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JP2017216897A - Cultivation container-holding tray and cultivation system - Google Patents

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JP2017216897A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve a heat transfer rate to a cultivation container in controlling a root zone temperature using a temperature control floor.SOLUTION: A cultivation container-holding tray 1 has: a heat insulation panel 2 having a through hole 2a capable of holding the bottom of a pot X in an exposed state; and a metal foil 3 formed from the bottom 2d of the heat insulation panel 2 to a contact surface 2b that comes into contact with a peripheral surface X2 of the pot X of the through hole 2a.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、栽培容器保持トレイ及び栽培システムに関するものである。   The present invention relates to a cultivation container holding tray and a cultivation system.

植物の根の部分(以下、根域と称する)の温度を調整することにより、植物の地上部の生育や開花を制御可能であることが知られている。根域温度の調整装置としては、例えば、特許文献1に開示されている。このような特許文献1に開示された根域温度の調整装置は、土壌を詰めた鉢(栽培容器)を恒温水槽内に浸漬させることにより、根域の温度調整を行っている。   It is known that the growth and flowering of the above-ground part of a plant can be controlled by adjusting the temperature of the root part of the plant (hereinafter referred to as the root area). For example, Patent Document 1 discloses an apparatus for adjusting the root zone temperature. Such an apparatus for adjusting the root zone temperature disclosed in Patent Document 1 adjusts the temperature of the root zone by immersing a pot (cultivation container) filled with soil in a thermostatic water tank.

実開昭62−105511号公報Japanese Utility Model Publication No. 62-105511

しかしながら、特許文献1に開示された装置では、鉢を単独で恒温水槽に浸漬する方法を採用しているため、同時に多数の鉢を収容したり運搬したりすることができない。また、特許文献1に開示された鉢を恒温水槽に浸漬し、恒温水槽から鉢に灌水を行う構成となっている。この場合、灌水と根域の温度調整とを別個に制御することができない。さらに、一般的な植物栽培施設では、頭上から鉢に対して灌水する構成を採用していることから、特許文献1に開示された装置は、既存の植物栽培施設で導入し難い。   However, since the apparatus disclosed in Patent Document 1 employs a method of immersing a pot in a constant temperature water tank alone, it is impossible to accommodate and transport a large number of bowls at the same time. Moreover, it is the structure which immerses the pot disclosed by patent document 1 in a constant temperature water tank, and waters a pot from a constant temperature water tank. In this case, irrigation and temperature adjustment of the root zone cannot be controlled separately. Furthermore, since a general plant cultivation facility employs a structure that irrigates the bowl from the overhead, the device disclosed in Patent Document 1 is difficult to introduce in an existing plant cultivation facility.

このような特許文献1に開示された装置の問題点を解決する方法としては、断熱材により形成されると共に多数の鉢を保持可能なトレイを配置し、このトレイの下方に温調床部を設置する構成が考えられる。このような構成によれば、トレイが複数の鉢を保持可能とされているため、トレイにより多数の鉢を収容でき、かつ、トレイを移動させることにより多数の鉢を同時に移動させることができる。また、トレイが断熱材により形成されていることから鉢が外気温の影響を受けにくく、根域の温度を正確に調整しやすい。さらに、温調床部により根域の温度調整を行うため、鉢への灌水作業は温度調整とは別に頭上から行うことが可能となる。   As a method for solving the problems of the apparatus disclosed in Patent Document 1, a tray formed of a heat insulating material and capable of holding a large number of bowls is disposed, and a temperature control floor portion is provided below the tray. A configuration to install is conceivable. According to such a configuration, since the tray can hold a plurality of bowls, a large number of bowls can be accommodated by the tray, and a large number of bowls can be moved simultaneously by moving the tray. Moreover, since the tray is formed of a heat insulating material, the bowl is not easily affected by the outside air temperature, and the temperature of the root zone is easily adjusted accurately. Furthermore, since the temperature of the root zone is adjusted by the temperature control floor, it is possible to perform irrigation work on the pot from the overhead separately from the temperature adjustment.

ただし、このような温調床部を用いる構成では、温調床部と鉢との間の熱移動を鉢の底部のみから行うことになる。このため、熱の伝達効率が悪く、根域の温度調整に多くのエネルギが必要となる。近年の環境意識の高まりから、エネルギ消費量を可能な限り抑えることが望ましく、温調床部を採用する栽培システムにおいて、熱伝達率を向上させる必要がある。   However, in the configuration using such a temperature control floor, heat transfer between the temperature control floor and the bowl is performed only from the bottom of the bowl. For this reason, heat transfer efficiency is poor, and a lot of energy is required for temperature adjustment of the root zone. Due to the recent increase in environmental awareness, it is desirable to reduce energy consumption as much as possible, and it is necessary to improve the heat transfer rate in a cultivation system that employs a temperature-controlled floor.

本発明は、上述する問題点に鑑みてなされたもので、温調床部を用いて根域温度の調整を行うに当たり、栽培容器への熱伝達率を向上させることを目的とする。   This invention was made | formed in view of the problem mentioned above, and when adjusting root zone temperature using a temperature control floor part, it aims at improving the heat transfer rate to a cultivation container.

本発明は、上記課題を解決するための手段として、以下の構成を採用する。   The present invention adopts the following configuration as means for solving the above-described problems.

第1の発明は、栽培容器保持トレイであって、栽培容器の底部を露出状態で保持可能である保持部を有する断熱パネルと、上記断熱パネルの底面から上記保持部の上記栽培容器の側面と当接する当接面に至って形成される熱伝導部とを有するという構成を採用する。   1st invention is a cultivation container holding tray, Comprising: The heat insulation panel which has a holding part which can hold | maintain the bottom part of a cultivation container in an exposed state, The side surface of the said cultivation container of the said holding part from the bottom face of the said heat insulation panel, A configuration is adopted in which a heat conducting portion formed so as to reach the abutting surface that abuts is employed.

第2の発明は、上記第1の発明において、上記熱伝導部が、上記断熱パネルの底面から上記保持部の当接面に至る全域にて上記断熱パネルの表面に沿って形成されているという構成を採用する。   According to a second invention, in the first invention, the heat conducting portion is formed along the surface of the heat insulating panel over the entire area from the bottom surface of the heat insulating panel to the contact surface of the holding portion. Adopt the configuration.

第3の発明は、上記第1または第2の発明において、上記保持部が、上記断熱パネルの上面から上記底面に貫通すると共に、上記断熱パネルの上面から上記底面に向けて縮径することにより上記当接面がテーパ面とされた貫通孔であるという構成を採用する。   According to a third invention, in the first or second invention, the holding portion penetrates from the top surface of the heat insulation panel to the bottom surface and is reduced in diameter from the top surface of the heat insulation panel to the bottom surface. A configuration is adopted in which the contact surface is a through hole having a tapered surface.

第4の発明は、上記第1〜第3いずれかの発明において、上記断熱パネルが、上記保持部を複数有するという構成を採用する。   According to a fourth aspect of the present invention, in any one of the first to third aspects, the heat insulating panel includes a plurality of the holding portions.

第5の発明は、栽培システムであって、上記第1〜第4いずれかの栽培容器保持トレイと、上記栽培容器保持トレイの下方に配置されると共に温度調整可能な温調床部とを有するという構成を採用する。   5th invention is a cultivation system, Comprising: It has the cultivation container holding tray in any one of the said 1st-4th, and the temperature control floor part which can be temperature-adjusted while arrange | positioning under the said cultivation container holding tray. The configuration is adopted.

本発明の栽培容器保持トレイは、栽培容器の底部を露出状態で保持する断熱パネルの底面から栽培容器の側面と当接する当接面に至る熱伝導部を備えている。このため、熱伝導部によって、断熱パネルの底面と栽培容器の側面との間において伝達される単位時間当たりの熱量を増加させることができる。したがって、本発明の栽培容器保持トレイを温調床部の上方に配置した場合には、熱伝導部により温調床部と栽培容器との間において伝達される単位時間当たりの熱量を増加させることができる。よって、本発明によれば、温調床部を用いて根域温度の調整を行うに当たり、栽培容器への熱伝達率を向上させることが可能となる。   The cultivation container holding tray of the present invention includes a heat conducting portion that extends from the bottom surface of the heat insulating panel that holds the bottom of the cultivation container in an exposed state to the contact surface that contacts the side surface of the cultivation container. For this reason, the calorie | heat amount per unit time transmitted between the bottom face of a heat insulation panel and the side surface of a cultivation container can be made to increase by a heat conductive part. Therefore, when the cultivation container holding tray of the present invention is arranged above the temperature control floor part, the amount of heat per unit time transmitted between the temperature control floor part and the cultivation container by the heat conduction part is increased. Can do. Therefore, according to this invention, in adjusting root zone temperature using a temperature control floor part, it becomes possible to improve the heat transfer rate to a cultivation container.

本発明の一実施形態における栽培容器保持トレイの斜視図である。It is a perspective view of the cultivation container holding tray in one embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態における栽培容器保持トレイの縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view of the cultivation container holding tray in one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態における栽培容器保持トレイを備える栽培システムの概略構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows schematic structure of a cultivation system provided with the cultivation container holding tray in one Embodiment of this invention. 冬場において、室内と根域との設定温度の条件を変更した場合における、経過時間と実際の根域温度との関係を示すグラフである。It is a graph which shows the relationship between elapsed time and actual root zone temperature when the conditions of the preset temperature of a room and a root zone are changed in winter. 夏場において、根域の設定温度の条件を変更した場合における、経過時間と実際の根域温度との関係を示すグラフである。It is a graph which shows the relationship between elapsed time and actual root zone temperature when the conditions of the root zone preset temperature are changed in summer. 夏場の根域の設定温度の条件を変更した場合における、プリムラの開花率を示すグラフである。It is a graph which shows the flowering rate of a primula at the time of changing the conditions of the setting temperature of the root area of summer.

以下、図面を参照して、本発明に係る栽培容器保持トレイ及び栽培システムの一実施形態について説明する。なお、以下の図面において、各部材を認識可能な大きさとするために、各部材の縮尺を適宜変更している。   Hereinafter, an embodiment of a cultivation container holding tray and a cultivation system according to the present invention will be described with reference to the drawings. In the following drawings, the scale of each member is appropriately changed in order to make each member a recognizable size.

図1は、本実施形態の栽培容器保持トレイ1の斜視図である。また、図2は、本実施形態の栽培容器保持トレイ1の縦断面図である。なお、図2は、図1に示すA−A線で切断した断面図である。本実施形態の栽培容器保持トレイ1は、複数の鉢X(栽培容器)を保持するものであり、図1及び図2に示すように、断熱パネル2と、金属箔3(熱伝導部)とを備えている。   FIG. 1 is a perspective view of the cultivation container holding tray 1 of the present embodiment. Moreover, FIG. 2 is a longitudinal cross-sectional view of the cultivation container holding tray 1 of this embodiment. 2 is a cross-sectional view taken along line AA shown in FIG. The cultivation container holding tray 1 of the present embodiment holds a plurality of pots X (cultivation containers), and as shown in FIGS. 1 and 2, a heat insulating panel 2, a metal foil 3 (heat conduction part), and It has.

断熱パネル2は、断熱材から形成されるブロック状の部材である。この断熱パネル2の厚さ寸法hは、保持する鉢Xの高さ寸法に応じて設定されている。本実施形態においては、断熱パネルの厚さ寸法hは、鉢Xの高さ寸法と一致するように設定されている。また、断熱パネル2の幅寸法w及び奥行寸法dは、断熱パネル2の幅方向及び奥行方向に配列される鉢Xの数に応じて設定されている。本実施形態においては、断熱パネル2の幅方向に3つの鉢Xが配列されるため、断熱パネル2の幅寸法wは、鉢Xが3つ配列可能な寸法に設定されている。また、本実施形態においては、断熱パネル2の奥行方向に5つの鉢Xが配列されるため、断熱パネル2の奥行寸法dは、鉢Xが5つ配列可能な寸法に設定されている。   The heat insulation panel 2 is a block-shaped member formed from a heat insulating material. The thickness dimension h of the heat insulation panel 2 is set according to the height dimension of the pot X to be held. In the present embodiment, the thickness dimension h of the heat insulation panel is set to coincide with the height dimension of the bowl X. Moreover, the width dimension w and the depth dimension d of the heat insulation panel 2 are set according to the number of the bowls X arranged in the width direction and the depth direction of the heat insulation panel 2. In the present embodiment, since three bowls X are arranged in the width direction of the heat insulation panel 2, the width dimension w of the heat insulation panel 2 is set to a dimension that allows three bowls X to be arranged. Moreover, in this embodiment, since the five bowls X are arranged in the depth direction of the heat insulation panel 2, the depth dimension d of the heat insulation panel 2 is set to a dimension in which five bowls X can be arranged.

この断熱パネル2は、各々が鉢Xを収容かつ保持可能な貫通孔2a(保持部)を複数有している。各々の貫通孔2aは、断熱パネル2を上下に貫通しており、下端開口が上端開口よりも小径とされている。このような貫通孔2aの内壁面は、上端開口から下端開口に向けて窄まるテーパ面とされている。つまり、本実施形態において貫通孔2aは、下方に向けて窄まる略円錐形状とされている。   This heat insulation panel 2 has a plurality of through holes 2a (holding portions) each capable of containing and holding the bowl X. Each through-hole 2a penetrates the heat insulation panel 2 up and down, and the lower end opening has a smaller diameter than the upper end opening. The inner wall surface of such a through-hole 2a is a tapered surface that narrows from the upper end opening toward the lower end opening. That is, in the present embodiment, the through hole 2a has a substantially conical shape that narrows downward.

貫通孔2aの内壁面の鉛直軸に対する傾斜角度は、鉢Xの周面の鉛直軸に対する傾斜角度と略一致されている。また、貫通孔2aの上端開口の径は、鉢Xの上端縁の外径と略一致されている。また、貫通孔2aの下端開口の径は、鉢Xの下端縁の外径と略一致されている。このような貫通孔2aは、断熱パネル2の幅方向と奥行方向とに等間隔で配列されている。本実施形態においては、幅方向に3つ、奥行方向に5つの貫通孔が配置されている。すなわち、本実施形態においては、断熱パネル2は、合計で15個の貫通孔2aを有している。   The inclination angle of the inner wall surface of the through hole 2a with respect to the vertical axis is substantially the same as the inclination angle of the peripheral surface of the bowl X with respect to the vertical axis. Further, the diameter of the upper end opening of the through hole 2a is substantially the same as the outer diameter of the upper end edge of the bowl X. Moreover, the diameter of the lower end opening of the through hole 2a is substantially the same as the outer diameter of the lower end edge of the bowl X. Such through-holes 2a are arranged at equal intervals in the width direction and the depth direction of the heat insulation panel 2. In the present embodiment, three through holes are arranged in the width direction and five in the depth direction. That is, in this embodiment, the heat insulation panel 2 has a total of 15 through holes 2a.

各々の貫通孔2aに鉢Xが収容されると、鉢Xの底部X1が貫通孔2aの下端開口により露出された状態となる。また、貫通孔2aの内壁面(テーパ面)は、鉢Xの周面X2(側面)に当接される。すなわち、本実施形態においては、貫通孔2aの内壁面が鉢Xの周面X2との当接面2bとされている。   When the bowl X is accommodated in each through hole 2a, the bottom X1 of the bowl X is exposed by the lower end opening of the through hole 2a. Further, the inner wall surface (tapered surface) of the through hole 2a is brought into contact with the peripheral surface X2 (side surface) of the bowl X. That is, in this embodiment, the inner wall surface of the through-hole 2a is a contact surface 2b with the peripheral surface X2 of the bowl X.

このような断熱パネル2は、ポリスチレンフォーム(すなわち発泡スチロール)によって形成されている。なお、断熱パネル2の形成材料は、断熱パネル2に限られるものではなく、耐水性が高く、複数の鉢Xを保持可能な強度を有する発泡プラスチックを好適に用いることができる。例えば、硬質ポリウレタンフォーム、ポリエチレンフォーム、ポリプロピレンフォーム等を断熱パネル2の形成材料として用いることも可能である。   Such a heat insulation panel 2 is formed of polystyrene foam (that is, polystyrene foam). In addition, the formation material of the heat insulation panel 2 is not restricted to the heat insulation panel 2, The water-resistant high foamed plastic which has the intensity | strength which can hold | maintain the several bowl X can be used suitably. For example, rigid polyurethane foam, polyethylene foam, polypropylene foam or the like can be used as a material for forming the heat insulation panel 2.

このように、本実施形態の栽培容器保持トレイ1は、断熱パネル2の上面2cから底面2dに貫通すると共に、断熱パネル2の上面2cから底面2dに向けて縮径することにより当接面2bがテーパ面とされた貫通孔2aを複数有している。このような貫通孔2aに鉢Xを収容することにより、本実施形態の栽培容器保持トレイ1は、鉢Xを保持する。   Thus, the cultivation container holding tray 1 of this embodiment penetrates from the upper surface 2c of the heat insulation panel 2 to the bottom surface 2d, and reduces the diameter from the upper surface 2c of the heat insulation panel 2 toward the bottom surface 2d, thereby contacting the contact surface 2b. Has a plurality of through holes 2a each having a tapered surface. By accommodating the bowl X in such a through-hole 2a, the cultivation container holding tray 1 of this embodiment holds the bowl X.

金属箔3は、図2に示すように、断熱パネル2の底面2dから当接面2bに至って断熱パネル2の表面に沿って貼付された金属製の箔である。この金属箔3は、断熱パネル2よりも熱伝導率が高く、断熱パネル2の当接面2bと底面2dとの間での熱量の伝導速度を増加させる。このため、栽培容器保持トレイ1の下方に温調床部13を設置した場合には、金属箔3を通じて、温調床部13と鉢Xとの間の熱伝達率を向上させることができる。例えば、鉢Xの温度が温調床部13の温度よりも低い場合には、温調床部13から熱量が金属箔3を通じて鉢Xの周面X2に伝達される。一方、鉢Xの温度が温調床部13よりも高い場合には、鉢Xから熱量が金属箔3を通じて温調床部13に伝達される。   As shown in FIG. 2, the metal foil 3 is a metal foil attached along the surface of the heat insulating panel 2 from the bottom surface 2 d of the heat insulating panel 2 to the contact surface 2 b. The metal foil 3 has a higher thermal conductivity than the heat insulating panel 2 and increases the conduction rate of the amount of heat between the contact surface 2b and the bottom surface 2d of the heat insulating panel 2. For this reason, when the temperature control floor 13 is installed below the cultivation container holding tray 1, the heat transfer rate between the temperature control floor 13 and the pot X can be improved through the metal foil 3. For example, when the temperature of the bowl X is lower than the temperature of the temperature control floor 13, the amount of heat is transmitted from the temperature control floor 13 to the peripheral surface X 2 of the bowl X through the metal foil 3. On the other hand, when the temperature of the bowl X is higher than that of the temperature control floor portion 13, the amount of heat is transmitted from the pot X through the metal foil 3 to the temperature control floor portion 13.

このような金属箔3は、アルミニウム箔により形成されている。なお、金属箔3は、アルミ箔に限られるものではない。例えば、スズ箔や銅箔を金属箔3として用いることも可能である。また、金属箔3の厚さ寸法は特に限定されるものではないが、断熱パネル2の貫通孔2aによる鉢Xの保持に影響(ガタツキ等)を与えない程度の寸法であることが好ましい。例えば、金属箔3の厚さ寸法は0.2mm以下であることが好ましい。   Such a metal foil 3 is formed of an aluminum foil. The metal foil 3 is not limited to the aluminum foil. For example, tin foil or copper foil can be used as the metal foil 3. Moreover, the thickness dimension of the metal foil 3 is not particularly limited, but it is preferably a dimension that does not affect the holding of the bowl X by the through hole 2a of the heat insulating panel 2 (eg, rattling). For example, the thickness dimension of the metal foil 3 is preferably 0.2 mm or less.

以上のような本実施形態の栽培容器保持トレイ1によれば、鉢Xの底部X1を露出状態で保持する断熱パネル2の底面2dから鉢Xの周面X2と当接する当接面2bに至る金属箔3を備えている。このため、金属箔3によって、断熱パネル2の底面2dと鉢Xの周面X2との間において伝達される単位時間当たりの熱量を増加させることができる。したがって、本実施形態の栽培容器保持トレイ1を温調床部13の上方に配置した場合には、金属箔3により温調床部13と鉢Xとの間において伝達される単位時間当たりの熱量を増加させることができる。よって、本実施形態の栽培容器保持トレイ1によれば、温調床部13を用いて根域温度の調整を行うに当たり、鉢Xへの熱伝達率を向上させることが可能となる。   According to the cultivation container holding tray 1 of the present embodiment as described above, the bottom surface 2d of the heat insulating panel 2 that holds the bottom X1 of the pot X in an exposed state reaches the contact surface 2b that contacts the peripheral surface X2 of the pot X. A metal foil 3 is provided. For this reason, the amount of heat per unit time transmitted between the bottom surface 2d of the heat insulating panel 2 and the peripheral surface X2 of the bowl X can be increased by the metal foil 3. Therefore, when the cultivation container holding tray 1 of the present embodiment is disposed above the temperature control floor 13, the amount of heat per unit time transmitted between the temperature control floor 13 and the pot X by the metal foil 3. Can be increased. Therefore, according to the cultivation container holding tray 1 of the present embodiment, it is possible to improve the heat transfer rate to the pot X when adjusting the root zone temperature using the temperature control floor 13.

また、本実施形態の栽培容器保持トレイ1においては、金属箔3は、断熱パネル2の底面2dから貫通孔2aの当接面2bに至る全域にて断熱パネル2の表面に沿って形成されている。このため、本実施形態の栽培容器保持トレイ1によれば、断熱パネル2の表面に金属箔3を貼付するのみで製造することができる。   Moreover, in the cultivation container holding tray 1 of this embodiment, the metal foil 3 is formed along the surface of the heat insulation panel 2 in the whole region from the bottom face 2d of the heat insulation panel 2 to the contact surface 2b of the through hole 2a. Yes. For this reason, according to the cultivation container holding tray 1 of this embodiment, it can manufacture only by sticking the metal foil 3 on the surface of the heat insulation panel 2. FIG.

また、本実施形態の栽培容器保持トレイ1においては、鉢Xを保持する保持部として、断熱パネル2の上面2cから底面2dに貫通すると共に、断熱パネル2の上面2cから底面2dに向けて縮径することにより当接面2bがテーパ面とされた貫通孔2aを有している。このような構成の本実施形態の栽培容器保持トレイ1によれば、貫通孔2aに鉢Xを収容することにより、テーパ面である当接面2bが鉢Xの周面X2に当接され、鉢Xを保持することができる。したがって、本実施形態の栽培容器保持トレイ1によれば、簡易な構造で鉢Xを保持することが可能となる。   Moreover, in the cultivation container holding tray 1 of this embodiment, while being penetrated from the upper surface 2c of the heat insulation panel 2 to the bottom surface 2d as a holding part holding the pot X, it shrinks toward the bottom surface 2d from the upper surface 2c of the heat insulation panel 2. By having a diameter, the contact surface 2b has a through hole 2a having a tapered surface. According to the cultivation container holding tray 1 of this embodiment having such a configuration, the contact surface 2b which is a tapered surface is brought into contact with the peripheral surface X2 of the bowl X by accommodating the bowl X in the through hole 2a. The bowl X can be held. Therefore, according to the cultivation container holding tray 1 of this embodiment, it becomes possible to hold the pot X with a simple structure.

また、本実施形態の栽培容器保持トレイ1においては、断熱パネル2が複数の貫通孔2aを有している。このため、1つの栽培容器保持トレイ1によって複数の鉢Xを保持することができる。したがって、栽培容器保持トレイ1を移動させることによって、容易に複数の鉢Xを移動させることができる。   Moreover, in the cultivation container holding tray 1 of this embodiment, the heat insulation panel 2 has the several through-hole 2a. For this reason, a plurality of pots X can be held by one cultivation container holding tray 1. Therefore, the plurality of pots X can be easily moved by moving the cultivation container holding tray 1.

続いて、本実施形態の栽培容器保持トレイ1を備える栽培システム10について、図3を参照して説明する。   Then, the cultivation system 10 provided with the cultivation container holding tray 1 of this embodiment is demonstrated with reference to FIG.

図3は、栽培システム10の概略構成を示す模式図である。この図に示すように、栽培システム10は、ベンチ11と、断熱支持板12と、温調床部13と、温調水生成装置14と、複数の栽培容器保持トレイ1とを有している。   FIG. 3 is a schematic diagram illustrating a schematic configuration of the cultivation system 10. As shown to this figure, the cultivation system 10 has the bench 11, the heat insulation support plate 12, the temperature control floor part 13, the temperature control water production | generation apparatus 14, and the some cultivation container holding tray 1. As shown in FIG. .

ベンチ11は、断熱支持板12、温調床部13及び栽培容器保持トレイ1を直接あるいは間接的に支持する基台である。このベンチ11は、断熱支持板12が載置される平面視が矩形状の底部11aと、底部11aの縁部に立設される側壁11bとを有している。側壁11bは、矩形状の底部11aの四辺の全てに形成されており、図3に示すように、温調床部13や栽培容器保持トレイ1の下部を側方から囲う高さを有している。   The bench 11 is a base that directly or indirectly supports the heat insulating support plate 12, the temperature control floor 13, and the cultivation container holding tray 1. The bench 11 includes a bottom portion 11a having a rectangular shape in plan view on which the heat insulating support plate 12 is placed, and a side wall 11b standing on an edge of the bottom portion 11a. The side wall 11b is formed on all four sides of the rectangular bottom 11a, and has a height that surrounds the temperature control floor 13 and the lower part of the cultivation container holding tray 1 from the side as shown in FIG. Yes.

このベンチ11は、栽培容器保持トレイ1の断熱パネル2と同様に、断熱材により形成されている。例えば、ベンチ11は、ポリスチレンフォーム、硬質ポリウレタンフォーム、ポリエチレンフォーム、ポリプロピレンフォーム等の発泡プラスチックにより形成することができる。このようなベンチ11は、側壁11bにより囲まれた空間が外気温の影響を受けることを防止する。   This bench 11 is formed of a heat insulating material, similarly to the heat insulating panel 2 of the cultivation container holding tray 1. For example, the bench 11 can be formed of foamed plastic such as polystyrene foam, rigid polyurethane foam, polyethylene foam, and polypropylene foam. Such a bench 11 prevents the space surrounded by the side wall 11b from being affected by the outside air temperature.

断熱支持板12は、ベンチ11の底部11a上に載置されており、温調床部13を下方から支持する。この断熱支持板12は、温調床部13の高さ位置を調整している。このため、温調床部13の高さ位置を調整する必要がない場合には、省略することも可能である。このような断熱支持板12は、ベンチ11と同様に、ポリスチレンフォーム、硬質ポリウレタンフォーム、ポリエチレンフォーム、ポリプロピレンフォーム等の発泡プラスチックにより形成することができる。   The heat insulating support plate 12 is placed on the bottom 11a of the bench 11 and supports the temperature control floor 13 from below. The heat insulating support plate 12 adjusts the height position of the temperature control floor 13. For this reason, when it is not necessary to adjust the height position of the temperature control floor part 13, it is also possible to abbreviate | omit. Similar to the bench 11, the heat insulating support plate 12 can be formed of foamed plastic such as polystyrene foam, rigid polyurethane foam, polyethylene foam, and polypropylene foam.

温調床部13は、断熱支持板12上に載置されており、栽培容器保持トレイ1を下方から支持する。つまり、栽培システム10においては、栽培容器保持トレイ1の下方に温調床部13が配置されている。この温調床部13は、温調水生成装置14から供給される温調水Yの温度を変更することによって温度調整可能とされており、栽培容器保持トレイ1で保持された鉢X(すなわち根域)の温度調整を行う。このような温調床部13は、不図示の水管を有している。この水管に供給された温調水Yと栽培容器保持トレイ1に支持された鉢Xとが非接触にて熱交換されることによって、鉢Xの温度が調整される。例えば、冬場においては、温調床部13に温水が温調水Yとして供給されることによって、鉢Xが加温される。また、夏場においては、温調床部13に冷水が温調水Yとして供給されることによって、鉢Xが冷却される。   The temperature control floor 13 is placed on the heat insulating support plate 12 and supports the cultivation container holding tray 1 from below. That is, in the cultivation system 10, the temperature control floor 13 is disposed below the cultivation container holding tray 1. This temperature control floor 13 is temperature-adjustable by changing the temperature of the temperature control water Y supplied from the temperature control water production | generation apparatus 14, and is the pot X (namely, hold | maintained with the cultivation container holding tray 1). Adjust the temperature of the root zone. Such a temperature control floor 13 has a water pipe (not shown). The temperature of the pot X is adjusted by heat-exchanging the temperature-controlled water Y supplied to the water pipe and the pot X supported by the cultivation container holding tray 1 in a non-contact manner. For example, in winter, the pot X is heated by supplying warm water as the temperature control water Y to the temperature control floor 13. Moreover, in summer, the pot X is cooled by supplying cold water as the temperature control water Y to the temperature control floor 13.

温調水生成装置14は、温調床部13と接続されており、温調床部13から回収した温調水Yの温度を調整し、再び温調床部13に供給する。例えば、冬場であれば、温調水生成装置14は、鉢Xを加温することによって冷却された温調水Yを温調床部13から回収して加熱した後、再び温調床部13に供給する。また、夏場であれば、温調水生成装置14は、鉢Xを冷却することによって加熱された温調水Yを温調床部13から回収して冷却した後、再び温調床部13に供給する。   The temperature control water generation device 14 is connected to the temperature control floor unit 13, adjusts the temperature of the temperature control water Y collected from the temperature control floor unit 13, and supplies the temperature control water unit 13 to the temperature control floor unit 13 again. For example, in the winter season, the temperature adjustment water generation device 14 collects and heats the temperature adjustment water Y cooled by heating the pot X from the temperature adjustment floor portion 13, and then again adjusts the temperature adjustment floor portion 13. To supply. Moreover, if it is summer, the temperature control water production | generation apparatus 14 will collect | recover the temperature adjustment water Y heated by cooling the bowl X from the temperature adjustment floor part 13, it will cool, and will again be in the temperature adjustment floor part 13 here. Supply.

栽培容器保持トレイ1は、温調床部13上に載置されている。例えば、栽培容器保持トレイ1は、温調床部13上に縦横に隣接配置されて合計15個敷き詰められる。これらの栽培容器保持トレイ1は、図3に示すように少なくとも、植物の根の領域(根域)がベンチ11の側壁11bで囲まれた空間に収容されるように、下側半分が側壁11bの上端よりも下方となるように配置されている。なお、図3に示す栽培システム10においては、栽培容器保持トレイ1が温調床部13に直接的に載置されているが、栽培容器保持トレイ1と温調床部13との間に隙間を設けるようにしても良い。   The cultivation container holding tray 1 is placed on the temperature control floor 13. For example, a total of 15 cultivation container holding trays 1 are arranged adjacent to each other on the temperature control floor 13 in the vertical and horizontal directions. As shown in FIG. 3, these cultivation container holding trays 1 have a lower half on the side wall 11b so that at least a plant root region (root area) is accommodated in a space surrounded by the side wall 11b of the bench 11. It arrange | positions so that it may become lower than the upper end of. In the cultivation system 10 shown in FIG. 3, the cultivation container holding tray 1 is directly placed on the temperature control floor 13, but there is a gap between the cultivation container holding tray 1 and the temperature adjustment floor 13. May be provided.

なお、図3においては示されていないが、栽培システム10は、栽培容器保持トレイ1の上方に、鉢Xに対して灌水を行う給水設備を設けるようにしても良い。このような給水設備を設けることによって、多数の鉢Xに対する灌水作業を容易に行うことが可能となる。   Although not shown in FIG. 3, the cultivation system 10 may be provided with a water supply facility for irrigating the pot X above the cultivation container holding tray 1. By providing such a water supply facility, it becomes possible to easily perform irrigation work for a large number of pots X.

このような栽培システム10では、栽培容器保持トレイ1の断熱パネル2により、鉢Xが外部の温度の影響を受けない。一方で、鉢Xの下部は、温調床部13と直接あるいは金属箔3を通じて熱交換することにより、温調床部13の設定温度に応じた温度となる。したがって、栽培システム10によれば、鉢Xで育てられる植物の根域を栽培に適した温度に調節することが可能となる。   In such a cultivation system 10, the pot X is not affected by the external temperature by the heat insulating panel 2 of the cultivation container holding tray 1. On the other hand, the lower part of the bowl X becomes a temperature corresponding to the set temperature of the temperature control floor 13 by exchanging heat with the temperature control floor 13 directly or through the metal foil 3. Therefore, according to the cultivation system 10, it becomes possible to adjust the root area of the plant grown in the pot X to a temperature suitable for cultivation.

さらに、栽培システム10では、鉢Xを恒温水槽に浸漬することなく、植物の根域の温度調整を行うことができる。このため、鉢Xに対する灌水を根域の温度調整と別に行うことができる。したがって、栽培システム10によれば、植物の育成に適した灌水作業を根域の温度調整に影響を受けることなく行うことが可能となる。   Furthermore, in the cultivation system 10, the temperature of the root region of the plant can be adjusted without immersing the pot X in the thermostatic water tank. For this reason, watering with respect to the pot X can be performed separately from the temperature control of the root zone. Therefore, according to the cultivation system 10, it becomes possible to perform the irrigation work suitable for plant growth without being influenced by the temperature adjustment of the root region.

また、栽培システム10によれば、温度調整を行うのは根域のみであることから、植物を栽培する室内の全体を温度調整する場合と比較して、温度調整に必要となる消費エネルギを極めて低減させることが可能となる。   Moreover, according to the cultivation system 10, since it is only a root area that adjusts temperature, compared with the case where the whole room | chamber interior which grows a plant is temperature-controlled, the energy consumption required for temperature adjustment is extremely It can be reduced.

続いて、図4〜図6を参照して、本実施形態の栽培容器保持トレイ1を用いた栽培システム10によって、植物を実際に育てた場合の実施例について説明する。なお、本実施例では、プリムラを育成した。   Then, with reference to FIGS. 4-6, the Example at the time of actually growing a plant with the cultivation system 10 using the cultivation container holding tray 1 of this embodiment is demonstrated. In this example, primula was grown.

図4は、冬場において、室内と根域との設定温度の条件を変更した場合における、経過時間と実際の根域温度との関係を示すグラフである。図4において、グラフAは、室内温度を無加温とし、栽培システム10により根域温度を25℃に設定した場合の結果を示している。また、グラフBは、室内温度を12℃に設定して、栽培システム10により根域温度を24℃に設定した場合の結果を示している。また、グラフCは、栽培容器保持トレイ1及び栽培システム10を使用せずに、室内温度を15℃に設定した場合の結果を示している。なお、図4において、横軸が経過時間を示しており、横軸の一目盛りは1日に相当する。   FIG. 4 is a graph showing the relationship between the elapsed time and the actual root zone temperature when the set temperature conditions for the room and the root zone are changed in winter. In FIG. 4, graph A shows the result when the room temperature is not heated and the root zone temperature is set to 25 ° C. by the cultivation system 10. Moreover, the graph B has shown the result at the time of setting indoor temperature to 12 degreeC and setting root zone temperature to 24 degreeC by the cultivation system 10. FIG. Moreover, the graph C has shown the result at the time of setting indoor temperature to 15 degreeC, without using the cultivation container holding tray 1 and the cultivation system 10. FIG. In FIG. 4, the horizontal axis indicates elapsed time, and one scale on the horizontal axis corresponds to one day.

グラフCから明らかなように、栽培システム10を用いずに、根域温度の調整を行わない場合には、室内温度の調整を行っていても、根域温度が1日の間に大きく変動する。一方で、グラフAとグラフBとから明らかなように、栽培システム10を用いることによって、1日の間において根域温度が変動することを防止することができる。さらに、グラフAとグラフBとの比較から分かるように、栽培システム10を用いることで、室内温度の調整を行わなくても根域温度の変動を防止できることが分かる。このように、栽培システム10を用いることにより、室内温度の温度調整を行わずに根域温度を一定に保つことが可能であることが確認できた。   As is apparent from the graph C, when the root zone temperature is not adjusted without using the cultivation system 10, the root zone temperature varies greatly during the day even if the room temperature is adjusted. . On the other hand, as is clear from the graph A and the graph B, the root zone temperature can be prevented from changing during one day by using the cultivation system 10. Further, as can be seen from the comparison between the graph A and the graph B, it can be seen that by using the cultivation system 10, it is possible to prevent fluctuations in the root zone temperature without adjusting the room temperature. Thus, by using the cultivation system 10, it has been confirmed that the root zone temperature can be kept constant without adjusting the temperature of the room temperature.

図5は、夏場において、根域の設定温度の条件を変更した場合における、経過時間と実際の根域温度との関係を示すグラフである。図5において、グラフDは、栽培システム10によって根域温度を20℃に設定した場合の結果を示している。また、グラフEは、栽培システム10によって根域温度を23℃に設定した場合の結果を示している。また、グラフFは、栽培システム10によって根域温度を26℃に設定した場合の結果を示している。また、グラフGは、栽培容器保持トレイ1及び栽培システム10を使用しない場合の結果を示している。なお、図4において、横軸が経過時間を示しており、横軸の一目盛りは1日に相当する。   FIG. 5 is a graph showing the relationship between the elapsed time and the actual root zone temperature when the root zone set temperature condition is changed in summer. In FIG. 5, the graph D has shown the result at the time of setting root zone temperature to 20 degreeC by the cultivation system 10. FIG. Moreover, the graph E has shown the result at the time of setting root zone temperature to 23 degreeC by the cultivation system 10. FIG. Moreover, the graph F has shown the result at the time of setting root zone temperature to 26 degreeC by the cultivation system 10. FIG. Moreover, the graph G has shown the result when not using the cultivation container holding tray 1 and the cultivation system 10. FIG. In FIG. 4, the horizontal axis indicates elapsed time, and one scale on the horizontal axis corresponds to one day.

グラフGから明らかなように、栽培システム10を用いずに、根域温度の調整を行わない場合には、根域温度が1日の間に大きく変動する。一方で、グラフD〜Fから明らかなように、栽培システム10を用いた場合には、根域温度を設定温度の付近で安定させることができる。このように、栽培システム10を用いることにより、夏場であっても、根域温度を一定の温度に保つことが可能となる。   As is apparent from the graph G, when the root zone temperature is not adjusted without using the cultivation system 10, the root zone temperature varies greatly during one day. On the other hand, as is clear from the graphs D to F, when the cultivation system 10 is used, the root zone temperature can be stabilized in the vicinity of the set temperature. As described above, by using the cultivation system 10, the root zone temperature can be kept constant even in summer.

図6は、夏場の根域の設定温度の条件を変更した場合における、プリムラの開花率を示すグラフである。図6において、グラフHは、栽培システム10によって夏場の根域温度を20℃に設定した場合の結果を示している。また、グラフIは、栽培システム10によって夏場の根域温度を23℃に設定した場合の結果を示している。また、グラフJは、夏場に栽培容器保持トレイ1及び栽培システム10を使用しなかった場合の結果を示している。なお、図6において、横軸が経過時間を示しており、横軸の一目盛りは1週間に相当する。   FIG. 6 is a graph showing the flowering rate of primula when the condition of the set temperature of the root zone in summer is changed. In FIG. 6, the graph H has shown the result at the time of setting the root zone temperature of summer in the cultivation system 10 to 20 degreeC. Moreover, the graph I has shown the result at the time of setting the root zone temperature of summer in the cultivation system 10 to 23 degreeC. Moreover, the graph J has shown the result at the time of not using the cultivation container holding tray 1 and the cultivation system 10 in the summer. In FIG. 6, the horizontal axis indicates the elapsed time, and one scale on the horizontal axis corresponds to one week.

グラフH〜Jから明らかなように、夏場に栽培システム10によって根域温度の温度を一定に保持した場合には、栽培システム10を用いない場合と比較して開花率が非常に高くなることが確認された。さらに、グラフHとグラフIとから明らかなように、夏場における根域温度を低く保つことにより、開花率がより高くなることが分かった。   As is apparent from the graphs H to J, when the temperature of the root zone temperature is kept constant by the cultivation system 10 in the summer, the flowering rate may be very high compared to the case where the cultivation system 10 is not used. confirmed. Furthermore, as is clear from graph H and graph I, it was found that the flowering rate was increased by keeping the root zone temperature low in summer.

以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は、上記実施形態に限定されないことは言うまでもない。上述した実施形態において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の趣旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。   As mentioned above, although preferred embodiment of this invention was described referring an accompanying drawing, it cannot be overemphasized that this invention is not limited to the said embodiment. Various shapes, combinations, and the like of the constituent members shown in the above-described embodiments are examples, and various modifications can be made based on design requirements and the like without departing from the spirit of the present invention.

例えば、上記実施形態においては、本発明の熱伝導部として金属箔3を用いる構成を採用した。しかしながら、本発明はこれに限定されるものではなく、金属箔3よりも厚さ寸法が大きな金属板や金属ブロックを熱伝導部として備える構成を採用することも可能である。   For example, in the said embodiment, the structure which uses the metal foil 3 as a heat conductive part of this invention was employ | adopted. However, the present invention is not limited to this, and it is also possible to adopt a configuration in which a metal plate or metal block having a thickness dimension larger than that of the metal foil 3 is provided as the heat conducting portion.

また、上記実施形態においては、本発明の熱伝導部である金属箔3が断熱パネル2の表面に貼付された構成を採用した。しかしながら、本発明はこれに限定されるものではなく、熱伝導部が断熱パネル2の内部を貫通して断熱パネル2の底面2dから当接面2bに至るように形成された構成を採用することも可能である。   Moreover, in the said embodiment, the structure by which the metal foil 3 which is a heat conductive part of this invention was affixed on the surface of the heat insulation panel 2 was employ | adopted. However, the present invention is not limited to this, and adopts a configuration in which the heat conducting portion passes through the inside of the heat insulating panel 2 and extends from the bottom surface 2d of the heat insulating panel 2 to the contact surface 2b. Is also possible.

また、上記実施形態においては、温調床部13が温調水Yにより温度調整を行う構成について説明した。しかしながら、本発明はこれに限定されるものではなく、温調ガスにより温調床部13が温度調整を行う構成を採用することも可能である。   Moreover, in the said embodiment, the structure which the temperature control floor part 13 adjusts temperature with the temperature control water Y was demonstrated. However, the present invention is not limited to this, and it is also possible to adopt a configuration in which the temperature adjusting floor 13 adjusts the temperature with the temperature adjusting gas.

また、上記実施形態においては、本発明の保持部が貫通孔2aからなる構成について説明した。しかしながら、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、断熱パネル2がアーム部等を設け、当該アーム部を本発明の保持部として用いることも可能である。   Moreover, in the said embodiment, the holding | maintenance part of this invention demonstrated the structure which consists of the through-hole 2a. However, this invention is not limited to this, For example, the heat insulation panel 2 can provide an arm part etc., and the said arm part can also be used as a holding | maintenance part of this invention.

1……栽培容器保持トレイ、2……断熱パネル、2a……貫通孔(保持部)、2b……当接面、2c……上面、2d……底面、3……金属箔(熱伝導部)、10……栽培システム、13……温調床部、X……鉢(栽培容器)、X1……底部、X2……周面(側面)、Y……温調水   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Cultivation container holding tray, 2 ... Heat insulation panel, 2a ... Through-hole (holding part), 2b ... Contact surface, 2c ... Upper surface, 2d ... Bottom surface, 3 ... Metal foil (Heat conduction part) ) 10 ... Cultivation system, 13 ... Temperature control floor, X ... Pot (cultivation container), X1 ... Bottom, X2 ... Peripheral surface (side), Y ... Temperature control water

Claims (5)

栽培容器の底部を露出状態で保持可能である保持部を有する断熱パネルと、
前記断熱パネルの底面から前記保持部の前記栽培容器の側面と当接する当接面に至って形成される熱伝導部と
を有することを特徴とする栽培容器保持トレイ。
A heat insulating panel having a holding part capable of holding the bottom part of the cultivation container in an exposed state;
A cultivation container holding tray, comprising: a heat conduction part formed from a bottom surface of the heat insulating panel to a contact surface of the holding part that contacts the side surface of the cultivation container.
前記熱伝導部は、前記断熱パネルの底面から前記保持部の当接面に至る全域にて前記断熱パネルの表面に沿って形成されていることを特徴とする請求項1記載の栽培容器保持トレイ。   The cultivation container holding tray according to claim 1, wherein the heat conducting part is formed along the surface of the heat insulating panel in the entire region from the bottom surface of the heat insulating panel to the contact surface of the holding part. . 前記保持部は、前記断熱パネルの上面から前記底面に貫通すると共に、前記断熱パネルの上面から前記底面に向けて縮径することにより前記当接面がテーパ面とされた貫通孔であることを特徴とする請求項1または2記載の栽培容器保持トレイ。   The holding portion is a through-hole that penetrates from the top surface of the heat insulation panel to the bottom surface and has a diameter that decreases from the top surface of the heat insulation panel toward the bottom surface so that the contact surface is a tapered surface. The cultivation container holding tray according to claim 1 or 2, characterized by the above. 前記断熱パネルは、前記保持部を複数有することを特徴とする請求項1〜3いずれか一項に記載の栽培容器保持トレイ。   The cultivation container holding tray according to any one of claims 1 to 3, wherein the heat insulation panel has a plurality of the holding parts. 請求項1〜4いずれか一項に記載の栽培容器保持トレイと、
前記栽培容器保持トレイの下方に配置されると共に温度調整可能な温調床部と
を有することを特徴とする栽培システム。
The cultivation container holding tray according to any one of claims 1 to 4,
A cultivation system comprising: a temperature-adjusting floor portion that is disposed below the cultivation container holding tray and capable of adjusting a temperature.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020048432A (en) * 2018-09-25 2020-04-02 学校法人日本大学 Temperature control cover for cultivation, and cultivation system
JP7233137B1 (en) 2022-03-01 2023-03-06 修一 斉藤 Heating and cooling device for plant growing soil and heating and cooling method

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6164262U (en) * 1984-10-01 1986-05-01
JPS62105511U (en) * 1985-12-20 1987-07-06
US4850134A (en) * 1979-11-28 1989-07-25 Snekkenes Torbjorn A Growth chamber with solar energy absorber
JPH0553448U (en) * 1991-12-24 1993-07-20 神奈川県 Flowerpot temperature controller
JPH07115847A (en) * 1993-10-22 1995-05-09 Kaneya Sangyo Kk Tray for flowerpot
JPH1098943A (en) * 1996-09-30 1998-04-21 Nichirei Corp Plant cultivation floor and plant cultivation apparatus using the same

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4850134A (en) * 1979-11-28 1989-07-25 Snekkenes Torbjorn A Growth chamber with solar energy absorber
JPS6164262U (en) * 1984-10-01 1986-05-01
JPS62105511U (en) * 1985-12-20 1987-07-06
JPH0553448U (en) * 1991-12-24 1993-07-20 神奈川県 Flowerpot temperature controller
JPH07115847A (en) * 1993-10-22 1995-05-09 Kaneya Sangyo Kk Tray for flowerpot
JPH1098943A (en) * 1996-09-30 1998-04-21 Nichirei Corp Plant cultivation floor and plant cultivation apparatus using the same

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020048432A (en) * 2018-09-25 2020-04-02 学校法人日本大学 Temperature control cover for cultivation, and cultivation system
JP7197115B2 (en) 2018-09-25 2022-12-27 学校法人日本大学 Cultivation temperature control cover and cultivation system
JP7233137B1 (en) 2022-03-01 2023-03-06 修一 斉藤 Heating and cooling device for plant growing soil and heating and cooling method
JP2023127051A (en) * 2022-03-01 2023-09-13 修一 斉藤 Heating/cooling device of plant raising soil, and heating/cooling method

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