JP2017073531A - Printed circuit board and manufacturing method thereof - Google Patents
Printed circuit board and manufacturing method thereof Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017073531A JP2017073531A JP2016048500A JP2016048500A JP2017073531A JP 2017073531 A JP2017073531 A JP 2017073531A JP 2016048500 A JP2016048500 A JP 2016048500A JP 2016048500 A JP2016048500 A JP 2016048500A JP 2017073531 A JP2017073531 A JP 2017073531A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- insulating layer
- filler
- printed circuit
- circuit board
- board according
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
- Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)
Abstract
【課題】本発明は、プリント回路基板及びその製造方法に関する。
【解決手段】本発明の一側面に係るプリント回路基板は、少なくとも一つの絶縁層と、配線部と、を含み、前記絶縁層は、前記配線部と接する第1絶縁層と、前記第1絶縁層の下部に配置された第2絶縁層と、を含み、前記第1及び第2絶縁層の内部には、それぞれ、第1及び第2フィラーが分散されており、前記第1フィラーは、前記第2フィラーよりも酸に対して高いエッチング性を有し、前記第2フィラーは、前記第1フィラーよりもUVに対して低い散乱性を有する構造である。
【選択図】図2The present invention relates to a printed circuit board and a method for manufacturing the same.
A printed circuit board according to one aspect of the present invention includes at least one insulating layer and a wiring portion, and the insulating layer includes a first insulating layer in contact with the wiring portion, and the first insulating layer. A second insulating layer disposed in a lower portion of the layer, wherein first and second fillers are dispersed in the first and second insulating layers, respectively, The second filler has a higher etching property with respect to the acid than the second filler, and the second filler has a structure having a lower scattering property with respect to UV than the first filler.
[Selection] Figure 2
Description
本発明は、プリント回路基板及びその製造方法に関する。 The present invention relates to a printed circuit board and a method for manufacturing the same.
電子産業の発展に伴い、電子部品の多機能化、高機能化及び小型化に対する要求が急増している。また、電子部品の軽薄短小化に伴い、電子部品が実装されるプリント回路基板にもまた、小さい面積に多くの電子製品を集積するための回路パターンの高密度化が求められている。プリント回路基板の回路パターンが微細化し、回路の層間間隔が狭くなるにつれて誘電損失やショート(short)のような不良又は回路と絶縁体との密着力が落ち、製品の信頼性が低下する問題点が発生している。したがって、プリント回路基板(Printed Circuit Board、PCB)、半導体パッケージ基板又はフレキシブルプリント回路基板(Flexible Printed Circuit Board、FPCB)などには、微細な開口パターンを形成できる感光性絶縁フィルムが使用されている。 With the development of the electronic industry, demands for multi-functionality, high functionality and miniaturization of electronic components are increasing rapidly. Further, as electronic components become lighter, thinner, and smaller, printed circuit boards on which electronic components are mounted are also required to have higher circuit patterns for integrating many electronic products in a small area. As the circuit pattern of the printed circuit board becomes finer and the interlayer distance between the circuits becomes narrower, defects such as dielectric loss and short, or the adhesion between the circuit and the insulator decreases, and the reliability of the product decreases. Has occurred. Therefore, a photosensitive insulating film capable of forming a fine opening pattern is used for a printed circuit board (Printed Circuit Board, PCB), a semiconductor package substrate, a flexible printed circuit board (Flexible Printed Circuit Board, FPCB), or the like.
本発明の目的の一つは、微細パターンの具現に適し、さらに、絶縁層と配線部との密着力が強化されて信頼性が向上するプリント回路基板、及びこれを効率的に製造できる方法を提供することにある。 One of the objects of the present invention is a printed circuit board which is suitable for realizing a fine pattern and further improves the reliability by enhancing the adhesion between the insulating layer and the wiring part, and a method for efficiently manufacturing the same. It is to provide.
上述の課題を解決するための方法として、本発明は、一実施形態により絶縁層と配線部との密着力が強化され、且つ微細な形態の配線部が具現されることができるプリント回路基板の新規の構造を提案することを目的とし、具体的には、本発明の一側面に係るプリント回路基板は、少なくとも一つの絶縁層と、配線部と、を含み、上記絶縁層は、上記配線部と接する第1絶縁層と、上記第1絶縁層の下部に配置された第2絶縁層と、を含み、上記第1及び第2絶縁層の内部には、それぞれ、第1及び第2フィラーが分散されており、上記第1フィラーは、上記第2フィラーよりも酸に対して高いエッチング性を有し、上記第2フィラーは、上記第1フィラーよりもUVに対して低い散乱性を有する構造である。 As a method for solving the above-described problem, the present invention provides a printed circuit board in which the adhesion between an insulating layer and a wiring portion is enhanced according to an embodiment, and a fine wiring portion can be implemented. In order to propose a new structure, specifically, a printed circuit board according to one aspect of the present invention includes at least one insulating layer and a wiring portion, and the insulating layer includes the wiring portion. A first insulating layer in contact with the first insulating layer, and a second insulating layer disposed under the first insulating layer, wherein the first and second fillers are respectively disposed in the first and second insulating layers. The first filler has a higher etching property with respect to acid than the second filler, and the second filler has a lower scattering property with respect to UV than the first filler. It is.
本発明の様々な効果のうちのひとつとして、互いに異なる特性を有するフィラーが分散されている多層構造の絶縁層を採用することにより、絶縁層と配線部との密着力が向上し、且つ微細回路パターンを具現することができるプリント回路基板を提供し、また、本発明の他の効果として、上述の構造のプリント回路基板を効率的に製造できる製造方法を提供することができる。 As one of the various effects of the present invention, by adopting a multi-layered insulating layer in which fillers having mutually different characteristics are dispersed, the adhesion between the insulating layer and the wiring portion is improved, and a fine circuit is provided. A printed circuit board capable of embodying a pattern is provided, and as another effect of the present invention, a manufacturing method capable of efficiently manufacturing a printed circuit board having the above-described structure can be provided.
この場合、上記第1絶縁層において、上記配線部と接する界面には凹凸が形成されており、これを配線部が埋めるように形成されることにより、絶縁層と配線部との十分な密着力が確保されることができる。ここで、上記凹凸は、基板の製造過程において、第1絶縁層の表面に存在していた第1フィラーが除去されることで形成されることができる。 In this case, in the first insulating layer, irregularities are formed at the interface in contact with the wiring portion, and the wiring portion is formed so as to fill the wiring portion, thereby providing sufficient adhesion between the insulating layer and the wiring portion. Can be ensured. Here, the unevenness can be formed by removing the first filler present on the surface of the first insulating layer in the manufacturing process of the substrate.
本発明の多様且つ有益な利点と効果は、上述の内容に限定されず、本発明の具体的な実施形態を説明する過程でより容易に理解することができる。 The various and beneficial advantages and effects of the present invention are not limited to the above-described contents, but can be more easily understood in the course of describing specific embodiments of the present invention.
以下では、添付の図面を参照して本発明の好ましい実施形態について説明する。しかし、本発明の実施形態は様々な他の形態に変形されることができ、本発明の範囲は以下で説明する実施形態に限定されない。また、本発明の実施形態は、当該技術分野で平均的な知識を有する者に本発明をより完全に説明するために提供されるものである。したがって、図面における要素の形状及び大きさなどはより明確な説明のために誇張されることがある。 Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. However, the embodiments of the present invention can be modified in various other forms, and the scope of the present invention is not limited to the embodiments described below. In addition, the embodiments of the present invention are provided to more fully explain the present invention to those skilled in the art. Accordingly, the shape and size of elements in the drawings may be exaggerated for a clearer description.
図1は本発明の一実施形態に係るプリント回路基板を概略的に示す断面図である。図2は図1の実施形態において、絶縁層及び配線部(A領域)の細部形態をより詳細に示す図である。 FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a printed circuit board according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a diagram showing in more detail the detailed configuration of the insulating layer and the wiring portion (A region) in the embodiment of FIG.
図1を参照すると、本発明の一実施形態に係るプリント回路基板100は、絶縁層120と、配線部121と、を含む構造であり、絶縁層120及び配線部121は、コア部110を中心として両側のすべてに配置されることができる。この場合、コア部110には、電気連結のための導電性パターン111と導電性ビア112が備えられることができる。ただし、コア部110は、実施形態に応じて省略されてもよく、以下では、他の構成、特に、絶縁層120及び配線部121を中心にプリント回路基板100の構成要素について詳細に説明する。
Referring to FIG. 1, a printed
絶縁層120は、図1に図示されている例のように、複数個が備えられて積層されてもよく、ただし、場合に応じて、単層の絶縁層120のみで基板を具現してもよい。絶縁層120は、電気絶縁性を有する物質であれば如何なるものでも使用可能であり、例えば、感光性樹脂、エポキシ樹脂のような熱硬化性樹脂、ポリイミドのような熱可塑性樹脂、又はこれらにガラス繊維又は無機フィラーのような補強材が含浸された樹脂、例えば、プリプレグ(PPG)が使用されることができる。このような物質のうち、絶縁層120として感光性物質(Photo Imageable Dielectric、PID)を使用する場合、機械的加工などを用いる場合よりも絶縁層120に微細パターンを形成することが容易であるため、高密度のプリント回路基板の作製に有利であり、本実施形態では、感光性物質を使用した例について説明する。
As shown in the example shown in FIG. 1, a plurality of
配線部は、導電性パターン121と、導電性ビア122と、を含み、これらは、電気伝導度の高い銅、ニッケル、銀などの金属物質からなることができる。上述のように、感光性樹脂を含む物質で絶縁層120を形成する場合、微細パターンの具現が容易になり得る。
The wiring part includes a
外部層130は、配線部の導電性パターン121のうち少なくとも一部を露出させる開口部を有することができる。外部層130の物質は、特に限定されず、例えば、ソルダーレジストを使用してもよい。その他にも、配線部の絶縁層120と同じ物質を使用してもよく、また、外部層130は、単層であることが一般的であるが、必要に応じて、多層に構成されてもよい。
The
図2に図示されている例のように、絶縁層120は、第1及び第2絶縁層120a、120bを含み、第1絶縁層120aは、配線部、本実施形態では、導電性パターン121と接し、第2絶縁層120bは、第1絶縁層120aの下部に配置される。第1及び第2絶縁層120a、120bの内部には、それぞれ、第1及び第2フィラーP1、P2が分散されており、このようなフィラーP1、P2は、絶縁層120a、120bに比べて相対的に熱膨張係数が低い物質からなることにより、絶縁層120a、120bの剛性を増加させることができ、これにより、基板の反り特性の向上に寄与することができる。本実施形態では、絶縁層の全体において同じ種類のフィラーを使用するよりも、領域を区分して、エッチング液や光に対する特性が互いに異なるものを採用した。
As in the example illustrated in FIG. 2, the
具体的には、導電性パターン121と隣接した第1絶縁層120aに含まれた第1フィラーP1は、第2フィラーP2よりも酸に対して高いエッチング性を有する。導電性パターン121を形成する前に、デスミア(desmear)工程などにより絶縁層の表面をエッチングするときにエッチング液に対するエッチング性が低いフィラーを使用する場合、絶縁層の表面に露出した状態で残ることになる。このような状態で導電性パターン121を形成すると、絶縁層120aとの結合力が低下する可能性があるため、本実施形態では、導電性パターン121が形成される領域である第1絶縁層120aの表面で酸に対する高エッチング性を有する第1フィラーP1を使用した。このような物質の例として、SiO2、ZnO、Al2O3、MgO、BN、SiC、AlBO3、BaTiO3、CaZrO3などの物質で第1フィラーP1を形成することができ、図2に図示されている例のように、球状が一般的に採用可能な形状ではあるが、擬似球状又は表面に凹凸が形成された形態など、他の変形された形状も可能である。
Specifically, the first filler P1 included in the first
表面に露出した第1フィラーP1は、基板工程のうちデスミア工程などで使用されるエッチング液により除去されることができ、代表的にはHFが挙げられる。第1フィラーP1が除去されて形成された第1絶縁層120aの表面の凹凸Rは、図2に図示されているように、導電性パターン121によって埋められ、これにより絶縁層120と導電性パターン121との密着力が強化されて回路パターンの安定性が向上することができる。
The first filler P1 exposed on the surface can be removed by an etching solution used in a desmear process or the like in the substrate process, and typically includes HF. The unevenness R on the surface of the first insulating
第2絶縁層120bに含まれた第2フィラーP2は、第1フィラーP1よりも光、特に、絶縁層120に貫通孔を形成するために提供されるUVに対して低い散乱性を有する。このような貫通孔は、基板において層間の電気連結のための導電性ビアを形成するための領域として提供されることができ、上述のように感光性物質を用いて絶縁層を具現する場合、UVなどを照射して、微細且つ精密な形態の貫通孔を形成することができる。しかし、絶縁層に含まれたフィラーは、光を散乱するため、フィラーの量が多くなるほど微細な貫通孔を得ることが困難である。本発明の発明者らは、これを鑑みて、絶縁層の内部に存在する第2フィラーP2に対しては、エッチング特性よりも光に対する散乱性を考慮して選定した。
The second filler P2 included in the second insulating
上述のように、第2フィラーP2は、UVに対して低い散乱性を有することからUVの照射の際に散乱により消耗される光を低減することができる。したがって、絶縁層120に貫通孔を形成する工程を行う際に精度が向上することができる。このような特性を有するように、第2フィラーP2は、白色顔料系物質を用いることができる。具体的には、第2フィラーP2は、BaSO4、TiO2、ZnSなどの物質からなることができる。このような白色顔料系物質の場合、UVに対するエッチング性が低くて貫通孔の形成の面では有利であるが、HFなどのエッチング液に対するエッチング性が相対的に低い。したがって、通常のエッチング工程では絶縁層の表面から簡単に除去されないため、第1フィラーP1を使用した場合よりも導電性パターン121との密着力が低下する可能性がある。このような点を考慮して、導電性パターン121に隣接した絶縁層120aには第1フィラーP1を、隣接していない絶縁層120bには第2フィラーP2を採用した。
As described above, since the second filler P2 has a low scattering property with respect to UV, it is possible to reduce the light consumed by the scattering during UV irradiation. Therefore, the accuracy can be improved when the process of forming the through hole in the insulating
第2フィラーP2の機能について、図3〜図5を参照してより具体的に説明する。図3〜図5は比較例と本発明の実施例に係る絶縁層において貫通孔が形成される様態を比較して示す図である。この場合、図3は第1絶縁層120aを、図4は第2絶縁層120bを、また、図5は図2の形態のように第1及び第2絶縁層120a、120bの積層構造を示し、同一の厚さを基準とした。また、各図面において、左側から右側に向かうほど貫通孔のサイズは減少し、最上面を基準として80μm、30μm、10μmの貫通孔を形成する形態である。
The function of the second filler P2 will be described more specifically with reference to FIGS. 3-5 is a figure which compares and shows the aspect in which a through-hole is formed in a comparative example and the insulating layer based on the Example of this invention. In this case, FIG. 3 shows the first insulating
まず、図3に図示されている例のように、UVに対する散乱性の高い第1フィラー、例えば、SiO2を使用した第1絶縁層120aの場合、消失するUVが相対的に多いため、下部に向かうほど貫通孔Vのサイズが著しく小さくなり、30μm以下の水準の微細な貫通孔Vを具現することに困難がある。一方、図4の例から分かるように、BaSO4、TiO2、ZnSなどの第2フィラーを使用した第2絶縁層120bの場合には、微細な貫通孔Vの具現に問題がないことを確認することができる。これと類似して、第1及び第2絶縁層120a、120bの両方を使用した本発明の実施例(図5)の場合には、フィラーのエッチング性能に優れた第1絶縁層120aが上部に存在するものの、第2絶縁層120bのみを使用した比較例とほぼ類似した水準で微細な貫通孔Vを形成することができた。
First, as in the example illustrated in FIG. 3, in the case of the first insulating
上述の第1及び第2絶縁層120a、120bの固有の機能を考慮して、これらの厚さは適切に調節されることができる。第1絶縁層120aの場合、導電性パターン121との高い結合力を提供することが主な目的であるため、相対的に薄い厚さに形成されることができ、約2〜10μmに形成されることができる。絶縁層全体の貫通孔の形成に関連する第2絶縁層120bは、図5に示されているように、これよりも厚く形成されることができ、第1及び第2絶縁層120a、120bを合わせた全体の厚さは、約100μmを超えない範囲で採用されることができる。
In consideration of the inherent functions of the first and second insulating
このように本発明で採用された多層構造の絶縁層120は、回路パターンとの結合力が高いことから安定性が向上し、且つ、近年、基板分野で広く求められている微細で精密なパターンを具現することができる形態である。
As described above, the insulating
以下、上述のプリント回路基板を効率的に製造できる方法について説明し、上述の構成要素は、下記の製造方法に関する説明によってより詳細に理解することができる。図6は本発明の一実施形態に係るプリント回路基板の製造方法を概略的に示す工程図であり、絶縁層を積層する過程やコア部を形成する過程などは、当技術分野において広く用いられる基板工程を使用することができるため、具体的な説明は省略する。また、図7は本発明で提案する多層構造の絶縁層を得る方法の一例を示す。 Hereinafter, a method by which the above-described printed circuit board can be efficiently manufactured will be described, and the above-described components can be understood in more detail by the following description regarding the manufacturing method. FIG. 6 is a process diagram schematically showing a method of manufacturing a printed circuit board according to an embodiment of the present invention, and a process of laminating an insulating layer, a process of forming a core part, and the like are widely used in this technical field. Since a substrate process can be used, a specific description is omitted. FIG. 7 shows an example of a method for obtaining a multilayered insulating layer proposed in the present invention.
図6を参照すると、まず、多層構造の絶縁層を設け、この場合、第1絶縁層120aは、第1フィラーP1が内部に分散された形態であり、第2絶縁層120bは、第2フィラーP2が内部に分散された形態である。この場合、第2フィラーP2は、第1フィラーP1よりも酸に対して低いエッチング性とUVに対して低い散乱性を有する。絶縁層120a、120bを得る方法の一例として、フィラーP1、P2を未硬化状態の感光性樹脂などとともにキャリアフィルム上にコーティングする方法を用いることができる。この場合、第1及び第2絶縁層120a、120bは、個別に形成されて互いに積層されることができ、これとは異なり、図7に図示されている工程例のように、噴射ユニット202を基準として、キャリアフィルム201を移動しながら多数の吐出部を介してコーティング液を噴射する方法を使用することができる。このような多層コーティング方式により多層構造の絶縁層を単一工程で得ることもできる。
Referring to FIG. 6, first, an insulating layer having a multilayer structure is provided. In this case, the first insulating
次に、UVを照射する方法などを用いて絶縁層120a、120bを貫通する孔Vを形成し、上述のように、UVを相対的に少なく散乱させる第2フィラーP2が採用された第2絶縁層120bにより精密な貫通孔Vを形成することができる。
Next, a hole V penetrating the insulating
次に、第1フィラーP1のうち第1絶縁層120aの表面に露出したものの少なくとも一部を除去して、第1絶縁層120aの表面に凹凸構造、すなわち、第1絶縁層120aの表面の一部が埋められた形態の凹凸を形成する。第1フィラーP1を除去する方法の一例として、デスミア工程中に使用される酸を適用して第1フィラーP1をエッチングすることができる。ただし、第1フィラーP1は、必ずしも貫通孔Vを形成した後に除去される必要はなく、実施例に応じて、その前に除去されてもよい。
Next, at least a part of the first filler P1 exposed on the surface of the first insulating
次に、貫通孔Vを充填する導電性ビア122を形成し、第1絶縁層120aの表面に導電性パターン121を形成する。上述のように、導電性パターン121は、第1絶縁層120aの表面の凹凸を埋めるように形成され、第1絶縁層120aとの安定した結合構造を形成することができる。この場合、導電性パターン121は、導電性ペーストを塗布する方法やシード層を用いためっき工程などにより得られることができる。
Next, a conductive via 122 filling the through hole V is formed, and a
一方、絶縁層120a、120b、導電性パターン121、導電性ビア122を形成する工程の場合、これらを順に積層して行われてもよく、他の例として、絶縁層120a、120b、導電性パターン121、導電性ビア122を個別に作製した後、まとめて積層してもよい。
On the other hand, in the case of the process of forming the insulating
次に、プリント回路基板の最外側にソルダーレジストのような外部層130を形成して、上述の実施形態において説明したプリント回路基板を得ることができ、外部層130は、ICパッケージ基板などとしての利用に適する形態としてデザインや必要な機能に応じて適切な形状で提供されてもよい。
Next, an
以上、本発明の実施形態について詳細に説明したが、本発明の範囲はこれに限定されず、特許請求の範囲に記載された本発明の技術的思想から外れない範囲内で多様な修正及び変形が可能であるということは、当技術分野の通常の知識を有する者には明らかである。 As mentioned above, although embodiment of this invention was described in detail, the scope of the present invention is not limited to this, and various correction and deformation | transformation are within the range which does not deviate from the technical idea of this invention described in the claim. It will be apparent to those having ordinary knowledge in the art.
100 プリント回路基板
110 コア部
111、121 導電性パターン
112、122 導電性ビア
120 絶縁層
120a、120b 第1及び第2絶縁層
130 外部層
P1、P2 第1及び第2フィラー
R 凹凸
V 貫通孔
201 キャリアフィルム
202 噴射ユニット
DESCRIPTION OF
Claims (16)
前記絶縁層は、前記配線部と接する第1絶縁層と、前記第1絶縁層の下部に配置された第2絶縁層と、を含み、
前記第1及び第2絶縁層の内部には、それぞれ、第1及び第2フィラーが分散されており、
前記第1フィラーは、前記第2フィラーよりも酸に対して高いエッチング性を有し、
前記第2フィラーは、前記第1フィラーよりもUVに対して低い散乱性を有する、プリント回路基板。 Including at least one insulating layer and a wiring portion;
The insulating layer includes a first insulating layer in contact with the wiring part, and a second insulating layer disposed under the first insulating layer,
First and second fillers are dispersed in the first and second insulating layers, respectively.
The first filler has higher etchability with respect to acid than the second filler,
The printed circuit board, wherein the second filler has a lower scattering property with respect to UV than the first filler.
前記第1フィラーのうち前記第1絶縁層の表面に露出したものの少なくとも一部を除去して、前記第1絶縁層の表面の一部が埋められた形態の凹凸を形成する段階と、
前記第1絶縁層の表面に配線部を形成する段階と、を含む、プリント回路基板の製造方法。 A first insulating layer in which a first filler is dispersed; and a second insulation in which a second filler having an etching property lower than acid and lower scattering than UV than the first filler is dispersed. And forming an insulating layer comprising:
Removing at least a portion of the first filler exposed on the surface of the first insulating layer to form irregularities in a form in which a portion of the surface of the first insulating layer is buried;
Forming a wiring portion on a surface of the first insulating layer.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR10-2015-0140442 | 2015-10-06 | ||
KR1020150140442A KR102078009B1 (en) | 2015-10-06 | 2015-10-06 | Printed circuit board and manufacturing method of the same |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017073531A true JP2017073531A (en) | 2017-04-13 |
JP6721143B2 JP6721143B2 (en) | 2020-07-08 |
Family
ID=58537932
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016048500A Active JP6721143B2 (en) | 2015-10-06 | 2016-03-11 | Printed circuit board and manufacturing method thereof |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6721143B2 (en) |
KR (1) | KR102078009B1 (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018186264A1 (en) | 2017-04-03 | 2018-10-11 | Kddi株式会社 | Terminal device, base station device, control method, and program |
JPWO2020262245A1 (en) * | 2019-06-26 | 2020-12-30 | ||
CN112911818A (en) * | 2019-12-04 | 2021-06-04 | 奥特斯奥地利科技与系统技术有限公司 | Photoimageable material and method of use and corresponding component carrier and method of manufacture |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20220042692A (en) * | 2020-09-28 | 2022-04-05 | 엘지이노텍 주식회사 | Antena substrate |
KR20230075580A (en) * | 2021-11-23 | 2023-05-31 | 엘지이노텍 주식회사 | Circuit board and package substrate having the same |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS617685A (en) * | 1984-06-21 | 1986-01-14 | イビデン株式会社 | Metal base printed circuit board and method of producing same |
JPH057080A (en) * | 1991-06-27 | 1993-01-14 | Sanyo Electric Co Ltd | Manufacture of multilayer wiring substrate |
JP2013168613A (en) * | 2012-02-17 | 2013-08-29 | Murata Mfg Co Ltd | Manufacturing method of multilayer substrate and multilayer substrate structure |
JP2013232665A (en) * | 2013-06-24 | 2013-11-14 | Taiyo Holdings Co Ltd | Laminate structure and photosensitive dry film used in the same |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5855936B2 (en) | 2011-12-27 | 2016-02-09 | 京セラ株式会社 | Wiring board and mounting structure thereof |
KR20130115022A (en) * | 2012-04-10 | 2013-10-21 | 삼성테크윈 주식회사 | Method for manufacturing a circuit board and insulating core for manufacturing a circuit board |
KR101454111B1 (en) | 2013-04-17 | 2014-10-22 | 삼성전기주식회사 | Insulating resin composition having low CTE and low dielectric loss for PCB, prepreg and PCB using the same |
JP6133689B2 (en) | 2013-05-28 | 2017-05-24 | 京セラ株式会社 | Wiring board and mounting structure using the same |
-
2015
- 2015-10-06 KR KR1020150140442A patent/KR102078009B1/en active Active
-
2016
- 2016-03-11 JP JP2016048500A patent/JP6721143B2/en active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS617685A (en) * | 1984-06-21 | 1986-01-14 | イビデン株式会社 | Metal base printed circuit board and method of producing same |
JPH057080A (en) * | 1991-06-27 | 1993-01-14 | Sanyo Electric Co Ltd | Manufacture of multilayer wiring substrate |
JP2013168613A (en) * | 2012-02-17 | 2013-08-29 | Murata Mfg Co Ltd | Manufacturing method of multilayer substrate and multilayer substrate structure |
JP2013232665A (en) * | 2013-06-24 | 2013-11-14 | Taiyo Holdings Co Ltd | Laminate structure and photosensitive dry film used in the same |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018186264A1 (en) | 2017-04-03 | 2018-10-11 | Kddi株式会社 | Terminal device, base station device, control method, and program |
JPWO2020262245A1 (en) * | 2019-06-26 | 2020-12-30 | ||
WO2020262245A1 (en) * | 2019-06-26 | 2020-12-30 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | Metal-clad laminate plate and printed wiring board |
US11638349B2 (en) | 2019-06-26 | 2023-04-25 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Metal-clad laminate and printed wiring board |
JP7411937B2 (en) | 2019-06-26 | 2024-01-12 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | Metal-clad laminates and printed wiring boards |
CN112911818A (en) * | 2019-12-04 | 2021-06-04 | 奥特斯奥地利科技与系统技术有限公司 | Photoimageable material and method of use and corresponding component carrier and method of manufacture |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR102078009B1 (en) | 2020-02-17 |
JP6721143B2 (en) | 2020-07-08 |
KR20170041020A (en) | 2017-04-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8735739B2 (en) | Wiring board and method for manufacturing the same | |
KR101562486B1 (en) | Multilayer wiring substrate and manufacturing method thereof | |
US9538642B2 (en) | Wiring board and method for manufacturing the same | |
TWI538584B (en) | Embedded high density interconnection printed circuit board and method for manufactruing same | |
TWI526128B (en) | Multilayered substrate and method of manufacturing the same | |
US20150213946A1 (en) | Printed wiring board | |
JP6170790B2 (en) | Wiring board and manufacturing method thereof | |
KR101516072B1 (en) | Semiconductor Package and Method of Manufacturing The Same | |
US9601422B2 (en) | Printed wiring board, semiconductor package, and method for manufacturing printed wiring board | |
JP6721143B2 (en) | Printed circuit board and manufacturing method thereof | |
US11812556B2 (en) | Printed circuit board and manufacturing method thereof | |
JP2016063130A (en) | Printed wiring board and semiconductor package | |
JP5576546B2 (en) | Wiring board manufacturing method | |
KR100832650B1 (en) | Multilayer printed circuit board and its manufacturing method | |
JP2013219204A (en) | Core board for wiring board manufacturing and wiring board | |
US20150156882A1 (en) | Printed circuit board, manufacturing method thereof, and semiconductor package | |
KR20110113980A (en) | Multilayer printed circuit board including film and manufacturing method thereof | |
KR20110010427A (en) | Odd-layer printed circuit board and manufacturing method thereof | |
US20170094786A1 (en) | Printed circuit board and method of manufacturing the same | |
KR102052761B1 (en) | Chip Embedded Board And Method Of Manufacturing The Same | |
US9736939B2 (en) | Printed circuit board and method of manufacturing printed circuit board | |
KR101397303B1 (en) | Printed circuit board and method for manufacturing the same | |
US20240008191A1 (en) | Wiring substrate | |
KR101108816B1 (en) | Multilayer printed circuit board and its manufacturing method | |
TW202448234A (en) | Wiring board |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190117 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20191224 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200107 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200304 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200519 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20200602 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6721143 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |