[go: up one dir, main page]

JP2017528429A - ビメソゲン化合物およびメソゲン媒体 - Google Patents

ビメソゲン化合物およびメソゲン媒体 Download PDF

Info

Publication number
JP2017528429A
JP2017528429A JP2017502616A JP2017502616A JP2017528429A JP 2017528429 A JP2017528429 A JP 2017528429A JP 2017502616 A JP2017502616 A JP 2017502616A JP 2017502616 A JP2017502616 A JP 2017502616A JP 2017528429 A JP2017528429 A JP 2017528429A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
atoms
groups
liquid crystal
independently
group
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2017502616A
Other languages
English (en)
Inventor
アドレム,ケヴィン
ライヤー パッリ,オウェイン
ライヤー パッリ,オウェイン
タフィン,レイチェル
アラシ,ハッサン
スノウ,ベンジャミン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Merck Patent GmbH
Original Assignee
Merck Patent GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Merck Patent GmbH filed Critical Merck Patent GmbH
Publication of JP2017528429A publication Critical patent/JP2017528429A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C25/00Compounds containing at least one halogen atom bound to a six-membered aromatic ring
    • C07C25/18Polycyclic aromatic halogenated hydrocarbons
    • C07C25/22Polycyclic aromatic halogenated hydrocarbons with condensed rings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C255/00Carboxylic acid nitriles
    • C07C255/49Carboxylic acid nitriles having cyano groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of a carbon skeleton
    • C07C255/52Carboxylic acid nitriles having cyano groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of a carbon skeleton to carbon atoms of six-membered aromatic rings being part of condensed ring systems
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C255/00Carboxylic acid nitriles
    • C07C255/49Carboxylic acid nitriles having cyano groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of a carbon skeleton
    • C07C255/55Carboxylic acid nitriles having cyano groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of a carbon skeleton containing cyano groups and esterified hydroxy groups bound to the carbon skeleton
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C323/00Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
    • C07C323/01Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and halogen atoms, or nitro or nitroso groups bound to the same carbon skeleton
    • C07C323/09Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and halogen atoms, or nitro or nitroso groups bound to the same carbon skeleton having sulfur atoms of thio groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of the carbon skeleton
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C323/00Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
    • C07C323/23Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton
    • C07C323/31Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton having the sulfur atom of at least one of the thio groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring of the carbon skeleton
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C323/00Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
    • C07C323/23Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton
    • C07C323/31Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton having the sulfur atom of at least one of the thio groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring of the carbon skeleton
    • C07C323/38Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton having the sulfur atom of at least one of the thio groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring of the carbon skeleton with the sulfur atom of the thio group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring being part of a condensed ring system
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C327/00Thiocarboxylic acids
    • C07C327/20Esters of monothiocarboxylic acids
    • C07C327/32Esters of monothiocarboxylic acids having sulfur atoms of esterified thiocarboxyl groups bound to carbon atoms of hydrocarbon radicals substituted by carboxyl groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C43/00Ethers; Compounds having groups, groups or groups
    • C07C43/02Ethers
    • C07C43/20Ethers having an ether-oxygen atom bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
    • C07C43/225Ethers having an ether-oxygen atom bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring containing halogen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C69/00Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
    • C07C69/66Esters of carboxylic acids having esterified carboxylic groups bound to acyclic carbon atoms and having any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, acyloxy, groups, groups, or in the acid moiety
    • C07C69/67Esters of carboxylic acids having esterified carboxylic groups bound to acyclic carbon atoms and having any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, acyloxy, groups, groups, or in the acid moiety of saturated acids
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C69/00Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
    • C07C69/66Esters of carboxylic acids having esterified carboxylic groups bound to acyclic carbon atoms and having any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, acyloxy, groups, groups, or in the acid moiety
    • C07C69/67Esters of carboxylic acids having esterified carboxylic groups bound to acyclic carbon atoms and having any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, acyloxy, groups, groups, or in the acid moiety of saturated acids
    • C07C69/708Ethers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C69/00Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
    • C07C69/76Esters of carboxylic acids having a carboxyl group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
    • C07C69/94Esters of carboxylic acids having a carboxyl group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring of polycyclic hydroxy carboxylic acids, the hydroxy groups and the carboxyl groups of which are bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D215/00Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems
    • C07D215/02Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D215/04Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with only hydrogen atoms or radicals containing only hydrogen and carbon atoms, directly attached to the ring carbon atoms
    • C07D215/06Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with only hydrogen atoms or radicals containing only hydrogen and carbon atoms, directly attached to the ring carbon atoms having only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, attached to the ring nitrogen atom
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D239/00Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings
    • C07D239/70Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D239/72Quinazolines; Hydrogenated quinazolines
    • C07D239/74Quinazolines; Hydrogenated quinazolines with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, attached to ring carbon atoms of the hetero ring
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D241/00Heterocyclic compounds containing 1,4-diazine or hydrogenated 1,4-diazine rings
    • C07D241/36Heterocyclic compounds containing 1,4-diazine or hydrogenated 1,4-diazine rings condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D241/38Heterocyclic compounds containing 1,4-diazine or hydrogenated 1,4-diazine rings condensed with carbocyclic rings or ring systems with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atoms
    • C07D241/40Benzopyrazines
    • C07D241/42Benzopyrazines with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to carbon atoms of the hetero ring
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D241/00Heterocyclic compounds containing 1,4-diazine or hydrogenated 1,4-diazine rings
    • C07D241/36Heterocyclic compounds containing 1,4-diazine or hydrogenated 1,4-diazine rings condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D241/38Heterocyclic compounds containing 1,4-diazine or hydrogenated 1,4-diazine rings condensed with carbocyclic rings or ring systems with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atoms
    • C07D241/46Phenazines
    • C07D241/48Phenazines with hydrocarbon radicals, substituted by nitrogen atoms, directly attached to the ring nitrogen atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D307/00Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
    • C07D307/77Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D307/78Benzo [b] furans; Hydrogenated benzo [b] furans
    • C07D307/82Benzo [b] furans; Hydrogenated benzo [b] furans with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to carbon atoms of the hetero ring
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D333/00Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom
    • C07D333/50Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D333/52Benzo[b]thiophenes; Hydrogenated benzo[b]thiophenes
    • C07D333/54Benzo[b]thiophenes; Hydrogenated benzo[b]thiophenes with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to carbon atoms of the hetero ring
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D333/00Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom
    • C07D333/50Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D333/76Dibenzothiophenes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00Liquid crystal materials
    • C09K19/02Liquid crystal materials characterised by optical, electrical or physical properties of the components, in general
    • C09K19/0258Flexoelectric
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00Liquid crystal materials
    • C09K19/04Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
    • C09K19/06Non-steroidal liquid crystal compounds
    • C09K19/32Non-steroidal liquid crystal compounds containing condensed ring systems, i.e. fused, bridged or spiro ring systems
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00Liquid crystal materials
    • C09K19/04Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
    • C09K19/06Non-steroidal liquid crystal compounds
    • C09K19/32Non-steroidal liquid crystal compounds containing condensed ring systems, i.e. fused, bridged or spiro ring systems
    • C09K19/322Compounds containing a naphthalene ring or a completely or partially hydrogenated naphthalene ring
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00Liquid crystal materials
    • C09K19/04Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
    • C09K19/06Non-steroidal liquid crystal compounds
    • C09K19/34Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring
    • C09K19/3441Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring having nitrogen as hetero atom
    • C09K19/3444Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring having nitrogen as hetero atom the heterocyclic ring being a six-membered aromatic ring containing one nitrogen atom, e.g. pyridine
    • C09K19/3447Pyridine condensed or bridged with another ring system, e.g. quinoline or acridine
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00Liquid crystal materials
    • C09K19/04Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
    • C09K19/06Non-steroidal liquid crystal compounds
    • C09K19/34Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring
    • C09K19/3491Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring having sulfur as hetero atom
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00Liquid crystal materials
    • C09K19/52Liquid crystal materials characterised by components which are not liquid crystals, e.g. additives with special physical aspect: solvents, solid particles
    • C09K19/58Dopants or charge transfer agents
    • C09K19/586Optically active dopants; chiral dopants
    • C09K19/588Heterocyclic compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00Liquid crystal materials
    • C09K19/04Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
    • C09K2019/0444Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit characterized by a linking chain between rings or ring systems, a bridging chain between extensive mesogenic moieties or an end chain group
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00Liquid crystal materials
    • C09K19/04Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
    • C09K19/06Non-steroidal liquid crystal compounds
    • C09K19/34Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring
    • C09K19/3402Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring having oxygen as hetero atom
    • C09K19/3405Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring having oxygen as hetero atom the heterocyclic ring being a five-membered ring
    • C09K2019/3408Five-membered ring with oxygen(s) in fused, bridged or spiro ring systems

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Liquid Crystal Substances (AREA)
  • Quinoline Compounds (AREA)
  • Furan Compounds (AREA)

Abstract

本発明は、式(I)で表され、式中R11、R12、MG11、MG12、X11、X12およびSp1は請求項1において示した意味を有するビメソゲン化合物に、式(I)で表されるビメソゲン化合物の液晶媒体における使用に、ならびに特に本発明の液晶媒体を含むフレキソエレクトリック液晶デバイスに関する。

Description

本発明は、式I
式中、R11、R12、MG11、MG12およびSpは本明細書において与えられる意味を有する、で表されるビメソゲン化合物に、液晶媒体における式Iで表されるビメソゲン化合物の使用に、およびとくには、本発明による液晶媒体を含むフレキソエレクトリック(flexoelectric)液晶デバイスに関する。
液晶ディスプレイ(LCD)は、情報を表示するために広汎に用いられている。LCDは直視ディスプレイに対し、ならびに投射型ディスプレイに対し用いられる。ほとんどのディスプレイに対して採用される電気光学方式は未だに、ねじれネマチック(TN)方式とそのさまざまな改変形である。この方式に加え、超ねじれネマチック(STN)方式および直近においては光学補償ベンド(OCB)方式および電気制御複屈折(ECB)方式が、さまざまなこれらの改変形、例えば垂直配向ネマチック(VAN)方式、パターン化ITO垂直配向ネマチック(PVA)方式、ポリマー安定化垂直配向ネマチック(PSVA)方式およびマルチドメイン垂直配向ネマチック(MVA)方式、ならびに他のものとともに、ますます使用されてきている。
全てのこれらの方式は、基板に対し実質的に垂直な電界を、それぞれの液晶相に対して使用する。これらの方式に加え、基板、それぞれの液晶層に対し実質的に垂直な電界を採用する電気光学方式も、例えば平面内切替(短縮してIPS)方式(例えばDE 40 00 451およびEP 0 588 568において開示される)およびフリンジ電界切替(FFS)方式などもまた存在する。特に後者で述べられた電気光学方式は、良好な視野角特性および改善された応答時間を有し、近年のデスクトップモニターのLCDのため、およびTV用およびマルチメディア用のディスプレイのためにまでも、ますます用いられており、それゆえTN−LCDと競合している。
これらのディスプレイに加え、相対的に短いコレステリックピッチを有するコレステリック液晶を使用する新規のディスプレイ方式が、いわゆる「フレキソエレクトリック」効果を活用するディスプレイにおける使用に対して提唱されてきている。用語「液晶(liquid crystal)」、「メソ形態化合物(mesomorphic compound)」、または「メソゲン化合物(mesogenic compound)」(短縮して「メソゲン」とも言及される)は、温度、圧力および濃度の好適な条件下でメソ相(mesophase)(ネマチック、スメクチック、など)として、または特にLC相として存在することができる化合物を意味する。非両親媒性のメソゲン化合物は、例えば、1種または2種以上の棒状(calamitic)、バナナ型のまたは円板状のメソゲン基を含む。
フレキソエレクトリック液晶材料は、従来技術において公知である。フレキソエレクトリック効果は、とりわけ、Chandrasekhar, "Liquid Crystals", 2nd edition, Cambridge University Press (1992)およびP.G. deGennes et al., "The Physics of Liquid Crystals", 2nd edition, Oxford Science Publications (1995)により記載される。
1,1−ジフェニルエチレンおよびナフタレンの誘導体は、Ashley, J.N., Grove, J.F.およびHenshall, T., “Attempts to find new Chemotherapeutic Amides. Part IX. Derivatives of 1 : 1-Diphenyl-ethylene and Naphthalene. Journal of the Chemical Society, (1948)、261〜264頁によって開示されている。
既に、GB 2356629には、ビメソゲン化合物およびフレキソエレクトリックデバイスにおけるそれらの使用が開示されている。
新たなネマチック相を示すアルキル鎖によって結合した二量体材料は、Tamba, M.-G., Lewis, R.A., Kohlmeier, A.およびMehl, G.H.によって“Nematic - nematic phase transitions in liquid crystal dimmers with a negative dielectric anisotropy” poster presentation at the ILCC 2010に、ならびにTamba, M.-G., Kohlmeier, A., Lewis, R.A.およびMehl, G.H.によって“Nematic - nematic phase transitions in dimmers, the results of calorimetric, optical and structural investigations” poster presentation at the ILCC 2010に開示されている。
WO 2013/004333にはまた、第2のネマチック相を示すアルキレンスペーサーを含むビメソゲン性材料が開示されている。
これらのディスプレイにおいて、コレステリック液晶は「均質に位置するらせん」配置(uniform lying helix(ULH))で配向され、この表示方式もまたこの名前で称される。この目的のために、ネマチック材料と混合されたキラル物質はらせんねじれを誘発し、この材料を、コレステリック材料と等価であるキラルネマチック材料へと変形させる。用語「キラル」は一般的に、その鏡像に重ね合わせることができない対象を言い表すために用いられる。「アキラル」(非キラル)対象は、それらの鏡像と同一である対象である。用語キラルネマチックおよびコレステリックは本願において、他に明示的に示されない限り、同義に用いられる。キラル物質により誘発されるピッチ(P)は第1近似において、用いられるキラル物質の濃度(c)と反比例である。この関係の比例定数はキラル物質のらせんねじれ力(HTP)と呼ばれ、等式(1)により定義される。

HTP≡1/(c・P) (1)

式中
cは、キラル化合物の濃度である。
均等に位置するらせんテクスチャは、典型的には0.2μm〜1μmの範囲の、好ましくは1.0μm以下の、特に0.5μm以下の、短いピッチのキラルネマチック液晶を用いていると解され、これはそのらせん軸を以って、液晶セルの、例えばガラス板などの基板に対して平行に、単向性に配向する。この構成において、キラルネマチック液晶のらせん軸は、複屈折板の光学軸に等価である。
電界がらせん軸に垂直にこの構成へと適用される場合、表面安定化強誘電性液晶ディスプレイにおけるように強誘電性液晶のディレクタが回転するのに類似して、光学軸はセル平面において回転する。フレキソエレクトリック効果は、典型的には6μs〜100μsの範囲である迅速な応答時間を特徴とする。それはさらに、優れたグレースケール能を特徴とする。
電界は、光学軸におけるチルトにより順応されるディレクタにおけるスプレイベンド構造を誘発する。軸の回転角は、第1近似において、電解強さに正比例および線形比例する。液晶セルが交差偏光板の間に、電力なしの状態における該偏光板の1つの吸収軸に対して22.5°の角度の光学軸を以って配置される場合、光学効果は最も良好に見ることができる。22.5°のこの角度はまた電界の回転の理想角でもあり、このため、電界の反転により、光学軸は45°回転し、らせん軸の優先方向の相対配向の適切な選択により、光学軸を1つの偏光板に平行から両方の偏光板の間の中心角へと切り替えることができる。および最適のコントラストは、光学軸の切替の合計角度が45°であるときに達成される。その場合、光学遅延、すなわち液晶の有効複屈折およびセルギャップの積が波長の4分の1であるように選択されるならば、切替可能な4分の1波長板としての配置を用いることができる。他に明示的に述べられなければ、本文脈において波長は、550nm、ヒトの目の感度が最も高い波長に言及する。
光学軸の回転角度(Φ)は、式(2)により良好な近似で与えられる。
式中
は、コレステリック液晶の不攪乱(undisturbed)ピッチであり、
は、スプレイフレキソエレクトリック係数(eスプレイ)およびベンドフレキソエレクトリック係数(eベンド)の平均
であり、
Eは、電界強さであり、および
Kは、スプレイ弾性定数(k11)およびベンド弾性定数(K33)の平均[K=2/1(k11+k33)]であり、
およびここで
は、フレキソ弾性率と称する。
この回転角は、フレキソエレクトリック切替素子における半分の切替角度である。
この電気光学効果の応答時間(τ)は、式(3)により良好な近似で与えられる。

τ=[P/(2π)]・γ/K (3)

式中
γは、らせんの変形に関連する有効粘性率である。
等式(4)から得ることができる、らせんを解く臨界磁場(E)が存在する。

=(π/P)・[k22/(ε・Δε)]1/2 (4)

式中
22は、ねじれ弾性定数であり、
εは、真空の誘電率であり、および
Δεは、液晶の誘電異方性である。
しかしこの方式において、とりわけ、必要とされる均等な配向を獲得する際の困難、一般の駆動電圧と互換性のない、アドレスに要する不利に高い電圧、コントラストを悪化させる、あまり暗くない「オフ状態」、および大事なことだが電気光学特性における顕著なヒステリシスという、いくつかの問題が未だに解決されずにいる。
相対的に新しい表示方式、いわゆる均質起立(uniformly standing)らせん(USH)方式は、広い視野角を提供する他の表示方式(例えば、IPS、VAなど)と比較さえしても、改善された黒色レベルを示すため、IPSに引き続く代替の方式として考えられ得る。
USH方式のために、例えばULH方式のためになどのように、ビメソゲン液晶材料を用いる、フレキソエレクトリック切替が提唱されてきている。ビメソゲン化合物は、従来技術から一般に公知である(Hori, K., Iimuro, M., Nakao, A., Toriumi, H., J. Mol. Struc. 2004, 699, 23-29もまた参照)。用語「ビメソゲン化合物」は、分子内に2つのメソゲン基を含む化合物に関する。ちょうど通常のメソゲンのように、これらは、その構造に依存して、多くのメソ相を形成する。特に、式Iで表される化合物は、ネマチック液晶媒体に添加されると、第2のネマチック相を誘発する。
用語「メソゲン基」は、本文脈において、液晶(LC)相挙動を誘発する能力を有する基を意味する。メソゲン基を含む化合物は、自体、必ずしもLC相を呈しなければならないわけではない。それらが他の化合物との混合物においてのみLC相挙動を示すこともまた可能である。単純化のため、用語「液晶」は本明細書において、メソゲン材料およびLC材料の両方に対して用いられる。
しかし、好ましくなく高い必要な駆動電圧のため、キラルネマチック材料の相対的に狭い相範囲のため、およびそれらの不可逆的な切替特性のため、従来技術からの材料は現行のLCD駆動スキームでの使用にふさわしくない。
USHおよびULH方式のディスプレイのために、改善された特性を有する新規の液晶媒体が必要である。特に、複屈折(Δn)は最適な方式のために最適化されるべきである。本明細書において複屈折Δnは、等式(5)において定義される。

Δn=n−n (5)

式中、nは異常屈折率でありおよびnは通常屈折率であり、および平均屈折率nav.は以下の等式(6)により与えられる。

av.=[(2n +n )/3]1/2 (6)
異常屈折率nおよび通常屈折率nは、Abbe屈折計を用いて測定することができる。Δnは、等式(5)から計算することができる。
さらに、USHおよびULH方式を利用するディスプレイのために、液晶媒体の光学遅延dΔn(有効)は好ましくは以下の等式

sin2(π・d・Δn/λ)=1 (7)

式中
dは、セルギャップであり、および
λは、光の波長である
を充足するようにあるべきである。等式(7)の右手側に関する偏差の許容は、+/−3%である。
本願において通常言及される光の波長は、他に明示的に特定されない限り550nmである。
セルのセルギャップは、好ましくは1μm〜20μmの範囲であり、特に2.0μm〜10μmの範囲内である。
ULH/USH方式に対し、誘電異方性(Δε)は、アドレス電圧の印加の際にらせんが解けるのを防ぐために、できるだけ小さくあるべきである。好ましくは、0よりわずかに大きく、極めて好ましくは0.1以上であり、しかし好ましくは10以下、より好ましくは7以下、最も好ましくは5以下である。本願において用語「誘電的に正」は、Δε>3.0を有する化合物または成分に対して用いられ、「誘電的にニュートラル」は−1.5≦Δε≦3.0を有するもの、および「誘電的に負」はΔε<−1.5を有するものである。Δεは、1kHzの周波数においておよび20℃において決定される。それぞれの化合物の誘電異方性は、ネマチックホスト混合物におけるそれぞれの個々の化合物の10%の濃度の結果から決定される。
ホスト媒体におけるそれぞれの化合物の溶解度が10%未満である場合、その濃度を2の倍数で、得られる媒体が安定して、その特性を決定できるようになるまで、低減させる。しかし、好ましくは、結果の優位性をできるだけ高く保つために、濃度は少なくとも5%に保たれる。試験混合物の容量は、ホメオトロピック配向を有するおよびホモジニアス配向を有するセルの両方で決定される。両方のタイプのセルのセルギャップは、約20μmである。印加電圧は1kHzの周波数を有する矩形波で、二乗平均平方根値は0.5V〜1.0Vであるが、常にそれぞれの試験混合物の容量しきい値の下となるように選択される。
Δεは(ε││−ε)で定義され、一方でεavは(ε││+2ε)/3で定義される。化合物の誘電体誘電率は、対象の化合物を添加した際のホスト混合物のそれぞれの値の変化から決定される。値は、100%の対象の化合物の濃度へと外挿される。典型的なホスト混合物はH.J. Coles et al., J. Appl. Phys. 2006, 99, 034104に開示され、以下の表に示される組成を有する。
上述のパラメーターに加えて、媒体は好適に広汎な範囲のネマチック相、かなり小さな回転粘度および少なくとも適度に高度な比抵抗を呈する。
フレキソエレクトリックデバイスのための短いコレステリックピッチを有する類似の液晶組成物は、EP 0 971 016、GB 2 356 629およびColes, H.J., Musgrave, B., Coles, M.J., and Willmott, J., J. Mater. Chem., 11, p. 2709-2716 (2001)から公知である。EP 0 971 016は、自体高度なフレキソエレクトリック係数を有する、メソゲン性エストラジオールを報告する。GB 2 356 629は、フレキソエレクトリックデバイスにおけるビメソゲン化合物の使用を提唱する。フレキソエレクトリック効果は、本明細書中において、純粋なコレステリック液晶化合物中で、およびある程度まで同族の化合物の混合物中で調査されてきた。これらの化合物のほとんどは、キラル添加物ならびに単純な従来のモノメソゲン性材料であるかまたはビメソゲンのもののいずれかであるネマチック液晶材料からなる二元混合物中で用いられた。これらの材料は、不十分に広い温度範囲のキラルネマチックまたはコレステリック相、小さすぎるフレキソエレクトリック比、小さな回転角度など、実用的用途のためのいくつかの欠点を有する。
本発明の1つの目的は、高度なスイッチ角および迅速な応答時間を呈する改善されたフレキソエレクトリックデバイスを提供することにあった。もう1つの目的は、特に機械的せん断工程を用いずにディスプレイセルの全領域にわたって良好な均質な配向を実現するフレキソエレクトリックディスプレイにおいて使用するための、有利な特性、良好なコントラスト、高度なスイッチ角および迅速な応答時間を低温においてでさえも有する、液晶材料を提供することにあった。液晶材料は、低い融点、広汎なキラルネマチック相範囲、短い温度非依存性ピッチ長および高いフレキソエレクトリック係数を呈するべきである。本発明の他の目的は、以下の詳細な説明から当業者には直ちに自明である。
本発明者らは、上記の目的は、驚くべきことに、本発明によるビメソゲン化合物を提供することにより達成できることを見出した。これらの化合物は、キラルネマチック液晶混合物において用いられるとき、低い融点、広汎なキラルネマチック相を誘導する。特に、これらは、相対的に高い値の弾性定数k11、低い値のベンド弾性定数k33およびフレキソエレクトリック係数を呈する。
したがって、本発明は、式I
式中
11およびR12は、各々独立して、H、ハロゲン、好ましくはFもしくはCl、CN、NOまたは1〜25個のC原子を有し、非置換、ハロゲンもしくはCNによって単置換もしくは多置換されていてもよい直鎖状もしくは分枝状アルキル基であり、また1つ以上の隣接していないCH基が、各出現において互いに独立して、−O−、−S−、−NH−、−N(CH)−、−CO−、−COO−、−OCO−、−O−CO−O−、−S−CO−、−CO−S−、−CH=CH−、−CH=CF−、−CF=CF−または−C≡C−によって、酸素原子が互いに直接結合しないように置き換えられていることが可能であり、好ましくは極性基、より好ましくはF、Cl、CN、OCF、CFであり、
MG11およびMG12は、各々独立してメソゲン性基であり、
MG11およびMG12の少なくとも1つは、メソゲン性基であり、ここでMG11またはMG12は、7〜23個の炭素原子から構成された脂環式、芳香族および縮合基から選択された少なくとも1つの融合環基を含み、ここで1つもしくは2つの隣接していないCH基は、各々、N原子によって置き換えられていてもよく、かつ/または1つもしくは2つの隣接していないCH基は、互いに独立して、OもしくはS原子によって置き換えられていてもよく、ならびにそれは、任意に、1個以上のハロゲン原子、好ましくはFおよび/もしくはClによって、ならびに/または各々独立して1〜9個のC原子を有する1つ以上のアルキル基(単数もしくは複数)によって、好ましくは1〜9個のC原子を有する1つのアルキル基によって、ならびに/または各々独立して1〜9個のC原子を有するもう1つのアルコキシ基(単数もしくは複数)によって置換されており、ここでメソゲン性基はまた、0〜3個、好ましくは0、1または2個、より好ましくは0または1個の1,4−フェニレン(ここでさらに、1つ以上のCH基は、Nによって置き換えられていてもよい)、トランス−1,4−シクロ−ヘキシレン(ここでさらに1つまたは2つの隣接していないCH基は、Oおよび/またはSによって置き換えられていてもよい)、1,4−シクロヘキセニレン、1,4−ビシクロ−(2,2,2)−オクチレン、ピペリジン−1,4−ジイル、ナフタレン−2,6−ジイル、デカヒドロ−ナフタレン−2,6−ジイル、1,2,3,4−テトラヒドロ−ナフタレン−2,6−ジイル、シクロブタン−1,3−ジイル、スピロ[3.3]ヘプタン−2,6−ジイルまたはジスピロ[3.1.3.1]デカン−2,8−ジイルから選択された6員環を含むことができ、
すべてのこれらの基が、非置換、F、Cl、CNまたはアルキル、アルケニル、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキルカルボニルもしくはアルコキシカルボニル基、好ましくは、好ましくは1〜15、好ましくは1〜7個のC原子を有するアルキル、アルコキシ、アルケニルアルキルカルボニルまたはアルコキシカルボニル基で単置換、二置換、三置換または四置換されていることが可能であり、ここで1個以上のH原子は、FまたはClによって置換されていてもよく、
Spは、1、3または5〜40個のC原子を含むスペーサー基であり、ここで1つ以上の隣接しておらず、末端でないCH基はまた、−O−、−S−、−NH−、−N(CH)−、−CO−、−O−CO−、−S−CO−、−O−COO−、−CO−S−、−CO−O−、−CH(ハロゲン)−、−CH(CN)−、−CH=CH−または−C≡C−によって置き換えられていてもよく、ただし2個のO原子が互いに隣接せず、2つの−CH=CH−基が互いに隣接し、−O−CO−、−S−CO−、−O−COO−、−CO−S−、−CO−O−および−CH=CH−から選択された2つの基が互いに隣接しないようになされ、好ましくはnが整数、好ましくは3〜19、より好ましくは3〜11、最も好ましくは奇数(つまり3、5、7、9または11)である(−CH−(つまりn個のC原子を有する1,n−アルキレン)であり、
11およびX12は、互いに独立して、−CO−、−CO−O−、−O−CO−、−O−、−CH=CH−、−C≡C−、−CO−S−、−S−CO−、−CS−S−、−S−、−CF−、−CF−O−、−O−CF−および単結合、好ましくは−CO−O−、−O−CO−または単結合、最も好ましくは単結合から選択された結合基であり、
しかしながら、−X11−Sp−X12−における条件の下で、2個のO原子は互いに隣接しておらず、ここで2つの−CH=CH−基は互いに隣接しており、−O−CO−、−S−CO−、−O−CO−O−、−CO−S−、−CO−O−、−CF−O−、−O−CF−および−CH=CH−から選択された2つの基は、互いに隣接していない、
で表されるビメソゲン化合物に関する。
第1の好ましい態様において、
11およびX12は、互いに異なっており、他に互いに独立して、好ましくは−CO−O−、−O−CO−、−CF−、−CF−O−、−O−CF−、−CH=CH−、−C≡C−、−O−、−S−CO−、−CO−S−、−S−および−CO−または単結合から選択された、上に定義した結合基であり、好ましくは、X11は−CO−O−または−O−であり、X12は単結合であるか、またはX11は−CO−O−であり、X12は−O−であり、最も好ましくはX11は−CO−O−であり、X12は単結合である。
好ましい態様のいずれかとは異なっていても同一であってもよいさらに好ましい態様において、
12は、X11とは独立して、X11について示した意味の1つを有するか、または−CO−O−、−O−CO−、−CH=CH−、−C≡C−および−O−もしくは単結合から選択された結合基である。
好ましい態様のいずれかとは異なっていても同一であってもよいさらに好ましい態様において、メソゲン性基MG11およびMG12は、互いに非対称である。
式Iで表される好ましい化合物は、
MG11およびMG12が互いに独立して(部分的)式II
−A11−(Z11−A12− II
式中
11は、各出現において互いに独立して、単結合または好ましくは−COO−、−OCO−、−O−CO−O−、−OCH−、−CHO−、−OCF−、−CFO−、−CHCH−、−(CH−、−CFCF−、−CH=CH−、−CF=CF−、−CH=CH−COO−、−OCO−CH=CH−および−C≡Cから選択され、任意にF、Sおよび/またはSiの1つ以上で置換されているスペーサー基、好ましくは単結合であり、
11およびA12の1つ以上は、7〜23個の炭素原子から構成された脂環式、芳香族および縮合環から選択された少なくとも1つの融合環基を含むかまたはそれであり、ここで1つまたは2つの隣接していないCH基は、各々N原子によって置き換えられていてもよく、かつ/または1つもしくは2つの隣接していないCH基は、互いに独立してOもしくはS原子によって置き換えられていてもよく、かつそれは任意に1個以上のハロゲン原子、好ましくはFおよび/もしくはClによって、ならびに/または各々独立して1〜9個のC原子を有する1つ以上のアルキル基(単数もしくは複数)によって、好ましくは1〜9個のC原子を有する1つのアルキル基によって置換されており、
ならびにA11およびA12の他方は、各出現において各々独立して、1,4−フェニレン、ここでさらに1つ以上のCH基はNによって置き換えられていてもよい、トランス−1,4−シクロ−ヘキシレン、ここでさらに1つまたは2つの隣接していないCH基はOおよび/またはSによって置き換えられていてもよい、1,4−シクロヘキセニレン、1,4−ビシクロ−(2,2,2)−オクチレン、ピペリジン−1,4−ジイル、ナフタレン−2,6−ジイル、デカヒドロ−ナフタレン−2,6−ジイル、1,2,3,4−テトラヒドロ−ナフタレン−2,6−ジイル、シクロブタン−1,3−ジイルであり、すべてのこれらの基が非置換、F、Cl、CNまたは1〜7個のC原子を有するアルキル、アルコキシ、アルキルカルボニルもしくはアルコキシカルボニル基で単置換、二置換、三置換もしくは四置換されていることが可能であり、ここで1個以上のH原子は、FまたはCl、好ましくはF、Cl、CHまたはCFによって置換されてもよく、ならびに
kは、0、1、2、3または4、好ましくは1、2または3および最も好ましくは1または2である、
で表される基である
化合物である。
MG11およびMG12が互いとは異なる式Iで表される特に好ましい化合物。
好ましくは、この融合環基、それぞれこれらの融合環基を、互いに独立して、部分的な式の以下の群から選択する。
ここで、好ましくは
Lは、各出現において互いに独立してFまたはCl、好ましくはFであり、
rは、0、1、2または3、好ましくは0、1または2であり、
iは、0、1または2、好ましくは0または1であり、
jは、0または1、好ましくは0である。
6員環のみを含む式IIで表される好ましいメソゲン性基のより小さな群を、以下に列挙する。単純性の理由のために、これらの基中のPheは、1,4−フェニレンであり、PheLは、1〜4つの基Lによって置換されている1,4−フェニレン基であり、Lは、好ましくはF、Cl、CN、OH、NOまたは1〜7個のC原子を有する任意にフッ素化されたアルキル、アルコキシもしくはアルカノイル基、極めて好ましくはF、Cl、CN、OH、NO、CH、C、OCH、OC、COCH、COC、COOCH、COOC、CF、OCF、OCHF、OC、特にF、Cl、CN、CH、C、OCH、COCHおよびOCF、最も好ましくはF、Cl、CH、OCHおよびCOCHであり、Cycは、1,4−シクロヘキシレンである。このリストは、以下に示す副次式およびそれらの鏡像を含む。
式中
Cycは、1,4−シクロヘキシレン、好ましくはトランス−1,4−シクロヘキシレンであり、
Pheは、1,4−フェニレンであり、
PheLは、1個、2個もしくは3個のフッ素原子によって、1個もしくは2個のCl原子によって、または1個のCl原子および1個のF原子によって置換されている1,4−フェニレンであり、ならびに
Zは、部分的な式IIの下で示したZ11の意味の1つを有し、少なくとも1つは、好ましくは−COO−、−OCO−、−O−CO−O−、−OCH−、−CHO−、−OCF−または−CFO−から選択される。
特に好ましいのは、副次式II−1、II−4、II−5、II−7およびII−27である。
これらの好ましい基において、Zは、各場合において独立して、式Iの下で示したZ11の意味の1つを有する。好ましくは、Zの1つは、−COO−、−OCO−、−CH−O−、−O−CH−、−CF−O−または−O−CF−、より好ましくは−COO−、−O−CH−または−CF−O−であり、他のものは、好ましくは単結合である。
極めて好ましくは、メソゲン性基MG11およびMG12の少なくとも一方および好ましくはそれらの両方は、各々および独立して、以下の式IIa〜IIn(2つの参照番号「II i」および「II l」を、あらゆる混乱を回避するために意図的に省略した)ならびにそれらの鏡像から選択される。
式中
Lは、各出現において互いに独立してFまたはCl、好ましくはFであり、および
rは、各出現において互いに独立して0、1、2または3、好ましくは0、1または2である。
Lは、各出現において互いに独立してFまたはCl、Fである。
非極性基を有する化合物の場合、R11およびR12は好ましくは、15個までのC原子を有するアルキルまたは2〜15個のC原子を有するアルコキシである。
11およびR12がアルキルまたはアルコキシラジカル、つまり、末端CH基が−O−により置き換えられている場合、これは直鎖または分枝であってもよい。好ましくは直鎖であり、2、3、4、5、6、7または8個の炭素原子を有し、よって好ましくは、例えば、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペントキシ、ヘキソキシ、ヘプトキシ、または、オクトキシ、さらにメチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ノノキシ、デコキシ、ウンデコキシ、ドデコキシ、トリデコキシまたはテトラデコキシである。
オキサアルキル、つまり1つのCH基が−O−により置き換えられているものは、好ましくは、例えば、直鎖状2−オキサプロピル(=メトキシメチル)、2−(=エトキシメチル)または3−オキサブチル(=2−メトキシエチル)、2−、3−または4−オキサペンチル、2−、3−、4−または5−オキサヘキシル、2−、3−、4−、5−または6−オキサヘプチル、2−、3−、4−、5−、6−または7−オキサオクチル、2−、3−、4−、5−、6−、7−または8−オキサノニルまたは2−、3−、4−、5−、6−、7−、8−または9−オキサデシルである。
末端極性基を有する化合物の場合、R11およびR12は、CN、NO、ハロゲン、OCH、OCN、SCN、COR、COORまたは1〜4個のC原子を有する単フッ素化、オリゴフッ素化または多フッ素化アルキルまたはアルコキシ基から選択される。Rは、1〜4個、好ましくは1〜3個のC原子を有する任意にフッ素化されたアルキルである。ハロゲンは好ましくは、FまたはClである。
式Iにおける特に好ましいR11およびR12は、H、F、Cl、CN、NO、OCH、COCH、COC、COOCH、COOC、CF、C、OCF、OCHF、および特にH、F、Cl、CN、OCHおよびOCF、殊にH、F、CNおよびOCFから選択される。
加えて、アキラル分枝基R11および/またはR12を含有する式Iで表される化合物は、例えば、結晶化に対する傾向の低減のために、時に重要であり得る。この種の分枝基は一般的に、1つより多い鎖分枝を含有しない。好ましいアキラル分枝基は、イソプロピル、イソブチル(=メチルプロピル)、イソペンチル(=3−メチルブチル)、イソプロポキシ、2−メチル−プロポキシおよび3−メチルブトキシである。
スペーサー基Spは好ましくは、1、3または5〜40個のC原子、特に1、3または5〜25個のC原子、とても好ましくは1、3または5〜15個のC原子、および最も好ましくは5〜15個のC原子を有する線状または分枝アルキレン基であり、ここで、加えて、1個または2個以上の非隣接かつ非末端CH基は、−O−、−S−、−NH−、−N(CH)−、−CO−、−O−CO−、−S−CO−、−O−COO−、−CO−S−、−CO−O−、−CH(ハロゲン)−、−CH(CN)−、−CH=CH−または−C≡C−により置き換えられていてもよい。
「末端の」CH基は、メソゲン性基に直接結合したものである。したがって、「非末端」CH基は、メソゲン性基MG11およびMG12に直接結合していない。
典型的なスペーサー基は例えば、−(CH−、−(CHCHO)−CHCH−であり、ここでoは5〜40の、特に5〜25の、極めて好ましくは5〜15の整数であり、およびpは1〜8の整数、特に1、2、3または4である。
好ましいスペーサー基は、例えば、ペンチレン、ヘキシレン、ヘプチレン、オクチレン、ノニレン、デシレン、ウンデシレン、ドデシレン、オクタデシレン、ジエチレンオキシエチレン、ジメチレンオキシブチレン、ペンテニレン、ヘプテニレン、ノネニレンおよびウンデセニレンである。
式Iで表される本発明の化合物であって、式中Spが5〜15個のC原子を有するアルキレンを示している該化合物が、特に好ましい。直鎖状アルキレン基が特に好ましい。
好ましいのは、奇数個のC原子を有する、好ましくは5、7、9、11、13または15個のC原子を有する直鎖状アルキレンであるスペーサー基であり、とても好ましいのは、7、9および11個のC原子を有する直鎖状アルキレンスペーサーである。
本発明の別の態様において、スペーサー基は、偶数個のC原子を有する、好ましくは6、8、10、12および14個のC原子を有する直鎖状アルキレンである。この態様は、X11およびX12の1つが1個の原子からなる、つまり−S−もしくは−O−であるか、または3個の原子からなる、例えば−S−CO−、−S−CO−S−もしくは−S−CS−S−であり、他方が1または3個のC原子からならない場合に、特に好ましい。
特に好ましいのは、式Iで表され、式中Spが5〜15個のC原子を有する完全な重水素化アルキレンを示している本発明の化合物である。極めて好ましいのは、重水素化直鎖状アルキレン基である。最も好ましいのは、部分的に重水素化された直鎖状アルキレン基である。
好ましいのは、式Iで表され、式中メソゲン性基R11−MG11−X11−およびR12−MG12−X12−が互いとは異なる化合物である。別の態様において、式Iで表され、式中式IにおけるR11−MG11−X11−およびR12−MG12−X12−が互いと同一である化合物。
式Iで表される好ましい化合物は、以下の式で表される化合物の群から選択される。
式中、示したアルキレンスペーサー(−CH−は、例示的であるに過ぎず、その中のnは、3または5〜15の整数、好ましくは奇数、より好ましくは5、7または9および最も好ましくはそれぞれの式中に明示的に示した通りである。
11およびR12は、互いに独立して、これらの基の好ましい意味を含めて上に定義した通りであり、好ましくは、R11はFまたはCNであり、好ましくはR12はOCF、CF、FまたはCN、より好ましくはFまたはCNおよび最も好ましくはCNであり、かつここでLは各出現において互いに独立してF、Clまたは好ましくはFもしくはCl、最も好ましくはFである。
特に好ましい化合物は、上に示した式の群から選択される、それは、0、2または4個のF原子を側方の位置において保有する(つまりLとして)。
本発明の好ましい態様において、R11はOCFであり、R12はOCF、FまたはCN、好ましくはOCFまたはCNおよび最も好ましくはCNである。
式Iで表される化合物は、自体公知のおよび有機化学の標準的著作物、例えばHouben-Weyl, Methoden der organischen Chemie, Thieme-Verlag, Stuttgartなどに記載される方法に従ってまたは同様に合成することができる。好ましい製造方法は、以下の合成スキームから獲得することができる。
式Iで表される化合物は、好ましくは以下の一般的な反応スキーム(単数または複数)に従ってアクセス可能である。
反応スキームI
式中、nは、3〜15の整数であり、
それぞれのステップについての条件は、以下のとおりである:
a) Pd(PPhCl、KPO、HO、ジオキサン、
b) H、Pd/C、THF、
c) KCO、アセトン、還流および
d) KCO、MEK、80℃。
このスキームおよび以下のスキームに示すすべてのフェニレンおよび融合環部分は、互いに独立して、任意に、1個、2個または3個、好ましくは0個または1個によってFまたはCl、好ましくはF原子を保有していてもよい。
このスキームおよび以下のスキームに示す融合環部分は、7〜23個の炭素原子から構成された脂環式、芳香族および縮合基から選択され得、ここで1つもしくは2つの隣接していないCH基は、各々N原子によって置き換えられていてもよく、かつ/または1つもしくは2つの隣接していないCH基は、互いに独立してOもしくはS原子によって置き換えられていてもよい。
反応スキームII
式中、nは、スキームIの下で定義した通りであり、それぞれのステップについての条件は、以下の通りである:
a) DCC、DMAP、DCMおよび
b) DCC、DMAP、DCM。
このスキームおよび以下のスキームに示すすべてのフェニレンおよび融合環部分は、互いに独立して、任意に、1個、2個または3個、好ましくは0個または1個によってFまたはCl、好ましくはF原子を保有していてもよい。
このスキームおよび以下のスキームに示す融合環部分は、7〜23個の炭素原子から構成された脂環式、芳香族および縮合基から選択され得、ここで1つもしくは2つの隣接していないCH基は、各々N原子によって置き換えられていてもよく、かつ/または1つもしくは2つの隣接していないCH基は、互いに独立してOもしくはS原子によって置き換えられていてもよい。
反応スキームIII
式中、nは、スキームIの下で定義した通りであり、それぞれのステップについての条件は、以下の通りである:
a) Pd(PPh、NaCO、HO、トルエン、
b) BBr、DCM、
c) DCC、DMAP、DCMおよび
d) DCC、DMAP、DCM。
反応スキームIV
式中、nは、スキームIの下で定義した通りであり、それぞれのステップについての条件は、以下の通りである:
a) Pd(PPhCl、Cu(I)I、DIPA、THF、
b) H、Pd/C、THF、
c) Pd(dppf)Cl、KPO、HO、ジオキサン、
d) NaOH、HO、エタノールおよび
e) DCC、DMAP、DCM。
反応スキームV
式中、nは、スキームIの下で定義した通りであり、それぞれのステップについての条件は、以下の通りである:
a) DCC、DMAP、DCM、
b) HCl、THFおよび、
c) DCC、DMAP、DCM。
反応スキームVI
式中、nは、スキームIの下で定義した通りであり、それぞれのステップについての条件は、以下の通りである:
a)n−BuLi、エーテル、−78℃、
b) Pd(PPhCl、Cu(I)I、DIPA、THFおよび
c) H、Pd/C、THF。
式中、示したアルキレンスペーサー(−CH−は、例示的であるに過ぎず、その中のnは、3または5〜15の整数、好ましくは5、7または9、より示した通りであり、
Rは、各出現において独立してR11について示した意味の1つを有し、第2の出現において代替的に、これらの基の好ましい意味を含むR12について示した追加の意味の1つを有してもよく、
Lは、FまたはCl、好ましくはFであり、ならびに
連続的反応の条件は、合成例1の下で例証した通りである。
このスキームに(および以下のスキームのいずれかに)示したすべてのフェニレン部分は、互いに独立して、任意に、1個、2個または3個、好ましくは1個または2個のF原子または1個のCl原子または1個のClおよび1個のF原子を保有していてもよい。
本発明のもう1つの目的は、液晶媒体における式Iで表されるビメソゲン化合物の使用である。
式Iで表される化合物は、ネマチック液晶混合物へと添加されるとき、ネマチックの下の層を作り出す。本文脈において、ネマチック液晶混合物に対するビメソゲン化合物の影響の最初の示唆は、Barnes, P.J., Douglas, A.G., Heeks, S.K., Luckhurst, G.R., Liquid Crystals, 1993, Vol.13, No.4, 603- 613により報告された。この参考文献は、高度に極性なアルキルスペーサー性二量体を例示し、ネマチックの下の相を認識し、これをスメクチックの1タイプであると結論付けている。
ネマチック相の下に存在するメソ相の写真証拠は、Henderson, P.A., Niemeyer, O., Imrie, C.T. in Liquid Crystals, 2001, Vol. 28, No.3, 463-472により刊行されたが、さらには調査されなかった。
Liquid Crystals, 2005, Vol. 32, No. 11-12, 1499-1513 Henderson, P.A., Seddon, J.M. and Imrie, C.T.において、ネマチックの下の新しい相が、いくつかの特別な例において、スメクチックC相に属することが報告された。第1のネマチックの下の追加のネマチック相が、Panov, V.P., Ngaraj, M., Vij, J.K., Panarin, Y.P., Kohlmeier, A., Tamba, M.G., Lewis, R.A. and Mehl, G.H. in Phys.Rev.Lett. 2010, 105, 1678011 -1678014により報告された。
本文脈において、式Iで表される新しい、本発明のビメソゲン化合物がまた、第2のネマチック相として割り当てられている新規のメソ相を示す。このメソ相は、元来のネマチック液晶相よりも下の温度において存在し、本願により提供される独自の混合物概念において観察されてきている。
従って、本発明による式Iで表されるビメソゲン化合物は、第2のネマチック相をが、通常はこの相を有しないネマチック混合物において誘発せしめることを許容する。さらに、式Iで表される化合物の量を変化させることにより、第2のネマチックの相挙動を必要な温度へと合わすことを許容する。
それゆえ本発明は、式Iで表される少なくとも1種の化合物を含む液晶媒体に関する。
本発明による混合物のいくつかの好ましい態様を、以下に示す。
式Iで表される化合物であって、式中メソゲン性基MG11およびMG12は、それぞれの出現において互いに独立して、1つ、2つまたは3つの6員環、好ましくは2つまたは3つの六員環を含む。
部分式II−1、II−4、II−6、II−7、II−13、II−14、II−15、II−16、II−17およびI−18が好ましい。
好ましくは、式IにおけるR11およびR12は、H、F、Cl、CN、NO、OCH、COCH、COC、COOCH、COOC、CF、C、OCF、OCHF2、およびOCから、特にH、F、Cl、CN、OCHおよびOCFから、殊にH、F、CNおよびOCFから選択される。
典型的なスペーサー基(Sp)は、例えば−(CH−、−(CHCHO)−CHCH−であり、oは、1、3または5〜40の整数、特に1、3または5〜25、極めて好ましくは5〜15であり、pは、1〜8、特に1、2、3または4の整数である。
好ましいのは、式Iで表され、式中式I中のR11−MG11−X11−およびR12−MG12−X12−が同一である化合物である。
本発明による媒体は好ましくは、1種、2種、3種、4種またはそれ以上の、好ましくは1種、2種または3種の、式Iで表される化合物を含む。
液晶媒体における式Iで表される化合物の量は、全体の混合物の、好ましくは1〜50重量%、特には5〜40重量%、とても好ましくは10〜30重量%である。
好ましい態様において、本発明による液晶媒体は加えて、GB 2 356 629から公知であるものまたはそれから公知であるものに類似するものなどのような、式IIIで表される1種または2種以上の化合物を含む。

31−MG31−X31−Sp−X32−MG32−R32 III

式中
31およびR32はそれぞれ独立して、H、F、Cl、CN、NCSあるいは非置換であってもよいか、ハロゲンまたはCNにより単置換または多置換されていてもよい1〜25個のC原子を有する直鎖または分枝のアルキルであって、それぞれの場合において互いに独立して−O−、−S−、−NH−、−N(CH)−、−CO−、−COO−、−OCO−、−O−CO−O−、−S−CO−、−CO−S−、−CH=CH−、−CH=CF−、−CF=CF−または−C≡C−により酸素原子が互いにへと直接的に結合しないように置き換えられていることができる該アルキルであり、
MG31およびMG32はそれぞれ独立して、メソゲン基であり、
Spは、5〜40個のC原子を含むスペーサー基であり、ここで1つまたは2つ以上の非隣接CH基はまた、−O−、−S−、−NH−、−N(CH)−、−CO−、−O−CO−、−S−CO−、−O−COO−、−CO−S−、−CO−O−、−CH(ハロゲン)−、−CH(CN)−、−CH=CH−または−C≡C−によって置き換えられていてもよく、ならびに
31およびX32はそれぞれ独立して、−O−、−S−、−CO−、−COO−、−OCO−、−O−CO−O−、−CO−NH−、−NH−CO−、−CHCH−、−OCH−、−CHO−、−SCH−、−CHS−、−CH=CH−、−CH=CH−COO−、−OCO−CH=CH−、−C≡C−または単結合であり、および
式Iで表される化合物が除外される条件伴う。
メソゲン基MG31およびMG32は好ましくは、式IIのものから選択される。
式IIIで表される化合物であって、式中R31−MG31−X31−およびR32−MG32−X32−が同一である該化合物が、特に好ましい。
本発明のもう1つの好ましい態様は、式IIIで表される化合物であって、式中R31−MG31−X31−およびR32−MG32−X32−が異なる該化合物に関する。
式IIIで表される化合物であって、式中メソゲン性基MG31およびMG32が1つ、2つまたは3つの6員環を含む該化合物が特に好ましく、以下に一覧される式IIから選択されるメソゲン性基である該化合物がとても好ましい。
式IIIにおけるMG31およびMG32に対し、副次式II−6、II−7、II−13、II−14、II−15、II−16、II−17およびII−18が特に好ましい。これらの好ましい基において、Zはそれぞれの場合において独立して、式IIにおいて与えられるZの意味の1つを有する。好ましくはZは、−COO−、−OCO−、−CHCH−、−C≡C−または単結合である。
とても好ましくは、メソゲン性基MG31およびMG32は、式IIa〜IIoおよびそれらの鏡像から選択される。
非極性基を有する化合物の場合、R31およびR32は好ましくは、15個までのC原子を有するアルキルまたは2〜15個のC原子を有するアルコキシである。
31またはR32がアルキルまたはアルコキシラジカルである、つまり末端CH基が−O−で置き換えられている場合、これは直鎖または分枝であってもよい。好ましい直鎖は、2、3、4、5、6、7または8個の炭素原子を有し、よって好ましくは、例えば、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペントキシ、ヘキソキシ、ヘプトキシ、またはオクトキシ、さらにメチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ノノキシ、デコキシ、ウンデコキシ、ドデコキシ、トリデコキシまたはテトラデコキシである。
オキサアルキル、つまり1つのCH基が−O−により置き換えられているものは、好ましくは、例えば、直鎖の2−オキサプロピル(=メトキシメチル)、2−(=エトキシメチル)または3−オキサブチル(=2−メトキシエチル)、2−、3−、または4−オキサペンチル、2−、3−、4−、または5−オキサヘキシル、2−、3−、4−、5−、または6−オキサヘプチル、2−、3−、4−、5−、6−または7−オキサオクチル、2−、3−、4−、5−、6−、7−または8−オキサノニルまたは2−、3−、4−、5−、6−、7−、8−または9−オキサデシルである。
末端極性基を有する化合物の場合において、R31およびR32はCN、NO、ハロゲン、OCH、OCN、SCN、COR、COORあるいは1〜4個のC原子を有する単フッ素化、オリゴフッ素化または多フッ素化アルキルまたはアルコキシ基から選択される。Rは、1〜4個の、好ましくは1〜3個のC原子を有する、任意にフッ素化されたアルキルである。ハロゲンは好ましくは、FまたはClである。
特に好ましくは、式IIIにおけるR31およびR32は、F、Cl、CN、NO、OCH、COCH、COC、COOCH、COOC、CF、C、OCF、OCHF,およびOCから、特にF、Cl、CN、OCHおよびOCFから選択される。
式IIIにおけるスペーサー基Spに関し、この目的に関し当業者に公知の全ての基を用いることができる。スペーサー基Spは好ましくは、5〜40個のC原子、特に5〜25個のC原子、とても好ましくは5〜15個のC原子を有する線状または分枝のアルキレン基であって、ここにおいて、加えて、1つまたは2つ以上の非隣接CH基が−O−、−S−、−NH−、−N(CH)−、−CO−、−O−CO−、−S−CO−、−O−COO−、−CO−S−、−CO−O−、−CH(ハロゲン)−、−CH(CN)−、−CH=CH−または−C≡C−で置き換えられていてもよい該アルキレン基である。
典型的なスペーサー基は例えば−(CH−、−(CHCHO)−CHCH−、−CHCH−S−CHCH−または−CHCH−NH−CHCH−であり、ここでoは5〜40の、特に5〜25の、とても好ましくは5〜15の整数であり、およびpは1〜8の整数、特に1、2、3または4である。
好ましいスペーサー基は、例えば、ペンチレン、ヘキシレン、ヘプチレン、オクチレン、ノニレン、デシレン、ウンデシレン、ドデシレン、オクタデシレン、ジエチレンオキシエチレン、ジメチレンオキシブチレン、ペンテニレン、ヘプテニレン、ノネニレンおよびウンデセニレンである。
特に好ましいのは、式IIIで表される本発明の化合物であって、式中Spが5〜15個のC原子を有するアルキレンを示すものである。直鎖のアルキレン基が特に好ましい。
本発明のもう1つの好ましい態様において、式IIIで表されるキラル化合物は、式IVで表されるキラル基である少なくとも1つのスペーサー基Spを含む。
式IIIにおけるX31およびX32は好ましくは、−O−、−CO−、−COO−、−OCO−、−O−CO−O−または単結合を示す。式III−1〜III−4から選択される以下の化合物が特に好ましい。
式中、R31およびR32は式IIIのもとで与えられた意味を有し、Z31およびZ31−IはZ31として定義され、およびZ32およびZ32−Iはそれぞれ式IIIにおけるZ31およびZ32−Iの逆転の基であり、およびoおよびrはそれぞれの出現において独立して上に定義されるとおり、ならびにこれらの基の好ましい意味であり、およびLはそれぞれの出現において互いに独立して好ましくはF、Cl、CN、OH、NOあるいは1〜7個のC原子を有する任意にフッ素化されたアルキル、アルコキシまたはアルカノイル基、とても好ましくはF、Cl、CN、OH、NO、CH、C、OCH、OC、COCH、COC、COOCH、COOC、CF、OCF、OCHF、OC、特にF、Cl、CN、CH、C、OCH、COCHおよびOCF、最も好ましくはF、Cl、CH、OCHおよびCOCHであり、ならびにここから式Iで表される化合物は除外される。
本発明による特に好ましい混合物は、式III−1a〜III−1eおよびIII−3a〜III−3bで表される1種または2種以上の化合物を含む。
式中、パラメーターは上に定義されるとおりである。
本発明の好ましい態様において、液晶媒体は2〜25種、好ましくは3〜15種の式IIIで表される化合物からなっている。
液晶媒体における式IIIで表される化合物の量は、全体の混合物の、好ましくは10〜95重量%、特に15〜90重量%、とても好ましくは20〜85重量%である。
好ましくは、全体として媒体における式III−1aおよび/またはIII−1bおよび/またはIII−1cおよび/またはIII−1eおよび/またはIII−3aおよび/またはIII−3bで表される化合物の割合は、好ましくは少なくとも70重量%である。
本発明による特に好ましい媒体は、自体は液晶相を必ずしも示す必要がなく、自体に良好な均質な配向を与える少なくとも1種または2種以上のキラルドーパントを含む。
式IV
および式V
ならびにそれぞれの(S,S)エナンチオマー、
式中EおよびFはそれぞれ独立して1,4−フェニレンまたはトランス−1,4−シクロヘキシレンであり、vは0または1であり、Zは−COO−、−OCO−、−CHCH−または単結合であり、およびRは1〜12個のC原子を有するアルキル、アルコキシまたはアルカノイルである
から選択されるキラルドーパントが特に好ましい。
式IVで表される化合物およびこれらの合成は、WO 98/00428に記載される。特に好ましいのは、以下の表Dに示される、化合物CD−1である。式Vで表される化合物およびこれらの合成は、GB 2,328,207に記載される。
特に好ましいのは、高度ならせんねじれ力(HTP)を有するキラルドーパント、特にWO 98/00428に開示されるものである。
さらに典型的に用いられるキラルドーパントは、例えば、商業的に利用可能なR/S−5011、CD−1、R/S−811およびCB−15である(Merck KGaA, Darmstadt, Germanyから)。
上述のキラル化合物R/S−5011およびCD−1ならびに式IVおよびVで表される化合物は、極めて高度ならせんねじれ力(HTP)を呈し、それゆえ本発明に目的のための特に有用である。
液晶媒体は好ましくは、好ましくは上の式IV、特にCD−1、および/または式Vおよび/またはR−5011またはS−5011から選択される、1〜5個の、特に1〜3個の、極めて好ましくは1個または2個のキラルドーパントを含み、極めて好ましくはキラル化合物はR−5011、S−5011またはCD−1である。
液晶媒体におけるキラル化合物の量は、全体の混合物の好ましくは1〜20%、特に1〜15%、極めて好ましくは1〜10重量%である。
以下の式VI
式中
は、12個までのC原子を有するアルキル、アルコキシ、アルケニルまたはアルケニルオキシであり、
であり、
〜Lはそれぞれ独立して、HまたはFであり、
は、−COO−、−CHCH−または単結合であり、
mは、1または2である
から選択される1種または2種以上の添加剤を含む液晶媒体が、さらに好ましい。
式VIで表される特に好ましい化合物は、以下の式から選択される。
式中、Rは上のRの意味の1つを有し、ならびにL、LおよびLは上の意味を有する。
液晶媒体は、好ましくは上の式VIaかVIfから、とても好ましくはVIfから選択される、好ましくは1〜5種、特に1〜3種、とても好ましくは1種または2種を、好ましくは含む。
液晶媒体における式VIで表される好適な添加剤の量は、全体の混合物の好ましくは1〜20重量%、特に1〜15重量%、特に好ましくは1〜10重量%である。
本発明による液晶媒体は、さらなる添加剤を通常の濃度で含有してもよい。これらのさらなる成分の総濃度は、全体の混合物に基づき、0.1%〜10%の、好ましくは0.1%〜6%の範囲である。それぞれ用いられる個々の化合物の濃度は、好ましくは0.1%〜3%の範囲である。これらのおよび類似の添加剤の濃度は、本願における液晶媒体の液晶成分および化合物の濃度の値および範囲に対し考慮に入れない。これはまた、ホスト媒体の成分のそれぞれの化合物の濃度が特定される場合にカウントされない、混合物において用いられる二色性色素の濃度にもあてはまる。それぞれの添加剤の濃度は常に、最終的にドープされた混合物に対して与えられる。
本発明による液晶媒体は、数種の化合物、好ましくは3〜30の、より好ましくは4〜20のおよび最も好ましくは4〜16の化合物からなる。これらの化合物は、慣用の方式で混合される。原則として、より少量で用いられる化合物の必要量を、より大量で用いられる化合物へと溶解させる。温度がより高い濃度で用いられる化合物の透明点よりも上である場合、溶解のプロセスの完了を観察することは、特に容易である。しかし、例えば、例えば化合物の均質なまたは共融混合物であることができる、いわゆる前混合を用いる、またはその成分が混合物自体を用いるようになっている、いわゆるマルチボトルシステムを用いる、他の慣用の方法により、媒体を調製することもまた可能である。
特に好ましい混合物概念を、以下に示す:(用いられる略号は、表Aにおいて説明する)。
本発明による混合物は、好ましくは以下のもの:
− 総濃度で全体の混合物の1〜50重量%、特に5〜40重量%、とても好ましくは10〜30重量%の範囲での式Iで表される1種または2種以上の化合物、
および/または
− 総濃度で全体の混合物の10〜95重量%、特に15〜90重量%、とても好ましくは20〜85重量%での式IIIで表される1種または2種以上の化合物、好ましくはこれらの化合物は式III−1a〜III−1eおよびIII−3a〜III−bから選択され、特に好ましくはこれらは以下のものを含む:
− 全体としての混合物に基づいて、好ましくは>5%、特に10〜30%の濃度でのN−PGI−ZI−n−Z−GP−N、好ましくはN−PGI−ZI−7−Z−GP−Nおよび/またはN−PGI−ZI−9−Z−GP−N、
および/または
− 全体としての混合物に基づいて、好ましくは>5%、特に10〜30%の濃度でのF−UIGI−ZI−n−Z−GU−F、好ましくはF−UIGI−ZI−9−Z−GU−F、
および/または
− 全体としての混合物に基づいて、好ましくは>1%、特に1〜20%の濃度でのF−PGI−O−n−O−PP−N、好ましくはF−PGI−O−9−O−PP−、
および/または
− 全体としての混合物に基づいて、好ましくは>5%、特に5〜30%の濃度でのN−PP−O−n−O−PG−OT、好ましくはN−PP−O−7−O−PG−OT、
および/または
− 全体としての混合物に基づいて、好ましくは>1%、特に1〜20%の濃度でのN−PP−O−n−O−GU−F、好ましくはN−PP−O−9−O−GU−F、
および/または
− 全体としての混合物に基づいて、好ましくは>1%、特に1〜20%の濃度でのF−PGI−O−n−O−GP−F、好ましくはF−PGI−O−7−O−GP−Fおよび/またはF−PGI−O−9−O−GP−F、
および/または
− 全体としての混合物に基づいて、好ましくは>5%、特に10〜30%の濃度でのN−GIGIGI−n−GGG−N、特にN−GIGIGI−9−GGG−N、
および/または
− 全体としての混合物に基づいて、好ましくは>5%、特に15〜50%の濃度でのN−PGI−n−GP−N、好ましくはN−PGI−9−GP−N、
および/または
− 全体としての混合物の1〜20重量%、特に1〜15重量%、とても好ましくは1〜10重量%の範囲の総濃度での式VIで表される1種または2種以上の好適な添加剤、これらの化合物は好ましくは式VIa〜VIfから選択され、これらは特に好ましくは以下を含む:
− 全体としての混合物に基づいて、好ましくは>1%、特に1〜20%の濃度でのPP−n−N、
および/または
− 全体の混合物の好ましくは1〜20重量%、特に1〜15重量%、とても好ましくは1〜10重量%の範囲での1種または2種以上の化合物、これらの化合物は好ましくは式IV、VおよびR−5011またはS−5011から選択され、特に好ましくは以下を含む:
− 全体としての混合物に基づいて、好ましくは>1%、特に1〜20%の濃度でのR−5011、S−5011またはCD−1、
を含む。
式Iで表されるビメソゲン化合物およびこれらを含む液晶媒体は、液晶ディスプレイ、例えばSTN、TN、AMD−TN、温度補償、ゲストホスト、相変化または表面安定化またはポリマー安定化コレステリックテクスチャ(SSCT、PSCT)ディスプレイなどにおいて、特にフレキソエレクトリックデバイスにおいて、能動および受動光学素子、例えば偏光板、補償板、反射板、配向層、カラーフィルターまたはホログラフィック素子において、接着剤、異方性機械特性を有する合成樹脂、コスメティクス、診断薬、液晶顔料において、装飾および保安用途のために、非線形光学、光学式情報ストレージにおいて、またはキラルドーパントとして用いることができる。
式Iで表される化合物およびその得ることができる混合物は、フレキソエレクトリック液晶ディスプレイに対し特に有用である。それゆえ、本発明のもう1つの目的は、式Iで表される1種または2種以上の化合物を含む、または式Iで表される1種または2種以上の化合物を含む液晶媒体を含む、フレキソエレクトリックディスプレイである。
式Iで表される本発明のビメソゲン化合物およびそれらの混合物は、それらのコレステリック相において、専門家に公知の方法、例えば表面処理または電解により、異なる配向へと整列する。例えば、これらはプラナー(グラジャン)状態へと、フォーカルコニック状態へと、またはホメオトロピック状態へと配向させることができる。強力な双極子モーメントを有する極性基を含む式Iで表される本発明の化合物はさらに、フレキソエレクトリック切り替えを施すことができ、それゆえ電気光学スイッチまたは液晶ディスプレイにおいて用いることができる。
本発明の好ましい態様による異なる配向状態の間の切り替えは、以下において詳細に、式Iで表される本発明の化合物の例に対して、例示的に記載される。
この好ましい態様によると、試料は電極層、例えばITO層で被覆された2つの平面平行ガラス板を含むセルへと配置され、コレステリックらせんの軸がセル壁に垂直に配向されるプラナー状態へとそのコレステリック相中に整列される。この状態はグラジャン状態としてもまた、そして例えば偏光顕微鏡で観察される試料のテクスチャはグラジャンテクスチャとして公知である。プラナー配向は、例えばセル壁の表面処理により、例えばポリイミドなどの配向層でのラビングおよび/または被覆により達成することができる。
高品質な配向およびわずかな欠陥のみを有するグラジャン状態はさらに、試料をアイソトロピック相へと加熱し、次いでキラルネマチック−アイソトロピック相転移近傍の温度でキラルネマチック相へと冷却し、そしてセルをラビングすることにより達成することができる。
プラナー状態において、材料のらせんピッチおよび平均屈折率に依存して、試料は、反射の中心波長で、入射光の選択的反射を示す。
電界が、例えば10Hz〜1kHzの周波数、および12Vrms/μmの振幅で電極へと適用されるとき、試料は、らせんが解かれ、分子が電界と平行に、つまり電極の平面と垂直に配向されるホメオトロピック状態へと切り替えられる。ホメオトロピック状態において、試料は通常の日光中で見るときは透過性であり、交差した偏光板の間に配置されるときは黒色に見える。
ホメオトロピック状態において電界が低減または除去されると、試料は、らせん軸が電界と垂直に、つまり電極の平面と平行に配向する、らせん状にねじれた構造を呈する、フォーカルコニックテクスチャを採る。フォーカルコニック状態はまた、そのプラナー状態において試料に弱い電界のみを適用することにより達成することができる。フォーカルコニック状態において、通常の日光中で見る際に試料は散乱し、交差偏光板中で明るく見える。
異なる配向状態における本発明の化合物の試料は、異なる光の透過を呈する。それゆえ、それぞれの配向状態、ならびにその配向の質は、適用する電界強さに依存して、試料の光透過を測定することにより、制御することができる。このようにして、特定の配向状態およびこれらの異なる状態の間の転移を達成するために要する電界強さもまた、決定することができる。
式Iで表される本発明の化合物の試料において、上述のフォーカルコニック状態は多くの無秩序な複屈折小ドメインからなる。好ましくはセルの追加のせん断を有する、フォーカルコニックテクスチャの核生成のための電界よりも大きな電界を適用することにより、広大な、良好に配向された領域において、らせん軸が電極の平面に平行である、均質に配向されたテクスチャが達成される。最先端のキラルネマチック材料の文献、例えばP. Rudquist et al., Liq. Cryst. 23 (4), 503 (1997)などによると、このテクスチャはまた均質に位置するらせん(ULH)テクスチャとも称する。このテクスチャは、本発明の化合物のフレキソエレクトリック特性を特徴付けるために必要である。
電界を増加または低減させる際のラビングしたポリイミド基板上の式Iで表される本発明の化合物の試料において典型的に観察されるテクスチャの順序を、以下に示す:
ULHテクスチャから開始して、本発明のフレキソエレクトリック化合物および混合物は、電界の適用によりフレキソエレクトリック切り替えに施すことができる。これにより、セル基板の平面における材料の光学軸の回転が引き起こされ、交差偏光板の間に材料を配置させる際に透過の変化を導き出す。本発明の材料のフレキソエレクトリック切り替えはさらに、上記の導入部および実施例において詳細に記載される。
フォーカルコニックテクスチャから開始して、例えば10kHzの、高周波数の電界を試料に適用し、一方でアイソトロピック相からコレステリック相へとゆっくりと冷却し、セルをせん断することにより、ULHテクスチャを獲得することもまた可能である。電界周波数は、異なる化合物に対し異なり得る。
式Iで表されるビメソゲン化合物は、顕微鏡的に均質な配向で容易に整列させ、高値の弾性定数k11および高いフレキソエレクトリック係数eを液晶媒体中に導くことができるので、フレキソエレクトリック液晶ディスプレイにおいて特に有用である。
液晶媒体は、好ましくは、
11<1×10−10N、好ましくは<2×10−11N、およびフレキソエレクトリック係数e>1×10−11C/m、好ましくは>1×10−10C/mを呈する。
フレキソエレクトリックデバイスにおける使用とは別に、本発明のビメソゲン化合物ならびにその混合物はまた、他のタイプのディスプレイならびに他の光学および電気光学用途、例えば光学補償膜または偏向膜、カラーフィルター、反射コレステリック液晶(reflective cholesterics)、旋光パワー(optical rotatory power)および光学式情報ストレージなどに好適である。
本発明のさらなる側面は、セル壁がハイブリッド配向(hybrid alignment)条件を呈するディスプレイセルに関する。用語「ハイブリッド配向」あるいはディスプレイセルにおけるまたは2つの基板の間の液晶またはメソゲン材料の配向(orientation)は、第1のセル壁に隣接するまたは第1の基板上のメソゲン基がホメオトロピック配向を呈し、第2のセル壁に隣接するまたは第2の基板状のメソゲン基がプラナー配向を呈することを意味する。
用語「ホメオトロピック配向」あるいはディスプレイセルにおけるまたは基板上における液晶またはメソゲン材料の配向は、液晶またはメソゲン材料におけるメソゲン基がそれぞれ、セルまたは基板の平面に対して実質的に垂直に配向することを意味する。
用語「プラナー配向」あるいはディスプレイにおけるまたは基板上の液晶またはメソゲン材料の配向は、液晶またはメソゲン材料におけるメソゲン基がそれぞれ、セルまたは基板の平面に対し実質的に平行に配向することを意味する。
本発明の好ましい態様によるフレキソエレクトリックディスプレイは、2つの平行基板、好ましくは内側表面にインジウムスズ酸化物(ITO)などの透明導電層で被覆されたガラス基板、および該基板の間に設けられてなるフレキソエレクトリック液晶を含み、液晶媒体に関し、内側基板表面の1つがホメオトロピック配向状態を呈し、反対側の内側基板表面がプラナー配向状態を呈することを特徴とする。
プラナー配向は、例えば、基板の最上部(top)に適用される、例えばラビングしたポリイミドまたはスパッタリングしたSiOなどの配向層により、達成することができる。
代替的に、つまり追加の配向層を適用することなく、基板を直接的にラビングすることもまた可能である。例えば、ラビングは、ラビング布、例えばベルベット布により、またはラビング布で被覆した平棒で達成することが可能である。本発明の好ましい態様において、ラビングは少なくとも1つのラビングローラー、例えば基板にわたってブラシングする高速回転ローラーなどにより、または少なくとも2つのローラーの間に基板を置くことにより達成され、それぞれの場合においてローラーの少なくとも1つは任意にラビング布で被覆されている。本発明のもう1つの好ましい態様において、ラビングは、好ましくはラビング布で覆われているローラーの周りに、規定された角度で少なくとも部分的に基板を包むことにより達成される。
ホメオトロピック配向は、例えば、基板の最上部に被覆された配向層により達成することができる。ガラス基板上に用いられる好適な配向層は、例えば、アルキルトリクロロシランまたはレクチンであり、一方プラスチック基板に対しては配向手段としてレクチンの薄膜、シリカまたは高チルトポリイミド配向膜が使用され得る。本発明の好ましい態様において、シリカ被覆プラスチック膜が基板として用いられる。
プラナーまたはホメオトロピック配向を達成するためのさらなる好適な方法は、例えばJ. Cognard, Mol.Cryst.Liq.Cryst. 78, Supplement 1, 1-77 (1981)に記載される。
ハイブリッド配向状態を有するディスプレイセルを用いることにより、極めて高いフレキソエレクトリック切り替えスイッチ角、迅速な応答時間および良好なコントラストが達成される。
本発明によるフレキソエレクトリックディスプレイはまた、ガラス基板の代わりにプラスチック基板を含み得る。プラスチック膜基板は、上述のラビングローラーによるラビング処理に対し特に好適である。
本発明のもう1つの目的は、式Iで表される化合物が、ネマチック液晶混合物へと添加されるときに、ネマチックの下の相を作り出すことである。
したがって、本発明による式Iで表されるビメソゲン化合物は、第2のネマチック相を通常はこの相の兆候を示さないネマチック混合物において誘発させることを許容する。さらに、式Iで表される化合物の量を変化させることにより、第2のネマチック相の相挙動を要求される温度へと合わせることを許容する。
これに対する例が与えられ、その得られることができる混合物はフレキソエレクトリック液晶ディスプレイに対し特に好適である。それゆえ、本発明のもう1つの目的は、第2のネマチック相を呈する式Iで表される1種または2種以上の化合物を含む液晶媒体である。
さらなる労力なしに、当業者は、前述の記載を利用し、本発明をその最大限の程度にまで利用することができる。それゆえ以下の例は、単なる説明として考えられるべきであり、本開示の残りの部分を、全くいかようにも限定するものではない。
文脈が他に明確に示さなければ、本明細書で用いられる複数形の用語は本明細書中では単数形も含むものと解され、逆もまたあてはまる。
本明細書および本明細書の特許請求の範囲にわたって、用語「含む(comprise)」および「含有する(contain)」ならびにこれらの用語の変形、例えば「含んでいる(comprising)」および「含む(comprises)」は、「含むがそこへと限定しない(including but not limited to)」ことを意味し、他の成分を除外することを意図しない(および除外しない)。
本願にわたって、これらの角度が、例えば3芳香族環、5芳香族環または5芳香族環など、小さい環の一部分であるなど、他に制限されなければ、いくつかの場合においていくつかの構造式においてこれらの角度は正確には表されてはいないが、3つの隣接する原子に結合するC原子における結合の、例えばC=CまたはC=O二重結合の、あるいは例えばベンゼン環における角度は120°であること、ならびに2つの隣接する原子に結合するC原子における結合の、例えばC≡CにおけるまたはC≡N三重結合における、またはアリル位C=C=Cにおける角度が180°であることが、当業者に理解されるべきである。
本発明の前述の態様に対する変化形もまたなされることができ、一方でなお本発明の範囲内にあると考えられるべきであろう。本明細書において開示されるそれぞれの特徴は、他に述べられない限り、同じ、均等のまたは類似の目的の役割をする代替の特徴により置き換えられてもよい。それゆえ、他に述べない限り、開示されるそれぞれの特徴は、一般的な一連の均等なまたは類似の特徴の一例にすぎない。
本明細書に開示される特徴の全ては、かかる構成および/またはステップの少なくともいくつかが互いに排他的である組み合わせを除き、任意の組合せで組み合わせてもよい。特に、本発明の好ましい組み合わせが本発明の全ての側面へと適用可能であり、任意の組合せで用いてもよい。同様に、必須でない組み合わせに記載される特徴は、(組み合わせにおいてではなく)別異に用いてもよい。
本願による媒体における全ての化合物の総濃度は、100%である。
前述のおよび以下の例において、他に示されない限り、全ての温度は未修整でセルシウス度で設定され、全ての部およびパーセントは重量によってである。
以下の略号は、液晶化合物の液晶相挙動を説明するために用いられる:K=結晶;N=ネマチック;N2=第2のネマチック;SまたはSm=スメクチック;Ch=コレステリック;I=アイソトロピック;Tg=ガラス転移。記号の間の数字は、℃での相転移温度を示す。
本願においておよび特に以下の例において、液晶化合物の構造は、「頭文字(acronym)」とも称される、略号により表される。略号の対応する構造への変換は、以下の3つの表A〜Cにより単純明快である。
全ての基C2n+1、C2m+1およびC2l+1は、好ましくはそれぞれn、mおよびl個のC原子を有する直鎖アルキル基であり、全ての基C2n、C2mおよびC2lは、好ましくはそれぞれ(CH、(CHおよび(CHであり、ならびに−CH=CH−は好ましくは、トランス−それぞれEビニレンである。
表Aは、環要素に関して用いられる符号を、表Bは結合基に関するもの、および表Cは分子の左手側および右手側末端基に関する符号に関するものを羅列する。
表Dは、例示的な分子構造をそれらのそれぞれのコードとともに一覧する。
表A:環要素
表B:結合基
表C:末端基
式中、nおよびmはそれぞれ整数であり、および3つの点「…」はこの表の他の符号のためのスペースを示す。
好ましくは、本発明による液晶は、式Iで表される化合物に加え、以下の表の式で表される化合物の群から選択される1種または2種以上の化合物を含む。
表D
この表において、nは、他に明確に定義しない限り3および5〜15から、好ましくは3、5、7および9から選択された整数である。
化合物および合成例
合成例1:
の製造
関連する化合物を、以下のスキームに従って製造する。
ステージ1.1
4−ベンジルオキシ−2−フルオロブロモベンゼン(219g、0.78mol)、4−フルオロベンゼン−ボロン酸(109g、0.78mol)、ジオキサン(900ml)、水(450ml)およびリン酸カリウム水和物(180g、0.78mol)を、超音波浴中に(手順を、この出願において短縮して「超音波処理した」と称する)30分間配置する。[1,1−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]−ジクロロパラジウム(II)(6.4g、8.8mmol)を加え、混合物を還流の下で4時間加熱する。混合物を冷却し、2つの層を分離する。水層を、トルエンで2回抽出する。有機相を合わせ、真空中で蒸発させる。残留物を、ジクロロメタンで溶出させてシリカ上での真空フラッシュクロマトグラフィーによって精製する。生成物を、白色固体として得る。
ステージ1.2
4−(ベンジルオキシ)−2−フルオロ−1−(4−フルオロフェニル)ベンゼン(195g、0.658mol)、テトラヒドロフラン(1,500ml)および炭素上のパラジウム(10%、20g)を、30℃で4時間水素化する。触媒をろ別し、溶媒を真空中で除去して、3−フルオロ−4−(4−フルオロフェニル)フェノールを得る。
ステージ1.3
4−シアノナフトール(10.0g、59.1mmol)を、丸底フラスコ中でアセトン(300ml)に溶解する。炭酸カリウム(16.6g、120mmol)を撹拌下で加え、混合物を還流下で1時間加熱する。混合物を、周囲温度(それは、本出願において約20℃を意味し、また時々口語的に「室温」と称する)に冷却し、次に過剰の1,9−ジブロモノナン(120.1g、420mmol)を、加える。反応混合物を還流下で加熱し、16時間撹拌する。次に、溶液を放冷し、その後真空中でろ過し、アセトンで洗浄する。濾液を真空中で濃縮して、黄色液体を得る。石油エーテルを加え、溶液を0℃に冷却する。白色固体が沈殿し、それを採集し、溶離剤として石油エーテル中のジクロロメタン(7:3比率)で溶出させてシリカゲルによるカラムクロマトグラフィーによって精製する。生成物を含む適切な画分を合わせ、溶媒を真空中で除去して、生成物を得る。
ステージ1.4
6−(9−ブロモ−ノニルオキシ)−ナフタレン−2−カルボニトリル(7.70g、20.57mmol)および3−フルオロ−4−(4−フルオロフェニル)フェノール(4.24g、20.57mmol)を、ブタノン(100ml)を含む250mlの3つ首丸底フラスコ中に投入する。炭酸カリウム(30.41g、220.00mmol)を、加える。反応混合物を、80℃の温度で16時間撹拌する。混合物を次に周囲温度に冷却し、固体をろ別する。有機相を水(50ml)で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で蒸発させる。純粋な生成物を、アセトニトリルからの結晶によって得る。
この化合物の物理的特性によって、材料がビメソゲン化合物を含む混合物に、特にUSHおよびULHモードにおける使用に極めて有用になる。
合成例2:
の製造
関連する化合物を、以下のスキームに従って製造する。
ステージ2.1
デカン二酸(5.00g、24.72mmol)、ジシクロヘキシルカルボジイミド(5.10g、24.72mmol)およびジメチルアミノピリジン(301.86mg、2.47mmol)を、80mlのジクロロメタンを含むフラスコ中に、周囲温度で投入する。反応混合物を30分間撹拌し、次に2,4’−ジフルオロ−ビフェニル−4−オール(5.10g、24.72mmol)を加える。反応混合物を、周囲温度で16時間撹拌する。水(50ml)を加え、有機相を水相から分離し、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を蒸発させる。シリカゲルジクロロメタン:酢酸エチル(4:6比率)上のカラムクロマトグラフィーによる精製によって、デカン二酸モノ−(2,4’−ジフルオロ−ビフェニル−4−イル)エステルが得られた。
ステージ2.2
デカン二酸モノ−(2,4’−ジフルオロ−ビフェニル−4−イル)エステル(3.00g、7.68mmol)、ジシクロヘキシルカルボジイミド(1.59g、7.68mmol)およびジメチルアミノピリジン(93.82mg、0.77mmol)を、ジクロロメタン(50ml)を含むフラスコに、周囲温度で投入する。混合物を30分間撹拌し、次に6−ヒドロキシ−ナフタレン−2−カルボニトリル(1.30g、7.68mmol)を加える。得られた混合物を、周囲温度で16時間撹拌する。水(20ml)を加え、次に有機相を分離し、硫酸マグネシウムで乾燥し、蒸発させる。シリカゲルジクロロメタン:酢酸エチル(8:2比率)上のカラムクロマトグラフィーによる精製によって、6−シアノナフタレン−2−イル3−フルオロ−4−(4−フルオロフェニル)フェニルデカンジオアート(3.20g)が白色固体として得られる。
合成例3:
の製造
関連する化合物を、以下のスキームに従って製造する。
ステージ3.1
ウンデカン二酸(10.49g、48.50mmol)、ジシクロヘキシルカルボジイミド(10.01g、48.50mmol)およびジメチルアミノピリジン(592.18mg、4.85mmol)を、100mlのジクロロメタンを含むフラスコに、周囲温度で投入する。30分間撹拌した後に、2,4’−ジフルオロ−ビフェニル−4−オール(10.00g、48.50mmol、1.00当量)を、加える。反応混合物を、周囲温度で16時間撹拌する。水(50ml)を加え、有機相を分離し、硫酸マグネシウムで乾燥し、蒸発させる。シリカゲルジクロロメタン:酢酸エチル(4:6比率)上のカラムクロマトグラフィーによる精製によって、所望の生成物が得られる。
ステージ3.2
11−[3−フルオロ−4−(4−フルオロフェニル)フェノキシ]−11−オキソウンデカン酸(5.00g、12.36mmol)、ジシクロヘキシルカルボジイミド(2.55g、12.36mmol)およびジメチルアミノピリジン(150.95mg、1.24mmol、0.10当量)を、50mlのジクロロメタンを含むフラスコに周囲温度で投入する。反応混合物を30分間撹拌し、次に6−ヒドロキシ−ナフタレン−2−カルボニトリル(2.30g、13.60mmol)を加え、周囲温度で16時間撹拌する。水(20ml)を加え、有機相を分離し、硫酸マグネシウムで乾燥し、蒸発させる。粗製物を、ジクロロメタン:石油エーテルを溶離剤として(1:1比率)溶出させてシリカゲルによるカラムクロマトグラフィーによって精製する。生成物を含む適切な画分を合わせ、溶媒を真空中で除去して、6−シアノナフタレン−2−イル3−フルオロ−4−(4−フルオロフェニル)フェニルウンデカンジオアート(5.70g)を得る。
合成例4:
の製造
関連する化合物を、以下のスキームに従って製造する。
ステージ4.1
(4−メトキシフェニル)ボロン酸(9.75g、64.17mmol)を20mlのエタノールに溶解した溶液を、4−ブロモ−ベンゾニトリル(10.00g、54.94mmol)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)−パラジウム(0)(1.92g、1.66mmol)を50mlのトルエンに溶解した撹拌した溶液および炭酸ナトリウム(2M、91.57ml、183.13mmol)に滴加する。混合物を、3時間加熱還流させる。反応が完了した後、それを周囲温度に冷却する。水(20ml)を加え、有機相を分離し、硫酸マグネシウムで乾燥し、蒸発させる。シリカ、ジクロロメタン上のカラムクロマトグラフィーによる精製によって、純粋な4’−メトキシ−ビフェニル−4−カルボニトリルが得られる。
ステージ4.2
三臭化ホウ素の1.0Mジクロロメタン溶液(48.78ml、48.78mmol)を、4’−メトキシ−ビフェニル−4−カルボニトリル(10.00g、47.79mmol)を50mlの乾燥ジクロロメタンに溶解した溶液に、−78℃で滴加する。反応混合物を周囲温度に放置して到達させ、16時間撹拌する。反応混合物を0℃に冷却し、50mlの水を加えることにより反応停止する。有機相を水相から分離し、硫酸マグネシウムで乾燥し、蒸発させる。シリカゲルジクロロメタン:酢酸エチル(8:2比率)上のカラムクロマトグラフィーによる精製によって、純粋な4’−ヒドロキシ−ビフェニル−4−カルボニトリルが得られる。
ステージ4.3
ヘプタン二酸(5.00g、31.22mmol)、ジシクロヘキシルカルボジイミド(6.44g、31.22mmol)およびジメチルアミノピリジン(381.16mg、3.12mmol)を、ジクロロメタン(50ml)を含むフラスコに、周囲温度で投入する。混合物を30分間撹拌し、次に4’−ヒドロキシ−ビフェニル−4−カルボニトリル(6.09g、31.22mmol)を加え、周囲温度で16時間撹拌する。水(20ml)を加え、有機相を分離し、硫酸マグネシウムで乾燥し、蒸発させる。シリカゲルジクロロメタン:酢酸エチル(6:4)上のカラムクロマトグラフィーによる精製によって、ヘプタン二酸モノ−(4’−シアノ−ビフェニル−4−イル)エステルが得られる。
ステージ4.4
ヘプタン二酸モノ−(4’−シアノ−ビフェニル−4−イル)エステル(900.00mg、2.67mmol)、ジシクロヘキシルカルボジイミド(550mg、2.67mmol)およびジメチルアミノピリジン(32.57mg、0.26mmol)を、ジクロロメタン(20ml)を含むフラスコに、周囲温度で投入する。混合物を30分間撹拌し、次にキノリン−6−オール(425.96mg、2.93mmol)を加える。反応混合物を、周囲温度で16時間撹拌する。水(20ml)を加え、有機相を分離し、硫酸マグネシウムで乾燥し、蒸発させる。シリカゲルジクロロメタン:酢酸エチル(7:3比率)上のカラムクロマトグラフィーによる精製によって、4−(4−シアノフェニル)フェニルキノリン−6−イルヘプタンジオアートが得られる。
合成例5:
の製造
関連する化合物を、以下のスキームに従って製造する。
ステージ5.1
ノナン二酸(8.0g、42.50mmol)、ジシクロヘキシルカルボジイミド(8.77g、42.5mmol)およびジメチルアミノピリジン(518.96mg、4.25mmol)を、50mlのジクロロメタンを含むフラスコに、周囲温度で投入する。混合物を30分間撹拌し、次に4−フルオロ−フェノール(4.76g、42.50mmol)を加える。得られた混合物を、周囲温度で16時間撹拌する。水20mlを加え、有機相を分離し、硫酸マグネシウムで乾燥し、蒸発させる。シリカゲルジクロロメタン:酢酸エチル(1:4比率)上のカラムクロマトグラフィーによる精製によって、9−(4−フルオロフェノキシ)−9−オキソノナン酸が得られる。
ステージ5.2
ノナン二酸モノ−(4−フルオロ−フェニル)エステル(2.00g、7.08mmol)、ジシクロヘキシルカルボジイミド(1.46g、7.08mmol)およびジメチルアミノピリジン(86.50mg、0.70mmol)を、50mlのジクロロメタンを含むフラスコに、周囲温度で投入する。混合物を30分間撹拌し、次にキノリン−6−オール(1.03g、7.08mmol)を加える。反応混合物を、周囲温度で16時間撹拌する。水(20ml)を加え、有機相を分離し、硫酸マグネシウムで乾燥し、蒸発させる。ジクロロメタン:酢酸エチル(1:1比率)を溶離剤として使用するシリカゲル上のカラムクロマトグラフィーによる精製によって、4−フルオロフェニルキノリン−6−イルノナンジオアート(2.35g)が得られる。
合成例6:
の製造
関連する化合物を、以下のスキームに従って製造する。
ステージ6.1
5−ヘキシン酸メチル(15.5g、122.86mmol)、4−ブロモ−3−フルオロヨードベンゼン(36.97g、122.86mmol)、ジイソプロピルアミン(45ml)を、テトラヒドロフラン(225ml)を含むフラスコ中に加える。フラスコに窒素を流し、Pd(PhP)Cl(330mg)およびCuI(165mg)を混合物に加え、それを次に30℃に20分および次に40℃に1時間加温する。混合物を冷却し、固体をろ別し、酢酸エチルで洗浄を済ます。有機相を蒸発させる。粗製物を、石油エーテル:ジクロロメタン(2:1比率)および次に石油エーテル:ジクロロメタン(1:1比率)で溶出させて、シリカ上のカラムクロマトグラフィーによって精製する。適切な画分を合わせ、濃縮して、生成物を得る。
ステージ6.2
炭素上の白金(2.7g、炭素上10%)を、窒素雰囲気下で、1リットルの3つ首丸底フラスコ中に配置する。これに、テトラヒドロフラン(270ml)およびメチル6−(4−ブロモ−3−フルオロフェニル)ヘキサ−5−イノアート(26.9g、89.9mmol)を加える。フラスコに、気球からの水素ガスを2回流す。混合物を、次に水素雰囲気下で5時間極めて激しく撹拌する。混合物を、セライト(celite)を通してろ過して、透明な溶液を得る。これを減圧下で濃縮して、生成物を得る。
ステージ6.3
窒素雰囲気下で、メチル6−(4−ブロモ−3−フルオロフェニル)ヘキサノアート(26g、86.9mmol)、3,4−ジフルオロベンゼンボロン酸(13.74g、87mmol)、リン酸カリウム(72.7g、316mmol)、ジオキサン(160ml)水(80ml)およびPd(dppf)Cl(615mg)の混合物を、30分間「超音波処理」し、次に90℃に16時間加熱する。混合物を、周囲温度に冷却する。有機相を分離し、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮する。粗製物を、石油エーテル:ジクロロメタン(1:1比率)で溶出させてシリカのカラム上で精製し、それによって生成物が透明な油として得られる。
ステージ6.4
メチル6−[4−(3,4−ジフルオロフェニル)−3−フルオロフェニル]ヘキサノアート(22g、65.4mmol)、水酸化ナトリウム(5.23g、131mmol)、エタノール(100ml)および水(100ml)を、100℃に2時間加熱する。混合物を、次に周囲温度に冷却する。反応混合物の容積を減圧下で半分に減少させ、次に反応混合物を濃塩酸で酸性化する。粗製の混合物を氷浴中で冷却し、得られた固体をろ別し、水で洗浄する。エタノール:水(1:1比率)からの再結晶によって、所望の生成物が得られる。
ステージ6.5
6−[4−(3,4−ジフルオロフェニル)−3−フルオロフェニル]ヘキサン酸(3.00g、9.31mmol)、ジシクロヘキシルカルボジイミド(1.92g、9.31mmol)およびジメチルアミノピリジン(113.64mg、0.93mmol)を、50mlのジクロロメタンを含むフラスコに、周囲温度で投入する。混合物を30分間撹拌し、次に6−ヒドロキシ−ナフタレン−2−カルボニトリル(1.57g、9.31mmol、1.00当量)を加え、反応混合物を周囲温度で16時間撹拌する。次に、水(20ml)を加え、有機相を水相から分離し、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を蒸発させる。シリカゲル石油エーテル:ジクロロメタン(1:1比率)上のカラムクロマトグラフィーによる精製によって、6−シアノナフタレン−2−イル6−[4−(3,4−ジフルオロフェニル)−3−フルオロフェニル]ヘキサノアートが得られる。
合成例7:
の製造
関連する化合物を、以下のスキームに従って製造する。
ステージ7.1
6−[4−(3,4−ジフルオロフェニル)−3−フルオロフェニル]ヘキサン酸(3.00g、9.31mmol)、ジシクロヘキシルカルボジイミド(1.92g、9.31mmol)およびジメチルアミノピリジン(113.64mg、0.93mmol)を、50mlのジクロロメタンを含むフラスコに、周囲温度で投入する。混合物を30分間撹拌し、次にキノリン−6−オール(1.35g、9.31mmol)を加え、周囲温度で16時間撹拌する。水(20ml)を加え、有機相を分離し、硫酸マグネシウムで乾燥し、蒸発させる。シリカゲルジクロロメタン:酢酸エチル(3:1比率)上のカラムクロマトグラフィーによる精製によって、キノリン−6−イル6−[4−(3,4−ジフルオロフェニル)−3−フルオロフェニル]ヘキサノアートが得られる。
合成例8:
の製造
関連する化合物を、以下のスキームに従って製造する。
ステージ8.1
6−アセトキシ−ナフタレン−2−カルボン酸(16.00g、69.50mmol)および3,4,5−トリフルオロ−フェノール(10.29g、69.50mmol)は、300mlのジクロロメタンを含むフラスコ中にある。N,N’−ジイソプロピルカルボジイミド(8.77g、69.50mmol)およびジメチルアミノピリジン(0.85g、6.95mmol)を加え、溶液を16時間撹拌する。固体をろ別し、有機層を濃縮して、白色固体を得る。シリカゲル石油エーテル:ジクロロメタン(7:3比率)上のカラムクロマトグラフィーによる精製によって、3,4,5−トリフルオロフェニル6−(アセチルオキシ)ナフタレン−2−カルボキシレートが得られる。
ステージ8.2
テトラヒドロフラン(250ml)中の3,4,5−トリフルオロフェニル6−(アセチルオキシ)ナフタレン−2−カルボキシレート(19.00g、52.74mmol)を、HCl(5M、150.00ml、3246.58mmol)で処理し、周囲温度で16時間撹拌する。ジエチルエーテル(100ml)を加え、有機相を水相から分離し、水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を蒸発させる。アセトニトリルからの再結晶によって、3,4,5−トリフルオロフェニル6−ヒドロキシナフタレン−2−カルボキシレートが得られる。
ステージ8.3
3,4,5−トリフルオロフェニル6−ヒドロキシナフタレン−2−カルボキシレート(5.96g、18.73mmol)、ピメリン酸(1.50g、9.37mmol)を、100mlのジクロロメタンを含むフラスコに加える。ジシクロヘキシルカルボジイミド(2.55g、12.36mmol)およびジメチルアミノピリジン(340mg、2.81mmol)を加え、周囲温度で16時間撹拌する。水(50ml)を加え、有機相を分離し、硫酸マグネシウムで乾燥し、蒸発させる。シリカゲルジクロロメタン:酢酸エチル(4:1比率)上のカラムクロマトグラフィーによる精製によって、ビス[6−(3,4,5−トリフルオロフェノキシカルボニル)ナフタレン−2−イル]ヘプタンジオアートが得られる。
合成例9:
の製造
関連する化合物を、以下のスキームに従って製造する。
ステージ9.1
n−ブチルリチウム溶液(ヘキサン中1.6M、115.00ml、195.51mmol)を、2−ブロモ−6−フルオロ−ナフタレン(20.00g、88.87mmol)を300mlのエーテルに溶解した溶液に、−78℃で加える。混合物を−78℃で1時間撹拌し、ヨウ素(27.07g、106.64mmol)をエーテル(100ml)に溶解した溶液を、カニューレを介して加える。混合物を、約1時間の期間にわたって周囲温度に加温し、塩化アンモニウムの飽和水溶液で反応停止し、飽和水性チオ硫酸ナトリウムで洗浄し、水およびブラインで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮する。残留物を、石油エーテルを使用してフラッシュクロマトグラフィーによって精製して、2−フルオロ−6−ヨード−ナフタレンを得る。
ステージ9.2
ヘプタ−1,6−ジイン(3.73ml、32.56mmol)を、30mlのテトラヒドロフランを含むフラスコに加え、続いてビストリフェニルホスフィンジクロロパラジウム(87.09mg、0.12mmol)、ヨウ化銅(18.58mg、0.10mmol)およびジイソプロピルアミン(12.00ml、85.62mmol)を加える。フラスコを、窒素でパージする。2−フルオロ−6−ヨード−ナフタレン(18.60g、68.38mmol)。反応混合物を、周囲温度で3時間撹拌する。固体をろ別し、ジクロロメタンで洗浄を済ました。有機相を蒸発させる。粗製物を、石油エーテルで溶出させてシリカ上のカラムクロマトグラフィーによって精製する。適切な画分を合わせ、濃縮して、2−フルオロ−6−[7−(6−フルオロナフタレン−2−イル)ヘプタ−1,6−ジイン−1−イル]ナフタレン(11.63g)を得る。
ステージ9.3
炭素上の白金(775mg、炭素上10%)を、250mlのテトラヒドロフランを含むフラスコに加える。これに、2−フルオロ−6−[7−(6−フルオロナフタレン−2−イル)ヘプタ−1,6−ジイン−1−イル]ナフタレン(10.0g、26.29mmol)を加える。フラスコに、気球からの水素ガスを2回流す。混合物を、次に水素雰囲気下で5時間極めて激しく撹拌する。混合物を、セライトを通してろ過して、透明な溶液を得る。これを減圧下で濃縮して、生成物を得る。
化合物例10およびそれ以降。
式Iで表される以下の化合物を、同様にして製造する。
上記の表中の物質は一般に、例えば以下の表中に示すものとしての既知のより慣用的なビメソゲン化合物と比較して、スクリーニング混合物における増大した性能を示す。
比較化合物例1
相順序:K 98(N 83)I、e/K=2.25V−1
使用例、混合物例
典型的に、逆平行のラビングしたPI整列層を有する厚さ5.6μmのセルを、ホットプレート上に、フレキソエレクトリック(flexoelectric)混合物がアイソトロピック相にある温度で満たす。
セルを満たした後、透明点を含む相転移を、示差走査熱量測定(DSC)を使用して測定し、光学的検査によって確認する。光学的相転移測定のために、FP82ホットステージに接続したMettlerFP90ホットステージコントローラーを使用して、セルの温度を制御する。温度を、周囲温度から毎分摂氏5度の速度で、アイソトロピック相の開始が観察されるまで上昇させる。テキスチャ変化を、交差させた偏光子によって、オリンパスBX51顕微鏡を使用して観察し、それぞれの温度を書き留める。
ワイヤーを、次にセルのITO電極に、インジウム金属を使用して取り付ける。セルを、Linkam TMS93ホットステージコントローラーに接続したLinkam THMS600ホットステージ中に固定する。ホットステージを、オリンパスBX51顕微鏡中の回転ステージに固定する。
セルを、液晶が完全にアイソトロピックであるまで加熱する。セルを、次に試料が完全にネマチックであるまで印加した電場の下で冷却する。駆動波形を、Tektronix AFG3021B任意波形発生器によって供給し、それを、Newtons4th LPA400電力増幅器によって送り、その後セルに印加する。セル応答を、Thorlabs PDA55フォトダイオードでモニタリングする。入力波形および光学的応答の両方を、Tektronix TDS 2024Bデジタルオシロスコープを使用して測定する。
材料のフレキソエラスチック(flexoelastic)応答を測定するために、光軸の傾斜の大きさの変化を、増加する電圧の関数として測定する。これを、以下の方程式を使用することにより達成する:
式中、φは、最初の位置(つまりE=0である場合)からの光軸におけるティルトであり、Eは印加した電界であり、Kは弾性定数(KおよびKの平均)であり、eはフレキソエレクトリック係数(式中e=e+e)である。印加した電界を、HP 34401Aマルチメーターを使用してモニタリングする。ティルト角を、前述の顕微鏡およびオシロスコープを使用して測定する。影響を受けないコレステリックピッチ、Pを、コンピューターに付けられたOcean Optics USB4000分光計を使用して測定する。選択的反射バンドを得、距離をスペクトルデータから決定する。
以下の例において示す混合物は、USHディスプレイにおいて使用するのに良好に適している。そのために、適切な濃度のキラルなドーパントまたは使用するドーパントを、200nmまたはそれ以下のコレステリックピッチを達成するために適用しなければならない。
ホスト混合物H−0
ホスト混合物H−0を製造し、調査する。
比較混合物例:混合物C−1
この混合物(C−1)を製造し、調査する。それは、USHモードに良好に適している。それは、35℃で301nmのコレステリックピッチを有する。この混合物のe/Kは、34.8℃の温度で1.90C・m−1−1であり、それは、1.90V−1に相当する。
混合物例1:混合物M−1
この混合物(M−1)を製造し、調査する。それは、USHモードおよび特にULHモードに良好に適しており、44℃で360nmのコレステリックピッチを有する。この混合物のe/Kは、44℃の温度で2.03Cm−1−1である。
混合物例2:混合物M−2
以下の混合物を製造し(混合物M−2)、調査する。
この混合物(M−2)を製造し、調査する。それは、USHモードおよび特にULHモードに良好に適している。それは、44℃で303nmのコレステリックピッチを有する。この混合物のe/Kは、44℃の温度で1.96C・m−1−1である。
混合物例3:混合物M −3
この混合物(M−3)を製造する。混合物は、98%(質量による)の混合物M−3から構成され、2%のR−5011を合わせ、得られた混合物(M−3)を次に調査する。この混合物(M−3)は、USHモードおよび特にULHモードに良好に適している。それは、35℃で312nmのコレステリックピッチを有する。この混合物のe/Kは、35℃の温度で3.05C・m−1−1である。

Claims (11)

  1. 式I
    式中
    11およびR12は、各々独立して、H、ハロゲン、CN、NOまたは1〜25個のC原子を有し、非置換、ハロゲンもしくはCNによって単置換もしくは多置換されていてもよい直鎖状もしくは分枝状アルキル基であり、また1つ以上の隣接していないCH基が、各出現において互いに独立して、−O−、−S−、−NH−、−N(CH)−、−CO−、−COO−、−OCO−、−O−CO−O−、−S−CO−、−CO−S−、−CH=CH−、−CH=CF−、−CF=CF−または−C≡C−によって、酸素原子が互いに直接結合しないように置き換えられていることが可能であり、好ましくは極性基であり、
    MG11およびMG12は、各々独立してメソゲン性基であり、
    MG11およびMG12の少なくとも1つは、メソゲン性基であり、ここでMG11またはMG12は、7〜23個の炭素原子から構成された脂環式、芳香族および縮合基から選択された少なくとも1つの融合環基を含み、ここで1つもしくは2つの隣接していないCH基は、各々、N原子によって置き換えられていてもよく、かつ/または1つもしくは2つの隣接していないCH基は、互いに独立して、OもしくはS原子によって置き換えられていてもよく、ならびにそれは、任意に、1個以上のハロゲン原子、好ましくはFおよび/もしくはClによって、ならびに/または各々独立して1〜9個のC原子を有する1つ以上のアルキル基(単数もしくは複数)によって、好ましくは1〜9個のC原子を有する1つのアルキル基によって、ならびに/または各々独立して1〜9個のC原子を有するもう1つのアルコキシ基(単数もしくは複数)によって置換されており、ここでメソゲン性基はまた、0〜3個の1,4−フェニレン(ここでさらに、1つ以上のCH基は、Nによって置き換えられていてもよい)、トランス−1,4−シクロ−ヘキシレン(ここでさらに1つまたは2つの隣接していないCH基は、Oおよび/またはSによって置き換えられていてもよい)、1,4−シクロヘキセニレン、1,4−ビシクロ−(2,2,2)−オクチレン、ピペリジン−1,4−ジイル、ナフタレン−2,6−ジイル、デカヒドロ−ナフタレン−2,6−ジイル、1,2,3,4−テトラヒドロ−ナフタレン−2,6−ジイル、シクロブタン−1,3−ジイル、スピロ[3.3]ヘプタン−2,6−ジイルまたはジスピロ[3.1.3.1]デカン−2,8−ジイルから選択された6員環を含むことができ、すべてのこれらの基が、非置換、F、Cl、CN、またはアルキル、アルケニル、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキルカルボニルまたはアルコキシカルボニル基で単置換、二置換、三置換または四置換されていることが可能であり、ここで1個以上のH原子は、FまたはClによって置換されていてもよく、
    Spは、1、3または5〜40個のC原子を含むスペーサー基であり、ここで1つ以上の隣接しておらず、末端でないCH基はまた、−O−、−S−、−NH−、−N(CH)−、−CO−、−O−CO−、−S−CO−、−O−COO−、−CO−S−、−CO−O−、−CH(ハロゲン)−、−CH(CN)−、−CH=CH−または−C≡C−によって置き換えられていてもよく、但し2個のO原子が互いに隣接せず、2つの−CH=CH−基が互いに隣接しており、−O−CO−、−S−CO−、−O−COO−、−CO−S−、−CO−O−および−CH=CH−から選択された2つの基が互いに隣接しないようになされ、好ましくはnが整数である(−CH−(つまりn個のC原子を有する1,n−アルキレン)であり、
    11およびX12は、互いに独立して、−CO−、−CO−O−、−O−CO−、−O−、−CH=CH−、−C≡C−、−CO−S−、−S−CO−、−CS−S−、−S−、−CF−、−CF−O−、−O−CF−および単結合から選択される結合基であり、
    しかしながら、−X11−Sp−X12−における条件の下で、2個のO原子は互いに隣接しておらず、2つの−CH=CH−基は互いに隣接しており、−O−CO−、−S−CO−、−O−CO−O−、−CO−S−、−CO−O−、−CF−O−、−O−CF−および−CH=CH−から選択された2つの基は、互いに隣接していない、
    で表されるビメソゲン化合物。
  2. MG11およびMG12の少なくとも1つが1つの融合環構造、2つ以上の融合環構造を含み、当該融合環構造または融合環構造の少なくとも一部が特性において芳香族であることを特徴とする、請求項1に記載のビメソゲン化合物。
  3. MG11およびMG12の両方が好ましくは−CO−O−、−O−CO−、−O−CH−、−CH−O−、−CF−O−、−O−CF−、−C≡C−、−CH=CH−、−CF=CF−および−CHF=CHF−から選択された1個、2個または3個の原子のスペーサーによって結合した1つ、2つまたはそれ以上の環構造を含むことを特徴とする、請求項1または2に記載のビメソゲン化合物。
  4. 12がOCF、CF、F、Cl、CNおよびNOから選択されることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一項に記載のビメソゲン化合物。
  5. Spが−(CH−であり、oが1、3または5〜15の整数であることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか一項に記載のビメソゲン化合物。
  6. 請求項1〜5のいずれか一項に記載の1種以上のビメソゲン化合物の液晶媒体における使用。
  7. 請求項1〜5の少なくともいずれか一項に記載の1種以上のビメソゲン化合物を含むことを特徴とする、液晶媒体。
  8. さらに、式III

    31−MG31−X31−Sp−X32−MG32−R32 III

    式中
    31およびR32は互いに独立して、H、F、Cl、CN、NCS、または非置換であってもよいか、ハロゲンまたはCNにより単置換または多置換されていてもよい1〜25個のC原子を有する直鎖または分枝のアルキル基であって、これは、1つ以上の非隣接CH基がそれぞれの場合において互いに独立して−O−、−S−、−NH−、−N(CH)−、−CO−、−COO−、−OCO−、−O−CO−O−、−S−CO−、−CO−S−、−CH=CH−、−CH=CF−、−CF=CF−または−C≡C−により酸素原子が互いへと結合しないように置き換えられていることが可能であり、
    MG31およびMG32は互いに独立して、メソゲン基であり、
    Spは、5〜40個のC原子を含むスペーサー基であり、ここで1つ以上の非隣接CH基はまた、−O−、−S−、−NH−、−N(CH)−、−CO−、−O−CO−、−S−CO−、−O−COO−、−CO−S−、−CO−O−、−CH(ハロゲン)−、−CH(CN)−、−CH=CH−または−C≡C−により置き換えられていてもよく、
    31およびX32は互いに独立して、−O−、−S−、−CO−、−COO−、−OCO−、−O−CO−O−、−CO−NH−、−NH−CO−、−CHCH−、−OCH−、−CHO−、−SCH−、−CHS−、−CH=CH−、−CH=CH−COO−、−OCO−CH=CH−、−C≡C−または単結合であり、および
    式Iで表される化合物は除外されるという条件を伴う、
    で表される化合物の群から選択された1種以上の化合物を含むことを特徴とする、請求項7に記載の液晶媒体。
  9. 液晶デバイスにおける、請求項7または8に記載の液晶媒体の使用。
  10. 2つ以上の成分であって、この1つ以上が請求項1〜5のいずれか一項に記載の式Iで表されるビメソゲン化合物である該成分を含む、液晶媒体を含む、液晶デバイス。
  11. フレキソエレクトリックデバイスであることを特徴とする、請求項10に記載の液晶デバイス。
JP2017502616A 2014-07-17 2015-06-19 ビメソゲン化合物およびメソゲン媒体 Pending JP2017528429A (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP14002472.0 2014-07-17
EP14002472 2014-07-17
PCT/EP2015/001247 WO2016008561A1 (en) 2014-07-17 2015-06-19 Bimesogenic compounds and mesogenic media

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2017528429A true JP2017528429A (ja) 2017-09-28

Family

ID=51211491

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017502616A Pending JP2017528429A (ja) 2014-07-17 2015-06-19 ビメソゲン化合物およびメソゲン媒体

Country Status (7)

Country Link
US (1) US10450508B2 (ja)
EP (1) EP3169749B1 (ja)
JP (1) JP2017528429A (ja)
KR (1) KR20170036713A (ja)
CN (1) CN106574183A (ja)
TW (1) TWI662108B (ja)
WO (1) WO2016008561A1 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7464204B1 (ja) 2022-12-20 2024-04-09 Dic株式会社 化合物並びにこれを用いた液晶組成物、液晶表示素子、センサ、液晶レンズ、光通信機器及びアンテナ
WO2024134973A1 (ja) * 2022-12-20 2024-06-27 Dic株式会社 化合物並びにこれを用いた液晶組成物、液晶表示素子、センサ、液晶レンズ、光通信機器及びアンテナ

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109072078A (zh) * 2016-05-12 2018-12-21 默克专利股份有限公司 双介晶化合物和介晶介质
CN111263800A (zh) * 2017-10-25 2020-06-09 默克专利股份有限公司 液晶介质及液晶装置
DE112018005688T5 (de) * 2017-10-25 2020-07-09 Merck Patent Gmbh Flüssigkristallmedium und flüssigkristallvorrichtung
DE102017223689B4 (de) * 2017-12-22 2024-06-13 Infineon Technologies Ag Halbleitervorrichtungen mit Hochfrequenzleitungselementen und zugehörige Herstellungsverfahren

Citations (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06256231A (ja) * 1993-01-08 1994-09-13 Canon Inc 液晶性化合物、それを含む液晶組成物、及びこれを用いた液晶素子
JPH06321902A (ja) * 1993-05-17 1994-11-22 Otsuka Chem Co Ltd 抗菌活性を有する第四級アンモニウム塩化合物及びその製造法
JPH07118178A (ja) * 1993-08-31 1995-05-09 Canon Inc 液晶性化合物、それを含む液晶組成物、該液晶組成物を用いた液晶素子、液晶装置、並びに表示方法
JPH08217728A (ja) * 1994-12-16 1996-08-27 Showa Shell Sekiyu Kk 二量体型光学活性化合物
GB2356629A (en) * 1999-10-04 2001-05-30 Merck Patent Gmbh Bimesogenic compounds and their use in flexoelectric liquid crystal devices
JP2001516762A (ja) * 1997-09-15 2001-10-02 ザ ダウ ケミカル カンパニー 2金属性錯体及びそれから得られる重合触媒
JP2004002341A (ja) * 2002-04-09 2004-01-08 Chisso Corp 末端基の一つが水素である液晶性化合物、その組成物およびこれを含有する液晶表示素子
JP2004189987A (ja) * 2002-12-13 2004-07-08 Mitsui Chemicals Inc 液晶組成物および液晶素子
JP2004196900A (ja) * 2002-12-17 2004-07-15 Mitsui Chemicals Inc 液晶組成物および液晶素子
JP2006063205A (ja) * 2004-08-27 2006-03-09 Dainippon Ink & Chem Inc トリフルオロナフタレン誘導体を含有する液晶組成物と表示素子及び液晶性化合物、その製造法と製造中間体
JP2006307086A (ja) * 2005-04-28 2006-11-09 Kanto Chem Co Inc ポリカルバゾール誘導体
JP2007513175A (ja) * 2003-12-05 2007-05-24 ザ ユニバーシティ オブ ノース カロライナ アット チャペル ヒル 抗菌剤としてのカチオンで置換されたベンゾフラン
JP2008260846A (ja) * 2007-04-12 2008-10-30 National Institute Of Advanced Industrial & Technology 光反応性液晶性モノマー及びそれを用いた主鎖型液晶ポリマーの製造方法
JP2009067780A (ja) * 2007-08-22 2009-04-02 Chisso Corp クロロナフタレン部位を有する液晶化合物、液晶組成物および光素子
KR20110120845A (ko) * 2010-04-29 2011-11-04 한국생산기술연구원 새로운 열경화성 시아네이트 수지, 및 이의 제조방법
JP2012045864A (ja) * 2010-08-27 2012-03-08 National Institute Of Advanced Industrial Science & Technology 液晶ポリマーを利用した光情報記録媒体、光情報記録方法および光情報記録媒体の製造方法
JP2012255011A (ja) * 2012-08-10 2012-12-27 Dic Corp 2−フルオロナフタレン誘導体である新規液晶性化合物とそれを含有する液晶組成物
JP2013003409A (ja) * 2011-06-17 2013-01-07 Teijin Ltd 多層延伸フィルム
WO2013004333A1 (en) * 2011-07-05 2013-01-10 Merck Patent Gmbh Bimesogenic compounds
JP2015151383A (ja) * 2014-02-18 2015-08-24 Dic株式会社 重合性化合物及び光学異方体

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3649696A (en) * 1968-05-16 1972-03-14 American Cyanamid Co New photochromic compounds (oxy and oxyalkylene bridges)
JPS62167081A (ja) * 1986-01-18 1987-07-23 Ricoh Co Ltd 感熱転写媒体
JPH0818178A (ja) 1994-07-04 1996-01-19 Hitachi Chem Co Ltd 高周波回路用基板の製造方法
GB0225662D0 (en) * 2001-11-16 2002-12-11 Merck Patent Gmbh Liquid crystalline medium and liquid crystal display
TWI306114B (en) 2002-04-09 2009-02-11 Chisso Corp Liquid cryatal compound having one terminal group being hydrogen atom, liquid crystal composition containing the same, and lcd device using the liquid crystal composition
EP1477547B1 (en) * 2003-05-09 2006-06-14 MERCK PATENT GmbH Liquid crystalline medium and liquid crystal display
TWI329214B (en) * 2003-12-18 2010-08-21 Sharp Kk Display element and display device, driving method of display element, and program
GB0402006D0 (en) * 2004-01-30 2004-03-03 Dow Corning Ltd Liquid crystal materials
KR101257119B1 (ko) * 2004-12-23 2013-04-22 메르크 파텐트 게엠베하 바이메소제닉 화합물 및 플렉소일렉트릭 장치
KR101547358B1 (ko) * 2006-06-09 2015-08-25 메르크 파텐트 게엠베하 액정 매질 및 액정 디스플레이
CN104364347B (zh) * 2012-05-25 2017-12-01 默克专利股份有限公司 双介晶化合物和介晶介质
WO2014005671A1 (en) * 2012-07-06 2014-01-09 Merck Patent Gmbh Bimesogenic compounds and mesogenic media
JP6523953B2 (ja) * 2012-07-06 2019-06-05 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングMerck Patent Gesellschaft mit beschraenkter Haftung ビメソゲン化合物およびメソゲン媒体
KR20150052136A (ko) * 2012-08-29 2015-05-13 메르크 파텐트 게엠베하 바이메소제닉 화합물 및 메소제닉 매질
WO2014090372A1 (en) * 2012-12-10 2014-06-19 Merck Patent Gmbh Bimesogenic compounds and mesogenic media
US20160222293A1 (en) * 2013-09-12 2016-08-04 Merck Patent Gmbh Mesogenic compounds and mesogenic media
JP6702872B2 (ja) * 2013-12-23 2020-06-03 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングMerck Patent Gesellschaft mit beschraenkter Haftung ビメソゲン化合物およびメソゲン媒体

Patent Citations (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06256231A (ja) * 1993-01-08 1994-09-13 Canon Inc 液晶性化合物、それを含む液晶組成物、及びこれを用いた液晶素子
JPH06321902A (ja) * 1993-05-17 1994-11-22 Otsuka Chem Co Ltd 抗菌活性を有する第四級アンモニウム塩化合物及びその製造法
JPH07118178A (ja) * 1993-08-31 1995-05-09 Canon Inc 液晶性化合物、それを含む液晶組成物、該液晶組成物を用いた液晶素子、液晶装置、並びに表示方法
JPH08217728A (ja) * 1994-12-16 1996-08-27 Showa Shell Sekiyu Kk 二量体型光学活性化合物
JP2001516762A (ja) * 1997-09-15 2001-10-02 ザ ダウ ケミカル カンパニー 2金属性錯体及びそれから得られる重合触媒
GB2356629A (en) * 1999-10-04 2001-05-30 Merck Patent Gmbh Bimesogenic compounds and their use in flexoelectric liquid crystal devices
JP2004002341A (ja) * 2002-04-09 2004-01-08 Chisso Corp 末端基の一つが水素である液晶性化合物、その組成物およびこれを含有する液晶表示素子
JP2004189987A (ja) * 2002-12-13 2004-07-08 Mitsui Chemicals Inc 液晶組成物および液晶素子
JP2004196900A (ja) * 2002-12-17 2004-07-15 Mitsui Chemicals Inc 液晶組成物および液晶素子
JP2007513175A (ja) * 2003-12-05 2007-05-24 ザ ユニバーシティ オブ ノース カロライナ アット チャペル ヒル 抗菌剤としてのカチオンで置換されたベンゾフラン
JP2006063205A (ja) * 2004-08-27 2006-03-09 Dainippon Ink & Chem Inc トリフルオロナフタレン誘導体を含有する液晶組成物と表示素子及び液晶性化合物、その製造法と製造中間体
JP2006307086A (ja) * 2005-04-28 2006-11-09 Kanto Chem Co Inc ポリカルバゾール誘導体
JP2008260846A (ja) * 2007-04-12 2008-10-30 National Institute Of Advanced Industrial & Technology 光反応性液晶性モノマー及びそれを用いた主鎖型液晶ポリマーの製造方法
JP2009067780A (ja) * 2007-08-22 2009-04-02 Chisso Corp クロロナフタレン部位を有する液晶化合物、液晶組成物および光素子
KR20110120845A (ko) * 2010-04-29 2011-11-04 한국생산기술연구원 새로운 열경화성 시아네이트 수지, 및 이의 제조방법
JP2012045864A (ja) * 2010-08-27 2012-03-08 National Institute Of Advanced Industrial Science & Technology 液晶ポリマーを利用した光情報記録媒体、光情報記録方法および光情報記録媒体の製造方法
JP2013003409A (ja) * 2011-06-17 2013-01-07 Teijin Ltd 多層延伸フィルム
WO2013004333A1 (en) * 2011-07-05 2013-01-10 Merck Patent Gmbh Bimesogenic compounds
JP2012255011A (ja) * 2012-08-10 2012-12-27 Dic Corp 2−フルオロナフタレン誘導体である新規液晶性化合物とそれを含有する液晶組成物
JP2015151383A (ja) * 2014-02-18 2015-08-24 Dic株式会社 重合性化合物及び光学異方体

Non-Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
CHENG, ZIHUI; LI, KEXUAN; WANG, FEIFEI; WU, XIAOJUAN; CHEN, XIAOFANG; XIAO, JIUMEI; ZHANG, HAIQUAN;: "Influence of linkage and terminal group on the liquid crystalline and helical twisting behaviors of", LIQUID CRYSTALS, vol. 38(7), JPN6019009553, 2011, GB, pages 803 - 812, ISSN: 0004320825 *
DATABASE REGISTRY, JPN7019003714, 2008, ISSN: 0004320829 *
DATABASE REGISTRY, JPN7019003715, 2005, ISSN: 0004320830 *
DATABASE REGISTRY, JPN7019003716, 2002, ISSN: 0004320831 *
DATABASE REGISTRY, JPN7019003717, 2002, ISSN: 0004320832 *
DIETRICH DEMUS AND HORST ZASCHKE, FLUSSIGE KRISTALLE IN TABELLEN II, JPN6019009555, 1984, DE, pages 70 - 74, ISSN: 0004320826 *
JOURNAL OF THE AMERICAN CHEMICAL SOCIETY, vol. 120, JPN6019044864, 1998, pages 2198 - 2199, ISSN: 0004320833 *
JOURNAL OF THE CHEMICAL SOCIETY, JPN6020028772, 1948, pages 261 - 264, ISSN: 0004460419 *
MORI, TAKESHI; KIJIMA, MASASHI: "Blue luminescent naphthalene-based liquid crystals", CHEMISTRY LETTERS, vol. 36(6), JPN6019009547, 2007, JP, pages 710 - 711, ISSN: 0004320827 *
MORI, TAKESHI; KIJIMA, MASASHI: "Synthesis and Optical Properties of Luminescent Naphthalene-based Liquid Crystals", MOLECULAR CRYSTALS AND LIQUID CRYSTALS, vol. 489, JPN6019009550, 2008, GB, pages 246 - 256, ISSN: 0004320828 *

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7464204B1 (ja) 2022-12-20 2024-04-09 Dic株式会社 化合物並びにこれを用いた液晶組成物、液晶表示素子、センサ、液晶レンズ、光通信機器及びアンテナ
WO2024134973A1 (ja) * 2022-12-20 2024-06-27 Dic株式会社 化合物並びにこれを用いた液晶組成物、液晶表示素子、センサ、液晶レンズ、光通信機器及びアンテナ

Also Published As

Publication number Publication date
CN106574183A (zh) 2017-04-19
KR20170036713A (ko) 2017-04-03
WO2016008561A1 (en) 2016-01-21
TWI662108B (zh) 2019-06-11
US20170210990A1 (en) 2017-07-27
EP3169749A1 (en) 2017-05-24
EP3169749B1 (en) 2018-12-26
US10450508B2 (en) 2019-10-22
TW201617438A (zh) 2016-05-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6600255B2 (ja) ビメソゲン化合物およびメソゲン媒体
JP6134314B2 (ja) ビメソゲン化合物
JP6523953B2 (ja) ビメソゲン化合物およびメソゲン媒体
JP6240171B2 (ja) メソゲン媒体および液晶ディスプレイ
JP6657088B2 (ja) メソゲン媒体および液晶ディスプレイ
JP6523952B2 (ja) ビメソゲン化合物およびメソゲン媒体
JP6360057B2 (ja) ビメソゲン化合物およびメソゲン媒体
JP6523951B2 (ja) ビメソゲン化合物およびメソゲン媒体
JP6419713B2 (ja) ビメソゲン化合物およびメソゲン媒体
JP6463363B2 (ja) メソゲン化合物およびメソゲン媒体
JP2017535646A (ja) ビメソゲン化合物及びメソゲン媒体
TWI691585B (zh) 雙液晶原化合物及液晶原介質
EP3169749B1 (en) Bimesogenic compounds and mesogenic media
JP6841759B2 (ja) ビメソゲン化合物およびメソゲン性媒体
JP6702872B2 (ja) ビメソゲン化合物およびメソゲン媒体
JP6441323B2 (ja) 化合物およびメソゲン媒体
JP2018501248A (ja) ビメソゲン化合物およびメソゲン性媒体
JP2018505143A (ja) ビメソゲン化合物およびメソゲン性媒体
JP6513664B2 (ja) ビメソゲン化合物およびメソゲン媒体
JP2019502789A (ja) 液晶媒体および液晶デバイス

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20180618

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20190228

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20190318

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20190617

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20191120

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20200217

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20200806

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20210308