JP2019518748A - Process for preparing phosphorodiamidato morpholino oligomers - Google Patents
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Abstract
オリゴマー(例えば、モルホリノオリゴマー)を調製するためのプロセスが本明細書に提供される。本明細書に記載の合成プロセスは、全体の収率および合成されるオリゴマーの純度を維持しながら、オリゴマー合成のスケールアップに有利であり得る。本明細書に記載のモルホリノオリゴマーは、天然または未修飾のオリゴヌクレオチドに対して、配列選択性を損なうことなくDNAおよびRNAへのより強い親和性を示す。いくつかの実施形態では、本開示のモルホリノオリゴマーは、RNase Hによる切断を最小化するか、または防ぐ。【選択図】なしProvided herein are processes for preparing the oligomers (eg, morpholino oligomers). The synthesis process described herein may be advantageous for scale-up of oligomer synthesis while maintaining the overall yield and purity of the synthesized oligomer. The morpholino oligomers described herein exhibit greater affinity for DNA and RNA without compromising sequence selectivity to natural or unmodified oligonucleotides. In some embodiments, morpholino oligomers of the present disclosure minimize or prevent cleavage by RNase H. 【Selection chart】 None
Description
関連出願
本特許出願は、2017年5月18日に出願された米国仮特許出願第62/508,256号、2016年5月24日に出願された米国仮特許出願第62/341,049号、2016年5月24日に出願された米国仮特許出願第62/340,953号、2016年6月30日に出願された米国仮特許出願第62/357,134号、および2016年6月30日に出願された米国仮特許出願第62/357,153号の利益を主張する。上記参照の仮特許出願の内容全体は参照により本明細書に組み込まれる。
RELATED APPLICATIONS This patent application is directed to US Provisional Patent Application No. 62 / 508,256 filed May 18, 2017 and US Provisional Patent Application No. 62 / 341,049 filed May 24, 2016. US Provisional Patent Application No. 62 / 340,953, filed May 24, 2016, US Provisional Patent Application No. 62 / 357,134, filed June 30, 2016, and June 2016 Claim the benefit of US Provisional Patent Application No. 62 / 357,153, filed on the 30th. The entire content of the above-referenced provisional patent application is incorporated herein by reference.
アンチセンス技術は、選択的スプライシング産物を含む1つまたは複数の特定の遺伝子産物の発現を調節するための手段を提供し、多くの治療、診断および研究用途において非常に有用である。アンチセンス技術の背後にある原理は、標的核酸にハイブリダイズするアンチセンス化合物、例えばオリゴヌクレオチドが、いくつかのアンチセンス機構のいずれか1つを通して転写、スプライシングまたは翻訳などの遺伝子発現活性を調節することである。アンチセンス化合物の配列特異性のため、それらは、標的評価および遺伝子機能化のためのツールとして、ならびに疾患に関与する遺伝子の発現を選択的に調節するための治療薬として魅力的である。 Antisense technology provides a means to modulate the expression of one or more specific gene products, including alternative splicing products, and is very useful in many therapeutic, diagnostic and research applications. The principle behind antisense technology is that an antisense compound, such as an oligonucleotide, which hybridizes to a target nucleic acid modulates gene expression activity such as transcription, splicing or translation through any one of several antisense mechanisms It is. Because of the sequence specificity of antisense compounds, they are attractive as tools for target assessment and gene functionalization, and as therapeutic agents for selectively modulating the expression of genes involved in disease.
デュシェンヌ型筋ジストロフィー(DMD)は、タンパク質ジストロフィンの発現の欠陥によって引き起こされる。このタンパク質をコードする遺伝子は、DNAの200万を超えるヌクレオチドに広がった79のエクソンを含有する。エクソンの読み枠を変化させる、もしくは停止コドンを導入する、もしくはアウトオブフレームエクソン(単数もしくは複数)全体の除去によって特徴付けられる任意のエクソンの変異、または1つもしくは複数のエクソンの重複は、機能性ジストロフィンの産生を妨げる可能性を有し、結果としてDMDとなる。 Duchenne muscular dystrophy (DMD) is caused by a defect in the expression of the protein dystrophin. The gene encoding this protein contains 79 exons spanning over 2 million nucleotides of DNA. A mutation in any exon that changes the reading frame of the exon, or introduces a stop codon, or is characterized by the removal of the entire out-of-frame exon (s), or the duplication of one or more exons, is functional It has the potential to prevent the production of sexual dystrophin and results in DMD.
DMDの治療のためのスプライススイッチングオリゴヌクレオチド(SSO)の安全性および有効性を試験する最近の臨床試験は、スプライソソームの立体封鎖によるプレmRNAの選択的スプライシングを誘導するSSO技術に基づいている(Cirak et al., 2011;Goemans et al., 2011;Kinali et al., 2009;van Deutekom et al., 2007)。しかしながら、これらの成功にもかかわらず、DMDの治療に利用可能な薬理学的選択肢は限られている。 Recent clinical trials to test the safety and efficacy of splice switching oligonucleotides (SSOs) for the treatment of DMD are based on SSO technology that induces alternative splicing of pre-mRNA by steric blockade of spliceosomes ( Cirak et al., 2011; Goemans et al., 2011; Kinali et al., 2009; van Deutekom et al., 2007). However, despite these successes, the pharmacological options available for the treatment of DMD are limited.
Casimersenは、読み枠を修復し、ジストロフィンタンパク質の機能的により短い形態を産生するための、エクソン45スキップを適用可能なDMDの患者のヒトジストロフィン遺伝子のエクソン45をスキップするように設計されたホスホロジアミダートモルホリノオリゴマー(PMO)である。 Casimersen is designed to skip exon 45 of human dystrophin gene of patients with DMD who can apply exon 45 skip to repair the reading frame and produce a functionally shorter form of dystrophin protein Amidate morpholino oligomer (PMO).
アンチセンス技術の分野において著しい進歩がなされているが、改善されたアンチセンスまたはアンチジーン性能を有するホスホロジアミダートモルホリノオリゴマーを調製する方法が、当該技術分野において依然として必要とされている。 Although significant progress has been made in the field of antisense technology, there remains a need in the art for methods of preparing phosphorodiamidate morpholino oligomers with improved antisense or antigene performance.
ホスホロジアミダートモルホリノオリゴマー(PMO)を調製するためのプロセスが本明細書に提供される。本明細書に記載の合成プロセスは、全体の収率および合成されるPMOの純度を維持しながら、PMO合成のスケールアップを可能にする。 Provided herein is a process for preparing a phosphorodiamidato morpholino oligomer (PMO). The synthetic processes described herein allow for the scale-up of PMO synthesis while maintaining the overall yield and purity of the PMO synthesized.
したがって、一態様では、式(A):
のオリゴマー化合物を調製するためのプロセスが本明細書に提供される。
Thus, in one aspect, Formula (A):
Provided herein are processes for the preparation of oligomeric compounds.
ある実施形態では、式(C):
のオリゴマー化合物を調製するためのプロセスが本明細書に提供される。
In one embodiment, Formula (C):
Provided herein are processes for the preparation of oligomeric compounds.
さらに別の実施形態では、例えば、式(C)のオリゴマー化合物のいくつかの実施形態を含む本開示のオリゴマー化合物は、式(XII):
のオリゴマー化合物である。
In yet another embodiment, the oligomeric compounds of the present disclosure, including, for example, some embodiments of the oligomeric compounds of formula (C), have the formula (XII):
Is an oligomeric compound of
明確にするために、例えば、式(C)のオリゴマー化合物および式(XII)で表されるCasimersenを含む構造式は、5’から3’への連続した構造式であり、式全体を上記の構造式に小さくまとめた形で図示する便宜上、出願人は、「中断A」および「中断B」とラベル付けされた様々な図示の中断を含めている。当業者に理解されるであろうように、例えば、「中断A」の各表示は、これらの点で構造式の図が連続することを示す。当業者は、Casimersenを含む上記の構造式中の「中断B」の各場合についても同じであることを理解する。しかしながら、図の中断は、Casimersenを含む上記の構造式の実際の不連続を示すことを意図するものではなく、当業者がそれらを意味すると理解するものでもない。 For clarity, for example, the structural formula comprising the oligomeric compound of formula (C) and Casimersen represented by formula (XII) is a continuous structural formula from 5 'to 3', the whole formula being described above For the purpose of illustrating in a structurally compacted form, the applicant includes the various illustrated interruptions labeled "suspension A" and "suspension B". As will be appreciated by those skilled in the art, for example, each indication of "Break A" indicates that at each of these points the diagram of the structural formula is continuous. One skilled in the art will understand that the same is true for each of the "suspension B" in the above structural formula including Casimersen. However, the interruptions in the figures are not intended to show the actual discontinuities of the above structural formulas, including Casimersen, nor are those understood by one of ordinary skill in the art to mean them.
モルホリノオリゴマーを調製するためのプロセスが本明細書に提供される。本明細書に記載のモルホリノオリゴマーは、天然または未修飾のオリゴヌクレオチドに対して、配列選択性を損なうことなくDNAおよびRNAへのより強い親和性を示す。いくつかの実施形態では、本開示のモルホリノオリゴマーは、RNase Hによる切断を最小化するか、または防ぐ。いくつかの実施形態では、本開示のモルホリノオリゴマーは、RNase Hを活性化しない。 Processes for preparing morpholino oligomers are provided herein. The morpholino oligomers described herein exhibit greater affinity for DNA and RNA without compromising sequence selectivity to natural or unmodified oligonucleotides. In some embodiments, morpholino oligomers of the present disclosure minimize or prevent cleavage by RNase H. In some embodiments, morpholino oligomers of the present disclosure do not activate RNase H.
本明細書に記載のプロセスは、工業スケールのプロセスに有利であり、高収率および高スケール(例えば、約1kg、約1〜10kg、約2〜10kg、約5〜20kg、約10〜20kg、または約10〜50kg)で多量のモルホリノオリゴマーを調製するのに適用され得る。 The processes described herein are advantageous for industrial scale processes and are high yield and high scale (eg, about 1 kg, about 1 to 10 kg, about 2 to 10 kg, about 5 to 20 kg, about 10 to 20 kg, Or about 10 to 50 kg) can be applied to prepare large amounts of morpholino oligomers.
定義
本開示の記載に使用された様々な用語の定義を以下に列挙する。これらの定義は、特定の場合に、個別にまたはより大きな群の一部として、別段の限定がない限り、本明細書および特許請求の範囲を通して使用される用語に適用される。
Definitions Definitions of the various terms used in the description of the present disclosure are listed below. These definitions apply to the terms as used throughout the specification and claims unless otherwise limited, in specific cases, individually or as part of a larger group.
「塩基保護された」または「塩基保護」は、モルホリノサブユニット上の塩基対形成基、例えばプリンまたはピリミジン塩基を、段階的オリゴマー合成中に塩基対形成基の反応または干渉を防ぐのに適した保護基で保護することを指す。塩基保護されたモルホリノサブユニットの例は、以下に示すシトシンアミノ基上にCBZ保護基を有する活性化Cサブユニット化合物(C)である。 "Base protected" or "base protected" is suitable for preventing base pairing groups on morpholino subunits, such as purines or pyrimidine bases, from reacting or interfering with the base pairing groups during stepwise oligomer synthesis Refers to protecting with a protecting group. An example of a base protected morpholino subunit is an activated C subunit compound (C) having a CBZ protecting group on the cytosine amino group shown below.
「活性化ホスホロアミダート基」は、典型的には、オリゴマー中の最終的なホスホロジアミダート連結に望ましい窒素での置換を有する、クロロホスホロアミダート基である。例は、(ジメチルアミノ)クロロホスホロアミダート、すなわち、−O−P(=O)(NMe2)Clである。 An "activated phosphoroamidate group" is typically a chlorophosphoroamidate group with the desired nitrogen substitution for final phosphorodiamidate linkage in the oligomer. Examples are (dimethylamino) Chloro phosphoramidates, i.e., -O-P (= O) (NMe 2) Cl.
用語「支持体に結合した」は、支持媒体に共有結合的に連結した化学物質を指す。 The term "support-bound" refers to a chemical entity covalently linked to a support medium.
用語「支持媒体」は、例えば、その上にオリゴマーが付着もしくは合成され得るか、またはオリゴマーの付着もしくは合成のために修飾され得る任意の粒子、ビーズ、または表面を含む任意の材料を指す。代表的な基材としては、ガラスおよび修飾または官能化ガラス、プラスチック(アクリル、ポリスチレンおよびスチレンと他の材料とのコポリマー、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリブチレン、ポリウレタン、テフロン(登録商標)などを含む)、多糖類、ナイロンまたはニトロセルロース、セラミックス、樹脂、シリコンおよび修飾シリコンを含むシリカまたはシリカ系材料、炭素、金属、無機ガラス、プラスチック、光ファイバ束、ならびに様々な他のポリマーなどの無機支持体ならびに有機支持体が挙げられるが、これらに限定されない。いくつかの実施形態に特に有用な支持媒体および固体表面はフローセル装置内に位置する。本明細書に記載のプロセスのいくつかの実施形態では、支持媒体は、1%ジビニルベンゼン架橋ポリスチレンを含む。 The term "support medium" refers to any material comprising, for example, any particles, beads or surfaces onto which oligomers can be attached or synthesized or modified for attachment or synthesis of oligomers. Representative substrates include glass and modified or functionalized glass, plastics (including acrylic, polystyrene and copolymers of styrene and other materials, polypropylene, polyethylene, polybutylene, polyurethane, Teflon, etc.), many Inorganic supports such as saccharides, nylon or nitrocellulose, ceramics, resins, silica or silica based materials including silicon and modified silicon, carbon, metals, inorganic glasses, plastics, fiber optic bundles, and various other polymers and organic supports Body includes, but is not limited to. Particularly useful support media and solid surfaces in some embodiments are located in the flow cell apparatus. In some embodiments of the processes described herein, the support medium comprises 1% divinyl benzene crosslinked polystyrene.
いくつかの実施形態では、代表的な支持媒体は、オリゴマーの付着または合成のための少なくとも1つの反応部位を含む。例えば、いくつかの実施形態では、本開示の支持媒体は、オリゴマーを付着または合成するために、入ってくるサブユニットまたは他の活性化された基と化学結合を形成することができる1つまたは複数の末端アミノまたはヒドロキシル基を含む。 In some embodiments, a representative support medium comprises at least one reactive site for attachment or synthesis of oligomers. For example, in some embodiments, the support media of the present disclosure may form one or more chemical bonds with an incoming subunit or other activated group to attach or synthesize an oligomer. Contains multiple terminal amino or hydroxyl groups.
本明細書に記載のプロセスに適しているいくつかの代表的な支持媒体としては、以下:コントロールドポアガラス(controlled pore glass)(CPG)、オキサリルコントロールドポアガラス(例えば、Alul, et al., Nucleic Acids Research 1991, 19, 1527を参照)、トリクロロ−[3−(4−クロロメチル)フェニル]プロピルシランと多孔質ガラスビーズとの反応によって形成されるもののような、多孔質ガラスビーズおよびシリカゲルなどのシリカ含有粒子(Parr and Grohmann, Angew. Chem. Internatl. Ed. 1972, 11, 314を参照、商標「PORASIL E」でWaters Associates, Framingham, Mass., USAにより販売)、1,4−ジヒドロキシメチルベンゼンとシリカとのモノエステル(Bayer and Jung, Tetrahedron Lett., 1970, 4503を参照、商標「BIOPAK」でWaters Associatesにより販売)、
TENTAGEL(例えば、Wright, et al., Tetrahedron Lett. 1993, 34, 3373を参照)、架橋スチレン/ジビニルベンゼンコポリマービーズマトリックス、またはPOROS、ポリスチレン/ジビニルベンゼンのコポリマー(Perseptive Biosystemsから入手可能)、ポリエチレングリコール PEGのような可溶性支持媒体(Bonora et al., Organic Process Research & Development, 2000, 4, 225−231を参照)、ペンダント長鎖ポリスチレン(PS)グラフトを有するポリエチレン(PE)フィルムであるPEPS支持体(Berg, et al., J. Am. Chem. Soc.,1989, 111, 8024および国際特許出願公開WO 1990/02749を参照)、既知の量のN−tert−ブトキシカルボニル−ベータ−アラニル−N’−アクリロイルヘキサメチレンジアミンを含む、N、N’−ビスアクリロイルエチレンジアミンと架橋したジメチルアクリルアミドのコポリマー(Atherton, et al., J. Am. Chem. Soc., 1975, 97, 6584, Bioorg. Chem. 1979, 8, 351,およびJ. C. S. Perkin I 538 (1981)を参照)、疎水性架橋スチレンポリマーで被覆されたガラス粒子(Scott, et al., J. Chrom. Sci., 1971, 9, 577を参照)、ポリスチレンをグラフトされたフッ化エチレンポリマー(Kent and Merrifield, Israel J. Chem. 1978, 17, 243、およびvan Rietschoten in Peptides 1974, Y. Wolman, Ed., Wiley and Sons, New York, 1975, pp. 113−116を参照)、ヒドロキシプロピルアクリレート被覆ポリプロピレン膜(Daniels, et al., Tetrahedron Lett. 1989, 4345)、アクリル酸グラフトポリエチレンロッド(Geysen, et al., Proc. Natl. Acad. Sci. USA, 1984, 81, 3998)、伝統的に使用されているポリマービーズを含有する「ティーバッグ」(Houghten, Proc. Natl. Acad. Sci. USA, 1985, 82, 5131)、ならびにそれらの組み合わせが挙げられるが、これらに限定されない。
Some representative support media suitable for the processes described herein include: controlled pore glass (CPG), oxalyl controlled pore glass (eg, Alul, et al. (See, Nucleic Acids Research 1991, 19, 1527), porous glass beads and silica gel, such as those formed by the reaction of trichloro- [3- (4-chloromethyl) phenyl] propylsilane with porous glass beads. Silica-containing particles (see Parr and Grohmann, Angew. Chem. Internatl. Ed. 1972, 11, 314, Waters Associates, Fram under the trademark “PORASIL E” (sold by ingham, Mass., USA), monoesters of 1,4-dihydroxymethylbenzene with silica (see Bayer and Jung, Tetrahedron Lett., 1970, 4503, sold by Waters Associates under the trademark "BIOPAK"),
TENTAGEL (see, for example, Wright, et al., Tetrahedron Lett. 1993, 34, 3373), crosslinked styrene / divinylbenzene copolymer bead matrix, or POROS, a copolymer of polystyrene / divinylbenzene (available from Perseptive Biosystems), polyethylene glycol PEPS supports that are polyethylene (PE) films with soluble long-chain polystyrene (PS) grafts with soluble support media such as PEG (see Bonora et al., Organic Process Research & Development, 2000, 4, 225-231) (Berg, et al., J. Am. Chem. Soc., 1989, 111. 8024 and International Patent Application Publication WO 1990/02749), crosslinked with N, N'-bisacryloyl ethylenediamine, containing known amounts of N-tert-butoxycarbonyl-beta-alanyl-N'-acryloylhexamethylenediamine Copolymers of dimethyl acrylamide (Atherton, et al., J. Am. Chem. Soc., 1975, 97, 6584, Bioorg. Chem. 1979, 8, 351 and J. C. S. Perkin I 538 (1981) Reference), glass particles coated with hydrophobic cross-linked styrene polymer (see Scott, et al., J. Chrom. Sci., 1971, 9, 577), polystyrene grafted fluorinated ethylene polymer (Kent an) d Merrifield, Israel J. Chem. 1978, 17, 243 and van Rietschoten in Peptides 1974, Y. Wolman, Ed., Wiley and Sons, New York, 1975, pp. 113-116), hydroxypropyl acrylate coatings Polypropylene membranes (Daniels, et al., Tetrahedron Lett. 1989, 4345), acrylic acid grafted polyethylene rods (Geysen, et al., Proc. Natl. Acad. Sci. USA, 1984, 81, 3998), traditionally used "Tea bags" containing polymer beads being treated (Houghten, Proc. Natl. Acad. Sci. USA, 1985, 82, 5131), and combinations thereof, but is not limited thereto.
用語「フローセル装置」は、1つまたは複数の流体試薬(例えば、液体もしくは気体)を流すことができる表面(例えば、固体表面)を含むチャンバを指す。 The term "flow cell apparatus" refers to a chamber that includes a surface (e.g., a solid surface) to which one or more fluid reagents (e.g., liquid or gas) can flow.
用語「脱ブロッキング剤」は、保護基を除去するための化学酸または化学酸の組み合わせを含む組成物(例えば、溶液)を指す。脱ブロッキング剤に使用される例示的な化学酸としては、ハロゲン化酸、例えば、クロロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、フルオロ酢酸、ジフルオロ酢酸、およびトリフルオロ酢酸が挙げられる。いくつかの実施形態では、脱ブロッキング剤は、例えば、オリゴマー、支持体に結合したオリゴマー、支持体に結合したサブユニット、または他の保護された窒素もしくは酸素部分から、1つまたは複数のトリチル基を除去する。 The term "deblocking agent" refers to a composition (e.g., a solution) comprising a chemical acid or combination of chemical acids to remove protecting groups. Exemplary chemical acids used for the deblocking agent include halogenated acids such as chloroacetic acid, dichloroacetic acid, trichloroacetic acid, fluoroacetic acid, difluoroacetic acid, and trifluoroacetic acid. In some embodiments, the deblocking agent is one or more trityl groups, for example, from an oligomer, a support-bound oligomer, a support-bound subunit, or other protected nitrogen or oxygen moiety. Remove
用語「ハロゲン」および「ハロ」は、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素からなる群から選択される原子を指す。 The terms "halogen" and "halo" refer to an atom selected from the group consisting of fluorine, chlorine, bromine, iodine.
用語「キャッピング剤」は、例えば、入ってくるサブユニットまたは他の活性化された基と化学結合を形成する支持媒体の、反応部位をブロックするのに有用な酸無水物(例えば、無水安息香酸、無水酢酸、フェノキシ酢酸無水物など)を含む組成物(例えば、溶液)を指す。 The term "capping agent" refers to, for example, an acid anhydride useful for blocking reactive sites on a supporting medium that forms a chemical bond with an incoming subunit or other activated group (eg, benzoic anhydride) , Acetic anhydride, phenoxyacetic acid anhydride and the like)).
用語「切断剤」は、例えば、支持体に結合したオリゴマーを支持媒体から切断するのに有用な化学塩基(アンモニアもしくは1,8−ジアザビシクロウンデカ−7−エン)または化学塩基の組み合わせを含む組成物(例えば、液体溶液もしくは気体混合物)を指す。 The term "cleavage agent" refers, for example, to a chemical base (ammonia or 1,8-diazabicycloundec-7-ene) or a combination of chemical bases useful for cleaving a support-bound oligomer from a support medium. Refers to the composition (eg, liquid solution or gaseous mixture) that it contains.
用語「脱保護剤」は、保護基を除去するのに有用な化学塩基(アンモニア、1,8−ジアザビシクロウンデカ−7−エンもしくは炭酸カリウム)または化学塩基の組み合わせを含む組成物(例えば、液体溶液もしくは気体混合物)を指す。例えば、脱保護剤は、いくつかの実施形態では、例えばモルホリノサブユニット、モルホリノオリゴマーのモルホリノサブユニット、またはそれらの支持体に結合した形から塩基保護を除去し得る。 The term "deprotecting agent" refers to a composition (e.g., a combination of a chemical base (ammonia, 1,8-diazabicycloundec-7-ene or potassium carbonate) or chemical base useful to remove protecting groups (e.g., , Liquid solution or gas mixture). For example, the deprotecting agent may, in some embodiments, remove base protection from the morpholino subunit, the morpholino subunit of the morpholino oligomer, or the support bound form thereof.
用語「溶媒」は、溶質がその中に溶解される溶液または混合物の成分を指す。溶媒は、無機または有機溶媒(例えば、酢酸、アセトン、アセトニトリル、アセチルアセトン、2−アミノエタノール、アニリン、アニソール、ベンゼン、ベンゾニトリル、ベンジルアルコール、1−ブタノール、2−ブタノール、i−ブタノール、2−ブタノン、t−ブチルアルコール、二硫化炭素、四塩化炭素、クロロベンゼン、クロロホルム、シクロヘキサン、シクロヘキサノール、シクロヘキサノン、フタル酸ジ−n−ブチル、1,1−ジクロロエタン、1,2−ジクロロエタン、ジエチルアミン、ジエチレングリコール、ジグリム、ジメトキシエタン(グリム)、N,N−ジメチルアニリン、ジメチルホルムアミド、ジメチルフタレート、ジメチルスルホキシド、ジオキサン、エタノール、エーテル、酢酸エチル、アセト酢酸エチル、安息香酸エチル、エチレングリコール、グリセリン、ヘプタン、1−ヘプタノール、ヘキサン、1−ヘキサノール、メタノール、酢酸メチル、メチルt−ブチルエーテル、塩化メチレン、1−オクタノール、ペンタン、1−ペンタノール、2−ペンタノール、3−ペンタノール、2−ペンタノン、3−ペンタノン、1−プロパノール、2−プロパノール、ピリジン、テトラヒドロフラン、トルエン、水、p−キシレン)であってよい。 The term "solvent" refers to a component of a solution or mixture in which a solute is dissolved. The solvent may be an inorganic or organic solvent (eg, acetic acid, acetone, acetonitrile, acetylacetone, 2-aminoethanol, aniline, anisole, benzene, benzonitrile, benzyl alcohol, 1-butanol, 2-butanol, i-butanol, 2-butanone T-Butyl alcohol, carbon disulfide, carbon tetrachloride, chlorobenzene, chloroform, cyclohexane, cyclohexanol, cyclohexanone, di-n-butyl phthalate, 1,1-dichloroethane, 1,2-dichloroethane, diethylamine, diethylene glycol, diglyme , Dimethoxyethane (glyme), N, N-dimethylaniline, dimethylformamide, dimethyl phthalate, dimethyl sulfoxide, dioxane, ethanol, ether, ethyl acetate, acetoacetic acid Ethyl acetate, ethylene glycol, glycerin, heptane, 1-heptanol, hexane, 1-hexanol, methanol, methyl acetate, methyl t-butyl ether, methylene chloride, 1-octanol, pentane, 1-pentanol, 2-pentanol 3-pentanol, 2-pentanone, 3-pentanone, 1-propanol, 2-propanol, pyridine, tetrahydrofuran, toluene, water, p-xylene).
用語「モルホリノ」、「モルホリノオリゴマー」、または「PMO」(ホスホロアミダートもしくはホスホロジアミダートモルホリノオリゴマー)は以下の一般構造:
のホスホロジアミダートモルホリノオリゴマーであり、Summerton, J., et al., Antisense & Nucleic Acid Drug Development, 7: 187−195 (1997)の図2に記載されるようなものを指す。本明細書に記載されるようなモルホリノは、前述の一般構造のすべての立体異性体および立体配置を網羅することが意図される。モルホリノオリゴマーの合成、構造、および結合特性は米国特許第5,698,685号、第5,217,866号、第5,142,047号、第5,034,506号、第5,166,315号、第5,521,063号、第5,506,337号、第8,076,476号、および第8,299,206号に記載されており、それらのすべては参照により本明細書に組み込まれる。
The terms "morpholino", "morpholino oligomer" or "PMO" (phosphoramidate or phosphorodiamidate morpholino oligomer) have the following general structure:
Phosphorodiamidato morpholino oligomers, as described in Summerton, J. et al. , Et al. , Antisense & Nucleic Acid Drug Development, 7: 187-195 (1997), as described in FIG. Morpholino as described herein is intended to cover all stereoisomers and configurations of the general structure described above. The synthesis, structure and binding properties of morpholino oligomers are described in US Pat. Nos. 5,698,685, 5,217,866, 5,142,047, 5,034,506, 5,166, Nos. 315, 5, 521, 063, 5, 506, 337, 8, 076, 476 and 8, 299, 206, all of which are incorporated herein by reference. Incorporated into
ある実施形態では、モルホリノは、オリゴマーの5’末端または3’末端で「テール」部分とコンジュゲートしてその安定性および/または溶解性を上げている。例示的なテールとしては、
が挙げられる。
In certain embodiments, morpholino is conjugated to a "tail" moiety at the 5 'or 3' end of the oligomer to increase its stability and / or solubility. As an exemplary tail,
Can be mentioned.
用語「EG3テール」は、例えば、その3’末端または5’末端でオリゴマーにコンジュゲートしたトリエチレングリコール部分を指す。例えば、いくつかの実施形態では、オリゴマーの3’末端にコンジュゲートした「EG3テール」は、構造:
のものであり得る。
The term "EG3 tail" refers to, for example, a triethylene glycol moiety conjugated to the oligomer at its 3 'or 5' end. For example, in some embodiments, the "EG3 tail" conjugated to the 3 'end of the oligomer has the structure:
It can be
用語「約(about)」または「およそ(approximately)」は、関連する対象領域の有識者によって一般に理解されるが、ある状況では、所与の値または範囲の±10%以内または±5%以内を意味し得る。 The terms "about" or "approximately" are generally understood by those of skill in the relevant subject area, but in certain circumstances within ± 10% or ± 5% of a given value or range It can mean.
モルホリノオリゴマーを調製するためのプロセス
合成は一般に、本明細書に記載されているように、支持媒体上で実施される。一般に、第1のシントン(例えば、モルホリノサブユニットのようなモノマー)をまず支持媒体に付着させ、その後、支持体に結合したシントンにサブユニットを連続的にカップリングすることによってオリゴマーを合成する。この反復伸長は、最終的に最終オリゴマー化合物をもたらす。好適な支持媒体は、可溶性もしくは不溶性であり得、または成長している支持体結合ポリマーが、所望のように溶液中もしくは溶液外のいずれかに存在できるように、異なる溶媒中で変化する溶解度を有してもよい。伝統的な支持媒体は大部分が不溶性であり、オリゴマーが目標の長さに達するまで、試薬および溶媒が成長鎖と反応および/または成長鎖を洗浄し、その後、このオリゴマーが支持体から切断され、必要に応じてさらに加工されて最終ポリマー化合物が生成される間、常に反応容器中に置かれる。より最近のアプローチは、可溶性ポリマー支持体を含む可溶性支持体を導入し、反復合成された生成物を合成の所望の点で沈殿および溶解させることができる(Gravert et al., Chem. Rev.,1997,97,489−510)。
Process for Preparing Morpholino Oligomers The synthesis is generally carried out on a support medium as described herein. Generally, an oligomer is synthesized by first attaching a first synthon (eg, a monomer such as a morpholino subunit) to a support medium and then sequentially coupling the subunits to a support bound synthon. This repeated extension ultimately leads to the final oligomeric compound. Suitable support media may be soluble or insoluble, or varying solubilities in different solvents so that the growing support binding polymer can be either in solution or out of solution as desired. You may have. The traditional support medium is mostly insoluble and reagents and solvents react with the growing chains and / or wash the growing chains until the oligomers reach the target length, after which the oligomers are cleaved from the support It is always placed in the reaction vessel while being further processed as needed to form the final polymer compound. A more recent approach is to introduce a soluble support comprising a soluble polymer support and allow the repeatedly synthesized product to precipitate and dissolve at the desired point of synthesis (Gravert et al., Chem. Rev., 1997, 97, 489-510).
モルホリノオリゴマーを調製するためのプロセスが本明細書に提供される)。 Processes for preparing morpholino oligomers are provided herein).
したがって、一態様では、式(II):
(式中、R1は支持媒体である)の化合物を調製するためのプロセスが本明細書に提供され、
プロセスは、式(A1):
(式中、R1は支持媒体であり、R3はトリチル、モノメトキシトリチル、ジメトキシトリチルおよびトリメトキシトリチルからなる群から選択される)の化合物を脱ブロッキング剤と接触させて式(II)の化合物を形成することを含む。
Thus, in one aspect, Formula (II):
Provided herein are processes for preparing a compound of the formula: wherein R 1 is a supporting medium.
The process is given by equation (A1):
A compound of the formula (II) is prepared by contacting a compound of the formula (II), wherein R 1 is a supporting medium and R 3 is selected from the group consisting of trityl, monomethoxytrityl, dimethoxytrityl and trimethoxytrityl. Including forming a compound.
別の態様では、式(A3):
(式中、R1は支持媒体であり、R3はトリチル、モノメトキシトリチル、ジメトキシトリチルおよびトリメトキシトリチルからなる群から選択される)の化合物を調製するためのプロセスが本明細書に提供され、
プロセスは、式(II):
(式中、R1は支持媒体である)の化合物を式(A2):
(式中、R3はトリチル、モノメトキシトリチル、ジメトキシトリチルおよびトリメトキシトリチルからなる群から選択される)の化合物と接触させて式(A3)の化合物を形成することを含む。
In another aspect, Formula (A3):
Provided herein is a process for preparing a compound of the formula wherein R 1 is a supporting medium and R 3 is selected from the group consisting of trityl, monomethoxytrityl, dimethoxytrityl and trimethoxytrityl. ,
The process is shown in Formula (II):
(In the formula, R 1 denotes a support medium) with a compound of formula (A2):
Contacting with a compound of the formula (wherein R 3 is selected from the group consisting of trityl, monomethoxytrityl, dimethoxytrityl and trimethoxytrityl) to form a compound of formula (A3).
さらに別の態様では、式(IV):
(式中、R1は支持媒体である)の化合物を調製するためのプロセスが本明細書に提供され、
プロセスは、式(A3):
(式中、R1は支持媒体であり、R3はトリチル、モノメトキシトリチル、ジメトキシトリチルおよびトリメトキシトリチルからなる群から選択される)の化合物を脱ブロッキング剤と接触させて式(IV)の化合物を形成することを含む。
In still another aspect, Formula (IV):
Provided herein are processes for preparing a compound of the formula: wherein R 1 is a supporting medium.
The process is given by equation (A3):
A compound of the formula (IV) is contacted with a compound of the formula (IV), wherein R 1 is a supporting medium and R 3 is selected from the group consisting of trityl, monomethoxytrityl, dimethoxytrityl and trimethoxytrityl. Including forming a compound.
さらに別の態様では、式(A5):
(式中、R1は支持媒体であり、R3はトリチル、モノメトキシトリチル、ジメトキシトリチルおよびトリメトキシトリチルからなる群から選択され、R4は以下:
からなる群から選択される)の化合物を調製するためのプロセスが本明細書に提供され、
プロセスは、式(IV):
(式中、R1は支持媒体である)の化合物を式(A4):
(式中、R3はトリチル、モノメトキシトリチル、ジメトキシトリチルおよびトリメトキシトリチルからなる群から選択され、R4は以下:
からなる群から選択される)の化合物と接触させて式(A5)の化合物を形成することを含む。
In yet another aspect, Formula (A5):
Wherein R 1 is a support medium, R 3 is selected from the group consisting of trityl, monomethoxytrityl, dimethoxytrityl and trimethoxytrityl, and R 4 is
Provided herein are processes for preparing a compound of the group consisting of
The process is represented by formula (IV):
(In the formula, R 1 denotes a support medium) with a compound of formula (A4):
Wherein R 3 is selected from the group consisting of trityl, monomethoxytrityl, dimethoxytrityl and trimethoxytrityl, and R 4 is
Contacting a compound of the formula (A5) with a compound of the formula (A5) selected from the group consisting of
別の態様では、式(A9):
(式中、nは10〜40の整数であり、R1は支持媒体であり、R3はトリチル、モノメトキシトリチル、ジメトキシトリチルおよびトリメトキシトリチルからなる群から選択され、R4は、各出現について独立して、以下:
からなる群から選択される)の化合物を調製するためのプロセスが本明細書に提供され、
プロセスは、
(a)式(IV):
(式中、R1は支持媒体である)の化合物を式(A4):
(式中、R3はトリチル、モノメトキシトリチル、ジメトキシトリチルおよびトリメトキシトリチルからなる群から選択され、R4は以下:
からなる群から選択される)の化合物と接触させて式(A5):
(式中、R1は支持媒体であり、R3はトリチル、モノメトキシトリチル、ジメトキシトリチルおよびトリメトキシトリチルからなる群から選択され、R4は以下:
からなる群から選択される)の化合物を形成するステップ、ならびに
(b)以下の連続したステップのn−1回の反復を実施するステップであって、
(b1)直前のステップによって形成された生成物を脱ブロッキング剤と接触させるステップ、および
(b2)直前のステップによって形成された化合物を式(A8):
(式中、R3はトリチル、モノメトキシトリチル、ジメトキシトリチルおよびトリメトキシトリチルからなる群から選択され、R4は、以下:
からなる群から選択される)の化合物と接触させて式(A9)の化合物を形成するステップ
の連続したステップのn−1回の反復を実施するステップ
の連続したステップを含む。
In another aspect, Formula (A9):
(Wherein n is an integer of 10 to 40, R 1 is a supporting medium, R 3 is selected from the group consisting of trityl, monomethoxytrityl, dimethoxytrityl and trimethoxytrityl, and R 4 is each occurrence About independently, below:
Provided herein are processes for preparing a compound of the group consisting of
The process,
(A) Formula (IV):
(In the formula, R 1 denotes a support medium) with a compound of formula (A4):
Wherein R 3 is selected from the group consisting of trityl, monomethoxytrityl, dimethoxytrityl and trimethoxytrityl, and R 4 is
In contact with a compound of the formula (A5):
Wherein R 1 is a support medium, R 3 is selected from the group consisting of trityl, monomethoxytrityl, dimethoxytrityl and trimethoxytrityl, and R 4 is
And b) performing n-1 iterations of the following consecutive steps:
(B1) contacting the product formed by the immediately preceding step with a deblocking agent, and (b2) forming the compound formed by the immediately preceding step into a compound of the formula (A8):
Wherein R 3 is selected from the group consisting of trityl, monomethoxytrityl, dimethoxytrityl and trimethoxytrityl, and R 4 is
And C.) contacting the compound of the formula (A9) to form a compound of the formula (A9), and performing the successive steps n-1 repetitions of the successive steps.
さらに別の態様では、式(A10):
(式中、nは10〜40の整数であり、R1は支持媒体であり、R4は、各出現について独立して、以下:
からなる群から選択される)の化合物を調製するためのプロセスが本明細書に提供され、
プロセスは、式(A9):
(式中、nは10〜40の整数であり、R1は支持媒体であり、R3はトリチル、モノメトキシトリチル、ジメトキシトリチルおよびトリメトキシトリチルからなる群から選択され、R4は、各出現について独立して、以下:
からなる群から選択される)の化合物を脱ブロッキング剤と接触させて式(A10)の化合物を形成することを含む。
In still another aspect, Formula (A10):
Where n is an integer from 10 to 40, R 1 is a support medium, R 4 is independently for each occurrence:
Provided herein are processes for preparing a compound of the group consisting of
The process is described by equation (A9):
(Wherein n is an integer of 10 to 40, R 1 is a supporting medium, R 3 is selected from the group consisting of trityl, monomethoxytrityl, dimethoxytrityl and trimethoxytrityl, and R 4 is each occurrence About independently, below:
Contacting a compound of the formula (A10) with a deblocking agent to form a compound of formula (A10).
さらに別の態様では、式(A11):
(式中、nは10〜40の整数であり、R4は、各出現について独立して、以下:
からなる群から選択される)の化合物を調製するためのプロセスが本明細書に提供され、
プロセスは、式(A10):
(式中、nは10〜40の整数であり、R1は支持媒体であり、R4は、各出現について独立して、以下:
からなる群から選択される)の化合物を切断剤と接触させて式(A11)の化合物を形成することを含む。
In still another aspect, Formula (A11):
(Wherein n is an integer from 10 to 40 and R 4 is independently for each occurrence:
Provided herein are processes for preparing a compound of the group consisting of
The process is given by equation (A10):
Where n is an integer from 10 to 40, R 1 is a support medium, R 4 is independently for each occurrence:
Contacting a compound of the formula (A11) with a cleaving agent to form a compound of formula (A11).
別の態様では、式(A):
(式中、nは10〜40の整数であり、各R2は、各出現について独立して、以下:
からなる群から選択される)のオリゴマー化合物を調製するためのプロセスが本明細書に提供され、
プロセスは、式(A11):
(式中、nは10〜40の整数であり、R4は、各出現について独立して、以下:
からなる群から選択される)の化合物を脱保護剤と接触させて式(A)のオリゴマー化合物を形成することを含む。
In another aspect, Formula (A):
(Wherein n is an integer from 10 to 40 and each R 2 is independently for each occurrence:
Provided herein is a process for preparing an oligomeric compound selected from the group consisting of
The process is given by equation (A11):
(Wherein n is an integer from 10 to 40 and R 4 is independently for each occurrence:
Contacting the compound of the formula (A) with a deprotecting agent to form an oligomeric compound of formula (A).
別の態様では、式(A):
(式中、nは10〜40の整数であり、各R2は、各出現について独立して、以下:
からなる群から選択される)のオリゴマー化合物を調製するためのプロセスが本明細書に提供され、プロセスは、
(a)式(A1):
(式中、R1は支持媒体であり、R3はトリチル、モノメトキシトリチル、ジメトキシトリチルおよびトリメトキシトリチルからなる群から選択される)の化合物を脱ブロッキング剤と接触させて式(II):
(式中、R1は支持媒体である)の化合物を形成するステップ;
(b)式(II)の化合物を式(A2):
(式中、R3はトリチル、モノメトキシトリチル、ジメトキシトリチルおよびトリメトキシトリチルからなる群から選択される)の化合物と接触させて式(A3):
(式中、R1は支持媒体であり、R3はトリチル、モノメトキシトリチル、ジメトキシトリチルおよびトリメトキシトリチルからなる群から選択される)の化合物を形成するステップ;
(c)式(A3)の化合物を脱ブロッキング剤と接触させて式(IV):
(式中、R1は支持媒体である)の化合物を形成するステップ;
(d)式(IV)の化合物を式(A4):
(式中、R3はトリチル、モノメトキシトリチル、ジメトキシトリチルおよびトリメトキシトリチルからなる群から選択され、R4は以下:
からなる群から選択される)の化合物と接触させて式(A5):
(式中、R1は支持媒体であり、R3はトリチル、モノメトキシトリチル、ジメトキシトリチルおよびトリメトキシトリチルからなる群から選択され、R4は以下:
からなる群から選択される)の化合物を形成するステップ;
(e)以下の連続したステップのn−1回の反復を実施するステップであって、
(e1)直前のステップによって形成された生成物を脱ブロッキング剤と接触させるステップ、および
(e2)直前のステップによって形成された化合物を式(A8):
(式中、R3はトリチル、モノメトキシトリチル、ジメトキシトリチルおよびトリメトキシトリチルからなる群から選択され、R4は、式(A8)の各化合物について独立して、以下:
からなる群から選択される)の化合物と接触させて式(A9):
(式中、nは10〜40の整数であり、R1は支持媒体であり、R3はトリチル、モノメトキシトリチル、ジメトキシトリチルおよびトリメトキシトリチルからなる群から選択され、R4は、各出現について独立して、以下:
からなる群から選択される)の化合物を形成するステップ
の連続したステップのn−1回の反復を実施するステップ;ならびに
(f)式(A9)の化合物を脱ブロッキング剤と接触させて式(A10):
(式中、nは10〜40の整数であり、R1は支持媒体であり、R4は、各出現について独立して、以下:
からなる群から選択される)の化合物を形成するステップ;
(g)式(A10)の化合物を切断剤と接触させて式(A11):
(式中、nは10〜40の整数であり、R4は、各出現について独立して、以下:
からなる群から選択される)の化合物を形成するステップ;ならびに
(h)式(A11)の化合物を脱保護剤と接触させて式(A)のオリゴマー化合物を形成するステップ
の連続したステップを含む。
In another aspect, Formula (A):
(Wherein n is an integer from 10 to 40 and each R 2 is independently for each occurrence:
Provided herein a process for preparing an oligomeric compound selected from the group consisting of
(A) Formula (A1):
A compound of the formula (II) is contacted with a compound of the formula (II) wherein R 1 is a supporting medium and R 3 is selected from the group consisting of trityl, monomethoxytrityl, dimethoxytrityl and trimethoxytrityl.
Forming a compound of the formula: wherein R 1 is a support medium;
(B) a compound of formula (II)
(Wherein R 3 is selected from the group consisting of trityl, monomethoxytrityl, dimethoxytrityl and trimethoxytrityl) and contacted with a compound of the formula (A3):
Forming a compound of the formula wherein R 1 is a support medium and R 3 is selected from the group consisting of trityl, monomethoxytrityl, dimethoxytrityl and trimethoxytrityl;
(C) contacting a compound of formula (A3) with a deblocking agent to form a compound of formula (IV):
Forming a compound of the formula: wherein R 1 is a support medium;
(D) The compound of the formula (IV) is a compound of the formula (A4):
Wherein R 3 is selected from the group consisting of trityl, monomethoxytrityl, dimethoxytrityl and trimethoxytrityl, and R 4 is
In contact with a compound of the formula (A5):
Wherein R 1 is a support medium, R 3 is selected from the group consisting of trityl, monomethoxytrityl, dimethoxytrityl and trimethoxytrityl, and R 4 is
Forming a compound selected from the group consisting of
(E) performing n-1 iterations of the following successive steps:
(E1) contacting the product formed by the immediately preceding step with a deblocking agent, and (e2) forming the compound formed by the immediately preceding step into a compound of the formula (A8):
Wherein R 3 is selected from the group consisting of trityl, monomethoxytrityl, dimethoxytrityl and trimethoxytrityl, R 4 is independently for each compound of formula (A8):
In contact with a compound of the formula (A9):
(Wherein n is an integer of 10 to 40, R 1 is a supporting medium, R 3 is selected from the group consisting of trityl, monomethoxytrityl, dimethoxytrityl and trimethoxytrityl, and R 4 is each occurrence About independently, below:
Performing n-1 repetitions of successive steps of forming a compound of the group consisting of; and (f) contacting the compound of the formula (A9) with a deblocking agent to form the formula A10):
Where n is an integer from 10 to 40, R 1 is a support medium, R 4 is independently for each occurrence:
Forming a compound selected from the group consisting of
(G) contacting a compound of formula (A10) with a cleaving agent to form a compound of formula (A11):
(Wherein n is an integer from 10 to 40 and R 4 is independently for each occurrence:
And (h) contacting the compound of formula (A11) with a deprotecting agent to form the oligomeric compound of formula (A). .
一実施形態では、ステップ(d)またはステップ(e2)は、それぞれ式(IV)の化合物または直前のステップによって形成された化合物を、キャッピング剤と接触させることをさらに含む。 In one embodiment, step (d) or step (e2) further comprises contacting the compound of formula (IV) or the compound formed by the immediately preceding step with a capping agent, respectively.
別の実施形態では、各ステップは少なくとも1つの溶媒の存在下で実施される。 In another embodiment, each step is performed in the presence of at least one solvent.
さらに別の実施形態では、各ステップで使用される脱ブロッキング剤は、ハロゲン化酸を含む溶液である。 In yet another embodiment, the deblocking agent used in each step is a solution comprising a halogenated acid.
さらに別の実施形態では、各ステップで使用される脱ブロッキング剤は、シアノ酢酸である。 In yet another embodiment, the deblocking agent used in each step is cyanoacetic acid.
別の実施形態では、ハロゲン化酸は、クロロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、フルオロ酢酸、ジフルオロ酢酸、およびトリフルオロ酢酸からなる群から選択される。 In another embodiment, the halogenated acid is selected from the group consisting of chloroacetic acid, dichloroacetic acid, trichloroacetic acid, fluoroacetic acid, difluoroacetic acid, and trifluoroacetic acid.
別の実施形態では、ハロゲン化酸は、トリフルオロ酢酸である。 In another embodiment, the halogenated acid is trifluoroacetic acid.
さらに別の実施形態では、ステップ(a)、(c)、(e1)および(f)の少なくとも1つは、各ステップの脱ブロックされた化合物を中和剤と接触させるステップをさらに含む。 In yet another embodiment, at least one of steps (a), (c), (e1) and (f) further comprises contacting the deblocked compound of each step with a neutralizing agent.
さらに別の実施形態では、ステップ(a)、(c)、(e1)および(f)の各々は、各ステップの脱ブロックされた化合物を中和剤と接触させるステップをさらに含む。 In yet another embodiment, each of steps (a), (c), (e1) and (f) further comprises the step of contacting the deblocked compound of each step with a neutralizing agent.
別の実施形態では、中和剤はジクロロメタンおよびイソプロピルアルコールを含む溶液中に存在する。 In another embodiment, the neutralizing agent is present in a solution comprising dichloromethane and isopropyl alcohol.
さらに別の実施形態では、中和剤はモノアルキル、ジアルキル、またはトリアルキルアミンである。 In yet another embodiment, the neutralizing agent is a monoalkyl, dialkyl or trialkylamine.
さらに別の実施形態では、中和剤はN,N−ジイソプロピルエチルアミンである。 In yet another embodiment, the neutralizing agent is N, N-diisopropylethylamine.
別の実施形態では、各ステップで使用される脱ブロッキング剤は、4−シアノピリジン、ジクロロメタン、トリフルオロ酢酸、トリフルオロエタノール、および水を含む溶液である。 In another embodiment, the deblocking agent used in each step is a solution comprising 4-cyanopyridine, dichloromethane, trifluoroacetic acid, trifluoroethanol, and water.
さらに別の実施形態では、キャッピング剤は、エチルモルホリンおよびメチルピロリジノンを含む溶液中に存在する。 In yet another embodiment, the capping agent is present in a solution comprising ethyl morpholine and methyl pyrrolidinone.
さらに別の実施形態では、キャッピング剤は酸無水物である。 In yet another embodiment, the capping agent is an acid anhydride.
別の実施形態では、酸無水物は無水安息香酸である。 In another embodiment, the acid anhydride is benzoic anhydride.
別の実施形態では、式(A4)および式(A8)の化合物は、各々独立して、エチルモルホリンおよびジメチルイミダゾリジノンを含む溶液中に存在する。 In another embodiment, the compounds of Formula (A4) and Formula (A8) are each independently present in a solution comprising ethyl morpholine and dimethyl imidazolidinone.
別の実施形態では、切断剤は、ジチオトレイトールおよび1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エンを含む。 In another embodiment, the cleaving agent comprises dithiothreitol and 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7-ene.
さらに別の実施形態では、切断剤は、N−メチル−2−ピロリドンを含む溶液中に存在する。 In yet another embodiment, the cleaving agent is present in a solution comprising N-methyl-2-pyrrolidone.
さらに別の実施形態では、脱保護剤はNH3を含む。 In yet another embodiment, the deprotection agent comprises NH 3.
さらに別の実施形態では、脱保護剤は水溶液中に存在する。 In yet another embodiment, the deprotecting agent is present in an aqueous solution.
さらに別の実施形態では、支持媒体は、1%ジビニルベンゼン架橋ポリスチレンを含む。 In yet another embodiment, the support medium comprises 1% divinyl benzene crosslinked polystyrene.
別の実施形態では、式(A4)の化合物は式(A4a):
の化合物であり、式中、
R3はトリチル、モノメトキシトリチル、ジメトキシトリチルおよびトリメトキシトリチルからなる群から選択され、
R4は、以下:
から選択される。
In another embodiment, the compound of formula (A4) is a compound of formula (A4a):
Compounds of the formula
R 3 is selected from the group consisting of trityl, monomethoxytrityl, dimethoxytrityl and trimethoxytrityl,
R 4 has the following:
It is selected from
別の実施形態では、式(A5)の化合物は式(A5a):
の化合物であり、式中、
R1は支持媒体であり、
R3はトリチル、モノメトキシトリチル、ジメトキシトリチルおよびトリメトキシトリチルからなる群から選択され、
R4は、以下:
から選択される。
In another embodiment, the compound of formula (A5) is a compound of formula (A5a):
Compounds of the formula
R 1 is a support medium,
R 3 is selected from the group consisting of trityl, monomethoxytrityl, dimethoxytrityl and trimethoxytrityl,
R 4 has the following:
It is selected from
さらに別の実施形態では、式(A8)の化合物は式(A8a):
の化合物であり、式中、
R3はトリチル、モノメトキシトリチル、ジメトキシトリチルおよびトリメトキシトリチルからなる群から選択され、
R4は、式(A8a)の化合物の各出現で独立して、以下:
からなる群から選択される。
In yet another embodiment, the compound of formula (A8) is a compound of formula (A8a):
Compounds of the formula
R 3 is selected from the group consisting of trityl, monomethoxytrityl, dimethoxytrityl and trimethoxytrityl,
R 4 is independently at each occurrence of a compound of formula (A8a):
It is selected from the group consisting of
さらに別の実施形態では、式(A9)の化合物は式(A9a):
の化合物であり、式中、
nは10〜40の整数であり、
R1は支持媒体であり、
R3はトリチル、モノメトキシトリチル、ジメトキシトリチルおよびトリメトキシトリチルからなる群から選択され、
R4は、各出現について独立して、以下:
からなる群から選択される。
In yet another embodiment, the compound of formula (A9) is a compound of formula (A9a):
Compounds of the formula
n is an integer of 10 to 40,
R 1 is a support medium,
R 3 is selected from the group consisting of trityl, monomethoxytrityl, dimethoxytrityl and trimethoxytrityl,
R 4 is independently for each occurrence:
It is selected from the group consisting of
別の実施形態では、式(A10)の化合物は式(A10a):
の化合物であり、式中、
nは10〜40の整数であり、
R1は支持媒体であり、
R4は、各出現について独立して、以下:
からなる群から選択される。
In another embodiment, the compound of formula (A10) is a compound of formula (A10a):
Compounds of the formula
n is an integer of 10 to 40,
R 1 is a support medium,
R 4 is independently for each occurrence:
It is selected from the group consisting of
別の実施形態では、式(A11)の化合物は式(A11a):
の化合物であり、式中、
nは10〜40の整数であり、
R4は、各出現について独立して、以下:
からなる群から選択される。
In another embodiment, the compound of formula (A11) is a compound of formula (A11a):
Compounds of the formula
n is an integer of 10 to 40,
R 4 is independently for each occurrence:
It is selected from the group consisting of
式(A)のオリゴマー化合物の実施形態では、nは22であり、R2は5’から3’へ向かって1〜22の各位置で以下:
であり、
式(A)のオリゴマー化合物は式(C):
の化合物、またはその医薬的に許容される塩である。
In the embodiment of the oligomeric compound of formula (A), n is 22 and R 2 is 5 'to 3' at each of positions 1 to 22:
And
The oligomeric compounds of formula (A) have the formula (C):
Or a pharmaceutically acceptable salt thereof.
「Casimersen」は、以前はそのコード名「SPR−4045」で知られており、5’−CAATGCCATCCTGGAGTTCCTG−3’(配列番号1)の塩基配列を有するPMOである。Casimersenは、CAS登録番号1422958−19−7で登録されている。化学名としては、all−P−ambo−[P,2’,3’−トリデオキシ−P−(ジメチルアミノ)−2’,3’−イミノ−2’,3’−セコ](2’a→5’)(C−A−A−T−G−C−C−A−T−C−C−T−G−G−A−G−T−T−C−C−T−G) 5’−[4−({2−[2−(2−ヒドロキシエトキシ)エトキシ]エトキシ}カルボニル)−N,N−ジメチルピペラジン−1−ホスホンアミダート]が挙げられる。 "Casimersen", previously known under its code name "SPR-4045", is a PMO having the base sequence of 5'-CAATGCCATCCTGAGTTCCTG-3 '(SEQ ID NO: 1). Casimersen is registered under CAS Registry Number 1422958-19-7. As the chemical name, all-P-ambo- [P, 2 ', 3'-trideoxy-P- (dimethylamino) -2', 3'-imino-2 ', 3'-seco] (2'a → 5 ') (C-A-A-T-G-C-C-A-T-C-C-T-G-G-A-G-T-C-C-T-G) 5' -[4-({2- [2- (2-hydroxyethoxy) ethoxy] ethoxy} carbonyl) -N, N-dimethylpiperazine-1-phosphonamidate] can be mentioned.
Casimersenは以下の化学構造:
を有し、以下の化学構造:
によっても表される。
Casimersen has the following chemical structure:
Has the following chemical structure:
Is also represented by
Casimersenは式(XII):
の構造によっても表され得る。
Casimersen has the formula (XII):
Can also be represented by the structure of
したがって、上記のプロセスの一実施形態では、式(A)のオリゴマー化合物は式(C):
の化合物、またはその医薬的に許容される塩である。
Thus, in one embodiment of the above process, the oligomeric compounds of formula (A) have the formula (C):
Or a pharmaceutically acceptable salt thereof.
さらに別の実施形態では、式(C)のオリゴマー化合物は式(XII):
のオリゴマー化合物、またはその医薬的に許容される塩である。
In yet another embodiment, the oligomeric compound of Formula (C) is a compound of Formula (XII):
Or oligomeric compounds thereof, or pharmaceutically acceptable salts thereof.
Casimersenを調製するためのプロセス
Casimersenを調製するためのプロセスが本明細書に提供される。
Process for Preparing Casimersen A process for preparing Casimersen is provided herein.
別の態様では、式(C):
のオリゴマー化合物を調製するためのプロセスが本明細書に提供され、
プロセスは、
(a)式(I):
(式中、R1は支持媒体である)の化合物を脱ブロッキング剤と接触させて式(II):
(式中、R1は支持媒体である)の化合物を形成するステップ;
(b)式(II)の化合物を化合物(B):
と接触させて式(III):
(式中、R1は支持媒体である)の化合物を形成するステップ;
(c)式(III)の化合物を脱ブロッキング剤と接触させて式(IV):
(式中、R1は支持媒体である)の化合物を形成するステップ;
(d)式(IV)の化合物を式(D):
の化合物と接触させて式(V):
(式中、R1は支持媒体である)の化合物を形成するステップ;
(e)式(V)の化合物を脱ブロッキング剤と接触させて式(VI):
(式中、R1は支持媒体である)の化合物を形成するステップ;
(f)式(VI)の化合物を式(F):
の化合物と接触させて式(VII):
(式中、R1は支持媒体である)の化合物を形成するステップ;
(g)以下の連続したステップの20回の反復を実施するステップであって、
(g1)直前のステップによって形成された生成物を脱ブロッキング剤と接触させるステップ、および
(g2)直前のステップによって形成された化合物を式(VIII):
(式中、R2は、式(VIII)の各化合物について独立して、以下:
からなる群から選択され、各反復1〜20について、R2は、以下:
である)の化合物と接触させて式(IX):
(式中、
R1は支持媒体であり、
R2は、各出現について独立して、以下:
からなる群から選択され、
R2は5’から3’へ向かって1〜22の各位置で以下:
である)の化合物を形成するステップ
の連続したステップの20回の反復を実施するステップ;
(h)式(IX)の化合物を脱ブロッキング剤と接触させて式(X):
(式中、
R1は支持媒体であり、
R2は、各出現について独立して、以下:
からなる群から選択され、
R2は5’から3’へ向かって1〜22の各位置で以下:
である)の化合物を形成するステップ;
(i)式(X)の化合物を切断剤と接触させて式(XI):
(式中、R2は、各出現について独立して、以下:
からなる群から選択され、
R2は5’から3’へ向かって1〜22の各位置で以下:
である)の化合物を形成するステップ;ならびに
(j)式(XI)の化合物を脱保護剤と接触させて式(C)のオリゴマー化合物を形成するステップ
の連続したステップを含む。
In another aspect, Formula (C):
Provided herein is a process for preparing an oligomeric compound of
The process,
(A) Formula (I):
A compound of the formula (II) in which R 1 is a supporting medium is contacted with a deblocking agent:
Forming a compound of the formula: wherein R 1 is a support medium;
(B) a compound of formula (II):
In contact with the compound of formula (III):
Forming a compound of the formula: wherein R 1 is a support medium;
(C) contacting a compound of formula (III) with a deblocking agent to form a compound of formula (IV):
Forming a compound of the formula: wherein R 1 is a support medium;
(D) a compound of formula (IV)
In contact with a compound of formula (V):
Forming a compound of the formula: wherein R 1 is a support medium;
(E) contacting a compound of formula (V) with a deblocking agent to form a compound of formula (VI):
Forming a compound of the formula: wherein R 1 is a support medium;
(F) a compound of formula (VI):
In contact with a compound of formula (VII):
Forming a compound of the formula: wherein R 1 is a support medium;
(G) performing 20 iterations of the following successive steps:
(G1) contacting the product formed by the immediately preceding step with a deblocking agent, and (g2) the compound formed by the immediately preceding step being a compound of formula (VIII):
(Wherein R 2 is independently for each compound of formula (VIII)
Are selected from the group consisting of and for each iteration 1 to 20, R 2 is
In contact with the compound of formula (IX):
(In the formula,
R 1 is a support medium,
R 2 is independently for each occurrence:
Selected from the group consisting of
R 2 is as follows at each position 1 to 22 from 5 'to 3':
Performing 20 repetitions of successive steps of forming a compound of
(H) contacting a compound of formula (IX) with a deblocking agent to form a compound of formula (X):
(In the formula,
R 1 is a support medium,
R 2 is independently for each occurrence:
Selected from the group consisting of
R 2 is as follows at each position 1 to 22 from 5 'to 3':
Forming a compound of
(I) contacting a compound of formula (X) with a cleaving agent to form a compound of formula (XI):
(Wherein R 2 is independently for each occurrence:
Selected from the group consisting of
R 2 is as follows at each position 1 to 22 from 5 'to 3':
And (j) contacting the compound of formula (XI) with a deprotecting agent to form an oligomeric compound of formula (C).
一実施形態では、ステップ(d)、ステップ(f)、ステップ(g2)またはそれらの組み合わせは、それぞれ式(IV)の化合物、式(VI)の化合物または直前のステップによって形成された化合物を、キャッピング剤と接触させることをさらに含む。 In one embodiment, step (d), step (f), step (g2) or a combination thereof is respectively a compound of formula (IV), a compound of formula (VI) or a compound formed by the immediately preceding step Further comprising contacting with a capping agent.
ある実施形態では、ステップ(d)、ステップ(f)、ステップ(g2)の各々は、それぞれ式(IV)の化合物、式(VI)の化合物または直前のステップによって形成された化合物を、キャッピング剤と接触させることをさらに含む。 In certain embodiments, each of step (d), step (f), and step (g2) comprises capping a compound of formula (IV), a compound of formula (VI) or a compound formed by the immediately preceding step, respectively. Further including contacting with.
別の実施形態では、各ステップは少なくとも1つの溶媒の存在下で実施される。 In another embodiment, each step is performed in the presence of at least one solvent.
さらに別の実施形態では、各ステップで使用される脱ブロッキング剤は、ハロゲン化酸を含む溶液である。 In yet another embodiment, the deblocking agent used in each step is a solution comprising a halogenated acid.
さらに別の実施形態では、各ステップで使用される脱ブロッキング剤は、シアノ酢酸である。 In yet another embodiment, the deblocking agent used in each step is cyanoacetic acid.
別の実施形態では、ハロゲン化酸は、クロロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、フルオロ酢酸、ジフルオロ酢酸、およびトリフルオロ酢酸からなる群から選択される。 In another embodiment, the halogenated acid is selected from the group consisting of chloroacetic acid, dichloroacetic acid, trichloroacetic acid, fluoroacetic acid, difluoroacetic acid, and trifluoroacetic acid.
さらに別の実施形態では、ハロゲン化酸は、トリフルオロ酢酸である。 In yet another embodiment, the halogenated acid is trifluoroacetic acid.
さらに別の実施形態では、ステップ(c)、(e)および(g1)の少なくとも1つは、各ステップの脱ブロックされた化合物を中和剤と接触させるステップをさらに含む。 In yet another embodiment, at least one of steps (c), (e) and (g1) further comprises contacting the deblocked compound of each step with a neutralizing agent.
別の実施形態では、ステップ(c)、(e)および(g1)の各々は、各ステップの脱ブロックされた化合物を中和剤と接触させるステップをさらに含む。 In another embodiment, each of steps (c), (e) and (g1) further comprises the step of contacting the deblocked compound of each step with a neutralizing agent.
さらに別の実施形態では、中和剤はジクロロメタンおよびイソプロピルアルコールを含む溶液中に存在する。 In yet another embodiment, the neutralizing agent is present in a solution comprising dichloromethane and isopropyl alcohol.
さらに別の実施形態では、中和剤はモノアルキル、ジアルキル、またはトリアルキルアミンである。 In yet another embodiment, the neutralizing agent is a monoalkyl, dialkyl or trialkylamine.
別の実施形態では、中和剤はN,N−ジイソプロピルエチルアミンである。 In another embodiment, the neutralizing agent is N, N-diisopropylethylamine.
さらに別の実施形態では、各ステップで使用される脱ブロッキング剤は、4−シアノピリジン、ジクロロメタン、トリフルオロ酢酸、トリフルオロエタノール、および水を含む溶液である。 In yet another embodiment, the deblocking agent used in each step is a solution comprising 4-cyanopyridine, dichloromethane, trifluoroacetic acid, trifluoroethanol, and water.
さらに別の実施形態では、キャッピング剤は、エチルモルホリンおよびメチルピロリジノンを含む溶液中に存在する。 In yet another embodiment, the capping agent is present in a solution comprising ethyl morpholine and methyl pyrrolidinone.
別の実施形態では、キャッピング剤は酸無水物である。 In another embodiment, the capping agent is an acid anhydride.
さらに別の実施形態では、酸無水物は無水安息香酸である。 In yet another embodiment, the acid anhydride is benzoic anhydride.
さらに別の実施形態では、式(VIII)、式(D)および式(F)の化合物は、各々独立して、エチルモルホリンおよびジメチルイミダゾリジノンを含む溶液中に存在する。 In yet another embodiment, the compounds of Formula (VIII), Formula (D) and Formula (F) are each independently present in a solution comprising ethyl morpholine and dimethyl imidazolidinone.
別の実施形態では、切断剤は、ジチオトレイトールおよび1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エンを含む。 In another embodiment, the cleaving agent comprises dithiothreitol and 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7-ene.
さらに別の実施形態では、切断剤は、N−メチル−2−ピロリドンを含む溶液中に存在する。 In yet another embodiment, the cleaving agent is present in a solution comprising N-methyl-2-pyrrolidone.
さらに別の実施形態では、脱保護剤はNH3を含む。 In yet another embodiment, the deprotection agent comprises NH 3.
別の実施形態では、脱保護剤は水溶液中に存在する。 In another embodiment, the deprotecting agent is present in an aqueous solution.
さらに別の実施形態では、支持媒体は、1%ジビニルベンゼン架橋ポリスチレンを含む。 In yet another embodiment, the support medium comprises 1% divinyl benzene crosslinked polystyrene.
別の実施形態では、式(D)の化合物は式(D1)の化合物である。
別の実施形態では、式(V)の化合物は式(Va):
(式中、R1は支持媒体である)の化合物である。
In another embodiment, the compound of formula (V) is a compound of formula (Va):
Where R 1 is a supporting medium.
別の実施形態では、式(F)の化合物は式(F1)の化合物である。
別の実施形態では、式(VII)の化合物は式(VIIa):
(式中、R1は支持媒体である)の化合物である。
In another embodiment, the compound of formula (VII) is a compound of formula (VIIa):
Where R 1 is a supporting medium.
別の実施形態では、式(VIII)の化合物は式(VIIIa):
(式中、R2は、式(VIIIa)の各化合物について独立して、以下:
からなる群から選択される)の化合物である。
In another embodiment, the compound of formula (VIII) is a compound of formula (VIIIa):
Wherein R 2 is independently for each compound of formula (VIIIa):
Selected from the group consisting of
別の実施形態では、式(IX)の化合物は式(IXa):
の化合物、またはその医薬的に許容される塩であり、式中、
R1は支持媒体であり、
R2は、各出現で独立して、以下:
からなる群から選択され、
R2は5’から3’へ向かって1〜22の各位置で以下:
である。
In another embodiment, the compound of formula (IX) is a compound of formula (IXa):
Or a pharmaceutically acceptable salt thereof, wherein
R 1 is a support medium,
R 2 is independently at each occurrence:
Selected from the group consisting of
R 2 is as follows at each position 1 to 22 from 5 'to 3':
It is.
別の実施形態では、式(X)の化合物は式(Xa):
の化合物、またはその医薬的に許容される塩であり、式中、
R1は支持媒体であり、
R2は、各出現で独立して、以下:
からなる群から選択され、
R2は5’から3’へ向かって1〜22の各位置で以下:
である。
In another embodiment, the compound of formula (X) is a compound of formula (Xa):
Or a pharmaceutically acceptable salt thereof, wherein
R 1 is a support medium,
R 2 is independently at each occurrence:
Selected from the group consisting of
R 2 is as follows at each position 1 to 22 from 5 'to 3':
It is.
別の実施形態では、式(XI)の化合物は式(XIa):
の化合物、またはその医薬的に許容される塩であり、式中、
R2は、各出現で独立して、以下:
からなる群から選択され、
R2は5’から3’へ向かって1〜22の各位置で以下:
である。
In another embodiment, the compound of formula (XI) is a compound of formula (XIa):
Or a pharmaceutically acceptable salt thereof, wherein
R 2 is independently at each occurrence:
Selected from the group consisting of
R 2 is as follows at each position 1 to 22 from 5 'to 3':
It is.
別の実施形態では、式(VI)の化合物は式(VIa):
(式中、R1は支持媒体である)の化合物である。
In another embodiment, the compound of formula (VI) is a compound of formula (VIa):
Where R 1 is a supporting medium.
さらに別の実施形態では、式(C)のオリゴマー化合物は式(XII)のオリゴマー化合物である。
別の態様では、式(V):
の化合物、またはその医薬的に許容される塩が本明細書に提供され、式中、R1は支持媒体である。
In another aspect, Formula (V):
A compound of or a pharmaceutically acceptable salt thereof is provided herein, wherein R 1 is a support medium.
一実施形態では、式(V)の化合物は式(Va):
の化合物、またはその医薬的に許容される塩であり、式中、R1は支持媒体である。
In one embodiment, the compound of formula (V) is a compound of formula (Va):
Or a pharmaceutically acceptable salt thereof, wherein R 1 is a support medium.
別の態様では、式(A5):
の化合物、またはその医薬的に許容される塩が本明細書に提供され、式中、R1は支持媒体であり、R3はトリチル、モノメトキシトリチル、ジメトキシトリチルおよびトリメトキシトリチルからなる群から選択され、R4は以下:
から選択される。
In another aspect, Formula (A5):
A compound of or a pharmaceutically acceptable salt thereof is provided herein, wherein R 1 is a supporting medium, and R 3 is a group consisting of trityl, monomethoxytrityl, dimethoxytrityl and trimethoxytrityl. Selected, R 4 is:
It is selected from
一実施形態では、式(A5)の化合物は式(A5a):
の化合物、またはその医薬的に許容される塩であり、式中、R1は支持媒体であり、R3はトリチル、モノメトキシトリチル、ジメトキシトリチルおよびトリメトキシトリチルからなる群から選択され、R4は以下:
から選択される。
In one embodiment, the compound of formula (A5) is a compound of formula (A5a):
Or a pharmaceutically acceptable salt thereof, wherein R 1 is a supporting medium, R 3 is selected from the group consisting of trityl, monomethoxytrityl, dimethoxytrityl and trimethoxytrityl, R 4 Is below:
It is selected from
別の態様では、式(VI):
の化合物、またはその医薬的に許容される塩が本明細書に提供され、式中、R1は支持媒体である。
In another aspect, Formula (VI):
A compound of or a pharmaceutically acceptable salt thereof is provided herein, wherein R 1 is a support medium.
一実施形態では、式(VI)の化合物は式(VIa):
の化合物、またはその医薬的に許容される塩であり、式中、R1は支持媒体である。
In one embodiment, the compound of formula (VI) is a compound of formula (VIa):
Or a pharmaceutically acceptable salt thereof, wherein R 1 is a support medium.
別の態様では、式(VII):
の化合物、またはその医薬的に許容される塩が本明細書に提供され、式中、R1は支持媒体である。
In another aspect, Formula (VII):
A compound of or a pharmaceutically acceptable salt thereof is provided herein, wherein R 1 is a support medium.
一実施形態では、式(VII)の化合物は式(VIIa):
の化合物、またはその医薬的に許容される塩であり、式中、R1は支持媒体である。
In one embodiment, the compound of formula (VII) is a compound of formula (VIIa):
Or a pharmaceutically acceptable salt thereof, wherein R 1 is a support medium.
別の態様では、式(IX):
の化合物、またはその医薬的に許容される塩が本明細書に提供され、式中、
R1は支持媒体であり、
R2は、各出現で独立して、以下:
からなる群から選択され、
R2は5’から3’へ向かって1〜22の各位置で以下:
である。
In another aspect, Formula (IX):
Provided herein, or a pharmaceutically acceptable salt thereof, wherein
R 1 is a support medium,
R 2 is independently at each occurrence:
Selected from the group consisting of
R 2 is as follows at each position 1 to 22 from 5 'to 3':
It is.
一実施形態では、式(IX)の化合物は式(IXa):
の化合物、またはその医薬的に許容される塩であり、式中、
R1は支持媒体であり、
R2は、各出現で独立して、以下:
からなる群から選択され、
R2は5’から3’へ向かって1〜22の各位置で以下:
である。
In one embodiment, the compound of formula (IX) is a compound of formula (IXa):
Or a pharmaceutically acceptable salt thereof, wherein
R 1 is a support medium,
R 2 is independently at each occurrence:
Selected from the group consisting of
R 2 is as follows at each position 1 to 22 from 5 'to 3':
It is.
別の態様では、式(A9):
の化合物、またはその医薬的に許容される塩が本明細書に提供され、式中、
nは10〜40の整数であり、
R1は支持媒体であり、
R3はトリチル、モノメトキシトリチル、ジメトキシトリチルおよびトリメトキシトリチルからなる群から選択され、
R4は、各出現で独立して、以下:
からなる群から選択される。
In another aspect, Formula (A9):
Provided herein, or a pharmaceutically acceptable salt thereof, wherein
n is an integer of 10 to 40,
R 1 is a support medium,
R 3 is selected from the group consisting of trityl, monomethoxytrityl, dimethoxytrityl and trimethoxytrityl,
R 4 is independently at each occurrence:
It is selected from the group consisting of
一実施形態では、式(A9)の化合物は式(A9a):
の化合物、またはその医薬的に許容される塩であり、式中、
nは10〜40の整数であり、
R1は支持媒体であり、
R3はトリチル、モノメトキシトリチル、ジメトキシトリチルおよびトリメトキシトリチルからなる群から選択され、
R4は、各出現で独立して、以下:
からなる群から選択される。
In one embodiment, the compound of formula (A9) is a compound of formula (A9a):
Or a pharmaceutically acceptable salt thereof, wherein
n is an integer of 10 to 40,
R 1 is a support medium,
R 3 is selected from the group consisting of trityl, monomethoxytrityl, dimethoxytrityl and trimethoxytrityl,
R 4 is independently at each occurrence:
It is selected from the group consisting of
別の態様では、式(X):
の化合物、またはその医薬的に許容される塩が本明細書に提供され、式中、
R1は支持媒体であり、
R2は、各出現で独立して、以下:
からなる群から選択され、
R2は5’から3’へ向かって1〜22の各位置で以下:
である。
In another aspect, Formula (X):
Provided herein, or a pharmaceutically acceptable salt thereof, wherein
R 1 is a support medium,
R 2 is independently at each occurrence:
Selected from the group consisting of
R 2 is as follows at each position 1 to 22 from 5 'to 3':
It is.
一実施形態では、式(X)の化合物は式(Xa):
の化合物、またはその医薬的に許容される塩であり、式中、
R1は支持媒体であり、
R2は、各出現で独立して、以下:
からなる群から選択され、
R2は5’から3’へ向かって1〜22の各位置で以下:
である。
In one embodiment, the compound of formula (X) is a compound of formula (Xa):
Or a pharmaceutically acceptable salt thereof, wherein
R 1 is a support medium,
R 2 is independently at each occurrence:
Selected from the group consisting of
R 2 is as follows at each position 1 to 22 from 5 'to 3':
It is.
別の態様では、式(A10):
の化合物、またはその医薬的に許容される塩が本明細書に提供され、式中、
nは10〜40の整数であり、
R1は支持媒体であり、
R4は、各出現で独立して、以下:
からなる群から選択される。
In another aspect, Formula (A10):
Provided herein, or a pharmaceutically acceptable salt thereof, wherein
n is an integer of 10 to 40,
R 1 is a support medium,
R 4 is independently at each occurrence:
It is selected from the group consisting of
一実施形態では、式(A10)の化合物は式(A10a):
の化合物、またはその医薬的に許容される塩であり、式中、
nは10〜40の整数であり、
R1は支持媒体であり、
R4は、各出現で独立して、以下:
からなる群から選択される。
In one embodiment, the compound of formula (A10) is a compound of formula (A10a):
Or a pharmaceutically acceptable salt thereof, wherein
n is an integer of 10 to 40,
R 1 is a support medium,
R 4 is independently at each occurrence:
It is selected from the group consisting of
これらの化合物の別の実施形態では、支持媒体は、1%ジビニルベンゼン架橋ポリスチレンを含む。 In another embodiment of these compounds, the support medium comprises 1% divinylbenzene crosslinked polystyrene.
別の態様では、式(XI):
の化合物、またはその医薬的に許容される塩が本明細書に提供され、式中、
R2は、各出現で独立して、以下:
からなる群から選択され、
R2は5’から3’へ向かって1〜22の各位置で以下:
である。
In another aspect, Formula (XI):
Provided herein, or a pharmaceutically acceptable salt thereof, wherein
R 2 is independently at each occurrence:
Selected from the group consisting of
R 2 is as follows at each position 1 to 22 from 5 'to 3':
It is.
一実施形態では、式(XI)の化合物は式(XIa):
の化合物、またはその医薬的に許容される塩であり、式中、
R2は、各出現で独立して、以下:
からなる群から選択され、
R2は5’から3’へ向かって1〜22の各位置で以下:
である。
In one embodiment, the compound of formula (XI) is a compound of formula (XIa):
Or a pharmaceutically acceptable salt thereof, wherein
R 2 is independently at each occurrence:
Selected from the group consisting of
R 2 is as follows at each position 1 to 22 from 5 'to 3':
It is.
別の態様では、式(A11):
の化合物、またはその医薬的に許容される塩が本明細書に提供され、式中、
nは10〜40の整数であり、
R4は、各出現で独立して、以下:
からなる群から選択される。
In another aspect, Formula (A11):
Provided herein, or a pharmaceutically acceptable salt thereof, wherein
n is an integer of 10 to 40,
R 4 is independently at each occurrence:
It is selected from the group consisting of
一実施形態では、式(A11)の化合物は式(A11a):
の化合物、またはその医薬的に許容される塩であり、式中、
nは10〜40の整数であり、
R4は、各出現で独立して、以下:
からなる群から選択される。
In one embodiment, the compound of formula (A11) is a compound of formula (A11a):
Or a pharmaceutically acceptable salt thereof, wherein
n is an integer of 10 to 40,
R 4 is independently at each occurrence:
It is selected from the group consisting of
オリゴマー
モルホリノベースのサブユニットの重要な特性としては、1)安定な、非荷電、または正に帯電した骨格連結によってオリゴマー形態で連結する能力;2)形成されたポリマーが標的RNAを含む相補塩基標的核酸とハイブリダイズすることができるようにヌクレオチド塩基(例えば、アデニン、シトシン、グアニン、チミジン、ウラシル、5−メチル−シトシン、およびヒポキサンチン)を支持する能力;3)オリゴマーが哺乳類細胞中に能動的または受動的に輸送される能力;ならびに4)オリゴマーおよびオリゴマー:RNAヘテロ二本鎖のRNAseおよびRNase H分解にそれぞれ耐える能力が挙げられる。
The important properties of the morpholino-based subunits include: 1) the ability to link in an oligomeric form by a stable, uncharged or positively charged backbone linkage; 2) a complementary base target, wherein the formed polymer comprises the target RNA Ability to support nucleotide bases (eg, adenine, cytosine, guanine, thymidine, uracil, 5-methyl-cytosine, and hypoxanthine) to be able to hybridize to nucleic acids; 3) oligomers are active in mammalian cells Or 4) oligomers and oligomers: the ability to withstand RNAse and RNase H degradation of RNA heteroduplexes, respectively.
いくつかの実施形態では、アンチセンスオリゴマーは、塩基修飾または置換を含有する。例えば、本明細書に記載のアンチセンスオリゴマーの結合親和性を増加させるために、特定の核酸塩基が選択されてもよい。5−メチルシトシン置換は、核酸二本鎖の安定性を0.6〜1.2℃上昇させることが示されており、本明細書に記載のアンチセンスオリゴマーに組み込まれてもよい。一実施形態では、オリゴマーの少なくとも1つのピリミジン塩基は、5−置換ピリミジン塩基を含み、ピリミジン塩基は、シトシン、チミンおよびウラシルからなる群から選択される。一実施形態では、5−置換ピリミジン塩基は5−メチルシトシンである。別の実施形態では、オリゴマーの少なくとも1つのプリン塩基は、ヒポキサンチンを含む。 In some embodiments, antisense oligomers contain base modifications or substitutions. For example, specific nucleobases may be selected to increase the binding affinity of the antisense oligomers described herein. 5-methylcytosine substitutions have been shown to increase the stability of nucleic acid duplexes by 0.6-1.2 ° C. and may be incorporated into the antisense oligomers described herein. In one embodiment, at least one pyrimidine base of the oligomer comprises a 5-substituted pyrimidine base, and the pyrimidine base is selected from the group consisting of cytosine, thymine and uracil. In one embodiment, the 5-substituted pyrimidine base is 5-methylcytosine. In another embodiment, at least one purine base of the oligomer comprises hypoxanthine.
モルホリノベースのオリゴマー(アンチセンスオリゴマーを含む)は、例えば、米国特許第5,698,685号、第5,217,866号、第5,142,047号、第5,034,506号、第5,166,315号、第5,185,444号、第5,521,063号、第5,506,337号、第8,299,206号および第8,076,476号、国際特許出願公開WO/2009/064471およびWO/2012/043730、ならびにSummerton et al.(1997、Antisense and Nucleic Acid Drug Development,7,187−195)に詳述されており、これらの各々は、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。 Morpholino-based oligomers (including antisense oligomers) are disclosed, for example, in US Pat. Nos. 5,698,685, 5,217,866, 5,142,047, 5,034,506, No. 5,166,315, 5,185,444, 5,521,063, 5,506,337, 8,299,206 and 8,076,476, international patent applications Publications WO / 2009/064471 and WO / 2012/043730, and Summerton et al. (1997, Antisense and Nucleic Acid Drug Development, 7, 187-195), each of which is incorporated herein by reference in its entirety.
本開示のオリゴマー化合物は、不斉中心、キラル軸、およびキラル面を有してもよく(例えば、E. L. Eliel and S. H. Wilen, Stereo−chemistry of Carbon Compounds, John Wiley & Sons, New York, 1994, pages 1119−1190、およびMarch, J., , Advanced Organic Chemistry, 3d. Ed., Chap. 4, John Wiley & Sons, New York (1985)に記載されているような)、光学異性体を含むすべての可能な異性体およびそれらの混合物に関して、ラセミ体、ラセミ混合物として、および個々のジアステレオマーとして、生じてもよい。その立体化学のいかなる指示もなく本明細書に具体的に述べられた本開示のオリゴマー化合物は、すべての可能な異性体およびそれらの混合物を表すことを意図している。 The oligomeric compounds of the present disclosure may have asymmetric centers, chiral axes, and chiral surfaces (eg, E. L. Eliel and S. H. Wilen, Stereo-chemistry of Carbon Compounds, John Wiley & Sons, As described in New York, 1994, pages 1119-1190 and March, J.,, Advanced Organic Chemistry, 3d. Ed., Chap. 4, John Wiley & Sons, New York (1985)), For all possible isomers, including isomers, and mixtures thereof, they may occur as racemates, racemic mixtures and as individual diastereomers. The oligomeric compounds of the present disclosure specifically mentioned herein without any indication of their stereochemistry are intended to represent all the possible isomers and mixtures thereof.
具体的には、いかなる特定の理論にも縛られることを望むものではないが、本開示のオリゴマー化合物は、本明細書に記載されるように、式(VIII):
の化合物のような非限定的な例などを含む活性化モルホリノサブユニットから調製され、式中、R2は、式(VIII)の各化合物について独立して、以下:
からなる群から選択される。
Specifically, although not wishing to be bound by any particular theory, the oligomeric compounds of the present disclosure, as described herein, may be prepared according to Formula (VIII):
Prepared from activated morpholino subunits including non-limiting examples such as compounds of the formula: wherein R 2 is independently for each compound of formula (VIII):
It is selected from the group consisting of
上述の式(VIII)の化合物の各々は、例えば、以下に示すような対応するベータ−D−リボフラノシルから調製されてもよい。
Summerton et al., Antisense & Nucleic Acid Drug Dev. 7:187−195 (1997)を参照されたい。いかなる特定の理論にも縛られることなく、2つのキラル炭素の立体化学は、例えば、アルファ−L−リボフラノシル、アルファ−D−リボフラノシル、ベータ−L−リボフラノシル、またはベータ−D−リボフラノシル出発物質の選択に基づいて、各モルホリノサブユニットの多くの可能な立体異性体が生成され得るように、合成条件下で保持される。
Each of the compounds of formula (VIII) described above may be prepared, for example, from the corresponding beta-D-ribofuranosyl as shown below.
Summerton et al. , Antisense & Nucleic Acid Drug Dev. 7: 187-195 (1997). Without being bound by any particular theory, the stereochemistry of the two chiral carbons is, for example, the choice of alpha-L-ribofuranosyl, alpha-D-ribofuranosyl, beta-L-ribofuranosyl, or beta-D-ribofuranosyl starting material Based on the synthesis conditions so that many possible stereoisomers of each morpholino subunit can be generated.
例えば、いくつかの実施形態では、本開示の式(VIII)の化合物は、式(VIIIa):
の化合物であってもよく、式中、R2は、式(VIIIa)の各化合物について独立して、以下:
からなる群から選択される。
For example, in some embodiments, compounds of formula (VIII) of the present disclosure are compounds of formula (VIIIa):
Wherein R 2 is independently for each compound of formula (VIIIa):
It is selected from the group consisting of
いかなる特定の理論にも縛られることを望むものではないが、10〜40個の式(VIII)の化合物の、例えば本開示のオリゴマー化合物中への組み込みは、多数の可能な立体異性体をもたらし得る。 While not wishing to be bound by any particular theory, the incorporation of 10 to 40 compounds of formula (VIII) into, for example, the oligomeric compounds of the present disclosure results in a large number of possible stereoisomers. obtain.
いかなる特定の理論にも縛られることを望むものではないが、本開示のオリゴマー化合物は1つまたは複数のリン含有サブユニット間を含み、それは各リンでキラル中心を作り出し、その各々は、当該技術分野で理解されているように、「Sp」または「Rp」立体配置と名付けられる。いかなる特定の理論にも縛られることを望むものではないが、このキラリティは、同一の化学組成を有するが、それらの原子の3次元配置が異なる立体異性体を作り出す。 Although not wishing to be bound by any particular theory, the oligomeric compounds of the present disclosure include between one or more phosphorus containing subunits, which create a chiral center at each phosphorus, each of which is As understood in the art, it is named "Sp" or "Rp" configuration. While not wishing to be bound by any particular theory, this chirality produces stereoisomers that have the same chemical composition but differ in the three-dimensional arrangement of their atoms.
いかなる特定の理論にも縛られることを望むものではないが、各リンサブユニット間連結の立体配置は、例えば、本開示のオリゴマー化合物の合成中にランダムに生じる。いかなる特定の理論にも縛られることを望むものではないが、本開示のオリゴマー化合物は、多数のリンサブユニット間連結で構成され、各リンサブユニット間連結はランダムなキラル立体配置を有するため、合成プロセスは、本開示のオリゴマー化合物の指数関数的に多くの立体異性体を生み出す。具体的には、いかなる特定の理論にも縛られることを望むものではないが、付加されるモルホリノサブユニットの各サブユニット間連結は、生成物の立体異性体の数を2倍にするので、本開示のオリゴマー化合物の従来通りの調製物は、実際は、2N個の立体異性体(Nはリンサブユニット間連結の数を表す)の非常に不均一な混合物である。 While not wishing to be bound by any particular theory, the configuration of linkages between each phosphorus subunit, for example, occurs randomly during the synthesis of the oligomeric compounds of the present disclosure. Although not wishing to be bound by any particular theory, the oligomeric compounds of the present disclosure are comprised of a large number of interphosphorus subunit linkages, each interphosphorus subunit linkage having a random chiral configuration. The synthesis process produces exponentially many stereoisomers of the oligomeric compounds of the present disclosure. Specifically, while not wishing to be bound by any particular theory, the inter-subunit linkage of the added morpholino subunits doubles the number of stereoisomers of the product, The conventional preparation of oligomeric compounds of the present disclosure is, in fact, a very heterogeneous mixture of 2 N stereoisomers (where N represents the number of linkages between phosphorus subunits).
したがって、別段の指示がない限り、例えば、1つまたは複数の立体中心からの1つまたは複数の結合が、当該技術分野で理解されるであろうように、「−」または「〜〜」または等価物で示されるような場合、ジアステレオマーおよびエナンチオマーの混合物、ならびに純粋なエナンチオマーおよびジアステレオマーを含む、すべてのそのような異性体が含まれる。 Thus, unless otherwise indicated, for example, one or more bonds from one or more stereogenic centers would be “-” or “~” or as would be understood in the art. As indicated by equivalents, all such isomers, including diastereomers and mixtures of enantiomers, as well as pure enantiomers and diastereomers, are included.
表1は、本明細書に記載のプロセスで提供されるモルホリノサブユニットの様々な実施形態を示す。
実施例
実施例は、例示の目的のために、および本開示のある特定の実施形態を説明するために、以下に記載されている。しかしながら、特許請求の範囲は、本明細書に記載された実施例によって何ら限定されるものではない。開示された実施形態に対する様々な変更および修正は当業者には明らかであり、本開示の化学構造、置換基、誘導体、配合物または方法に関するものを含むがこれらに限定されないそのような変更および修正が、本開示の趣旨および添付の特許請求の範囲から逸脱することなくなされてもよい。本明細書のスキーム中の構造における変数の定義は、本明細書に提示される式中の対応する位置のものに一致する。
EXAMPLES Examples are described below for the purpose of illustration and to illustrate certain specific embodiments of the present disclosure. However, the claims are not limited in any way by the embodiments described herein. Various changes and modifications to the disclosed embodiments will be apparent to those skilled in the art, and such changes and modifications, including but not limited to those related to the disclosed chemical structures, substituents, derivatives, formulations or methods May be made without departing from the spirit of the present disclosure and the appended claims. The definitions of variables in the structures in the schemes herein correspond to those of the corresponding positions in the formulas presented herein.
実施例1:NCP2アンカー合成
1. 4−フルオロ−3−ニトロ安息香酸メチル(1)の調製
100Lフラスコに12.7kgの4−フルオロ−3−ニトロ安息香酸を入れ、40kgのメタノールおよび2.82kgの濃硫酸を加えた。混合物を還流(65℃)しながら36時間撹拌した。反応混合物を0℃に冷却した。38℃で結晶が生じた。混合物を0℃で4時間保持し、その後、窒素下で濾過した。100Lフラスコを洗浄し、0℃に冷却された10kgのメタノールで濾過ケーキを洗浄した。固体濾過ケーキを漏斗上で1時間乾燥し、トレーに移し、真空オーブンで室温にて一定重量まで乾燥して13.695kgの4−フルオロ−3−ニトロ安息香酸メチルとした(100%収率、HPLC 99%)。
Example 1: NCP2 Anchor Synthesis Preparation of methyl 4-fluoro-3-nitrobenzoate (1)
In a 100 L flask was placed 12.7 kg of 4-fluoro-3-nitrobenzoic acid, and 40 kg of methanol and 2.82 kg of concentrated sulfuric acid were added. The mixture was stirred at reflux (65 ° C.) for 36 hours. The reaction mixture was cooled to 0 ° C. Crystals formed at 38 ° C. The mixture was kept at 0 ° C. for 4 hours and then filtered under nitrogen. The 100 L flask was washed and the filter cake was washed with 10 kg of methanol cooled to 0 ° C. The solid filter cake was dried on the funnel for 1 hour, transferred to trays and dried to constant weight in a vacuum oven at room temperature to give 13.695 kg of methyl 4-fluoro-3-nitrobenzoate (100% yield, HPLC 99%).
2. 3−ニトロ−4−(2−オキソプロピル)安息香酸の調製
A. (Z)−メチル4−(3−ヒドロキシ−1−メトキシ−1−オキソブタ−2−エン−2−イル)−3−ニトロベンゾエート(2)
100Lフラスコに、前のステップからの3.98kgの4−フルオロ−3−ニトロ安息香酸メチル(1)、9.8kgのDMF、2.81kgのアセト酢酸メチルを入れた。混合物を撹拌し、0℃に冷却した。これに3.66kgのDBUを、温度を5℃以下に維持しながら約4時間かけて加えた。混合物をさらに1時間撹拌した。反応温度を15℃以下に維持しながら、反応フラスコに37.5kgの精製水中の8.15kgのクエン酸の溶液を加えた。加えた後、反応混合物をさらに30分間撹拌し、その後、窒素下で濾過した。ウェット濾過ケーキを14.8kgの精製水と共に100Lフラスコに戻した。スラリーを10分間撹拌し、その後濾過した。ウェットケーキを再度100Lフラスコに戻し、14.8kgの精製水で10分間スラリー化し、濾過して、粗(Z)−メチル4−(3−ヒドロキシ−1−メトキシ−1−オキソブタ−2−エン−2−イル)−3−ニトロベンゾエートとした。
2. Preparation of 3-nitro-4- (2-oxopropyl) benzoic acid A. (Z) -Methyl 4- (3-hydroxy-1-methoxy-1-oxobut-2-en-2-yl) -3-nitrobenzoate (2)
In a 100 L flask was placed 3.98 kg methyl 4-fluoro-3-nitrobenzoate (1) from the previous step, 9.8 kg DMF, 2.81 kg methyl acetoacetate. The mixture was stirred and cooled to 0.degree. To this was added 3.66 kg of DBU over about 4 hours, maintaining the temperature below 5 ° C. The mixture was stirred for an additional hour. To the reaction flask was added a solution of 8.15 kg citric acid in 37.5 kg purified water, keeping the reaction temperature below 15 ° C. After addition, the reaction mixture was stirred for another 30 minutes and then filtered under nitrogen. The wet filter cake was returned to the 100 L flask with 14.8 kg of purified water. The slurry was stirred for 10 minutes and then filtered. The wet cake is again returned to the 100 L flask, slurried with 14.8 kg of purified water for 10 minutes, filtered, and crude (Z) -methyl 4- (3-hydroxy-1-methoxy-1-oxobut-2-ene- 2-yl) -3-nitrobenzoate.
B. 3−ニトロ−4−(2−オキソプロピル)安息香酸
粗(Z)−メチル4−(3−ヒドロキシ−1−メトキシ−1−オキソブタ−2−エン−2−イル)−3−ニトロベンゾエートを窒素下で100L反応フラスコに入れた。これに14.2kgの1,4−ジオキサンを加え、撹拌した。混合物に16.655kgの濃塩酸および13.33kgの精製水の溶液(6M HCl)を、反応混合物の温度を15℃未満に維持しながら2時間かけて加えた。加え終えたら、反応混合物を還流(80℃)しながら24時間加熱し、室温まで冷却して、窒素下で濾過した。固体濾過ケーキを14.8kgの精製水で粉砕し、濾過し、14.8kgの精製水で再度粉砕し、濾過した。固体を39.9kgのDCMと共に100Lフラスコに戻し、1時間撹拌しながら還流した。1.5kgの精製水を残っている固体を溶解するために加えた。下層の有機層を予熱した72Lフラスコに分け、その後清浄な乾燥した100Lフラスコに戻した。溶液を0℃に冷却し、1時間保持し、その後濾過した。固体濾過ケーキを2回、それぞれ9.8kgのDCMおよび5kgのヘプタンの溶液で洗浄し、その後、漏斗上で乾燥した。固体をトレーに移し、一定重量まで乾燥して1.855kgの3−ニトロ−4−(2−オキソプロピル)安息香酸とした。化合物1からの全体の収率42%。HPLC 99.45%。
B. 3-nitro-4- (2-oxopropyl) benzoic acid
The crude (Z) -methyl 4- (3-hydroxy-1-methoxy-1-oxobut-2-en-2-yl) -3-nitrobenzoate was placed in a 100 L reaction flask under nitrogen. To this was added 14.2 kg of 1,4-dioxane and stirred. To the mixture was added 16.655 kg of concentrated hydrochloric acid and 13.33 kg of a solution of purified water (6 M HCl) over 2 hours maintaining the temperature of the reaction mixture below 15 ° C. Once addition was complete, the reaction mixture was heated at reflux (80 ° C.) for 24 hours, cooled to room temperature and filtered under nitrogen. The solid filter cake was triturated with 14.8 kg of purified water, filtered, triturated again with 14.8 kg of purified water and filtered. The solid was returned to a 100 L flask with 39.9 kg of DCM and refluxed with stirring for 1 hour. 1.5 kg of purified water was added to dissolve the remaining solid. The lower organic layer was divided into a preheated 72 L flask and then returned to a clean, dry 100 L flask. The solution was cooled to 0 ° C., held for 1 hour and then filtered. The solid filter cake was washed twice with a solution of 9.8 kg of DCM and 5 kg of heptane respectively and then dried on the funnel. The solids are transferred to trays and dried to constant weight to give 1.855 kg of 3-nitro-4- (2-oxopropyl) benzoic acid. 42% overall yield from compound 1. HPLC 99.45%.
3. N−トリチルピペラジンコハク酸塩(NTP)の調製
72Lジャケット付きフラスコに窒素下で1.805kgの塩化トリフェニルメチルおよび8.3kgのトルエンを入れた(TPC溶液)。混合物を固体が溶解するまで撹拌した。100Lジャケット付き反応フラスコに窒素下で5.61kgのピペラジン、19.9kgのトルエン、および3.72kgのメタノールを加えた。混合物を撹拌し、0℃に冷却した。これにTPC溶液を少しずつ、反応温度を10℃以下に維持しながら4時間かけてゆっくりと加えた。混合物を10℃で1.5時間撹拌し、その後、14℃に昇温させた。32.6kgの精製水を72Lフラスコに入れ、その後、内部バッチ温度を20±5℃に維持しながら100Lフラスコに移した。層を分かれさせ、下層の水層を分離および保存した。有機層を3回、各32kgの精製水で抽出し、水層を分離し、保存しておいた水溶液と合わせた。
3. Preparation of N-trityl piperazine succinate (NTP)
A 72 L jacketed flask was charged under nitrogen with 1.805 kg triphenylmethyl chloride and 8.3 kg toluene (TPC solution). The mixture was stirred until the solids dissolved. To a 100 L jacketed reaction flask was added 5.61 kg of piperazine, 19.9 kg of toluene, and 3.72 kg of methanol under nitrogen. The mixture was stirred and cooled to 0.degree. To this was added the TPC solution little by little, slowly over 4 hours maintaining the reaction temperature below 10 ° C. The mixture was stirred at 10 ° C. for 1.5 hours and then warmed to 14 ° C. 32.6 kg of purified water was placed in a 72 L flask and then transferred to a 100 L flask maintaining the internal batch temperature at 20 ± 5 ° C. The layers were separated and the lower aqueous layer separated and stored. The organic layer was extracted three times with 32 kg of purified water each, the aqueous layer was separated and combined with the stored aqueous solution.
残っている有機層を18℃に冷却し、10.87kg精製水中の847gのコハク酸の溶液を有機層に少しずつゆっくりと加えた。混合物を20±5℃で1.75時間撹拌した。混合物を濾過し、固体を2kgのTBMEおよび2kgのアセトンで洗浄し、その後、漏斗上で乾燥した。濾過ケーキを2回、各5.7kgのアセトンで粉砕し、粉砕と粉砕の間に濾過し、1kgのアセトンで洗浄した。固体を漏斗上で乾燥し、その後、トレーに移し、真空オーブンで室温にて一定重量まで乾燥して2.32kgのNTPとした。収率80%。 The remaining organic layer was cooled to 18 ° C., and a solution of 847 g succinic acid in 10.87 kg purified water was slowly added to the organic layer in small portions. The mixture was stirred at 20 ± 5 ° C. for 1.75 hours. The mixture was filtered and the solid was washed with 2 kg TBME and 2 kg acetone then dried on the funnel. The filter cake was triturated twice with 5.7 kg of acetone each, filtered between trituration and filtered and washed with 1 kg of acetone. The solid was dried on the funnel and then transferred to trays and dried in a vacuum oven at room temperature to constant weight to 2.32 kg NTP. 80% yield.
4. (4−(2−ヒドロキシプロピル)−3−ニトロフェニル)(4−トリチルピペラジン−1−イル)メタノンの調製
A. 1−(2−ニトロ−4(4−トリチルピペラジン−1−カルボニル)フェニル)プロパン−2−オンの調製
100Lジャケット付きフラスコに窒素下で2kgの3−ニトロ−4−(2−オキソプロピル)安息香酸(3)、18.3kgのDCM、1.845kgのN−(3−ジメチルアミノプロピル)−N’−エチルカルボジイミド塩酸塩(EDC.HCl)を入れた。均一な混合物が形成されるまで溶液を撹拌した。3.048kgのNTPを30分かけて室温で加え、8時間撹拌した。5.44kgの精製水を反応混合物に加え、30分間撹拌した。層を分離させ、生成物を含有する下層の有機層を排出および保存した。水層を5.65kgのDCMで2回抽出した。合わせた有機層を4.08kgの精製水中の1.08kgの塩化ナトリウムの溶液で洗浄した。有機層を1.068kgの硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。硫酸ナトリウムを1.3kgのDCMで洗浄した。合わせた有機層を252gのシリカゲルでスラリー化し、252gのシリカゲルのベッドを含有する濾過用漏斗を通して濾過した。シリカゲルベッドを2kgのDCMで洗浄した。合わせた有機層をロータリーエバポレータで留去した。4.8kgのTHFを残留物に加え、その後、THF中の粗1−(2−ニトロ−4(4−トリチルピペラジン−1−カルボニル)フェニル)プロパン−2−オンが2.5倍量に達するまでロータリーエバポレータで留去した。
4. Preparation of (4- (2-hydroxypropyl) -3-nitrophenyl) (4-tritylpiperazin-1-yl) methanone A. Preparation of 1- (2-nitro-4 (4-tritylpiperazin-1-carbonyl) phenyl) propan-2-one
In a 100 L jacketed flask under nitrogen 2 kg of 3-nitro-4- (2-oxopropyl) benzoic acid (3), 18.3 kg of DCM, 1.845 kg of N- (3-dimethylaminopropyl) -N ' -Ethyl carbodiimide hydrochloride (EDC.HCl) was added. The solution was stirred until a homogenous mixture was formed. 3.048 kg of NTP was added over 30 minutes at room temperature and stirred for 8 hours. 5.44 kg of purified water was added to the reaction mixture and stirred for 30 minutes. The layers were allowed to separate and the lower organic layer containing product was drained and stored. The aqueous layer was extracted twice with 5.65 kg DCM. The combined organic layers were washed with a solution of 1.08 kg sodium chloride in 4.08 kg purified water. The organic layer was dried over 1.068 kg of sodium sulfate and filtered. The sodium sulfate was washed with 1.3 kg of DCM. The combined organic layers were slurried with 252 g of silica gel and filtered through a filtration funnel containing a bed of 252 g of silica gel. The silica gel bed was washed with 2 kg of DCM. The combined organic layers were distilled off on a rotary evaporator. 4.8 kg of THF is added to the residue, after which 2.5 volumes of crude 1- (2-nitro-4 (4-tritylpiperazine-1-carbonyl) phenyl) propan-2-one in THF are reached It was distilled off with a rotary evaporator until
B. (4−(2−ヒドロキシプロピル)−3−ニトロフェニル)(4−トリチルピペラジン−1−イル)メタノン(5)の調製
100Lジャケット付きフラスコに窒素下で前のステップからの3600gの4および9800gのTHFを入れた。撹拌した溶液を5℃以下に冷却した。溶液を11525gのエタノールで希釈し、194gの水素化ホウ素ナトリウムを5℃以下で約2時間かけて加えた。反応混合物を5℃以下でさらに2時間撹拌した。約3kgの水中の約1.1kgの塩化アンモニウムの溶液を、温度を10℃以下に維持するためにゆっくりと加えることにより、反応をクエンチした。反応混合物をさらに30分間撹拌し、濾過して無機物を除去し、100Lジャケット付きフラスコに再び入れ、23kgのDCMで抽出した。有機層を分離し、水層をさらに2回、各4.7kgのDCMで抽出した。合わせた有機層を、約3kgの水中の約800gの塩化ナトリウムの溶液で洗浄し、その後2.7kgの硫酸ナトリウムで乾燥した。懸濁液を濾過し、濾過ケーキを2kgのDCMで洗浄した。合わせた濾液を2.0倍量に濃縮し、360gの酢酸エチルで希釈し、留去した。粗生成物を、窒素下でDCMで充填した4kgのシリカのシリカゲルカラムにかけ、7.2kgのDCM中の2.3kgの酢酸エチルで溶出した。合わせた画分を留去し、残留物を11.7kgのトルエンに取り入れた。トルエン溶液を濾過し、濾過ケーキを2回、各2kgのトルエンで洗浄した。濾過ケーキを一定重量まで乾燥して2.275kgの化合物5とした(化合物3からの収率46%)、HPLC 96.99%。
B. Preparation of (4- (2-hydroxypropyl) -3-nitrophenyl) (4-tritylpiperazin-1-yl) methanone (5)
A 100 L jacketed flask was charged with 3600 g of 4 and 9800 g of THF from the previous step under nitrogen. The stirred solution was cooled to below 5 ° C. The solution was diluted with 11,525 g of ethanol and 194 g of sodium borohydride was added over 5 ° C. over about 2 hours. The reaction mixture was stirred at 5 ° C. or less for additional 2 hours. The reaction was quenched by slowly adding a solution of about 1.1 kg of ammonium chloride in about 3 kg of water to maintain the temperature below 10 ° C. The reaction mixture was stirred for an additional 30 minutes, filtered to remove inorganics, resubmitted to a 100 L jacketed flask and extracted with 23 kg of DCM. The organic layer was separated, and the aqueous layer was extracted twice more with 4.7 kg of DCM each. The combined organic layers were washed with a solution of about 800 g sodium chloride in about 3 kg water and then dried over 2.7 kg sodium sulfate. The suspension was filtered and the filter cake was washed with 2 kg of DCM. The combined filtrate was concentrated to 2.0 volumes, diluted with 360 g of ethyl acetate and evaporated. The crude product was applied to a 4 kg silica gel silica gel column packed with DCM under nitrogen and eluted with 2.3 kg ethyl acetate in 7.2 kg DCM. The combined fractions were distilled off and the residue was taken up in 11.7 kg of toluene. The toluene solution was filtered and the filter cake was washed twice with 2 kg of toluene each. The filter cake was dried to constant weight to give 2.275 kg of compound 5 (46% yield from compound 3), HPLC 96.99%.
5. 炭酸2,5−ジオキソピロリジン−1−イル(1−(2−ニトロ−4−(4−トリフェニルメチルピペラジン−1−カルボニル)フェニル)プロパン−2−イル)(NCP2アンカー)の調製
100Lジャケット付きフラスコに窒素下で4.3kgの化合物5(重量は1H NMRによる残留トルエンに基づいて調整され、この後のすべての試薬はそれにしたがってスケールを合わせた)および12.7kgのピリジンを入れた。これに3.160kgのDSC(1H NMRで78.91重量%)を、内部温度を35℃以下に維持しながら入れた。反応混合物を周囲条件で約22時間熟成させ、その後濾過した。濾過ケーキを200gのピリジンで洗浄した。濾液体積の1/2を各々含む2つのバッチで、約50kgの水中の約11kgのクエン酸の溶液を含有する100Lジャケット付きフラスコに濾液をゆっくりと入れ、30分間撹拌して固体を沈殿させた。固体を濾過用漏斗で回収し、1回の洗浄につき4.3kgの水で2回洗浄し、濾過用漏斗上で真空乾燥した。
5. Preparation of 2,5-dioxopyrrolidin-1-yl carbonate (1- (2-nitro-4- (4-triphenylmethylpiperazin-1-carbonyl) phenyl) propan-2-yl carbonate (NCP2 anchor)
In a 100 L jacketed flask under nitrogen 4.3 kg of compound 5 (weight is adjusted based on the residual toluene by 1 H NMR, after which all the reagents were scaled accordingly) and 12.7 kg of pyridine I put it in. To this was added 3.160 kg of DSC (78.91 wt% by 1 H NMR), keeping the internal temperature below 35 ° C. The reaction mixture was aged for about 22 hours at ambient conditions and then filtered. The filter cake was washed with 200 g of pyridine. The filtrate was slowly placed in a 100 L jacketed flask containing a solution of about 11 kg of citric acid in about 50 kg of water in two batches, each containing one half of the filtrate volume, and stirred for 30 minutes to precipitate solids . The solid was collected on a filtration funnel, washed twice with 4.3 kg of water per wash, and vacuum dried on a filtration funnel.
合わせた固体を100Lジャケット付きフラスコに入れ、28kgのDCM中に溶解させ、4.3kgの水中の900gの炭酸カリウムの溶液で洗浄した。1時間後、層を分離させ、水層を除去した。有機層を10kgの水で洗浄し、分離し、3.5kgの硫酸ナトリウムで乾燥した。DCMを濾過し、留去し、真空乾燥して6.16kgのNCP2アンカーとした(114%収率)。 The combined solids were placed in a 100 L jacketed flask, dissolved in 28 kg of DCM and washed with a solution of 900 g of potassium carbonate in 4.3 kg of water. After 1 hour, the layers were allowed to separate and the aqueous layer was removed. The organic layer was washed with 10 kg of water, separated and dried over 3.5 kg of sodium sulfate. The DCM was filtered off, evaporated and dried in vacuo to 6.16 kg NCP2 anchor (114% yield).
実施例2:アンカー担持樹脂合成
75L固相合成反応器に、約52LのNMPおよび2600gのアミノメチルポリスチレン樹脂を入れた。樹脂をNMP中で撹拌し、約2時間膨潤させ、その後排出した。樹脂を1回の洗浄につき約39LのDCMで2回洗浄し、その後1回の洗浄につき39Lの中和溶液で2回洗浄し、その後1回の洗浄につき39LのDCMで2回洗浄した。撹拌中の樹脂溶液にNCP2アンカー溶液をゆっくりと加え、室温で24時間撹拌し、排出した。樹脂を1回の洗浄につき39LのNMPで4回洗浄し、1回の洗浄につき39LのDCMで6回洗浄した。樹脂をDEDCキャッピング溶液の1/2で30分間処理および撹拌し、排出し、2回目の1/2のDEDCキャッピング溶液で30分間処理および撹拌し、排出した。樹脂を1回の洗浄につき39LのDCMで6回洗浄し、その後オーブンで一定重量まで乾燥して3573.71gのアンカー担持樹脂とした。
Example 2 Anchor Supported Resin Synthesis In a 75 L solid phase synthesis reactor, approximately 52 L NMP and 2600 g aminomethyl polystyrene resin were charged. The resin was stirred in NMP, allowed to swell for about 2 hours and then drained. The resin was washed twice with about 39 L of DCM per wash, then twice with 39 L of neutralization solution per wash and then twice with 39 L of DCM per wash. The NCP2 anchor solution was slowly added to the stirring resin solution, stirred at room temperature for 24 hours, and drained. The resin was washed 4 times with 39 L NMP per wash and washed 6 times with 39 L DCM per wash. The resin was treated and stirred with 1/2 of the DEDC capping solution for 30 minutes, drained, treated and stirred with a second 1/2 of the DEDC capping solution for 30 minutes, and drained. The resin was washed 6 times with 39 L DCM per wash and then dried to constant weight in the oven to 3357.71 g anchor loaded resin.
実施例3:活性化EG3テールの調製
1.トリチルピペラジンフェニルカルバメート(35)の調製
冷却したジクロロメタン(6mL/g NTP)中のNTPの懸濁液に、水(4mL/g炭酸カリウム)中の炭酸カリウム(3.2等量)の溶液を加えた。この2相混合物に、ジクロロメタン(2g/gクロロギ酸フェニル)中のクロロギ酸フェニル(1.03等量)の溶液をゆっくりと加えた。反応混合物を20℃に加温した。反応が完了したら(1〜2時間)、層を分離した。有機層を水洗し、無水炭酸カリウムで乾燥した。生成物35をアセトニトリルからの結晶化により単離した。収率=80%。
Example 3: Preparation of Activated EG3 Tail Preparation of trityl piperazine phenyl carbamate (35)
To a suspension of NTP in chilled dichloromethane (6 mL / g NTP) was added a solution of potassium carbonate (3.2 eq) in water (4 mL / g potassium carbonate). To this biphasic mixture was slowly added a solution of phenyl chloroformate (1.03 equivalents) in dichloromethane (2 g / g phenyl chloroformate). The reaction mixture was warmed to 20.degree. When the reaction was complete (1-2 h), the layers were separated. The organic layer was washed with water and dried over anhydrous potassium carbonate. The product 35 was isolated by crystallization from acetonitrile. Yield = 80%.
2.カルバメートアルコール(36)の調製
水素化ナトリウム(1.2等量)を1−メチル−2−ピロリドン(32mL/g水素化ナトリウム)中に懸濁させた。この懸濁液にトリエチレングリコール(10.0等量)および化合物35(1.0等量)を加えた。結果として生じるスラリーを95℃に加熱した。反応が完了したら(1〜2時間)、混合物を20℃に冷却した。この混合物に30%ジクロロメタン/メチルtert−ブチルエーテル(v:v)および水を加えた。生成物含有有機層をNaOH水溶液、コハク酸水溶液、および飽和塩化ナトリウム水溶液で連続して洗浄した。生成物36をジクロロメタン/メチルtert−ブチルエーテル/ヘプタンからの結晶化により単離した。収率=90%。
2. Preparation of carbamate alcohol (36)
Sodium hydride (1.2 equivalents) was suspended in 1-methyl-2-pyrrolidone (32 mL / g sodium hydride). To this suspension was added triethylene glycol (10.0 equivalents) and compound 35 (1.0 equivalents). The resulting slurry was heated to 95 ° C. Once the reaction was complete (1-2 hours), the mixture was cooled to 20 ° C. To this mixture was added 30% dichloromethane / methyl tert-butyl ether (v: v) and water. The product-containing organic layer was washed successively with aqueous NaOH solution, aqueous succinic acid solution, and saturated aqueous sodium chloride solution. The product 36 was isolated by crystallization from dichloromethane / methyl tert-butyl ether / heptane. Yield = 90%.
3.EG3テール酸(37)の調製
テトラヒドロフラン(7mL/g 36)中の化合物36の溶液に、無水コハク酸(2.0等量)およびDMAP(0.5等量)を加えた。混合物を50℃に加熱した。反応が完了したら(5時間)、混合物を20℃に冷却し、NaHCO3水溶液でpH8.5に調整した。メチルtert−ブチルエーテルを加え、生成物を水層に抽出した。ジクロロメタンを加え、混合物をクエン酸水溶液でpH3に調整した。生成物含有有機層をpH=3のクエン酸緩衝液と飽和塩化ナトリウム水溶液との混合物で洗浄した。この37のジクロロメタン溶液を、化合物38の調製に単離せずに使用した。
3. Preparation of EG3 tail acid (37)
To a solution of compound 36 in tetrahydrofuran (7 mL / g 36) was added succinic anhydride (2.0 equivalents) and DMAP (0.5 equivalents). The mixture was heated to 50 ° C. When the reaction was complete (5 h), the mixture was cooled to 20 ° C. and adjusted to pH 8.5 with aqueous NaHCO 3 solution. Methyl tert-butyl ether was added and the product extracted into the aqueous layer. Dichloromethane was added and the mixture was adjusted to pH 3 with aqueous citric acid solution. The product-containing organic layer was washed with a mixture of pH = 3 citrate buffer and saturated aqueous sodium chloride solution. This 37 solution in dichloromethane was used without isolation for the preparation of compound 38.
4.活性化EG3テール(38)の調製
化合物37の溶液に、N−ヒドロキシ−5−ノルボルネン−2,3−ジカルボン酸イミド(HONB)(1.02当量)、4−ジメチルアミノピリジン(DMAP)(0.34当量)、およびその後1−(3−ジメチルアミノプロピル)−N’−エチルカルボジイミド塩酸塩(EDC)(1.1当量)を加えた。混合物を55℃に加熱した。反応が完了したら(4〜5時間)、混合物を20℃に冷却し、1:1の0.2Mクエン酸/ブラインおよびブラインで連続して洗浄した。ジクロロメタン溶液をアセトン、およびその後N,N−ジメチルホルムアミドに溶媒交換し、生成物をアセトン/N,N−ジメチルホルムアミドから飽和塩化ナトリウム水溶液への沈殿により単離した。粗生成物を水中で数回再スラリー化して残留N,N−ジメチルホルムアミドおよび塩を除去した。化合物36からの活性化EG3テール38の収率=70%。
4. Preparation of Activated EG3 Tail (38)
A solution of compound 37, N-hydroxy-5-norbornene-2,3-dicarboximide (HONB) (1.02 eq), 4-dimethylaminopyridine (DMAP) (0.34 eq), and then 1- (3-Dimethylaminopropyl) -N'-ethylcarbodiimide hydrochloride (EDC) (1.1 eq.) Was added. The mixture was heated to 55 ° C. Once the reaction was complete (4-5 hours), the mixture was cooled to 20 ° C. and washed sequentially with 1: 1 0.2 M citric acid / brine and brine. The dichloromethane solution was solvent exchanged into acetone and then N, N-dimethylformamide, and the product was isolated by precipitation from acetone / N, N-dimethylformamide into saturated aqueous sodium chloride solution. The crude product was reslurried several times in water to remove residual N, N-dimethylformamide and salts. Yield of activated EG3 tail 38 from compound 36 = 70%.
実施例4:Casimersen[オリゴマー化合物(XII)]粗原薬の50L固相合成
1.材料
出発物質の化学構造:
A.活性化EG3テール
B.活性化Cサブユニット(調製については、米国特許第8,067,571号を参照)
C.活性化Aサブユニット(調製については、米国特許第8,067,571号を参照)
D.活性化DPGサブユニット(調製については、WO2009/064471を参照)
E.活性化Tサブユニット(調製については、WO2013/082551を参照)
F.アンカー担持樹脂
式中、R1は支持媒体である。
Chemical structure of the starting material:
A. Activated EG3 tail
B. Activated C subunit (for preparation see US Pat. No. 8,067,571)
C. Activated A subunit (for preparation see US Pat. No. 8,067,571)
D. Activated DPG subunits (for preparation see WO 2009/064471)
E. Activated T subunit (for preparation see WO 2013/082551)
F. Anchor carrying resin
In the formula, R 1 is a support medium.
2.Casimersen粗原薬の合成
A.樹脂膨潤
750gのアンカー担持樹脂および10.5LのNMPを50Lのシラン処理した反応器に入れ、3時間撹拌した。NMPを排出し、アンカー担持樹脂を各5.5LのDCMで2回、各5.5Lの30% TFE/DCMで2回洗浄した。
2. Synthesis of casimersen crude drug substance Resin Swelling 750 g of anchor loaded resin and 10.5 L of NMP were placed in a 50 L silanized reactor and stirred for 3 hours. The NMP was drained and the anchor loaded resin was washed twice with 5.5 L DCM each and twice with 5.5 L 30% TFE / DCM each.
B.サイクル0:EG3テールカップリング
アンカー担持樹脂を各5.5Lの30% TFE/DCMで3回洗浄し、排出し、5.5LのCYFTA溶液で15分間洗浄し、排出し、再度5.5LのCYTFA溶液で15分間洗浄し、排出せずに122mLの1:1 NEM/DCMを入れ、懸濁液を2分間撹拌し、排出した。樹脂を5.5Lの中和溶液で10分間1回洗浄し、排出し、5.5Lの中和溶液で5分間2回洗浄し、排出し、その後各5.5LのDCMで2回洗浄し、排出した。3LのDMI中の706.2gの活性化EG3テール(MW 765.85)および234mLのNEMの溶液を樹脂に入れ、室温で3時間撹拌し、排出した。樹脂を5.5Lの中和溶液で10分間1回洗浄し、排出し、5.5Lの中和溶液で5分間1回洗浄し、排出し、5.5LのDCMで1回洗浄し、排出した。2680mLのNMP中の374.8gの無水安息香酸および195mLのNEMの溶液を入れ、15分間撹拌し、排出した。樹脂を5.5Lの中和溶液で10分間1回洗浄し、排出し、5.5Lの中和溶液で5分間1回洗浄し、排出し、5.5LのDCMで1回洗浄し、排出し、各5.5Lの30% TFE/DCMで2回洗浄した。樹脂を5.5Lの30% TFE/DCM中に懸濁させ、14時間保持した。
B. Cycle 0: EG3 tail coupling Wash the anchor loaded resin 3 times with 5.5 L of 30% TFE / DCM each, drain, wash with 5.5 L of CYFTA solution for 15 minutes, drain, and 5.5 L again It was washed with CYTFA solution for 15 minutes, 122 mL of 1: 1 NEM / DCM was charged without draining, and the suspension was stirred for 2 minutes and drained. The resin was washed once with 5.5 L of neutralization solution for 10 minutes, drained, washed twice with 5.5 L of neutralization solution for 5 minutes, drained and then washed twice with 5.5 L of DCM each time. , Exhausted. A solution of 706.2 g of activated EG3 tail (MW 765.85) and 234 mL of NEM in 3 L of DMI was charged to the resin, stirred at room temperature for 3 hours and drained. The resin is washed once with 5.5 L of neutralization solution for 10 minutes, drained, washed once with 5.5 L of neutralization solution for 5 minutes, drained, washed once with 5.5 L of DCM and drained. did. A solution of 374.8 g of benzoic anhydride and 195 mL of NEM in 2680 mL of NMP was charged and stirred for 15 minutes and drained. The resin is washed once with 5.5 L of neutralization solution for 10 minutes, drained, washed once with 5.5 L of neutralization solution for 5 minutes, drained, washed once with 5.5 L of DCM and drained. And washed twice with 5.5 L of 30% TFE / DCM each. The resin was suspended in 5.5 L of 30% TFE / DCM and held for 14 hours.
C.サブユニットカップリングサイクル1〜22
i.カップリング前処理
表4に記載されているような各カップリングサイクルの前に、樹脂を:1)30% TFE/DCMで洗浄し、2)a)CYTFA溶液で15分間処理し、排出し、b)CYTFA溶液で15分間処理して1:1 NEM/DCMを加え、撹拌し、排出し、3)中和溶液で3回撹拌し、4)DCMで2回洗浄した。表4を参照。
C. Sub unit coupling cycle 1-22
i. Coupling Pretreatment Prior to each coupling cycle as described in Table 4, the resin was: 1) washed with 30% TFE / DCM, 2) treated with a CYTFA solution for 15 minutes, drained, b) Treated with CYTFA solution for 15 minutes, added 1: 1 NEM / DCM, stirred, drained, 3) stirred 3 times with neutralization solution, 4) washed twice with DCM. See Table 4.
ii.カップリング後処理
各サブユニット溶液を表4に記載されているように排出した後、樹脂を:1)DCMで洗浄し、2)30% TFE/DCMで3回洗浄した。樹脂を次のカップリングサイクルの前にある時間保持する場合、第3のTFE/DCM洗浄液を排出せず、樹脂を前述のTFE/DCM洗浄溶液中に保持した。表4を参照。
ii. Coupling Post Treatment After each subunit solution was drained as described in Table 4, the resin was: 1) washed with DCM, 2) washed 3 times with 30% TFE / DCM. If the resin was held for some time before the next coupling cycle, the third TFE / DCM wash was not drained and the resin was kept in the TFE / DCM wash solution described above. See Table 4.
iii.活性化サブユニットカップリングサイクル
カップリングサイクルを、表4に記載されているように実施した。
iii. Activation Subunit Coupling Cycle The coupling cycle was performed as described in Table 4.
iv.最終IPA洗浄
最終カップリングステップを表4に記載されているように実施した後、樹脂を各19.5LのIPAで8回洗浄し、室温で約63.5時間、乾燥重量4523gまで真空乾燥した。
iv. Final IPA Wash After the final coupling step was performed as described in Table 4, the resin was washed 8 times with 19.5 L of IPA each and vacuum dried to a dry weight of 4523 g at room temperature for about 63.5 hours. .
D.切断
上記樹脂結合Casimersen粗原薬を2つのロットに分け、各ロットを以下のように処理した。2つの2261.5gのロットの樹脂を各々:1)10LのNMPと共に2時間撹拌し、その後NMPを排出し、2)各10Lの30% TFE/DCMで3回洗浄し、3)10LのCYTFA溶液で15分間処理し、4)その後、15分間10LのCYTFA溶液に130mlの1:1 NEM/DCMを加え、2分間撹拌し、排出した。樹脂を各10Lの中和溶液で3回処理し、10LのDCMで6回、各10LのNMPで8回洗浄した。樹脂を1530.4gのDTTの切断溶液および6.96LのNMP中の2980 DBUで2時間処理して樹脂からCasimersen粗原薬を取り外した。切断溶液を排出し、別の容器に保持した。反応器および樹脂を、4.97LのNMPで洗浄し、それを切断溶液と合わせた。
E.脱保護
切断溶液とNMP洗浄とを合わせたものを圧力容器に移し、冷凍庫で−10〜−25℃の温度に冷やした39.8LのNH4OH(NH3・H2O)を加えた。圧力容器を密閉し、45℃に16時間加熱し、その後25℃に冷却させた。このCasimersen粗原薬を含有する脱保護溶液を溶媒除去の前に精製水で3:1に希釈した。溶媒除去の間、脱保護溶液を2Mリン酸でpH 3.0に調整し、その後NH4OHでpH 8.03に調整した。HPLC:C18 80.93%(図1)およびSCX−10 84.4%(図2)。
E. Deprotection The combined cleavage solution and NMP was transferred to a pressure vessel and 39.8 L of NH 4 OH (NH 3 · H 2 O) cooled to -10 to -25 ° C in a freezer was added. The pressure vessel was sealed and heated to 45 ° C. for 16 hours then allowed to cool to 25 ° C. The deprotected solution containing this Casimersen crude drug substance was diluted 3: 1 with purified water before solvent removal. During solvent removal, the deprotected solution was adjusted to pH 3.0 with 2M phosphoric acid and then adjusted to pH 8.03 with NH 4 OH. HPLC: C18 80.93% (FIG. 1) and SCX-10 84.4% (FIG. 2).
実施例5:Casimersen粗原薬の精製
Casimersen粗原薬を含有する実施例4のパートEからの脱保護溶液を、ToyoPearl Super−Q 650S陰イオン交換樹脂(Tosoh Bioscience)のカラムに充填し、17カラム容積にわたって0〜35%Bの勾配で溶出し(緩衝液A:10mM水酸化ナトリウム;緩衝液B:10mM水酸化ナトリウム中の1M塩化ナトリウム)、許容される純度の画分(C18およびSCX HPLC)を貯めて精製された薬物生成物溶液とした。HPLC:97.74%(C18;図3) 94.58%(SCX;図4)。
Example 5 Purification of Casimersen Crude Drug The deprotected solution from part E of Example 4 containing Casimersen crude drug substance is loaded onto a column of ToyoPearl Super-Q 650S anion exchange resin (Tosoh Bioscience), 17 Elute with a gradient of 0-35% B over the column volume (Buffer A: 10 mM sodium hydroxide; Buffer B: 1 M sodium chloride in 10 mM sodium hydroxide), fractions of acceptable purity (C18 and SCX HPLC ) Were made into a purified drug product solution. HPLC: 97.74% (C18; FIG. 3) 94.58% (SCX; FIG. 4).
精製された原薬溶液を脱塩および凍結乾燥して1477.82gの精製されたCasimersen原薬とした。収率63.37%;HPLC:96.045%(図5;C18) 96.346%(図6;SCX)。
参照による組み込み
本出願を通じて引用されるすべての参考文献の内容(文献参照、発行された特許、公開特許出願、および同時係属中の特許出願を含む)は、その全体が本明細書に明示的に組み込まれる。別段の定義がない限り、本明細書で使用されるすべての技術的および科学的用語は、当業者に一般に知られている意味と一致する。
Incorporation by Reference The contents of all references cited throughout this application, including literature references, issued patents, published patent applications, and co-pending patent applications, are expressly incorporated herein in their entirety. Be incorporated. Unless defined otherwise, all technical and scientific terms used herein are consistent with the meaning commonly known to one of ordinary skill in the art.
均等物
当業者は、本明細書に記載された開示の特定の実施形態の多くの均等物を、認識するか、または所定の実験方法だけを用いて確認することができるであろう。そのような均等物は、以下の特許請求の範囲によって包含されることが意図される。
Equivalents One of ordinary skill in the art would recognize many equivalents of the specific embodiments of the disclosure described herein, or be able to ascertain using only certain experimental methods. Such equivalents are intended to be encompassed by the following claims.
Claims (22)
(式中、nは10〜40の整数であり、各R2は、各出現について独立して、以下:
からなる群から選択される)のオリゴマー化合物を調製するためのプロセスであって、前記プロセスは、以下の連続したステップ:
(a)式(A1):
(式中、R1は支持媒体であり、R3はトリチル、モノメトキシトリチル、ジメトキシトリチルおよびトリメトキシトリチルからなる群から選択される)の化合物を脱ブロッキング剤と接触させて式(II):
(式中、R1は支持媒体である)の化合物を形成するステップ;
(b)式(II)の化合物を式(A2):
(式中、R3はトリチル、モノメトキシトリチル、ジメトキシトリチルおよびトリメトキシトリチルからなる群から選択される)の化合物と接触させて式(A3):
(c)式(A3)の化合物を脱ブロッキング剤と接触させて式(IV):
(式中、R1は支持媒体である)の化合物を形成するステップ;
(d)式(IV)の化合物を式(A4):
(式中、R3はトリチル、モノメトキシトリチル、ジメトキシトリチルおよびトリメトキシトリチルからなる群から選択され、R4は以下:
からなる群から選択される)の化合物と接触させて式(A5):
(式中、R1は支持媒体であり、R3はトリチル、モノメトキシトリチル、ジメトキシトリチルおよびトリメトキシトリチルからなる群から選択され、R4は以下:
から選択される)の化合物を形成するステップ;
(e)以下の連続したステップ:
(e1)直前のステップによって形成された生成物を脱ブロッキング剤と接触させるステップ、および
(e2)直前のステップによって形成された化合物を式(A8):
(式中、R3はトリチル、モノメトキシトリチル、ジメトキシトリチルおよびトリメトキシトリチルからなる群から選択され、R4は、式(A8)の各化合物について独立して、以下:
からなる群から選択される)の化合物と接触させて式(A9):
(式中、nは10〜40の整数であり、R1は支持媒体であり、R3はトリチル、モノメトキシトリチル、ジメトキシトリチルおよびトリメトキシトリチルからなる群から選択され、R4は、各出現について独立して、以下:
からなる群から選択される)の化合物を形成するステップ
のn−1回の反復を実施するステップ;
(f)式(A9)の化合物を脱ブロッキング剤と接触させて式(A10):
(式中、nは10〜40の整数であり、R1は支持媒体であり、R4は、各出現について独立して、以下:
からなる群から選択される)の化合物を形成するステップ;
(g)式(A10)の化合物を切断剤と接触させて式(A11):
(式中、nは10〜40の整数であり、R4は、各出現について独立して、以下:
からなる群から選択される)の化合物を形成するステップ;ならびに
(h)式(A11)の化合物を脱保護剤と接触させて式(A)のオリゴマー化合物を形成するステップ
を含むプロセス。 Formula (A):
(Wherein n is an integer from 10 to 40 and each R 2 is independently for each occurrence:
A process for preparing an oligomeric compound selected from the group consisting of: said process comprising the following successive steps:
(A) Formula (A1):
A compound of the formula (II) is contacted with a compound of the formula (II) wherein R 1 is a supporting medium and R 3 is selected from the group consisting of trityl, monomethoxytrityl, dimethoxytrityl and trimethoxytrityl.
Forming a compound of the formula: wherein R 1 is a support medium;
(B) a compound of formula (II)
(Wherein R 3 is selected from the group consisting of trityl, monomethoxytrityl, dimethoxytrityl and trimethoxytrityl) and contacted with a compound of the formula (A3):
(C) contacting a compound of formula (A3) with a deblocking agent to form a compound of formula (IV):
Forming a compound of the formula: wherein R 1 is a support medium;
(D) The compound of the formula (IV) is a compound of the formula (A4):
Wherein R 3 is selected from the group consisting of trityl, monomethoxytrityl, dimethoxytrityl and trimethoxytrityl, and R 4 is
In contact with a compound of the formula (A5):
Wherein R 1 is a support medium, R 3 is selected from the group consisting of trityl, monomethoxytrityl, dimethoxytrityl and trimethoxytrityl, and R 4 is
Forming a compound selected from
(E) The following consecutive steps:
(E1) contacting the product formed by the immediately preceding step with a deblocking agent, and (e2) forming the compound formed by the immediately preceding step into a compound of the formula (A8):
Wherein R 3 is selected from the group consisting of trityl, monomethoxytrityl, dimethoxytrityl and trimethoxytrityl, R 4 is independently for each compound of formula (A8):
In contact with a compound of the formula (A9):
(Wherein n is an integer of 10 to 40, R 1 is a supporting medium, R 3 is selected from the group consisting of trityl, monomethoxytrityl, dimethoxytrityl and trimethoxytrityl, and R 4 is each occurrence About independently, below:
Performing n-1 iterations of forming the compound of selected from the group consisting of
(F) contacting a compound of formula (A9) with a deblocking agent to form a compound of formula (A10):
Where n is an integer from 10 to 40, R 1 is a support medium, R 4 is independently for each occurrence:
Forming a compound selected from the group consisting of
(G) contacting a compound of formula (A10) with a cleaving agent to form a compound of formula (A11):
(Wherein n is an integer from 10 to 40 and R 4 is independently for each occurrence:
And (h) contacting the compound of formula (A11) with a deprotecting agent to form an oligomeric compound of formula (A).
の化合物であり、式中、
R3はトリチル、モノメトキシトリチル、ジメトキシトリチルおよびトリメトキシトリチルからなる群から選択され、
R4は、以下:
から選択される、
請求項1に記載のプロセス。 The compound of formula (A4) is a compound of formula (A4a):
Compounds of the formula
R 3 is selected from the group consisting of trityl, monomethoxytrityl, dimethoxytrityl and trimethoxytrityl,
R 4 has the following:
Is selected from
The process of claim 1.
の化合物であり、式中、
R1は支持媒体であり、
R3はトリチル、モノメトキシトリチル、ジメトキシトリチルおよびトリメトキシトリチルからなる群から選択され、
R4は、以下:
から選択される、
請求項1または2に記載のプロセス。 The compound of formula (A5) is a compound of formula (A5a):
Compounds of the formula
R 1 is a support medium,
R 3 is selected from the group consisting of trityl, monomethoxytrityl, dimethoxytrityl and trimethoxytrityl,
R 4 has the following:
Is selected from
A process according to claim 1 or 2.
の化合物であり、式中、
R3はトリチル、モノメトキシトリチル、ジメトキシトリチルおよびトリメトキシトリチルからなる群から選択され、
R4は、式(A8a)の化合物の各出現で独立して、以下:
からなる群から選択される、
請求項1〜3のいずれか一項に記載のプロセス。 The compound of formula (A8) is a compound of formula (A8a):
Compounds of the formula
R 3 is selected from the group consisting of trityl, monomethoxytrityl, dimethoxytrityl and trimethoxytrityl,
R 4 is independently at each occurrence of a compound of formula (A8a):
Selected from the group consisting of
Process according to any of the preceding claims.
の化合物であり、式中、
nは10〜40の整数であり、
R1は支持媒体であり、
R3はトリチル、モノメトキシトリチル、ジメトキシトリチルおよびトリメトキシトリチルからなる群から選択され、
R4は、各出現について独立して、以下:
からなる群から選択される、
請求項1〜4のいずれか一項に記載のプロセス。 The compound of formula (A9) is a compound of formula (A9a):
Compounds of the formula
n is an integer of 10 to 40,
R 1 is a support medium,
R 3 is selected from the group consisting of trityl, monomethoxytrityl, dimethoxytrityl and trimethoxytrityl,
R 4 is independently for each occurrence:
Selected from the group consisting of
A process according to any one of the preceding claims.
の化合物であり、式中、
nは10〜40の整数であり、
R1は支持媒体であり、
R4は、各出現について独立して、以下:
からなる群から選択される、
請求項1〜5のいずれか一項に記載のプロセス。 The compound of formula (A10) is a compound of formula (A10a):
Compounds of the formula
n is an integer of 10 to 40,
R 1 is a support medium,
R 4 is independently for each occurrence:
Selected from the group consisting of
A process according to any one of the preceding claims.
の化合物であり、式中、
nは10〜40の整数であり、
R4は、各出現について独立して、以下:
からなる群から選択される、
請求項1〜6のいずれか一項に記載のプロセス。 The compound of the formula (A11) is a compound of the formula (A11a):
Compounds of the formula
n is an integer of 10 to 40,
R 4 is independently for each occurrence:
Selected from the group consisting of
A process according to any one of the preceding claims.
であり、
式(A)のオリゴマー化合物は式(C):
の化合物、またはその医薬的に許容される塩である、
請求項1〜7のいずれか一項に記載のプロセス。 For the oligomeric compounds of formula (A), n is 22 and R 2 is 5 'to 3' from each of the following positions:
And
The oligomeric compounds of formula (A) have the formula (C):
Or a pharmaceutically acceptable salt thereof,
A process according to any one of the preceding claims.
のオリゴマー化合物、またはその医薬的に許容される塩である、請求項1〜8のいずれか一項に記載のプロセス。 The oligomeric compounds of formula (C) have the formula (XII):
The process according to any one of claims 1 to 8, which is an oligomeric compound of or a pharmaceutically acceptable salt thereof.
のオリゴマー化合物を調製するためのプロセスであって、以下の連続したステップ:
(a)式(I):
(式中、R1は支持媒体である)の化合物を脱ブロッキング剤と接触させて式(II):
(式中、R1は支持媒体である)の化合物を形成するステップ;
(b)式(II)の化合物を化合物(B):
と接触させて式(III):
(式中、R1は支持媒体である)の化合物を形成するステップ;
(c)式(III)の化合物を脱ブロッキング剤と接触させて式(IV):
(式中、R1は支持媒体である)の化合物を形成するステップ;
(d)式(IV)の化合物を式(D):
の化合物と接触させて式(V):
(式中、R1は支持媒体である)の化合物を形成するステップ;
(e)式(V)の化合物を脱ブロッキング剤と接触させて式(VI):
(式中、R1は支持媒体である)の化合物を形成するステップ;
(f)式(VI)の化合物を式(F):
の化合物と接触させて式(VII):
(式中、R1は支持媒体である)の化合物を形成するステップ;
(g)以下の連続したステップ:
(g1)直前のステップによって形成された生成物を脱ブロッキング剤と接触させるステップ、および
(g2)直前のステップによって形成された化合物を式(VIII):
(式中、R2は、式(VIII)の各化合物について独立して、以下:
からなる群から選択され、各反復1〜20について、R2は、以下:
である)の化合物と接触させて式(IX):
(式中、
R1は支持媒体であり、
R2は、各出現について独立して、以下:
からなる群から選択され、
R2は5’から3’へ向かって1〜22の各位置で以下:
である)の化合物を形成するステップ
の20回の反復を実施するステップ;
(h)式(IX)の化合物を脱ブロッキング剤と接触させて式(X):
(式中、
R1は支持媒体であり、
R2は、各出現について独立して、以下:
からなる群から選択され、
R2は5’から3’へ向かって1〜22の各位置で以下:
である)の化合物を形成するステップ;
(i)式(X)の化合物を切断剤と接触させて式(XI):
(式中、R2は、各出現について独立して、以下:
からなる群から選択され、
R2は5’から3’へ向かって1〜22の各位置で以下:
である)の化合物を形成するステップ;ならびに
(j)式(XI)の化合物を脱保護剤と接触させて式(C)のオリゴマー化合物を形成するステップ
を含む、請求項1に記載のプロセス。 Formula (C):
A process for preparing an oligomeric compound of the following sequence of steps:
(A) Formula (I):
A compound of the formula (II) in which R 1 is a supporting medium is contacted with a deblocking agent:
Forming a compound of the formula: wherein R 1 is a support medium;
(B) a compound of formula (II):
In contact with the compound of formula (III):
Forming a compound of the formula: wherein R 1 is a support medium;
(C) contacting a compound of formula (III) with a deblocking agent to form a compound of formula (IV):
Forming a compound of the formula: wherein R 1 is a support medium;
(D) a compound of formula (IV)
In contact with a compound of formula (V):
Forming a compound of the formula: wherein R 1 is a support medium;
(E) contacting a compound of formula (V) with a deblocking agent to form a compound of formula (VI):
Forming a compound of the formula: wherein R 1 is a support medium;
(F) a compound of formula (VI):
In contact with a compound of formula (VII):
Forming a compound of the formula: wherein R 1 is a support medium;
(G) The following consecutive steps:
(G1) contacting the product formed by the immediately preceding step with a deblocking agent, and (g2) the compound formed by the immediately preceding step being a compound of formula (VIII):
(Wherein R 2 is independently for each compound of formula (VIII)
Are selected from the group consisting of and for each iteration 1 to 20, R 2 is
In contact with the compound of formula (IX):
(In the formula,
R 1 is a support medium,
R 2 is independently for each occurrence:
Selected from the group consisting of
R 2 is as follows at each position 1 to 22 from 5 'to 3':
Performing 20 iterations of forming the compound of
(H) contacting a compound of formula (IX) with a deblocking agent to form a compound of formula (X):
(In the formula,
R 1 is a support medium,
R 2 is independently for each occurrence:
Selected from the group consisting of
R 2 is as follows at each position 1 to 22 from 5 'to 3':
Forming a compound of
(I) contacting a compound of formula (X) with a cleaving agent to form a compound of formula (XI):
(Wherein R 2 is independently for each occurrence:
Selected from the group consisting of
R 2 is as follows at each position 1 to 22 from 5 'to 3':
A process according to claim 1, comprising the steps of: b) forming a compound of b); and (j) contacting the compound of formula (XI) with a deprotecting agent to form an oligomeric compound of formula (C).
の化合物であって、式中、
R1は支持媒体であり、
R2は、各出現で独立して、以下:
からなる群から選択され、
R2は5’から3’へ向かって1〜22の各位置で以下:
である、
化合物、またはその医薬的に許容される塩。 (Formula IX):
A compound of the formula
R 1 is a support medium,
R 2 is independently at each occurrence:
Selected from the group consisting of
R 2 is as follows at each position 1 to 22 from 5 'to 3':
Is
A compound, or a pharmaceutically acceptable salt thereof.
の化合物であり、式中、
R1は支持媒体であり、
R2は、各出現で独立して、以下:
からなる群から選択され、
R2は5’から3’へ向かって1〜22の各位置で以下:
である、
請求項16に記載の化合物、またはその医薬的に許容される塩。 Compounds of formula (IX) are compounds of formula (IXa):
Compounds of the formula
R 1 is a support medium,
R 2 is independently at each occurrence:
Selected from the group consisting of
R 2 is as follows at each position 1 to 22 from 5 'to 3':
Is
The compound according to claim 16, or a pharmaceutically acceptable salt thereof.
の化合物であって、式中、
R1は支持媒体であり、
R2は、各出現で独立して、以下:
からなる群から選択され、
R2は5’から3’へ向かって1〜22の各位置で以下:
である、
化合物、またはその医薬的に許容される塩。 (Formula X):
A compound of the formula
R 1 is a support medium,
R 2 is independently at each occurrence:
Selected from the group consisting of
R 2 is as follows at each position 1 to 22 from 5 'to 3':
Is
A compound, or a pharmaceutically acceptable salt thereof.
の化合物であり、式中、
R1は支持媒体であり、
R2は、各出現で独立して、以下:
からなる群から選択され、
R2は5’から3’へ向かって1〜22の各位置で以下:
である、
請求項70に記載の化合物、またはその医薬的に許容される塩。 Compounds of formula (X) have the formula (Xa):
Compounds of the formula
R 1 is a support medium,
R 2 is independently at each occurrence:
Selected from the group consisting of
R 2 is as follows at each position 1 to 22 from 5 'to 3':
Is
71. The compound of Claim 70, or a pharmaceutically acceptable salt thereof.
の化合物であって、式中、
R2は、各出現で独立して、以下:
からなる群から選択され、
R2は5’から3’へ向かって1〜22の各位置で以下:
である、
化合物、またはその医薬的に許容される塩。 (Formula XI):
A compound of the formula
R 2 is independently at each occurrence:
Selected from the group consisting of
R 2 is as follows at each position 1 to 22 from 5 'to 3':
Is
A compound, or a pharmaceutically acceptable salt thereof.
の化合物であり、式中、
R2は、各出現で独立して、以下:
からなる群から選択され、
R2は5’から3’へ向かって1〜22の各位置で以下:
である、
請求項21に記載の化合物、またはその医薬的に許容される塩。 Compounds of formula (XI) are compounds of formula (XIa):
Compounds of the formula
R 2 is independently at each occurrence:
Selected from the group consisting of
R 2 is as follows at each position 1 to 22 from 5 'to 3':
Is
22. A compound according to claim 21 or a pharmaceutically acceptable salt thereof.
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