JP2018017930A - 光学素子およびそれを有する光学系、撮像装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 空隙を含んでおり最も屈折率の低い領域よりも屈折率の高い領域が最も表面側に設けられている光学素子において反射率を低減することである。【解決手段】 光学素子１０は、基板１と、基板１に設けられた反射防止膜６と、を備える。反射防止膜６は、空隙を含んでおり厚さ方向に屈折率が均一である第１の領域２と、第１の領域に対して基板１とは反対側に設けられた第２の領域３を有する。第２の領域３の屈折率は、基板１から離れるにつれて大きくなっている。【選択図】 図１
Description
本発明は、撮像装置等の光学系に用いられる光学素子に関する。
光学系に用いられるレンズなどの光学素子の反射率を低減することで、ゴーストやフレアの発生を低減したり、透過率を向上したりすることができる。
光学素子の反射率を十分に低減するためには、光学素子に設けられる反射防止膜において、最も空気側の層に屈折率の低い材料を用いることが有効である。屈折率の低い材料としては、内部に空隙を含む多孔質材料が知られているが、多孔質材料を反射防止膜の最も空気側の層に用いる場合、汚染による反射防止性能の変化が生じやすい。これは、多孔質材料に油分等が付着して空隙に浸透する結果、多孔質材料の屈折率が変化してしまうためである。
多孔質材料により形成された層が外部から汚染されることを低減するためには、多孔質材料により形成された層上に多孔質材料を保護する層を設けることが有効である。特許文献１には、多孔質材料により形成された層（屈折率１．２７）の上に撥水性および撥油性を備えるフッ素樹脂層（屈折率１．４０）を設けた構成の反射防止膜が記載されている。
しかしながら、特許文献１の反射防止膜は、多孔質材料よりも屈折率の高いフッ素樹脂層を多孔質材料からなる層よりも表面側に設けているため、反射率を十分に低減することができないおそれがある。
本発明の目的は、空隙を含んでおり最も屈折率の低い領域よりも屈折率の高い領域が最も表面側に設けられている光学素子において反射率を低減することである。
本発明の光学素子は、基板と、前記基板に設けられた反射防止膜と、を備える光学素子であって、前記反射防止膜は、空隙を含んでおり厚さ方向に屈折率が均一である第１の領域と、前記第１の領域に対して前記基板とは反対側に設けられた第２の領域と、を有し、前記第２の領域の屈折率は前記基板から離れるにつれて大きくなることを特徴とする。
本発明によれば、空隙を含んでおり最も屈折率の低い領域よりも屈折率の高い領域が最も表面側に設けられている光学素子において反射率を低減することができる。
以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら説明する。なお、以下では屈折率の値は５５０ｎｍの光に対する値であるとして説明する。
図１は本実施形態の光学素子１０を示す概略図である。光学素子１０は、基板１と、反射防止膜６を有する。基板１としてはガラスやプラスチック等を用いることができる。また、基板１の形状は平板状に限らず、レンズ等の曲率を有する形状であっても良いし、フィルム状であっても良い。
反射防止膜６は第１の領域２と第２の領域３を有している。第１の領域２は内部に空隙を含んで構成されている。内部に空隙を含むことによって、第１の領域２の実効的な屈折率を低くすることができる。また、第１の領域２の実効的な屈折率は厚さ方向に均一となっている。ここで、第１の領域２において実効的な屈折率が厚さ方向に変化していたとしても、実効的な屈折率の変化量が第１の領域２の実効的な屈折率を厚さ方向に平均した値の５％以内の大きさであれば、実効的な屈折率が厚さ方向に均一であるとみなすことができる。
また、第２の領域３は、第１の領域２に対して基板１とは反対側に設けられており、第１の領域２が外部から汚染されることを低減する。また、第２の領域３の屈折率は厚さ方向に均一ではなく、基板１から離れるにつれて屈折率が大きくなるように変化している。なお、第２の領域３に対して第１の領域２とは反対側に、厚さ方向に屈折率が均一である第３の領域５を設けても良い。また、反射防止膜６において、第１の領域２と基板１の間に、複数の層を設けても良い。以下では、第１の領域２と基板１の間に設けられた複数の層により構成される領域を第４の領域４と称する。
一般に、多層の反射防止膜によって光学素子の反射率を低減するためには、反射防止膜の最も空気側の層に多孔質材料のような屈折率の低い材料を用いることが好ましい。これは、反射防止膜と空気の界面における屈折率差を小さくすることで、より反射率を低減することができるためである。
一方、反射防止膜が外部から汚染されることを低減するためには、防汚性の高い材料を含んで構成される保護層を最も空気側に設ける必要がある。しかし、一般に防汚性の高い材料の屈折率は比較的高い。このため、保護層のような屈折率の高い層を最も空気側に設けると、保護層と空気との界面および保護層と下層との界面における反射により反射率が増加し得る。
これに対して、本実施形態の光学素子１０の反射防止膜６では、第１の領域２に対して基板１とは反対側に、基板１から離れるにつれて屈折率が大きくなるような第２の領域３を設けて第１の領域２を保護している。このような第２の領域３を設けることで、第１の領域２と第２の領域３との間での屈折率の変化を緩やかにすることができる。したがって、第１の領域２よりも表面側に第１の領域２よりも屈折率の高い領域を設けることによる反射率の増加量を低減することができる。
なお、第２の領域３において最も基板１に近い位置における屈折率は第１の領域２の実効的な屈折率と等しいことが好ましい。これによって、第１の領域２と第２の領域３との境界において屈折率を連続的に変化させられることができ、反射率をより低減することができる。
さらに、第１の領域２の屈折率をｎ１、第２の領域３において基板１から最も離れた位置における屈折率をｎ２としたとき、ｎ２をｎ１よりも大きくし、以下の条件式（１）および（２）を満たすことが好ましい。
１．１≦ｎ１≦１．３ （１）
１．２５≦ｎ２≦１．４ （２）
１．１≦ｎ１≦１．３ （１）
１．２５≦ｎ２≦１．４ （２）
ｎ１とｎ２を式（１）および（２）を満たす範囲とすることで、反射率をより低減することができる。
また、反射率をより低減するためには、第１の領域２の厚みをｄ１［ｎｍ］、第２の領域３の厚みをｄ２［ｎｍ］としたとき、以下の条件式（３）および（４）を満たすと良い。
５０≦ｄ１≦１３０ （３）
５≦ｄ２≦５０ （４）
５０≦ｄ１≦１３０ （３）
５≦ｄ２≦５０ （４）
なお、第２の領域３は第１の領域２と同様に空隙を含んでいても良い。これによって、第２の領域３の屈折率を小さくすることができ、第１の領域２と第２の領域３の境界で屈折率の変化を小さくすることができる。結果として、反射率をより低減することができる。
さらに、第２の領域３は防汚性の高い材料を含んでいることが好ましい。このような材料としては、高い撥水性を有する有機フッ素化合物を用いることが好ましい。有機フッ素化合物中の炭素とフッ素の結合は非常に高い結合エネルギーを有しており、表面張力が非常に小さいために優れた撥水性を有する。特に、有機フッ素化合物の中でも、フッ素樹脂は撥水性に加えて撥油性が高く、防汚性に優れている。第２の領域３が撥水性および撥油性を有する材料を含んで構成されることで、光学素子１０の防汚性を向上することができる。
なお、光学素子１０の防汚性を向上するためには第３の領域５を設けることが好ましい。第３の領域５のように厚さ方向に均質な領域を設けて第１の領域２を保護することによって、摩耗による防汚性の劣化を低減することができるためである。第３の領域５を設ける場合には、第３の領域５が撥水性および撥油性を有する材料を含んでいることが好ましい。この場合、第２の領域３は必ずしも撥水性および撥油性を有する材料を含んでいなくても、光学素子１０の防汚性を向上することができる。
また、第３の領域５を設ける場合、第３の領域の屈折率は第２の領域３において基板１から最も離れた位置における屈折率と等しいことが好ましい。これによって、第２の領域３と第３の領域５との境界において屈折率を連続的に変化させられることができ、反射率をより低減することができる。
さらに、第３の領域５の厚みをｄ３［ｎｍ］としたとき、以下の条件式を満足することが好ましい。
０＜ｄ３≦１０ （５）
０＜ｄ３≦１０ （５）
式（５）を満たすことによって、第３の領域４を設けた場合においても光学素子１０の反射率を低減することができる。
また、第１の領域２は空隙を含んで形成されていれば良い。例えば、複数の微粒子を凝集することで、空隙を含んだ第１の領域２を形成することができる。微粒子としては、酸化シリコンやフッ化マグネシウム等の無機酸化物の微粒子がある。なお、耐摩擦性や密着力を向上するためには微粒子同士をバインダで結合して形成することが好ましい。また微粒子の形状は鎖状形状であることが好ましい。鎖状形状の微粒子とは、複数の粒子が鎖状に連結して構成されている微粒子である。これによって第１の領域２に空隙を設けつつ、第１の領域２の物理的な強度を向上することができる。
第４の領域４を構成する層の数を増やすことで、より広い波長範囲で反射率を低減することができる。このため、第４の領域４は２層以上で構成されていることが好ましく、６層以上で構成されていることがより好ましい。このとき、第４の領域４は第１の領域２よりも屈折率の高い高屈折率層と、屈折率が第１の領域２よりも大きく高屈折率層よりも小さな低屈折率層とを備えていることが好ましい。また、第４の領域において２層よりも多くの層を積層する場合、低屈折率層と高屈折率層を交互に積層して第４の領域４を構成することが好ましい。これによってより広い波長範囲で反射率を低減することができる。
第４の領域４を構成する各層は、酸化シリコン、酸化チタン、酸化タンタル、酸化ジルコニウム、酸化クロム、酸化ニオブ、酸化セリウム、酸化ハフニウム、酸化イットリウム等の無機酸化物や、フッ化マグネシウム等を用いて構成すれば良い。
次に、本実施形態の光学素子１０を製造する方法について説明する。
まず、基板１に第４の領域４を蒸着やスパッタリングなどを用いて積層する。次に、ゾルゲル法を用いて空隙を含む層を形成する。具体的には、基板１に形成された第４の領域４に、スピンコータなどを用いて微粒子を分散させた液を塗工する。その後乾燥や焼成を行うことで、第４の領域４上に空隙を含む層を形成することができる。
次に、第１の領域２と第２の領域３を形成する。空隙を含む層に有機フッ素化合物等を含む溶液を塗工すると、溶液は空隙を伝ってある深さまで浸透する。このとき、浸透する深さが深くなるほど、溶液の浸透する量は少なくなる。このように空隙を含む層に有機フッ素化合物等を含む溶液を浸透させた後に乾燥や焼成を行うことで、第１の領域２と第２の領域３を形成することができる。
すなわち、空隙を含む層において溶液が浸透しなかった部分は、空隙率が厚さ方向に均一となっているため、厚さ方向に屈折率が均一である第１の領域２に相当する。一方、溶液が浸透した部分は、浸透した溶液の量に応じて屈折率が増大するため、基板１から離れるにつれて屈折率が増大する第２の領域３に相当する。
このとき、溶液の浸透する量に対して塗工した溶液の量が多かった場合には、第２の領域３上に第３の領域５が形成されることになる。このようにして、ゾルゲル法を用いて第１の領域２および第２の領域３を形成することで、本実施形態の光学素子１０を容易に得ることができる。
また、上述した製造方法においては、第４の領域４上に形成される空隙を含む層の空隙の大きさを調整したり、空隙を含む層に塗工する溶液の濃度や粘度を調整したりすることによって空隙を含む層に溶液が浸透する深さを調節することができる。これによって、第１の領域２と第２の領域３の厚さを調整することができる。
次に、本発明の光学素子に関する具体的な実施例について説明する。なお、以下で説明する実施例１〜１２における第１の領域２、第２の領域３、第３の領域５は、以下の手順によって得られる鎖状ＳｉＯ２粒子塗工液１３、１４、１５と、パーフルオロポリエーテル溶剤を用いて形成することができる。
（１）鎖状ＳｉＯ２粒子分散液１１の調整
鎖状ＳｉＯ２粒子の２−プロパノール（ＩＰＡ）分散液（日産化学工業株式会社製 ＩＰＡ−ＳＴ−ＵＰ、平均粒径１２ｎｍ・固形分濃度１５質量％）の溶媒を、エバポレーターを用いてＩＰＡから１−プロポキシ−２−プロパノール（シグマ製）に置換した。このようにして得た鎖状ＳｉＯ２粒子の１−プロポキシ−２−プロパノール分散液（固形分濃度１７ｗｔ％）を鎖状ＳｉＯ２粒子分散液１１（固形分濃度１７ｗｔ％）とする。なお、鎖状ＳｉＯ２粒子分散液１１の溶媒の比率はＩＰＡ：１−プロポキシ−２−プロパノール＝７．５：９２．５であった。
鎖状ＳｉＯ２粒子の２−プロパノール（ＩＰＡ）分散液（日産化学工業株式会社製 ＩＰＡ−ＳＴ−ＵＰ、平均粒径１２ｎｍ・固形分濃度１５質量％）の溶媒を、エバポレーターを用いてＩＰＡから１−プロポキシ−２−プロパノール（シグマ製）に置換した。このようにして得た鎖状ＳｉＯ２粒子の１−プロポキシ−２−プロパノール分散液（固形分濃度１７ｗｔ％）を鎖状ＳｉＯ２粒子分散液１１（固形分濃度１７ｗｔ％）とする。なお、鎖状ＳｉＯ２粒子分散液１１の溶媒の比率はＩＰＡ：１−プロポキシ−２−プロパノール＝７．５：９２．５であった。
（２）バインダ溶液１２の調整
テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ、東京化成工業株式会社製）１８．５ｇと、触媒水としてＴＥＯＳに対して１０当量の０．１ｗｔ％ホスフィン酸１６．０ｇと、を２０℃の水浴中で６０分間混合攪拌した。このようにして得た溶液をバインダ溶液１２とする。
テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ、東京化成工業株式会社製）１８．５ｇと、触媒水としてＴＥＯＳに対して１０当量の０．１ｗｔ％ホスフィン酸１６．０ｇと、を２０℃の水浴中で６０分間混合攪拌した。このようにして得た溶液をバインダ溶液１２とする。
（３）鎖状ＳｉＯ２粒子塗工液１３、１４、１５の調整
（１）において調整した鎖状ＳｉＯ２粒子分散液１１（固形分濃度１７ｗｔ％）２５１．３ｇに、（２）において調整したバインダ溶液１２を３３．４ｇ添加した。その後、１−プロポキシ−２−プロパノールを１７４．５ｇ、乳酸エチル５４６．５ｇを添加し、６０分間攪拌した。これを、鎖状ＳｉＯ２粒子塗工液１３とする。
（１）において調整した鎖状ＳｉＯ２粒子分散液１１（固形分濃度１７ｗｔ％）２５１．３ｇに、（２）において調整したバインダ溶液１２を３３．４ｇ添加した。その後、１−プロポキシ−２−プロパノールを１７４．５ｇ、乳酸エチル５４６．５ｇを添加し、６０分間攪拌した。これを、鎖状ＳｉＯ２粒子塗工液１３とする。
（１）において調整した鎖状ＳｉＯ２粒子分散液１１（固形分濃度１７ｗｔ％）２５１．３ｇに（２）において調整したバインダ溶液１２を２７．３ｇ添加した。その後、１−プロポキシ−２−プロパノールを１７４．５ｇ、乳酸エチル５５０．７ｇを添加し、６０分間攪拌した。これを、鎖状ＳｉＯ２粒子塗工液１４とする。
（１）において調整した鎖状ＳｉＯ２粒子分散液１１（固形分濃度１７ｗｔ％）２５１．３ｇに（２）において調整したバインダ溶液１２を２２．２ｇ添加した。その後、１−プロポキシ−２−プロパノールを１７４．５ｇ、乳酸エチル５５５．４ｇを添加し、６０分間攪拌した。これを、鎖状ＳｉＯ２粒子塗工液１５とする。
なお、鎖状ＳｉＯ２粒子塗工液１３、１４、１５はバインダ量が異なる。そのため、これらの塗工液を用いて空隙を含む層を形成した際の実効的な屈折率はバインダ量に応じてそれぞれ異なる。
［実施例１］
実施例１における光学素子１０の構成を表１に示す。基板１には、ＯＨＡＲＡ社製Ｓ−ＢＳＬ７を用いている。また、第４の領域４は合計８層で構成されている。
実施例１における光学素子１０の構成を表１に示す。基板１には、ＯＨＡＲＡ社製Ｓ−ＢＳＬ７を用いている。また、第４の領域４は合計８層で構成されている。
本実施例の光学素子１０では第３の領域５および第２の領域３は共にフッ素樹脂であるパーフルオロポリエーテルを含んでいる。これによって第１の領域２が外部から汚染されることを低減することができる。
図２に本実施例の光学素子１０における分光反射率を示す。図２に示すように、光学素子１０に対して垂直に光が入射する際の反射率（実線）は、４００ｎｍから７００ｎｍの波長範囲において０．１％以下となっている。また、光学素子１０に対して４５度の角度で光が入射する際の反射率（点線）は、４００ｎｍから７００ｎｍの波長範囲において１％以下となっている。本実施例の光学素子１０のように、第１の領域２と第２の領域３を設けることで、反射率を低減することができる。
なお、本実施例の光学素子１０は、以下の手順によって形成することができる。
まず、直径３０ｍｍ、厚さ１ｍｍの基板１（ＯＨＡＲＡ社製、Ｓ−ＢＳＬ７）に、真空蒸着法により第４の領域４を設けた。次に、鎖状ＳｉＯ２粒子塗工液１３を０．２ｍｌ滴下し、３４００ｒｐｍで２０秒スピンコートを行った。
さらに、パーフルオロポリエーテル溶液として株式会社ハーベス製デュラサーフＤＳ−１１０１Ｓ１３５（固形分濃度０．１０質量％）を０．２ｍｌ滴下し、３０００ｒｐｍで２０秒スピンコートを行った。その後、熱風循環オーブンにおいて１４０℃で３０分間加熱した。
このような条件で各溶液を塗工することで、鎖状ＳｉＯ２の内部の空隙の一部にパーフルオロポリエーテル溶液を浸透させることができる。これにより、屈折率が均一である第１の領域２と、屈折率が基板１から離れるにつれて大きくなる第２の領域３を有する光学素子１０を作成することができる。
［実施例２］
実施例２における光学素子１０の構成を表２に示す。基板１は、実施例１と同様にＯＨＡＲＡ社製Ｓ−ＢＳＬ７を用いている。本実施例では、基板１に積層する層の積層数、光学定数および厚みが異なっている。本実施例において、第４の領域４は合計７層で構成されている。
実施例２における光学素子１０の構成を表２に示す。基板１は、実施例１と同様にＯＨＡＲＡ社製Ｓ−ＢＳＬ７を用いている。本実施例では、基板１に積層する層の積層数、光学定数および厚みが異なっている。本実施例において、第４の領域４は合計７層で構成されている。
本実施例の光学素子１０において、第３の領域５および第２の領域３は、実施例１と同様に、共にフッ素樹脂であるパーフルオロポリエーテルを含んでいる。これによって第１の領域２が外部から汚染されることを低減することができる。
図３に本実施例の光学素子１０における分光反射率を示す。図３に示すように、光学素子１０に対して垂直に光が入射する際の反射率は、４００ｎｍから７００ｎｍの波長範囲において０．１％以下となっている。また、光学素子１０に対して４５度の角度で光が入射する際の反射率は、４００ｎｍから７００ｎｍの波長範囲において１％以下となっている。
なお、本実施例の光学素子１０は、以下の手順によって形成することができる。
まず、直径３０ｍｍ、厚さ１ｍｍの基板１（ＯＨＡＲＡ社製、Ｓ−ＢＳＬ７）に、スパッタ法により第４の領域４を設けた。次に、鎖状ＳｉＯ２粒子塗工液１４を０．２ｍｌ滴下し、３７３０ｒｐｍで２０秒スピンコートを行った。
さらに、パーフルオロポリエーテル溶液として株式会社ハーベス製デュラサーフＤＳ−１１０１Ｓ１３５（固形分濃度０．１０質量％）を０．２ｍｌ滴下し、３０００ｒｐｍで２０秒スピンコートを行った。その後、熱風循環オーブンにおいて１４０℃で３０分間加熱した。
このような条件で各溶液を塗工することで、鎖状ＳｉＯ２の内部の空隙の一部にパーフルオロポリエーテル溶液を浸透させることができる。これにより、屈折率が均一である第１の領域２と、屈折率が基板１から離れるにつれて大きくなる第２の領域３を有する光学素子１０を作成することができる。
［実施例３］
実施例３における光学素子１０の構成を表３に示す。本実施例においては、実施例１および実施例２と異なり、基板１にＯＨＡＲＡ社製Ｌ−ＢＡＬ４３を用いている。
実施例３における光学素子１０の構成を表３に示す。本実施例においては、実施例１および実施例２と異なり、基板１にＯＨＡＲＡ社製Ｌ−ＢＡＬ４３を用いている。
本実施例において、第４の領域４は合計７層で構成されている。また、第３の領域５および第２の領域３は、実施例１および実施例２と同様に、共にフッ素樹脂であるパーフルオロポリエーテルを含んでいる。これによって第１の領域２が外部から汚染されることを低減することができる。
図４に本実施例の光学素子１０における分光反射率を示す。図４に示すように、光学素子１０に対して垂直に光が入射する際の反射率は、４００ｎｍから７００ｎｍの波長範囲において０．１％以下となっている。また、光学素子１０に対して４５度の角度で光が入射する際の反射率は、４００ｎｍから７００ｎｍの波長範囲において１％以下となっている。
なお、本実施例の光学素子１０は、以下の手順によって形成することができる。
まず、直径３０ｍｍ、厚さ１ｍｍの基板１（ＯＨＡＲＡ社製、Ｌ−ＢＡＬ４３）に、スパッタ法により第４の領域４を設けた。次に、鎖状ＳｉＯ２粒子塗工液１５を０．２ｍｌ滴下し、３８７０ｒｐｍで２０秒スピンコートを行った。
さらに、パーフルオロポリエーテル溶液として株式会社ハーベス製デュラサーフＤＳ−１１０１Ｓ１３５（固形分濃度０．１０質量％）を０．２ｍｌ滴下し、３０００ｒｐｍで２０秒スピンコートを行った。その後、熱風循環オーブンにおいて１４０℃で３０分間加熱した。
このような条件で各溶液を塗工することで、鎖状ＳｉＯ２の内部の空隙の一部にパーフルオロポリエーテル溶液を浸透させることができる。これにより、屈折率が均一である第１の領域２と、屈折率が基板１から離れるにつれて大きくなる第２の領域３を有する光学素子１０を作成することができる。
［実施例４］
実施例４における光学素子１０の構成を表４に示す。本実施例においては、実施例３と同様に、基板１にＯＨＡＲＡ社製Ｌ−ＢＡＬ４３を用いている。基板１に積層する層の積層数、光学定数および厚みは実施例３と異なっている。
実施例４における光学素子１０の構成を表４に示す。本実施例においては、実施例３と同様に、基板１にＯＨＡＲＡ社製Ｌ−ＢＡＬ４３を用いている。基板１に積層する層の積層数、光学定数および厚みは実施例３と異なっている。
本実施例において、第４の領域４は合計８層で構成されている。また、第３の領域５および第２の領域３は、実施例１乃至３と同様に、共にフッ素樹脂であるパーフルオロポリエーテルを含んでいる。これによって第１の領域２が外部から汚染されることを低減することができる。
図５に本実施例の光学素子１０における分光反射率を示す。図５に示すように、光学素子１０に対して垂直に光が入射する際の反射率は、４００ｎｍから７００ｎｍの波長範囲において０．１％以下となっている。また、光学素子１０に対して４５度の角度で光が入射する際の反射率は、４００ｎｍから７００ｎｍの波長範囲において１％以下となっている。
なお、本実施例の光学素子１０は、以下の手順によって形成することができる。
まず、直径３０ｍｍ、厚さ１ｍｍの基板１（ＯＨＡＲＡ社製、Ｌ−ＢＡＬ４３）に、真空蒸着法により第４の領域４を設けた。次に、鎖状ＳｉＯ２粒子塗工液１３を０．２ｍｌ滴下し、３５８０ｒｐｍで２０秒スピンコートを行った。
さらに、パーフルオロポリエーテル溶液として株式会社ハーベス製デュラサーフＤＳ−１１０１Ｓ１３５（固形分濃度０．１０質量％）を０．２ｍｌ滴下し、３０００ｒｐｍで２０秒スピンコートを行った。その後、熱風循環オーブンにおいて１４０℃で３０分間加熱した。
このような条件で各溶液を塗工することで、鎖状ＳｉＯ２の内部の空隙の一部にパーフルオロポリエーテル溶液を浸透させることができる。これにより、屈折率が均一である第１の領域２と、屈折率が基板１から離れるにつれて大きくなる第２の領域３を有する光学素子１０を作成することができる。
［実施例５］
実施例５における光学素子１０の構成を表５に示す。本実施例においては、実施例１乃至４と異なり、基板１にＯＨＡＲＡ社製Ｓ−ＬＡＬ１４を用いている。本実施例において、第４の領域４は合計８層で構成されている。また、第３の領域５および第２の領域３は、実施例１乃至４と同様に、共にフッ素樹脂であるパーフルオロポリエーテルを含んでいる。これによって第１の領域２が外部から汚染されることを低減することができる。
実施例５における光学素子１０の構成を表５に示す。本実施例においては、実施例１乃至４と異なり、基板１にＯＨＡＲＡ社製Ｓ−ＬＡＬ１４を用いている。本実施例において、第４の領域４は合計８層で構成されている。また、第３の領域５および第２の領域３は、実施例１乃至４と同様に、共にフッ素樹脂であるパーフルオロポリエーテルを含んでいる。これによって第１の領域２が外部から汚染されることを低減することができる。
図６に本実施例の光学素子１０における分光反射率を示す。図６に示すように、光学素子１０に対して垂直に光が入射する際の反射率は、４００ｎｍから７００ｎｍの波長範囲において０．１％以下となっている。また、光学素子１０に対して４５度の角度で光が入射する際の反射率は、４００ｎｍから７００ｎｍの波長範囲において１％以下となっている。
なお、本実施例の光学素子１０は、以下の手順によって形成することができる。
まず、直径３０ｍｍ、厚さ１ｍｍの基板１（ＯＨＡＲＡ社製、Ｓ−ＬＡＬ１４）に、真空蒸着法により第４の領域４を設けた。次に、鎖状ＳｉＯ２粒子塗工液１５を０．２ｍｌ滴下し、３６２０ｒｐｍで２０秒スピンコートを行った。
さらに、パーフルオロポリエーテル溶液として株式会社ハーベス製デュラサーフＤＳ−１１０１Ｓ１３５（固形分濃度０．１０質量％）を０．２ｍｌ滴下し、３０００ｒｐｍで２０秒スピンコートを行った。その後、熱風循環オーブンにおいて１４０℃で３０分間加熱した。
このような条件で各溶液を塗工することで、鎖状ＳｉＯ２の内部の空隙の一部にパーフルオロポリエーテル溶液を浸透させることができる。これにより、屈折率が均一である第１の領域２と、屈折率が基板１から離れるにつれて大きくなる第２の領域３を有する光学素子１０を作成することができる。
［実施例６］
実施例６における光学素子１０の構成を表６に示す。本実施例においては、実施例５と同様に、基板１にＯＨＡＲＡ社製Ｓ−ＬＡＬ１４を用いている。基板１に積層する層の積層数、光学定数および厚みは実施例５と異なっている。
実施例６における光学素子１０の構成を表６に示す。本実施例においては、実施例５と同様に、基板１にＯＨＡＲＡ社製Ｓ−ＬＡＬ１４を用いている。基板１に積層する層の積層数、光学定数および厚みは実施例５と異なっている。
本実施例において、第４の領域４は合計７層で構成されている。また、第３の領域５および第２の領域３は、実施例１乃至５と同様に、共にフッ素樹脂であるパーフルオロポリエーテルを含んでいる。これによって第１の領域２が外部から汚染されることを低減することができる。
図７に本実施例の光学素子１０における分光反射率を示す。図７に示すように、光学素子１０に対して垂直に光が入射する際の反射率は、４００ｎｍから７００ｎｍの波長範囲において０．１％以下となっている。また、光学素子１０に対して４５度の角度で光が入射する際の反射率は、４００ｎｍから７００ｎｍの波長範囲において１％以下となっている。
なお、本実施例の光学素子１０は、以下の手順によって形成することができる。
まず、直径３０ｍｍ、厚さ１ｍｍの基板１（ＯＨＡＲＡ社製、Ｓ−ＬＡＬ１４）に、スパッタ法により第４の領域４を設けた。次に、鎖状ＳｉＯ２粒子塗工液１３を０．２ｍｌ滴下し、３７２０ｒｐｍで２０秒スピンコートを行った。
さらに、パーフルオロポリエーテル溶液として株式会社ハーベス製デュラサーフＤＳ−１１０１Ｓ１３５（固形分濃度０．１０質量％）を０．２ｍｌ滴下し、３０００ｒｐｍで２０秒スピンコートを行った。その後、熱風循環オーブンにおいて１４０℃で３０分間加熱した。
このような条件で各溶液を塗工することで、鎖状ＳｉＯ２の内部の空隙の一部にパーフルオロポリエーテル溶液を浸透させることができる。これにより、屈折率が均一である第１の領域２と、屈折率が基板１から離れるにつれて大きくなる第２の領域３を有する光学素子１０を作成することができる。
［実施例７］
実施例７における光学素子１０の構成を表７に示す。本実施例においては、実施例１乃至６と異なり、基板１にＯＨＡＲＡ社製Ｓ−ＬＡＨ６４を用いている。本実施例において、第４の領域４は合計８層で構成されている。また、第３の領域５および第２の領域３は、実施例１乃至６と同様に、共にフッ素樹脂であるパーフルオロポリエーテルを含んでいる。これによって第１の領域２が外部から汚染されることを低減することができる。
実施例７における光学素子１０の構成を表７に示す。本実施例においては、実施例１乃至６と異なり、基板１にＯＨＡＲＡ社製Ｓ−ＬＡＨ６４を用いている。本実施例において、第４の領域４は合計８層で構成されている。また、第３の領域５および第２の領域３は、実施例１乃至６と同様に、共にフッ素樹脂であるパーフルオロポリエーテルを含んでいる。これによって第１の領域２が外部から汚染されることを低減することができる。
図８に本実施例の光学素子１０における分光反射率を示す。図８に示すように、光学素子１０に対して垂直に光が入射する際の反射率は、４００ｎｍから７００ｎｍの波長範囲において０．１％以下となっている。また、光学素子１０に対して４５度の角度で光が入射する際の反射率は、４００ｎｍから７００ｎｍの波長範囲において１％以下となっている。
なお、本実施例の光学素子１０は、以下の手順によって形成することができる。
まず、直径３０ｍｍ、厚さ１ｍｍの基板１（ＯＨＡＲＡ社製、Ｓ−ＬＡＨ６４）に、真空蒸着法により第４の領域４を設けた。次に、鎖状ＳｉＯ２粒子塗工液１３を０．２ｍｌ滴下し、３５７０ｒｐｍで２０秒スピンコートを行った。
さらに、パーフルオロポリエーテル溶液として株式会社ハーベス製デュラサーフＤＳ−１１０１Ｓ１３５（固形分濃度０．１０質量％）を０．２ｍｌ滴下し、３０００ｒｐｍで２０秒スピンコートを行った。その後、熱風循環オーブンにおいて１４０℃で３０分間加熱した。
このような条件で各溶液を塗工することで、鎖状ＳｉＯ２の内部の空隙の一部にパーフルオロポリエーテル溶液を浸透させることができる。これにより、屈折率が均一である第１の領域２と、屈折率が基板１から離れるにつれて大きくなる第２の領域３を有する光学素子１０を作成することができる。
［実施例８］
実施例８における光学素子１０の構成を表８に示す。本実施例においては、実施例１乃至７と異なり、基板１にＯＨＡＲＡ社製Ｓ−ＢＡＨ２８を用いている。本実施例において、第４の領域４は合計７層で構成されている。また、第３の領域５および第２の領域３は、実施例１乃至７と同様に、共にフッ素樹脂であるパーフルオロポリエーテルを含んでいる。これによって第１の領域２が外部から汚染されることを低減することができる。
実施例８における光学素子１０の構成を表８に示す。本実施例においては、実施例１乃至７と異なり、基板１にＯＨＡＲＡ社製Ｓ−ＢＡＨ２８を用いている。本実施例において、第４の領域４は合計７層で構成されている。また、第３の領域５および第２の領域３は、実施例１乃至７と同様に、共にフッ素樹脂であるパーフルオロポリエーテルを含んでいる。これによって第１の領域２が外部から汚染されることを低減することができる。
図９に本実施例の光学素子１０における分光反射率を示す。図９に示すように、光学素子１０に対して垂直に光が入射する際の反射率は、４００ｎｍから７００ｎｍの波長範囲において０．１％以下となっている。また、光学素子１０に対して４５度の角度で光が入射する際の反射率は、４００ｎｍから７００ｎｍの波長範囲において１％以下となっている。
なお、本実施例の光学素子１０は、以下の手順によって形成することができる。
まず、直径３０ｍｍ、厚さ１ｍｍの基板１（ＯＨＡＲＡ社製、Ｓ−ＢＡＨ２８）に、スパッタ法により第４の領域４を設けた。次に、鎖状ＳｉＯ２粒子塗工液１５を０．２ｍｌ滴下し、３６３０ｒｐｍで２０秒スピンコートを行った。
さらに、パーフルオロポリエーテル溶液として株式会社ハーベス製デュラサーフＤＳ−１１０１Ｓ１３５（固形分濃度０．１０質量％）を０．２ｍｌ滴下し、３０００ｒｐｍで２０秒スピンコートを行った。その後、熱風循環オーブンにおいて１４０℃で３０分間加熱した。
このような条件で各溶液を塗工することで、鎖状ＳｉＯ２の内部の空隙の一部にパーフルオロポリエーテル溶液を浸透させることができる。これにより、屈折率が均一である第１の領域２と、屈折率が基板１から離れるにつれて大きくなる第２の領域３を有する光学素子１０を作成することができる。
［実施例９］
実施例９における光学素子１０の構成を表９に示す。本実施例においては、実施例１乃至８と異なり、基板１にＯＨＡＲＡ社製Ｓ−ＬＡＨ５８を用いている。本実施例において、第４の領域４は合計８層で構成されている。また、第３の領域５および第２の領域３は、実施例１乃至８と同様に、共にフッ素樹脂であるパーフルオロポリエーテルを含んでいる。これによって第１の領域２が外部から汚染されることを低減することができる。
実施例９における光学素子１０の構成を表９に示す。本実施例においては、実施例１乃至８と異なり、基板１にＯＨＡＲＡ社製Ｓ−ＬＡＨ５８を用いている。本実施例において、第４の領域４は合計８層で構成されている。また、第３の領域５および第２の領域３は、実施例１乃至８と同様に、共にフッ素樹脂であるパーフルオロポリエーテルを含んでいる。これによって第１の領域２が外部から汚染されることを低減することができる。
図１０に本実施例の光学素子１０における分光反射率を示す。図１０に示すように、光学素子１０に対して垂直に光が入射する際の反射率は、４００ｎｍから７００ｎｍの波長範囲において０．１％以下となっている。また、光学素子１０に対して４５度の角度で光が入射する際の反射率は、４００ｎｍから７００ｎｍの波長範囲において１％以下となっている。
なお、本実施例の光学素子１０は、以下の手順によって形成することができる。
まず、直径３０ｍｍ、厚さ１ｍｍの基板１（ＯＨＡＲＡ社製、Ｓ−ＬＡＨ５８）に、真空蒸着法により第４の領域４を設けた。次に、鎖状ＳｉＯ２粒子塗工液１４を０．２ｍｌ滴下し、３７００ｒｐｍで２０秒スピンコートを行った。
さらに、パーフルオロポリエーテル溶液として株式会社ハーベス製デュラサーフＤＳ−１１０１Ｓ１３５（固形分濃度０．１０質量％）を０．２ｍｌ滴下し、３０００ｒｐｍで２０秒スピンコートを行った。その後、熱風循環オーブンにおいて１４０℃で３０分間加熱した。
このような条件で各溶液を塗工することで、鎖状ＳｉＯ２の内部の空隙の一部にパーフルオロポリエーテル溶液を浸透させることができる。これにより、屈折率が均一である第１の領域２と、屈折率が基板１から離れるにつれて大きくなる第２の領域３を有する光学素子１０を作成することができる。
［実施例１０］
実施例１０における光学素子１０の構成を表１０に示す。本実施例においては、実施例９と同様に、基板１にＯＨＡＲＡ社製Ｓ−ＬＡＨ５８を用いている。基板１に積層する層の積層数、光学定数および厚みは実施例９と異なっている。
実施例１０における光学素子１０の構成を表１０に示す。本実施例においては、実施例９と同様に、基板１にＯＨＡＲＡ社製Ｓ−ＬＡＨ５８を用いている。基板１に積層する層の積層数、光学定数および厚みは実施例９と異なっている。
本実施例において、第４の領域４は合計７層で構成されている。また、第３の領域５および第２の領域３は、実施例１乃至９と同様に、共にフッ素樹脂であるパーフルオロポリエーテルを含んでいる。これによって第１の領域２が外部から汚染されることを低減することができる。
図１１に本実施例の光学素子１０における分光反射率を示す。図１１に示すように、光学素子１０に対して垂直に光が入射する際の反射率は、４００ｎｍから７００ｎｍの波長範囲において０．１％以下となっている。また、光学素子１０に対して４５度の角度で光が入射する際の反射率は、４００ｎｍから７００ｎｍの波長範囲において１％以下となっている。
なお、本実施例の光学素子１０は、以下の手順によって形成することができる。
まず、直径３０ｍｍ、厚さ１ｍｍの基板１（ＯＨＡＲＡ社製、Ｓ−ＬＡＨ５８）に、スパッタ法により第４の領域４を設けた。次に、鎖状ＳｉＯ２粒子塗工液１３を０．２ｍｌ滴下し、３７８０ｒｐｍで２０秒スピンコートを行った。
さらに、パーフルオロポリエーテル溶液として株式会社ハーベス製デュラサーフＤＳ−１１０１Ｓ１３５（固形分濃度０．１０質量％）を０．２ｍｌ滴下し、３０００ｒｐｍで２０秒スピンコートを行った。その後、熱風循環オーブンにおいて１４０℃で３０分間加熱した。
このような条件で各溶液を塗工することで、鎖状ＳｉＯ２の内部の空隙の一部にパーフルオロポリエーテル溶液を浸透させることができる。これにより、屈折率が均一である第１の領域２と、屈折率が基板１から離れるにつれて大きくなる第２の領域３を有する光学素子１０を作成することができる。
［実施例１１］
実施例１１における光学素子１０の構成を表１１に示す。本実施例においては、実施例１乃至１０と異なり、基板１にＯＨＡＲＡ社製Ｓ−ＬＡＨ７９を用いている。本実施例において、第４の領域４は合計８層で構成されている。また、第３の領域５および第２の領域３は、実施例１乃至１０と同様に、共にフッ素樹脂であるパーフルオロポリエーテルを含んでいる。これによって第１の領域２が外部から汚染されることを低減することができる。
実施例１１における光学素子１０の構成を表１１に示す。本実施例においては、実施例１乃至１０と異なり、基板１にＯＨＡＲＡ社製Ｓ−ＬＡＨ７９を用いている。本実施例において、第４の領域４は合計８層で構成されている。また、第３の領域５および第２の領域３は、実施例１乃至１０と同様に、共にフッ素樹脂であるパーフルオロポリエーテルを含んでいる。これによって第１の領域２が外部から汚染されることを低減することができる。
図１２に本実施例の光学素子１０における分光反射率を示す。図１２に示すように、光学素子１０に対して垂直に光が入射する際の反射率は、４００ｎｍから７００ｎｍの波長範囲において０．１％以下となっている。また、光学素子１０に対して４５度の角度で光が入射する際の反射率は、４００ｎｍから７００ｎｍの波長範囲において１％以下となっている。
なお、本実施例の光学素子１０は、以下の手順によって形成することができる。
まず、直径３０ｍｍ、厚さ１ｍｍの基板１（ＯＨＡＲＡ社製、Ｓ−ＬＡＨ７９）に、真空蒸着法により第４の領域４を設けた。次に、鎖状ＳｉＯ２粒子塗工液１４を０．２ｍｌ滴下し、３７００ｒｐｍで２０秒スピンコートを行った。
さらに、パーフルオロポリエーテル溶液として株式会社ハーベス製デュラサーフＤＳ−１１０１Ｓ１３５（固形分濃度０．１０質量％）を０．２ｍｌ滴下し、３０００ｒｐｍで２０秒スピンコートを行った。その後、熱風循環オーブンにおいて１４０℃で３０分間加熱した。
このような条件で各溶液を塗工することで、鎖状ＳｉＯ２の内部の空隙の一部にパーフルオロポリエーテル溶液を浸透させることができる。これにより、屈折率が均一である第１の領域２と、屈折率が基板１から離れるにつれて大きくなる第２の領域３を有する光学素子１０を作成することができる。
［実施例１２］
実施例１２における光学素子１０の構成を表１２に示す。本実施例においては、実施例１１と同様に、基板１にＯＨＡＲＡ社製Ｓ−ＬＡＨ７９を用いている。基板１に積層する層の積層数、光学定数および厚みは実施例１１とは異なっている。
実施例１２における光学素子１０の構成を表１２に示す。本実施例においては、実施例１１と同様に、基板１にＯＨＡＲＡ社製Ｓ−ＬＡＨ７９を用いている。基板１に積層する層の積層数、光学定数および厚みは実施例１１とは異なっている。
本実施例において、第４の領域４は合計７層で構成されている。また、第３の領域５および第２の領域３は、実施例１乃至１１と同様に、共にフッ素樹脂であるパーフルオロポリエーテルを含んでいる。これによって第１の領域２が外部から汚染されることを低減することができる。
図１３に本実施例の光学素子１０における分光反射率を示す。図１３に示すように、光学素子１０に対して垂直に光が入射する際の反射率は、４００ｎｍから７００ｎｍの波長範囲において０．１％以下となっている。また、光学素子１０に対して４５度の角度で光が入射する際の反射率は、４００ｎｍから７００ｎｍの波長範囲において１％以下となっている。
なお、本実施例の光学素子１０は、以下の手順によって形成することができる。
まず、直径３０ｍｍ、厚さ１ｍｍの基板１（ＯＨＡＲＡ社製、Ｓ−ＬＡＨ７９）に、スパッタ法により第４の領域４を設けた。次に、鎖状ＳｉＯ２粒子塗工液１５を０．２ｍｌ滴下し、３７００ｒｐｍで２０秒スピンコートを行った。
さらに、パーフルオロポリエーテル溶液として株式会社ハーベス製デュラサーフＤＳ−１１０１Ｓ１３５（固形分濃度０．１０質量％）を０．２ｍｌ滴下し、３０００ｒｐｍで２０秒スピンコートを行った。その後、熱風循環オーブンにおいて１４０℃で３０分間加熱した。
このような条件で各溶液を塗工することで、鎖状ＳｉＯ２の内部の空隙の一部にパーフルオロポリエーテル溶液を浸透させることができる。これにより、屈折率が均一である第１の領域２と、屈折率が基板１から離れるにつれて大きくなる第２の領域３を有する光学素子１０を作成することができる。
以上の実施例１乃至１２で説明したように、基板１の屈折率を種々変更したとしても、第１の領域２と第２の領域３を有する反射防止膜６を設けることで反射率を低減できることがわかる。
［変形例］
なお、上述した光学素子１０の製造方法はあくまで一例である。空隙を含み屈折率が厚さ方向に均一である第１の領域２と、基板１から離れるにつれて屈折率が大きくなる第２の領域３を得ることができれば、他の方法を用いて本発明の光学素子を製造しても良い。
なお、上述した光学素子１０の製造方法はあくまで一例である。空隙を含み屈折率が厚さ方向に均一である第１の領域２と、基板１から離れるにつれて屈折率が大きくなる第２の領域３を得ることができれば、他の方法を用いて本発明の光学素子を製造しても良い。
例えば、第２の領域３をスパッタや蒸着を用いて形成しても良い。まず、第４の領域４上に空隙を含む層を形成する。その後、空隙を含む層上にスパッタや蒸着を用いて成膜を行う。このとき、ガス流量を変化させながら成膜を行うことで、基板１から離れるにつれて屈折率が大きくなる層を形成することができる。
または、複数の成膜源を用い、成膜源毎の成膜量を変化させながら成膜を行うことで、基板１から離れるにつれて屈折率が大きくなる層を形成することができる。このようにして光学素子１０を形成した場合、空隙を含む層の全体が第１の領域２に相当し、基板１から離れるにつれて屈折率が大きくなる層の全体が第２の領域３に相当する。
［光学系］
次に、本発明の実施形態としての光学系について説明する。光学系を構成する各光学素子の表面における反射光は、フレアやゴーストの要因となり得る。
次に、本発明の実施形態としての光学系について説明する。光学系を構成する各光学素子の表面における反射光は、フレアやゴーストの要因となり得る。
図１４に光学系１００を示す。光学系１００は、複数の光学素子Ｇ１０１〜Ｇ１１１を有している。光学系１００において光学素子Ｇ１０２の物体側の面には、実施例１乃至１３のいずれかで述べた光学素子１０の反射防止膜６と同様の特性を有する反射防止膜６が設けられている。また、図１４において１０２は絞り、１０３は結像面を表している。
実施例１乃至１３で述べたように、光学素子Ｇ１０２の物体側の面に反射防止膜６を設けることで、光学素子Ｇ１０２の物体側の面の反射率を低減することができる。このような反射率の低い面を有する光学素子Ｇ１０２を光学系１００に用いることで、ゴーストやフレアの発生を低減することができる。また、光学素子Ｇ１０１は最も表面側に高い防汚性を有するパーフルオロポリエーテルを含む領域が設けられている。そのため、外部からの汚染による反射率の変化を低減することができる。
なお、Ｇ１０２の物体側の面に反射防止膜６を設ける場合について説明したが、Ｇ１０２の両面に反射防止膜６を設けても良いし、結像面１０３側の面のみに反射防止膜６を設けても良い。また、光学系１００において光学素子Ｇ１０２に反射防止膜６を設けた例について説明したが、他の光学素子に反射防止膜６を設けても良い。また、複数の光学素子に反射防止膜６を設けても良い。
また、本発明の光学系は、後述する撮像装置に用いるものに限らず、双眼鏡、プロジェクタ、望遠鏡等の様々な用途の光学系に適用することができる。
［撮像装置］
次に本発明の実施形態としての撮像装置について説明する。
次に本発明の実施形態としての撮像装置について説明する。
図１５は、撮像装置としてのデジタルカメラ３００である。デジタルカメラ３００は、レンズ部３０１に上述した光学系１００を有する。また、光学系１００の結像面１０３には、ＣＣＤやＣＭＯＳセンサなどの撮像素子３０３が、本体部３０２に配置される。
デジタルカメラ３００が光学系１００を有することで、ゴーストやフレアの発生を低減した高品位な画像を得ることができる。
なお、図１５では、本体部３０２とレンズ部３０１が一体となった例を示しているが、撮像装置本体に対して着脱可能なレンズ装置に本発明を適用してもよい。このようなレンズ装置は、例えば一眼カメラ用の交換レンズとして用いられる。この場合、図１４は、光学系１００を有するレンズ装置３０１が撮像装置本体３０２に装着されている状態と見ることもできる。
以上、本発明の好ましい実施形態及び実施例について説明したが、本発明はこれらの実施形態及び実施例に限定されず、その要旨の範囲内で種々の組合せ、変形及び変更が可能である。
１０ 光学素子
１ 基板
２ 第１の領域
３ 第３の領域
６ 反射防止膜
１ 基板
２ 第１の領域
３ 第３の領域
６ 反射防止膜
Claims (20)
- 基板と、前記基板に設けられた反射防止膜と、を備える光学素子であって、
前記反射防止膜は、
空隙を含んでおり厚さ方向に屈折率が均一である第１の領域と、
前記第１の領域に対して前記基板とは反対側に設けられた第２の領域と、を有し、
前記第２の領域の屈折率は前記基板から離れるにつれて大きくなることを特徴とする光学素子。 - 前記第１の領域の屈折率をｎ１、前記第２の領域において前記基板から最も離れた位置における屈折率をｎ２としたとき、ｎ２はｎ１よりも大きく、
１．１≦ｎ１≦１．３
１．２５≦ｎ２≦１．４
なる条件式を満足することを特徴とする請求項１に記載の光学素子。 - 前記第１の領域の厚みをｄ１［ｎｍ］、前記第２の領域の厚みをｄ２［ｎｍ］としたとき、
５０≦ｄ１≦１３０
５≦ｄ２≦５０
なる条件式を満足することを特徴とする請求項１または２に記載の光学素子。 - 前記第２の領域において前記基板に最も近い位置における屈折率は、前記第１の領域の屈折率と等しいことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の光学素子。
- 前記第２の領域は有機フッ素化合物を含んでいることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の光学素子。
- 前記第２の領域に対して前記第１の領域とは反対側に、厚さ方向に屈折率が均一である第３の領域を有することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の光学素子。
- 前記第３の領域の厚みをｄ３［ｎｍ］としたとき、
０＜ｄ３≦１０
なる条件式を満足することを特徴とする請求項６に記載の光学素子。 - 前記第３の領域は有機フッ素化合物を含んでいることを特徴とする請求項６または７に記載の光学素子。
- 前記第２の領域において前記基板から最も離れた位置における屈折率は、前記第３の領域の屈折率と等しいことを特徴とする請求項６乃至８のいずれか一項に記載の光学素子。
- 前記第１の領域と前記基板の間には、前記第１の領域の屈折率よりも大きな高屈折率層と、屈折率が前記第１の領域よりも大きく前記高屈折率層よりも小さな低屈折率層が設けられていることを特徴とする請求項１乃至９のいずれか一項に記載の光学素子。
- 前記第２の領域は空隙を含んでいることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の光学素子。
- 前記第２の領域は、鎖状形状の微粒子を含んでいることを特徴とする請求項１１に記載の光学素子。
- 前記第２の領域は、微粒子と、前記微粒子同士を結合するバインダを含んでいることを特徴とする請求項１乃至１２のいずれか一項に記載の光学素子。
- 前記微粒子は無機酸化物の微粒子であることを特徴とする請求項１２または１３に記載の光学素子。
- 前記第１の領域は、鎖状形状の微粒子を含んでいることを特徴とする請求項１乃至１４のいずれか一項に記載の光学素子。
- 前記第１の領域は、微粒子と、前記微粒子同士を結合するバインダを含んでいることを特徴とする請求項１乃至１５のいずれか一項に記載の光学素子。
- 前記微粒子は無機酸化物の微粒子であることを特徴とする請求項１５または１６に記載の光学素子。
- 複数の光学素子を備え、
前記光学素子のうちの少なくとも一つは請求項１乃至１７のいずれか一項に記載の光学素子であることを特徴とする光学系。 - 撮像素子と、請求項１８に記載の光学系を有することを特徴とする撮像装置。
- 撮像装置本体に対して着脱可能であり、請求項１８に記載の光学系を有することを特徴とするレンズ装置。
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- 2016-07-28 JP JP2016148937A patent/JP2018017930A/ja active Pending
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