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JP2017134122A - 画像生成装置及び画像投影装置 - Google Patents

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JP2017134122A
JP2017134122A JP2016011764A JP2016011764A JP2017134122A JP 2017134122 A JP2017134122 A JP 2017134122A JP 2016011764 A JP2016011764 A JP 2016011764A JP 2016011764 A JP2016011764 A JP 2016011764A JP 2017134122 A JP2017134122 A JP 2017134122A
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Akihisa Mikawa
晃尚 三川
正道 山田
Masamichi Yamada
正道 山田
嘉人 細藤
Yoshito Saito
嘉人 細藤
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Ricoh Co Ltd
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Abstract

【課題】投影画像のシフト動作の安定性を高めることが可能な画像生成装置を提供すること。【解決手段】第1固定板及び第2固定板を含む固定ユニットと、前記固定ユニットに移動可能に支持される可動ユニットと、を有し、前記可動ユニットは、前記第1固定板及び前記第2固定板との間に移動可能に支持される第1可動板と、前記第1可動板との間で前記第1固定板を挟むように設けられる第2可動板と、前記第2可動板に設けられて画像を生成する画像生成部と、前記第1可動板との間で前記第2固定板を挟むように設けられ、前記第1可動板に連結されて前記第2可動板を支持する連結支持部材と、を有する画像生成装置。【選択図】図13

Description

本発明は、画像生成装置及び画像投影装置に関する。
入力画像データに基づいてスクリーン等に画像を投影する画像投影装置において、投影画像を僅かにずらすように高速シフトさせることで、投影画像を疑似的に高解像度化する方法が知られている。
例えば、表示素子の複数の画素から発せられる光線に対して、画素ずらし手段により光軸をシフトさせて画素ずらしを行うことで、表示素子の解像度よりも高解像度化した画像を表示可能な画像表示装置が知られている(例えば、特許文献1参照)。
上記したように投影画像をシフトさせる場合において、投影画像を高解像度化するためには投影画像の位置を高精度に制御する必要がある。また、投影画像のシフト動作が不安定化すると、投影画像を高解像度化できず画像品質が低下する可能性がある。
本発明は上記に鑑みてなされたものであって、投影画像のシフト動作の安定性を高めることが可能な画像生成装置を提供することを目的とする。
本発明の一態様に係る画像生成装置によれば、第1固定板及び第2固定板を含む固定ユニットと、前記固定ユニットに移動可能に支持される可動ユニットと、を有し、前記可動ユニットは、前記第1固定板及び前記第2固定板との間に移動可能に支持される第1可動板と、前記第1可動板との間で前記第1固定板を挟むように設けられる第2可動板と、前記第2可動板に設けられて画像を生成する画像生成部と、前記第1可動板との間で前記第2固定板を挟むように設けられ、前記第1可動板に連結されて前記第2可動板を支持する連結支持部材と、を有する。
本発明の実施形態によれば、投影画像のシフト動作の安定性を高めることが可能な画像生成装置が提供される。
第1の実施形態における画像投影装置を例示する図である。 第1の実施形態における画像投影装置の構成を例示するブロック図である。 第1の実施形態における画像エンジンの斜視図である。 第1の実施形態における照明光学系ユニットを例示する図である。 第1の実施形態における投影光学系ユニットの内部構成を例示する図である。 第1の実施形態における画像生成ユニットの斜視図である。 第1の実施形態における画像生成ユニットの側面図である。 第1の実施形態における固定ユニットの分解斜視図である。 第1の実施形態における固定ユニットによる可動プレートの支持構造について説明する図である。 第1の実施形態におけるトッププレートの底面図である。 第1の実施形態における可動ユニットの分解斜視図である。 第1の実施形態における可動プレートの上面図である。 第1の実施形態におけるDMD基板の底面図である。 第1の実施形態における可動ユニットの側面図である。 第2の実施形態における可動ユニットの側面図である。
以下、図面を参照して発明を実施するための形態について説明する。各図面において、同一構成部分には同一符号を付し、重複した説明を省略する場合がある。
〔第1の実施形態〕
<画像投影装置の構成>
図1は、第1の実施形態におけるプロジェクタ1を例示する図である。
プロジェクタ1は、画像投影装置の一例であり、出射窓3、外部I/F9を有し、投影画像を生成する光学エンジンが内部に設けられている。プロジェクタ1は、例えば外部I/F9に接続されるパソコンやデジタルカメラから画像データが送信されると、光学エンジンが送信された画像データに基づいて投影画像を生成し、図1に示されるように出射窓3からスクリーンSに画像Pを投影する。
なお、以下に示す図面において、X1X2方向はプロジェクタ1の幅方向、Y1Y2方向はプロジェクタ1の奥行き方向、Z1Z2方向はプロジェクタ1の高さ方向である。また、以下では、プロジェクタ1の出射窓3側を上、出射窓3とは反対側を下として説明する場合がある。
図2は、第1の実施形態におけるプロジェクタ1の構成を例示するブロック図である。
図2に示されるように、プロジェクタ1は、電源4、メインスイッチSW5、操作部7、外部I/F9、システムコントロール部10、ファン20、光学エンジン15を有する。
電源4は、商用電源に接続され、プロジェクタ1の内部回路用に電圧及び周波数を変換して、システムコントロール部10、ファン20、光学エンジン15等に給電する。
メインスイッチSW5は、ユーザによるプロジェクタ1のON/OFF操作に用いられる。電源4が電源コード等を介して商用電源に接続された状態で、メインスイッチSW5がONに操作されると、電源4がプロジェクタ1の各部への給電を開始し、メインスイッチSW5がOFFに操作されると、電源4がプロジェクタ1の各部への給電を停止する。
操作部7は、ユーザによる各種操作を受け付けるボタン等であり、例えばプロジェクタ1の上面に設けられている。操作部7は、例えば投影画像の大きさ、色調、ピント調整等のユーザによる操作を受け付ける。操作部7が受け付けたユーザ操作は、システムコントロール部10に送られる。
外部I/F9は、例えばパソコン、デジタルカメラ等に接続される接続端子を有し、接続された機器から送信される画像データをシステムコントロール部10に出力する。
システムコントロール部10は、画像制御部11、駆動制御部12を有する。システムコントロール部10は、例えばCPU,ROM,RAM等を含む。システムコントロール部10の各部の機能は、CPUがRAMと協働してROMに記憶されているプログラムを実行することで実現される。
画像制御部11は、外部I/F9から入力される画像データに基づいて光学エンジン15の画像生成ユニット50に設けられているデジタルマイクロミラーデバイスDMD(Digital Micromirror Device(以下、単に「DMD」という))551を制御し、スクリーンSに投影する画像を生成する。
駆動制御部12は、画像生成ユニット50において移動可能に設けられている可動ユニット55を移動させる駆動部を制御し、可動ユニット55に設けられているDMD551の位置を制御する。
ファン20は、システムコントロール部10に制御されて回転し、光学エンジン15の光源30を冷却する。
光学エンジン15は、光源30、照明光学系ユニット40、画像生成ユニット50、投影光学系ユニット60を有し、システムコントロール部10に制御されてスクリーンSに画像を投影する。
光源30は、例えば水銀高圧ランプ、キセノンランプ、LED等であり、システムコントロール部10により制御され、照明光学系ユニット40に光を照射する。
照明光学系ユニット40は、例えばカラーホイール、ライトトンネル、リレーレンズ等を有し、光源30から照射された光を画像生成ユニット50に設けられているDMD551に導く。
画像生成ユニット50は、画像生成装置の一例であり、固定支持されている固定ユニット51、固定ユニット51に移動可能に支持される可動ユニット55を有する。可動ユニット55は、DMD551を有し、システムコントロール部10の駆動制御部12によって固定ユニット51に対する位置が制御される。DMD551は、画像生成部の一例であり、システムコントロール部10の画像制御部11により制御され、照明光学系ユニット40によって導かれた光を変調して投影画像を生成する。
投影光学系ユニット60は、投影部の一例であり、例えば複数の投射レンズ、ミラー等を有し、画像生成ユニット50のDMD551によって生成される画像を拡大してスクリーンSに投影する。
<光学エンジンの構成>
次に、プロジェクタ1の光学エンジン15の各部の構成について説明する。
図3は、第1の実施形態における光学エンジン15を例示する斜視図である。光学エンジン15は、図3に示されるように、光源30、照明光学系ユニット40、画像生成ユニット50、投影光学系ユニット60を有し、プロジェクタ1の内部に設けられている。
光源30は、照明光学系ユニット40の側面に設けられ、X2方向に光を照射する。照明光学系ユニット40は、光源30から照射された光を、下部に設けられている画像生成ユニット50に導く。画像生成ユニット50は、照明光学系ユニット40によって導かれた光を用いて投影画像を生成する。投影光学系ユニット60は、照明光学系ユニット40の上部に設けられ、画像生成ユニット50によって生成された投影画像をプロジェクタ1の外部に投影する。
なお、本実施形態に係る光学エンジン15は、光源30から照射される光を用いて上方に画像を投影するように構成されているが、水平方向に画像を投影するような構成であってもよい。
[照明光学系ユニット]
図4は、第1の実施形態における照明光学系ユニット40を例示する図である。
図4に示されるように、照明光学系ユニット40は、カラーホイール401、ライトトンネル402、リレーレンズ403,404、シリンダミラー405、凹面ミラー406を有する。
カラーホイール401は、例えば周方向の異なる部分にR(レッド)、G(グリーン)、B(ブルー)の各色のフィルタが設けられている円盤である。カラーホイール401は、高速回転することで、光源30から照射される光をRGB各色に時分割する。
ライトトンネル402は、例えば板ガラス等の貼り合わせによって四角筒状に形成されている。ライトトンネル402は、カラーホイール401を透過したRGB各色の光を、内面で多重反射することで輝度分布を均一化してリレーレンズ403,404に導く。
リレーレンズ403,404は、ライトトンネル402から出射された光の軸上色収差を補正しつつ集光する。
シリンダミラー405及び凹面ミラー406は、リレーレンズ403,404から出射された光を、画像生成ユニット50に設けられているDMD551に反射する。DMD551は、凹面ミラー406からの反射光を変調して投影画像を生成する。
[投影光学系ユニット]
図5は、第1の実施形態における投影光学系ユニット60の内部構成を例示する図である。
図5に示されるように、投影光学系ユニット60は、投影レンズ601、折り返しミラー602、曲面ミラー603がケースの内部に設けられている。
投影レンズ601は、複数のレンズを有し、画像生成ユニット50のDMD551によって生成された投影画像を、折り返しミラー602に結像させる。折り返しミラー602及び曲面ミラー603は、結像された投影画像を拡大するように反射して、プロジェクタ1の外部のスクリーンS等に投影する。
[画像生成ユニット]
図6は、第1の実施形態における画像生成ユニット50の斜視図である。また、図7は、第1の実施形態における画像生成ユニット50の側面図である。なお、図7では、画像生成ユニット50の一部の部品の図示が省略されている。
図6及び図7に示されるように、画像生成ユニット50は、固定ユニット51、可動ユニット55を有する。固定ユニット51は、照明光学系ユニット40に固定支持される。可動ユニット55は、固定ユニット51に移動可能に支持される。
固定ユニット51は、第1固定板としてのトッププレート511、第2固定板としてのベースプレート512、第3固定板としてのサブプレート513(図6には不図示)を有する。トッププレート511及びベースプレート512は、所定の間隙を介して平行に設けられている。サブプレート513は、トッププレート511の上面に積層されている。固定ユニット51は、上記した構成を有し、照明光学系ユニット40の下部に固定される。
可動ユニット55は、DMD551、第2可動板としてのDMD基板552、第1可動板としての可動プレート553(図6には不図示)、連結支持部材としてのヒートシンク554を有し、固定ユニット51に移動可能に支持されている。
DMD551は、DMD基板552の上面(トッププレート511とは反対側の面)に設けられている。DMD551は、可動式の複数のマイクロミラーが格子状に配列された画像生成面を有する。DMD551の各マイクロミラーは、鏡面がねじれ軸周りに傾動可能に設けられており、システムコントロール部10の画像制御部11から送信される画像信号に基づいてON/OFF駆動される。
マイクロミラーは、例えば「ON」の場合には、光源30からの光を投影光学系ユニット60に反射するように傾斜角度が制御される。また、マイクロミラーは、例えば「OFF」の場合には、光源30からの光を不図示のOFF光板に向けて反射する方向に傾斜角度が制御される。
このように、DMD551は、画像制御部11から送信される画像信号によって各マイクロミラーの傾斜角度が制御され、光源30から照射されて照明光学系ユニット40を通った光を変調して投影画像を生成する。
DMD基板552は、ヒートシンク554に支持され、上面にDMD551が設けられている。DMD基板552は、支持されるヒートシンク554と共に移動可能に設けられている。
可動プレート553は、トッププレート511とベースプレート512との間で移動可能に支持され、表面に平行な方向に移動可能に設けられている。また、可動プレート553の下面側には、ヒートシンク554が連結されている。
可動プレート553が変位すると、可動プレート553に連結されているヒートシンク554、ヒートシンク554に支持されているDMD基板552、及びDMD基板552に設けられているDMD551も可動プレート553と共に変位する。
ヒートシンク554は、DMD551に当接する放熱部を有し、DMD551を冷却する。ヒートシンク554がDMD551の温度上昇を抑制することで、DMD551の温度上昇による動作不良や故障等といった不具合の発生が低減される。
ヒートシンク554は、可動プレート553に連結されてDMD基板552と共に移動可能に設けられている。ヒートシンク554は、DMD基板552と共に移動可能に設けられることで、放熱部が常時DMD551に当接して効率的に冷却することが可能になっている。
(固定ユニット)
図8は、第1の実施形態における固定ユニット51の分解斜視図である。
図8に示されるように、固定ユニット51は、トッププレート511、ベースプレート512、及びサブプレート513を有する。
トッププレート511及びベースプレート512は、例えば、鉄、ステンレス鋼等の磁性材料で形成された平板状部材である。トッププレート511とベースプレート512とは、複数の支柱515によって、所定の間隙を介して平行に設けられている。サブプレート513は、L字状に形成された平板状部材であり、図8には不図示のねじによりトッププレート511の上面に固定される。トッププレート511及びベースプレート512は、それぞれ可動ユニット55のDMD551に対応する位置に中央孔514,519が設けられている。
支柱515は、図8に示されるように、上端部がトッププレート511の支柱孔516に圧入され、雄ねじ溝が形成されている下端部がベースプレート512の支柱孔517に挿入される。支柱515は、トッププレート511とベースプレート512との間に一定の間隔を形成し、トッププレート511とベースプレート512とを平行に支持する。
トッププレート511及びベースプレート512には、支持球体521を回転可能に保持する支持孔522,526がそれぞれ複数形成されている。
トッププレート511の支持孔522には、内周面に雌ねじ溝を有する円筒状の保持部材523が挿入される。保持部材523は、支持球体521を回転可能に保持し、位置調整ねじ524が上から挿入される。ベースプレート512の支持孔526には、蓋部材527の保持部528が下端側から挿入される。蓋部材527の保持部528は、円筒状に形成されて支持球体521を回転可能に保持する。
トッププレート511及びベースプレート512の支持孔522,526において回転可能に保持される支持球体521は、それぞれ可動プレート553に当接し、可動プレート553を移動可能に支持する。
図9は、第1の実施形態における固定ユニット51による可動プレート553の支持構造を説明するための図である。
図9に示されるように、トッププレート511では、支持孔522に挿入される保持部材523によって支持球体521が回転可能に保持される。また、ベースプレート512では、支持孔526に挿入される蓋部材527の保持部528によって支持球体521が回転可能に保持される。
各支持球体521は、支持孔522,526から少なくとも一部分が突出するように保持され、トッププレート511とベースプレート512との間に設けられる可動プレート553に当接する。可動プレート553は、回転可能に設けられている複数の支持球体521により、トッププレート511及びベースプレート512と平行且つ表面に平行な方向に移動可能に両面から支持される。
また、トッププレート511側に設けられている支持球体521は、位置調整ねじ524の位置に応じて保持部材523の下端からの突出量が変化する。例えば、位置調整ねじ524がZ1方向に変位すると、支持球体521の突出量が減少し、トッププレート511と可動プレート553との間隔が小さくなる。また、例えば、位置調整ねじ524がZ2方向に変位すると、支持球体521の突出量が増加し、トッププレート511と可動プレート553との間隔が大きくなる。
このように、位置調整ねじ524を用いて支持球体521の突出量を変化させることで、トッププレート511と可動プレート553との間隔を適宜調整できる。
図10は、第1の実施形態におけるトッププレート511の底面図である。図10に示されるように、トッププレート511の下面(ベースプレート512側の面)には、駆動用磁石531a,531b,531c,531dが設けられている。なお、以下の説明において、駆動用磁石531a,531b,531c,531dを、単に「駆動用磁石531」という場合がある。
駆動用磁石531は、トッププレート511の中央孔514を囲むように4箇所に設けられている。駆動用磁石531は、それぞれ長手方向が平行になるように配置された直方体状の2つの磁石で構成され、それぞれトッププレート511とベースプレート512との間に支持される可動プレート553に及ぶ磁界を形成する。
駆動用磁石531は、それぞれ可動プレート553の上面に対向して設けられている駆動コイルとで、可動プレート553を移動させる駆動部を構成する。
また、図8に示されるように、サブプレート513の上面(トッププレート511とは反対側の面)には、位置検出用磁石541が複数箇所に設けられている。位置検出用磁石541は、DMD基板552の下面(トッププレート511側の面)に設けられているホール素子とで、DMD551の位置を検出する位置検出部を構成する。
位置検出用磁石541をサブプレート513に設けることで、位置検出用磁石541の位置調整とトッププレート511に設けられている駆動用磁石531の位置調整とをそれぞれ独立して行うことが可能になる。なお、サブプレート513を設けずに位置検出用磁石541をトッププレート511の上面に設けてもよい。
また、固定ユニット51に設けられる支柱515、支持球体521の数や位置等は、本実施形態に例示される構成に限られるものではない。
(可動ユニット)
図11は、第1の実施形態における可動ユニット55の分解斜視図である。
図11に示されるように、可動ユニット55は、DMD551、DMD基板552、可動プレート553、ヒートシンク554を有し、固定ユニット51に移動可能に支持される。
可動プレート553は、上記したように、固定ユニット51のトッププレート511とベースプレート512との間に設けられ、複数の支持球体521により表面に平行な方向に移動可能に支持される。
図12は、第1の実施形態における可動プレート553の上面図である。
図12に示されるように、可動プレート553は、平板状の部材から形成され、DMD基板552に設けられるDMD551に対応する位置に中央孔570を有し、中央孔570の周囲に駆動コイル581a,581b,581c,581dが設けられている。なお、以下の説明では、駆動コイル581a,581b,581c,581dを、単に「駆動コイル581」という場合がある。
駆動コイル581は、それぞれZ1Z2方向に平行な軸を中心として電線が巻き回されることで形成され、可動プレート553の上面(トッププレート511側の面)に形成されている凹部に設けられてカバーで覆われている。駆動コイル581は、トッププレート511に設けられている駆動用磁石531とで、可動プレート553を移動させる駆動部を構成する。
トッププレート511の駆動用磁石531と、可動プレート553の駆動コイル581とは、可動ユニット55が固定ユニット51に支持された状態で、それぞれ対向するように配置されている。駆動コイル581に電流が流されると、駆動用磁石531によって形成される磁界により、可動プレート553を移動させる駆動力となるローレンツ力が発生する。
可動プレート553は、駆動用磁石531と駆動コイル581との間で発生する駆動力としてのローレンツ力を受けて、固定ユニット51に対して、XY平面において直線的又は回転するように変位する。
各駆動コイル581に流される電流の大きさ及び向きは、システムコントロール部10の駆動制御部12によって制御される。駆動制御部12は、各駆動コイル581に流す電流の大きさ及び向きによって、可動プレート553の移動(回転)方向、移動量や回転角度等を制御する。
本実施形態では、第1駆動部として、駆動コイル581a及び駆動用磁石531aと、駆動コイル581d及び駆動用磁石531dとが、X1X2方向に対向して設けられている。駆動コイル581a及び駆動コイル581dに電流が流されると、図12に示されるようにX1方向又はX2方向のローレンツ力が発生する。可動プレート553は、駆動コイル581a及び駆動用磁石531aと、駆動コイル581d及び駆動用磁石531dとにおいて発生するローレンツ力により、X1方向又はX2方向に移動する。
また、本実施形態では、第2駆動部として、駆動コイル581b及び駆動用磁石531bと、駆動コイル581c及び駆動用磁石531cとが、X1X2方向に並んで設けられ、駆動用磁石531b及び駆動用磁石531cは、駆動用磁石531a及び駆動用磁石531dとは長手方向が直交するように配置されている。このような構成において、駆動コイル581b及び駆動コイル581cに電流が流されると、図12に示されるようにY1方向又はY2方向のローレンツ力が発生する。
可動プレート553は、駆動コイル581b及び駆動用磁石531bと、駆動コイル581c及び駆動用磁石531cとにおいて発生するローレンツ力により、Y1方向又はY2方向に移動する。また、可動プレート553は、駆動コイル581b及び駆動用磁石531cと、駆動コイル581c及び駆動用磁石531cとで反対方向に発生するローレンツ力により、XY平面において回転するように変位する。
例えば、駆動コイル581b及び駆動用磁石531bにおいてY1方向のローレンツ力が発生し、駆動コイル581c及び駆動用磁石531cにおいてY2方向のローレンツ力が発生するように電流が流されると、可動プレート553は、上面視で時計回り方向に回転するように変位する。また、駆動コイル581b及び駆動用磁石531bにおいてY2方向のローレンツ力が発生し、駆動コイル581c及び駆動用磁石531cにおいてY1方向のローレンツ力が発生するように電流が流されると、可動プレート553は、上面視で反時計回り方向に回転するように変位する。
また、図12に示されるように、可動プレート553には、固定ユニット51の支柱515に対応する位置に、可動範囲制限孔571が設けられている。可動範囲制限孔571は、固定ユニット51の支柱515が挿入され、例えば振動や何らかの異常等により可動プレート553が大きく変位した時に支柱515に接触することで、可動プレート553の可動範囲を制限する。
可動範囲制限孔571の数、位置及び形状等は、本実施形態に例示される構成に限られない。例えば、可動範囲制限孔571は一つであってもよく、複数であってもよい。また、可動範囲制限孔571の形状は、例えば長方形や円形等、本実施形態とは異なる形状であってもよい。
図13は、第1の実施形態におけるDMD基板552の底面図である。
図13に示されるように、DMD基板552の下面(トッププレート511側の面)には、サブプレート513に設けられている位置検出用磁石541に対向する位置に、ホール素子542が設けられている。
ホール素子542は、磁気センサの一例であり、位置検出用磁石541からの磁束密度の変化に応じた信号をシステムコントロール部10の駆動制御部12に送信する。駆動制御部12は、ホール素子542から送信される信号に基づいて、DMD551の位置を検出する。
ここで、本実施形態では、磁性材料で形成されているトッププレート511及びベースプレート512が、ヨーク板として機能して駆動用磁石531及び駆動コイル581を含む駆動部と磁気回路を構成する。
このような構成により、駆動部において生じる磁束は、トッププレート511及びベースプレート512に集中し、トッププレート511とベースプレート512との間から外部への漏出が抑えられる。
したがって、トッププレート511の上面側のDMD基板552に設けられているホール素子542では、駆動用磁石531及び駆動コイル581を含む駆動部において形成される磁界の影響が低減される。このため、ホール素子542が、駆動部において生じる磁界の影響を受けることなく、位置検出用磁石541の磁束密度変化に応じた信号を出力可能になる。したがって、駆動制御部12がDMD551の位置を高精度に把握できるようになる。
上記したように、駆動制御部12は、駆動部からの影響が低減されたホール素子542の出力に基づいてDMD551の位置を精度よく検出することが可能である。したがって、駆動制御部12は、検出したDMD551の位置に応じて各駆動コイル581に流す電流の大きさや向きを制御し、DMD551の位置を高精度に制御することが可能になる。
なお、駆動部としての駆動用磁石531及び駆動コイル581の数、位置等は、可動プレート553を任意の位置に移動させることが可能であれば、本実施形態とは異なる構成であってもよい。
例えば、駆動用磁石531をベースプレート512に設け、駆動コイル581を可動プレート553のベースプレート512側の面に設けてもよい。また、駆動用磁石531を可動プレート553に設け、駆動コイル581をトッププレート511又はベースプレート512に設けてもよい。また、位置検出用磁石541をDMD基板552に設け、ホール素子542をサブプレート513の上面に設けてもよい。さらに、駆動用磁石531及び駆動コイル518を含む駆動部をベースプレート512とヒートシンク554との間に設け、位置検出用磁石541及びホール素子542を含む位置検出部をトッププレート511とベースプレート512との間に設けてもよい。
ただし、可動ユニット55の重量が増えて位置制御が困難になる可能性があるため、駆動用磁石531及び位置検出用磁石541は固定ユニット51(トッププレート511、ベースプレート512、又はサブプレート513)に設けることが好ましい。
また、トッププレート511及びベースプレート512は、駆動部から位置検出部への磁束の漏れを低減可能であれば、それぞれ部分的に磁性材料で形成されてもよい。例えば、トッププレート511及びベースプレート512は、磁性材料で形成された平板状又はシート状の部材を含む複数の部材が積層されることで形成されてもよい。また、サブプレート513の少なくとも一部を磁性材料で形成してヨーク板として機能させてもよい。また、トッププレート511の少なくとも一部を磁性材料で形成してヨーク板として機能させ、駆動部から位置検出部への磁束の漏れを防ぐことが可能であれば、ベースプレート512を非磁性材料で形成してもよい。
図14は、第1の実施形態における可動ユニット55の側面図である。
図14に示されるように、ヒートシンク554は、上端面がDMD551に当接して放熱する柱状の放熱部563、DMD基板552を支持する支柱561、可動プレート553に連結する連結柱562を有する。
DMD基板552には、図13に示されるように、DMD551が実装される部分に放熱孔556が設けられている。ヒートシンク554の放熱部563は、トッププレート511及びベースプレート512の中央孔514,519(図8)、可動プレート553の中央孔570(図12)、及びDMD基板552の放熱孔556(図13)に挿通されてDMD551の底面に当接する。ヒートシンク554の放熱部563は、DMD551の底面に当接して放熱することで、DMD551を冷却して不具合の発生を抑制する。
なお、DMD551の冷却効果を高めるために、ヒートシンク554の放熱部563とDMD551との間に弾性変形可能な伝熱シートが設けられてもよい。伝熱シートによりヒートシンク554の放熱部563とDMD551との間の熱伝導性が向上し、DMD551の冷却効果が向上する。
支柱561は、ヒートシンク554上面の周縁4箇所に設けられ、それぞれヒートシンク554上面からZ1方向に突出するように形成されている。DMD基板552には、図11及び図13に示されるように、ヒートシンク554の支柱561に対応する位置に、ねじ孔555が形成されている。DMD基板552は、図14に示されるように、ねじ孔555に挿入されるねじ564によって支柱561の上端に固定される。
連結柱562は、ヒートシンク554上面の放熱部563の周囲6箇所に設けられ、それぞれヒートシンク554上面からZ1方向に突出するように形成されている。連結柱562は、例えばねじ等によって可動プレート553が上端に固定される。連結柱562により、ヒートシンク554は可動プレート553に連結される。
支柱561及び連結柱562は、Z1Z2方向における高さが異なり、DMD基板552と可動プレート553との間に所定の間隔を形成する。
ここで、ヒートシンク554の放熱部563は、DMD基板552が支柱561に固定支持されている状態で、冷却効果を高めるためにDMD551の底面を押圧するように設けられている。このようにDMD551がヒートシンク554の放熱部563に押圧されることで、DMD基板552に反りが生じる可能性がある。DMD基板552に生じた反りの影響が可動プレート553に及ぶと、可動ユニット55の位置を高精度に制御することが困難になり、DMD551のシフト動作が不安定化して投影画像の品質が低下する場合がある。
しかしながら、本実施形態に係る可動ユニット55では、上記したように、DMD基板552はヒートシンク554の支柱561により支持され、可動プレート553はヒートシンク554の連結柱562に連結されている。このように、DMD基板552と可動プレート553とが、ヒートシンク554の異なる部分に連結又は支持されることにより、例えばDMD基板552に反りが生じた場合であっても、DMD基板552の反りが可動プレート553に与える影響が低減される。
したがって、本実施形態に係る画像生成ユニット50は、投影画像のシフト動作の安定性が高められ、DMD551の位置を高精度に制御して、投影画像をシフトさせて高解像度化することが可能になっている。
<画像投影>
上記したように、本実施形態に係るプロジェクタ1において、投影画像を生成するDMD551は、可動ユニット55に設けられており、システムコントロール部10の駆動制御部12によって位置が制御される。
駆動制御部12は、例えば、画像投影時にフレームレートに対応する所定の周期で、DMD551の複数のマイクロミラーの配列間隔未満の距離だけ離れた複数の位置の間を高速移動するように可動ユニット55の位置を制御する。このとき、画像制御部11は、それぞれの位置に応じてシフトした投影画像を生成するようにDMD551に画像信号を送信する。
例えば、駆動制御部12は、X1X2方向及びY1Y2方向にDMD551のマイクロミラーの配列間隔未満の距離だけ離れた位置P1と位置P2との間で、DMD551を所定の周期で往復移動させる。このとき、画像制御部11が、それぞれの位置に応じてシフトした投影画像を生成するようにDMD551を制御することで、投影画像の解像度をDMD551の解像度の約2倍にすることが可能になる。また、DMD551の移動位置を増やすことで、投影画像の解像度をDMD551の2倍以上にすることもできる。
このように、駆動制御部12が可動ユニット55と共にDMD551をシフト動作させ、画像制御部11がDMD551の位置に応じた投影画像を生成させることで、DMD551の解像度以上に高解像度化した画像を投影することが可能になる。
また、本実施形態に係るプロジェクタ1では、駆動制御部12がDMD551を可動ユニット55と共に回転するように制御することで、投影画像を縮小させることなく回転させることができる。例えばDMD551等の画像生成手段が固定されているプロジェクタでは、投影画像を縮小させなければ、投影画像の縦横比を維持しながら回転させることはできない。これに対して、本実施形態に係るプロジェクタ1では、DMD551を回転させることができるため、投影画像を縮小させることなく回転させて傾き等の調整を行うことが可能になっている。
以上で説明したように、本実施形態に係るプロジェクタ1では、DMD551が移動可能に設けられており、DMD551をシフト動作させることで投影画像を高解像度化することが可能になっている。また、DMD551を冷却するヒートシンク554が、DMD551と共に可動ユニット55に搭載されていることで、DMD551をより効率的に冷却することが可能になっている。
また、本実施形態に係る可動ユニット55では、DMD基板552と可動プレート553とが、それぞれヒートシンク554の異なる部分(支柱561及び連結柱562)で連結又は支持されている。このような構成により、例えばDMD基板552に反りが生じても、可動プレート553にはDMD基板552に生じた反りの影響が及ばず、DMD551のシフト動作を安定的に保つことが可能になっている。
また、本実施形態では、トッププレート511及びベースプレート512が、駆動用磁石531及び駆動コイル581を含む駆動部において生じる磁束の外部への漏れを防ぐヨーク板として機能する。このため、トッププレート511の上面側のDMD基板552に設けられているホール素子542が、駆動部において生じる磁界の影響を受けることなく、位置検出用磁石541の磁束密度変化に応じた信号を出力可能になっている。したがって、駆動制御部12は、ホール素子542の出力に基づいて高速シフトするDMD551の位置を高精度に検出可能であり、DMD551の位置を精度良く制御できる。
なお、可動ユニット55の構成は、上記した実施形態において例示した構成に限られるものではない。例えば、ヒートシンク554に設けられている支柱561及び連結柱562の形状、数、配置等の構成は、上記した実施形態に例示される構成に限られるものではない。
〔第2の実施形態〕
次に、第2の実施形態について図面に基づいて説明する。なお、既に説明した実施形態と同一構成部分についての説明は省略する。
図15は、第2の実施形態における可動ユニット56の側面図である。
図15に示される可動ユニット56は、DMD基板552及び可動プレート553をそれぞれ支持する連結支持部材595を有し、DMD551を冷却する放熱部材としてのヒートシンク557が連結支持部材595に固定して設けられている。
連結支持部材595は、DMD基板552を支持する支柱596、可動プレート553に連結する連結柱597を有する。支柱596及び連結柱597の形状、数、位置等の構成は、第1の実施形態における支柱561及び連結柱562の構成と同様である。
ヒートシンク557は、DMD551を冷却する柱状の放熱部568を有し、連結支持部材595の下面側(可動プレート553とは反対側)にねじ565により固定されている。放熱部568は、連結支持部材595のDMD551に対応する部分に設けられている中央孔に挿通され、上端面がDMD551の底面に当接する。
第2の実施形態における可動ユニット56では、ヒートシンク557の放熱部568によってDMD551が冷却され、DMD551の温度上昇による動作不良や故障等といった不具合の発生が低減される。また、DMD基板552及び可動プレート553がそれぞれ連結支持部材595の異なる部分(支柱596及び連結柱597)で連結又は支持されることで、DMD基板552の反り等が可動プレート553に与える影響が抑制され、DMD551のシフト動作の安定性が高められている。
以上、実施形態に係る画像投影システム、画像生成装置及び画像投影装置について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の範囲内で種々の変形及び改良が可能である。
1 プロジェクタ(画像投影装置)
10 システムコントロール部
11 画像制御部
12 駆動制御部
30 光源
40 照明光学系ユニット
50 画像生成ユニット(画像生成装置)
51 固定ユニット
55 可動ユニット
60 投影光学系ユニット(投影部)
511 トッププレート(第1固定板)
512 ベースプレート(第2固定板)
513 サブプレート(第3固定板)
531 駆動用磁石
541 位置検出用磁石
581 駆動コイル
542 ホール素子(磁気センサ)
551 DMD(画像生成部)
552 DMD基板(第2可動板)
553 可動プレート(第1可動板)
554 ヒートシンク(連結支持部材)
557 ヒートシンク(放熱部材)
563 放熱部
595 連結支持部材
特開2004−180011号公報

Claims (10)

  1. 第1固定板及び第2固定板を含む固定ユニットと、
    前記固定ユニットに移動可能に支持される可動ユニットと、を有し、
    前記可動ユニットは、
    前記第1固定板及び前記第2固定板との間に移動可能に支持される第1可動板と、
    前記第1可動板との間で前記第1固定板を挟むように設けられる第2可動板と、
    前記第2可動板に設けられて画像を生成する画像生成部と、
    前記第1可動板との間で前記第2固定板を挟むように設けられ、前記第1可動板に連結されて前記第2可動板を支持する連結支持部材と、を有する
    ことを特徴とする画像生成装置。
  2. 前記連結支持部材は、前記画像生成部に当接して前記画像生成部の熱を放熱する放熱部を有する
    ことを特徴とする請求項1に記載の画像生成装置。
  3. 前記可動ユニットは、前記連結支持部材に支持され、前記画像生成部に当接して前記画像生成部の熱を放熱する放熱部材を有する
    ことを特徴とする請求項1に記載の画像生成装置。
  4. 前記第1固定板と前記第1可動板との間又は前記第1可動板と前記第2固定板との間に対向配置されている駆動用磁石及び駆動コイルを含み、前記可動ユニットを前記固定ユニットに対して相対移動させる駆動部と、
    前記第1固定板と前記第2可動板との間に対向配置されている位置検出用磁石及び磁気センサを含み、前記可動ユニットの前記固定ユニットに対する位置を検出する位置検出部と、を有し、
    前記第1固定板は、少なくとも一部が磁性材料で形成されている
    ことを特徴とする請求項1から3の何れか一項に記載の画像生成装置。
  5. 前記駆動用磁石は、前記第1固定板又は前記第2固定板に設けられ、
    前記駆動コイルは、前記第1可動板に設けられている
    ことを特徴とする請求項4に記載の画像生成装置。
  6. 前記磁気センサは、前記第2可動板に設けられ、
    前記位置検出用磁石は、前記第1固定板に設けられている
    ことを特徴とする請求項4又は5に記載の画像生成装置。
  7. 前記固定ユニットは、前記第1固定板の前記第2可動板側に設けられている第3固定板を有し、
    前記磁気センサは、前記第2可動板に設けられ、
    前記位置検出用磁石は、前記第3固定板に設けられている
    ことを特徴とする請求項4又は5に記載の画像生成装置。
  8. 前記第2固定板は、少なくとも一部が磁性材料で形成されている
    ことを特徴とする請求項4から7の何れか一項に記載の画像生成装置。
  9. 前記駆動部を制御する駆動制御部と、
    前記可動ユニットの位置に応じた画像信号を生成して前記画像生成部に送信する画像制御部と、を有し、
    前記画像生成部は、光源から照射された光を前記画像信号に基づいて変調する複数のマイクロミラーが配列されたデジタルマイクロミラーデバイスであり、
    前記駆動制御部は、前記可動ユニットを所定の周期で前記複数のマイクロミラーの配列間隔未満の距離を移動させるように前記駆動部を制御する
    ことを特徴とする請求項4から8の何れか一項に記載の画像生成装置。
  10. 請求項1から9の何れか一項に記載の画像生成装置と、
    前記画像生成部により生成された画像を投影する投影部と、を有する
    ことを特徴とする画像投影装置。
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