JP2019178904A - 振動素子、振動素子の製造方法、物理量センサー、慣性計測装置、電子機器および移動体 - Google Patents

Abstract

【課題】製造工数の削減が可能で製造が容易な振動素子およびその製造方法を提供すること、また、この振動素子を備える物理量センサー、慣性計測装置、電子機器および移動体を提供する。【解決手段】基部と、前記基部から延在し、前記基部側に位置して電気的に互いに絶縁された一対の電極膜が配置されている腕部および前記腕部より先端側に位置する錘部を有する振動腕と、前記錘部に配置されている錘膜と、を備え、前記振動腕は、表裏関係にある第１主面および第２主面を有しており、前記一対の電極膜および前記錘膜は、前記第１主面および前記第２主面に配置されており、前記第１主面に配置された前記一対の電極膜の少なくとも一方の厚さ、前記第１主面に配置された前記錘膜、前記第２主面に配置された前記一対の電極膜の少なくとも一方の厚さ、および前記第２主面に配置された前記錘膜の厚さが、それぞれ５０ｎｍ以上５００ｎｍ以下である振動素子。【選択図】図５

Description

本発明は、振動素子、振動素子の製造方法、物理量センサー、慣性計測装置、電子機器および移動体に関するものである。

従来、水晶振動子、振動型ジャイロセンサー等のデバイスに用いられる振動素子が知られている。このような振動素子の一例である、特許文献１に記載の音叉型水晶振動片は、基部と、基部から二股に別れて平行に延びる１対の振動腕と、を備えている。ここで、振動腕の表裏面には、励振電極および錘が形成されている。この励振電極に駆動電圧を入力することにより、振動腕に電界を生じさせ、振動させることができる。

また、特許文献１に記載の音叉型水晶振動片では、振動腕の先端領域の表面全体に励振電極が設けられている一方、先端領域の裏面には励振電極に加え、錘が積層されている。錘にレーザーが照射されると、質量が減少し、それによって振動の周波数を調整することができる。

特開２００６−３１１４４４号公報

しかしながら、特許文献１に記載の音叉型水晶振動片では、励振電極と錘とが個別に設けられている。したがって、このような水晶振動片を製造する際には、励振電極を形成する工程と、錘を形成する工程と、を個別に行う必要がある。このため、製造工程数が多くなり、製造効率の低下や製造コストの上昇を招いている。

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の適用例または形態として実現することが可能である。

本適用例の振動素子は、基部と、
前記基部から延在し、前記基部側に位置して電気的に互いに絶縁された一対の電極膜が配置されている腕部および前記腕部より先端側に位置する錘部を有する振動腕と、
前記錘部に配置されている錘膜と、
を備え、
前記振動腕は、表裏関係にある第１主面および第２主面を有しており、
前記一対の電極膜および前記錘膜は、前記第１主面および前記第２主面に配置されており、
前記第１主面に配置された前記一対の電極膜の少なくとも一方の厚さ、前記第１主面に配置された前記錘膜、前記第２主面に配置された前記一対の電極膜の少なくとも一方の厚さ、および前記第２主面に配置された前記錘膜の厚さが、それぞれ５０ｎｍ以上５００ｎｍ以下であることを特徴とする。

本発明の第１実施形態に係る振動素子を示す平面図である。 図１中のＡ−Ａ線断面図である。 振動素子の振動腕（駆動腕）の錘部近傍を拡大して示す平面図である。 図３中Ｂ−Ｂ線断面図である。 図３中Ｃ−Ｃ線断面図である。 第１実施形態に係る振動素子の製造方法を示すフローチャートである。 第１実施形態に係る振動素子の製造方法において、振動腕上に電極膜および錘膜を成膜する成膜工程を説明するための断面図である。 第１実施形態に係る振動素子の製造方法において、振動腕上に電極膜および錘膜を成膜する成膜工程を説明するための断面図である。 第１実施形態に係る振動素子の製造方法において、周波数調整工程を説明するための断面図である。 第１実施形態に係る振動素子の製造方法の一部を変更した例において、周波数調整工程を説明するための断面図である。 第１実施形態に係る振動素子の製造方法の一部を変更した例において、周波数調整工程を説明するための断面図である。 本発明の第２実施形態に係る振動素子を示す平面図である。 本発明の第３実施形態に係る振動素子を示す平面図である。 本発明の実施形態に係る物理量センサーを示す断面図である。 本発明の慣性計測装置の実施形態を示す分解斜視図である。 図１５に示す慣性計測装置が備える基板の斜視図である。 本発明の電子機器の実施形態（モバイル型のパーソナルコンピューター）を示す斜視図である。 本発明の電子機器の実施形態（携帯電話機）を示す平面図である。 本発明の電子機器の実施形態（デジタルスチールカメラ）を示す斜視図である。 本発明の移動体の実施形態（自動車）を示す斜視図である。

以下、本発明の振動素子、振動素子の製造方法、物理量センサー、慣性計測装置、電子機器および移動体を添付図面に示す実施形態に基づいて詳細に説明する。

１．振動素子およびその製造方法
＜第１実施形態＞
まず、第１実施形態に係る振動素子およびその製造方法について説明する。

（振動素子）
図１は、本発明の第１実施形態に係る振動素子を示す平面図である。図２は、図１中のＡ−Ａ線断面図である。図３は、振動素子の振動腕（駆動腕）の錘部近傍を拡大して示す平面図である。図４は、図３中Ｂ−Ｂ線断面図である。図５は、図３中Ｃ−Ｃ線断面図である。各図では、必要に応じて各部の寸法を適宜誇張して図示しており、また、各部間の寸法比は実際の寸法比とは必ずしも一致しない。以下に説明する各部の位置、方向および大きさ等は、製造上の誤差等の範囲、例えば差が±１％以内も含み、各部の必要な機能を実現し得る限り、本願明細書に記載の位置、方向および大きさ等に限定されない。

なお、以下では、説明の便宜上、互いに直交する３軸であるｘ軸、ｙ軸およびｚ軸を適宜用いて説明を行う。以下では、ｘ軸に平行な方向を「ｘ軸方向」、ｙ軸に平行な方向を「ｙ軸方向」、ｚ軸に平行な方向を「ｚ軸方向」と言い、図中、ｘ軸、ｙ軸およびｚ軸の各軸を示す矢印の先端側を「＋」、基端側を「−」とする。また、＋ｚ軸方向側を「上」、−ｚ軸方向側を「下」、＋ｘ軸方向側を「右」、−ｘ軸方向側を「左」とも言う。また、ｚ軸方向から見ることを「平面視」と言う。図１では、説明の便宜上、後述する電極膜４の図示を省略している。

図１に示す振動素子１は、ｚ軸まわりの角速度を検出するセンサー素子である。この振動素子１は、振動片２（図１参照）と、振動片２上に配置されている電極膜４（図２参照）と、を有する。

振動片２は、図１に示すように、いわゆるダブルＴ型と呼ばれる構造を有する。具体的に説明すると、振動片２は、基部２１と、基部２１から延在した、１対の検出腕２２、２３、１対の駆動腕２４、２５および１対の駆動腕２６、２７と、を有する。つまり、振動片２は、基部２１から延出した全６本の振動腕を有する。

ここで、基部２１は、後述するパッケージ１１に支持される基部本体２１１と、基部本体２１１から＋ｘ軸方向に沿って延在している連結腕２１２と、基部本体２１１から連結腕２１２の延在方向と反対方向の−ｘ軸方向に沿って延在している連結腕２１３と、を有する。そして、検出腕２２は、基部本体２１１から連結腕２１２、２１３の延在方向と交差する＋ｙ軸方向に沿って延在し、検出腕２３は、基部本体２１１から検出腕２２の延在方向とは反対方向の−ｙ軸方向に沿って延在している。駆動腕２４は、連結腕２１２の先端領域から＋ｙ軸方向に沿って延在し、駆動腕２５は、連結腕２１２の先端領域から駆動腕２４の延在方向と反対方向の−ｙ軸方向に沿って延在している。同様に、駆動腕２６は、連結腕２１３の先端領域から＋ｙ軸方向に沿って延在し、駆動腕２７は、連結腕２１３の先端領域から駆動腕２６の延在方向と反対方向の−ｙ軸方向に沿って延在している。

また、検出腕２２は、基部本体２１１から延在している腕部２２１（検出腕部）と、腕部２２１に対して先端側に設けられ、腕部２２１よりも幅の大きい錘部２２２（検出錘部）と、腕部２２１の上下面の各々に設けられている溝２２３と、を有する。同様に、検出腕２３は、腕部２３１（検出腕部）と、錘部２３２（検出錘部）と、１対の溝２３３と、を有する。

また、駆動腕２４は、連結腕２１２から延在している腕部２４１（駆動腕部）と、腕部２４１に対して先端側に設けられ、腕部２４１よりも幅の大きい錘部２４２（駆動錘部）と、腕部２４１の上下面に設けられている１対の溝２４３と、を有する。同様に、駆動腕２５は、腕部２５１（駆動腕部）と、錘部２５２（駆動錘部）と、１対の溝２５３と、を有する。また、駆動腕２６は、連結腕２１３から延在している腕部２６１（駆動腕部）と、腕部２６１に対して先端側に設けられ、腕部２６１よりも幅の大きい錘部２６２（駆動錘部）と、腕部２６１の上下面に設けられている１対の溝２６３と、を有する。同様に、駆動腕２７は、腕部２７１（駆動腕部）と、錘部２７２（駆動錘部）と、１対の溝２７３と、を有する。

なお、腕部２２１、２３１、２４１、２５１、２６１、２７１とは、振動腕のうち、溝２２３、２３３、２４３、２５３、２６３、２７３が設けられている部分のことをいう。一方、錘部２２２、２３２、２４２、２５２、２６２、２７２は、振動腕のうち、腕部２２１、２３１、２４１、２５１、２６１、２７１以外のことをいう。具体的には、腕部２２１、２３１、２４１、２５１、２６１、２７１よりも幅の大きい部分と、溝２２３、２３３、２４３、２５３、２６３、２７３の先端（＋ｙ軸方向の端）と錘部２２２、２３２、２４２、２５２、２６２、２７２との間の部分と、を含む概念である。

なお、溝２２３、２３３、２４３、２５３、２６３、２７３が設けられない場合も考慮すると、錘部２２２、２３２、２４２、２５２、２６２、２７２は、相対的に幅の大きい部分と、その部分の基端を起点とし、そこから基端側に向かって、振動腕の全長の１０％の範囲の部分と、を含む概念である。

ところで、例えば、駆動腕２４としては基部である連結腕のｙ軸方向の中央から錘部２４２の先端までの長さが１．００ｍｍ、錘部のｙ軸方向の長さが０．３３ｍｍ、錘部のｘ軸方向の大きさが０．２６ｍｍ、腕部２４１のｘ軸方向の大きさが０．０９ｍｍ、ｚ軸方向の大きさである厚さが０．１０ｍｍの形状が適用でき、検出腕２２としては、基部本体２１１のｙ軸方向の中央から錘部２２２の先端までの長さが１．００ｍｍ、錘部のｙ軸方向の長さが０．３３ｍｍ、錘部のｘ軸方向の大きさが０．４０ｍｍ、腕部２２１のｘ軸方向の大きさが０．０８ｍｍｍ、厚さが０．１０ｍｍの形状が適用できる。

なお、溝２２３、２３３、２４３、２５３、２６３、２７３は、それぞれ、上下１対のうちの少なくとも一方を省略してもよい。また、溝２２３、２３３、２４３、２５３、２６３、２７３は、それぞれ、上下１対が互いに連通していてもよい。すなわち、腕部２２１、２３１、２４１、２５１、２６１、２７１に、上下面に開口する貫通孔を設けてもよい。また、錘部２２２、２３２、２４２、２５２、２６２、２７２の幅は、腕部２２１、２３１、２４１、２５１、２６１、２７１の幅以下であってもよい。

ここで、腕部２２１は、検出腕２２の振動時（検出振動時）に屈曲する部分であり、かつ、検出腕２２の検出振動に伴って生じる電荷を検出する部分、すなわち後述する検出信号電極４３および検出接地電極４４が設けられている部分である。同様に、腕部２３１は、検出腕２３の振動時（検出振動時）に屈曲する部分であり、かつ、検出腕２３の検出振動に伴って生じる電荷を検出する部分、すなわち後述する検出信号電極４３および検出接地電極４４が設けられている部分である。また、腕部２４１は、駆動腕２４の振動時（駆動振動時）に屈曲する部分であり、かつ、駆動腕２４の駆動のための電界が印加される部分、すなわち後述する駆動信号電極４１および駆動接地電極４２が設けられている部分である。同様に、腕部２５１、２６１、２７１は、それぞれ、駆動腕２５、２６、２７の振動時（駆動振動時）に屈曲する部分であり、かつ、駆動腕２５、２６、２７の駆動のための電界が印加される部分、すなわち後述する駆動信号電極４１および駆動接地電極４２が設けられている部分である。また、錘部２２２は、腕部２２１よりも先端側に位置している。同様に、錘部２３２、２４２、２５２、２６２、２７２は、それぞれ、腕部２３１、２４１、２５１、２６１、２７１よりも先端側に位置している。

振動片２は、例えばＺカット水晶板で構成されている。振動片２をＺカット水晶板で構成することで、振動片２の振動特性、特に周波数温度特性を優れたものとすることができる。また、エッチングにより高い寸法精度で振動片２を形成することができる。水晶は、三方晶系に属しており、結晶軸として互いに直交するＸ軸、Ｙ軸およびＺ軸を有している。Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸は、それぞれ、電気軸、機械軸、光学軸と呼称される。Ｚカット水晶板は、Ｙ軸（機械軸）およびＸ軸（電気軸）で規定されるＸＹ平面に広がりを有し、Ｚ軸（光軸）方向に厚みを有する板状をなしている水晶基板である。ここで、振動片２を構成する水晶のＸ軸がｘ軸に平行であり、Ｙ軸がｙ軸に平行であり、Ｚ軸がｚ軸に平行である。

なお、振動片２は、水晶以外の圧電体材料で構成されていてもよい。水晶以外の圧電体材料としては、例えば、タンタル酸リチウム、ニオブ酸リチウム、ホウ酸リチウム、チタン酸バリウム等が挙げられる。また、振動片２の構成によっては、振動片２をＺカット以外のカット角の水晶板で構成してもよい。また、振動片２は、圧電体材料以外の材料、すなわち圧電性を有しない材料、例えば、シリコン等で構成されていてもよく、この場合、検出腕２２、２３および駆動腕２４、２５、２６、２７の各腕部上に圧電素子、例えばＰＺＴ等で構成された圧電体膜を１対の電極間に挟んだ構成の素子を配置すればよい。

このように構成された振動片２の表面のうち、駆動腕２４、２５、２６、２７（振動腕）の腕部２４１、２５１、２６１、２７１上には、電極膜４が設けられている。この電極膜４は、図２に示す駆動信号電極４１、駆動接地電極４２、検出信号電極４３および検出接地電極４４と、図１に示す検出信号電極４５と、を有する。

駆動信号電極４１は、駆動腕２４、２５、２６、２７の駆動振動を励起させるための電極である。図２に示すように、駆動信号電極４１は、駆動腕２４の表裏関係にある第１主面２ａ（下面）と第２主面２ｂ（上面）のうち腕部２４１の上下面と、駆動腕２６の腕部２６１の両側面（上面と下面とを接続する側面の双方）と、にそれぞれ設けられている。同様に、駆動信号電極４１は、駆動腕２５の表裏関係にある第１主面２ａ（下面）と第２主面２ｂ（上面）のうち腕部２５１の上下面（図１参照）と、駆動腕２７の腕部２７１の両側面（上面と下面とを接続する側面の双方）とにそれぞれ設けられている。

一方、駆動接地電極４２は、駆動信号電極４１に対して基準となる電位、例えばグランド電位を有する。図２に示すように、駆動接地電極４２は、腕部２４１の両側面、すなわち上面と下面とを接続する側面の双方と、駆動腕２６の腕部２６１の上下面にそれぞれ設けられている。同様に、駆動接地電極４２は、腕部２５１の両側面、すなわち上面と下面とを接続する側面の双方と、駆動腕２７の腕部２７１の上下面（図１参照）にそれぞれ設けられている。つまり、駆動腕２４、２５、２６、２７には、上下面に設けられ、かつ電気的に互いに絶縁された一対の電極膜４が設けられている。

検出信号電極４３は、検出腕２２の検出振動が励起されたときに、その検出振動によって発生する電荷を検出するための電極である。図２に示すように、検出信号電極４３は、検出腕２２の表裏関係にある第１主面２ａ（下面）と第２主面２ｂ（上面）のうち腕部２２１の上下面に設けられている。

一方、検出接地電極４４は、検出信号電極４３に対して基準となる電位、例えばグランド電位を有する。図２に示すように、検出接地電極４４は、腕部２２１の両側面、すなわち上面と下面とを接続する側面の双方に設けられている。

また、検出腕２３の検出振動が励起されたときに、その検出振動によって発生する電荷を検出するための検出信号電極４５は、検出腕２３の表裏関係にある第１主面２ａ（下面）と第２主面２ｂ（上面）のうち腕部２３１の上下面に設けられている（図１参照）。同様に、検出腕２３の検出接地電極は、検出腕２３の検出信号電極に対して基準となる電位（例えばグランド電位）を有し、検出腕２３の腕部２３１の両側面（上面と下面とを接続する側面の双方）に設けられている（図示せず）。なお、検出腕２２の検出信号電極４３と検出腕２３の検出信号電極４５との差動信号によって振動検出してもよい。

また、振動片２の表面のうち、駆動腕２４、２５、２６、２７（振動腕）の錘部２４２、２５２、２６２、２７２上には、錘膜３が設けられている。この錘膜３は、図１に示すように、錘部２２２上に配置されている錘膜３１と、錘部２３２上に配置されている錘膜３２と、錘部２４２上に配置されている錘膜３３と、錘部２５２上に配置されている錘膜３４と、錘部２６２上に配置されている錘膜３５と、錘部２７２上に配置されている錘膜３６と、を有する。

錘膜３１、３２は、エネルギー線の照射により適量除去されることで、検出腕２２、２３の共振周波数を調整するのに用いることが可能な膜である。また、錘膜３３、３４、３５、３６は、エネルギー線の照射により適量除去されることで、駆動腕２４、２５、２６、２７の共振周波数を調整するのに用いることが可能な膜である。

錘膜３３は、図４に示すように、駆動腕２４の表裏関係にある第１主面２ａ（下面）および第２主面２ｂ（上面）のうち錘部２４２の上下面と、錘部２４２の両側面と、に設けられている。つまり、錘膜３３は、錘部２４２を取り囲むように配置されている。

したがって、駆動腕２４の上下面のうち、腕部２４１には駆動信号電極４１が配置され、錘部２４２には錘膜３３が配置されている。そして、駆動腕２４全体について見ると、腕部２４１から錘部２４２にかけて一体になった膜が設けられ、そのうち、腕部２４１に配置されている部分が電極膜４（駆動信号電極４１）であり、錘部２４２に配置されている部分が錘膜３（錘膜３３）になっている。

また、このような錘膜３３と同様に、錘膜３４、３５、３６についても、錘部２５２、２６２、２７２を取り囲むように配置されている。そして、駆動腕２５、２６、２７のそれぞれの全体について見ると、腕部２５１、２６１、２７１から錘部２５２、２６２、２７２にかけてそれぞれ一体になった膜が設けられ、そのうち、腕部２５１、２６１、２７１上に配置されている部分が電極膜４（駆動信号電極４１または駆動接地電極４２）であり、錘部２５２、２６２、２７２に配置されている部分が錘膜３（錘膜３４、３５、３６）になっている。

ここで、電極膜４の厚さおよび錘膜３の厚さは、それぞれ５０ｎｍ以上５００ｎｍ以下になっている。電極膜４の厚さおよび錘膜３の厚さが前記範囲内であることにより、電極膜４と錘膜３を同一のプロセスで形成することが可能になる。このため、振動素子１の製造工数の削減を図ることができ、振動素子１を容易に製造することができる。したがって、かかる振動素子１は、製造効率が高く製造コストが低いものとなる。

また、特に、錘膜３の厚さが前記範囲内であることにより、錘膜３は、エネルギー線が照射されたときに十分な質量変化を生じ得る程度の厚さを有するものとなる。これにより、駆動腕２４、２５、２６、２７の周波数の調整幅を広く確保することができ、不良率の低減を図ることができる。加えて、厚さが適切に抑えられていることにより、膜応力の増大に伴って振動素子１に損傷等が発生するのを抑制することができる。

一方、電極膜４の厚さが前記範囲内であることにより、電極膜４は、十分な導電性を有するものとなる。これにより、振動素子１における消費電力の低減を図ることができる。加えて、厚さが適切に抑えられていることにより、駆動腕２４、２５、２６、２７の振動特性、例えば機械的特性の経時劣化等が低下するのを抑制することができる。

なお、錘膜３の厚さが前記下限値を下回ると、エネルギー線が照射されたとき、錘膜３において十分な質量変化を生じさせられないため、駆動腕２４、２５、２６、２７の共振周波数の調整幅が狭くなるおそれがある。一方、錘膜３の厚さが前記上限値を上回ると、膜応力が増大するため、振動素子１に損傷等が発生するおそれがある。

また、電極膜４の厚さが前記下限値を下回ると、電極膜４の導電性が低下するおそれがある。一方、電極膜４の厚さが前記上限値を上回ると、膜応力が増大するとともに、駆動腕２４、２５、２６、２７の振動特性が低下して振動素子１における検出特性が低下するおそれがある。

また、電極膜４は、図４および図５に示すように、下地側すなわち振動片２側に位置する第１膜４ａと、第１膜４ａ上すなわち下地側とは反対側に位置する第２膜４ｂと、を有する。このような多層構造になっていることで、例えば第１膜４ａについては下地との密着性が高い材料で構成し、第２膜４ｂについては導電性が高い材料で構成することができる。これにより、下地との密着性が高く、かつ導電性が良好な電極膜４を実現することができる。

同様に、錘膜３は、図４および図５に示すように、下地側すなわち振動片２側に位置する第１膜３ａと、第１膜３ａ上すなわち下地側とは反対側に位置する第２膜３ｂと、を有する。このような多層構造になっていることで、例えば第１膜３ａについては下地との密着性が高い材料で構成し、第２膜３ｂについてはエネルギー線による加工性が良好な材料で構成することができる。これにより、下地との密着性が高く、かつ駆動腕２４、２５、２６、２７の周波数調整を容易にする錘膜３を実現することができる。

第１膜４ａ、３ａの構成材料としては、例えば、チタン（Ｔｉ）、クロム（Ｃｒ）等の金属材料の単体もしくは合金、またはこれらを含む材料が挙げられる。これにより、例えば水晶を用いて形成された振動片２に対する密着性に優れた第１膜４ａ、３ａを実現することができる。

第２膜４ｂ、３ｂの構成材料としては、例えば、金（Ａｕ）、金合金、白金（Ｐｔ）、アルミニウム（Ａｌ）、アルミニウム合金、銀（Ａｇ）、銀合金、クロム（Ｃｒ）、クロム合金、銅（Ｃｕ）、モリブデン（Ｍｏ）、ニオブ（Ｎｂ）、タングステン（Ｗ）、鉄（Ｆｅ）、チタン（Ｔｉ）、コバルト（Ｃｏ）、亜鉛（Ｚｎ）、ジルコニウム（Ｚｒ）等の金属材料や、ＩＴＯ、ＺｎＯ等の透明電極材料を用いることができ、中でも、金を主材料とする金属、例えば金、金合金など、または白金を用いるのが好ましい。

また、特に、錘膜３の構成材料としては、上記に加え、例えば、無機化合物、樹脂等を用いることもできる。

このうち、無機化合物としては、アルミナ（酸化アルミニウム）、シリカ（酸化シリコン）、チタニア（酸化チタン）、ジルコニア、イットリア、リン酸カルシウム等の酸化物セラミックス、窒化珪素、窒化アルミ、窒化チタン、窒化ボロン等の窒化物セラミックス、グラファイト、タングステンカーバイト等の炭化物系セラミックス、その他、例えばチタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム、ＰＺＴ、ＰＬＺＴ、ＰＥＢＺＴ等の強誘電体材料等が挙げられ、中でも、酸化シリコン（ＳｉＯ_２）、酸化チタン（ＴｉＯ_２）、酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）等の絶縁材料を用いるのが好ましい。

なお、第１膜４ａ、３ａは、特にクロム（Ｃｒ）を含み、第２膜４ｂ、３ｂは、特に金（Ａｕ）を含むことが好ましい。これにより、下地に対する密着性と導電性や加工性とを両立させることができる。

以上のように構成された振動素子１は、次のようにしてｚ軸まわりの角速度ωを検出する。まず、駆動信号電極４１と駆動接地電極４２との間に電圧（駆動信号）を印加することにより、図１中矢印ａで示す方向に、駆動腕２４と駆動腕２６とを互いに接近と離間を繰り返すように屈曲振動（駆動振動）させるとともに、駆動腕２５と駆動腕２７とを上記屈曲振動と同方向に互いに接近と離間を繰り返すように屈曲振動（駆動振動）させる。このとき、振動素子１に角速度が加わらないと、駆動腕２４、２５と駆動腕２６、２７とは、重心Ｇを通るｙｚ平面に対して面対称の振動を行っているため、基部本体２１１、連結腕２１２、２１３および検出腕２２、２３は、ほとんど振動しない。

このように駆動腕２４〜２７を駆動振動させた状態（駆動モード）で、振動素子１にその重心Ｇを通る法線まわり、すなわちｚ軸まわりの角速度ωが加わると、駆動腕２４〜２７には、それぞれコリオリ力が働く。これにより、連結腕２１２、２１３が図１中矢印ｂで示す方向に屈曲振動し、これに伴い、この屈曲振動を打ち消すように、検出腕２２、２３の図１中矢印ｃで示す方向の屈曲振動（検出振動）が励振される。そして、このような検出腕２２、２３の検出振動（検出モード）によって検出信号電極４３と検出接地電極４４との間に電荷が生じる。このような電荷に基づいて、振動素子１に加わった角速度ωを求めることができる。

以上のように、振動素子１は、基部２１と、基部２１から延在し、基部２１側に位置する腕部２４１、２５１、２６１、２７１およびこれより先端側に位置する錘部２４２、２５２、２６２、２７２を有する駆動腕２４、２５、２６、２７（振動腕）と、腕部２４１、２５１、２６１、２７１上に配置されている電極膜４と、錘部２４２、２５２、２６２、２７２上に配置されている錘膜３と、を備えている。そして、電極膜４の厚さおよび錘膜３の厚さは、それぞれ５０ｎｍ以上５００ｎｍ以下になっている。

このような振動素子１によれば、電極膜４と錘膜３を同一のプロセスで形成することが可能になる。このため、振動素子１の製造工数の削減を図ることができ、振動素子１を容易に製造することができる。また、駆動腕２４、２５、２６、２７の振動特性を低下させることなく、周波数の調整幅を十分に広く確保することができ、不良率の低減を図ることができる。

一方、前述した錘膜３の厚さも、平面視における錘部２４２、２５２、２６２、２７２の全域において前記範囲内である必要はないが、製造バラつきも考慮すると、錘膜３の全面積のうち５０％以上の部分の厚さが前記範囲内であるのが好ましく、７０％以上の部分の厚さが前記範囲内であるのがより好ましい。

なお、電極膜４の厚さおよび錘膜３の厚さは、それぞれ前述したように５０ｎｍ以上５００ｎｍ以下とされるが、１００ｎｍ以上４００ｎｍ以下であるのが好ましく、２００ｎｍ以上３００ｎｍ以下であるのがより好ましい。

また、電極膜４の厚さおよび錘膜３の厚さは、前記範囲内であれば、互いに同じであっても異なっていてもよい。互いに同じである場合、成膜時に厚さを制御する必要がないため、電極膜４および錘膜３をより容易に形成することができる。なお、厚さが同じとは、その差が３０ｎｍ以下である状態をいう。一方、互いに異なる場合、例えば錘膜３の厚さを電極膜４の厚さよりも厚くした場合、錘部２４２、２５２、２６２、２７２と錘膜３の合計質量を、腕部２４１、２５１、２６１、２７１と電極膜４の合計質量よりも、さらに大きくすることができる。このため、振動素子１の振動特性、例えば検出感度等を高めたり、駆動腕２４、２５、２６、２７の長さを短くして振動素子１の小型化を図ったりすることができる。

また、前述した電極膜４の厚さは、平面視における腕部２４１、２５１、２６１、２７１の全域において前記範囲内である必要はなく、少なくとも腕部２４１、２５１、２６１、２７１の先端部、すなわち腕部２４１、２５１、２５１、２７１のうち錘部２４２、２５２、２６２、２７２に連続する領域における電極膜４の厚さは、錘膜３の厚さと同じであることが好ましい。これにより、電極膜４と錘膜３との境界を意識することなく、電極膜４と錘膜３を同一のプロセスで容易に成膜することができる。

なお、腕部２４１、２５１、２６１、２７１の先端部とは、錘部２４２、２５２、２６２、２７２の基端を起点とし、そこから基部２１側に向かって、腕部２４１、２５１、２６１、２７１の全長の１０％の長さにあたる範囲のことをいう。

また、下地膜である第１膜４ａおよび第１膜３ａの厚さは、それぞれ５ｎｍ以上５０ｎｍ以下であるのが好ましく、１０ｎｍ以上４０ｎｍ以下であるのがより好ましい。これにより、密着性を高めるという下地膜としての機能が担保されるとともに、下地膜が厚すぎることが防止され、第２膜４ｂおよび第２膜３ｂの機能、例えば導電性および質量調整能等が阻害されてしまうのを避けることができる。

なお、検出腕２２、２３に設けられた電極膜４の厚さおよび錘膜３の厚さについては、前記５０ｎｍ以上５００ｎｍ以下の範囲内であっても、前記範囲外であってもよい。前記範囲内であれば、検出腕２２、２３に設けられた電極膜４および錘膜３についても、駆動腕２４、２５、２６、２７に設けられた電極膜４および錘膜３と同一のプロセスで形成することが可能になる。

また、電極膜４や錘膜３は、上下面のうち、いずれか一方のみに設けられていてもよい。このような場合であっても、電極膜４と錘膜３を同一のプロセスで形成し得るという効果を得ることができる。

また、駆動腕２４、２５、２６、２７が、前述したように、表裏関係にある第１主面２ａ（下面）および第２主面２ｂ（上面）を有しているとき、電極膜４は、下面および上面の双方に配置されているのが好ましい。そして、このとき、下面に配置されている電極膜４の厚さは、特に限定されないが、上面に配置されている電極膜４の厚さの５０％以上２００％以下であるのが好ましく、７５％以上１５０％以下であるのがより好ましい。これにより、上下面に配置されている電極膜４の厚さが互いに同程度になるため、上面側と下面側との質量バランスを均等に近づけやすくなる。すなわち、電極膜４とそれが設けられた腕部２４１、２５１、２６１、２７１とで構成される構造体の重心を、腕部２４１、２５１、２６１、２７１の厚さの中心面に近づけることができる。これにより、駆動腕２４および駆動腕２６ならびに駆動腕２５および駆動腕２７をそれぞれ互いに接近または離間する方向、すなわち面内方向に振動させるとき、駆動腕２４、２５、２６、２７に厚さ方向、すなわち面外方向の方向成分を含む振動が生じてしまうのを抑制することができる。したがって、このような厚さ方向の振動成分が基部２１を介して振動素子１側に漏れ、振動素子１の外部にとってのノイズ振動を抑制することができる。

また、駆動腕２４、２５、２６、２７が、前述したように、表裏関係にある第１主面２ａ（下面）および第２主面２ｂ（上面）を有しているとき、錘膜３は、下面および上面の双方に配置されているのが好ましい。そして、このとき、下面に配置されている錘膜３の厚さは、特に限定されないが、上面に配置されている錘膜３の厚さの５０％以上２００％以下であるのが好ましく、７５％以上１５０％以下であるのがより好ましい。これにより、上下面に配置されている錘膜３の厚さが互いに同程度になるため、錘膜３の一部を除去して周波数を調整した後においても、上面側と下面側との質量バランスを均等に近づけやすくなる。すなわち、錘膜３とそれが設けられた錘部２４２、２５２、２６２、２７２とで構成される構造体の重心を、錘部２４２、２５２、２６２、２７２の厚さの中心面に近づけることができる。これにより、駆動腕２４および駆動腕２６ならびに駆動腕２５および駆動腕２７をそれぞれ互いに接近または離間する方向、すなわち面内方向に振動させるとき、駆動腕２４、２５、２６、２７に厚さ方向、すなわち面外方向の方向成分を含む振動が生じてしまうのを抑制することができる。したがって、このような厚さ方向の振動成分が基部２１を介して振動素子１側に漏れ、振動素子１の外部にとってのノイズ振動が生じるのを抑制することができる。

一方、駆動腕２４、２５、２６、２７が、それぞれ、第１主面２ａ（下面）と第２主面２ｂ（上面）とを接続する側面２ｃ（図４および図５参照）を有しているとき、錘膜３は、側面２ｃにも配置されているのが好ましい。これにより、錘膜３は、上下面に加え、側面２ｃにも成膜されるため、側面２ｃへの成膜を防ぐ手間が不要になる。このため、振動片２の製造工数のさらなる削減を図ることができる。

また、側面２ｃに配置されている錘膜３の厚さは、特に限定されないが、上面に配置されている錘膜３の厚さの５０％以上２００％以下であるのが好ましく、７５％以上１５０％以下であるのがより好ましい。これにより、上下面に配置されている電極膜４の厚さが互いに同程度になるため、錘膜３をより形成しやすくなる。
なお、電極膜４についても、側面２ｃに配置されていてもよい。

また、錘膜３１〜３６の位置、大きさおよび範囲等は、図示の位置、大きさおよび範囲等に限定されない。例えば、錘膜３は、錘部２２２、２３２、２４２、２５２、２６２、２７２の長さ方向（ｙ軸方向）での全域にわたって設けられていてもよいが、一部に設けられていてもよい。同様に、錘膜３は、錘部２２２、２３２、２４２、２５２、２６２、２７２の幅方向（ｘ軸方向）での全域にわたって設けられていてもよいが、一部に設けられていてもよい。

また、腕部２４１、２５１、２６１、２７１は、それぞれ、厚さ方向の中心面について面対称の形状を有することが好ましい。これにより、駆動腕２４、２５、２６、２７の形状による厚さ方向での振動を低減することができる。

錘部２４２、２５２、２６２、２７２の幅Ｗは、図３に示すように、錘部２４２の厚さ方向からの平面視で、腕部２４１、２５１、２６１、２７１の幅Ｗ０よりも大きいことが好ましい。これにより、錘膜３３、３４、３５、３６を形成可能な錘部２４２、２５２、２６２、２７２の面積を大きくすることができる。また、駆動腕２４、２５、２６、２７の長さを短くすることができ、その結果、振動素子１の小型化を図ることもできる。

また、電極膜４の厚さおよび錘膜３の厚さは、図４および図５では均一であるが、前述した範囲内において、互いに厚さの異なる複数の部分を有していてもよい。すなわち、錘膜３は、相対的に厚い部分と相対的に薄い部分とを有していてもよい。この場合、錘膜３の一部にエネルギー線を照射することによって除去し、駆動腕２４、２５、２６、２７の共振周波数の調整を行う際に微調および粗調を容易に行うことができる。すなわち、厚さの厚い部分は、単位面積当たりの質量が大きく、駆動腕２４、２５、２６、２７の共振周波数の粗調整に適している。一方、厚さの薄い部分は、単位面積当たりの質量が小さく、駆動腕２４、２５、２６、２７の共振周波数の微調整に適している。

（振動素子の製造方法）
次に、第１実施形態に係る振動素子の製造方法について、前述した振動素子１を製造する場合を例に説明する。なお、以下では、１つの駆動腕について代表的に説明するが、他の駆動腕や検出腕についても同様である。

図６は、第１実施形態に係る振動素子の製造方法を示すフローチャートである。図７および図８は、第１実施形態に係る振動素子の製造方法において、振動腕上に電極膜および錘膜を成膜する成膜工程を説明するための断面図である。図９は、第１実施形態に係る振動素子の製造方法において、周波数調整工程を説明するための断面図である。

振動素子１の製造方法は、図６に示すように、成膜工程Ｓ１０と、周波数調整工程Ｓ２０と、を有する。以下、各工程を順次説明する。

−成膜工程Ｓ１０−
まず、図７に示す振動片２を用意する。

振動片２は、例えば水晶基板のような母材、例えば水晶ウエハーに対し、フォトリソグラフィー技術やエッチング技術等を利用してパターニングを施すことにより、目的とする平面視形状を切り出すことによって製造される。また、併せて、溝２４３等を形成することができる。

なお、ウエハーからは、複数の振動片２を同時に製造するようにしてもよい。その場合、振動片２は、ウエハーから完全に切り離すのではなく、例えば幅および厚さの少なくとも一方が小さく脆弱に形成された折り取り部を介してウエハーに連結された状態で製造されてもよい。これにより、後述する工程において、複数の振動片２を一括して取り扱うことができ、製造効率を高めることができる。

次いで、図８に示すように、駆動腕２４の第１主面２ａ（下面）および第２主面２ｂ（上面）のうち、腕部２４１上に電極膜４を成膜するとともに、錘部２４２上に錘膜３を成膜する。駆動腕２４以外の駆動腕２５、２６、２７および検出腕２２、２３についても同様に、電極膜４および錘膜３を成膜する。

これらの電極膜４および錘膜３は、それぞれ、例えばスパッタリング等によって金属膜を一様に形成した後、この金属膜を、フォトリソグラフィー技術やエッチング技術によって所定の形状にパターニングすることにより形成される。

ここで、電極膜４の厚さおよび錘膜３の厚さは、それぞれ前述したように５０ｎｍ以上５００ｎｍ以下になっている。電極膜４の厚さおよび錘膜３の厚さが前記範囲内であることにより、電極膜４と錘膜３を、例えばスパッタリング等によって同一のプロセスで同時に形成することが可能になる。このため、振動素子１の製造工数の削減を図ることができ、振動素子１を容易に製造することができる。したがって、振動素子１を効率よく低コストで製造することができる。

また、スパッタリング等の気相成膜法であれば、比較的等方的に成膜されるため、駆動腕２４の第１主面２ａ（下面）と第２主面２ｂ（上面）とで成膜される金属膜に膜厚の差が生じにくい。このため、上下面に配置されている電極膜４の厚さや錘膜３の厚さを互いに同程度に近づけることを容易に行うことができ、上面側と下面側との質量バランスを均等に近づけやすいという利点がある。

−周波数調整工程Ｓ２０−
続いて、図９に示すように、錘膜３の一部をエネルギー線ＥＢにより除去する。より具体的には、駆動腕２４〜２７の共振周波数が互いに等しくなるように、錘膜３３〜３６の一部を除去して、駆動振動の周波数、すなわち駆動腕２４〜２７の共振周波数を調整する。なお、錘膜３の除去に代えて、または錘膜３の除去に加えて、電極膜４の一部を除去するようにしてもよい。さらには、錘膜３や電極膜４が設けられていない部分、すなわち振動片２の表面にエネルギー線ＥＢを照射することにより、振動片２の一部を除去し、それによって周波数を調整するようにしてもよい。

また、必要に応じて、錘膜３１、３２の一部を除去して、検出振動の周波数、すなわち検出腕２２、２３の共振周波数を調整する。

なお、これらの処理、例えばエネルギー線ＥＢの照射処理は、必要に応じて行えばよく、周波数の調整が不要であれば省略可能である。

また、電極膜４の厚さおよび錘膜３の厚さが前記範囲内であることにより、錘膜３は、エネルギー線ＥＢが照射されたとき、十分な質量変化を生じさせ得る程度の厚さを有するものとなる。これにより、検出腕２２、２３や駆動腕２４、２５、２６、２７の周波数の調整幅を広く確保し、不良率の低減を図ることができる。

エネルギー線ＥＢとしては、例えば、ＹＡＧ、ＹＶＯ_４、エキシマレーザー等のパルスレーザー、炭酸ガスレーザー等の連続発振レーザー、ＦＩＢ（Focused Ion Beam）や、ＩＢＦ（Ion Beam Figuring）等のイオンビーム等を用いることができる。

また、このような周波数調整工程Ｓ２０は、ウエハー状態で行ってもよいし、後述するパッケージ１１に搭載した状態で行ってもよい。また、周波数調整工程Ｓ２０は、複数回に分けて行ってもよく、例えば、ウエハー状態で１回目の調整として粗調整を行い、パッケージ１１に搭載した状態で２回目の調整として微調整を行ってもよい。

以上のように、振動素子１の製造方法は、基部２１と、基部２１から延在し、基部２１側に位置する腕部２４１および腕部２４１より先端側に位置する錘部２４２を有する駆動腕２４（振動腕）と、腕部２４１上に配置され、厚さが５０ｎｍ以上５００ｎｍ以下である電極膜４と、錘部２４２上に配置され、厚さが５０ｎｍ以上５００ｎｍ以下である錘膜３と、を形成する工程と、エネルギー線ＥＢを照射して錘膜３の一部および電極膜４の一部の少なくとも一方を除去することにより、駆動腕２４の共振周波数を調整する工程と、を有する。

このような振動素子１の製造方法によれば、電極膜４と錘膜３を同一のプロセスで同時に形成することが可能になる。このため、振動素子１の製造工数の削減を図ることができ、振動素子１を容易に製造することができる。したがって、振動素子１を効率よく低コストで製造することができる。

また、前述したように、駆動腕２４は、表裏関係にある第１主面２ａ（下面）および第２主面２ｂ（上面）を有しており、電極膜４および錘膜３は、それぞれ上面および下面の双方に配置されている。また、駆動信号電極４１および駆動接地電極４２は、互いに絶縁されている。そして、駆動腕２４の共振周波数を調整する工程は、下面に配置されている電極膜４の一部および錘膜３の一部の少なくとも一方を除去するとともに、上面に配置されている電極膜４の一部および錘膜３の一部の少なくとも一方を除去する工程であることが好ましい。すなわち、本工程は、下面側と上面側の双方において、電極膜４または錘膜３を除去する工程であるのが好ましい。

このような工程を行うことにより、上面側と下面側との質量バランスを均等に近づけやすくなる。すなわち、電極膜４とそれが設けられた腕部２４１、２５１、２６１、２７１とで構成される構造体の重心を、腕部２４１、２５１、２６１、２７１の厚さの中心面に近づけることができる。また、錘膜３とそれが設けられた錘部２４２、２５２、２６２、２７２とで構成される構造体の重心を、錘部２４２、２５２、２６２、２７２の厚さの中心面に近づけることができる。これにより、駆動腕２４および駆動腕２６ならびに駆動腕２５および駆動腕２７をそれぞれ互いに接近または離間する方向、すなわち面内方向に振動させるとき、駆動腕２４、２５、２６、２７に厚さ方向、すなわち面外方向の方向成分を含む振動が生じてしまうのを抑制することができる。したがって、このような厚さ方向の振動成分が基部２１を介して振動素子１側に漏れ、振動素子１の外部にとってのノイズ振動の発生を抑制することができる。

なお、本工程において、下面側および上面側の双方において、電極膜４または錘膜３を除去する場合には、エネルギー線ＥＢとして特にレーザーが好ましく用いられる。レーザーでは、照射された部位の下面側と上面側の双方において同時に、電極膜４または錘膜３を除去することができる。このため、下面側と上面側の双方において除去される質量を同程度にすることができ、その結果、下面側と上面側との質量バランスをより均等に近づけやすくなる。このため、駆動腕２４、２５、２６、２７において、面外方向の方向成分を含む振動が生じてしまうのを容易に抑制することができる。

なお、従来の振動素子では、下面または上面のいずれかのみに錘膜が設けられている場合がある。このような場合、そもそも下面側と上面側の質量不均衡が存在しているため、そのような振動素子にレーザーが照射されると、下面側と上面側の双方で同程度の質量が減少するため、照射前に存在していた質量不均衡がさらに悪化することになる。

これに対し、本実施形態によれば、前述したように照射前において質量バランスが良好であるため、レーザーの照射によって下面側と上面側の双方において同程度の質量を除去することにより、照射後においても引き続き質量バランスが良好に維持されることとなる。その結果、エネルギー線ＥＢの照射の有無にかかわらず、下面側と上面側との質量バランスが良好で、面外方向の方向成分を含む振動が生じるのを効果的に抑制することができる。

（変更例）
図１０および図１１は、それぞれ、第１実施形態に係る振動素子の製造方法の一部を変更した例において、周波数調整工程を説明するための断面図である。

以下、変更例について説明するが、前述した第１実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。なお、図１０および図１１において、前述した実施形態と同様の構成については、同一符号を付している。また、以下では、１つの駆動腕について代表的に説明するが、他の駆動腕や検出腕についても同様である。

本変更例は、周波数調整工程が異なる以外、第１実施形態と同様である。
すなわち、前述した第１実施形態では、振動片２の駆動腕２４の下面側と上面側の双方において同時に、錘膜３の一部、または電極膜４の一部を除去するのに対し、本変更例では、駆動腕２４の第１主面２ａ（下面）に配置されている錘膜３の一部、または電極膜４の一部を除去した後、振動片２をパッケージ１１に搭載し、駆動腕２４の第２主面２ｂ（上面）に配置されている錘膜３の一部、または電極膜４の一部を除去する。

具体的には、図１０に示すように、駆動腕２４は、表裏関係にある第１主面２ａ（下面）および第２主面２ｂ（上面）を有しており、電極膜４および錘膜３は、それぞれ上面および下面の双方に配置されている。そして、駆動腕２４の共振周波数を調整する工程では、まず、図１０に示すように、パッケージ１１に搭載する前の状態、例えばウエハー状態（振動片２がウエハーＷＡの余白に接続されている状態）において、駆動腕２４の下面に配置されている電極膜４の一部および錘膜３の一部の少なくとも一方、すなわち図１０では錘膜３の一部を除去する。このときの除去量は、上面側における除去量とのバランスを踏まえて適宜設定される。すなわち、最終的に、上面側における除去量と同程度になるように、下面側における除去量を決定する。換言すれば、必要とする全ての除去量のうち、半分程度を下面側に振り分け、残る半分程度を上面側に振り分けるようにすればよい。これにより、上面側と下面側との質量バランスを均等に近づけることができる。

また、ウエハー状態であれば、複数の振動片２に対し、連続して処理を行うことができるので、処理効率を高めることができる。さらに、エネルギー線ＥＢとしてイオンビームを用いた場合には、上面側または下面側のいずれか一方のみ処理することができるが、本実施形態では、下面側と上面側を順次処理するため、イオンビームも好適に用いることができる。イオンビームによれば、単位時間当たりの除去量をより精度よく制御することができるため、駆動腕２４の周波数をより精密に調整することができる。

次に、駆動腕２４（振動腕）を含む振動片２をウエハーＷＡの余白から折り取り、図１１に示すように、パッケージ１１に搭載する。

次に、パッケージ１１に搭載した状態において、駆動腕２４の上面に配置されている電極膜４の一部および錘膜３の一部の少なくとも一方、すなわち図１１では錘膜３の一部を除去する（図１１参照）。これにより、上面側と下面側との質量バランスが均等な振動素子１を製造することができる。また、パッケージ１１を搭載した状態では、駆動腕２４の上面側にしかイオンビームを照射することができないものの、本変更例によれば、あらかじめ下面側を処理しているため、この制約の影響を受けることなく、イオンビームによる精密な質量調整を行うことができる。

＜第２実施形態＞
図１２は、本発明の第２実施形態に係る振動素子を示す平面図である。

以下、第２実施形態について説明するが、前述した実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。なお、図１２において、前述した実施形態と同様の構成については、同一符号を付している。

本実施形態は、いわゆるＨ型の振動素子に本発明を適用したこと以外は、前述した第１実施形態と同様である。

図１２に示す振動素子１Ｄは、ｙ軸まわりの角速度を検出するセンサー素子である。この振動素子１Ｄは、振動片２Ｄと、振動片２Ｄ上に設けられた電極膜（図示せず）および錘膜３Ｄと、を備える。

振動片２Ｄは、基部２１Ｄと、１対の駆動腕２４Ｄ、２５Ｄと、１対の検出腕２２Ｄ、２３Ｄと、を有している。これらは、一体で構成されており、Ｚカット水晶板を用いて形成される。なお、水晶の結晶軸とｘ軸、ｙ軸およびｚ軸との対応関係は、前述した第１実施形態と同様である。

基部２１Ｄは、後述するパッケージ１１に支持される。
駆動腕２４Ｄ、２５Ｄは、それぞれ、基部２１Ｄからｙ軸方向（＋ｙ方向）に延在している。駆動腕２４Ｄ、２５Ｄは、前述した第１実施形態の駆動腕と同様に構成されている。この駆動腕２４Ｄ、２５Ｄには、それぞれ、図示しないが、前述した第１実施形態の駆動腕２４〜２７と同様に、通電により駆動腕２４Ｄ、２５Ｄをｘ軸方向に屈曲振動させる１対の駆動電極（駆動信号電極および駆動接地電極）が設けられている。この１対の駆動電極は、図示しない配線を介して、基部２１Ｄ上の端子（図示せず）に電気的に接続されている。

検出腕２２Ｄ、２３Ｄは、それぞれ、基部２１Ｄからｙ軸方向（−ｙ方向）に延在している。この検出腕２２Ｄ、２３Ｄには、それぞれ、図示しないが、検出腕２２Ｄ、２３Ｄのｚ軸方向での屈曲振動に伴って生じる電荷を検出する１対の検出電極、すなわち検出信号電極および検出接地電極が設けられている。この１対の検出電極は、図示しない配線を介して、基部２１Ｄ上の端子（図示せず）に電気的に接続されている。

錘膜３Ｄは、検出腕２２Ｄ、２３Ｄの先端部（錘部）に配置されている錘膜３１Ｄ、３２Ｄと、駆動腕２４Ｄ、２５Ｄの先端部（錘部）上に配置されている錘膜３３Ｄ、３４Ｄと、を有する。

このように構成された振動素子１Ｄでは、１対の駆動電極間に駆動信号が印加されることにより、図１２中矢印Ａ１、Ａ２で示すように、駆動腕２４Ｄと駆動腕２５Ｄとが互いに接近と離間を繰り返すように屈曲振動（駆動振動）する。

このように駆動腕２４Ｄ、２５Ｄを駆動振動させた状態で、振動素子１Ｄにｙ軸まわりの角速度ωが加わると、駆動腕２４Ｄ、２５Ｄは、コリオリ力により、図１２中矢印Ｂ１、Ｂ２で示すように、ｚ軸方向に互いに反対側に屈曲振動する。これに伴い、検出腕２２Ｄ、２３Ｄは、図１２中矢印Ｃ１、Ｃ２で示すように、ｚ軸方向に互いに反対側に屈曲振動（検出振動）する。

そして、このような検出腕２２Ｄ、２３Ｄの屈曲振動によって１対の検出電極間に生じた電荷が１対の検出電極から出力される。このような電荷に基づいて、振動素子１Ｄに加わった角速度ωを求めることができる。

以上のような本実施形態によっても、前述した第１実施形態と同様、電極膜（図示せず）と錘膜３Ｄを同一のプロセスで形成することが可能になるため、振動素子１Ｄの製造工数の削減を図ることができ、振動素子１Ｄを容易に製造することができる。

＜第３実施形態＞
図１３は、本発明の第３実施形態に係る振動素子を示す平面図である。

以下、第３実施形態について説明するが、前述した実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。なお、図１３において、前述した実施形態と同様の構成については、同一符号を付している。

本実施形態は、いわゆる二脚音叉型の振動素子に本発明を適用したこと以外は、前述した第１実施形態と同様である。

図１３に示す振動素子１Ｅは、ｙ軸まわりの角速度を検出するセンサー素子である。この振動素子１Ｅは、振動片２Ｅと、振動片２Ｅ上に設けられた電極膜（図示せず）および錘膜３３Ｅ、３４Ｅと、を備える。

振動片２Ｅは、基部２１Ｅと、１対の振動腕２４Ｅ、２５Ｅと、を有し、これらは、一体で構成されており、Ｚカット水晶板を用いて形成される。なお、水晶の結晶軸とｘ軸、ｙ軸およびｚ軸との対応関係は、前述した第１実施形態と同様である。

基部２１Ｅは、振動腕２４Ｅ、２５Ｅが接続されている第１基部２１４と、第１基部２１４に対して振動腕２４Ｅ、２５Ｅとは反対側に配置されている第２基部２１６と、第１基部２１４と第２基部２１６とを連結する連結部２１５と、を含んでいる。連結部２１５は、第１基部２１４と第２基部２１６との間に位置していて、第１基部２１４よりも幅、すなわちｘ軸方向の長さが小さい。これにより、基部２１Ｅのｙ軸方向に沿った長さを小さくしつつ、振動漏れを小さくすることができる。ここで、第２基部２１６は、例えば、後述するパッケージ１１に支持される。

振動腕２４Ｅ、２５Ｅは、それぞれ、基部２１Ｅからｙ軸方向（＋ｙ方向）に延在している。振動腕２４Ｅ、２５Ｅは、前述した第１実施形態の駆動腕と同様に構成されている。この振動腕２４Ｅ、２５Ｅには、それぞれ、図示しないが、前述した第１実施形態の駆動腕２４〜２７と同様に、通電により振動腕２４Ｅ、２５Ｅをｘ軸方向に屈曲振動させる１対の駆動電極、すなわち駆動信号電極および駆動接地電極が設けられている。この１対の駆動電極は、図示しない配線を介して、基部２１Ｅ上の端子（図示せず）に電気的に接続されている。

また、振動腕２４Ｅ、２５Ｅには、それぞれ、前述した１対の駆動電極の他に、図示しないが、振動腕２４Ｅ、２５Ｅのｚ軸方向での屈曲振動に伴って生じる電荷を検出する１対の検出電極、すなわち検出信号電極および検出接地電極が設けられている。この１対の検出電極は、図示しない配線を介して、基部２１Ｅ上の端子（図示せず）に電気的に接続されている。

錘膜３３Ｅ、３４Ｅは、振動腕２４Ｅ、２５Ｅの先端部（錘部）上に配置されている。
このように構成された振動素子１Ｅでは、１対の駆動電極間に駆動信号が印加されることにより、振動腕２４Ｅと振動腕２５Ｅとが互いに接近と離間を繰り返すように屈曲振動（駆動振動）する。

このように振動腕２４Ｅ、２５Ｅを駆動振動させた状態で、振動素子１Ｅにｙ軸まわりの角速度ωが加わると、振動腕２４Ｅ、２５Ｅには、コリオリ力により、ｚ軸方向に互いに反対側に屈曲する振動が励振される。そして、このように励振された振動によって１対の検出電極間に生じた電荷が１対の検出電極から出力される。このような電荷に基づいて、振動素子１Ｅに加わった角速度ωを求めることができる。

以上のような本実施形態によっても、前述した第１実施形態と同様、電極膜（図示せず）と錘膜３３Ｅ、３４Ｅを同一のプロセスで形成することが可能になるため、振動素子１Ｅの製造工数の削減を図ることができ、振動素子１Ｅを容易に製造することができる。

２．物理量センサー
図１４は、本発明の実施形態に係る物理量センサーを示す断面図である。

図１４に示す物理量センサー１０は、ｚ軸まわりの角速度を検出する振動ジャイロセンサーである。この物理量センサー１０は、振動素子１または１Ｄ、１Ｅ、と、支持部材１２と、回路素子１３（集積回路チップ）と、これらを収納するパッケージ１１と、を有している。

パッケージ１１は、振動素子１を収納する凹部を有する箱状のベース１１１と、ベース１１１の凹部の開口を塞ぐようにベース１１１に接合部材１１３を介して接合された板状のリッド１１２と、を有する。パッケージ１１内は、真空状態も含む減圧状態となっていてもよいし、窒素、ヘリウム、アルゴン等の不活性ガスが封入されていてもよい。

ベース１１１の凹部は、開口側に位置する上段面と、底部側に位置する下段面と、これらの面の間に位置する中段面と、を有する。このベース１１１の構成材料としては、特に限定されないが、酸化アルミニウム等の各種セラミックスや、各種ガラス材料を用いることができる。また、リッド１１２の構成材料としては、特に限定されないが、ベース１１１の構成材料と線膨張係数が近似する部材であるとよい。例えば、ベース１１１の構成材料を前述のようなセラミックスとした場合には、コバール等の合金とするのが好ましい。また、本実施形態では、接合部材１１３としてシームリングを用いるが、接合部材１１３は、例えば、低融点ガラス、接着剤等を用いて構成されたものであってもよい。

ベース１１１の凹部の上段面および中段面には、それぞれ、複数の接続端子１４、１５が設けられている。中段面に設けられている複数の接続端子１５のうち、一部は、ベース１１１に設けられた配線層（図示せず）を介して、ベース１１１の底面に設けられた端子１６に電気的に接続され、残部は、上段に設けられている複数の接続端子１４に配線（図示せず）を介して電気的に接続されている。これら接続端子１４、１５は、導電性を有していれば特に限定されないが、例えば、Ｃｒ（クロム）、Ｗ（タングステン）等のメタライズ層（下地層）に、Ｎｉ（ニッケル）、Ａｕ（金）、Ａｇ（銀）、Ｃｕ（銅）等の各被膜を積層した金属被膜で構成されている。

回路素子１３は、ベース１１１の凹部の下段面に接着剤１９等によって固定されている。接着剤１９としては、例えば、エポキシ系、シリコーン系、ポリイミド系の接着剤を用いることができる。回路素子１３は、図示しない複数の端子を有し、この各端子が導電性ワイヤーによって、前述した中段面に設けられている各接続端子１５と電気的に接続されている。この回路素子１３は、振動素子１を駆動振動させるための駆動回路と、角速度が加わったときに振動素子１に生じる検出振動を検出する検出回路と、を有する。

また、ベース１１１の凹部の上段面に設けられている複数の接続端子１４には、導電性接着剤１７を介して、支持部材１２が接続されている。支持部材１２は、導電性接着剤１７に接続されている配線パターン１２２と、配線パターン１２２を支持している支持基板１２１と、を有する。導電性接着剤１７としては、例えば、金属フィラーなどの導電性物質が混合された、エポキシ系、シリコーン系、ポリイミド系などの導電性接着剤を用いることができる。

支持基板１２１は、中央部に開口を有しており、その開口内には、配線パターン１２２が有する複数の長尺状のリードが延びている。これらリードの先端部には、導電性のバンプ１２３を介して振動素子１が接続されている。

なお、本実施形態では、回路素子１３がパッケージ１１の内部に設けられているが、回路素子１３は、パッケージ１１の外部に設けられていてもよい。

以上のように、物理量センサー１０は、振動素子１と、振動素子１を収納しているパッケージ１１と、を備える。このような物理量センサー１０によれば、振動素子１の優れた特性や製造容易性を利用して、物理量センサー１０のセンサー特性、例えば検出精度や低コスト化を向上させることができる。

３．慣性計測装置
図１５は、本発明の慣性計測装置の実施形態を示す分解斜視図である。図１６は、図１５に示す慣性計測装置が備える基板の斜視図である。

図１５に示す慣性計測装置（ＩＭＵ：Inertial Measurement Unit）２０００は、いわゆる６軸モーションセンサーであり、例えば、自動車、ロボット等の計測対象物である移動体に装着して用いられ、当該移動体の姿勢および挙動、例えば慣性運動量を検出する。

この慣性計測装置２０００は、アウターケース２１００と、接合部材２２００と、センサーモジュール２３００と、を備え、センサーモジュール２３００がアウターケース２１００内に接合部材２２００を介在させた状態で篏合または挿入されている。

アウターケース２１００は、箱状をなしており、このアウターケース２１００の対角にある２つの角部には、計測対象物に対するネジ止めのためのネジ孔２１１０が設けられている。

センサーモジュール２３００は、インナーケース２３１０と、基板２３２０と、を備え、インナーケース２３１０が基板２３２０を支持した状態で、前述したアウターケース２１００の内部に収納されている。ここで、インナーケース２３１０は、アウターケース２１００に対して、接合部材２２００、例えばゴム製のパッキンを介して、接着剤等により接合されている。また、インナーケース２３１０は、基板２３２０上に実装される部品の収納空間として機能する凹部２３１１と、基板２３２０上に設けられているコネクター２３３０を外部に露出するための開口部２３１２と、を有する。基板２３２０は、例えば、多層配線基板であり、インナーケース２３１０に対して接着剤等により接合されている。

図１６に示すように、基板２３２０には、コネクター２３３０、角速度センサー２３４０Ｘ、２３４０Ｙ、２３４０Ｚ、加速度センサー２３５０および制御ＩＣ２３６０が実装されている。

コネクター２３３０は、図示しない外部装置に電気的に接続され、当該外部装置と慣性計測装置２０００との間で電力、計測データ等の電気信号の送受信を行うのに用いられる。

角速度センサー２３４０Ｘは、Ｘ軸まわりの角速度を検出し、角速度センサー２３４０Ｙは、Ｙ軸まわりの角速度を検出し、角速度センサー２３４０Ｚは、Ｚ軸まわりの角速度を検出する。ここで、角速度センサー２３４０Ｘ、２３４０Ｙ、２３４０Ｚは、それぞれ、前述した物理量センサー１０である。また、加速度センサー２３５０は、例えば、ＭＥＭＳ技術を用いて形成された加速度センサーであり、Ｘ軸、Ｙ軸およびＺ軸の各軸方向での加速度を検出する。

制御ＩＣ２３６０は、ＭＣＵ（Micro Controller Unit）であり、不揮発性メモリーを含む記憶部、Ａ／Ｄコンバーター等を内蔵しており、慣性計測装置２０００の各部を制御する。ここで、記憶部には、加速度および角速度を検出するための順序と内容を規定したプログラム、検出データをデジタル化してパケットデータに組込むプログラム、付随するデータ等が記憶されている。

以上のように、慣性計測装置２０００は、物理量センサー１０と、物理量センサー１０に電気的に接続されている回路である制御ＩＣ２３６０と、を備える。このような慣性計測装置２０００によれば、物理量センサー１０の優れたセンサー特性および製造容易性を利用して、慣性計測装置２０００の特性、例えば計測精度を向上させるとともに低コスト化を図ることができる。

４．電子機器
図１７は、本発明の電子機器の実施形態であるモバイル型のパーソナルコンピューターを示す斜視図である。

この図において、パーソナルコンピューター１１００は、キーボード１１０２を備えた本体部１１０４と、表示部１１０８を備えた表示ユニット１１０６とにより構成され、表示ユニット１１０６は、本体部１１０４に対しヒンジ構造部を介して回動可能に支持されている。このようなパーソナルコンピューター１１００には、前述した振動素子１を含む慣性計測装置２０００が内蔵されている。

図１８は、本発明の電子機器の実施形態である携帯電話機を示す平面図である。
この図において、携帯電話機１２００は、アンテナ（図示せず）、複数の操作ボタン１２０２、受話口１２０４および送話口１２０６を備え、操作ボタン１２０２と受話口１２０４との間には、表示部１２０８が配置されている。このような携帯電話機１２００には、前述した振動素子１を含む慣性計測装置２０００が内蔵されている。

図１９は、本発明の電子機器の実施形態であるデジタルスチールカメラを示す斜視図である。

デジタルスチールカメラ１３００におけるケース１３０２の背面には表示部１３１０が設けられ、ＣＣＤによる撮像信号に基づいて表示を行う構成になっており、表示部１３１０は、被写体を電子画像として表示するファインダーとして機能する。また、ケース１３０２の正面側、すなわち図中裏面側には、撮像光学系である光学レンズやＣＣＤなどを含む受光ユニット１３０４が設けられている。そして、撮影者が表示部１３１０に表示された被写体像を確認し、シャッターボタン１３０６を押すと、その時点におけるＣＣＤの撮像信号が、メモリー１３０８に転送・格納される。このようなデジタルスチールカメラ１３００には、前述した振動素子１を含む慣性計測装置２０００が内蔵されており、この慣性計測装置２０００の計測結果は、例えば、手振れ補正に用いられる。

以上のような電子機器は、振動素子１を備える。このような電子機器によれば、振動素子１の優れた特性および製造容易性を利用して、電子機器の特性、例えば信頼性を向上させるとともに低コスト化を図ることができる。

なお、本発明の電子機器は、図１７のパーソナルコンピューター、図１８の携帯電話機、図１９のデジタルスチールカメラの他にも、例えば、スマートフォン、タブレット端末、スマートウォッチを含む時計、インクジェット式吐出装置、例えばインクジェットプリンター、ＨＭＤ（ヘッドマウントディスプレイ）等のウェアラブル端末、ラップトップ型パーソナルコンピューター、テレビ、ビデオカメラ、ビデオテープレコーダー、カーナビゲーション装置、ページャ、通信機能付も含む電子手帳、電子辞書、電卓、電子ゲーム機器、ワードプロセッサー、ワークステーション、テレビ電話、防犯用テレビモニター、電子双眼鏡、ＰＯＳ端末、医療機器（例えば電子体温計、血圧計、血糖計、心電図計測装置、超音波診断装置、電子内視鏡）、魚群探知機、各種測定機器、計器類（例えば、車両、航空機、船舶の計器類）、携帯端末用の基地局、フライトシミュレーター等に適用することができる。

５．移動体
図２０は、本発明の移動体の実施形態である自動車を示す斜視図である。

自動車１５００には、前述した振動素子１を含む慣性計測装置２０００が内蔵されており、例えば、慣性計測装置２０００によって車体１５０１の姿勢を検出することができる。慣性計測装置２０００の検出信号は、車体姿勢制御装置１５０２に供給され、車体姿勢制御装置１５０２は、その信号に基づいて車体１５０１の姿勢を検出し、検出結果に応じてサスペンションの硬軟を制御したり、個々の車輪１５０３のブレーキを制御したりすることができる。

その他、このような姿勢制御は、二足歩行ロボットやラジコンヘリコプター、ドローンで利用することができる。以上のように、各種移動体の姿勢制御の実現にあたって、慣性計測装置２０００が組み込まれる。

以上のように、移動体である自動車１５００は、振動素子１を備える。このような自動車１５００によれば、振動素子１の優れた特性および製造容易性を利用して、自動車１５００の特性、例えば信頼性を向上させるとともに低コスト化を図ることができる。

以上、本発明の振動素子、振動素子の製造方法、物理量センサー、慣性計測装置、電子機器および移動体を図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、各部の構成は、同様の機能を有する任意の構成のものに置換することができる。また、本発明に、他の任意の構成物が付加されていてもよい。

また、前述した実施形態では、振動素子は、いわゆるダブルＴ型、Ｈ型または二脚音叉型の形状をなしているが、面内方向に振動する振動腕を有する素子であれば、これに限定されず、例えば、三脚音叉、直交型、角柱型等の種々の形態であってもよい。

１…振動素子、１Ｄ…振動素子、１Ｅ…振動素子、２…振動片、２Ｄ…振動片、２Ｅ…振動片、２ａ…第１主面、２ｂ…第２主面、２ｃ…側面、３…錘膜、３Ｄ…錘膜、３ａ…第１膜、３ｂ…第２膜、４…電極膜、４ａ…第１膜、４ｂ…第２膜、１０…物理量センサー、１１…パッケージ、１２…支持部材、１３…回路素子、１４…接続端子、１５…接続端子、１６…端子、１７…導電性接着剤、１９…接着剤、２１…基部、２１Ｄ…基部、２１Ｅ…基部、２２…検出腕、２２Ｄ…検出腕、２３…検出腕、２３Ｄ…検出腕、２４…駆動腕、２４Ｄ…駆動腕、２４Ｅ…振動腕、２５…駆動腕、２５Ｄ…駆動腕、２５Ｅ…振動腕、２６…駆動腕、２７…駆動腕、３１…錘膜、３１Ｄ…錘膜、３２…錘膜、３２Ｄ…錘膜、３３…錘膜、３３Ｄ…錘膜、３３Ｅ…錘膜、３４…錘膜、３４Ｄ…錘膜、３４Ｅ…錘膜、３５…錘膜、３６…錘膜、４１…駆動信号電極、４２…駆動接地電極、４３…検出信号電極、４４…検出接地電極、４５…検出信号電極、１１１…ベース、１１２…リッド、１１３…接合部材、１２１…支持基板、１２２…配線パターン、１２３…バンプ、２１１…基部本体、２１２…連結腕、２１３…連結腕、２１４…第１基部、２１５…連結部、２１６…第２基部、２２１…腕部、２２２…錘部、２２３…溝、２３１…腕部、２３２…錘部、２３３…溝、２４１…腕部、２４２…錘部、２４３…溝、２５１…腕部、２５２…錘部、２５３…溝、２６１…腕部、２６２…錘部、２６３…溝、２７１…腕部、２７２…錘部、２７３…溝、１１００…パーソナルコンピューター、１１０２…キーボード、１１０４…本体部、１１０６…表示ユニット、１１０８…表示部、１２００…携帯電話機、１２０２…操作ボタン、１２０４…受話口、１２０６…送話口、１２０８…表示部、１３００…デジタルスチールカメラ、１３０２…ケース、１３０４…受光ユニット、１３０６…シャッターボタン、１３０８…メモリー、１３１０…表示部、１５００…自動車、１５０１…車体、１５０２…車体姿勢制御装置、１５０３…車輪、２０００…慣性計測装置、２１００…アウターケース、２１１０…ネジ孔、２２００…接合部材、２３００…センサーモジュール、２３１０…インナーケース、２３１１…凹部、２３１２…開口部、２３２０…基板、２３３０…コネクター、２３４０Ｘ…角速度センサー、２３４０Ｙ…角速度センサー、２３４０Ｚ…角速度センサー、２３５０…加速度センサー、２３６０…制御ＩＣ、Ａ１…矢印、Ａ２…矢印、Ｂ１…矢印、Ｂ２…矢印、Ｃ１…矢印、Ｃ２…矢印、ＥＢ…エネルギー線、Ｇ…重心、Ｓ１０…成膜工程、Ｓ２０…周波数調整工程、ＷＡ…ウエハー、ａ…矢印、ｂ…矢印、ｃ…矢印、ω…角速度

Claims (13)

1. 基部と、
   前記基部から延在し、前記基部側に位置して電気的に互いに絶縁された一対の電極膜が配置されている腕部および前記腕部より先端側に位置する錘部を有する振動腕と、
   前記錘部に配置されている錘膜と、
   を備え、
   前記振動腕は、表裏関係にある第１主面および第２主面を有しており、
   前記一対の電極膜および前記錘膜は、前記第１主面および前記第２主面に配置されており、
   前記第１主面に配置された前記一対の電極膜の少なくとも一方の厚さ、前記第１主面に配置された前記錘膜、前記第２主面に配置された前記一対の電極膜の少なくとも一方の厚さ、および前記第２主面に配置された前記錘膜の厚さが、それぞれ５０ｎｍ以上５００ｎｍ以下であることを特徴とする振動素子。
2. 前記第１主面および前記第２主面の少なくとも一方において、
   前記腕部のうちの前記錘部に連続する領域における前記一対の電極膜の前記少なくとも一方の厚さは、前記錘膜の厚さと同じである請求項１に記載の振動素子。
3. 前記第１主面に配置されている前記一対の電極膜の前記少なくとも一方の厚さは、前記第２主面に配置されている前記一対の電極膜の前記少なくとも一方の厚さの５０％以上２００％以下である請求項１または２に記載の振動素子。
4. 前記第１主面に配置されている前記錘膜の厚さは、前記第２主面に配置されている前記錘膜の厚さの５０％以上２００％以下である請求項１ないし３のいずれか１項に記載の振動素子。
5. 前記電極膜および前記錘膜は、それぞれ振動腕側に位置する第１膜と、前記第１膜の前記振動腕側とは反対側に位置し前記第１膜より厚い第２膜と、を有する請求項１ないし４のいずれか１項に記載の振動素子。
6. 前記第１膜は、Ｃｒを含み、前記第２膜は、Ａｕを含む請求項５に記載の振動素子。
7. 基部と、前記基部から延在し、前記基部側に位置する腕部および前記腕部より先端側に位置する錘部を有して表裏関係にある第１主面および第２主面を有する振動腕と、前記第１主面および前記第２主面のそれぞれの前記腕部上に配置され、厚さが５０ｎｍ以上５００ｎｍ以下であり電気的に絶縁された一対の電極膜と、前記第１主面および前記第２主面のそれぞれの前記錘部上に配置され、厚さが５０ｎｍ以上５００ｎｍ以下である錘膜と、を形成する工程と、
   エネルギー線を照射して前記錘膜の一部および前記電極膜の一部の少なくとも一方を除去することにより、前記振動腕の共振周波数を調整する工程と、
   を有することを特徴とする振動素子の製造方法。
8. 前記振動腕の共振周波数を調整する工程は、前記第１主面に配置されている前記一対の電極膜の少なくとも一方の一部および前記錘膜の一部の少なくとも一方を除去するとともに、前記第２主面に配置されている前記一対の電極膜の少なくとも一方の一部および前記錘膜の一部の少なくとも一方を除去する工程である請求項７に記載の振動素子の製造方法。
9. 前記振動腕の共振周波数を調整する工程は、前記第１主面に配置されている前記一対の電極膜の少なくとも一方の一部および前記錘膜の一部の少なくとも一方を除去した後、前記振動腕をパッケージに収納し、前記第２主面に配置されている前記一対の電極膜の少なくとも一方の一部および前記錘膜の一部の少なくとも一方を除去する工程である請求項７に記載の振動素子の製造方法。
10. 請求項１ないし６のいずれか１項に記載の振動素子と、
    前記振動素子を収納しているパッケージと、
    を備えることを特徴とする物理量センサー。
11. 請求項１０に記載の物理量センサーと、
    前記物理量センサーに電気的に接続されている回路と、
    を備えることを特徴とする慣性計測装置。
12. 請求項１ないし６のいずれか１項に記載の振動素子と、
    前記振動子に対して駆動信号を出力する回路と、
    を備えることを特徴とする電子機器。
13. 請求項１ないし６のいずれか１項に記載の振動素子と、
    前記振動素子を備える物理量センサーを搭載したボディーと、
    を備えることを特徴とする移動体。

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