JP2019052085A - 炭化珪素単結晶の製造方法 - Google Patents
炭化珪素単結晶の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2019052085A JP2019052085A JP2018219235A JP2018219235A JP2019052085A JP 2019052085 A JP2019052085 A JP 2019052085A JP 2018219235 A JP2018219235 A JP 2018219235A JP 2018219235 A JP2018219235 A JP 2018219235A JP 2019052085 A JP2019052085 A JP 2019052085A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silicon carbide
- raw material
- single crystal
- carbide single
- crucible
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
Description
最初に本発明の実施態様を列記して説明する。
安息角[単位:°]は、粉体を自然落下させた際に形成される円錐の斜面と、水平面とがなす角(仰角)を示す。ここで円錐とは粉体の山を示している。粉体の山は、たとえば注入法により形成される。注入法とは、ロートを通じて粉体サンプルを落下させ、粉体の山を形成させる方法である。
圧縮度[単位:%]は、ゆるみ嵩密度をA、固め嵩密度をPとするとき、(P−A)÷P×100により算出される。ここで「ゆるみ嵩密度」とは、粉体を自然落下させた状態での嵩密度である。ゆるみ嵩密度は、規定容量のカップに粉体サンプルを充填、秤量することにより測定される。「固め嵩密度」とは、ゆるみ嵩密度を測定した後、カップをタッピングすることにより、粒子間に含まれる空気を脱気して、粉体を密充填させた状態での嵩密度である。嵩密度は見かけ比重と表記されることもある。
スパチュラ角[単位:°]は、粉体をスパチュラに盛った後、スパチュラを引き上げた際に形成される円錐の斜面と、水平面とがなす角度である。スパチュラ角は、具体的には次のようにして測定される。先ず粉体をスパチュラに盛った後、スパチュラを鉛直上方に静かに上昇させ、スパチュラ上に残った円錐の斜面と、水平面とがなす角を測定する。次いで所定の衝撃を与えた後に、再度円錐の斜面と水平面とがなす角を測定する。衝撃前後のなす角の平均値がスパチュラ角として採用される。
原料粉体の粒径が概ね300μm以上の場合は、第4の項目として均一度を測定する。均一度[単位:無次元数]は、篩分けによって測定された粒度分布から求める。均一度は、粒度分布において累積値60%での粒径(d60)を、累積値10%での粒径(d10)で除することにより算出される。
以下、本発明の一実施形態(以下「本実施形態」と記す)について詳細に説明するが、本実施形態はこれらに限定されるものではない。以下の説明では、同一または対応する要素には同一の符号を付し、それらについて同じ説明は繰り返さない。
図1は本実施形態に係る炭化珪素単結晶の製造方法の概略を示すフローチャートである。図1に示されるように、当該製造方法は、原料充填工程(S01)と、原料昇華工程(S02)とを備える。以下、各工程について説明する。
図2は本実施形態に係る炭化珪素単結晶の製造方法を図解する概略断面図である。図2に示される結晶成長装置100は、チャンバ6を備える。チャンバ6には、ガス導入口7およびガス排気口8が設けられている。ガス排気口8は排気ポンプ9と接続されている。チャンバ6内には、坩堝5、抵抗ヒータ2および断熱材10が配置されている。坩堝5、抵抗ヒータ2および断熱材10は、たとえば黒鉛製である。
原料昇華工程(S02)では、炭化珪素原料12を加熱することにより、炭化珪素原料12を昇華させる。昇華した炭化珪素原料は、種結晶11上において再析出し、炭化珪素単結晶13となって成長する。
3 台座
4 収容部
5 坩堝
6 チャンバ
7 ガス導入口
8 ガス排気口
9 排気ポンプ
10 断熱材
11 種結晶
12 炭化珪素原料
13 炭化珪素単結晶
100 結晶成長装置
Claims (4)
- 流動性指数が70以上100以下の炭化珪素原料を坩堝に充填する工程と、
前記炭化珪素原料を加熱することにより、前記炭化珪素原料を昇華させる工程と、を備え、
150mm以上の直径を有する種結晶が使用される、炭化珪素単結晶の製造方法。 - 前記炭化珪素原料の流動性指数は、80以上100以下である、請求項1に記載の炭化珪素単結晶の製造方法。
- 前記炭化珪素原料の流動性指数は、90以上100以下である、請求項1に記載の炭化珪素単結晶の製造方法。
- 流動性指数が90以上100以下の炭化珪素原料を坩堝に充填する工程と、
前記炭化珪素原料を加熱することにより、前記炭化珪素原料を昇華させる工程と、を備え、
150mm以上の直径を有する種結晶が使用される、炭化珪素単結晶の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018219235A JP6597873B2 (ja) | 2018-11-22 | 2018-11-22 | 炭化珪素単結晶の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018219235A JP6597873B2 (ja) | 2018-11-22 | 2018-11-22 | 炭化珪素単結晶の製造方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015026537A Division JP6443103B2 (ja) | 2015-02-13 | 2015-02-13 | 炭化珪素単結晶の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019052085A true JP2019052085A (ja) | 2019-04-04 |
JP6597873B2 JP6597873B2 (ja) | 2019-10-30 |
Family
ID=66014209
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018219235A Active JP6597873B2 (ja) | 2018-11-22 | 2018-11-22 | 炭化珪素単結晶の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6597873B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102068933B1 (ko) * | 2019-07-11 | 2020-01-21 | 에스케이씨 주식회사 | 탄화규소 잉곳 성장용 분말 및 이를 이용한 탄화규소 잉곳의 제조방법 |
-
2018
- 2018-11-22 JP JP2018219235A patent/JP6597873B2/ja active Active
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102068933B1 (ko) * | 2019-07-11 | 2020-01-21 | 에스케이씨 주식회사 | 탄화규소 잉곳 성장용 분말 및 이를 이용한 탄화규소 잉곳의 제조방법 |
US10822720B1 (en) | 2019-07-11 | 2020-11-03 | Skc Co., Ltd. | Composition for preparing silicon carbide ingot and method for preparing silicon carbide ingot using the same |
TWI725816B (zh) * | 2019-07-11 | 2021-04-21 | 南韓商Skc股份有限公司 | 用於碳化矽錠之粉末以及使用其製備碳化矽錠之方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6597873B2 (ja) | 2019-10-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI725816B (zh) | 用於碳化矽錠之粉末以及使用其製備碳化矽錠之方法 | |
CN112481699B (zh) | 一种高质量碳化硅单晶的制备方法及碳化硅单晶 | |
JP6443103B2 (ja) | 炭化珪素単結晶の製造方法 | |
JP2016056088A (ja) | バナジウムでドープしたSiC塊状単結晶の製造方法及びバナジウムでドープしたSiC基板 | |
JP6597873B2 (ja) | 炭化珪素単結晶の製造方法 | |
JP2021102533A (ja) | SiC単結晶の製造方法 | |
JP2013060328A (ja) | 炭化珪素結晶の製造方法 | |
JP5994248B2 (ja) | インゴット、基板および基板群 | |
JP2016172674A (ja) | 炭化珪素単結晶及びそれを用いた電力制御用デバイス基板 | |
JP2018158871A (ja) | 炭化ケイ素粉末、その製造方法、及び炭化ケイ素単結晶の製造方法 | |
KR101480491B1 (ko) | 원료 분말 소결체 벌크 제조 방법과 장치 및 소결체 벌크를 이용한 단결정 성장 방법 | |
JP6669469B2 (ja) | 炭化珪素粉末 | |
Steiner et al. | Optimization of the SiC powder source size distribution for the sublimation growth of long crystals boules | |
JP2015129086A (ja) | 炭化珪素基板 | |
JP2014205593A (ja) | 炭化珪素単結晶およびその製造方法 | |
JP6143019B2 (ja) | ウェーハ載置用サセプタの製造方法及びウェーハ載置用サセプタ | |
KR20130013703A (ko) | 잉곳 성장용 원료, 잉곳 성장용 원료의 제조 방법 및 잉곳 제조 방법 | |
WO2020235315A1 (ja) | 結晶成長装置及び結晶成長方法 | |
JP2021014385A (ja) | 4h炭化珪素単結晶の製造方法 | |
CN111575801A (zh) | 一种制备方法和晶片生长原料 | |
JP2015157762A (ja) | 炭化珪素基板 | |
JP2015129087A (ja) | 炭化珪素基板 | |
TWI837924B (zh) | 碳化矽晶圓製造方法以及碳化矽錠製造方法 | |
CN117658144B (zh) | 一种高品质碳化硅粉料及其制备方法和应用 | |
JP7613188B2 (ja) | FeGa合金単結晶の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20181122 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20190821 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190903 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190916 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6597873 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |