JP2016500404A - スルホンポリマー膜の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
(i)
− 少なくとも1つのスルホンポリマー[ポリマー(P)]と;
−溶媒混合物[混合物(M)]であって、
式(Ide)のジエステルおよび式(Iea)のエステル−アミドからなる群から選択され、任意選択的に少なくとも1つの式(Ida)のジアミド:
R1−OOC−Ade−COO−R2 (Ide)
R1−OOC−Aea−CO−NR3R4 (Iea)
R5R6N−OC−Ada−CO−NR5R6 (Ida)
[式中:
− 互いに等しいかもしくは異なる、R1およびR2は独立して、C1〜C20炭化水素基からなる群から選択され;
− 互いにかつ出現ごとに等しいかもしくは異なる、R3、R4、R5およびR6は独立して、水素、置換されている可能性がある、C1〜C36炭化水素基からなる群から選択され、R3およびR4は、それらが結合している窒素原子を含む環状部分(前記環状部分は、置換されている可能性があるおよび/または1つもしくは2つ以上の追加のヘテロ原子を含む可能性がある、ならびにそれらの混合物である)の一部であってもよいことが理解され;
− 互いに等しいかもしくは異なるAde、Aea、およびAdaは独立して、線状もしくは分岐の二価アルキレン基である]
を含む少なくとも1つの溶媒、および
任意選択的にジメチルスルホキシド(DMSO)
を含む溶媒混合物[混合物(M)]と
を含むスルホンポリマー溶液[溶液(SP)]を調製する工程と;
(ii)前記溶液(SP)を処理してフィルムにする工程と;
(iii)前記フィルムを非溶媒浴に浸漬する工程と
を含む方法に関する。
− 式MGa−CH(CH3)−CH2−CH2−またはMGb−CH2−CH2−CH(CH3)−のAMG基、
− 式ESa−CH(C2H5)−CH2−、またはESb−CH2−CH(C2H5)−のAES基;および
− それらの混合物
からなる群から選択される。
(i)場合により少なくとも1つの式(IIde)のジエステルと組み合わせて、ジエステル(I’de)の少なくとも1つおよび少なくとも1つのジエステル(I’’de);または
(ii)場合により少なくとも1つの式(IIea)のエステルアミドと組み合わせて、エステルアミド(I’ea)の少なくとも1つおよび少なくとも1つのエステルアミド(I’’ea;または
(iii)場合により少なくとも1つの式(IIea)のエステルアミドおよび/または少なくとも1つの式(IIda)のジアミドと組み合わせて、エステルアミド(I’ea)の少なくとも1つ、少なくとも1つのジアミド(I’da)、少なくとも1つのエステルアミド(I’’ea)および少なくとも1つのジアミド(I’’da);または
(iv)(i)と(ii)および/または(iii)との組み合わせ
を含み、
ここで:
− (I’de)は、R1−OOC−AMG−COO−R2であり、
− (I’ea)は、R1−OOC−AMG−CO−NR3R4であり、
− (I’da)は、R5R6N−OC−AMG−CO−NR5R6であり、
− (I’’de)は、R1−OOC−AES−COO−R2であり、
− (I’’ea)は、R5R6N−OC−AES−CO−NR5R6であり;ならびに
− (IIde)は、R1−OOC−(CH2)4−COO−R2であり、
− (IIea)は、R1−OOC−(CH2)4−CO−NR3R4であり、
− (IIda)は、R5R6N−OC−(CH2)4−CO−NR5R6であり、
式中:
− AMGは、式MGa−CH(CH3)−CH2−CH2−またはMGb−CH2−CH2−CH(CH3)−のものであり、
− AESは、式ESa−CH(C2H5)−CH2−、またはESb−CH2−CH(C2H5)−のものであり;
互いに等しいかもしくは異なる、R1およびR2は独立して、C1〜C20アルキル、C1〜C20アリール、C1〜C20アルキアリール、C1〜C20のアリールアルキル基からなる群から選択され、
− 互いにかつ出現ごとに等しいかもしくは異なる、R3、R4、R5およびR6は、C1〜C20アルキル、C1〜C20アリール、C1〜C20アルキアリール、C1〜C20アリールアルキル基(すべての前記基は、1つもしくは2つ以上の置換基を含む可能性があり、1つもしくは2つ以上のヘテロ原子を有する可能性がある)から、ならびに(1)R3およびR4またはR5およびR6と(2)それらが結合している窒素原子とを両方とも含む環状部分(前記環状部分は、1つもしくは2つ以上のヘテロ原子、例えば酸素原子または追加の窒素原子を含む可能性がある)からなる群から選択される。
(j)
− 70〜95重量%の式(I’de)のジエステル;
− 5〜30重量%の式(I’’de)のジエステル、および
− 0〜10重量%の、上に詳述されたような、式(IIde)のジエステル
から本質的になるジエステル混合物;または
(jj)
− 70〜95重量%の式(I’ea)のエステルアミド;
− 5〜30重量%の式(I’’ea)のエステルアミド、および
− 0〜10重量%の、上に詳述されたような、式(IIea)のエステルアミドのいずれか
から本質的になるエステルアミド混合物;または
(jjj)
− (I’da)が(I’ea)および(I’da)の累積秤量の0.01〜10重量%を表す状態で、70〜95重量%の式(I’ea)エステルアミドおよび式(I’da)のジアミド;
− (I’’da)が(I’’ea)および(I’’da)の累積秤量の0.01〜10重量%を表す状態で、5〜30重量%の式(I’’ea)のエステルアミドおよび式(I’’da)のジアミドならびに
− 0〜10重量%の、上に詳述されたような、式(IIea)のエステルアミドおよびジアミド(IIda)のいずれか
から本質的になるエステルアミド/ジアミド混合物;または
上に詳述されたような(j)と(jj)および/または(jjj)との混合物
を含む(またはそれらから本質的になる)ことができる。
(k)式(III4 de)のジエステル、式(III3 de)のジエステル、および式(III2 de)のジエステルの少なくとも1つ;または
(kk)エステルアミド(III4 ea)、エステルアミド(III3 ea)、および式(III2 ea)のエステルアミドの少なくとも1つ;または
(kkk)式(III4 ea)のエステルアミド、式(III3 ea)のエステルアミド、および式(III2 ea)のエステルアミドの少なくとも1つ、ならびに式(III4 da)のジアミド、式(III3 da)のジアミド、および式(III2 da)のジアミドの少なくとも1つ;または
(kv)(k)と(kk)および/または(kkk)との組み合わせ
を含み、
ここで:
− (III4 de)は、R1−OOC−(CH2)4−COO−R2であり、
− (III3 de)は、R1−OOC−(CH2)3−COO−R2であり、
− (III2 de)は、R1−OOC−(CH2)2−COO−R2であり、
− (III4 ea)は、R1−OOC−(CH2)4−CO−NR3R4であり、
− (III3 ea)は、R1−OOC−(CH2)3−CO−NR3R4であり、
− (III2 ea)は、R1−OOC−(CH2)2−CO−NR3R4であり、
− (III4 da)は、R5R6N−OC−(CH2)4−CO−NR5R6であり、
− (III3 da)は、R5R6N−OC−(CH2)3−CO−NR5R6であり、
− (III2 da)は、R5R6N−OC−(CH2)2−CO−NR5R6であり、
式中、互いに等しいかもしくは異なる、R1およびR2は独立して、C1〜C20アルキル、C1〜C20アリール、C1〜C20アルキアリール、C1〜C20アリールアルキル基であり;
− 互いにかつ出現ごとに等しいかもしくは異なる、R3、R4、R5およびR6は、C1〜C20アルキル、C1〜C20アリール、C1〜C20アルキアリール、C1〜C20アリールアルキル基(すべての前記基は、1つもしくは2つ以上の置換基を含む可能性があり、1つもしくは2つ以上のヘテロ原子を有する可能性がある)から、ならびに(1)R3およびR4またはR5およびR6と(2)それらが結合している窒素原子とを両方とも含む環状部分(前記環状部分は、1つもしくは2つ以上のヘテロ原子、例えば酸素原子または追加の窒素原子を含む可能性がある)からなる群から選択される。
(I)アジピン酸ジメチル(r=4)、グルタル酸ジメチル(r=3)、およびコハク酸ジメチル(r=2)から本質的になるジエステル混合物;または
(II)H3COOC−(CH2)4−CO−N(CH3)2、H3COOC−(CH2)3−CO−N(CH3)2、およびH3COOC−(CH2)2−CO−N(CH3)2から本質的になるエステルアミド混合物;または
(III)アジピン酸ジエチル(r=4)、グルタル酸ジエチル(r=3)およびコハク酸ジエチル(r=2)のジエステル混合物;または
(Iv)H5C2OOC−(CH2)4−CO−N(CH3)2、H5C2OOC−(CH2)3−CO−N(CH3)2、およびH5C2OOC−(CH2)2−CO−N(CH3)2から本質的になるエステルアミド混合物;または
(v)アジピン酸ジイソブチル(r=4)、グルタル酸ジイソブチル(r=3)およびコハク酸ジイソブチル(r=2)の混合物;または
(vI)H9C4OOC−(CH2)4−CO−N(CH3)2、H9C4OOC−(CH2)3−CO−N(CH3)2、およびH9C4OOC−(CH2)2−CO−N(CH3)2から本質的になるエステルアミド混合物;または
(vII)それらの混合物
を含むことができる。
− 9〜17重量%のアジピン酸ジメチル;
− 59〜67重量%のグルタル酸ジメチル;および
− 20〜28重量%のコハク酸ジメチル
から本質的になるジエステル混合物である。
− 脂肪族炭化水素、より具体的には、特に、ペンタン、ヘキサン、へプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカンまたはシクロヘキサンなどのパラフィン、ならびにナフタレンおよび芳香族炭化水素、より具体的には、特に、ベンゼン、トルエン、キシレン、クメン、アルキルベンゼンの混合物からなる石油留分などの芳香族炭化水素;
− 脂肪族または芳香族ハロゲン化炭化水素、より具体的には、特に、テトラクロロエチレン、ヘキサクロロエタンなどの過塩素化炭化水素;ジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、1,1,1−トリクロロエタン、1,1,2,2−テトラクロロエタン、ぺンタクロロエタン、トリクロロエチレン、1−クロロブタン、1,2−ジクロロブタンなどの部分的に塩素化された炭化水素;モノクロロベンゼン、1,2−ジクロロベンゼン、1,3−ジクロロベンゼン、1,4−ジクロロベンゼン、1,2,4−トリクロロベンゼンもしくは異なるクロロベンゼン類の混合物;
− 脂肪族、脂環式または芳香族のエーテルオキシド、より具体的には、ジエチルオキシド、ジプロピルオキシド、ジイソプロピルオキシド、ジブチルオキシド、メチル第三ブチルエーテル、ジペンチルオキシド、ジイソペンチルオキシド、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル ベンジルオキシド;ジオキサン、テトラヒドロフラン(THF);
− エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、エチレングリコールモノベンジルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−n−ブチルエーテルなどのグリコールエーテル;
− エチレングリコールメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテートなどのグリコールエーテルエステル;
− メチルアルコール、エチルアルコール、ジアセトンアルコールなどのアルコール;
− アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロンなどのケトン;
− イソプロピルアセテート、n−ブチルアセテート、メチルアセトアセテート、ジメチルフタレート、γ−ブチロラクトンなどの線状または環状エステル;
− N,N−ジメチルアセトアミド(DMAC)、N,N−ジエチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド(DMF)、ジエチルホルムアミドまたはN−メチル−2−ピロリドン(NMP)などの線状または環状のカルボキサミド;
− 例えば炭酸ジメチル、炭酸ジエチル、炭酸ジプロピル、炭酸ジブチル、炭酸エチルメチル、炭酸エチレン、炭酸ビニレンなどの有機炭酸エステル;
− リン酸トリメチル、リン酸トリエチルなどのリン酸エステル;
− テトラメチル尿素、テトラエチル尿素などの尿素類
が挙げられる。
[式中:
→は、任意の繰り返し単位において、矢印が指し示す基が示される通り、または入れ替えられた位置に存在してもよいような異性を意味し、
A’’は、
および相当する任意選択的に置換された構造からなる群から選択され、Yは、−O−、−C(O)−、−(CH2)n−、−C(CF3)2−、−(CF2)n−であり、nは、1〜5の整数、およびその混合物である]
での、繰り返し単位(RSP−1)である。
−Ar1−(T’−Ar2)n−O−Ar3−SO2−[Ar4−(T−Ar2)n−SO2]m−Ar5−O− (RSP−2)
[式中:
− 互いにかつ出現ごとに等しいかもしくは異なる、Ar1、Ar2、Ar3、Ar4、およびAr5は独立して、芳香族単核または多核基であり;
− 互いにかつ出現ごとに等しいかもしくは異なる、TおよびT’は独立して、結合または任意選択的に1つもしくは2つ以上のヘテロ原子を含む二価基であり、好ましくはT’は、結合、−CH2−、−C(O)−、−C(CH3)2−、−C(CF3)2−、−C(=CCl2)−、−SO2−、−C(CH3)(CH2CH2COOH)−、および式:
の基からなる群から選択され、
好ましくはTは、結合、−CH2−、−C(O)−、−C(CH3)2−、−C(CF3)2−、−C(=CCl2)−、−C(CH3)(CH2CH2COOH)−、および式
の基からなる群から選択され、
− 互いに等しいかもしくは異なる、nおよびmは独立して、ゼロまたは1〜5の整数である]
に従う繰り返し単位(RSP−2)である。
[式中:
− 互いに等しいかもしくは異なる、R’のそれぞれは、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、エーテル、チオエーテル、カルボン酸、エステル、アミド、イミド、アルカリまたはアルカリ土類金属スルホネート、アルキルスルホネート、アルカリまたはアルカリ土類金属ホスホネート、アルキルホスホネート、アミンおよび第四級アンモニウムからなる群から選択され;
− 互いに等しいかもしくは異なる、TおよびT’は、結合または任意選択的に1つもしくは2つ以上のヘテロ原子を含む二価基であり;好ましくはT’は、結合、−CH2−、−C(O)−、−C(CH3)2−、−C(CF3)2−、−C(=CCl2)−、−C(CH3)(CH2CH2COOH)−、−SO2−、および式:
の基からなる群から選択され、
好ましくはTは、結合、−CH2−、−C(O)−、−C(CH3)2−、−C(CF3)2−、−C(=CCl2)−、−C(CH3)(CH2CH2COOH)−、および式:
の基からなる群から選択され、
− j’は、ゼロであるかまたは0〜4の整数である]
のものからなる群から選択することができる。
− エステル−アミド(EA)は、商品名POLAR CLEAN(R)でSolvayから商業的に入手可能な、Me=メチルの式MeO−C(O)−CH(Me)−CH2CH2C(O)−NMe2のエステル−アミドと少量のMeO−C(O)−CH(Et)−CH2−C(O)−NMe2ならびに場合によりMe2N−C(O)−CH(Me)−CH2CH2C(O)−NMe2および/またはMe2N−C(O)−CH(Et)−CH2−C(O)−NMe2とを含む混合物であり;
− ジエステル(DE)は、商品名RHODIASOLV(登録商標)IRISでSolvayから商業的に入手可能な、エチルコハク酸ジメチルと2−メチルグルタル酸ジメチルとから本質的に(80重量%超)なるジエステル混合物であり;
− PESは、VERADEL(登録商標)PES 3000MP、Solvay Specialty Polymers USA,LLCから商業的に入手可能なポリエーテルスルホンポリマーであり;
− PSUは、Solvay Specialty Polymers USA,LLCからから商品名UDEL(登録商標)で商業的に入手可能なポリスルホンポリマーであり;
− PVPは、ポリビニルピロリドンポリマーである。
最初の溶解性研究は、DMSOとの混和剤(50/50wt/wt)での、上に詳述されたような、エステル−アミド(EA)へのおよびジエステル(DE)の混合物への上に詳述されたような、PESおよびPSUの溶解性を評価するために実施した。
PESは、周囲温度で両溶媒混合物に10重量%溶けることが分かった。
PSUは、約120℃に加熱すると両溶媒混合物に10重量%溶けることが分かった。溶解度は、少なくともエステル−アミド(EA)溶媒混合物については室温で維持された。
この溶解性挙動のために、両溶媒混合物は、膜の形態下にさらに処理するための好適な溶液を製造するのに適切であることが分かった。
解膠ブレードを備えたミキサー中で、上に詳述されたような、溶媒EAを脱気して80℃に加熱し;この温度が達成されたらすぐに、PVPを先ず導入し、20〜30分間500rpmで攪拌した。次に、PESを、添加の間ずっと500rpmでの攪拌を維持して添加し、次に、40〜60分間80℃および200rpmでの攪拌を続行した。16%または20重量%のPESと5重量%のPVPとを含有する無色透明な溶液が得られた。室温での前記均一な溶液の安定性は、3日貯蔵後の目視検査によって検証した:相分離も結晶化もまったく観察されなかった。
そのようにして得られた溶液の粘度は、室温(25℃)で100Pa×秒未満であり、3日貯蔵後に未変化のままであることが分かった。
上に記載されたような、溶液の調製に関する結果は、貯蔵能力の観点からおよび、従来の液体処理技術によってフィルムを得るために有利に用いられるという、粘度の観点からの両方で、上に詳述されたような、溶液の適格性を明らかに実証している。さらに、その上、使用される溶媒の混和性は、効率的な凝固を従来の非溶媒浴で達成するために特に有利であり、その結果適切な構造の膜を得ることを確実にする。
溶媒EA中のおよびDEとDMSOとの混合物中の両方で上に詳述されたように得られた、PESおよびPVPの溶液を、フィルムを得るために支持ホイル上にキャスティングナイフを使って処理した。そのようにして得られたフィルムを、ポリマーを凝固させ、そしてPVPを実質的に除去するために水浴中に浸漬した。約100μmの厚さを有する多孔質膜が得られた;その厚さ方向でのカットオフの顕微鏡写真(倍率=1:500)をそれぞれ、図1(溶媒EAからの膜)および図2(溶媒DE+DMSOからの膜)に示す。
Claims (15)
- スルホンポリマー膜の製造方法であって、
(i)
− 少なくとも1つのスルホンポリマー[ポリマー(P)]と;
− 溶媒混合物[混合物(M)]であって、
式(Ide)のジエステルおよび式(Iea)のエステル−アミドからなる群から選択され、任意選択的に少なくとも1つの式(Ida)のジアミド:
R1−OOC−Ade−COO−R2 (Ide)
R1−OOC−Aea−CO−NR3R4 (Iea)
R5R6N−OC−Ada−CO−NR5R6 (Ida)
[式中:
− 互いに等しいかもしくは異なる、R1およびR2は独立して、C1〜C20炭化水素基からなる群から選択され;
− 互いにかつ出現ごとに等しいかもしくは異なる、R3、R4、R5およびR6は独立して、水素、置換されている可能性がある、C1〜C36炭化水素基からなる群から選択され、R3およびR4は、それらが結合している窒素原子を含む環状部分(前記環状部分は、置換されている可能性があるおよび/または1つもしくは2つ以上の追加のヘテロ原子を含む可能性がある、ならびにそれらの混合物である)の一部であってもよいことが理解され;
− 互いに等しいかもしくは異なるAde、Aea、およびAdaは独立して、線状もしくは分岐の二価アルキレン基である]
を含む少なくとも1つの溶媒、および
任意選択的にジメチルスルホキシド(DMSO)
を含む溶媒混合物[混合物(M)]と
を含むスルホンポリマー溶液[溶液(SP)]を調製する工程と;
(ii)前記溶液(SP)を処理してフィルムにする工程と;
(iii)前記フィルムを非溶媒浴に浸漬する工程と
を含む方法。 - 前記混合物(M)が、場合によりDMSOに加えて、
(i)場合により少なくとも1つの式(IIde)のジエステルと組み合わせて、ジエステル(I’de)の少なくとも1つおよび少なくとも1つのジエステル(I’’de);または
(ii)場合により少なくとも1つの式(IIea)のエステルアミドと組み合わせて、エステルアミド(I’ea)の少なくとも1つおよび少なくとも1つのエステルアミド(I’’ea);
(iii)場合により少なくとも1つの式(IIea)のエステルアミドおよび/または少なくとも1つの式(IIda)のジアミドと組み合わせて、エステルアミド(I’ea)の少なくとも1つ、少なくとも1つのジアミド(I’da)、少なくとも1つのエステルアミド(I’’ea)および少なくとも1つのジアミド(I’’da);または
(iv)(i)と(ii)および/または(iii)との組み合わせ
を含み、
ここで、
− (I’de)は、R1−OOC−AMG−COO−R2であり、
− (I’ea)は、R1−OOC−AMG−CO−NR3R4であり、
− (I’da)は、R5R6N−OC−AMG−CO−NR5R6であり、
− (I’’de)は、R1−OOC−AES−COO−R2であり、
− (I’’ea)は、R5R6N−OC−AES−CO−NR5R6であり;ならびに
− (IIde)は、R1−OOC−(CH2)4−COO−R2であり、
− (IIea)は、R1−OOC−(CH2)4−CO−NR3R4であり、
− (IIda)は、R5R6N−OC−(CH2)4−CO−NR5R6であり、
式中:
− AMGは、式MGa−CH(CH3)−CH2−CH2−またはMGb−CH2−CH2−CH(CH3)−のものであり、
− AESは、式ESa−CH(C2H5)−CH2−、またはESb−CH2−CH(C2H5)−のものであり;互いに等しいかもしくは異なる、R1およびR2は独立して、C1〜C20アルキル、C1〜C20アリール、C1〜C20アルキアリール、C1〜C20アリールアルキル基からなる群から選択され;
− 互いにかつ出現ごとに等しいかもしくは異なる、R3、R4、R5およびR6は、C1〜C20アルキル、C1〜C20アリール、C1〜C20アルキアリール、C1〜C20アリールアルキル基からなる群から選択され、すべての前記基は、1つもしくは2つ以上の置換基を含む可能性があり、1つもしくは2つ以上のヘテロ原子を有する可能性があり、ならびに(1)R3およびR4またはR5およびR6と(2)それらが結合している窒素原子とを両方とも含む環状部分からなる群から選択され、前記環状部分は、1つもしくは2つ以上のヘテロ原子、例えば酸素原子または追加の窒素原子を含む可能性がある、
請求項1に記載の方法。 - 前記混合物(M)が、場合によりDMSOに加えて、
(k)式(III4 de)の前記ジエステル、式(III3 de)の前記ジエステル、および式(III2 de)の前記ジエステルの少なくとも1つ;または
(kk)前記エステルアミド(III4 ea)、前記エステルアミド(III3 ea)、および式(III2 ea)の前記エステルアミドの少なくとも1つ;または
(kkk)式(III4 ea)の前記エステルアミド、式(III3 ea)の前記エステルアミド、および式(III2 ea)の前記エステルアミドの少なくとも1つ、ならびに式(III4 da)の前記ジアミド、式(III3 da)の前記ジアミド、および式(III2 da)の前記ジアミドの少なくとも1つ;または
(kv)(k)と(kk)および/または(kkk)との組み合わせ
を含み、
ここで、
− (III4 de)は、R1−OOC−(CH2)4−COO−R2であり、
− (III3 de)は、R1−OOC−(CH2)3−COO−R2であり、
− (III2 de)は、R1−OOC−(CH2)2−COO−R2であり、
− (III4 ea)は、R1−OOC−(CH2)4−CO−NR3R4であり、
− (III3 ea)は、R1−OOC−(CH2)3−CO−NR3R4であり、
− (III2 ea)は、R1−OOC−(CH2)2−CO−NR3R4であり、
− (III4 da)は、R5R6N−OC−(CH2)4−CO−NR5R6であり、
− (III3 da)は、R5R6N−OC−(CH2)3−CO−NR5R6であり、
− (III2 da)は、R5R6N−OC−(CH2)2−CO−NR5R6であり、
式中、互いに等しいかもしくは異なる、R1およびR2は独立して、C1〜C20アルキル、C1〜C20アリール、C1〜C20アルキアリール、C1〜C20アリールアルキル基であり、
− 互いにかつ出現ごとに等しいかもしくは異なる、R3、R4、R5およびR6は、C1〜C20アルキル、C1〜C20アリール、C1〜C20アルキアリール、C1〜C20アリールアルキル基からなる群から選択され、すべての前記基は、1つもしくは2つ以上の置換基を含む可能性があり、1つもしくは2つ以上のヘテロ原子を有する可能性があり、ならびに(1)R3およびR4またはR5およびR6と(2)それらが結合している窒素原子とを両方とも含む環状部分からなる群から選択され、前記環状部分は、1つもしくは2つ以上のヘテロ原子、例えば酸素原子または追加の窒素原子を含む可能性がある、
請求項1に記載の方法。 - 混合物(M)が、DMSOも式(Ide)、(Iea)、(Ida)の溶媒とは異なるいかなるさらなる溶媒も実質的に含まない、すなわち、式(Ide)および(Iea)、ならびに場合によりDMSOおよび/または(Ida)の溶媒から本質的になる、請求項1〜3のいずれか一項に記載の方法。
- 前記ポリマー(P)の繰り返し単位の少なくとも50%モルが、式−Ar−SO2−Ar’−の少なくとも1つの基[繰り返し単位(RSP)]を含み、互いに等しいかもしくは異なる、ArおよびAr’が芳香族基であり、好ましくはここで、前記繰り返し単位(RSP)が、式:
−Ar1−(T’−Ar2)n−O−Ar3−SO2−[Ar4−(T−Ar2)n−SO2]m−Ar5−O− (RSP−2)
[式中:
− 互いにかつ出現ごとに等しいかもしくは異なる、Ar1、Ar2、Ar3、Ar4、およびAr5は独立して、芳香族単核または多核基であり;
− 互いにかつ出現ごとに等しいかもしくは異なる、TおよびT’は独立して、結合または任意選択的に1つもしくは2つ以上のヘテロ原子を含む二価基であり;好ましくはT’は、結合、−CH2−、−C(O)−、−C(CH3)2−、−C(CF3)2−、−C(=CCl2)−、−SO2−、−C(CH3)(CH2CH2COOH)−、および式:
の基からなる群から選択され、
好ましくはTは、結合、−CH2−、−C(O)−、−C(CH3)2−、−C(CF3)2−、−C(=CCl2)−、−C(CH3)(CH2CH2COOH)−、および式:
の基からなる群から選択され、
− 互いに等しいかもしくは異なる、nおよびmは独立して、ゼロまたは1〜5の整数である]
に従う繰り返し単位(RSP−2)である、請求項1〜4のいずれか一項に記載の方法。 - 前記ポリマー(P)の前記繰り返し単位(RSP−2)が、本明細書で下の式(S−A)〜(S−D):
[式中:
− 互いに等しいかもしくは異なる、R’のそれぞれは、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、エーテル、チオエーテル、カルボン酸、エステル、アミド、イミド、アルカリまたはアルカリ土類金属スルホネート、アルキルスルホネート、アルカリまたはアルカリ土類金属ホスホネート、アルキルホスホネート、アミンおよび第四級アンモニウムからなる群から選択され;
− 互いに等しいかもしくは異なる、TおよびT’は、結合または任意選択的に1つもしくは2つ以上のヘテロ原子を含む二価基であり;好ましくはT’は、結合、−CH2−、−C(O)−、−C(CH3)2−、−C(CF3)2−、−C(=CCl2)−、−C(CH3)(CH2CH2COOH)−、−SO2−、および式:
の基からなる群から選択され、
好ましくはTは、結合、−CH2−、−C(O)−、−C(CH3)2−、−C(CF3)2−、−C(=CCl2)−、−C(CH3)(CH2CH2COOH)−、および式:
の基からなる群から選択され、
− j’は、ゼロであるかまたは0〜4の整数である]
のものからなる群から選択される、請求項5に記載の方法。 - 前記溶液(SP)中の前記ポリマー(P)の全体濃度が、前記溶液(SP)の総重量を基準として、少なくとも10重量%、好ましくは少なくとも12重量%である、請求項1〜7のいずれか一項に記載の方法。
- 前記溶液(SP)が、ポリビニルピロリドン(PVP)、およびポリエチレングリコール(PEG)からなる群から選択される細孔形成剤を含有する、請求項1〜8のいずれか一項に記載の方法。
- 支持体上の平らなフィルム中へ前記溶液(SP)をキャストする工程(ii)を含む、請求項1〜9のいずれか一項に記載の方法。
- 支持流体周りの管状フィルム中へ前記ポリマー溶液をキャストする工程(ii)を含む、請求項1〜9のいずれか一項に記載の方法。
- 支持管状材料上の管状フィルム中へ前記ポリマー溶液をキャストする工程(ii)を含む、請求項1〜9のいずれか一項に記載の方法。
- 工程(iii)において、前記非溶媒浴の前記非溶媒が、
− 水、
− 脂肪族アルコール、好ましくは、短鎖、例えば1〜6個の炭素原子を有する脂肪族アルコール、より好ましくはメタノール、エタノールおよびイソプロパノール、ならびに
− それらの混合物
からなる群から選択される、請求項1〜13のいずれか一項に記載の方法。 - 前記非溶媒浴が、前記非溶媒浴の総重量に対して、40重量%以下の量の前記ポリマー(P)のための溶媒をさらに含む、請求項13に記載の方法。
- 請求項1〜14のいずれか一項に記載の方法によって得られる膜。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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