[go: up one dir, main page]

JP2017054956A - 被加工物の支持治具 - Google Patents

被加工物の支持治具 Download PDF

Info

Publication number
JP2017054956A
JP2017054956A JP2015178418A JP2015178418A JP2017054956A JP 2017054956 A JP2017054956 A JP 2017054956A JP 2015178418 A JP2015178418 A JP 2015178418A JP 2015178418 A JP2015178418 A JP 2015178418A JP 2017054956 A JP2017054956 A JP 2017054956A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
workpiece
support plate
chuck table
holding
plate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2015178418A
Other languages
English (en)
Inventor
福岡 武臣
Takeomi Fukuoka
武臣 福岡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Disco Corp
Original Assignee
Disco Abrasive Systems Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Disco Abrasive Systems Ltd filed Critical Disco Abrasive Systems Ltd
Priority to JP2015178418A priority Critical patent/JP2017054956A/ja
Priority to TW105124807A priority patent/TW201711788A/zh
Priority to US15/245,977 priority patent/US10297488B2/en
Publication of JP2017054956A publication Critical patent/JP2017054956A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/6838Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping with gripping and holding devices using a vacuum; Bernoulli devices
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B28WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
    • B28DWORKING STONE OR STONE-LIKE MATERIALS
    • B28D5/00Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor
    • B28D5/0058Accessories specially adapted for use with machines for fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material
    • B28D5/0082Accessories specially adapted for use with machines for fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material for supporting, holding, feeding, conveying or discharging work
    • B28D5/0094Accessories specially adapted for use with machines for fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material for supporting, holding, feeding, conveying or discharging work the supporting or holding device being of the vacuum type
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B28WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
    • B28DWORKING STONE OR STONE-LIKE MATERIALS
    • B28D5/00Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor
    • B28D5/02Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor by rotary tools, e.g. drills
    • B28D5/022Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor by rotary tools, e.g. drills by cutting with discs or wheels
    • B28D5/023Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor by rotary tools, e.g. drills by cutting with discs or wheels with a cutting blade mounted on a carriage
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B28WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
    • B28DWORKING STONE OR STONE-LIKE MATERIALS
    • B28D5/00Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor
    • B28D5/02Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor by rotary tools, e.g. drills
    • B28D5/022Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor by rotary tools, e.g. drills by cutting with discs or wheels
    • B28D5/024Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor by rotary tools, e.g. drills by cutting with discs or wheels with the stock carried by a movable support for feeding stock into engagement with the cutting blade, e.g. stock carried by a pivoted arm or a carriage
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/673Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
    • H01L21/67346Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders characterized by being specially adapted for supporting a single substrate or by comprising a stack of such individual supports
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/6835Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2221/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof covered by H01L21/00
    • H01L2221/67Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L2221/683Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L2221/68304Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
    • H01L2221/68327Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support used during dicing or grinding

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Dicing (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Constituent Portions Of Griding Lathes, Driving, Sensing And Control (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Abstract

【課題】非常に簡単な構成でダイシングテープを用いない被加工物の加工及び搬出入を可能にした被加工物の支持治具の提供。【解決手段】交差する複数の分割予定ラインによって区画された複数の領域を有する板状の被加工物を吸引保持するチャックテーブル6と、被加工物を分割予定ラインに沿って複数のチップに分割する切削ユニット32とを備えた加工装置で用いる被加工物の支持治具42である。一方の面で被加工物を支持し、反対側の面でチャックテーブルの保持面を覆う支持プレート44と、被加工物の全体を覆う面積を有し、支持された被加工物を支持プレートと挟持する押さえ板とを備える。支持プレートは、被加工物の分割予定ラインに対応する複数の逃げ溝48と、分割されたチップを保持する領域に形成された複数の貫通穴50とを有し、被加工物をチャックテーブルから搬出する際は、被加工物を支持プレートと押さえ板とで挟持して搬出する。【選択図】図4

Description

本発明は、被加工物をチップに分割する際に支持する被加工物の支持治具に関する。
半導体ウェーハや光デバイスウェーハ等のウェーハ、セラミックス基板、樹脂パッケージ、ガラス板等は切削装置かレーザー加工装置で個々のチップに分割される。通常、分割によって複数のチップに分割された後もハンドリング性が良いように、被加工物は外周が環状フレームに貼着されたダイシングテープに貼着された形態のフレームユニットとして、切削装置やレーザー加工装置等に投入される。
しかしながら、フレームユニットで用いるダイシングテープは使い捨てであるため、コストアップの原因となる。被加工物の種類によっては、加工後のチップの取り扱いが比較的粗くても問題ない被加工物もある。
例えば、CSP(Chip Size Package)やBGA(Ball Grid Array)等の樹脂基板やセラミックス基板等がそれに当たり、これらの被加工物を切削する際にはテープレス加工を実現する切削装置が提案されている。
特開2001−085449号公報 特開2001−024003号公報 特開2015−002336号公報
しかし、テープレス加工を実現する従来の切削装置では、1チップ毎にチップをソートする搬送機構が複雑で高価なため、比較的安価な切削装置又は安価なデバイスでは導入が難しいという課題があった。
特許文献3に開示されたテープレスダイサーでは、マニュアルタイプの搬送機構を持たない切削装置に、チップ飛ばしノズルとチップケースを追加することで、安価にテープレスの切削装置を実現しているが、チップをエアーで吹き飛ばしてチップケース内に収容するため、オペレータはチップケースからチップを取り出し、再度チップをチップケースに詰め直す必要があったり、チップケース内に収容されないチップも発生するという課題があった。
本発明はこのような課題に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、非常に簡単な構成でダイシングテープを用いない被加工物の加工及び搬出入を可能にした被加工物の支持治具を提供することである。
本発明によると、交差する複数の分割予定ラインによって区画された複数の領域を有する板状の被加工物を吸引保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された被加工物を該分割予定ラインに沿って複数のチップに分割する加工手段と、を備えた加工装置で用いる被加工物の支持治具であって、一方の面で被加工物を支持し、該一方の面と反対側の他方の面で該チャックテーブルの保持面を覆う支持プレートと、該被加工物の全体を覆う面積を有し、該支持プレートの該一方の面に支持された被加工物を該支持プレートと挟持する押さえ板と、を備え、該支持プレートは、支持する被加工物の該分割予定ラインに対応する複数の溝部と、該交差された溝部に区画され分割されたチップを保持する領域に形成された複数の貫通穴と、を有し、該加工手段でチップに分割された被加工物を該チャックテーブルから搬出する際は、該被加工物を該支持プレートと該押さえ板とで挟持して搬出することを特徴とする被加工物の支持治具が提供される。
好ましくは、被加工物の支持治具は、支持プレートの該一方の面の被加工物を支持する領域に被覆された弾性部材を更に備えている。
本発明の被加工物の支持治具によると、非常にシンプルな構成でダイシングテープを用いない被加工物の加工及び搬出入を可能にした被加工物の支持治具が提供される。
本発明の支持治具が適用可能な切削装置の斜視図である。 本発明第1実施形態に係る支持治具で被加工物を挟持する状態を示す斜視図である。 チャックテーブルで支持治具の支持プレートを吸引保持する様子を示す断面図である。 支持治具を介してチャックテーブルに保持された被加工物を切削している状態の一部断面側面図である。 図5(A)は複数のチップに分割された被加工物上に押さえ板を載置した状態の断面図、図5(B)は支持治具の支持プレートと押さえ板とで複数のチップに分割された被加工物を挟持してチャックテーブルから搬出する様子を示す断面図である。 本発明第2実施形態に係る支持治具の断面図である。
以下、本発明の実施形態を図面を参照して詳細に説明する。図1を参照すると、本発明実施形態に係る被加工物の支持治具が適用可能な切削装置2の斜視図が示されている。図1に示す切削装置2は、人手で被加工物をチャックテーブル6上に載置したりチャックテーブル6から搬出するマニュアルタイプの切削装置である。
4は切削装置2のベースであり、ベース4にはチャックテーブル6が回転可能且つ図示しない加工送り機構によりX軸方向に往復動可能に配設されている。チャックテーブル6の周囲にはウォーターカバー8が配設されており、このウォーターカバー8とベース4に渡り加工送り機構の軸部を保護するための蛇腹10が連結されている。
ベース4の後方には門型形状のコラム12が立設されている。コラム12にはY軸方向に伸長する一対のガイドレール14が固定されている。コラム12にはY軸移動ブロック16がボールねじ18と図示しないパルスモーターとからなるY軸移動機構(割り出し送り機構)20によりガイドレール14に沿ってY軸方向に移動可能に搭載されている。
Y軸移動ブロック16にはZ軸方向に伸長する一対のガイドレール22が固定されている。Y軸移動ブロック16上には、Z軸移動ブロック24がボールねじ26とパルスモーター28とからなるZ軸移動機構30によりガイドレール22に案内されてZ軸方向に移動可能に搭載されている。
Z軸移動ブロック24には切削ユニット32が取り付けられており、切削ユニット32のスピンドルハウジング34中には図4に示すスピンドル36が回転可能に収容されており、スピンドル36の先端部には切削ブレード38が着脱可能に取り付けられている。Z軸移動ブロック24には更に、顕微鏡及びカメラを有する撮像ユニット40が取り付けられている。
図2を参照すると、本発明第1実施形態に係る被加工物の支持治具42で被加工物の一種であるパッケージ基板11を支持する様子を示す斜視図が示されている。パッケージ基板11は矩形状の樹脂基板13を有しており、格子状に形成された分割予定ライン15に区画された各領域17の裏面側にデバイスが搭載されており、各デバイスは樹脂19により封止されている。
支持治具42は、一方の面(表面)でパッケージ基板11を支持し、他方の面(裏面)でチャックテーブル6の保持面7a(図3参照)を覆う支持プレート44と、支持プレート44に支持されたパッケージ基板11を支持プレート44と共に挟持する押さえ板46とから構成される。
好ましくは、支持プレート44及び押さえ板46とも硬質の樹脂から形成される。支持プレート44を樹脂から形成することにより、安価になると共にデバイスチップに対応した大量の吸着部の成型及び穴開けが容易になる。
支持プレート44はその表面にパッケージ基板11の大きさに対応した高さが一段高い保持部45を有しており、保持部45には互いに直交するように切削ブレードの逃がし溝48が複数形成されており、逃がし溝48により保持部45が複数の保持領域45aに分割されている。
図3に示すように、各保持領域45aには貫通穴50が形成されている。各保持領域45a上には貫通穴50に連通する穴52aを有するゴム等の弾性部材52が貼着されている。
図5に示すように、押さえ板46は支持プレート44上に支持されたパッケージ基板11を上方から押さえるため、押さえ板46の直径はパッケージ基板11の対角線の長さより大きく形成されている。
以下、上述のように構成された支持治具42の使用方法について説明する。まず、図3に示すように、支持治具42の支持プレート44をチャックテーブル6上に載置する。この時、ポーラスセラミックス等から形成された吸引保持部7は電磁切替弁54を遮断位置に位置付けることにより、吸引源56との連通を絶たれている。
支持プレート44をチャックテーブル6上に載置した後、パッケージ基板11を支持プレート44の保持部45上に載置し、電磁切替弁54を連通位置に切り替えることにより、吸引保持部7を吸引源56に接続する。これにより、チャックテーブル6の吸引保持部7を介して貫通穴50に負圧が作用し、パッケージ基板11が支持プレート44の保持部45上に吸引保持される。
パッケージ基板11を支持治具42の支持プレート44を介してチャックテーブル6で吸引保持した後、図4に示すように、高速回転する切削ブレード38でパッケージ基板11の分割予定ライン15に沿って切り込み、チャックテーブル6を図1でX1方向に加工送りすることにより、パッケージ基板11を切削する。
この時、切削ブレード38の先端は支持プレート44の保持部45に形成されたブレード逃げ溝48を通して回転するため、切削ブレード38で支持プレート44を傷つけることはない。
切削ユニット32をY軸方向に割り出し送りしながら、第1の方向に伸長するパッケージ基板11の分割予定ライン15を次々と切削する。次いで、チャックテーブルを90°回転してから、第1の方向に直交する第2の方向に伸長する分割予定ライン15を同様に切削して、図5に示すように、パッケージ基板11を個々のデバイスパッケージ23に分割する。
パッケージ基板11の分割が修了した状態が図5(A)に示されている。次いで、図5(B)に示すように、電磁切替弁54を遮断位置に切り替えてチャックテーブル6の吸引保持部7の吸引源56との連通を遮断した後、支持治具42の支持プレート44と押さえ板46とでパッケージ基板11を挟持した状態でオペレータが個々のデバイスパッケージ23に分割した状態のパッケージ基板11をチャックテーブル6から搬出する。
本実施形態の被加工物の支持治具42では、個々のデバイスパッケージ23に分割後のパッケージ基板11を支持プレート44と押さえ板46で挟んで搬出できるため、非常に安価で且つ簡単な構成で切削加工後のパッケージ基板11を確実に搬出することができる。
図6を参照すると、本発明第2実施形態に係る支持治具及びチャックテーブルの断面図が示されている。支持治具42Aの支持プレート44Aは、支持プレート44Aをチャックテーブル6Aに位置合わせするための一対の位置決めピン58を有しており、チャックテーブル6Aにはこれらのピン58が嵌合するピン穴9が形成されている。
支持プレート44Aには更に、パッケージ基板11を支持プレート44Aの保持部45Aに位置合わせするための一対の突き当てピン60が保持部45Aの一辺又は隣合う二辺に沿って形成されている。
押さえ板46Aは、支持プレート44Aの保持部45A及び保持部45A上に載置されたパッケージ基板11を収容するための矩形状の凹部62を有している。従って、押さえ板46Aは、凹部62に対応する薄肉部64aと薄肉部64aを囲繞する厚肉部64bとから構成されている。
押さえ板46Aは互いに180°離間した一対の回動可能なラッチ66を有している。押さえ板46Aの薄肉部46aには、支持プレート44Aの貫通穴50に対応した複数の貫通穴65が形成されている。押さえ板46Aは更に、支持プレート44Aの突き当てピン60が収容される収容部68を有している。
このように構成された本実施形態の使用方法について以下に説明する。まず、支持治具46Aの支持プレート44Aを、一対の位置決めピン58をチャックテーブル6Aのピン穴9に嵌合するようにして、チャックテーブル6A上に位置決めして載置する。次いで、パッケージ基板11を支持プレート44Aの突き当てピン60に突き当てて保持部45A上に載置し、パッケージ基板11を支持プレート44Aの保持部45Aで吸引保持する。
次いで、図4に示すのと同様に、高速回転する切削ブレード38でパッケージ基板11の分割予定ライン15を切削して、パッケージ基板11を個々のデバイスパッケージ23に分割する。
パッケージ基板11の分割が終了したならば、パッケージ基板11の吸引保持を解除し、押さえ板46Aのラッチ66を支持プレート44Aに係合して、支持治具42Aの支持プレート44Aと押さえ板46Aとでパッケージ基板11を挟持した状態で、オペレータが個々のデバイスチップ23に分割した状態のパッケージ基板11をチャックテーブル6Aから搬出する。
本実施形態の被加工物の支持治具42Aでは、押さえ板46Aのラッチ66が支持プレート44Aに係合した状態でパッケージ基板11をチャックテーブル6Aから搬出できるため、パッケージ基板11の搬送時に支持プレート44Aと押さえ板46Aとがずれることがない。
また、押さえ板46Aの薄肉部64aには複数の貫通穴65が形成されているため、パッケージ基板11を個々のデバイスパッケージ23に分割して支持治具42Aで挟持して搬送した後、又は搬送中に分割したパッケージ基板11を洗浄したり乾燥したりすることができる。
上述した各実施形態では、本発明実施形態に係る被加工物の支持治具42,42Aをパッケージ基板11に適用した例について説明したが、被加工物はパッケージ基板に限定されるものではなく、セラミックス基板、生セラミックス基板、樹脂基板、ガラス板等を支持するために同様に利用することができる。
2 切削装置
6 チャックテーブル
7 吸引保持部
7a 保持面
11 パッケージ基板
13 金属フレーム
15 分割予定ライン
17 デバイス領域
19 封止樹脂
32 切削ユニット
38 切削ブレード
42,42A 被加工物の支持治具
44,44A 支持プレート
45,45A 保持部
45a 保持領域
46,46A 押さえ板
48 逃げ溝
50 貫通穴
52 弾性部材
56 吸引源

Claims (3)

  1. 交差する複数の分割予定ラインによって区画された複数の領域を有する板状の被加工物を吸引保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された被加工物を該分割予定ラインに沿って複数のチップに分割する加工手段と、を備えた加工装置で用いる被加工物の支持治具であって、
    一方の面で被加工物を支持し、該一方の面と反対側の他方の面で該チャックテーブルの保持面を覆う支持プレートと、
    該被加工物の全体を覆う面積を有し、該支持プレートの該一方の面に支持された被加工物を該支持プレートと挟持する押さえ板と、を備え、
    該支持プレートは、支持する被加工物の該分割予定ラインに対応する複数の溝部と、該交差された溝部に区画され分割されたチップを保持する領域に形成された複数の貫通穴と、を有し、
    該加工手段でチップに分割された被加工物を該チャックテーブルから搬出する際は、該被加工物を該支持プレートと該押さえ板とで挟持して搬出することを特徴とする被加工物の支持治具。
  2. 該支持プレートの該一方の面の該被加工物を支持する領域に被覆された弾性部材を更に備えた請求項1記載の被加工物の支持治具。
  3. 該支持プレートは樹脂で構成されている請求項1又は2記載の被加工物の支持治具。
JP2015178418A 2015-09-10 2015-09-10 被加工物の支持治具 Pending JP2017054956A (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015178418A JP2017054956A (ja) 2015-09-10 2015-09-10 被加工物の支持治具
TW105124807A TW201711788A (zh) 2015-09-10 2016-08-04 被加工物的支持治具
US15/245,977 US10297488B2 (en) 2015-09-10 2016-08-24 Workpiece support jig

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015178418A JP2017054956A (ja) 2015-09-10 2015-09-10 被加工物の支持治具

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2017054956A true JP2017054956A (ja) 2017-03-16

Family

ID=58257579

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015178418A Pending JP2017054956A (ja) 2015-09-10 2015-09-10 被加工物の支持治具

Country Status (3)

Country Link
US (1) US10297488B2 (ja)
JP (1) JP2017054956A (ja)
TW (1) TW201711788A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190020615A (ko) * 2017-08-21 2019-03-04 가부시기가이샤 디스코 가공 방법
KR101986066B1 (ko) * 2019-01-18 2019-06-04 (주)에스아이티에스 메인베이스 제조장치

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20180064605A (ko) * 2016-12-05 2018-06-15 삼성디스플레이 주식회사 레이저 가공용 워크 테이블 및 이의 동작 방법
CN206662561U (zh) * 2017-04-25 2017-11-24 京东方科技集团股份有限公司 激光切割基台和激光切割装置
JP6785735B2 (ja) * 2017-09-07 2020-11-18 Towa株式会社 切断装置及び半導体パッケージの搬送方法
JP7313204B2 (ja) * 2019-06-20 2023-07-24 株式会社ディスコ 加工装置
US11008079B1 (en) 2019-08-29 2021-05-18 Scott Alan Davis Devices, systems, and methods for aligning a boat skeleton to form a boat hull
CN111152374B (zh) * 2020-01-10 2021-10-15 杨龙 一种用于半导体晶圆生产的切段机
JP7412855B2 (ja) * 2020-02-04 2024-01-15 株式会社ディスコ 切削装置
JP7399021B2 (ja) * 2020-04-02 2023-12-15 株式会社ディスコ 切削装置

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5803797A (en) * 1996-11-26 1998-09-08 Micron Technology, Inc. Method and apparatus to hold intergrated circuit chips onto a chuck and to simultaneously remove multiple intergrated circuit chips from a cutting chuck
JP2000100757A (ja) * 1998-09-18 2000-04-07 Towa Corp テ―プレス基板の切断方法、切断装置およびそれに用いられるダイシング処理用基板支持装置
JP2004055860A (ja) * 2002-07-22 2004-02-19 Renesas Technology Corp 半導体装置の製造方法
JP2011066114A (ja) * 2009-09-16 2011-03-31 Toshiba Corp チップ加工装置およびチップ加工方法
JP2013058623A (ja) * 2011-09-08 2013-03-28 Renesas Electronics Corp 半導体装置の製造方法

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3809050A (en) * 1971-01-13 1974-05-07 Cogar Corp Mounting block for semiconductor wafers
US3976288A (en) * 1975-11-24 1976-08-24 Ibm Corporation Semiconductor wafer dicing fixture
US5445559A (en) * 1993-06-24 1995-08-29 Texas Instruments Incorporated Wafer-like processing after sawing DMDs
US5618759A (en) * 1995-05-31 1997-04-08 Texas Instruments Incorporated Methods of and apparatus for immobilizing semiconductor wafers during sawing thereof
US5809987A (en) * 1996-11-26 1998-09-22 Micron Technology,Inc. Apparatus for reducing damage to wafer cutting blades during wafer dicing
JP3641115B2 (ja) * 1997-10-08 2005-04-20 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理装置
US6187654B1 (en) * 1998-03-13 2001-02-13 Intercon Tools, Inc. Techniques for maintaining alignment of cut dies during substrate dicing
US6150240A (en) * 1998-07-27 2000-11-21 Motorola, Inc. Method and apparatus for singulating semiconductor devices
JP4339452B2 (ja) 1999-07-09 2009-10-07 株式会社ディスコ Csp基板分割装置
JP4388640B2 (ja) 1999-09-10 2009-12-24 株式会社ディスコ Csp基板保持部材及び該csp基板保持部材が載置されるcsp基板用テーブル
JP2006108273A (ja) * 2004-10-04 2006-04-20 Disco Abrasive Syst Ltd ウエーハの分割方法および分割装置
JP6081868B2 (ja) 2013-06-18 2017-02-15 株式会社ディスコ 切削装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5803797A (en) * 1996-11-26 1998-09-08 Micron Technology, Inc. Method and apparatus to hold intergrated circuit chips onto a chuck and to simultaneously remove multiple intergrated circuit chips from a cutting chuck
JP2000100757A (ja) * 1998-09-18 2000-04-07 Towa Corp テ―プレス基板の切断方法、切断装置およびそれに用いられるダイシング処理用基板支持装置
JP2004055860A (ja) * 2002-07-22 2004-02-19 Renesas Technology Corp 半導体装置の製造方法
JP2011066114A (ja) * 2009-09-16 2011-03-31 Toshiba Corp チップ加工装置およびチップ加工方法
JP2013058623A (ja) * 2011-09-08 2013-03-28 Renesas Electronics Corp 半導体装置の製造方法

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190020615A (ko) * 2017-08-21 2019-03-04 가부시기가이샤 디스코 가공 방법
CN109421179A (zh) * 2017-08-21 2019-03-05 株式会社迪思科 加工方法
JP2019034391A (ja) * 2017-08-21 2019-03-07 株式会社ディスコ 加工方法
TWI774828B (zh) * 2017-08-21 2022-08-21 日商迪思科股份有限公司 加工方法
KR102524259B1 (ko) * 2017-08-21 2023-04-20 가부시기가이샤 디스코 가공 방법
KR101986066B1 (ko) * 2019-01-18 2019-06-04 (주)에스아이티에스 메인베이스 제조장치

Also Published As

Publication number Publication date
US10297488B2 (en) 2019-05-21
TW201711788A (zh) 2017-04-01
US20170076971A1 (en) 2017-03-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2017054956A (ja) 被加工物の支持治具
TWI719055B (zh) 加工裝置的搬運機構
CN107533965B (zh) 吸附机构、吸附方法、制造装置及制造方法
KR102227406B1 (ko) 웨이퍼 가공 시스템
US10475681B2 (en) Chip accommodation tray
JP6491017B2 (ja) 被加工物の搬送トレー
JP2012144261A (ja) 搬送トレイ
CN107068606B (zh) 加工装置
KR20170072136A (ko) 가공 장치
JP6579929B2 (ja) 加工装置
JP6193133B2 (ja) 加工装置
JP6804154B2 (ja) パッケージ基板の加工方法及び切削装置
JP7233813B2 (ja) 加工装置
JP3222726U (ja) 切削装置
JP2017199863A (ja) カセット
JP2018078209A (ja) 搬送装置、加工装置及び搬送方法
JP6475085B2 (ja) チップの搬出方法
JP2020116719A (ja) 搬送機構、被加工物の搬送方法及び加工装置
JP2016201511A (ja) 搬出治具

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20180724

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20190313

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20190319

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20190924