JP2017117525A - ヒータ - Google Patents
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- 230000020169 heat generation Effects 0.000 claims abstract description 63
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims abstract description 25
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 24
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
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- Surface Heating Bodies (AREA)
- Resistance Heating (AREA)
Abstract
Description
れた複数のセンサパターン3とを備えており、複数の発熱パターン2のそれぞれと複数のセンサパターン3のそれぞれとが積層体の積層方向において重なっていてもよい。これにより、複数のヒータ10パターンの温度制御を個別に行なうことができるようになる。これにより、ヒータ10表面の温度分布を所望の状態に調整しやすくできる。
1:セラミック層
11:基体
2:発熱パターン
3:センサパターン
Claims (4)
- 複数のセラミック層の積層体から成る基体と、前記複数のセラミック層の層間に設けられた発熱パターンと、前記発熱パターンが設けられた前記層間とは異なる層間に設けられたセンサパターンとを備えており、前記発熱パターンと前記センサパターンとが前記積層体の積層方向において重なっていることを特徴とするヒータ。
- セラミック層の主面のうち最も高温になる領域と前記センサパターンとが前記積層方向において重なっていることを特徴とする請求項1に記載のヒータ。
- 前記発熱パターンおよび前記センサパターンが複数の折り返し部および複数の直線部をそれぞれ有するミアンダ状であるとともに、前記発熱パターンの前記複数の直線部および前記センサパターンの前記複数の直線部が同じ方向に伸びていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のヒータ。
- 複数のセラミック層の積層体から成る基体と、前記複数のセラミック層の1つの層間に設けられた複数の発熱パターンと、前記複数の発熱パターンが設けられた前記層間とは異なる1つの層間に設けられた複数のセンサパターンとを備えており、前記複数の発熱パターンのそれぞれと前記複数のセンサパターンのそれぞれとが前記積層体の積層方向において重なっていることを特徴とするヒータ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015248315A JP2017117525A (ja) | 2015-12-21 | 2015-12-21 | ヒータ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015248315A JP2017117525A (ja) | 2015-12-21 | 2015-12-21 | ヒータ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017117525A true JP2017117525A (ja) | 2017-06-29 |
Family
ID=59232026
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015248315A Pending JP2017117525A (ja) | 2015-12-21 | 2015-12-21 | ヒータ |
Country Status (1)
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JP (1) | JP2017117525A (ja) |
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