JP2018180290A - 表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 液晶層をそれぞれ含む２枚のパネルを重ねた表示装置の表示品位を向上させる【解決手段】 一実施形態に係る表示装置は、第１パネル、第２パネル、照明装置、第１偏光部材、第２偏光部材、第３偏光部材を備える。前記第１パネルは、第１基板、前記第１基板に対向する第２基板、前記第１基板と前記第２基板の間にある第１液晶層を含む。前記第２パネルは、前記第２基板に対向する第３基板、前記第３基板に対向する第４基板、前記第３基板と前記第４基板の間にある第２液晶層を含む。前記照明装置は、前記第１基板に光を照射する。前記第１偏光部材は、前記照明装置と前記第１基板の間にある。前記第２偏光部材は、前記第１液晶層と前記第２液晶層の間にある。前記第３偏光部材は、前記第４基板に対向する。この表示装置において、前記第２偏光部材は、前記第１偏光部材および前記第３偏光部材よりも薄い。【選択図】 図４

Description

本発明の実施形態は、表示装置に関する。

液晶層をそれぞれ含む２枚のパネルを重ねた表示装置が知られている。この種の表示装置においては、一方のパネルとバックライトの間、他方のパネルの外側、両パネルの間にそれぞれ偏光板が配置されている。表示装置のコントラスト比は、双方のパネルのコントラスト比の積算となるため、パネルを１枚のみ有する一般的な表示装置よりも向上する。

両パネルの液晶層の間の距離が大きくなると、両パネルの画素間で視差が生じ得る。すなわち、バックライト側のパネルの第１画素を通過した光が、この第１画素に対応する他方のパネルの第２画素に隣接する画素を通過することがある。これにより、両パネルの表示色のずれや輝度低下が生じ、結果として表示装置の表示品位が低下し得る。

特開２００９−１１５８６６号公報 特開２００６−９１３９３号公報 特開２００８−８９９６６号公報

本開示の一態様における目的は、液晶層をそれぞれ含む２枚のパネルを重ねた表示装置の表示品位を向上させることである。

一実施形態に係る表示装置は、第１パネルと、第２パネルと、照明装置と、第１偏光部材と、第２偏光部材と、第３偏光部材とを備えている。前記第１パネルは、第１基板と、前記第１基板に対向する第２基板と、前記第１基板と前記第２基板の間にある第１液晶層と、を含む。前記第２パネルは、前記第２基板に対向する第３基板と、前記第３基板に対向する第４基板と、前記第３基板と前記第４基板の間にある第２液晶層と、を含む。前記照明装置は、前記第１基板に光を照射する。前記第１偏光部材は、前記照明装置と前記第１基板の間にある。前記第２偏光部材は、前記第１液晶層と前記第２液晶層の間にある。前記第３偏光部材は、前記第４基板に対向する。この表示装置において、前記第２偏光部材は、前記第１偏光部材および前記第３偏光部材よりも薄い。

図１は、第１実施形態における表示装置の構成例を概略的に示す分解斜視図である。 図２は、第１実施形態における第１画素および第２画素の概略的な等価回路を示す図である。 図３は、第１実施形態における表示装置による画像表示を説明するため概略的な斜視図である。 図４は、第１実施形態における表示装置の概略的な断面図である。 図５は、比較例に係る表示装置の概略的な構成を示す断面図である。 図６は、第１実施形態に係る表示装置の概略的な構成を示す断面図である。 図７は、第２実施形態に係る表示装置の概略的な断面図である。 図８は、第３実施形態に係る表示装置の概略的な断面図である。 図９は、第４実施形態に係る表示装置の概略的な断面図である。 図１０は、第１画素と、第２画素の副画素との形状を示す概略的な平面図である。 図１１は、第５実施形態に係る表示装置の概略的な断面図である。

いくつかの実施形態につき、図面を参照しながら説明する。
なお、開示はあくまで一例に過ぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有される。また、図面は、説明をより明確にするため、実際の態様に比べて模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。各図において、連続して配置される同一又は類似の要素については符号を省略することがある。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同一又は類似した機能を発揮する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する詳細な説明を省略することがある。
また、本明細書において「αはＡ，Ｂ又はＣを含む」、「αはＡ，Ｂ及びＣのいずれかを含む」、「αはＡ，Ｂ及びＣからなる群から選択される一つを含む」といった表現は、特に明示がない限り、αがＡ〜Ｃの複数の組み合わせを含む場合を排除しない。さらに、これらの表現は、αが他の要素を含む場合も排除しない。

各実施形態においては、表示装置が備える２枚のパネルがいずれも透過型の液晶表示パネルである場合を例示する。この表示装置は、例えば、スマートフォン、タブレット端末、携帯電話端末、パーソナルコンピュータ、テレビ受像装置、車載装置、ゲーム機器等の種々の装置に用いることができる。なお、各実施形態は、他種の表示パネルを備えた表示装置に対する、各実施形態にて開示される個々の技術的思想の適用を妨げるものではない。他種の表示パネルとしては、例えば、外光を利用して画像を表示する反射型の液晶表示パネルや、透過型と反射型の双方の機能を備えた液晶表示パネルなどが想定される。

［第１実施形態］
図１は、表示装置１の構成例を概略的に示す分解斜視図である。表示装置１は、照明装置ＩＤと、第１パネルＰＮＬ１と、第２パネルＰＮＬ２とを備えている。図示したように第１方向Ｘ、第２方向Ｙ、第３方向Ｚを定義する。各方向Ｘ，Ｙ，Ｚは、本実施形態においては互いに直交する方向であるが、垂直以外の角度で交わってもよい。本開示においては、第３方向Ｚの矢印が示す方向を「上方」あるいは「上」と称し、この矢印の反対方向を「下方」あるいは「下」と称する。

図１の例において、照明装置ＩＤは、導光板ＬＧと、光源ユニットＬＵとを備えたサイドエッジ型のバックライトである。但し、照明装置ＩＤの構成は図１の例に限られず、画像表示に必要な光を供給する構成であればよい。例えば、照明装置ＩＤは、第１パネルＰＮＬ１の下方に配置された発光素子を含むいわゆる直下型のバックライトであってもよい。

図１の例において、第１パネルＰＮＬ１、第２パネルＰＮＬ２、および導光板ＬＧは、いずれも第１方向Ｘに沿う短辺と、第２方向Ｙに沿う長辺とを有する長方形状に形成されている。導光板ＬＧ、第１パネルＰＮＬ１、および第２パネルＰＮＬ２は、この順で第３方向Ｚに重ねられている。なお、各パネルＰＮＬ１，ＰＮＬ２および導光板ＬＧは長方形状に限られず、他の形状であってもよい。

導光板ＬＧは、入射面Ｆ１と、出射面Ｆ２とを有している。入射面Ｆ１は導光板ＬＧの第１方向Ｘに沿う一対の側面のうちの一方に相当し、出射面Ｆ２は導光板ＬＧの一対の主面のうち第１パネルＰＮＬ１の側の一方に相当する。

光源ユニットＬＵは、導光板ＬＧの入射面Ｆ１に沿って第１方向Ｘに並んだ複数の発光ダイオードＬＤを備えている。光源ユニットＬＵは、発光ダイオードＬＤに代えて、例えば有機エレクトロルミネッセンス素子などの他種の発光素子を備えてもよい。発光ダイオードＬＤからの光は、入射面Ｆ１から導光板ＬＧに入射し、導光板ＬＧを伝播して出射面Ｆ２から出射する。

第１パネルＰＮＬ１は、透過型の液晶パネルであり、第１基板ＳＵＢ１と、第１基板ＳＵＢ１に対向する第２基板ＳＵＢ２と、これら基板ＳＵＢ１，ＳＵＢ２の間に配置された第１液晶層ＬＣ１とを備えている。第１パネルＰＮＬ１は、複数の第１画素ＰＸ１を含む第１領域Ａ１を有している。各第１画素ＰＸ１は、第１方向Ｘおよび第２方向Ｙに沿ってマトリクス状に配列されている。

第２パネルＰＮＬ２は、透過型の液晶パネルであり、第２基板ＳＵＢ２に対向する第３基板ＳＵＢ３と、第３基板ＳＵＢ３に対向する第４基板ＳＵＢ４と、これら基板ＳＵＢ３，ＳＵＢ４の間に封入された第２液晶層ＬＣ２とを備えている。第２パネルＰＮＬ２は、複数の第２画素ＰＸ２を含む第２領域Ａ２を有している。各第２画素ＰＸ２は、第１方向Ｘおよび第２方向Ｙに沿ってマトリクス状に配列されている。

表示装置１は、さらに、反射シートＲＦと、光学シート群ＯＧと、第１偏光部材ＰＬ１と、第２偏光部材ＰＬ２と、第３偏光部材ＰＬ３とを備えている。
反射シートＲＦは、導光板ＬＧの一対の主面のうち出射面Ｆ２の反対側にあたる裏面に対向し、この裏面から漏れる光を導光板ＬＧに戻す。導光板ＬＧの入射面Ｆ１を除く側面と対向する反射シートがさらに配置されてもよい。
光学シート群ＯＧは、例えば、導光板ＬＧの出射面Ｆ２から出射する光を拡散する拡散シートＤＦと、多数のプリズムレンズが形成された第１プリズムシートＰＲ１および第２プリズムシートＰＲ２とを含む。

第１偏光部材ＰＬ１は、導光板ＬＧと第１基板ＳＵＢ１の間に配置されている。第２偏光部材ＰＬ２は、第１液晶層ＬＣ１と第２液晶層ＬＣ２の間に配置されている。図１の例においては、第２偏光部材ＰＬ２が第２基板ＳＵＢ２の外面に設けられている。第３偏光部材ＰＬ３は、第２パネルＰＮＬ２の上に配置され、第４基板ＳＵＢ４に対向している。

第１偏光部材ＰＬ１及び第３偏光部材ＰＬ２は、第１偏光軸を有している。第２偏光部材ＰＬ２は、第１偏光軸と直交する第２偏光軸を有している。すなわち、第１偏光部材ＰＬ１と第２偏光部材ＰＬ２、及び、第２偏光部材ＰＬ２と第３偏光部材ＰＬ３は、いずれもクロスニコルの関係にある。

以上のような構成の表示装置１において、導光板ＬＧの出射面Ｆ２からの光は、第１偏光部材ＰＬ１を透過し、第１パネルＰＮＬ１に入射する。第１パネルＰＮＬ１に入射する光は、第１偏光部材ＰＬ１の第１偏光軸と直交する直線偏光である。この光は、第１液晶層ＬＣ１のうちオフ状態（黒表示）の第１画素ＰＸ１に対応する領域を通過した際には偏光状態が殆ど変化せず、第１偏光軸と直交する第２偏光軸を有する第２偏光部材ＰＬ２によって吸収される。

一方で、第１パネルＰＮＬ１に入射した光は、第１液晶層ＬＣ１のうちオン状態（白表示）の第１画素ＰＸ１に対応する領域を通過した際には偏光状態が変化し、少なくとも一部が第２偏光部材ＰＬ２の第２偏光軸に直交する偏光状態となる。したがって、この光の少なくとも一部は第２偏光部材ＰＬ２を透過する。

第２偏光部材ＰＬ２を透過した光は、第２パネルＰＮＬ２に入射する。第２パネルＰＮＬ２に入射する光は、第２偏光部材ＰＬ２の第２偏光軸と直交する直線偏光である。この光は、第２液晶層ＬＣ２のうちオフ状態の第２画素ＰＸ２に対応する領域を通過した際には偏光状態が殆ど変化せず、第１偏光軸を有する第３偏光部材ＰＬ３によって吸収される。

一方で、第２パネルＰＮＬ２に入射した光は、第２液晶層ＬＣ２のうちオン状態の第２画素ＰＸ２に対応する領域を通過した際には偏光状態が変化し、少なくとも一部が第１偏光軸に直交する偏光状態となる。したがって、この光の少なくとも一部は第３偏光部材ＰＬ３を透過し、画像を形成する。
なお、本実施形態では各パネルＰＮＬ１，ＰＮＬ２がノーマリブラックモードである場合を想定するが、各パネルＰＮＬ１，ＰＮＬ２はノーマリホワイトモードであってもよい。

図２は、第１画素ＰＸ１および第２画素ＰＸ２の概略的な等価回路を示す図である。
図２（Ａ）に示すように、第１パネルＰＮＬ１は、第１方向Ｘに延びる複数の走査線Ｇ１と、第２方向Ｙに延びる複数の信号線Ｓ１とを備えている。これら走査線Ｇ１および信号線Ｓ１によって区画された領域が第１画素ＰＸ１に相当する。第１画素ＰＸ１は、第１スイッチング素子ＳＷ１と、第１画素電極ＰＥ１と、第１共通電極ＣＥ１とを備えている。第１スイッチング素子ＳＷ１は、走査線Ｇ１、信号線Ｓ１、および第１画素電極ＰＥ１と電気的に接続されている。走査線Ｇ１に走査信号が供給されると、信号線Ｓ１の映像信号が第１画素電極ＰＥ１に印加される。このとき、第１画素電極ＰＥ１と第１共通電極ＣＥ１の間に形成される電界が第１液晶層ＬＣ１に作用する（オン状態）。本実施形態において、第１基板ＳＵＢ１は、カラーフィルタ層を備えていない。したがって、第１画素ＰＸ１は、白または黒のいずれか一方を表示するモノクロの画素である。

図２（Ｂ）に示すように、第２パネルＰＮＬ２は、第１方向Ｘに延びる複数の走査線Ｇ２と、第２方向Ｙに延びる複数の信号線Ｓ２とを備えている。これら走査線Ｇ２および信号線Ｓ２によって区画された領域は、副画素ＳＰ２に相当する。第２基板ＳＵＢ２は、複数色のカラーフィルタを含むカラーフィルタ層４２（図４参照）を備えている。したがって、各副画素ＳＰ２は、対応するカラーフィルタに応じた色を表示する。第２画素ＰＸ２は、例えば赤色を表示する副画素ＳＰ２Ｒと、緑色を表示する副画素ＳＰ２Ｇと、青色を表示する副画素ＳＰ２Ｂとを含む。これら副画素ＳＰ２Ｒ，ＳＰ２Ｇ，ＳＰ２Ｂは、例えば第１方向Ｘに並んでいる。第２画素ＰＸ２に含まれる副画素ＳＰ２の種類はこの例に限られず、例えば白色など他の色を表示する副画素ＳＰ２をさらに含んでもよい。

副画素ＳＰ２は、第２スイッチング素子ＳＷ２と、第２画素電極ＰＥ２と、第２共通電極ＣＥ２とを備えている。第２スイッチング素子ＳＷ２は、走査線Ｇ２、信号線Ｓ２、および第２画素電極ＰＥ２と電気的に接続されている。走査線Ｇ２に走査信号が供給されると、信号線Ｓ２の映像信号が第２画素電極ＰＥ２に印加される。このとき、第２画素電極ＰＥ２と第２共通電極ＣＥ２の間に形成される電界が第２液晶層ＬＣ２に作用する（オン状態）。

図３は、表示装置１による画像表示を説明するため概略的な斜視図である。ここでは、表示装置１を構成する要素の一部のみを示している。
表示装置１は、コントローラＣＴを備えている。コントローラＣＴは、光源ユニットＬＵ、第１パネルＰＮＬ１、および第２パネルＰＮＬ２を制御する。例えば、コントローラＣＴは、ＩＣや各種回路で構成されている。コントローラＣＴは、外部から入力される画像データ等に応じて、第１パネルＰＮＬ１の各第１画素ＰＸ１および第２パネルＰＮＬ２の各第２画素ＰＸ２（各副画素ＳＰ２）をオンまたはオフする。

例えば図示したように、第２領域Ａ２に高輝度部分ＨＢと低輝度部分ＬＢとを含む画像を表示する場合を想定する。この場合、コントローラＣＴは、第１領域Ａ１において高輝度部分ＨＢに対応する第１画素ＰＸ１をオンし、低輝度部分ＬＢに対応する第１画素ＰＸ１をオフする。さらに、コントローラＣＴは、第２領域Ａ２において高輝度部分ＨＢに対応する第２画素ＰＸ２をオンし、低輝度部分ＬＢに対応する第２画素ＰＸ２をオフする。

照明装置ＩＤからの光は、第１領域Ａ１においてオンされた第１画素ＰＸ１に対応する部分は透過するが、オフされた第１画素ＰＸ１に対応する部分は殆ど透過しない。第１領域Ａ１を透過した光は、第２領域Ａ２における高輝度部分ＨＢを透過して、ユーザが視認する画像を形成する。
このように、本実施形態において、第２パネルＰＮＬ２は画像が表示される第２領域Ａ２（表示領域）を有した表示パネルとして機能し、第１パネルＰＮＬ１は第２領域Ａ２に入射する光の光量を第１領域Ａ１（調光領域）において調整する調光パネルとして機能する。

一般的な液晶パネルにおいては、画素をオフしたとしても、バックライトからの光を完全に遮ることは難しく、僅かに光が漏れる。その結果、オンされた画素とオフされた画素のコントラスト比を十分に高めることができない。一方で、本実施形態の構成であれば、低輝度部分ＬＢでは２枚のパネルで光が遮られる。したがって、低輝度部分ＬＢの輝度を十分に低下させ、表示装置１のコントラスト比を高めることができる。

図４は、表示装置１の概略的な断面図である。ここでは、照明装置ＩＤ、各走査線Ｇ１，Ｇ２、各信号線Ｓ１，Ｓ２、各スイッチング素子ＳＷ１，ＳＷ２などの図示を省略している。
第１パネルＰＮＬ１の第１基板ＳＵＢ１は、第１基材１０と、絶縁層１１と、配向膜１２と、第１画素電極ＰＥ１とを備えている。第１基材１０は、例えばガラス基材などの剛性基材である。絶縁層１１は、第１基材１０の上面を覆っている。第１画素電極ＰＥ１は、絶縁層１１の上に配置されている。配向膜１２は、第１画素電極ＰＥ１および絶縁層１１を覆っている。

第１パネルＰＮＬ１の第２基板ＳＵＢ２は、第２基材２０と、遮光層２１と、オーバーコート層２２と、配向膜２３と、第１共通電極ＣＥ１とを備えている。第２基材２０は、例えばポリイミドなどの樹脂材料で形成された樹脂基材であり、可撓性を有している。遮光層２１は、第２基材２０の下に配置されている。遮光層２１は、例えば上述の走査線Ｇ１および信号線Ｓ１と第３方向Ｚにおいて対向している。オーバーコート層２２は、第２基材２０の下面および遮光層２１を覆っている。第１共通電極ＣＥ１は、オーバーコート層２２の下に配置されている。配向膜２３は、第１共通電極ＣＥ１を覆っている。配向膜１２，２３の間に第１液晶層ＬＣ１が配置されている。

第２パネルＰＮＬ２の第３基板ＳＵＢ３は、第３基材３０と、絶縁層３１，３２と、配向膜３３と、第２画素電極ＰＥ２と、第２共通電極ＣＥ２とを備えている。第３基材３０は、例えばポリイミド、ポリアミド、ポリエステルまたはポリカーボネートなどの樹脂材料で形成された樹脂基材であり、可撓性を有している。絶縁層３１は、第３基材３０の上面を覆っている。第２共通電極ＣＥ２は、絶縁層３１の上に配置されている。絶縁層３２は、第２共通電極ＣＥ２を覆っている。第２画素電極ＰＥ２は、絶縁層３２の上に配置されている。第２画素電極ＰＥ２は、例えばスリットを有している。配向膜３３は、第２画素電極ＰＥ２および絶縁層３２を覆っている。

第２パネルＰＮＬ２の第４基板ＳＵＢ４は、第４基材４０と、遮光層４１と、カラーフィルタ層４２と、オーバーコート層４３と、配向膜４４とを備えている。第４基材４０は、例えばガラス基材などの剛性基材である。遮光層４１は、第４基材４０の下に配置されている。遮光層４１は、例えば上述の走査線Ｇ２および信号線Ｓ２と第３方向Ｚにおいて対向している。また、遮光層４１は、遮光層２１と第３方向Ｚにおいて対向している。カラーフィルタ層４２は、第４基材４０の下面および遮光層４１を覆っている。オーバーコート層４３は、カラーフィルタ層４２を覆っている。カラーフィルタ層４２は、副画素ＳＰ２Ｒ，ＳＰ２Ｇ，ＳＰ２Ｂに対応する色のカラーフィルタを含む。カラーフィルタ層４２は、第３基板ＳＵＢ３に配置されてもよい。配向膜４４は、オーバーコート層４３を覆っている。配向膜３３，４４の間に第２液晶層ＬＣ２が配置されている。
各画素電極ＰＥ１，ＰＥ２および各共通電極ＣＥ１，ＣＥ２は、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの透明導電材料で形成されている。

図４に示す第１パネルＰＮＬ１の構成は、ＶＡ（Vertical Aligned）モードに相当する。すなわち、オフ状態においては、第１液晶層ＬＣ１の液晶分子が第３方向Ｚに沿ってホメオトロピック配向（垂直配向）されている。オン状態においては、異なる基板ＳＵＢ１，ＳＵＢ２にそれぞれ配置された第１画素電極ＰＥ１と第１共通電極ＣＥ１の間に生じる縦方向（第３方向Ｚ）の電界によって、第１液晶層ＬＣ１の液晶分子が第３方向Ｚと交わる方向に配向される。一方で、図４に示す第２パネルＰＮＬ２の構成は、ＩＰＳ（In-Plane Switching）モードの一種であるＦＦＳ（Fringe Field Switching）モードに相当する。すなわち、オフ状態においては、第２液晶層ＬＣ２の液晶分子が各配向膜３３，４４の配向処理方向に沿って配向されている。オン状態においては、一つの基板ＳＵＢ３に配置された第２画素電極ＰＥ２と第２共通電極ＣＥ２の間に生じる主として横方向（Ｘ−Ｙ平面と平行な方向）の電界によって、第２液晶層ＬＣ２の液晶分子が配向される。なお、各パネルＰＮＬ１，ＰＮＬ２におけるモードはこれらの例に限られず、種々のモードを適用することができる。

第１パネルＰＮＬ１において、遮光層２１で区切られた領域が第１画素ＰＸ１に相当する。第２パネルＰＮＬ２において、遮光層４１で区切られた領域が副画素ＳＰ２に相当する。図４の例においては、第１方向Ｘに並ぶ副画素ＳＰ２Ｒ，ＳＰ２Ｇ，ＳＰ２Ｂで第２画素ＰＸ２が構成されている。本実施形態においては、各副画素ＳＰ２と第１画素ＰＸ１とが第３方向Ｚにおいて対向し、かつサイズが一致している。一例として、第１画素ＰＸ１および副画素ＳＰ２の第１方向Ｘにおける幅は、２０μｍである。

表示装置１は、第１接着層ＡＤ１と、第２接着層ＡＤ２と、第３接着層ＡＤ３とをさらに備えている。本実施形態において、第１偏光部材ＰＬ１および第３偏光部材ＰＬ３は、各基板ＳＵＢ１，ＳＵＢ４とは別途に製造された後にこれら基板にそれぞれ貼り合わされた偏光板である。すなわち、第１偏光部材ＰＬ１は、第１接着層ＡＤ１を介して第１基材１０の下面に接着されている。第３偏光部材ＰＬ３は、第３接着層ＡＤ３を介して第４基材４０の上面に接着されている。各偏光部材ＰＬ１，ＰＬ３は、例えばヨウ素型の偏光板であり、配向されたヨウ素を含んだＰＶＡ（ポリビニルアルコール）等の偏光層を、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）等の一対の支持フィルムで挟んだ構成を備えている。但し、各偏光部材ＰＬ１，ＰＬ３の構成はこの例に限定されない。

一方、第２偏光部材ＰＬ２は、第２基材２０の上面に形成された偏光膜である。偏光膜は、塗布型偏光板と称されることもある。例えば、第２偏光部材ＰＬ２の形成に際しては、先ず第２基材２０に配向膜材料を塗布して仮焼成し、直線偏光の紫外光を照射し、その後に再度焼成する。そして、色素を含んだ液晶材料を配向膜材料に塗布し、仮焼成し、紫外光を照射し、その後に再度焼成する。これにより、液晶材料の色素が所定方向に配向され、直線偏光子として機能する偏光膜としての第２偏光部材ＰＬ２を得ることができる。なお、ここで説明した第２偏光部材ＰＬ２は一例であり、直線偏光子として機能すればどのような構造の偏光膜を用いてもよいし、製造工程も特に限定されない。また、配向膜材料を用いた偏光膜を例として説明したが、膜厚が薄い偏光部材であればどのような構造でもよい。

第２接着層ＡＤ２は、第２偏光部材ＰＬ２と第３基材３０の間に配置されている。第１パネルＰＮＬ１と第２パネルＰＮＬ２は、第２接着層ＡＤ２を介して貼り合わされている。なお、第２偏光部材ＰＬ２は、第１液晶層ＬＣ１と第２液晶層ＬＣ２の間であれば、他の位置に配置されてもよい。例えば、第２偏光部材ＰＬ２は、第３基材３０の下面に形成することもできる。この場合、第２接着層ＡＤ２は、第２偏光部材ＰＬ２と第２基材２０の間に配置される。

続いて、本実施形態の効果について説明する。なお、以下に説明する効果の他にも、本実施形態からは種々の好適な効果を得ることができる。
図５は、本実施形態との比較例に係る表示装置１００である。図５は、表示装置１００の概略的な構成を示す断面図である。図６は、本実施形態に係る表示装置１の概略的な構成を示す断面図である。これらの図においては、照明装置ＩＤ、各接着層ＡＤ１〜ＡＤ３、各基板ＳＵＢ１〜ＳＵＢ４に含まれる基材１０，２０，３０，４０以外の要素を省略している。

図５に示す表示装置１００は、表示装置１と同じく、基材１０，２０，３０，４０、偏光部材ＰＬ１〜ＰＬ３、液晶層ＬＣ１，ＬＣ２、第１画素ＰＸ１、副画素ＳＰ２Ｒ，ＳＰ２Ｇ，ＳＰ２Ｂ（第２画素ＰＸ２）を備えている。表示装置１００は、第２基材２０および第３基材３０が樹脂基材ではなくガラス基材などの剛性基材であり、第２偏光部材ＰＬ２が偏光膜ではなく偏光板である点で、表示装置１と相違する。

第１偏光部材ＰＬ１の厚さをＴＡ１、第２偏光部材ＰＬ２の厚さをＴＡ２、第３偏光部材ＰＬ３の厚さをＴＡ３、第１基材１０の厚さをＴＢ１、第２基材２０の厚さをＴＢ２、第３基材３０の厚さをＴＢ３、第４基材４０の厚さをＴＢ４と定義する。これらの厚さは、いずれも第３方向Ｚにおける厚さである。

比較例に係る表示装置１００においては第２基材２０および第３基材３０が剛性基材であり、図６に示す本実施形態に係る表示装置１においては第２基材２０および第３基材３０が樹脂基材である。一般的に、樹脂基材は、剛性基材に比べて薄く形成することができる。一例として、剛性基材は１５０μｍ程度の厚さが必要であるのに対し、樹脂基材は１０μｍ程度の厚さで形成することができる。表示装置１において、第２基材２０および第３基材３０は、第１基材１０および第４基材４０よりも薄い。

先ず、図５の比較例に係る表示装置１００においては、第２偏光部材ＰＬ２が偏光板である。一方で、図６の本実施形態に係る表示装置１においては、第２偏光部材ＰＬ２が偏光膜である。一般的に、偏光板は、偏光膜に比べて厚くなってしまう。一例として、偏光板は少なくとも８０〜１００μｍ程度の厚さが必要であるのに対し、偏光膜は数μｍ（例えば２μｍ）の厚さである。

比較例の表示装置１００においては、偏光板が厚いため、各液晶層ＬＣ１、ＬＣ２の間の距離Ｄが大きくなっている。距離Ｄが大きい場合、視差に起因した表示品位の低下が生じ得る。すなわち、図５に示すように、第３方向Ｚと略平行に各パネルＰＮＬ１，ＰＮＬ２を透過する光Ｌ１は第１画素ＰＸ１とこの第１画素ＰＸ１に対応する副画素ＳＰ２（図５の例ではＳＰ２Ｇ）を通過する。一方、第３方向Ｚに対して傾いた光Ｌ２は、第１画素ＰＸ１に対応する副画素ＳＰ２ではなく、隣の副画素ＳＰ２（図５の例ではＳＰ２Ｂ）を通過し得る。したがって、表示装置１００の画面を斜め方向から見た場合には、本来の色からずれた画像が視認され得る。また、上述の遮光層２１，４１は、表示装置１００を正面から見た場合には重なっているが、斜め方向から見た場合には互いにずれるので、副画素ＳＰ２の実質的な開口率が低下し得る。

特に近年では、ヘッドマウントディスプレイのように、画素解像度が６００ｐｐｉを超える表示パネルが検討されている。この高精細ディスプレイは、目と表示パネル距離が近いこともあり、上述した隣接画素の光が透過して視認される問題が非常に起こりやすい。

これに対し、図６の通り、本実施形態に係る表示装置１においては距離Ｄが小さい。したがって、図６に示すように、光Ｌ２のような傾いた光であっても、互いに対応する第１画素ＰＸ１と副画素ＳＰ２を通過し易い。また、上述の遮光層２１，４１の距離も短くなるので、斜め方向から見た場合における副画素ＳＰ２の実質的な開口率の低下を抑制することができる。

一例として、第２基材２０の厚さＴＢ２および第３基材３０の厚さＴＢ３をそれぞれ１０μｍ以下、第２偏光部材ＰＬ２の厚さＴＡ２を数μｍとすると、各液晶層ＬＣ１，ＬＣ２の間に存在する他の層を考慮しても、距離Ｄを５０μｍ以下に抑えることが可能である。距離Ｄが５０μｍ以下である場合、上述の効果を十分に得ることができる。さらに、距離Ｄが３０μｍ以下であれば一層好適な効果を得ることができる。また、例えば、表示装置１における厚さＴＡ２（図６には図示していない）は、厚さＴＡ１および厚さＴＡ３の５分の１以下とすることが好ましい。さらに、厚さＴＡ２を厚さＴＡ１および厚さＴＡ３の１０分の１以下とすれば一層好適である。

以上のことから、本実施形態の表示装置１における厚さＴＡ２，ＴＢ２，ＴＢ３は、表示装置１００におけるこれら厚さに比べて小さい。したがって、表示装置１においては、各液晶層ＬＣ１，ＬＣ２の間の距離Ｄを表示装置１００に比べて小さくできる。また、表示装置１においては、全体の厚さＴを表示装置１００に比べて小さくできる。

一般的なヨウ素型の偏光板は、９９．９９％程度の偏光度を有している。一方で、偏光膜の偏光度はヨウ素型の偏光板よりも低く、例えば９９％程度である。そのため、偏光板の偏光度は数万であるのに対し、偏光膜の偏光度は数百である。調光パネルを備えない一般的な表示装置のコントラスト比は、ＩＰＳモードでは最大で２０００程度、ＶＡモードでは最大で５０００程度である。上記のような偏光膜を、これらの一般的な表示装置の偏光部材として用いると、表示装置のコントラスト比を十分に高めることができない。
一方、本実施形態に係る表示装置１において、第２偏光部材ＰＬ２として偏光膜を用いる場合、各偏光部材ＰＬ１，ＰＬ２と第１パネルＰＮＬ１の構成および各偏光部材ＰＬ２，ＰＬ３と第２パネルＰＮＬ２の構成それぞれのコントラスト比は、いずれも数百程度となる。表示装置１の全体のコントラスト比はこれらの積算値となるので５０００を超過し、十分なコントラスト比を得ることができる。つまり、第２偏光部材ＰＬ２の偏光度は、第１偏光部材ＰＬ１や第３偏光部材ＰＬ３の偏光度よりも低くても問題は無い。

一般的に、表示装置のコントラスト比は、液晶層における散乱の影響などにより、ＩＰＳモードにおいては偏光部材のコントラスト比の１／１０程度、ＶＡモードにおいては偏光部材のコントラスト比の１／２程度となる。すなわち、ＩＰＳモードの表示装置はＶＡモードの表示装置に比べてコントラスト比が低い。一方で、ＩＰＳモードの表示装置は、広い視野角を得られるなどの利点がある。本実施形態においては、調光パネルである第１パネルＰＮＬ１にＶＡモードを適用し、表示パネルである第２パネルＰＮＬ２にＩＰＳモードを適用している。したがって、２枚のパネルを重ねてコントラスト比を高めつつも、ＩＰＳモードの利点を得ることができる。

例えば、ＨＤＲ（High Dynamic Range）の表示装置を実現するにあたっては、ＶＡモードのコントラスト比（例えば５０００）を超えるコントラスト比が求められている。当該好ましいコントラスト比は、ＨＤＲの分野では例えば１００００以上である。本実施形態の構成であれば、第２偏光部材ＰＬ２として偏光膜を用いたとしても、このようなコントラスト比を実現することが可能である。一方で、偏光部材の偏光度と透過率はトレードオフの関係にあるため、コントラスト比を向上させるべく偏光度の高い偏光部材を用いると透過率が低下し得る。したがって、表示装置１のコントラスト比は、例えば５０００超過かつ１０００００以下の範囲内で設定すればよい。好ましくは１００００以上１０００００以下である。この範囲内であれば、十分な表示品位を得ることができる。

第２基材２０および第３基材３０としては、例えば上述のようにポリイミドを用いることができる。ポリイミドは、ネガティブＣ型の位相差を有している。一方、ＶＡモードにおける液晶層の液晶分子は、ホメオトロピック配向されている。すなわち、液晶分子は、長軸が第３方向Ｚに沿うように配向しており、ポジティブＣ型の位相差を有している。したがって、本実施形態のように第１パネルＰＮＬ１にＶＡモードを適用する場合、第１液晶層ＬＣ１がポジティブＣ型の位相差を有し、第２基材２０および第３基材３０をポリイミドで形成した場合のネガティブＣ型の位相差を打ち消すことができる。なお、ネガティブＣ型の位相差とポジティブＣ型の位相差の補償や、ホメオトロピック配向についての詳細は、特開２０１６−４１４２号公報や特開２００６−２１５２２１号公報に開示されている。

仮に、第２偏光部材ＰＬ２として各偏光部材ＰＬ１，ＰＬ３と同じく偏光板を用いる場合、第２偏光部材ＰＬ２を第２基材２０または第３基材３０の一方に貼り付ける工程と、第２偏光部材ＰＬ２が貼り付けられた当該一方の基材を他方の基材に貼り付ける工程とが必要となる。これに対し、本実施形態のように第２偏光部材ＰＬ２を偏光膜とすれば、第２偏光部材ＰＬ２が形成された第２基材２０を第３基材３０に貼り付ければよいので、貼り付け工程を１回省略できる。

本実施形態においては、第１基材１０および第４基材４０が剛性基材である。したがって、各基材１０，４０に貼り合わされた第１偏光部材ＰＬ１および第３偏光部材ＰＬ３を修理のために剥がす必要が生じた場合において、各基材１０，４０が可撓性を有する樹脂基材である場合よりも、作業が容易である。

以上のように、本実施形態によれば、表示装置１の表示品位を向上させることができるとともに、その他の種々の好適な効果を得ることができる。

［第２実施形態］
第２実施形態について説明する。特に言及しない構成は第１実施形態と同様である。
図７は、第２実施形態に係る表示装置１の概略的な断面図である。図示した表示装置１は、第１パネルＰＮＬ１がカラーフィルタ層２４を備える点で、第１実施形態と異なる。カラーフィルタ層２４は、第２基板ＳＵＢ２において、第２基材２０の下面および遮光層２１を覆っている。カラーフィルタ層２４は、オーバーコート層２２によって覆われている。カラーフィルタ層２４は、第１基板ＳＵＢ１に配置されてもよい。

本実施形態において、第１画素ＰＸ１は、第２画素ＰＸ２と同じく複数の副画素ＳＰ１にて構成されている。図７の例において、第１画素ＰＸ１は、赤色を表示する副画素ＳＰ１Ｒと、緑色を表示する副画素ＳＰ１Ｇと、青色を表示する副画素ＳＰ１Ｂとを含む。副画素ＳＰ１Ｒ，ＳＰ１Ｇ，ＳＰ１Ｂは、それぞれ第２画素ＰＸ２の副画素ＳＰ２Ｒ，ＳＰ２Ｇ，ＳＰ２Ｂと対向している。第２画素ＰＸ２に含まれる副画素ＳＰ２の種類はこの例に限られず、例えば白色など他の色を表示する副画素ＳＰ２をさらに含んでもよい。
本実施形態の構成においても、第１実施形態と同様の効果を得ることができる。

［第３実施形態］
第３実施形態について説明する。特に言及しない構成は第２実施形態と同様である。
図８は、第３実施形態に係る表示装置１の概略的な断面図である。図示した例においては、偏光膜である第２偏光部材ＰＬ２が第２基板ＳＵＢ２内に配置されている。すなわち、オーバーコート層２２に代えて、第２偏光部材ＰＬ２がカラーフィルタ層２４を覆っている。第２基板ＳＵＢ２と第３基板ＳＵＢ３は、第２接着層ＡＤ２によって貼り合わされている。なお、第１実施形態と同様に、第１パネルＰＮＬ１がカラーフィルタ層２４を備えなくてもよい。

第２偏光部材ＰＬ２は、第２基板ＳＵＢ２において他の位置に配置されてもよい。また、第２偏光部材ＰＬ２は、第３基板ＳＵＢ３内に配置されてもよい。但し、第３基板ＳＵＢ３は第２スイッチング素子ＳＷ２などを含むため、第２基板ＳＵＢ２よりも多くの製造プロセスを経て製造される。これら製造プロセスが第２偏光部材ＰＬ２に悪影響を及ぼしたり、あるいは第２偏光部材ＰＬ２を形成するプロセスが第２基板ＳＵＢ２の他の層に悪影響を及ぼしたりすることを防止する観点からは、第２基板ＳＵＢ２に第２偏光部材ＰＬ２を配置することが好ましい。
本実施形態の構成においても、上述の各実施形態と同様の効果を得ることができる。

［第４実施形態］
第４実施形態について説明する。特に言及しない構成は第１実施形態と同様である。
図９は、第４実施形態に係る表示装置１の概略的な断面図である。図示した例においては、第１画素ＰＸ１のサイズが第２画素ＰＸ２の副画素ＳＰ２よりも大きい。すなわち、第１画素ＰＸ１の第１画素電極ＰＥ１は、複数の副画素ＳＰ２（図９の例では３つの副画素ＳＰ２）と対向している。

図１０は、第１画素ＰＸ１と、第２画素ＰＸ２の副画素ＳＰ２との形状を示す概略的な平面図である。１つの第１画素ＰＸ１に対して、Ｍ×Ｎ個の副画素ＳＰ２が重畳している。Ｍは第１方向Ｘに並ぶ副画素ＳＰ２の数であり、Ｎは第２方向Ｙに並ぶ副画素ＳＰ２の数である。ＭおよびＮはいずれも整数であり、かつＭ×Ｎ≧２である。
本実施形態においては、第１パネルＰＮＬ１の画素解像度（第１画素ＰＸ１に関する解像度）が、第２パネルＰＮＬ２の画素解像度（副画素ＳＰ２に関する解像度）よりも低い。

図４のように第１画素ＰＸ１と副画素ＳＰ２とが１対１で重畳する場合、上述のように第３方向Ｚに対して傾いて第１画素ＰＸ１を通過した光が、この第１画素ＰＸ１に対応する副画素ＳＰ２に隣接する副画素ＳＰ２を通過する可能性がある。図７および図８のように副画素ＳＰ１と副画素ＳＰ２とが１対１で重畳する場合も同様である。
これに対し、第１画素ＰＸ１が複数の副画素ＳＰ２と重畳する場合、第３方向Ｚに対して傾いて第１画素ＰＸ１を通過する光であっても、この第１画素ＰＸ１に対応する副画素ＳＰ２を通り易い。

また、第１パネルＰＮＬ１の画素解像度は、第２パネルＰＮＬ２の画素解像度よりも低いため、第１パネルＰＮＬ２の画素トランジスタ（第２スイッチング素子ＳＷ２）の半導体は、高性能でなくてもよい。言い換えれば、第１パネルＰＮＬ１の画素トランジスタ（第１スイッチング素子ＳＷ１）の半導体の電子移動度は、第１パネルＰＮＬ２の画素トランジスタの半導体の電子移動度よりも低くてもよい。具体的には、第１パネルＰＮＬ１の半導体材料はアモルファスシリコンで、第２パネルＰＮＬ２の半導体材料はポリシリコンである。他の例としては、第１パネルＰＮＬ１の半導体材料はアモルファスシリコンで、第２パネルＰＮＬ２の半導体材料は酸化物半導体（インジウムガリウム亜鉛酸化物等）である。

なお、本実施形態の構成においては、第１画素ＰＸ１と重畳する各副画素ＳＰ２に対して、同じ輝度の光が照射される。そのため、オフ状態の副画素ＳＰ２に高輝度の光が照射されて光漏れが生じたり、オン状態の副画素ＳＰ２に低輝度の光が照射されて画像の輝度が低下したりする可能性がある。これに対し、上述の各実施形態の構成においては、各副画素ＳＰ２に照射される光の輝度を個別に制御することができるので、光漏れや画像の輝度低下が生じ難い。この観点からは、上述の各実施形態の方が有利である。第１パネルＰＮＬ１の画素解像度は、このような事情を考慮して、所望の表示品位を実現できるように適宜に定めればよい。

［第５実施形態］
第５実施形態について説明する。特に言及しない構成は第１実施形態と同様である。
図１１は、第５実施形態に係る表示装置１の概略的な断面図である。本実施形態においては、第１パネルＰＮＬ１が表示パネルとして機能し、第２パネルＰＮＬ２が調光パネルとして機能する。すなわち、第２パネルＰＮＬ２は、第１パネルＰＮＬ１の第１領域Ａ１（表示領域）から出射する光の光量を、第２領域Ａ２（調光領域）において調整する。

第１基板ＳＵＢ１は、絶縁層１０１，１０２と、配向膜１０３と、第１画素電極ＰＥ１と、第１共通電極ＣＥ１とを備えている。第２基板ＳＵＢ２は、遮光層２０１と、カラーフィルタ層２０２と、オーバーコート層２０３と、配向膜２０４とを備えている。これら要素の形状および配置態様は、図４に示した絶縁層３１，３２、配向膜３３、第２画素電極ＰＥ２、第２共通電極ＣＥ２、遮光層４１、カラーフィルタ層４２、オーバーコート層４３、および配向膜４４と同様である。

第３基板ＳＵＢ３は、絶縁層３０１と、配向膜３０２と、第２画素電極ＰＥ２とを備えている。第４基板ＳＵＢ４は、遮光層４０１と、オーバーコート層４０２と、配向膜４０３と、第２共通電極ＣＥ２とを備えている。これら要素の形状および配置態様は、図４に示した絶縁層１１、配向膜１２、第１画素電極ＰＥ１、遮光層２１、オーバーコート層２２、配向膜２３、および第１共通電極ＣＥ１と同様である。

第１基板ＳＵＢ１の第１画素ＰＸ１は、赤色、緑色、青色をそれぞれ表示する副画素ＳＰ１Ｒ，ＳＰ１Ｇ，ＳＰ１Ｂを含む。第１画素ＰＸ１に含まれる副画素ＳＰ１の種類はこの例に限られず、例えば白色など他の色を表示する副画素ＳＰ１をさらに含んでもよい。
図１１の例において、第２パネルＰＮＬ２は、カラーフィルタ層を備えない。したがって、第２画素ＰＸ２は、副画素を含んでいない。他の例として、第２パネルＰＮＬ２がカラーフィルタ層を備えてもよい。この場合においては、第２画素ＰＸ２が異なる色の複数の副画素を含む。
例えば、第１画素ＰＸ１の副画素ＳＰ１と、第２画素ＰＸ２とは、１対１で対向する。但し、図１０の例と同じく、第２画素ＰＸ２が複数の副画素ＳＰ１と対向してもよい。

本実施形態のように、第１パネルＰＮＬ１を表示パネルとし、第２パネルＰＮＬ２を調光パネルとした場合であっても、上述の各実施形態と同様の効果を得ることができる。

以上の各実施形態においては、調光パネルがＶＡモードであり、表示パネルがＩＰＳモードである場合を例示した。しかしながら、調光パネルおよび表示パネルには、ＴＮ（Twisted Nematic）モード、ＰＤＬＣ（Polymer Dispersed Liquid Crystal）モード、ＯＣＢ（Optically Compensated Bend）モード、ＥＣＢ（Electrically Controlled Birefringence）モードなどの種々のモードを適用できる。調光パネルおよび表示パネルにＴＮモードを適用する場合、第１パネルＰＮＬ１と第２パネルＰＮＬ２の配向処理方向を９０°ずらすことで、視野角特性を改善することができる。一例として、第１パネルＰＮＬ１の２つの配向膜の配向処理方向をそれぞれ第１方向Ｘに対して４５°および１３５°の方向とし、第２パネルＰＮＬ２の２つの配向膜の配向処理方向をそれぞれ第１方向Ｘに対して１３５°および２２５°の方向とすればよい。配向処理としては、ラビング処理や光配向処理を利用することができる。
なお、調光パネルはアクティブマトリクス方式に限られず、パッシブマトリクス方式であってもよい。

各実施形態においては、第２基材２０および第３基材３０が樹脂基材であり、第１基材１０および第４基材４０が剛性基材である場合を例示した。しかしながら、第２基材２０および第３基材３０の少なくとも一方を剛性基材としてもよい。また、第１基材１０および第４基材４０の少なくとも一方を樹脂基材としてもよい。

本発明の実施形態として説明した表示装置を基にして、当業者が適宜設計変更して実施し得る全ての表示装置も、本発明の要旨を包含する限り、本発明の範囲に属する。
本発明の思想の範疇において、当業者であれば、各種の変形例に想到し得るものであり、それら変形例についても本発明の範囲に属するものと解される。例えば、上述の各実施形態に対して、当業者が適宜、構成要素の追加、削除、若しくは設計変更を行ったもの、又は、工程の追加、省略若しくは条件変更を行ったものも、本発明の要旨を備えている限り、本発明の範囲に含まれる。
また、各実施形態において述べた態様によりもたらされる他の作用効果について、本明細書の記載から明らかなもの、又は当業者において適宜想到し得るものについては、当然に本発明によりもたらされるものと解される。

Ａ１…第１領域、Ａ２…第２領域、ＲＦ…反射シート、ＯＧ…光学シート群、ＣＴ…コントローラ、１…表示装置、ＩＤ…照明装置、ＬＧ…導光板、ＬＵ…光源ユニット、ＬＤ…発光ダイオード、ＰＮＬ１…第１パネル、ＰＮＬ２…第２パネル、ＳＵＢ１〜ＳＵＢ４…第１〜第４基板、ＬＣ１…第１液晶層、ＬＣ２…第２液晶層、ＰＸ１…第１画素、ＰＸ２…第２画素、ＰＬ１〜ＰＬ３…第１〜第３偏光部材、ＡＤ１〜ＡＤ３…第１〜第３接着層、１０，２０，３０，４０…第１〜第４基材。

Claims (10)

1. 第１基板と、前記第１基板に対向する第２基板と、前記第１基板と前記第２基板の間にある第１液晶層と、を含む第１パネルと、
   前記第２基板に対向する第３基板と、前記第３基板に対向する第４基板と、前記第３基板と前記第４基板の間にある第２液晶層と、を含む第２パネルと、
   前記第１基板に光を照射する照明装置と、
   前記照明装置と前記第１基板の間にある第１偏光部材と、
   前記第１液晶層と前記第２液晶層の間にある第２偏光部材と、
   前記第４基板に対向する第３偏光部材と、を備え、
   前記第２偏光部材は、前記第１偏光部材および前記第３偏光部材よりも薄い、
   表示装置。
2. 前記第２偏光部材の厚さは、前記第１偏光部材および前記第３偏光部材の厚さの５分の１以下である、
   請求項１に記載の表示装置。
3. 前記第１偏光部材および前記第３偏光部材は、偏光板であり、
   前記第２偏光部材は、配向膜に偏光子を配置した偏光膜である、
   請求項１又は２に記載の表示装置。
4. 前記第１偏光部材および前記第３偏光部材の偏光度は、前記第２偏光部材の偏光度よりも高い、
   請求項１乃至３のうちいずれか１項に記載の表示装置。
5. 前記第１基板の基材および前記第４基板の基材の少なくとも一方は、剛性基材である、
   請求項１乃至４のうちいずれか１項に記載の表示装置。
6. 前記第２基板の基材および前記第３基板の基材の少なくとも一方は、前記第１基板の基材および前記第４基板の基材よりも薄い樹脂基材である、
   請求項１乃至５のうちいずれか１項に記載の表示装置。
7. 前記第１パネルおよび前記第２パネルの一方は画像が表示される表示領域を有した表示パネルであり、他方は前記表示領域に入射する光または前記表示領域から出射する光の光量を調整する調光パネルであり、
   前記調光パネルにおいては、液晶層の液晶分子がホメオトロピック配向している、
   請求項６に記載の表示装置。
8. 前記第１パネルおよび前記第２パネルの一方は画像が表示される表示領域を有した表示パネルであり、他方は前記表示領域に入射する光または前記表示領域から出射する光の光量を調整する調光パネルであり、
   前記調光パネルの画素解像度は、前記表示パネルの画素解像度よりも低い、
   請求項１乃至６のうちいずれか１項に記載の表示装置。
9. 前記第１パネルおよび前記第２パネルの一方は画像が表示される表示領域を有した表示パネルであり、他方は前記表示領域に入射する光または前記表示領域から出射する光の光量を調整する調光パネルであり、
   前記表示パネルにおいては、液晶層を介して対向する一対の基板の一方に画素電極および共通電極の双方が配置され、
   前記調光パネルにおいては、液晶層を介して対向する一対の基板の一方に画素電極が配置されるとともに他方に共通電極が配置されている、
   請求項１乃至６のうちいずれか１項に記載の表示装置。
10. コントラスト比が５０００超過かつ１０００００以下である、
    請求項１乃至９のうちいずれか１項に記載の表示装置。

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