JP2016206322A - 液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】本発明は、全体の厚さを薄くするとともにコントラストを高くすることが可能な表示装置を提供することを目的とする。【解決手段】本発明による表示装置１は、複数の画素がアレイ状に設けられた画素アレイ基板６と、画素アレイ基板６上に液晶層８を挟んで対向して配置された対向基板７とを備え、対向基板７は、画素アレイ基板６側から液晶層８に入射する偏光光の第１の偏光軸に対して少なくとも一部が平行または直交しないように配設されたタッチセンサーパターン１５と、タッチセンサーパターン１５よりも液晶層８側であって、第１の偏光軸に対して０度または９０度の第２の偏光軸を有するガラス基板１３とを備える。【選択図】図１

Description

本発明は、タッチパネルを備える液晶表示装置に関し、特にオンセル型タッチパネルを備える液晶表示装置に関する。

近年、タッチ操作による入力を検出するタッチセンサーを表示面に配置する表示装置が多く使用されるようになっている。投射容量方式タッチパネルは、透明基板上に導電膜を形成し、導電膜で生じたタッチによる容量の変化量を検出する方式を採用したタッチパネルである。このようなタッチパネルは、２枚の基板の各々に導電膜を形成した後に当該２枚の基板を貼り合わせる、１枚の基板の対向する両面に導電膜を形成する、または１枚の基板の一方の面に２層の導電膜を形成する等によって構成されている。

上記のように構成されたタッチパネルを液晶表示装置等に貼り付けることによって、タッチ操作による入力機能を有する表示装置が得られる。しかし、当該表示装置は、全体の厚さが厚くなるため厚さを薄くする要求があった。このような要求に応えるために、液晶表示装置の液晶セル上に導電膜からなるセンサーパターンを直接形成し、センサーパターンよりも外側（表示面側）に偏光フィルムを張り付けるオンセル構造（Oncell構造）が検討されている（例えば、特許文献１参照）。一方、タッチパネルのセンサー配線等のセンサーパターン材料として透明導電膜を採用することが主流であったが、大型の表示装置に用いられるタッチパネルではセンサー配線の低抵抗化が求められており、センサーパターン材料として金属配線の採用が検討されている。

特開２０１２−８２５５号公報

しかし、金属配線を採用したタッチパネルをオンセル構造に適用すると、金属配線の影響を受けて金属配線近傍の光の偏光軸が他の軸に投射される。その結果、偏光フィルムで本来調光されるべき状態から変化する。特に、偏光フィルムの偏光軸に対して直角の偏光光が他の軸に投射されると、本来は遮光されるべき光の一部が偏光フィルムを透過するため、黒浮き（画像の黒い部分が白っぽくなる現象）が発生してコントラストが低下するという問題がある。

また、金属配線が直線形状である場合において、太陽光に代表される輝度が高い光源が金属配線のエッジ部分で散乱および回折することによって、金属配線に対して直交する方向に反射光が広がる光条という不具合が発生する。

一方、光条の視認性を低下させるために、直線形状ではない金属配線のセンサーパターンを採用すると、金属配線の全てのエッジを偏光フィルムの偏光軸と一致させることが困難となる。このように、表示装置全体の厚さを薄くするためにオンセル構造を採用する場合は、偏光フィルムの偏光軸からずれた金属配線のセンサーパターンが形成される。従って、表示装置が黒色表示モードである場合において、金属配線のエッジの方向が偏光軸の方向からずれた領域では、黒輝度が上昇して（黒浮きが発生して）コントラストの低下を引き起こすという問題があった。

本発明は、このような問題を解決するためになされたものであり、全体の厚さを薄くするとともにコントラストを高くすることが可能な表示装置を提供することを目的とする。

上記の課題を解決するために、本発明による表示装置は、複数の画素がアレイ状に設けられたアレイ基板と、アレイ基板上に液晶層を挟んで対向して配置された対向基板とを備え、対向基板は、アレイ基板側から液晶層に入射する偏光光の第１の偏光軸に対して少なくとも一部が平行または直交しないように配設されたタッチセンサー配線パターンと、タッチセンサー配線パターンよりも液晶層側であって、第１の偏光軸に対して０度または９０度の第２の偏光軸を有する偏光層とを備える。

本発明によると、表示装置は、複数の画素がアレイ状に設けられたアレイ基板と、アレイ基板上に液晶層を挟んで対向して配置された対向基板とを備え、対向基板は、アレイ基板側から液晶層に入射する偏光光の第１の偏光軸に対して少なくとも一部が平行または直交しないように配設されたタッチセンサー配線パターンと、タッチセンサー配線パターンよりも液晶層側であって、第１の偏光軸に対して０度または９０度の第２の偏光軸を有する偏光層とを備えるため、全体の厚さを薄くするとともにコントラストを高くすることが可能となる。

本発明の実施の形態１による表示装置の構成の一例を示す断面図である。 本発明の実施の形態１による画素アレイパターンの構成の一例を示す図である。 本実施の形態１による画素アレイ基板の構成の一例を示す断面図である。 本発明の実施の形態１による画素アレイ基板の構成の他の一例を示す断面図である。 本発明の実施の形態１による画素アレイ基板の構成の他の一例を示す断面図である。 本発明の実施の形態１によるカラーフィルターパターンの構成の一例を示す図である。 本発明の実施の形態１によるカラーフィルターパターンの他の構成の一例を示す図である。 本発明の実施の形態１によるカラーフィルターパターンの他の構成の一例を示す図である。 本発明の実施の形態１によるタッチセンサーパターンの構成の一例を示す図である。 本発明の実施の形態１によるＸ方向検出線およびＹ方向検出線の配置の一例を示す図である。 本発明の実施の形態１によるＸ方向検出線およびＹ方向検出線の配置の他の一例を示す図である。 本発明の実施の形態１によるＸ方向検出線およびＹ方向検出線の配置の他の一例を示す図である。 本発明の実施の形態１による対向基板の構成の一例を示す断面図である。 本発明の実施の形態１によるガラス基板の構成の一例を示す平面図である。 本発明の実施の形態１によるガラス基板の構成の一例を示す断面図である。 本発明の実施の形態１によるガラス基板の構成の他の一例を示す断面図である。 本発明の実施の形態１による対向基板の構成の他の一例を示す断面図である。 本発明の実施の形態１によるガラス基板の偏光軸方向マークの一例を示す図である。 本発明の実施の形態１によるタッチセンサーパターンの構成の一例を示す図である。 本発明の実施の形態１によるカラーフィルターパターンの形成の一例を示す図である。 本発明の実施の形態１によるラビング処理の一例を示す図である。 タッチセンサーパターンの通過前後における偏光状態を示す図である。 従来の表示装置における偏光状態を示す図である。 本発明の実施の形態１による表示装置における偏光状態を示す図である。 本発明の実施の形態２による対向基板の構成の一例を示す図である。 本発明の実施の形態２による微細配線の配置の一例を示す平面図である。 本発明の実施の形態２による微細配線と対向電極との接続を示す図である。 本発明の実施の形態２による対向基板の構成の他の一例を示す図である。 本発明の実施の形態２による対向基板の構成の他の一例を示す図である。 本発明の実施の形態２による対向基板の構成の他の一例を示す図である。 本発明の実施の形態２による対向基板の構成の他の一例を示す図である。 本発明の実施の形態２による対向基板の構成の他の一例を示す図である。 本発明の実施の形態３による表示装置の構成の一例を示す断面図である。 本発明の実施の形態３による画素アレイ基板の構成の一例を示す断面図である。 本発明の実施の形態３による画素アレイ基板の構成の他の一例を示す断面図である。 本発明の実施の形態３による画素アレイ基板の構成の他の一例を示す断面図である。 本発明の実施の形態３による画素アレイ基板の構成の他の一例を示す断面図である。 本発明の実施の形態３による画素アレイ基板の構成の他の一例を示す断面図である。 本発明の実施の形態３による画素アレイパターンの形成の一例を示す図である。 ＴＮモード時における画素アレイ基板の偏光軸と対向基板の偏光軸との関係を示す図である。

本発明の実施の形態について、図面に基づいて以下に説明する。

＜実施の形態１＞
図１は、本発明の実施の形態１による表示装置１の構成の一例を示す断面図である。

図１に示すように、フレーム２内には、バックライトユニット３と、バックライトユニット３上に配置され視野角の改善等の機能を有する光学フィルム４と、光学フィルム４上に配置された液晶セル５とが組み込まれている。以下、フレーム２内に組み込まれる各構成要素を総称して表示モジュールともいう。

表示モジュールの上面（すなわち、フレーム２の上面）には、粘着剤１７を介して保護ガラス１６が配置されている。具体的には、保護ガラス１６は、粘着剤１７を介して液晶セル５およびフレーム２と接着している。なお、図１の例では、保護ガラス１６と表示モジュールとは、保護ガラス１６と液晶セル５およびフレーム２とを接着する場合について示しているが、これに限るものではなく、保護ガラス１６とフレーム２の特定の領域とを接着する構造、または保護ガラス１６と液晶セル５の特定の領域とを接着する構造等、用途に応じて適宜選択してもよい。

液晶セル５は、画素アレイ基板６と対向基板７との間に液晶を注入してシール剤９で封止することによって構成される。シール剤９で封止された液晶は、液晶層８として形成される。

画素アレイ基板６は、透明基板１１および画素アレイパターン１２から構成されている透明基板１１の液晶層８と接する側の面上には、画素を駆動する画素アレイパターン１２が形成されている。画素アレイパターン１２の液晶層８側の面上には、配向膜（図示せず）が形成されている。また、透明基板１１の画素アレイパターン１２とは反対側の面上には、偏光フィルム１０が貼り付けられている。

対向基板７は、ガラス基板１３と、カラーフィルターパターン１４と、タッチセンサーパターン１５（タッチセンサー配線パターン）とから構成されている。ガラス基板１３は、偏光フィルム１０の偏光軸に（第１の偏光軸）対して直交する偏光軸（第２の偏光軸）を付与する機能（偏光機能）を有している（詳細は後述する）。すなわち、ガラス基板１３は、偏光機能を有する偏光層である。ガラス基板１３の液晶層８と接する側の面上には、カラーフィルターパターン１４が形成されている。カラーフィルターパターン１４の液晶層８側の面上には、配向膜（図示せず）が形成されている。また、ガラス基板１３のカラーフィルターパターン１４とは反対側の面上には、タッチセンサーパターン１５が形成されている。

なお、対向基板７における偏光軸は、ＴＮ（Twisted Nematic）モードでノーマリーホワイトの場合は、偏光フィルム１０の偏光軸に対して直交している。一方、ＴＮモードでノーマリーブラックの場合、またはＩｎ−Ｐｌａｎｅ−ＳｗｉｔｃｈｉｎｇモードおよびＦＦＳ（Fringe Field Switching）モード等の横電界の場合は、偏光フィルム１０の偏光軸に対して平行となるように設定する等、上記の各モードと表示設定に基づいて、偏光フィルム１０の偏光軸と対向基板７における偏光軸の関係を設定すればよい。

図２は、画素アレイパターン１２の構成の一例を示す図である。

図２に示すように、画素アレイパターン１２は、Ｘ方向に配設され駆動時に画素を選択するゲート配線１８と、Ｙ方向に配設され各画素に信号を送るソース配線１９と、ゲート配線１８とソース配線１９との交差部に形成されるスイッチング素子２０とから構成される。ここで、スイッチング素子２０としては、例えばＴＦＴ（Thin Film Transistor）が挙げられる。また、１つのスイッチング素子２０は、１つの画素を構成している。また、ゲート配線１８と平行な方向（Ｘ方向）に配設された共通配線２１と、当該共通配線２１に接続された共通電極とが各画素の下層に配置されており、容量を形成している。なお、共通配線２１は、ソース配線１９と平行な方向（Ｙ方向）に配設してもよい。

図３は、画素アレイ基板６の構成の一例を示す断面図であり、１つの画素の断面を示している。

図３に示すように、各画素は、スイッチング素子２０と、当該スイッチング素子２０に接続される画素電極２９とを有している。透明基板１１上には、ゲート電極２２および共通電極２３が形成されており、ゲート電極２２および共通電極２３を覆うようにゲート絶縁膜２４が形成されている。ゲート電極２２の上方であってゲート絶縁膜２４上には、半導体層２５が形成されている。半導体層２５上には、ソース電極２６およびドレイン電極２７が対向して形成されている。層間絶縁膜２８は、ゲート絶縁膜２４、半導体層２５、ソース電極２６、およびドレイン電極２７を覆い、かつドレイン電極２７と画素電極２９とが電気的に接続されるように一部が開口されている。画素電極２９は、層間絶縁膜２８上であって、共通電極２３の上方からドレイン電極２７上の一部に渡って形成されている。なお、ゲート電極２２はゲート配線１８と電気的に接続され、共通電極２３は共通配線２１と電気的に接続され、ソース電極２６はソース配線１９と電気的に接続される。

図４は、画素アレイ基板６の構成の他の一例を示す断面図である。

図４に示すように、液晶の駆動方法に応じて、画素電極２９および共通電極２３にスリットを形成し、画素電極２９と共通電極２３とを交互に配置するようにしてもよい。このとき、共通電極２３と共通配線２１とは、ゲート絶縁膜２４および層間絶縁膜２８に形成された開口部を介して電気的に接続されている。

図５は、画素アレイ基板６の構成の他の一例を示す断面図である。

図５に示すように、画素電極２９上に、層間絶縁膜２８を介してスリットが形成された共通電極２３を配置してもよい。なお、図５において、画素電極２９と共通電極２３とは逆に配置してもよい。すなわち、共通電極２３上に、層間絶縁膜２８を介してスリットが形成された画素電極２９を配置してもよい。

図６は、カラーフィルターパターン１４の構成の一例を示す図である。

図６に示すように、カラーフィルターパターン１４には、画素アレイパターン１２の各配線と対向する位置において光を遮光するブラックマトリクス（ＢＭ）３０が形成されている。ブラックマトリクス３０に囲まれる領域であって画素電極２９（例えば図３参照）と対向する領域には、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の色材３１が形成されている。各色材３１上にはオーバーコート（例えば図１３参照）が形成され、当該オーバーコート上には対向電極３９（例えば図１３参照）として機能する透明導電膜が形成されている。

なお、表示装置１が白黒表示である場合、またはバックライトが有色である場合は、色材３１を配置しなくてもよい。また、色再現性の向上等を目的として、図７，８に示すように、ＲＧＢ以外に例えば白（Ｗ、色材なし）または黄色等を追加で配置してもよい。

図９は、タッチセンサーパターン１５の構成の一例を示す図である。

図９に示すように、タッチセンサーパターン１５は、Ｙ方向に配設された数ｍｍ幅のＸ方向検出線３２と、Ｘ方向検出線３２と直交するＸ方向に配設された数ｍｍ幅のＹ方向検出線３３とで形成されている。Ｘ方向検出線３２およびＹ方向検出線３３は、検出領域に応じてＸ方向またはＹ方向に必要な長さで必要な本数分だけ周期的に繰り返して形成されている。

図１０は、Ｘ方向検出線３２およびＹ方向検出線３３の配置の一例を示す図である。

図１０に示すように、Ｘ方向検出線３２およびＹ方向検出線３３の各々では、３μｍ幅前後の導電体膜からなる導電体配線３４を予め定められて配線ピッチで平行であって、かつ全体としてＸ方向検出線３２およびＹ方向検出線３３の各々の幅となるように形成している。また、Ｘ方向検出線３２およびＹ方向検出線３３の各々において、導電体配線３４は相互に電気的に導通するように形成されている。

タッチセンサーパターン１５の配線ピッチは、画素アレイ基板６に形成されるゲート配線１８およびソース配線１９のピッチとの関係に基づいて周期性が強調されないように選択することによって、格子状のパターン同士を重ねたときに生じるモアレを低減することができる。最も望ましい形態は、タッチセンサーパターン１５の配線ピッチと、ゲート配線１８およびソース配線１９のピッチとが同一となるようにした形態である。

図１１は、Ｘ方向検出線３２およびＹ方向検出線３３の配置の他の一例を示す図である。

図１１に示すように、Ｘ方向検出線３２およびＹ方向検出線３３を斜め方向に配設して形成する方が、図１０に示す配置よりもモアレの視認性が低減される。

図１０，１１に示すように、タッチセンサーパターン１５が直線形状である場合は、太陽光に代表される輝度が高い光源がＸ方向検出線３２およびＹ方向検出線３３のエッジで散乱または回折をすることによって、Ｘ方向検出線３２およびＹ方向検出線３３に対して直交する方向に反射光が広がる光条という現象が発生する。この光条現象を防止する方法の一つとして、例えば図１２に示すように、Ｘ方向検出線３２およびＹ方向検出線３３を曲線形状としてもよい。Ｘ方向検出線３２およびＹ方向検出線３３を曲線形状とすることによって、光条の方向が分散されるという効果を奏する。

なお、図１０，１１，１２に示すＸ方向検出線３２およびＹ方向検出線３３の形状は、Ｘ方向検出線３２およびＹ方向検出線３３の各々の直線形状、斜め直線形状、曲線形状を示すイメージ形状であり、実際のＸ方向検出線３２およびＹ方向検出線３３の配置（配線パターン）は適宜最適化される。

図１３は、対向基板７の構成の一例を示す断面図である。

図１３に示すように、対向基板７では、偏光機能を有する透明基板であるガラス基板１３上（液晶層８とは反対側の面上）に、タッチセンサーパターン１５が形成されている。ガラス基板１３のタッチセンサーパターン１５とは反対側の面上には、カラーフィルターパターン１４が形成されている。

Ｘ方向検出線３２（上層配線）とＹ方向検出線３３（下層配線）とは、層間絶縁膜３６を介して各々異なる層に形成されている。すなわち、Ｘ方向検出線３２およびＹ方向検出線３３は、層間絶縁膜３６を介して立体視で交差するように配設されている。Ｘ方向検出線３２上には、当該Ｘ方向検出線３２を覆うように保護絶縁膜３７が形成されている。

ここで、Ｙ方向検出線３３は、例えば下層（液晶層８側の層）からＡｌ合金、半透明の高窒化Ａｌ、およびＩＺＯ膜を順に積層した積層膜からなる配線（例えば、特開２０１３−２２２１２３号公報）としてガラス基板１３上に形成されている。層間絶縁膜３６は、例えば下層から塗布型絶縁膜およびＳｉＯ２膜を順に積層した積層膜からなる。Ｘ方向検出線３２は、例えば下層からＡｌ合金、半透明の高窒化Ａｌ、およびＩＺＯ膜を順に積層した積層膜からなる。保護絶縁膜３７は、例えば下層から塗布型絶縁膜およびＳｉＯ２膜を順に積層した積層膜からなる。本実施の形態１では、タッチセンサーパターン１５に上記の積層膜を用いた構造を採用しているため、Ｘ方向検出線３２およびＹ方向検出線３３の表面の反射率を低下させ、外光下におけるＸ方向検出線３２およびＹ方向検出線３３の視認を抑えることができる。

なお、上記では、Ｘ方向検出線３２およびＹ方向検出線３３は、Ａｌ合金、半透明の高窒化Ａｌ、およびＩＺＯ膜の積層膜である場合について説明したが、これに限るものではない。Ｘ方向検出線３２およびＹ方向検出線３３に対して要求される特性に応じて、例えばＡｌ合金の単層、Ａｌ合金を主材料とした構造、Ｃｕ合金を主材料とした構造、Ｍｏ合金を主材料とした構造等、低抵抗導電膜を主材料とした構造から適宜選択してもよい。

また、上記では、層間絶縁膜３６および保護絶縁膜３７は、塗布型絶縁膜およびＳｉＯ２膜の積層膜である場合について説明したが、これに限るものではない。例えば塗布型絶縁膜の単層、塗布型絶縁膜の複層、ＳｉＯ２膜の単層、他の無機絶縁膜の積層であってもよい。層間絶縁膜３６および保護絶縁膜３７は、対向基板７、粘着剤１７、および空気層等との界面における反射を抑える構成が望ましい。

カラーフィルターパターン１４では、ブラックマトリクス３０と一部重畳するように、赤の色材３１、緑の色材３１、および青の色材３１が順に形成されている。カラーフィルターパターン１４を覆うようにオーバーコート３８が形成され、オーバーコート３８上には必要に応じて対向電極３９が形成されている。

図１４は、ガラス基板１３の構成の一例を示す平面図であり、ガラス基板１３で配置される導電性微粒子４０を示している。

図１４に示すように、導電性微粒子４０は、長さＬかつ幅Ｗの大きさであり、略同じ方向に並んで配置されている。このような配置によって、ガラス基板１３は、導電性微粒子４０の長さ方向に対して直交方向の偏光軸（偏光軸方向４１）を有することになる。以下、導電性微粒子４０がガラス基板１３において配置される種々の形態について説明する。

図１５は、ガラス基板１３の構成の一例を示す断面図であり、導電性微粒子４０をガラス基板１３内に分散させた形態を示している。

図１５に示すように、ガラス基板１３では、偏光フィルム１０の偏光軸と同じ方向に１００ｎｍ〜５００ｎｍの長径、２以上のアスペクト比を有する、例えば銀の導電性微粒子４０が、１ｗｔ％の含有率で分散している。

なお、導電性微粒子４０の長径、アスペクト比、および含有量は、偏光特性および透過率等によって適宜設定すればよいが、幅Ｗは５０ｎｍ以下であることが望ましい。また、導電性微粒子４０は、銀に限らず銀化合物でもよく、銀の代わりに銅等の加工および形成に適した導電材料から適宜選択してもよい。

また、アスペクト比が大きければ、上記の導電性微粒子４０以外の材料を使用してもよい。導電性微粒子４０の代わりに、導電性ナノファイバー等のアスペクト比が大きい導電性材料、アスペクト比が大きい消光性の粒子またはファイバーを、ガラス基板４２の内部に偏光フィルム１０の偏光軸と同じ方向に長軸を有するように分散させてもよい。ここで、消光性とは、偏光軸に対して垂直方向の光を透過させない性質（電子の振動による吸収または反射）を意味する。

上記では、ガラス基板１３の内部に偏光機能を付与する場合について説明したが、これに限るものではない。例えば、有機の透明基板であってもよく、この場合はアスペクト比が大きい導電性高分子、消光性高分子（例えば染料高分子）、または消光性化合物（例えばヨウ素化合物）を選択してもよい。

上記では、ガラス基板１３の内部に導電性微粒子４０等を分散させることによって変更機能を付加させる場合について説明したが、導電性微粒子４０等を分散させる領域はガラス基板１３に限らない。例えば、図１６に示すように、導電性微粒子４０をガラス基板４２の表面に塗布してもよい。この場合、導電性微粒子４０を覆う保護膜４３を形成することが望ましい。なお、導電性微粒子４０は、当該導電性微粒子４０の長軸が偏光フィルム１０の偏光軸と同じ方向となるように塗布してもよい。ガラス基板４２の内部には、導電性微粒子４０等が分散されていない。導電性微粒子４０は、タッチセンサーパターン１５とガラス基板１３との間に塗布してもよく、カラーフィルターパターン１４とガラス基板１３との間に塗布してもよい。また、図１７に示すように、導電性微粒子４０をカラーフィルターパターン１４の液晶層８側の面上に塗布してもよい。

次に、対向基板７におけるカラーフィルターパターン１４およびタッチセンサーパターン１５の形成について説明する。

まず、タッチセンサーパターン１５の形成について説明する。

図１８は、ガラス基板１３の偏光軸方向マーク４４の一例を示す図である。

図１８に示すように、カラーフィルターパターン１４およびタッチセンサーパターン１５のうちの少なくとも一方には、ガラス基板１３の内部に形成した偏光機能（図１４，１５参照）の偏光軸の方向を示す偏光軸方向マーク４４（第１のマーク）が２箇所に形成されている。偏光軸方向マーク４４を結ぶ直線方向が、偏光軸の方向となる。なお、図１８の例では、偏光軸方向マーク４４は２箇所に形成されている場合について示されているが、偏光軸の方向が分かれば２箇所に限らない。

例えば、タッチセンサーパターン１５における下層配線であるＹ方向検出線のパターンを形成するときの写真製版処理では、通常、基板外周の位置決めでパターンの形成位置を定めているが、このような方法では、偏光軸の方向とＹ方向検出線のエッジの方向との関係を厳密に制御することは難しい。一方、本実施の形態１では、例えば図１９に示すように、Ｙ方向検出線３３のパターンを形成するときにＹ方向検出線３３の配置方向であるＹ方向と、偏光軸方向マーク４４とが角度θとなるようにＹ方向検出線３３を配置するとともに、タッチセンサーアライメントマーク４５（第２のマーク）を形成する。ここで、タッチセンサーアライメントマーク４５は、Ｙ方向検出線３３の配置方向を示している。すなわち、タッチセンサーアライメントマーク４５を結ぶ直線方向がＹ方向検出線３３の配置方向となる。次いで、上層配線であるＸ方向検出線３２の形成位置は、タッチセンサーアライメントマーク４５を基準として定められる。

上記の方法によれば、偏光軸の方向と、Ｙ軸方向との角度を直接的に厳密に制御することができるため、タッチセンサーパターン１５におけるＸ方向検出線３２のエッジ方向またはＹ方向検出線３３のエッジ方向と、偏光軸の方向との関係も制御することができる。

次に、カラーフィルターパターン１４の形成について説明する。

図２０は、カラーフィルターパターン１４の形成の一例を示す図である。

図２０に示すように、ブラックマトリクス３０形成位置は、タッチセンサーパターン１５に形成したタッチセンサーアライメントマーク４５を基準として定められる。ブラックマトリクス３０を形成する際において、当該ブラックマトリクス３０によってカラーフィルターアライメントマーク４６（第３のマーク）を形成する。色材３１のパターンの形成位置は、カラーフィルターアライメントマーク４６を基準として定められる。以上により、対向基板７を作成することができる。

なお、上記では、タッチセンサーパターン１５の形成時に形成したタッチセンサーアライメントマーク４５を基準としてカラーフィルターパターン１４を形成する場合について説明したが、これに限るものではない。例えば、偏光軸方向マーク４４を基準としてカラーフィルターパターン１４を形成してもよく、偏光軸方向マーク４４を基準としてカラーフィルターパターン１４を形成した後に、カラーフィルターアライメントマーク４６を基準としてタッチセンサーパターン１５を形成してもよい。また、タッチセンサーアライメントマーク４５またはカラーフィルターアライメントマーク４６を基準として導電性微粒子４０を形成してもよい。

次に、偏光軸方向マーク４４をラビング処理に活用する例について説明する。

図２１は、ラビング処理の一例を示す図である。

図２１に示すように、カラーフィルターパターン１４の液晶層８側の面上には配向膜４７が形成されており、ラビングローラー４８でラビング処理する等の公知の手段によって液晶の配向方向を決める。例えば、ＴＮモードでは、ラビングローラー４８の軸方向を、偏光軸方向マーク４４を結ぶ直線に対して垂直にすることによって、偏光軸方向と液晶の配向方向との加工誤差を低減することができる。

なお、タッチセンサーアライメントマーク４５またはカラーフィルターアライメントマーク４６を基準として、ラビングローラー４８の軸方向を設定してもよい。

上記では、ラビングローラー４８の軸と、偏光軸方向マーク４４を結ぶ直線との角度は、ＴＮモードの場合は垂直であると説明したが、液晶のモードに合わせて適宜最適値を設定すればよい。

次に、本実施の形態１による表示装置１の効果について説明する。

従来の表示装置で光が透過しない黒色を表示（黒表示）したい場合において、表示面側の偏光フィルムで光の透過を遮断するためには、タッチセンサーパターンを通過した後に、その偏光フィルムの偏光軸方向に対して垂直な方向のみを含む光を透過させる必要がある。しかし、上述の通り、タッチセンサーパターンにおける配線が原因となってコントラストの低下等の問題が生じることがある。以下、このような問題について説明する。

図２２は、タッチセンサーパターンの通過前後における偏光状態を示す図である。

図２２に示すように、タッチセンサーパターンを通過する前の光の偏光状態は、通過前偏光軸方向５０の一方向のみの成分を含んでいる。その後、光がタッチセンサーパターンを通過する際において、タッチセンサーパターンを構成する配線４９のエッジの近傍領域では、光が配線４９のエッジ（図２２の接線５２）に対して垂直方向に投射される。配線４９のエッジの近傍領域を通過した光の偏光状態は、通過前偏光軸方向５０の成分と通過後偏光軸方向５１の成分（通過前偏光軸方向５０からずれた成分）とを含むことになる。一方、配線４９のエッジの近傍領域以外の領域を通過する光については、上記の現象が生じない。

次に、表示装置を黒表示した際における光の透過前および透過後の偏光状態について説明する。

図２３は、従来の表示装置における偏光状態を示す図である。また、図２４は、本実施の形態１による表示装置１における偏光状態を示す図である。

図２３に示すように、従来の表示装置において、バックライトから出射された光は、偏光フィルム５３、画素アレイ基板５４、液晶層５５、カラーフィルターパターン５６、ガラス基板５７、タッチセンサーパターン５８、および偏光フィルム５９を順次通過する。このとき、上記の通り、タッチセンサーパターン５８における配線のエッジの近傍領域を通過した光は、偏光フィルム５３の偏光軸に対して垂直方向ではない成分を含み、そのまま偏光フィルム５９を通過するため、黒の状態でもある程度の輝度を有することになる。この現象がコントラストの低下を招いている。

一方、図２４に示すように、本実施の形態１による表示装置１では、タッチセンサーパターン１５に光が到達する前に、偏光機能を有するガラス基板１３によって調光が完了する。すなわち、偏光フィルム１０によって同じ方向に揃った光は、導電性微粒子４０等から構成される偏光機能によって遮断されるため、タッチセンサーパターン１５に到達することはない。従って、従来の表示装置のように黒状態で輝度を有することがなく、コントラストが高いオンセル構造を採用した表示モジュール（オンセルＰＣＡＰ−ＬＣＤ（Projected Capacitive − Liquid Crystal Display）モジュール）を得ることができる。

また、本実施の形態１による表示装置１では、従来の表示装置における偏光フィルム５９を備えないため、偏光フィルム５９の貼り付けのばらつきによる視野角およびコントラストのばらつきが発生しないため、特性が安定した表示装置１を提供することができ、歩留まりの向上を実現することができる。また、偏光軸方向マーク４４を基準として、あるいはタッチセンサーアライメントマーク４５またはカラーフィルターアライメントマーク４６を基準として対向基板７を形成し、ラビング処理を行うことによって、表示品位を安定させることが可能となる。また、タッチセンサーパターン１５における配線のパターン形状に制限がないため、見栄えまたはタッチ検出の特性に適した配線のパターンまたは配線の形状を設計することが可能となる。

＜実施の形態２＞
図２５は、本発明の実施の形態２による対向基板７の構成の一例を示す図である。

図２５に示すように、対向基板７は、オーバーコート３８の液晶層８側の面上に、例えば１５０ｎｍピッチのスリット形状の微細配線６１（導電性配線）のパターンが等間隔で形成されている。微細配線６１は、実施の形態１で説明した偏光機能と同様の機能を有する。すなわち、実施の形態１における導電性微粒子に代わって、本実施の形態２では微細配線６１を形成している。従って、ガラス基板６０は、偏光機能を有しない安価なガラス基板（例えば図１６，１７のガラス基板４２と同様のガラス基板）を使用することができる。なお、微細配線６１の液晶層８側の面上には、配向膜（図示せず）が形成されている。その他の構成は、実施の形態１（図１参照）と同様であるため、ここでは説明を省略する。

図２６は、微細配線の配置の一例を示す平面図である。

図２６に示すように、微細配線６１は、平面視で偏光フィルム１０の偏光軸に対して垂直方向に配設された複数のパターンを有し、周辺額縁部６２（周辺領域）で電気的に接続されている。なお、図２６の例では、微細配線６１は、周辺額縁部６２で電気的に接続されているが、これに限るものではない。例えば、微細配線６１は、周辺額縁部６２以外の領域で隣接する微細配線６１間を電気的に接続してもよい。なお、隣接する微細配線６１間を電気的に接続する部分は、カラーフィルターのＢＭ部分等、光の透過がない部分が望ましい。また、周辺とＢＭ部分以外で接続する場合は、微細配線６１に直交する方向にパターンが形成されていることが望ましい。

図２７は、微細配線６１と画素アレイ基板６上に形成した対向電極端子６３との接続を示す図である。

図２７に示すように、周辺額縁部６２における微細配線６１と、画素アレイ基板６上に形成された対向電極端子６３とは、シール剤９の内部に含まれる導電性スペーサ―６４を介して電気的に接続されている。このような構成とすることによって、微細配線６１は対向電極として機能する。なお、図２７の導電性スペーサ―に代えて、導電性ペーストを塗布することによって、周辺額縁部６２における微細配線６１と、対向電極端子６３とを電気的に接続するようにしてもよい。

微細配線６１は、オーバーコート３８の液晶層８側の面上に高窒化Ａｌ（厚さ５０ｎｍ）、およびＡｌ合金（厚さ２００ｎｍ）の積層で形成されており、図２６に示すように、タッチセンサーアライメントマーク４５に対して、偏光軸が角度θとなるようにパターニングされる。パターニングには、電子描画等の直接描画を採用してもよく、高解像度レジストを用いたドライエッチング等のエッチングを採用してもよい。なお、高窒化Ａｌは、窒素含有量が３０〜５０ａｔ％、膜厚が４０ｎｍ〜７０ｎｍの範囲内となるように適宜選択すればよい。

図２８は、対向基板７の構成の他の一例を示す図である。

図２８に示すように、微細配線６１間に平坦化膜６５を充填して、微細配線６１の表面と、オーバーコート３８の表面との段差を低減してもよい。当該段差の低減によって、配向膜のラビング処理が安定するという効果が得られる。

以上のことから、本実施の形態２によれば、液晶層８側からタッチセンサーパターン１５へのノイズを遮断することができるため、タッチ時の検出感度を高めることができる。また、実施の形態１で形成した透明導電膜からなる対向電極３９を省略することができるため、対向電極３９での透過率の低下を回避して表示装置の消費電力を低減するとともに、対向電極３９の成膜処理等の加工に要する消費電力、あるいは対向電極３９の材料として一般的に用いられているＩｎの使用量を削減することができる。

液晶層８側の面上に微細配線６１を形成することによって、微細配線６１と画素アレイ基板６の対向電極端子６３との電気的な接続が容易となり、安定した電気的な接続を行うことが可能となる。

微細配線６１の表示面側に高窒化Ａｌを形成することによって、表示面から入射する外光等の反射を低減し表示画面の見栄えを改善することができる。また、微細配線６１のバックライトユニット３側にＡｌ合金を形成することによって、バックライトユニット３からの光をバックライトユニット３側に反射させることによって、当該反射した光をバックライトユニット３で再利用することができ、バックライトユニット３における消費電力を抑制することができる。

なお、上記では、微細配線６１をＡｌ合金と高窒化Ａｌとの積層とする場合について説明したが、これに限るものではなく、微細配線６１の表示面側が低反射かつ導電性を有していれば他の材料を用いてもよい。また、要求される表示品位によっては、表示面側を低反射とする必要はないため、この場合はＡｌ合金の単層またはＣｕ合金等、導電性を有し加工性が良い材料で形成してもよい。微細配線６１の膜厚と配線幅とのアスペクト比（配線幅に対する膜厚の比）は、１以上であることが望ましい。

微細配線６１の配線ピッチおよび配線間隔は、偏光効率および偏光波長領域を勘案して適宜設定すればよい。例えば、可視光領域の４００ｎｍから７５０ｎｍ（文献によっては３８０ｎｍから７８０ｎｍ）の波長の場合は、短波長の波長よりも配線間隔を狭く設定する必要があり、また可視光領域で安定した偏光機能を持たせるためにはレイリー共鳴が発生する波長λが短波長の波長よりも短ければよいため、λ＝ｐ×（ｎ＋ｓｉｎｘ）においてＳｉＯ２等の屈折率ｎ＝約１．５、画素アレイ基板６側からの入射光なので入射角ｘ≒０°、短波長側の波長λ＝４００ｎｍとなり、ピッチｐ＝２６６ｎｍとなる。従って、下層である層間絶縁膜３６がｎ＝１．５のＳｉＯ２である場合は、微細配線６１を２６６ｎｍ以下の配線ピッチで設定する（ＬＣＤ用のガラス基板の屈折率は約１．６であるため、配線ピッチは２５０ｎｍ以下となる）。微細配線６１の配線幅は、透過光を利用することによって、配線ピッチの１／２以下が望ましい。

なお、微細配線６１の加工に電子描画を採用する場合の最小線幅は約１０ｎｍ、ドライエッチングを採用する場合の最小線幅は１００ｎｍ前後となるため、微細配線６１の線幅は、加工法および配線ピッチから決定すればよい。また、Ｃｕ合金等を用いる場合は、ダマシン法等を用いてもよい。

図２９は、対向基板７の構成の他の一例を示す図である。

図２９に示すように、微細配線６１は、ガラス基板６０とカラーフィルターパターン１４との間に形成してもよい。この場合、ガラス基板６０は、偏光機能を有しない安価なガラス基板を使用することができる。微細配線６１は、カラーフィルターパターン１４によって覆われているため、微細配線６１と画素アレイ基板６の対向電極端子６３（図２７参照）との接続は、微細配線６１の周辺額縁部６２上に形成した開口部６７を介して接続することが望ましい。

図２５または図２８に示すように、微細配線６１をカラーフィルターパターン１４の液晶層８側に形成する場合は、例えば図２７に示すように、微細配線６１に共通電極の機能を付与することが可能である。また、図２９に示すような構造であっても同様の構成とすることができる。

図３０は、対向基板７の構成の他の一例を示す図である。

図３０に示すように、オーバーコート３８の液晶層８側の面上に対向電極３９を設けてもよい。この場合、図２９に示す構造よりも液晶層８に対して効率良く電圧を印加することができる。

図３１は、対向基板７の構成の他の一例を示す図である。

図３１に示すように、微細配線６１は、ガラス基板６０とタッチセンサーパターン１５との間に形成してもよい。この場合、ガラス基板６０は、偏光機能を有しない安価なガラス基板を使用することができる。また、微細配線６１上に絶縁膜６８を介してタッチセンサーパターン１５を形成する。このとき、タッチセンサーパターン１５は、微細配線６１の偏光軸を示すマーク（タッチセンサーアライメントマーク４５）に基づいて、タッチセンサーパターン１５の例えばＹ方向を設定して形成する。微細配線６１を覆う絶縁膜６８は、平坦化されていると、タッチセンサーパターン１５の加工性が向上するとともに断線による不具合が低減する。Ｙ方向検出線３３と微細配線６１とは、絶縁膜６８に形成された開口部を介して電気的に接続されている。

図３２は、対向基板７の構成の他の一例を示す図である。

図３２に示すように、微細配線６１は、タッチセンサーパターン１５の配線に接続される端子の一部と電気的に接続可能なように、周辺額縁部６２から引き出した端子６９を形成している。その他の構成は、図３１に示す構成と同様である。図３２に示すような構成とすることによって、ノイズ除去用の接地の形成することができ、また微細配線６１を面センサーとして動作させてもよい。

図３１または図３２に示すように、微細配線６１をカラーフィルターパターン１４側に形成しない場合は、透明導電膜からなる対向電極３９をカラーフィルターパターン１４側に形成することが望ましい。

＜実施の形態３＞
実施の形態１，２では、画素アレイ基板６側に偏光フィルム１０を貼り付ける場合について説明した（図１参照）。本発明の実施の形態３では、画素アレイ基板６が、実施の形態１，２で対向基板７と同様の偏光機能を有する場合について説明する。

図３３は、本実施の形態３による表示装置１の構成の一例を示す断面図である。

図３３に示すように、画素アレイ基板６は、透明基板７０を有しており、実施の形態１，２における偏光フィルム１０を省略している。その他の構成は、実施の形態１，２と同様であるため、ここでは説明を省略する。

透明基板７０は、偏光機能を有している。画素アレイ基板６に偏光機能を持たせることによって、偏光フィルムの貼り付けのばらつきに起因するコントラストの低下を防止することができ、高品位の表示装置を得ることができる。

図３４〜図３８は、画素アレイ基板６の構成の一例を示す断面図である。

画素アレイ基板６に偏光機能を持たせる方法は、実施の形態１，２と同様である。すなわち、図３４に示すように、透明基板７０の内部にアスペクト比が大きい導電性微粒子、導電性ナノファイバー等のアスペクト比が大きい導電材料、あるいはアスペクト比が大きい消光性の粒子またはファイバーを、透明基板７０の内部において偏光軸に対して垂直方向が長軸となるように分散させる。なお、透明基板７０が有機材料からなる場合は、アスペクト比が大きい導電性高分子、消光性高分子（例えば染料高分子）、または消光性化合物（例えばヨウ素化合物）を選択してもよい。

また、透明基板７２と画素アレイパターン１２との間（図３５参照）、または透明基板７２のバックライトユニット３側（図３６参照）に導電性微粒子７１を形成する場合は、導電性微粒子７１の長軸が偏光軸に対して垂直方向となるように塗布することによって形成してもよい。

なお、図３４〜図３６では、導電性微粒子７１を形成する場合について説明したが、実施の形態２のように微細配線６１を形成してもよい（図３７，３８参照）。微細配線６１によって画素アレイ基板６に偏光機能を持たせる場合は、下地材料が対向基板７と異なる場合があるため、微細配線の配線ピッチおよび配線幅を下地材料に合わせて設定した場合は、画素アレイ基板６で形成した微細配線の配線ピッチおよび配線幅と、対向基板７で形成した微細配線の配線ピッチおよび配線幅とは必ずしも一致しない。

図３５，３６において、透明基板７２は、偏光機能を有しない基板である。すなわち、図３５，３６の構造を採用する場合は、図３３の透明基板７０に代えて透明基板７２が用いられる。

実施の形態１の図１９〜図２１で説明したように、マークを形成することによって偏光軸の方向を制御してもよい。図３９は、画素アレイパターン１２の形成の一例を示す図である。図３９に示すように、画素アレイ基板６に形成した偏光軸方向マーク７６に基づいて、画素アレイパターン１２の少なくともゲート配線１８またはソース配線１９のパターンの配置を設定してもよく、画素アレイアライメントマーク７７を形成してもよい。あるいは、画素アレイアライメントマーク７７に基づいて、図３４〜図３８に示すような偏光機能を形成してもよい。

偏光軸方向マーク７６を基準として画素アレイパターン１２を形成、または画素アレイアライメントマーク７７を基準として偏光機能を形成することによって、対向基板７を重ね合わせたときにおける設定値からの偏光軸のばらつきをさらに抑制することができ、特性が安定した表示装置を提供することができるとともに、歩留まりの向上を実現することができる。

なお、図４０に示すように、偏光軸方向マーク７６と画素アレイアライメントマーク７７とがなす角度φと、対向基板における偏光軸方向マーク４４とタッチセンサーアライメントマーク４５とがなす角度θとの関係は、ＴＮモードのノーマリーホワイトの場合はθ＋φ＝９０°、ＩＰＳモードまたはＦＦＳモードの場合はθ＝φとする等、液晶モードに応じて適宜設定すればよい。

画素アレイ基板６側に形成した配向膜のラビング処理は、対向基板７側に形成した配向膜のラビング処理と同様であってもよい（図２１参照）。このとき、ラビングローラー軸の角度は、画素アレイアライメントマーク７７に基づいて設定してもよい。このようにすることによって、偏光軸と液晶の配向方向との加工誤差を低減することができるため、安定した表示品位を得ることが可能となる。ラビングローラーの軸と偏光軸を示すマーク（画素アレイアライメントマーク７７）とがなす角度は、液晶モードに合わせて適宜設定すればよい。

なお、本発明は、その発明の範囲内において、各実施の形態を自由に組み合わせたり、各実施の形態を適宜、変形、省略することが可能である。

１ 表示装置、２ フレーム、３ バックライトユニット、４ 光学フィルム、５ 液晶セル、６ 画素アレイ基板、７ 対向基板、８ 液晶層、９ シール剤、１０ 偏光フィルム、１１ 透明基板、１２ 画素アレイパターン、１３ ガラス基板、１４ カラーフィルターパターン、１５ タッチセンサーパターン、１６ 保護ガラス、１７ 粘着剤、１８ ゲート配線、１９ ソース配線、２０ スイッチング素子、２１ 共通配線、２２ ゲート電極、２３ 共通電極、２４ ゲート絶縁膜、２５ 半導体層、２６ ソース電極、２７ ドレイン電極、２８ 層間絶縁膜、２９ 画素電極、３０ ブラックマトリクス、３１ 色材、３２ Ｘ方向検出線、３３ Ｙ方向検出線、３４，３５ 導電体配線、３６ 層間絶縁膜、３７ 保護絶縁膜、３８ オーバーコート、３９ 対向電極、４０ 導電性微粒子、４１ 偏光軸方向、４２ ガラス基板、４３ 保護膜、４４ 偏光軸方向マーク、４５ タッチセンサーアライメントマーク、４６ カラーフィルターアライメントマーク、４７ 配向膜、４８ ラビングローラー、４９ 配線、５０ 通過前偏光軸方向、５１ 通過後偏光軸方向、５２ 接線、５３ 偏光フィルム、５４ 画素アレイ基板、５５ 液晶層、５６ カラーフィルターパターン、５７ ガラス基板、５８ タッチセンサーパターン、５９ 偏光フィルム、６０ ガラス基板、６１ 微細配線、６２ 周辺額縁部、６３ 対向電極端子、６４ 導電性スペーサ―、６５ 平坦化膜、６６ 保護膜、６７ 開口部、６８ 絶縁膜、６９ 端子、７０ 透明基板、７１ 導電性微粒子、７２ 透明基板、７３ 保護膜、７４ 微細配線、７５ 保護膜、７６ 偏光軸方向マーク、７７ 画素アレイアライメントマーク。

Claims (16)

1. 複数の画素がアレイ状に設けられたアレイ基板と、
   前記アレイ基板上に液晶層を挟んで対向して配置された対向基板と、
   を備え、
   前記対向基板は、
   前記アレイ基板側から前記液晶層に入射する偏光光の第１の偏光軸に対して少なくとも一部が平行または直交しないように配設されたタッチセンサー配線パターンと、
   前記タッチセンサー配線パターンよりも前記液晶層側であって、前記第１の偏光軸に対して０度または９０度の第２の偏光軸を有する偏光層と、
   を備える、液晶表示装置。
2. 前記タッチセンサー配線パターンは、絶縁膜を介して立体視で交差するように配設された複数の行方向配線および複数の列方向配線からなることを特徴とする、請求項１に記載の液晶表示装置。
3. 前記偏光層は、アスペクト比が２以上、長軸方向の寸法が１００ｎｍ以上、かつ前記長軸方向が前記第１の偏光軸に対して直交するように配向した、導電性微粒子、導電性ファイバー、消光性粒子、または消光性ファイバーのいずれかを含むことを特徴とする、請求項１または２に記載の液晶表示装置。
4. 前記偏光層は、前記第１の偏光軸に対して直交する方向に等間隔で延設される複数の導電性配線を有することを特徴とする、請求項１に記載の液晶表示装置。
5. 各前記導電性配線は、少なくとも１箇所以上で互いに電気的に接続されることを特徴とする、請求項４に記載の液晶表示装置。
6. 各前記導電性配線は、各前記導電性配線を囲む周辺領域において、前記アレイ基板に設けられた電極と電気的に接続されることを特徴とする、請求項５に記載の液晶表示装置。
7. 各前記導電性配線は、２５０ｎｍ以下の間隔で延設され、
   各前記導電性配線の幅は、前記間隔の半分以下であることを特徴とする、請求項４に記載の液晶表示装置。
8. 各前記導電性配線は、前記液晶層側がＡｌ合金、当該Ａｌ合金の前記液晶層側とは反対側が高窒化Ａｌの積層であることを特徴とする、請求項４から７のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
9. 各前記行方向配線および各前記列方向配線は、幅が１０μｍ以下の配線によって形成されることを特徴とする、請求項２に記載の液晶表示装置。
10. 各前記行方向配線および各前記列方向配線は、曲線部を有することを特徴とする、請求項２または９に記載の液晶表示装置。
11. 前記対向基板は、前記タッチセンサー配線パターンよりも前記液晶層側にカラーフィルターパターンをさらに備え、
    前記対向基板は、前記偏光層の前記第２の偏光軸の方向を示す第１のマークを有し、
    前記タッチセンサー配線パターンのうちの少なくとも前記液晶層側に形成される前記タッチセンサー配線パターンは、前記第１のマークに基づいて形成され、前記タッチセンサー配線パターンの配置を示す第２のマークを有し、
    前記カラーフィルターパターンは、前記第１のマークまたは前記第２のマークに基づいて形成されることを特徴とする、請求項１から１０のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
12. 前記対向基板は、最も前記液晶層側に配向膜をさらに備え、
    前記配向膜は、前記第１のマークまたは前記第２のマークに基づいてラビング処理されることを特徴とする、請求項１１に記載の液晶表示装置。
13. 前記対向基板は、前記タッチセンサー配線パターンよりも前記液晶層側にカラーフィルターパターンをさらに備え、
    前記対向基板は、前記偏光層の前記第２の偏光軸の方向を示す第１のマークを有し、
    前記カラーフィルターパターンは、前記第１のマークに基づいて形成され、前記カラーフィルターパターンの配置を示す第３のマークを有し、
    前記タッチセンサー配線パターンのうちの少なくとも前記液晶層側に形成される前記タッチセンサー配線パターンは、前記第１のマークまたは前記第３のマークに基づいて形成されることを特徴とする、請求項１から１０のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
14. 前記対向基板は、最も前記液晶層側に配向膜をさらに備え、
    前記配向膜は、前記第１のマークまたは前記第３のマークに基づいてラビング処理されることを特徴とする、請求項１３に記載の液晶表示装置。
15. 前記対向基板は、前記タッチセンサー配線パターンよりも前記液晶層側にカラーフィルターパターンをさらに備え、
    前記タッチセンサー配線パターンは、当該タッチセンサー配線パターンの配置を示す第２のマークを有し、
    前記カラーフィルターパターンは、前記第２のマークに基づいて形成され、前記カラーフィルターパターンの配置を示す第３のマークを有し、
    前記偏光層は、前記第２のマークまたは前記第３のマークに基づいて形成されることを特徴とする、請求項１から１０のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
16. 前記対向基板は、最も前記液晶層側に配向膜をさらに備え、
    前記配向膜は、前記第２のマークまたは前記第３のマークに基づいてラビング処理されることを特徴とする、請求項１５に記載の液晶表示装置。

Images