JP2018131481A - 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物、硬化被膜及び被膜付き基材、及び被膜付き基材の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
[1]
不飽和二重結合を有する活性エネルギー線重合性化合物(A)と、
紫外線吸収剤(B)と、
光重合開始剤(C)と、
を含有する活性エネルギー線硬化性樹脂組成物であって、
前記紫外線吸収剤(B)が、濃度0.006質量%になるよう調製されたトルエン溶液において、光路長1cmの石英ガラスセルに収容して測定した波長360nmの透過率が50%以上であり、波長380nmの透過率が99%以上であることを特徴とする活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
[2]
前記不飽和二重結合を有する活性エネルギー線重合性化合物(A)が、(メタ)アクリロイル基を有することを特徴とする[1]に記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
[3]
前記紫外線吸収剤(B)が、マロン酸エステル系紫外線吸収剤(b1)及びシュウ酸アニリド系紫外線吸収剤(b2)から選択される少なくとも1種の紫外線吸収剤を含むことを特徴とする[1]又は[2]に記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
[4]
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の固形分換算100質量%を基準として、前記紫外線吸収剤(B)を0.1質量%以上10質量%以下の範囲で含有することを特徴とする[1]〜[3]のいずれかに記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
[5]
前記光重合開始剤(C)が、波長360nm以上410nm以下の範囲内に極大吸収波長を有することを特徴とする[1]〜[4]のいずれかに記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
[6]
さらに光安定剤(D)を含むことを特徴とする[1]〜[5]のいずれかに記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
[7]
[1]〜[6]のいずれかに記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物であることを特徴とする硬化被膜。
[8]
表面の少なくとも一部に、[7]に記載の硬化被膜が形成されていることを特徴とする被膜付き基材。
[9]
基材の少なくとも一部に[1]〜[6]のいずれかに記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を塗布する工程と、
前記塗布工程の後、ピーク波長が360nm以上410nm以下の活性エネルギー線を照射して前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させて硬化被膜を形成する工程と、
を有することを特徴とする被膜付き基材の製造方法。
[10]
前記ピーク波長が360nm以上410nm以下の活性エネルギー線が、紫外線発光ダイオード(UV−LED)から発せられる光、レーザーダイオード(LD)から発せられる光、及び光学フィルターを通すことによって調整された光源から発せられる光の少なくとも1種から選択される光であることを特徴とする[9]に記載の被膜付き基材の製造方法。
なお、本明細書において、「(メタ)アクリレート」はアクリレート及びメタクリレートを表し、「(メタ)アクリル」はアクリル及びメタクリルを表し、「(メタ)アクリロイル」は、アクリロイル及びメタクリロイルを表す。また、「活性エネルギー線」とは、紫外線の他、可視光線、電子線、X線などを含むものを意味する。
本明細書において、「固形分」とは、活性エネルギー線硬化性樹脂組成分から有機溶剤などの揮発成分を除いたものであり、硬化させたときに硬化被膜を構成する成分を示す。
本実施形態に係る活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、不飽和二重結合を有する活性エネルギー線重合性化合物(A)と、紫外線吸収剤(B)と、光重合開始剤(C)と、を含有する。
不飽和二重結合を有する活性エネルギー線重合性化合物(A)(以下、(A)成分ともいう。)は、1分子中に少なくとも1つの不飽和二重結合を有する化合物であり、モノマー、オリゴマー及びポリマーから選択される少なくとも1種の化合物である。
イソブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、イソアミル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート、イソミリスチル(メタ)アクリレート、アルキル(メタ)アクリレート(C12〜C13、炭素数12のものと炭素数13のものの混合物)、セチル(メタ)アクリレート、2−メトキシエチル(メタ)アクリレート、3−メトキシブチル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、エトキシ−ジエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシ−トリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシ−ポリエチレングリコール(メタ)アクリレート(n≒9)、メトキシジプロピレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシトリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコール(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル−ジグリコール(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、フェノキシ−ポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、パラクミルフェノールEO変性(メタ)アクリレート、ノニルフェノールEO付加物(メタ)アクリレート(n≒1)、ノニルフェノールEO付加物(メタ)アクリレート(n≒2)、ノニルフェノールEO付加物(メタ)アクリレート(n≒4)、ノニルフェノールEO付加物(メタ)アクリレート(n≒8)、ノニルフェノールEO付加物(メタ)アクリレート(n≒16〜17)、ノニルフェノールPO変性(メタ)アクリレート(n≒2.5)、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、2−(メタ)アクリロイロキシエチル−コハク酸、2−(メタ)アクリロイロキシエチル−フタル酸、2−(メタ)アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、2−(メタ)アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンテレフタレート、2−(メタ)アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンテレフタレート、2−(メタ)アクリロイロキシエチル−ヘキサヒドロフタル酸、2−(メタ)アクリロイロキシエチル−2−ヒドロキシエチル−フタル酸、2−(メタ)アクリロイルオキシエチル−2−ヒドロキシプロピルフタレート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルアシッドフォスフェート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、テロラフルオロプロピル(メタ)アクリレート、オクタルフルオロペンチル(メタ)アクリレート、パーフロロオクチルエチル(メタ)アクリレート、ω−カルボキシ−カプロラクトン(n≒2)モノ(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸ダイマー(n≒1.4)、N−ビニル−2−ピロリドン、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジエチル(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリロイルモルフォリン、N−イソプロピル(メタ)アクリルアミド、N−2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド、カプロラクトン(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコール(メタ)アクリル酸安息香酸エステル、トリブロモフェニル(メタ)アクリレート、EO変性トリブロモフェニル(メタ)アクリレート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルアシッドフォスフェートなどが挙げられる。なお、EOはエチレンオキサイド、POはプロピレンオキサイドであり、nはアルキレンオキサイドないしカプロラクトンの繰り返し数で平均値を示す。以後の説明でも同様である。
ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、PEG#200ジ(メタ)アクリレート(EO部がn≒4)、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、PEG#300ジ(メタ)アクリレート(EO部がn≒6)、PEG#400ジ(メタ)アクリレート(EO部がn≒9)、PEG#600ジ(メタ)アクリレート(EO部がn≒13〜14)、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、PO付加ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、3−メチル−1,5−ペンタンジオールジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ポリテトラメチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,3−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、2−ブチル−2−エチル−1,3−プロパンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、EO変性トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジメチロール−トリシクロデカンジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールFのEO変性ジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAのEO付加物ジ(メタ)アクリレート、水添加ビスフェノールAのEO付加物ジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAのPO付加物ジ(メタ)アクリレート、ペンタエリストールジ(メタ)アクリレートモノステアレート、イソシアヌル酸EO変性ジ(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−(メタ)アクリロイロキシプロピル(メタ)アクリレート、ジンクジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパン(メタ)アクリル酸安息香酸エステルなどが挙げられる。
トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、EO変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、PO変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート(PO部がn=2)、PO変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート(PO部がn=3)、グリセリンPO付加トリ(メタ)アクリレート、2−(メタ)アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンテレフタレート、PO付加グリコールトリ(メタ)アクリレート、トリス(メタ)アクリロイルオキシエチルフォスフェート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、EO付加ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリス((メタ)アクリロキシエチル)イソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、EO付加ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、アルキレンオキサイド変性ジペンタエリスリトール多官能(メタ)アクリレートなどが挙げられる。
(A)成分の含有量は、特に限定されないが、組成物の粘度を好適に保つ観点から、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の固形分換算100質量%を基準として、通常30〜99.85質量%であり、好ましくは40〜99質量%であり、より好ましくは50〜97質量%である。
紫外線吸収剤(B)(以下、(B)成分ともいう。)は、紫外線吸収性の構造を有する有機系の紫外線吸収剤及び紫外線を散乱する無機系の紫外線吸収剤(紫外線散乱剤ともいう)から選択される少なくとも1種の紫外線吸収剤であり、硬化被膜の耐候性を向上させる。
成分(B)の含有量は、特に限定されないが、樹脂組成物の硬化性と硬化被膜の耐候性とを両立させる観点から、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の固形分換算100質量%を基準として、通常0.1〜10質量%であり、好ましくは1〜7質量%であり、より好ましくは2〜5質量%である。また、不飽和二重結合を有する活性エネルギー線重合性化合物(A)の固形分換算100質量%を基準とした場合は、成分(B)の含有量は、通常0.05〜10質量%であり、好ましくは0.5〜7質量%であり、より好ましくは1〜5質量%である。
光重合開始剤(C)(以下、(C)成分ともいう。)は、紫外線等の活性エネルギー線照射によりラジカル又はカチオンを発生し、上述の(A)成分を重合させることで活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させるものである。(C)成分の具体例としては、ホスフィンオキサイド系、アセトフェノン系、ベンゾフェノン系、ベンゾイン系、チオキサントン系の光重合開始剤等が挙げられる。これらは1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、2,4,6−トリメチルベンゾイルエトキシフェニルホスフィンオキシド等のモノアシルホスフィンオキサイド;
ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−(2,4−ビス−ペンチルオキシフェニル)ホスフィンオキシド等のビスアシルホスフィンオキサイドなどが挙げられる。
2,2−ジメトキシー2−フェニルアセトフェノン(別名:ベンジルジメチルケタール)、ジエトキシアセトフェノン、4−フェノキシジクロロアセトフェノン、4−t−ブチル−ジクロロアセトフェノン、4−t−ブチル−トリクロロアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、1−(4−ドデシルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノプロパン−1−オン、1−〔4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル〕−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、フェニルグリオキシリックアシッドメチルエステルなどが挙げられる。
ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、4−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4'−メチルジフェニルサルファイド、3,3'−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノン等が挙げられる。
ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等が挙げられる。
チオキサントン、2−クロルチオキサントン、2−メチルチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、2,4−ジクロロチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン等が挙げられる。
本実施形態に係る活性エネルギー線硬化性樹脂組成物には、太陽光等の紫外線による硬化被膜の黄変をさらに抑制するため、光安定剤(D)(以下、(D)成分ともいう。)が配合されてもよい。(D)成分の具体例としては、ヒンダードアミン系光安定剤が挙げられる。また、(D)成分は、これを変性したものや、オリゴマー化したものでもよい。これらは1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
デカン二酸ビス(2,2,6,6−テトラメチル−1−(オクチルオキシ)−4−ピペリジニル)エステル、1,1−ジメチルエチルヒドロペルオキシドとオクタンの反応生成物と、コハク酸ジメチルと4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチル−1−ピペリジンエタノールの重合物の混合物(TINUVIN 123、BASFジャパン(株)製)、N,N’,N’’,N’’’−テトラキス−(4,6−ビス−(ブチル−(N−メチル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)アミノ)−トリアジン−2−イル)−4,7−ジアザデカン−1,10−ジアミン(TINUVIN 111FDL、BASFジャパン(株)製)、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)[[3,5−ビス(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシフェニル]メチル]ブチルマロネート(TINUVIN 144、BASFジャパン(株)製)、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケートと、メチル1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジルセバケートの混合物(TINUVIN 292、BASFジャパン(株)製)、メタクリル酸1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジン−4−イル(アデカスタブLA−82、(株)ADEKA製)、メタクリル酸2,2,6,6−ペンタメチルピペリジン−4−イル(アデカスタブLA−87、(株)ADEKA製)、1−(1−アセチル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)−3−ドデシルピロリジン−2,5−ジオン(HOSTAVIN 3058、クラリアントジャパン(株)製)等が挙げられる。
本実施形態に係る活性エネルギー線硬化性樹脂組成物には、必要に応じて、上述した成分以外のその他成分を含有させてもよい。その他成分としては、消泡剤、レベリング剤、分散剤、沈降防止剤、熱安定剤、重合禁止剤、粘度調整剤、非反応性希釈剤、艶消し剤、顔料、有機溶剤等が挙げられる。これらの含有量は、本実施形態の効果を損なわない範囲で適宜変更することができる。
本実施形態の硬化被膜は、上記の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を用いて、主に以下の工程により作製される。
・上記の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を準備する準備工程
・上記の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を基材の少なくとも一部に塗布する塗布工程
・塗布工程の後、活性エネルギー線照射により活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させて硬化被膜を形成する硬化工程
なお、上記各工程の具体的な手法としては、公知の方法を適宜利用しても構わない。
基材としては、木質床材、壁材、天井材、合板、ハードボード、パーティクルボード、家具、装飾材等の木質基材;ポリオレフィン樹脂、ポリカーボネート樹脂、塩化ビニル樹脂、ABS樹脂等のプラスチック基材;ケイ酸カルシウム板、軽量コンクリート板、セメント板、スレート板、石膏ボード、モルタル等の無機質基材;鉄、アルミニウム等の金属基材;紙材等を用いることができ、特に好ましくは、木質基材、プラスチック基材、無機質基材及び紙材である。
本発明に係る活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の塗布工程(塗装工程)においては、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の種類や組成、基材の種類などに応じて塗布方法を適宜変更することができる。塗布方法としては、例えば、エアスプレー、エアレススプレー、静電塗装、ロールコーター、及びフローコーター等が挙げられる。
本発明に係る活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化工程においては、ピーク波長が360nm以上410nm以下の活性エネルギー線を用いることができ、このような波長の活性エネルギー線であれば、本発明の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を効率よく硬化させることができる。
硬化被膜の膜厚は、特に限定されないが、通常1〜500μm、好ましくは5〜300μm、より好ましくは50〜150μmである。本発明においては、硬化被膜の膜厚が50μm以上の厚膜であっても、硬化被膜の初期変色を十分に抑制することができる。
本発明の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物によれば、紫外線吸収剤由来の初期変色がなく、長期耐候性に優れた硬化被膜を形成でき、かつ光源の照度不足や厚膜といった条件下においても、紫外線照射によって十分に硬化しうる活性エネルギー線硬化性樹脂組成物、該樹脂組成物から得られる硬化被膜及び被膜付き基材、及び被膜付き基材の製造方法を提供できる。さらに、本発明の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、膜厚50μm以上の厚膜での塗装時や、白色又は淡色の基材に適用する場合に、紫外線吸収剤を高濃度に添加しても、初期変色が無く、耐候性に優れた硬化被膜を形成可能である。また、本発明の樹脂組成物は、特にUV−LED光源やLD光源による硬化にも適するものであり、さらに無溶剤型の樹脂組成物として用いることができる。
次に、本発明について実施例に基づきさらに詳細に説明するが、本発明は、これらの実施例に限定されない。
実施例及び比較例で用いた原材料は次の通りである。
不飽和二重結合を有する活性エネルギー線重合性化合物(A)として、以下の(A1)〜(A3)を用いた。
(A1):アルキレンオキサイド変性多官能アクリレート
(A2):3官能ウレタンアクリレートオリゴマー
(A3):「ニューフロンティアND−DA」(第一工業製薬(株)製、1,9−ノナンジオールジアクリレート)
紫外線吸収剤(B)として、以下の(b1−1)、(b2−1)を用いた。
マロン酸エステル系紫外線吸収剤(b1)
(b1−1):「HOSTAVIN PR25」(クラリアントジャパン(株)製、マロン酸[(4−メトキシフェニル)−メチレン−]ジメチルエステル)
シュウ酸アニリド系紫外線吸収剤(b2)
(b2−1):「HOSTAVIN VSU」(クラリアントジャパン(株)製、2−エチル−2’−エトキシ−オキサルアニリド)
紫外線吸収剤(B)の比較用(B´)として、以下の(B1´)〜(B6´)を用いた。
(B1´):「RUVA−93」(大塚化学(株)製、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、2−[2−ヒドロキシ−5−[2−(メタクリロイルオキシ)エチル]フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール)
(B2´):「TINUVIN 384−2」(BASFジャパン(株)製、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゼンプロパン酸3−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−5−(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシC7−9側鎖及び直鎖アルキルエステル)
(B3´):「TINUVIN 1130」(BASFジャパン(株)製、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、メチル−3−(3−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−5−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート/ポリエチレングリコール300の反応生成物)
(B4´):「TINUVIN 400」(BASFジャパン(株)製、ヒドロキシフェニルトリアジン系紫外線吸収剤、2−[4−[(2−ヒドロキシ−3−ドデシロキシプロピル)オキシ]−2−ヒドロキシフェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジンと2−[4−[(2−ヒドロキシ−3−トリデシロキシプロピル)オキシ]−2−ヒドロキシフェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジンとの混合物)
(B5´):「TINUVIN 405」(BASFジャパン(株)製、ヒドロキシフェニルトリアジン系紫外線吸収剤、2−[4−[(2−ヒドロキシ−3−(2−エチルヘキシロキシ)プロピル)オキシ]−2−ヒドロキシフェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン)
(B6´):「TINUVIN 479」(BASFジャパン(株)製、ヒドロキシフェニルトリアジン系紫外線吸収剤、2−(2−ヒドロキシ−4−[イソオクチロキシカルボニルエトキシ]フェニル)−4,6−ビス(4−フェニルフェニル)−1,3,5−トリアジン)
光重合開始剤(C)として、以下の(C1)を用いた。
(C1):「HYCURE TPO」(ChemFine社製、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド)
光安定剤(D)として、以下の(D1)〜(D6)を用いた。
(D1):「TINUVIN 123」(BASFジャパン(株)製、デカン二酸ビス(2,2,6,6−テトラメチル−1−(オクチルオキシ)−4−ピペリジニル)エステル、1,1−ジメチルエチルヒドロペルオキシドとオクタンの反応生成物)
(D2):「TINUVIN 144」(BASFジャパン(株)製、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)[[3,5−ビス(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシフェニル]メチル]ブチルマロネート)
(D3):「TINUVIN 292」(BASFジャパン(株)製、70−80% ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケートと、20−30% メチル1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジルセバケートの混合物)
(D4):「アデカスタブLA−82」((株)ADEKA製、メタクリル酸1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジン−4−イル)
(D5):「アデカスタブLA−87」((株)ADEKA製、メタクリル酸2,2,6,6−ペンタメチルピペリジン−4−イル)
(D6):「HOSTAVIN 3058」(クラリアントジャパン(株)製、1−(1−アセチル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)−3−ドデシルピロリジン−2,5−ジオン)
紫外線吸収剤(B)の波長360nm及び380nmの光に対する透過率は、該吸収剤(B)のトルエン溶液(濃度0.006質量%)を調製した後、当該トルエン溶液を光路長1cmの石英セルに収容し、分光光度計(SolidSpec−3700、(株)島津製作所製)を用いて求めた。結果を表1及び図1に示す。
実施例及び比較例では、下記表2及び表3に示す配合で各原材料を混合することにより、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を得た。
基材として、JIS K 6735で規定される白色ポリカーボネート板「ポリカエース ECK 400」(住友ベークライト(株)製、縦150mm×横100mm×厚さ2mm)を準備した。続いて、前記基材の主面に、上記で調製した活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を、6ミルのフィルムアプリケーターを用いて塗布した。
次に、得られた被膜付き基材に対し、以下に示す評価を行った。
(1)初期変色の有無(10日間エージング後)
作製した被膜付き基材を、20℃、湿度50%の環境下にて10日間エージング(養生)し、JIS Z 8722:2000に準拠して、色差計(JP7100F、(株)カラーテクノシステム製)を用いて、色相(L*、a*、b*)を測定した。該測定結果より、組成中に紫外線吸収剤及び光安定剤を含まない比較例1を基準とした時の黄変度(Δb*)及び色差(ΔE*)を求めた。初期の黄変度及び色差が0.5以下であるものを合格とした。結果を表4及び5に示す。
作製した被膜付き基材を、20℃、湿度50%の環境下にて10日間エージング(養生)し、JIS K 5400:1990に準拠して、退色試験機(コーティングテスター工業(株)製)により、紫外線を含む光を500時間まで照射して耐候試験を行った。試験前後の硬化被膜に対し、JIS Z 8722:2000に準拠して、色差計(JP7100F、(株)カラーテクノシステム製)を用いて、色相(b*)を測定した。結果を、表6、表7及び図2に示す。
実施例1〜14の組成物から形成された硬化被膜は、いずれも初期の黄変度(Δb*)及び色差(ΔE*)が低く、黄変(変色)が小さいものであった。一方、紫外線吸収剤及び光安定剤(D)を用いない比較例1の組成物から形成された硬化被膜は、耐候試験後のb*値が高く、黄変が大きいものであった。また、紫外線吸収剤(b1)、(b2)以外の紫外線吸収剤を使用した比較例2〜7の組成物から形成された硬化被膜は、耐候試験後の黄変(変色)が小さいものの、初期の黄変度(Δb*)及び色差(ΔE*)がいずれも大きいものであった。
Claims (10)
- 不飽和二重結合を有する活性エネルギー線重合性化合物(A)と、
紫外線吸収剤(B)と、
光重合開始剤(C)と、
を含有する活性エネルギー線硬化性樹脂組成物であって、
前記紫外線吸収剤(B)が、濃度0.006質量%になるよう調製されたトルエン溶液において、光路長1cmの石英ガラスセルに収容して測定した波長360nmの透過率が50%以上であり、波長380nmの透過率が99%以上であることを特徴とする活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。 - 前記不飽和二重結合を有する活性エネルギー線重合性化合物(A)が、(メタ)アクリロイル基を有することを特徴とする請求項1に記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
- 前記紫外線吸収剤(B)が、マロン酸エステル系紫外線吸収剤(b1)及びシュウ酸アニリド系紫外線吸収剤(b2)から選択される少なくとも1種の紫外線吸収剤を含むことを特徴とする請求項1又は2に記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
- 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の固形分換算100質量%を基準として、前記紫外線吸収剤(B)を0.1質量%以上10質量%以下の範囲で含有することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
- 前記光重合開始剤(C)が、波長360nm以上410nm以下の範囲内に極大吸収波長を有することを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
- さらに光安定剤(D)を含むことを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
- 請求項1〜6のいずれか1項に記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物であることを特徴とする硬化被膜。
- 表面の少なくとも一部に、請求項7に記載の硬化被膜が形成されていることを特徴とする被膜付き基材。
- 基材の少なくとも一部に請求項1〜6のいずれか1項に記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を塗布する工程と、
前記塗布工程の後、ピーク波長が360nm以上410nm以下の活性エネルギー線を照射して前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させて硬化被膜を形成する工程と、
を有することを特徴とする被膜付き基材の製造方法。 - 前記ピーク波長が360nm以上410nm以下の活性エネルギー線が、紫外線発光ダイオード(UV−LED)から発せられる光、レーザーダイオード(LD)から発せられる光、及び光学フィルターを通すことによって調整された光源から発せられる光の少なくとも1種から選択される光であることを特徴とする請求項9に記載の被膜付き基材の製造方法。
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