nm, the quantum dots become almost sparse and do not function as a light-emitting layer.
発光層は、平滑性が高い方が、発光ムラが無く耐久性に優れた電界発光素子が得られるため好ましく、例えば、量子ドットの凝集物等が膜中に無い方が好ましい。平滑性を示すパラメータとしては、表面粗さの指標でもある算術平均粗さRaが挙げられる。本発明の発光層のRaは、好ましくは50nm以下であり、より好ましくは10nm以下である。Raを計測する装置としては、触針式の表面形状測定装置であるDECTAC6M(Veeco社製)等が挙げられる。
また、発光層を形成する量子ドットの粒子は、自己組織化して配列していてもよく、そのような膜はキャリア輸送に優れるために好ましい。
さらに、発光層のイオン化ポテンシャルは、5.0~6.5eVであることが好ましい。この範囲外であると、発光層内で効率よくキャリアを留めて再結合をさせることが難しくなり、発光効率が低下しやすい。イオン化ポテンシャルは、光電子収量分光法などで測定することが可能であり、例えば、住友重機械メカトロニクス社製のPYS-202で測定することができる。
The light-emitting layer is preferably smooth, since it can provide an electroluminescent device with no uneven light emission and excellent durability. For example, it is preferable that there are no aggregates of quantum dots in the film. The parameter indicating the smoothness is arithmetic mean roughness Ra, which is also an index of surface roughness. The Ra of the light-emitting layer of the present invention is preferably 50 nm or less, more preferably 10 nm or less. The device for measuring Ra is DECTAC6M (manufactured by Veeco), which is a stylus-type surface shape measuring device, and the like.
Furthermore, the quantum dot particles forming the light-emitting layer may be arranged in a self-organized manner, and such a film is preferable because it has excellent carrier transport properties.
Furthermore, the ionization potential of the light-emitting layer is preferably 5.0 to 6.5 eV. Outside this range, it becomes difficult to efficiently retain and recombine carriers in the light-emitting layer, and the light-emitting efficiency is likely to decrease. The ionization potential can be measured by photoelectron yield spectroscopy or the like, for example, using PYS-202 manufactured by Sumitomo Heavy Industries Mechatronics Co., Ltd.
<電界発光素子>
本発明の電界発光素子は、基板上に、陽極、上述の本発明の発光層及び陰極が、この順に積層されている構成を備えるものであるが、
発光層への正孔や電子の注入を容易にしたり、発光層内での正孔と電子との再結合を円滑に行わせたりすることを目的として、正孔注入層、正孔輸送層、正孔阻止層、又は電子注入層等をさらに有していることが好ましい。また、発光層と陽極との間で発光層に隣接して存在し、発光層と陽極、又は発光層と、正孔注入層若しくは正孔輸送層とを隔離する役割をもつ層であるインターレイヤー層を挿入してもよい。
したがって、代表的な好ましい素子構成としては、(1)陽極/正孔注入層/発光層/陰極、(2)陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/陰極、(3)陽極/正孔注入層/発光層/電子注入層/陰極、(4)陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/電子注入層/陰極、(5)陽極/正孔注入層/発光層/正孔阻止層/電子注入層/陰極、(6)陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/正孔阻止層/電子注入層/陰極、(7)陽極/発光層/正孔阻止層/電子注入層/陰極、(8)陽極/発光層/電子注入層/陰極(9)陽極/正孔注入層/正孔輸送層/インターレイヤー層/発光層/陰極、(10)陽極/正孔注入層/インターレイヤー層/発光層/電子注入層/陰極、(11)陽極/正孔注入層/正孔輸送層/インターレイヤー層/発光層/電子注入層/陰極、等が挙げられる。
<Electroluminescent Device>
The electroluminescence device of the present invention has a structure in which an anode, the above-mentioned light-emitting layer of the present invention, and a cathode are laminated in this order on a substrate.
For the purpose of facilitating the injection of holes or electrons into the light-emitting layer or facilitating the recombination of holes and electrons in the light-emitting layer, it is preferable that the light-emitting layer further has a hole injection layer, a hole transport layer, a hole blocking layer, an electron injection layer, etc. In addition, an interlayer layer may be inserted between the light-emitting layer and the anode, adjacent to the light-emitting layer, and serving to isolate the light-emitting layer from the anode, or the light-emitting layer from the hole injection layer or the hole transport layer.
Therefore, representative preferred element configurations are: (1) anode/hole injection layer/light emitting layer/cathode; (2) anode/hole injection layer/hole transport layer/light emitting layer/cathode; (3) anode/hole injection layer/light emitting layer/electron injection layer/cathode; (4) anode/hole injection layer/hole transport layer/light emitting layer/electron injection layer/cathode; (5) anode/hole injection layer/light emitting layer/hole blocking layer/electron injection layer/cathode; (6) anode/hole injection layer/hole transport layer/light emitting layer/cathode (7) anode/light-emitting layer/hole-blocking layer/electron injection layer/cathode, (8) anode/light-emitting layer/electron injection layer/cathode, (9) anode/hole injection layer/hole transport layer/interlayer layer/light-emitting layer/cathode, (10) anode/hole injection layer/interlayer layer/light-emitting layer/electron injection layer/cathode, (11) anode/hole injection layer/hole transport layer/interlayer layer/light-emitting layer/electron injection layer/cathode, and the like.
上述した、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、正孔阻止層、電子注入層、及びインター
レイヤー層等の各層は、それぞれ二層以上の層構成により形成されてもよく、いくつかの層が繰り返し積層されていてもよい。そのような例として、近年、光取り出し効率の向上を目的に、上述の多層型電界発光の一部の層を多層化した「マルチ・フォトン・エミッション」と呼ばれる素子構成が挙げられ、例えば、電荷発生層用いて複数の電界発光素子を直列に積層して形成する方法が含まれる。
Each of the above-mentioned layers such as the hole injection layer, the hole transport layer, the light emitting layer, the hole blocking layer, the electron injection layer, and the interlayer layer may be formed by a layer structure of two or more layers, or several layers may be repeatedly laminated.As an example of such a structure, in recent years, there is an element structure called "multi-photon emission" in which some layers of the above-mentioned multi-layered electroluminescence are multi-layered in order to improve the light extraction efficiency, and for example, a method of forming a plurality of electroluminescence elements by stacking them in series using a charge generation layer is included.
本発明の電界発光素子として好ましくは、陽極、正孔輸送層、上述の本発明の発光層及び陰極が、この順に積層されている構成を備え、前記正孔輸送層に接して前記発光層が設けられているものである。 The electroluminescent device of the present invention preferably has a configuration in which an anode, a hole transport layer, the above-mentioned light-emitting layer of the present invention, and a cathode are laminated in this order, and the light-emitting layer is provided in contact with the hole transport layer.
[正孔輸送層、及び正孔注入層]
正孔輸送層には、発光層に対する優れた正孔注入効果と正孔輸送効果とを示し、かつ薄膜形成性に優れた材料が用いられ、該材料として、正孔移動度が大きくイオン化エネルギーが通常5.5eV以下と小さいものが好適に用いられる。
正孔輸送層は、陽極と発光層との間に設けられ、複数の正孔輸送材料が積層された多層構造であってもよい。多層構造である場合、陽極に接している正孔輸送層を、特に正孔注入層と呼ぶことがあり、各々の材料を、正孔注入材料や正孔輸送材料と呼ぶことがある。正孔注入層には、特に陽極界面との密着性とに優れた材料が用いられる。
正孔輸送層としては、より低い電界強度で正孔を発光層に輸送する材料が好ましく、更に正孔の移動度が、例えば104~106V/cmの電界印加時に、少なくとも10-6cm2/V・秒であるものが好ましい。正孔注入材料及び正孔輸送材料としては、上記の好ましい性質を有するものであれば特に制限はなく、従来、光導伝材料において正孔の電荷輸送材料として慣用されているものや、有機EL素子の正孔輸送層又は正孔注入層に使用されている公知のものの中から任意のものを選択して用いることができる。
[Hole transport layer and hole injection layer]
The hole transport layer is made of a material that exhibits excellent hole injection and hole transport effects for the light emitting layer and has excellent thin film formability. As such a material, a material having high hole mobility and small ionization energy, typically 5.5 eV or less, is preferably used.
The hole transport layer is provided between the anode and the light emitting layer, and may have a multi-layer structure in which a plurality of hole transport materials are laminated. In the case of a multi-layer structure, the hole transport layer in contact with the anode may be particularly called the hole injection layer, and each material may be particularly called the hole injection material or the hole transport material. For the hole injection layer, a material having excellent adhesion to the anode interface is used.
The hole transport layer is preferably a material that transports holes to the light emitting layer at a lower electric field strength, and more preferably has a hole mobility of at least 10 -6 cm 2 /V·sec when an electric field of, for example, 10 4 to 10 6 V/cm is applied. The hole injection material and hole transport material are not particularly limited as long as they have the above-mentioned preferable properties, and any material may be selected from those conventionally used as charge transport materials for holes in photoconductive materials and known materials used in hole transport layers or hole injection layers of organic EL devices.
このような正孔注入材料や正孔輸送材料としては、例えば、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、ポリシラン系、アニリン系共重合体、芳香族ジメチリデン系化合物、導電性高分子オリゴマー、特にチオフェンオリゴマーが挙げられる。 Examples of such hole injection materials and hole transport materials include triazole derivatives, oxadiazole derivatives, imidazole derivatives, polyarylalkane derivatives, pyrazoline derivatives and pyrazolone derivatives, phenylenediamine derivatives, arylamine derivatives, amino-substituted chalcone derivatives, oxazole derivatives, styrylanthracene derivatives, fluorenone derivatives, hydrazone derivatives, stilbene derivatives, silazane derivatives, polysilane-based and aniline-based copolymers, aromatic dimethylidene-based compounds, conductive polymer oligomers, and in particular thiophene oligomers.
正孔注入材料や正孔輸送材料として好ましくは、ポルフィリン化合物、芳香族第三級アミン化合物及びスチリルアミン化合物等であり、例えば、2個の縮合芳香族環を分子内に有する4,4’-ビス(N-(1-ナフチル)-N-フェニルアミノ)ビフェニルや、トリフェニルアミンユニットが3つスターバースト型に連結された4,4’,4”-トリス(N-(3-メチルフェニル)-N-フェニルアミノ)トリフェニルアミンをあげることができる。また、好ましい正孔注入材料として、銅フタロシアニンや水素フタロシアニン等のフタロシアニン誘導体が挙げられる。 Preferred examples of hole injection materials and hole transport materials include porphyrin compounds, aromatic tertiary amine compounds, and styrylamine compounds, such as 4,4'-bis(N-(1-naphthyl)-N-phenylamino)biphenyl, which has two condensed aromatic rings in the molecule, and 4,4',4"-tris(N-(3-methylphenyl)-N-phenylamino)triphenylamine, which has three triphenylamine units linked in a starburst configuration. Preferred hole injection materials include phthalocyanine derivatives such as copper phthalocyanine and hydrogen phthalocyanine.
正孔輸送層又は正孔注入層に使用できる材料としては、p型Si、p型SiC等の無機半導体化合物や、酸化モリブデン(MnOx)、酸化バナジウム(VOx)、酸化ルテニウム(RuOx)、酸化銅(CuOx)、酸化タングステン(WOx)、酸化イリジウム(IrOx)等の無機酸化物及びそれらのドープ体が挙げられる。 Materials that can be used for the hole transport layer or hole injection layer include inorganic semiconductor compounds such as p-type Si and p-type SiC, and inorganic oxides such as molybdenum oxide (MnO x ), vanadium oxide (VO x ), ruthenium oxide (RuO x ), copper oxide (CuO x ), tungsten oxide (WO x ), iridium oxide (IrO x ), and doped versions thereof.
芳香族三級アミン誘導体の具体例としては、例えば、N,N’-ジフェニル-N,N’-(3-メチルフェニル)-1,1’-ビフェニル-4,4’-ジアミン、N,N,N’,N’-(4-メチルフェニル)-1,1’-フェニル-4,4’-ジアミン、N,N,N’,N’-(4-メチルフェニル)-1,1’-ビフェニル-4,4’-ジアミン、N
,N’-ジフェニル-N,N’-ジナフチル-1,1’-ビフェニル-4,4’-ジアミン、N,N’-(メチルフェニル)-N,N’-(4-n-ブチルフェニル)-フェナントレン-9,10-ジアミン、N,N-ビス(4-ジ-4-トリルアミノフェニル)-4-フェニル-シクロヘキサン、N,N’-ビス(4’-ジフェニルアミノ-4-ビフェニリル)-N,N’-ジフェニルベンジジン、N,N’-ビス(4’-ジフェニルアミノ-4-フェニル)-N,N’-ジフェニルベンジジン、N,N’-ビス(4’-ジフェニルアミノ-4-フェニル)-N,N’-ジ(1-ナフチル)ベンジジン、N,N’-ビス(4’-フェニル(1-ナフチル)アミノ-4-フェニル)-N,N’-ジフェニルベンジジン、N,N’-ビス(4’-フェニル(1-ナフチル)アミノ-4-フェニル)-N,N’-ジ(1-ナフチル)ベンジジン等が挙げられ、これらは正孔注入材料、正孔輸送材料いずれにも使用することができる。
Specific examples of aromatic tertiary amine derivatives include N,N'-diphenyl-N,N'-(3-methylphenyl)-1,1'-biphenyl-4,4'-diamine, N,N,N',N'-(4-methylphenyl)-1,1'-phenyl-4,4'-diamine, N,N,N',N'-(4-methylphenyl)-1,1'-biphenyl-4,4'-diamine, N
,N'-diphenyl-N,N'-dinaphthyl-1,1'-biphenyl-4,4'-diamine, N,N'-(methylphenyl)-N,N'-(4-n-butylphenyl)-phenanthrene-9,10-diamine, N,N-bis(4-di-4-tolylaminophenyl)-4-phenyl-cyclohexane, N,N'-bis(4'-diphenylamino-4-biphenylyl)-N,N'-diphenylbenzidine, N,N'-bis(4'-diphenylamino-4-phenyl)- Examples thereof include N,N'-diphenylbenzidine, N,N'-bis(4'-diphenylamino-4-phenyl)-N,N'-di(1-naphthyl)benzidine, N,N'-bis(4'-phenyl(1-naphthyl)amino-4-phenyl)-N,N'-diphenylbenzidine, and N,N'-bis(4'-phenyl(1-naphthyl)amino-4-phenyl)-N,N'-di(1-naphthyl)benzidine, and these can be used as either a hole injection material or a hole transport material.
正孔注入材料や正孔輸送材料として、特に好ましい例を表1~2に示す。 Particularly preferred examples of hole injection materials and hole transport materials are shown in Tables 1 and 2.
正孔輸送層又は正孔注入層を形成するには、上述の化合物を、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、ラングミュア-ブロジェット法(LB法)等の公知の方法により薄膜化することで形成することができる。正孔輸送層及び正孔注入層の合計の厚みは、特に制限はないが、通常は5nm~5μmである。 The hole transport layer or hole injection layer can be formed by forming a thin film of the above-mentioned compound using a known method such as vacuum deposition, spin coating, casting, or the Langmuir-Blodgett method (LB method). There is no particular limit to the total thickness of the hole transport layer and hole injection layer, but it is usually 5 nm to 5 μm.
インターレイヤー層に用いる材料として、ポリビニルカルバゾール及びその誘導体、側鎖又は主鎖に芳香族アミンを有するポリアリーレン誘導体、アリールアミン誘導体、トリフェニルジアミン誘導体等の芳香族アミンを含むポリマーが例示される。また、インターレイヤー層の成膜方法は、高分子量の材料を用いる場合には、溶液からの成膜による方法が例示される。 Examples of materials used for the interlayer layer include polyvinylcarbazole and its derivatives, polyarylene derivatives having aromatic amines in the side chain or main chain, arylamine derivatives, triphenyldiamine derivatives, and other polymers containing aromatic amines. In addition, examples of the method for forming the interlayer layer include a method of forming a film from a solution when a high molecular weight material is used.
溶液からのインターレイヤー層の成膜には、公知の湿式成膜法、例えば、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイアーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリ
ーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、インクジェットプリント法、キャピラリ-コート法、ノズルコート法等の塗布法を用いることができる。
The interlayer layer can be formed from a solution by a known wet film formation method, such as a coating method such as spin coating, casting, microgravure coating, gravure coating, bar coating, roll coating, wire bar coating, dip coating, spray coating, screen printing, flexographic printing, offset printing, inkjet printing, capillary coating, or nozzle coating.
インターレイヤー層の厚みは、用いる材料によって最適値が異なり、駆動電圧と発光効率が適度な値となるように選択すればよく、通常1nm~1μmであり、好ましくは2~500nmであり、より好ましくは5~200nmである。 The optimum thickness of the interlayer layer varies depending on the material used, and can be selected so that the driving voltage and luminous efficiency are adequate. It is usually 1 nm to 1 μm, preferably 2 to 500 nm, and more preferably 5 to 200 nm.
[電子注入層]
電子注入層には、発光層に対して優れた電子注入効果を示し、かつ陰極界面との密着性と薄膜形成性に優れた電子注入層を形成できる電子注入材料が用いられる。そのような電子注入材料の例としては、金属錯体化合物、含窒素五員環誘導体、フルオレノン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、ジフェノキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、ペリレンテトラカルボン酸誘導体、フレオレニリデンメタン誘導体、アントロン誘導体、シロール誘導体、トリアリールホスフィンオキシド誘導体、ポリキノリン及びその誘導体、ポリキノキサリン及びその誘導体、ポリフルオレン及びその誘導体、カルシウムアセチルアセトナート、酢酸ナトリウム等が挙げられる。また、セシウム等の金属をバソフェナントロリンにドープした無機/有機複合材料(高分子学会予稿集,第50巻,4号,660頁,2001年発行)や、第50回応用物理学関連連合講演会講演予稿集、No.3、1402頁、2003年発行記載のBCP、TPP、T5MPyTZ等も電子注入材料の例として挙げられるが、素子作成に必要な薄膜を形成し、陰極からの電子を注入できて、電子を輸送できる材料であれば、特にこれらに限定されるものではない。
[Electron injection layer]
For the electron injection layer, an electron injection material is used that can form an electron injection layer that exhibits excellent electron injection effect for the light emitting layer and has excellent adhesion to the cathode interface and excellent thin film formability. Examples of such electron injection materials include metal complex compounds, nitrogen-containing five-membered ring derivatives, fluorenone derivatives, anthraquinodimethane derivatives, diphenoquinone derivatives, thiopyran dioxide derivatives, perylene tetracarboxylic acid derivatives, fluorenylidenemethane derivatives, anthrone derivatives, silole derivatives, triarylphosphine oxide derivatives, polyquinoline and its derivatives, polyquinoxaline and its derivatives, polyfluorene and its derivatives, calcium acetylacetonate, sodium acetate, etc. In addition, inorganic/organic composite materials in which a metal such as cesium is doped into bathophenanthroline (Proceedings of the Society of Polymer Science, Vol. 50, No. 4, p. 660, published in 2001) and Proceedings of the 50th Joint Conference of Applied Physics, No. No. 3, p. 1402, published in 2003, BCP, TPP, T5MPyTZ, and the like are given as examples of the electron injection material, but the material is not particularly limited to these, so long as it can form a thin film necessary for element production, can inject electrons from the cathode, and can transport electrons.
上記電子注入材料の中で好ましいものとしては、金属錯体化合物、含窒素五員環誘導体、シロール誘導体、トリアリールホスフィンオキシド誘導体が挙げられる。好ましい金属錯体化合物としては、8-ヒドロキシキノリン又はその誘導体の金属錯体が好適である。8-ヒドロキシキノリン又はその誘導体の金属錯体の具体例としては、トリス(8-ヒドロキシキノリナート)アルミニウム、トリス(2-メチル-8-ヒドロキシキノリナート)アルミニウム、トリス(4-メチル-8-ヒドロキシキノリナート)アルミニウム、トリス(5-メチル-8-ヒドロキシキノリナート)アルミニウム、トリス(5-フェニル-8-ヒドロキシキノリナート)アルミニウム、ビス(8-ヒドロキシキノリナート)(1-ナフトラート)アルミニウム、ビス(8-ヒドロキシキノリナート)(2-ナフトラート)アルミニウム、ビス(8-ヒドロキシキノリナート)(フェノラート)アルミニウム、ビス(8-ヒドロキシキノリナート)(4-シアノ-1-ナフトラート)アルミニウム、ビス(4-メチル-8-ヒドロキシキノリナート)(1-ナフトラート)アルミニウム、ビス(5-メチル-8-ヒドロキシキノリナート)(2-ナフトラート)アルミニウム、ビス(5-フェニル-8-ヒドロキシキノリナート)(フェノラート)アルミニウム、ビス(5-シアノ-8-ヒドロキシキノリナート)(4-シアノ-1-ナフトラート)アルミニウム、ビス(8-ヒドロキシキノリナート)クロロアルミニウム、ビス(8-ヒドロキシキノリナート)(o-クレゾラート)アルミニウム等のアルミニウム錯体化合物、トリス(8-ヒドロキシキノリナート)ガリウム、トリス(2-メチル-8-ヒドロキシキノリナート)ガリウム、トリス(4-メチル-8-ヒドロキシキノリナート)ガリウム、トリス(5-メチル-8-ヒドロキシキノリナート)ガリウム、トリス(2-メチル-5-フェニル-8-ヒドロキシキノリナート)ガリウム、ビス(2-メチル-8-ヒドロキシキノリナート)(1-ナフトラート)ガリウム、ビス(2-メチル-8-ヒドロキシキノリナート)(2-ナフトラート)ガリウム、ビス(2-メチル-8-ヒドロキシキノリナート)(フェノラート)ガリウム、ビス(2-メチル-8-ヒドロキシキノリナート)(4-シアノ-1-ナフトラート)ガリウム、ビス(2、4-ジメチル-8-ヒドロキシキノリナート)(1-ナフトラート)ガリウム、ビス(2、5-ジメチル-8-ヒドロキシキノリナート)(2-ナフトラート)ガリウム、ビス(2-メチル-5-フェニル-8-ヒドロキシキノリナート)(フェノラート)ガリウム、ビス(2-メチル-5-シ
アノ-8-ヒドロキシキノリナート)(4-シアノ-1-ナフトラート)ガリウム、ビス(2-メチル-8-ヒドロキシキノリナート)クロロガリウム、ビス(2-メチル-8-ヒドロキシキノリナート)(o-クレゾラート)ガリウム等のガリウム錯体化合物の他、8-ヒドロキシキノリナートリチウム、ビス(8-ヒドロキシキノリナート)銅、ビス(8-ヒドロキシキノリナート)マンガン、ビス(10-ヒドロキシベンゾ[h]キノリナート)ベリリウム、ビス(8-ヒドロキシキノリナート)亜鉛、ビス(10-ヒドロキシベンゾ[h]キノリナート)亜鉛等の金属錯体化合物が挙げられる。
Among the above electron injection materials, preferred are metal complex compounds, nitrogen-containing five-membered ring derivatives, silole derivatives, and triarylphosphine oxide derivatives. Preferred metal complex compounds are metal complexes of 8-hydroxyquinoline or its derivatives. Specific examples of metal complexes of 8-hydroxyquinoline or its derivatives include tris(8-hydroxyquinolinato)aluminum, tris(2-methyl-8-hydroxyquinolinato)aluminum, tris(4-methyl-8-hydroxyquinolinato)aluminum, tris(5-methyl-8-hydroxyquinolinato)aluminum, tris(5-phenyl-8-hydroxyquinolinato)aluminum, bis(8-hydroxyquinolinato)(1-naphtholate)aluminum, bis(8-hydroxyquinolinato)(2-naphtholate)aluminum, bis(8-hydroxyquinolinato)(phenolate)aluminum, and bis(8-hydroxyquinolinato)(4-cyano-1-naphtholate)aluminum. aluminum complex compounds such as bis(4-methyl-8-hydroxyquinolinato)(1-naphtholate)aluminum, bis(5-methyl-8-hydroxyquinolinato)(2-naphtholate)aluminum, bis(5-phenyl-8-hydroxyquinolinato)(phenolate)aluminum, bis(5-cyano-8-hydroxyquinolinato)(4-cyano-1-naphtholate)aluminum, bis(8-hydroxyquinolinato)chloroaluminum, and bis(8-hydroxyquinolinato)(o-cresolate)aluminum; tris(8-hydroxyquinolinato)gallium, tris(2-methyl-8-hydroxyquinolinato)gallium, tris(4-methyl-8-hydroxyquinolinato) gallium, tris(5-methyl-8-hydroxyquinolinato)gallium, tris(2-methyl-5-phenyl-8-hydroxyquinolinato)gallium, bis(2-methyl-8-hydroxyquinolinato)(1-naphtholate)gallium, bis(2-methyl-8-hydroxyquinolinato)(2-naphtholate)gallium, bis(2-methyl-8-hydroxyquinolinato)(phenolate)gallium, bis(2-methyl-8-hydroxyquinolinato)(4-cyano-1-naphtholate)gallium, bis(2,4-dimethyl-8-hydroxyquinolinato)(1-naphtholate)gallium, bis(2,5-dimethyl-8-hydroxyquinolinato)(2-naphtholate)gallium, bis(2-methyl gallium complex compounds such as bis(2-methyl-8-hydroxyquinolinato)(o-cresolate)gallium, bis(2-methyl-8-hydroxyquinolinato)(5-phenyl-8-hydroxyquinolinato)(phenolate), bis(2-methyl-5-cyano-8-hydroxyquinolinato)(4-cyano-1-naphtholate)gallium, bis(2-methyl-8-hydroxyquinolinato)chlorogallium, and bis(2-methyl-8-hydroxyquinolinato)(o-cresolate)gallium; and other metal complex compounds such as 8-hydroxyquinolinato lithium, bis(8-hydroxyquinolinato)copper, bis(8-hydroxyquinolinato)manganese, bis(10-hydroxybenzo[h]quinolinato)beryllium, bis(8-hydroxyquinolinato)zinc, and bis(10-hydroxybenzo[h]quinolinato)zinc.
また、好ましい含窒素五員環誘導体としては、オキサゾール誘導体、チアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、チアジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体が挙げられ、具体的には、2,5-ビス(1-フェニル)-1,3,4-オキサゾール、2,5-ビス(1-フェニル)-1,3,4-チアゾール、2,5-ビス(1-フェニル)-1,3,4-オキサジアゾール、2-(4’-tert-ブチルフェニル)-5-(4”-ビフェニ
ル)1,3,4-オキサジアゾール、2,5-ビス(1-ナフチル)-1,3,4-オキ
サジアゾール、1,4-ビス[2-(5 -フェニルオキサジアゾリル)]ベンゼン、1,
4-ビス[2-(5-フェニルオキサジアゾリル)-4-tert-ブチルベンゼン]、2-(4’-tert- ブチルフェニル)-5-(4”-ビフェニル)-1,3,4-チア
ジアゾーvル、2,5-ビス(1-ナフチル)-1,3,4-チアジアゾール、1,4-ビス[2-(5-フェニルチアジアゾリル)]ベンゼン、2-(4’-tert-ブチルフェニル)-5-(4”-ビフェニル)-1,3,4-トリアゾール、2,5-ビス(1-ナフチル)-1,3,4-トリアゾール、1,4-ビス[2-(5-フェニルトリアゾリル)]ベンゼン等が挙げられる。
Preferable nitrogen-containing five-membered ring derivatives include oxazole derivatives, thiazole derivatives, oxadiazole derivatives, thiadiazole derivatives, and triazole derivatives. Specific examples thereof include 2,5-bis(1-phenyl)-1,3,4-oxazole, 2,5-bis(1-phenyl)-1,3,4-thiazole, 2,5-bis(1-phenyl)-1,3,4-oxadiazole, 2-(4'-tert-butylphenyl)-5-(4"-biphenyl)1,3,4-oxadiazole, 2,5-bis(1-naphthyl)-1,3,4-oxadiazole, 1,4-bis[2-(5-phenyloxadiazolyl)]benzene, 1,
Examples of such bis[2-(5-phenyloxadiazolyl)-4-tert-butylbenzene] include 4-bis[2-(5-phenyloxadiazolyl)-4-tert-butylbenzene], 2-(4'-tert-butylphenyl)-5-(4"-biphenyl)-1,3,4-thiadiazole, 2,5-bis(1-naphthyl)-1,3,4-thiadiazole, 1,4-bis[2-(5-phenylthiadiazolyl)]benzene, 2-(4'-tert-butylphenyl)-5-(4"-biphenyl)-1,3,4-triazole, 2,5-bis(1-naphthyl)-1,3,4-triazole, and 1,4-bis[2-(5-phenyltriazolyl)]benzene.
更に、電子注入層に使用できる材料としては、酸化亜鉛(ZnOx)、酸化チタン(TiOx)、等の無機酸化物及びそれらのドープ体も挙げられる。 Additionally, materials that can be used for the electron injection layer include inorganic oxides such as zinc oxide (ZnO x ), titanium oxide (TiO x ), and doped versions thereof.
特に好ましいオキサジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体及びシロール誘導体の具体例を表3~5に示す。尚、表中のPhはフェニル基を表わす。 Specific examples of particularly preferred oxadiazole derivatives, triazole derivatives, and silole derivatives are shown in Tables 3 to 5. In the tables, Ph represents a phenyl group.
(オキサジアゾール誘導体)
(トリアゾール誘導体)
(シロール誘導体)
更に、電子注入層の1種として、発光層を経由した正孔が電子注入層に達するのを防ぎ、薄膜形成性に優れた正孔阻止層がある。これには、電子輸送性に比べて正孔輸送性が著しく劣る正孔阻止材料が用いられる。そのような正孔阻止材料の例としては、ビス(8-ヒドロキシキノリナート)(4-フェニルフェノラート)アルミニウム等のアルミニウム錯体化合物や、ビス(2-メチル-8-ヒドロキシキノリナート)(4-フェニルフェノラート)ガリウム等のガリウム錯体化合物、2,9-ジメチル-4,7-ジフェニル-1,10-フェナントロリン(BCP)等の含窒素縮合芳香族化合物が挙げられる。 Furthermore, as a type of electron injection layer, there is a hole blocking layer that prevents holes that have passed through the light emitting layer from reaching the electron injection layer and has excellent thin film forming properties. For this, a hole blocking material is used that has significantly inferior hole transport properties compared to electron transport properties. Examples of such hole blocking materials include aluminum complex compounds such as bis(8-hydroxyquinolinato)(4-phenylphenolato)aluminum, gallium complex compounds such as bis(2-methyl-8-hydroxyquinolinato)(4-phenylphenolato)gallium, and nitrogen-containing condensed aromatic compounds such as 2,9-dimethyl-4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline (BCP).
電界発光素子の発光層としては、以下の機能を併せ持つものが好適である。
注入機能;電界印加時に陽極又は正孔注入層より正孔を注入することができ、陰極又は電子注入層より電子を注入することができる機能
輸送機能;注入した電荷(電子と正孔)を電界の力で移動させる機能
発光機能;電子と正孔の再結合の場を提供し、これを発光につなげる機能
ただし、正孔の注入されやすさと電子の注入されやすさには、違いがあってもよく、また
正孔と電子の移動度で表される輸送能に大小があってもよい。
The light-emitting layer of the electroluminescent device preferably has the following functions:
Injection function: the ability to inject holes from the anode or hole injection layer and to inject electrons from the cathode or electron injection layer when an electric field is applied. Transport function: the ability to move injected charges (electrons and holes) by the force of an electric field. Light-emitting function: the ability to provide a site for the recombination of electrons and holes, leading to light emission. However, there may be differences in the ease with which holes and electrons are injected, and there may be differences in the transport ability, which is represented by the mobility of holes and electrons.
本発明の電界発光素子を構成する発光層は、発光材料として量子ドットを含む本発明のインキ組成物から形成されるものであるが、さらに、公知の発光材料を含有してもよい。公知の発光材料として、ベンゾチアゾール系、ベンゾイミダゾール系、ベンゾオキサゾール系等の蛍光増白剤、金属キレート化オキシノイド化合物、スチリルベンゼン系化合物を用いることができる。
前記金属キレート化オキシノイド化合物としては、例えば、トリス(8-キノリノール)アルミニウム等の8-ヒドロキシキノリン系金属錯体や、ジリチウムエピントリジオン等が挙げられる。
The light-emitting layer constituting the electroluminescent device of the present invention is formed from the ink composition of the present invention containing quantum dots as a light-emitting material, and may further contain a known light-emitting material, such as a benzothiazole-based, benzimidazole-based, or benzoxazole-based fluorescent brightener, a metal chelated oxinoid compound, or a styrylbenzene-based compound.
Examples of the metal chelated oxinoid compounds include 8-hydroxyquinoline-based metal complexes such as tris(8-quinolinol)aluminum, and dilithium epinetridione.
本発明の発光層に公知の発光材料を更に加える、あるいは、本発明の発光層に加えて、さらに公知の発光材料を用いた発光層を追加することで、白色の発光が可能な電界発光素子を得る場合の素子の構成としては特に制限はないが、下記のものを用いることができる。電界発光素子の積層構造体の各層のエネルギー準位を規定し、トンネル注入を利用して発光させるもの(欧州特許第0390551号公報)。同じくトンネル注入を利用する素子で実施例として白色発光素子が記載されているもの(特開平3-230584号公報)。二層構造の発光層が記載されているもの(特開平2-220390号公報及び特開平2-216790号公報)。発光層を複数に分割してそれぞれ発光波長の異なる材料で構成されたもの(特開平4-51491号公報)。青色発光体(蛍光ピーク380~480nm)と緑色発光体(480~580nm)とを積層させ、更に赤色蛍光体を含有させた構成のもの(特開平6-207170号公報)。青色発光層が青色蛍光色素を含有し、緑色発光層が赤色蛍光色素を含有した領域を有し、更に緑色蛍光体を含有する構成のもの(特開平7-142169号公報)。 When a known light-emitting material is further added to the light-emitting layer of the present invention, or a light-emitting layer using a known light-emitting material is further added to the light-emitting layer of the present invention, the structure of the element is not particularly limited, but the following can be used. An element in which the energy level of each layer of the laminated structure of the electroluminescent element is specified and light is emitted using tunnel injection (European Patent No. 0390551). An element that also uses tunnel injection and describes a white light-emitting element as an example (Japanese Patent Laid-Open No. 3-230584). An element in which a two-layer light-emitting layer is described (Japanese Patent Laid-Open Nos. 2-220390 and 2-216790). An element in which the light-emitting layer is divided into multiple parts and each part is composed of a material with a different emission wavelength (Japanese Patent Laid-Open No. 4-51491). A configuration in which a blue light-emitting body (fluorescence peak 380-480 nm) and a green light-emitting body (480-580 nm) are laminated together, and further containing a red phosphor (JP Patent Publication No. 6-207170). A configuration in which the blue light-emitting layer contains a blue fluorescent dye, and the green light-emitting layer has a region containing a red fluorescent dye, and further contains a green phosphor (JP Patent Publication No. 7-142169).
[陽極]
陽極に使用される材料は、仕事関数の大きい(4eV以上)金属、合金、電気伝導性化合物又はこれらの混合物を電極物質とするものが好ましく用いられる。このような電極物質の具体例としては、Au等の金属、CuI、ITO、SnO2、ZnO等の導電性材料が挙げられる。この陽極を形成するには、これらの電極物質を、蒸着法やスパッタリング法等の方法で薄膜を形成させることができる。この陽極は、上記発光層からの発光を陽極から取り出す場合、陽極の発光に対する透過率が10%より大きくなるような特性を有していることが望ましい。また、陽極のシート抵抗は、数百Ω/□以下としてあるものが好ましい。陽極の厚みは、材料にもよるが通常10nm~1μm、好ましくは10~200nmの範囲で選択される。
[anode]
The material used for the anode is preferably a metal, alloy, electrically conductive compound, or a mixture thereof having a large work function (4 eV or more). Specific examples of such electrode materials include metals such as Au, and conductive materials such as CuI, ITO, SnO 2 , and ZnO. To form the anode, these electrode materials can be formed into a thin film by a method such as deposition or sputtering. When light emitted from the light-emitting layer is extracted from the anode, it is desirable for the anode to have a characteristic such that the transmittance of the anode for light emission is greater than 10%. In addition, the sheet resistance of the anode is preferably several hundred Ω/□ or less. The thickness of the anode is usually selected within a range of 10 nm to 1 μm, preferably 10 to 200 nm, depending on the material.
[陰極]
陰極に使用される材料は、仕事関数の小さい(4eV以下)金属、合金、電気伝導性化合物及びこれらの混合物を電極物質とするものが用いられる。このような電極物質の具体例としては、ナトリウム、ナトリウム-カリウム合金、マグネシウム、リチウム、マグネシウム・銀合金、アルミニウム/酸化アルミニウム、アルミニウム・リチウム合金、インジウム、希土類金属等が挙げられる。この陰極はこれらの電極物質を蒸着やスパッタリング等の方法により薄膜を形成させることにより、作製することができる。ここで、発光層からの発光を陰極から取り出す場合、陰極の発光に対する透過率は10%より大きくすることが好ましい。また、陰極としてのシート抵抗は数百Ω/□以下が好ましく、陰極の厚みは通常10nm~1μm、好ましくは50~200nmである。
[cathode]
The material used for the cathode is a metal, alloy, electrically conductive compound, or a mixture thereof having a small work function (4 eV or less). Specific examples of such electrode materials include sodium, sodium-potassium alloy, magnesium, lithium, magnesium-silver alloy, aluminum/aluminum oxide, aluminum-lithium alloy, indium, and rare earth metal. The cathode can be produced by forming a thin film of these electrode materials by a method such as vapor deposition or sputtering. Here, when light emitted from the light-emitting layer is taken out from the cathode, the transmittance of the cathode for light emission is preferably greater than 10%. In addition, the sheet resistance of the cathode is preferably several hundred Ω/□ or less, and the thickness of the cathode is usually 10 nm to 1 μm, preferably 50 to 200 nm.
電界発光素子を作製する方法については、上記の材料及び方法により陽極、発光層、必要に応じて正孔注入層、及び必要に応じて電子注入層を形成し、最後に陰極を形成すればよい。また、陰極から陽極へ、前記と逆の順序で電界発光素子を作製することもできる。 The method for producing an electroluminescent device is to form an anode, a light-emitting layer, a hole injection layer if necessary, and an electron injection layer if necessary, using the above-mentioned materials and methods, and finally to form a cathode. It is also possible to produce an electroluminescent device in the reverse order from the cathode to the anode.
電界発光素子は、透光性の基板上に作製する。透光性基板は電界発光素子を支持する基板であり、その透光性については、400~700nmの可視領域の光の透過率が50%以上、好ましくは90%以上であるものが望ましく、更に平滑な基板を用いるのが好ましい。 The electroluminescent element is fabricated on a light-transmitting substrate. The light-transmitting substrate is a substrate that supports the electroluminescent element, and its light transmittance in the visible region of 400 to 700 nm is desirably 50% or more, preferably 90% or more, and it is further preferable to use a smooth substrate.
これら基材は、機械的・熱的強度を有し、透明であれば特に限定されるものではなく、屈曲性を有するフィルム又はシート状の基材であってもよい。基材としては、例えば、ガラス板、合成樹脂板が好適に用いられる。ガラス板としては、特にソーダ石灰ガラス、バリウム・ストロンチウム含有ガラス、鉛ガラス、アルミノケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、バリウムホウケイ酸ガラス、石英等で成形された板が挙げられる。また、合成樹脂板としては、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエーテルサルファイド樹脂、ポリサルフォン樹脂等の板が挙げられる。 These substrates are not particularly limited as long as they have mechanical and thermal strength and are transparent, and may be flexible film or sheet-like substrates. For example, glass plates and synthetic resin plates are preferably used as substrates. Examples of glass plates include plates made of soda-lime glass, barium-strontium-containing glass, lead glass, aluminosilicate glass, borosilicate glass, barium borosilicate glass, quartz, etc. Examples of synthetic resin plates include plates made of polycarbonate resin, acrylic resin, polyethylene terephthalate resin, polyether sulfide resin, polysulfone resin, etc.
電界発光素子の各層の形成方法としては、真空蒸着、電子線ビーム照射、スパッタリング、プラズマ、イオンプレーティング等の乾式成膜法、若しくはスピンコーティング、ディッピング、フローコーティング等の湿式成膜法のいずれかの方法を適用することができる。また、LITI(Laser Induced Thermal Imaging、レーザー熱転写)法や、印刷(オフセット印刷、フレキソ印刷、グラビア印刷、スクリーン印刷)、インクジェット等の方法を適用することもできる。ただし、発光層は湿式成膜法での成膜が好ましい。 The layers of the electroluminescent device can be formed by dry deposition methods such as vacuum deposition, electron beam irradiation, sputtering, plasma, and ion plating, or wet deposition methods such as spin coating, dipping, and flow coating. Laser Induced Thermal Imaging (LITI), printing (offset printing, flexographic printing, gravure printing, and screen printing), inkjet printing, and other methods can also be used. However, the light-emitting layer is preferably formed by a wet deposition method.
また、正孔注入層、正孔輸送層又は電子注入層といった、陽極、陰極及び発光層以外の有機化合物により形成される有機層は、分子堆積法で形成された膜であることが好ましい。ここで分子堆積法で形成された膜とは、気相状態の材料化合物から沈着され形成された薄膜や、溶液状態又は液相状態の材料化合物から固体化され形成された膜のことであり、通常この分子堆積膜は、LB法により形成された薄膜(分子累積膜)とは凝集構造、高次構造の相違や、それに起因する機能的な相違により区分することができる。また、樹脂等の結着剤と材料化合物とを溶剤に溶かして溶液とした後、これをスピンコート法等により薄膜化することによっても、有機層を形成することができる。各層の膜厚は特に限定されるものではないが、膜厚が厚すぎると一定の光出力を得るために大きな印加電圧が必要となり効率が悪くなり、逆に膜厚が薄すぎるとピンホール等が発生し、電界を印加しても充分な発光輝度が得にくくなる。したがって、各層の膜厚は、1nmから1μmの範囲が適しているが、10nmから0.2μmの範囲がより好ましい。 In addition, organic layers formed of organic compounds other than the anode, cathode and light-emitting layer, such as the hole injection layer, hole transport layer or electron injection layer, are preferably films formed by molecular deposition. Here, the film formed by molecular deposition refers to a thin film formed by deposition from a material compound in a gas phase state or a film formed by solidifying a material compound in a solution or liquid phase state. Usually, this molecular deposition film can be distinguished from a thin film (molecularly accumulated film) formed by the LB method by differences in aggregation structure, higher-order structure and functional differences resulting therefrom. In addition, an organic layer can also be formed by dissolving a binder such as a resin and a material compound in a solvent to form a solution, and then thinning the solution by a spin coating method or the like. The thickness of each layer is not particularly limited, but if the thickness is too thick, a large applied voltage is required to obtain a certain light output, resulting in poor efficiency, and conversely, if the thickness is too thin, pinholes and the like are generated, making it difficult to obtain sufficient light emission brightness even when an electric field is applied. Therefore, the thickness of each layer is suitable to be in the range of 1 nm to 1 μm, but more preferably in the range of 10 nm to 0.2 μm.
また、電界発光素子の温度、湿度、雰囲気等に対する安定性向上のために、素子の表面に保護層を設けたり、樹脂等により素子全体を被覆や封止を施したりしてもよい。特に素子全体を被覆や封止する際には、光によって硬化する光硬化性樹脂が好適に使用される。 In addition, in order to improve the stability of the electroluminescent element against temperature, humidity, atmosphere, etc., a protective layer may be provided on the surface of the element, or the entire element may be covered or sealed with a resin or the like. In particular, when covering or sealing the entire element, a photocurable resin that hardens when exposed to light is preferably used.
本発明の電界発光素子に印加する電流は通常、直流であるが、パルス電流や交流を用いてもよい。電流値、電圧値は、素子破壊しない範囲内であれば特に制限はないが、素子の消費電力や寿命を考慮すると、なるべく小さい電気エネルギーで効率良く発光させることが望ましい。 The current applied to the electroluminescent element of the present invention is usually direct current, but pulse current or alternating current may also be used. There are no particular limitations on the current and voltage values as long as they are within a range that does not destroy the element, but considering the power consumption and lifespan of the element, it is desirable to emit light efficiently with as little electrical energy as possible.
本発明の電界発光素子の駆動方法は、パッシブマトリクス法のみならず、アクティブマトリックス法も可能である。また、本発明の電界発光素子から光を取り出す方法としては、陽極側から光を取り出すボトム・エミッションという方法のみならず、陰極側から光を取り出すトップ・エミッションという方法にも適用可能である。 The electroluminescent element of the present invention can be driven by not only the passive matrix method but also the active matrix method. In addition, the method of extracting light from the electroluminescent element of the present invention can be applied not only to bottom emission, in which light is extracted from the anode side, but also to top emission, in which light is extracted from the cathode side.
本発明の電界発光素子のフルカラー化方式の主な方式としては、3色塗り分け方式、色
変換方式、カラーフィルター方式が挙げられる。3色塗り分け方式では、シャドウマスクを使った蒸着法や、インクジェット法や印刷法が挙げられる。レーザー熱転写法(Laser Induced Thermal Imaging、LITI法ともいわれる)も用いることができる。色変換方式では、青色発光の発光層を使って、蛍光色素を分散した色変換(CCM)層を通して、青色より長波長の緑色と赤色に変換する方法である。カラーフィルター方式では、白色発光の有機EL素子を使って、液晶用カラーフィルターを通して3原色の光を取り出す方法であるが、これら3原色に加えて、一部白色光をそのまま取り出して発光に利用することで、素子全体の発光効率をあげることもできる。
The main methods of full coloring of the electroluminescent element of the present invention include a three-color coating method, a color conversion method, and a color filter method. The three-color coating method includes a deposition method using a shadow mask, an inkjet method, and a printing method. A laser thermal transfer method (also called a Laser Induced Thermal Imaging, LITI method) can also be used. The color conversion method is a method in which a blue-emitting light-emitting layer is used to convert the light into green and red, which have longer wavelengths than blue, through a color conversion (CCM) layer in which a fluorescent dye is dispersed. The color filter method is a method in which a white-emitting organic EL element is used to extract three primary colors of light through a liquid crystal color filter, but in addition to these three primary colors, a part of the white light is extracted as it is and used for light emission, thereby increasing the luminous efficiency of the entire element.
更に、電界発光素子は、マイクロキャビティ構造を採用してもよい。これは、電界発光素子は、発光層が陽極と陰極との間に挟持された構造であり、発光した光は陽極と陰極との間で多重干渉を生じるが、陽極及び陰極の反射率、透過率等の光学的な特性と、これらに挟持された有機層及び又は無機層の膜厚とを適当に選ぶことにより、多重干渉効果を積極的に利用し、素子より取り出される発光波長を制御するという技術である。これにより、発光色度を改善することも可能となる。 Furthermore, electroluminescent elements may adopt a microcavity structure. This is a structure in which an electroluminescent layer is sandwiched between an anode and a cathode, and the emitted light causes multiple interference between the anode and the cathode. However, by appropriately selecting the optical characteristics such as the reflectance and transmittance of the anode and the cathode, and the film thickness of the organic and/or inorganic layer sandwiched between them, the multiple interference effect can be actively utilized to control the emission wavelength extracted from the element. This also makes it possible to improve the chromaticity of the emitted light.
<量子ドット分散液の製造>
(量子ドット分散液:QD-1)
酢酸インジウム1.35部、オクタン酸亜鉛1.30部、ステアリン酸4.65部、1-オクタデセン92.7部をフラスコに入れ100℃に加熱した。その後、その温度で減圧留去した。
次いで、フラスコ内をアルゴンガスで満たし、300℃に加熱した。別途、水のないグローボックス中で調製した、トリス(トリメチルシリル)フォスフィン1.16部を添加したヘキサン溶液23部を注入し、280℃で9分間反応した後、急冷して溶液を得た。
得られた溶液15部、1-オクタデセン46部、オレイルアミン11.5部をフラスコに入れ、15分間撹拌した後、ジベンジルジチオカルバミン酸亜鉛を4.3部加えた。フラスコ内をアルゴンで置換した後、170℃まで45分間かけて昇温し、170℃にて2時間保温した。その後冷却し、アセトンを加えて遠心分離法にて沈降ペーストを得た。
得られた沈降ペーストをトルエンで分散し、ドデカンチオール3.7部を加えて、室温で24時間撹拌し、減圧濃縮した後アセトンを加え、遠心分離法にて沈降ペーストを得た。
次いで、沈降ペーストをトルエンに分散して、固形分濃度10%に調製し、ドデカンチオールで表面処理された量子ドット分散液QD-1を得た。量子ドットに含まれる半導体粒子はコアがInPでシェルがZnSである。
<Production of quantum dot dispersion>
(Quantum dot dispersion: QD-1)
1.35 parts of indium acetate, 1.30 parts of zinc octanoate, 4.65 parts of stearic acid, and 92.7 parts of 1-octadecene were placed in a flask and heated to 100° C. Then, the contents were distilled off under reduced pressure at that temperature.
Next, the flask was filled with argon gas and heated to 300° C. 23 parts of a hexane solution containing 1.16 parts of tris(trimethylsilyl)phosphine, which had been separately prepared in a glove box without water, was poured into the flask, and the mixture was reacted at 280° C. for 9 minutes, followed by quenching to obtain a solution.
15 parts of the obtained solution, 46 parts of 1-octadecene, and 11.5 parts of oleylamine were placed in a flask and stirred for 15 minutes, after which 4.3 parts of zinc dibenzyldithiocarbamate was added. After the atmosphere in the flask was replaced with argon, the temperature was raised to 170°C over 45 minutes and the temperature was maintained at 170°C for 2 hours. After that, the mixture was cooled, acetone was added, and a precipitated paste was obtained by centrifugation.
The resulting precipitated paste was dispersed in toluene, 3.7 parts of dodecanethiol was added, and the mixture was stirred at room temperature for 24 hours. After concentrating under reduced pressure, acetone was added, and the mixture was centrifuged to obtain a precipitated paste.
The precipitated paste was then dispersed in toluene to a solid content of 10%, to obtain a quantum dot dispersion QD-1 that was surface-treated with dodecanethiol. The semiconductor particles contained in the quantum dots had an InP core and a ZnS shell.
(量子ドット乾固物:QDS-1)
量子ドット分散液QD-1を、トルエンを用いて固形分濃度0.5%に希釈した。次いで、正孔輸送性リガンドである表6記載の化合物(a)の1.0%トルエン溶液を、量子ドット分散液QD-1に5倍量を加え、12時間撹拌した。ヘキサンとエタノールを用いて再沈殿法で精製を行った後、減圧乾固して、正孔輸送性リガンドである化合物(a)で表面処理された量子ドットの乾固物QDS-1を得た。
(Quantum dot dry product: QDS-1)
The quantum dot dispersion liquid QD-1 was diluted with toluene to a solid concentration of 0.5%. Next, a 1.0% toluene solution of the compound (a) shown in Table 6, which is a hole transport ligand, was added to the quantum dot dispersion liquid QD-1 in an amount of 5 times the amount, and the mixture was stirred for 12 hours. After purification by reprecipitation using hexane and ethanol, the mixture was dried under reduced pressure to obtain a dried quantum dot QDS-1 surface-treated with the compound (a), which is a hole transport ligand.
(量子ドット乾固物:QDS-2~8)
化合物(a)の代わりに、表6記載の化合物(b)~(h)を使用した以外は、QDS-1と同様にして、量子ドット乾固物QDS-2~8を得た。
(Quantum dot dry matter: QDS-2 to 8)
Quantum dot dry products QDS-2 to 8 were obtained in the same manner as QDS-1, except that compounds (b) to (h) shown in Table 6 were used instead of compound (a).
<インキ組成物の製造>
[実施例1]:インキ組成物1
量子ドット乾固物QDS-1を、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート(以下、BGAc)中に固形分濃度0.1%となるように分散し、1μmのフィルタで濾過して、インキ組成物1を得た。
<Production of Ink Composition>
[Example 1]: Ink composition 1
The quantum dot dried product QDS-1 was dispersed in ethylene glycol monobutyl ether acetate (hereinafter, BGAc) to a solid concentration of 0.1%, and filtered through a 1 μm filter to obtain an ink composition 1.
[実施例2~7]:インキ組成物2~7
量子ドット乾固物QDS-1の代わりに、量子ドット乾固物QDS-2~7を使用した以外はインキ組成物1と同様にして、インキ組成物2~7を得た。
[Examples 2 to 7]: Ink compositions 2 to 7
Ink compositions 2 to 7 were obtained in the same manner as ink composition 1, except that the quantum dot dried materials QDS-2 to 7 were used instead of the quantum dot dried material QDS-1.
[実施例8]:インキ組成物8
BGAcの代わりに、ジエチレングリコールジエチルエーテル(以下、DEDG)を使用した以外はインキ組成物1と同様にして、インキ組成物8を得た。
[Example 8]: Ink composition 8
Ink composition 8 was obtained in the same manner as ink composition 1, except that diethylene glycol diethyl ether (hereinafter, DEDG) was used instead of BGAc.
[実施例9]:インキ組成物9
BGAcの代わりに、DEDGとトリエチレングリコールモノエチルエーテル(以下、ETG)との質量比9:1の混合溶剤を使用した以外はインキ組成物1と同様にして、インキ組成物9を得た。
[Example 9]: Ink composition 9
Ink composition 9 was obtained in the same manner as ink composition 1, except that a mixed solvent of DEDG and triethylene glycol monoethyl ether (hereinafter, ETG) in a mass ratio of 9:1 was used instead of BGAc.
[実施例10]:インキ組成物10
BGAcの代わりに、BGAcとプロピレングリコールジアセテート(以下、PGDA)との質量比8:2の混合溶剤を使用した以外はインキ組成物1と同様にして、インキ組成10を得た。
[Example 10]: Ink composition 10
Ink composition 10 was obtained in the same manner as ink composition 1, except that a mixed solvent of BGAc and propylene glycol diacetate (hereinafter, PGDA) in a mass ratio of 8:2 was used instead of BGAc.
[実施例11]:インキ組成物11
BGAcの代わりに、BGAcとトルエンとの質量比5:5の混合溶剤を使用した以外はインキ組成物1と同様にして、インキ組成物11を得た。
[Example 11]: Ink composition 11
Ink composition 11 was obtained in the same manner as ink composition 1, except that a mixed solvent of BGAc and toluene in a mass ratio of 5:5 was used instead of BGAc.
[比較例1]:インキ組成物12
量子ドット分散液QD-1をトルエンで固形分濃度0.1%に希釈して、インキ組成物12を得た。
[Comparative Example 1]: Ink composition 12
The quantum dot dispersion QD-1 was diluted with toluene to a solids concentration of 0.1% to obtain ink composition 12.
[比較例2]:インキ組成物13
BGAcの代わりに、トルエンを使用した以外はインキ組成物1と同様にして、インキ組成物12を得た。
[Comparative Example 2]: Ink composition 13
Ink composition 12 was obtained in the same manner as ink composition 1, except that toluene was used instead of BGAc.
[比較例3]:インキ組成物14
量子ドット乾固物QDS-1の代わりに、量子ドット乾固物QDS-8を使用した以外はインキ組成物1と同様にして、インキ組成物14を得た。
[Comparative Example 3]: Ink composition 14
Ink composition 14 was obtained in the same manner as ink composition 1, except that the quantum dot dried material QDS-8 was used instead of the quantum dot dried material QDS-1.
[比較例4]:インキ組成物15
BGAcの代わりに、BGAcとトルエンとの質量比4:6の混合溶剤を使用した以外
はインキ組成物1と同様にして、インキ組成物15を得た。
[Comparative Example 4]: Ink composition 15
Ink composition 15 was obtained in the same manner as ink composition 1, except that a mixed solvent of BGAc and toluene in a mass ratio of 4:6 was used instead of BGAc.
<インキ組成物の評価>
得られたインキ組成物について以下の評価を行った。結果を表7に示す。
<Evaluation of Ink Composition>
The resulting ink compositions were subjected to the following evaluations, and the results are shown in Table 7.
(電界発光素子性能評価)
以下に電界発光素子の作製と評価について説明する。蒸着は、10-6Torrの真空中にて基板の加熱や冷却等の温度制御は行わない条件下で行った。素子の評価は、発光素子面積2mm×2mmの電界発光素子を用いて測定した。
まず、洗浄したITO電極付きガラス板上に、PEDOT/PSS(ポリ(3,4-エ
チレンジオキシ)-2,5-チオフェン/ポリスチレンスルホン酸、Heraeus社製
CLEVIOUS(登録商標) P VP CH8000)をスピンコート法にて塗工し、110℃にて20分間乾燥させて、厚み35nmの正孔注入層を得た。正孔注入層上に、下記化合物(i)の固形分濃度0.5%のクロロホルム溶液をスピンコート法で塗工し、減圧乾燥して、厚み50nmの正孔輸送層を形成した。
次いで、正孔輸送層上に、得られたインキ組成物を用いて下記印刷条件でベタパターンのインクジェット印刷を行い、厚み20nmの発光層を形成した。
次いで、発光層上に、下記化合物(j)を蒸着して、厚み30nmの電子輸送層を形成した。電子輸送層上に、厚み0.5nmでフッ化リチウムを、厚み200nmでアルミニウム(以下、Al)を蒸着して電極を形成し、電界発光素子を得た。
(Evaluation of electroluminescence device performance)
The preparation and evaluation of the electroluminescence device will be described below. The deposition was carried out in a vacuum of 10 −6 Torr without temperature control such as heating or cooling of the substrate. The device was evaluated using an electroluminescence device with a light-emitting element area of 2 mm×2 mm.
First, PEDOT/PSS (poly(3,4-ethylenedioxy)-2,5-thiophene/polystyrenesulfonic acid, CLEVIOS (registered trademark) P VP CH8000 manufactured by Heraeus) was applied by spin coating onto a washed glass plate with an ITO electrode, and dried at 110° C. for 20 minutes to obtain a hole injection layer having a thickness of 35 nm. On the hole injection layer, a chloroform solution having a solid content concentration of the following compound (i) of 0.5% was applied by spin coating, and dried under reduced pressure to form a hole transport layer having a thickness of 50 nm.
Next, a solid pattern was ink-jet printed on the hole transport layer using the ink composition obtained under the printing conditions described below to form a light-emitting layer having a thickness of 20 nm.
Next, the following compound (j) was deposited on the light-emitting layer to form an electron transport layer having a thickness of 30 nm. Lithium fluoride was deposited on the electron transport layer to a thickness of 0.5 nm, and aluminum (hereinafter, Al) was deposited on the electron transport layer to a thickness of 200 nm to form an electrode, thereby obtaining an electroluminescent device.
得られた電界発光素子について、電流密度10(mA/cm2)で駆動させた時の駆動電圧(V)及び外部量子効率(%)を測定した。また、初期輝度500(cd/m2)の条件で10時間連続駆動した後の輝度を測定し、相対輝度(10時間後の輝度/初期輝度)を算出した。
なお、実施例1のインキ組成物を用いた電界発光素子は、その発光スペクトルのピーク波長は605nmであり、半値全幅は30nmであった。また、同様の手順にて発光層まで作成したサンプルに関し、Veeco社製DECTAC6Mを用いて算術平均粗さRaを測定した結果、Raは10nm以下であった。さらに、ITO基板上に発光層のみを形成したサンプルを作成し、住友重機械メカトロニクス社製PYS-202でイオン化ポテンシャルを測定した結果5.9eVであった。
The electroluminescent device thus obtained was measured for driving voltage (V) and external quantum efficiency (%) when driven at a current density of 10 (mA/ cm2 ). In addition, the luminance after continuous driving for 10 hours under the condition of an initial luminance of 500 (cd/ m2 ) was measured, and the relative luminance (luminance after 10 hours/initial luminance) was calculated.
The electroluminescent element using the ink composition of Example 1 had an emission spectrum with a peak wavelength of 605 nm and a full width at half maximum of 30 nm. Furthermore, for a sample in which the light-emitting layer was formed in the same manner, the arithmetic mean roughness Ra was measured using a DECTAC6M manufactured by Veeco Corporation, and the result was that the Ra was 10 nm or less. Furthermore, a sample in which only the light-emitting layer was formed on an ITO substrate was prepared, and the ionization potential was measured using a PYS-202 manufactured by Sumitomo Heavy Industries Mechatronics Co., Ltd., and the result was that it was 5.9 eV.
≪インクジェット印刷条件≫
印刷機: Dimatix MaterialsPrinter
カートリッジ: 10DimatixMaterialsCartriges、10pL基板温度: 30℃
印刷後乾燥: 40℃20分間
Inkjet printing conditions
Printing machine: Dimatix MaterialsPrinter
Cartridge: 10 Dimatix Materials Cartridges, 10 pL Substrate temperature: 30° C.
Drying after printing: 40°C for 20 minutes
表7中の略称を以下に示す。
BGAc:エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート(一般式(1)に該当)
BGAc: Ethylene glycol monobutyl ether acetate (corresponding to general formula (1))
DEDG:ジエチレングリコールジエチルエーテル(一般式(3)に該当)
ETG:トリエチレングリコールモノエチルエーテル(一般式(4)に該当)
PGDA:プロピレングリコールジアセテート(一般式(2)に該当)
以上に説明したように、比較例1~4に対し実施例1~11は優れた電界発光素子特性を示した。比較例2では本発明の溶剤ではくトルエンを使用していたため、正孔輸送層へのダメージが発生したと想定され、電界発光素子の発光面にムラや明点が存在していた。正孔輸送層へのダメージに依るとみられる素子特性の悪化は、比較例4でも確認されていることから、溶剤の比率も重要であることが確認できる。また、比較例3では、インクジェットの吐出性に劣っていたために電界素子特性に影響が生じたとみられる。実際、発光面には無数の明点や暗点が発生していた。これは、本発明のリガンドの吸着基であるカルボキシル基やスルファニル基と比べて、フォスフィンオキシド部位の半導体ナノ粒子に対する吸着が不安定であるために、量子ドットの一部が凝集しているためであると仮説立てている。以上述べたように、本発明の電界発光素子は、駆動電圧の低減が可能であり、かつ優れた発光効率、駆動電流密度で安定した発光効率、及び、高い耐久性を有する。故に
、本有機EL素子は、壁掛けテレビ等のフラットパネルディスプレイや各種の平面発光体として、更には、複写機やプリンター等の光源、液晶ディスプレイや計器類等の光源、表示板、標識灯等への応用が考えられる。
As described above, Examples 1 to 11 showed superior electroluminescence device characteristics compared to Comparative Examples 1 to 4. In Comparative Example 2, since toluene was used instead of the solvent of the present invention, it is assumed that damage occurred to the hole transport layer, and unevenness and bright spots were present on the light-emitting surface of the electroluminescence device. Since deterioration of device characteristics, which is believed to be due to damage to the hole transport layer, was also confirmed in Comparative Example 4, it can be confirmed that the ratio of the solvent is also important. In addition, in Comparative Example 3, it is believed that the electroluminescence device characteristics were affected due to poor inkjet ejection properties. In fact, numerous bright and dark spots were generated on the light-emitting surface. It is hypothesized that this is because the adsorption of the phosphine oxide moiety to the semiconductor nanoparticles is unstable compared to the carboxyl group and sulfanyl group, which are the adsorption groups of the ligand of the present invention, and therefore some of the quantum dots aggregate. As described above, the electroluminescence device of the present invention can reduce the driving voltage, and has excellent luminescence efficiency, stable luminescence efficiency at driving current density, and high durability. Therefore, the organic EL element can be used as a flat panel display such as a wall-mounted television, various flat light emitters, and further as a light source for a copying machine or a printer, a light source for a liquid crystal display or an instrument, a display board, a marker light, etc.
Claims (4)
前記量子ドットが、スルファニル基及びカルボキシル基からなる群から選ばれる少なくとも1種の官能基を有するキャリア輸送性リガンド(フルオレン骨格、又は、オキソフルオレン骨格を有するものを除く)を含み、
前記溶剤が、下記一般式(1)~(4)で表わされる溶剤を少なくとも1種含み、下記一般式(1)~(4)で表わされる溶剤の合計量が、溶剤全量に対して50質量%以上である、インキ組成物。
一般式(1): R36CO(OR37)pOR38
一般式(2): R39CO(OR40)qOCOR41
一般式(3): R42(OR43)rOR44
一般式(4): R45(OR46)sOR47
[一般式(1)~(4)中、
R36、R38、R39、R41、R42及びR44は、各々独立して、炭素数1~4のアルキル基を表し、R37、R40及びR43は、各々独立して、炭素数2~4のアルキレン基を表し、R45及びR47は、各々独立して、水素原子又は炭素数1~6のアルキル基を表し、R45及びR47のうち少なくとも1つは水素原子であり、R46は、炭素数1~10のアルキレン基を表し、p、q、r及びsは、各々独立して、1~6の整数を表す。] An ink composition comprising quantum dots and a solvent,
the quantum dots contain a carrier transporting ligand (excluding those having a fluorene skeleton or an oxofluorene skeleton) having at least one functional group selected from the group consisting of a sulfanyl group and a carboxyl group;
The ink composition comprises at least one solvent represented by the following general formulas (1) to (4), and the total amount of the solvents represented by the following general formulas (1) to (4) is 50 mass % or more based on the total amount of the solvent.
General formula (1): R 36 CO(OR 37 ) p OR 38
General formula (2): R 39 CO(OR 40 ) q OCOR 41
General formula (3): R 42 (OR 43 ) r OR 44
General formula (4): R 45 (OR 46 ) s OR 47
[In general formulas (1) to (4),
R 36 , R 38 , R 39 , R 41 , R 42 and R 44 each independently represent an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, R 37 , R 40 and R 43 each independently represent an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, R 45 and R 47 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, at least one of R 45 and R 47 is a hydrogen atom, R 46 represents an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, and p, q, r and s each independently represent an integer of 1 to 6.]
前記正孔輸送層に接して前記発光層が設けられている、電界発光素子。 1. An electroluminescent device comprising an anode, a hole transport layer, the light emitting layer according to claim 3 , and a cathode laminated in this order on a substrate,
The electroluminescent device comprises the light-emitting layer provided in contact with the hole transport layer.
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