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JP2016090878A - Optical reflection film - Google Patents

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JP2016090878A
JP2016090878A JP2014226863A JP2014226863A JP2016090878A JP 2016090878 A JP2016090878 A JP 2016090878A JP 2014226863 A JP2014226863 A JP 2014226863A JP 2014226863 A JP2014226863 A JP 2014226863A JP 2016090878 A JP2016090878 A JP 2016090878A
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JP
Japan
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refractive index
index layer
layer
film
optical
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Application number
JP2014226863A
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Japanese (ja)
Inventor
洋一 斎藤
Yoichi Saito
洋一 斎藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical reflection film that features a superior optical reflective property and includes an optical interference film having improved weatherability and water resistance.SOLUTION: An optical reflection film 1 includes optical interference films formed by alternately laminating high refractive index layers 15, comprising a first water-soluble polymer and first metal oxide particles, and low refractive index layers 14, comprising a second water-soluble polymer and second metal oxide particles, on a base material 11. At least one layer of the high refractive index layers 15 and low refractive index layers 14 constituting the optical interference films contains, as a binder, a photocrosslinked polymer compound, having inter-side-chain crosslinks, obtained by irradiating an active energy ray-crosslinkable polymer compound having a plurality of side chains on a hydrophilic main chain with active energy rays.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、光学反射フィルムに関する。より詳細には、本発明は、遮熱フィルム(近赤外光反射フィルム)、金属光沢調フィルム、可視光着色フィルムなどに好適に使用できる光学反射フィルムに関するものである。   The present invention relates to an optical reflection film. More specifically, the present invention relates to an optical reflective film that can be suitably used for a heat shielding film (near infrared light reflective film), a metallic glossy film, a visible light colored film, and the like.

近年、省エネルギー対策への関心が高まり、建物や車両の窓ガラスに装着させて、太陽光の熱線(赤外線)の透過を遮断する近赤外光反射フィルム(赤外線遮蔽フィルム)の開発が盛んに行われるようになってきている。これにより冷房設備にかかる負荷を減らすことが出来、省エネルギー対策として有効だからである。   In recent years, interest in energy-saving measures has increased, and development of near-infrared light reflecting films (infrared shielding films) that are attached to the window glass of buildings and vehicles to block the transmission of solar heat rays (infrared rays) has become active. It has come to be. This is because the load on the cooling equipment can be reduced and is effective as an energy saving measure.

赤外線を遮蔽する方法の一つとして、基材上に、屈折率の異なるポリマー層(高屈折率層と低屈折率層)を交互に積層させた光学干渉膜を近赤外光の反射層として形成してなる近赤外光反射フィルムは従来より知られており、より簡便な方法として注目されている。また、前記高屈折率層と低屈折率層を交互に積層させた光学干渉膜の光学膜厚を調整することで、近赤外光に替えて可視光や紫外線、遠赤外線を反射する光学反射フィルムを設計できることも知られている。さらに、特許文献1には、前記高屈折率層及び低屈折率層の少なくとも1つの層に、バインダとして機能する水溶性高分子と、金属酸化物粒子を含有した水系の塗布液を用いることで、より低コストに赤外線反射フィルムが得られることが記載されている。   As a method for shielding infrared rays, an optical interference film in which polymer layers (high refractive index layer and low refractive index layer) having different refractive indexes are alternately laminated on a base material is used as a near infrared light reflecting layer. The formed near-infrared light reflecting film is conventionally known and attracts attention as a simpler method. In addition, by adjusting the optical film thickness of the optical interference film in which the high refractive index layer and the low refractive index layer are alternately laminated, the optical reflection that reflects visible light, ultraviolet light, and far infrared light instead of near infrared light. It is also known that films can be designed. Further, Patent Document 1 uses an aqueous coating solution containing a water-soluble polymer functioning as a binder and metal oxide particles in at least one of the high refractive index layer and the low refractive index layer. It is described that an infrared reflective film can be obtained at a lower cost.

国際公開第2013/054912号International Publication No. 2013/054912

しかしながら、特許文献1に記載の赤外線反射フィルムでは、水溶性高分子を用いた前記高屈折率層及び低屈折率層の積層により形成された光学干渉膜が、長時間の使用によって、含水や熱膨張により層間での剥離が生じるという問題があった。   However, in the infrared reflective film described in Patent Document 1, the optical interference film formed by laminating the high-refractive index layer and the low-refractive index layer using a water-soluble polymer is used for a long time. There was a problem that peeling occurred between layers due to expansion.

したがって、本発明は、上記事情を鑑みて、優れた光学反射特性を保持した上で、光学干渉膜の耐候性、耐水性を向上してなる光学反射フィルムの提供を目的とする。   Therefore, in view of the above circumstances, an object of the present invention is to provide an optical reflection film that improves the weather resistance and water resistance of an optical interference film while maintaining excellent optical reflection characteristics.

本発明者は、上記問題点を解決すべく、鋭意検討した結果、塗布液中の水溶性高分子の一部または全部として、親水性主鎖に複数の側鎖を有する光反応性高分子化合物を使用して高屈折率層と低屈折率層の交互に積層した膜を形成する。この膜に活性エネルギー線を照射して前記側鎖間で架橋結合された光架橋型高分子化合物を含む膜(光学干渉膜)を形成する。こうした光架橋型高分子化合物を含む光学干渉膜を有する光学反射フィルム構成とすることで、上記問題点を解消できることを見出したものである。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventor has obtained a photoreactive polymer compound having a plurality of side chains in the hydrophilic main chain as part or all of the water-soluble polymer in the coating solution. Is used to form a film in which high refractive index layers and low refractive index layers are alternately stacked. The film is irradiated with active energy rays to form a film (optical interference film) containing a photocrosslinking polymer compound crosslinked between the side chains. It has been found that the above-mentioned problems can be solved by adopting an optical reflection film configuration having an optical interference film containing such a photocrosslinking polymer compound.

すなわち、本発明の上記目的は、以下の構成により達成される。   That is, the above object of the present invention is achieved by the following configuration.

1.基材上に、第1の水溶性高分子及び第1の金属酸化物粒子を含む高屈折率層、ならびに第2の水溶性高分子及び第2の金属酸化物粒子を含む低屈折率層を交互に積層して形成された光学干渉膜を有する光学反射フィルムにおいて、
前記光学干渉膜を構成する高屈折率層および低屈折率層の少なくとも1層が、活性エネルギー線により架橋する高分子化合物(光反応性高分子化合物ともいう)であって、親水性主鎖に複数の側鎖を有する光反応性高分子化合物に、活性エネルギー線を照射して得られる、側鎖間で架橋結合された光架橋型高分子化合物をバインダとして含有することを特徴とする光学反射フィルム。
1. A high refractive index layer containing a first water-soluble polymer and first metal oxide particles, and a low refractive index layer containing a second water-soluble polymer and second metal oxide particles on a substrate. In the optical reflection film having the optical interference film formed by alternately laminating,
At least one of the high refractive index layer and the low refractive index layer constituting the optical interference film is a polymer compound (also referred to as a photoreactive polymer compound) that is cross-linked by active energy rays, and has a hydrophilic main chain. An optical reflection comprising a photoreactive polymer compound having a plurality of side chains as a binder, which is obtained by irradiating active energy rays with a photocrosslinked polymer compound crosslinked between side chains. the film.

2.前記光反応性高分子化合物の親水性主鎖と側鎖の部分構造が、下記一般式(A)   2. The partial structure of the hydrophilic main chain and side chain of the photoreactive polymer compound has the following general formula (A)

〔式中、Polyは親水性主鎖を表し、{ }内は側鎖を表し、Xは(p+l)価の連結基を表し、Bは架橋性基を表し、Yは水素原子または置換基を表す。mは0または1、nは0または1、pは正の整数を表す。pが2以上のとき、複数のB及びYは同一でも異なってもよい。〕で表されることを特徴とする上記1に記載の光学反射フィルム。 [In the formula, Poly represents a hydrophilic main chain, {} represents a side chain, X 1 represents a (p + 1) -valent linking group, B represents a crosslinkable group, and Y 1 represents a hydrogen atom or a substituted group. Represents a group. m represents 0 or 1, n represents 0 or 1, and p represents a positive integer. When p is 2 or more, a plurality of B and Y 1 may be the same or different. 2. The optical reflective film as described in 1 above, wherein

3.前記光反応性高分子化合物の親水性主鎖がポリ酢酸ビニルのケン化物であり、且つケン化度が77〜99%、重合度が500〜5000の範囲であることを特徴とする上記1または2に記載の光学反射フィルム。   3. The above 1 or 2, wherein the hydrophilic main chain of the photoreactive polymer compound is a saponified product of polyvinyl acetate, the saponification degree is in the range of 77 to 99%, and the polymerization degree is in the range of 500 to 5000. 2. The optical reflection film according to 2.

4.前記光反応性高分子化合物の親水性主鎖に対する前記側鎖の変性率が0.7〜4.5モル%の範囲であることを特徴とする上記1〜3のいずれか1項に記載の光学反射フィルム。   4). The modification of the side chain with respect to the hydrophilic main chain of the photoreactive polymer compound is in a range of 0.7 to 4.5 mol%, according to any one of the above 1 to 3, Optical reflective film.

5.上記1〜4のいずれか1項に記載の光学反射フィルムが、基体の少なくとも一方の面に設けられてなる光学反射体。   5. 5. An optical reflector formed by providing the optical reflective film according to any one of 1 to 4 on at least one surface of a substrate.

本発明では、優れた光学反射特性を保持した上で、光学干渉膜の耐候性、耐水性に優れた光学反射フィルムを提供することができる。   In the present invention, it is possible to provide an optical reflective film excellent in the weather resistance and water resistance of an optical interference film while maintaining excellent optical reflection characteristics.

本発明の光学反射フィルムの一実施形態の一般的な構成を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the general structure of one Embodiment of the optical reflection film of this invention. 本発明の光学反射フィルムの他の実施形態の一般的な構成を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the general structure of other embodiment of the optical reflection film of this invention.

以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明するが、本発明の技術的範囲は特許請求の範囲の記載に基づいて定められるべきであり、以下の形態のみに制限されない。   DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described in detail. However, the technical scope of the present invention should be determined based on the description of the scope of claims, and is not limited to the following embodiments.

本発明の第1実施形態である光学反射フィルムは、基材上に、第1の水溶性高分子及び第1の金属酸化物粒子を含む高屈折率層、ならびに第2の水溶性高分子及び第2の金属酸化物粒子を含む低屈折率層を交互に積層して形成された光学干渉膜を有する光学反射フィルムにおいて、
前記光学干渉膜を構成する高屈折率層および低屈折率層の少なくとも1層が、活性エネルギー線により架橋する高分子化合物(以下、光反応性高分子化合物ともいう)であって、親水性主鎖に複数の側鎖を有する該高分子化合物に、活性エネルギー線を照射して得られる、側鎖間で架橋結合された光架橋型高分子化合物をバインダとして含有することを特徴とするものである。上記構成により、本発明の効果を有効に発現することができる。
The optical reflective film according to the first embodiment of the present invention includes a high refractive index layer containing a first water-soluble polymer and first metal oxide particles, a second water-soluble polymer, and a substrate. In an optical reflective film having an optical interference film formed by alternately laminating low refractive index layers containing second metal oxide particles,
At least one of the high refractive index layer and the low refractive index layer constituting the optical interference film is a polymer compound (hereinafter also referred to as a photoreactive polymer compound) that is cross-linked by active energy rays, and has a hydrophilic main property. The polymer compound having a plurality of side chains in the chain contains, as a binder, a photocrosslinkable polymer compound that is obtained by irradiating active energy rays and crosslinked between side chains. is there. With the above configuration, the effects of the present invention can be effectively exhibited.

すなわち、本発明者は、特許文献1の問題点を改善する一手段として架橋剤による改良を試みたが、次のような課題があることがわかった。即ち、光学干渉膜(反射層)を形成する際に、塗布液に架橋剤を添加して架橋することで皮膜の耐久性向上(耐候性試験で膜割れしにくくする改善)を試みた。しかしながら、架橋剤による架橋はよく知られた技術であるが、添加後に反応が始まり液のゲル化や凝集を引き起こし塗布故障につながり、良好な皮膜が得られず、上記問題の解決につながらないことがわかった。そのため、反応性の弱い架橋剤を多量に入れたり、塗布直前に塗布液と混合するような設備が必要となり塗布液と架橋剤の混合性(均一混合)がそれぞれの液物性や装置条件によっては難しく、均質で良好な皮膜が得られず、上記問題の解決につながらないことがわかった。そこで、これらの問題点も勘案し、更に鋭意検討を重ねた結果、これらの問題点を解消し得る手段を見出したものである。即ち、塗布液中のバインダとして機能する水溶性高分子の一部または全部として、親水性主鎖に複数の側鎖を有するポリビニルアルコール等の光反応性(活性エネルギー線架橋性)高分子化合物を使用して高屈折率層と低屈折率層の交互に積層した膜を形成する。その後、この膜に紫外線等の活性エネルギー線を照射して、近接する光反応性高分子化合物(同士)の側鎖間で架橋結合された光架橋型高分子化合物を含む膜(光学干渉膜)を形成する。こうした光架橋型高分子化合物をバインダとして含む光学干渉膜を有する光学反射フィルム構成とすることで、上記諸問題が発生せず、光学干渉膜の耐候性、耐水性を向上することができる。さらに、上記バインダとして機能する水溶性高分子の一部または全部に上記光反応性(活性エネルギー線架橋性)の中でもUV反応性(UV架橋性)の高分子化合物を使用して積層膜を形成後に、該積層膜上に、あるいは基材をはさんで反対面側にUV硬化樹脂によるハードコート層を組み合わせた構成にすると、ハードコート層用塗布液を塗布する際のUV照射を利用することができる。そのため光学干渉膜の塗布形成工程に新たにUV照射装置等の設備を増設したり、UV照射する段階(工程)を新たに設けたりすることが不要となり、工程負荷を軽減することができる。   That is, although this inventor tried the improvement by a crosslinking agent as one means to improve the problem of patent document 1, it turned out that there exist the following subjects. That is, when forming the optical interference film (reflective layer), an attempt was made to improve the durability of the film (improvement to make it difficult to break the film in a weather resistance test) by adding a crosslinking agent to the coating solution and crosslinking. However, cross-linking with a cross-linking agent is a well-known technique, but the reaction starts after the addition and causes gelation and aggregation of the liquid, leading to coating failure, failing to obtain a good film, and thus not solving the above problem. all right. For this reason, it is necessary to install a large amount of a crosslinking agent having low reactivity or to mix with the coating solution immediately before coating, and the mixing property (uniform mixing) of the coating solution and the crosslinking agent depends on the respective liquid properties and equipment conditions. It was found that a difficult, homogeneous and good film could not be obtained, and that the above problem could not be solved. In view of these problems, the present inventors have further studied earnestly, and as a result, have found means that can solve these problems. That is, as part or all of the water-soluble polymer that functions as a binder in the coating solution, a photoreactive (active energy ray crosslinkable) polymer compound such as polyvinyl alcohol having a plurality of side chains in the hydrophilic main chain is used. The film is formed by alternately laminating a high refractive index layer and a low refractive index layer. Thereafter, this film is irradiated with active energy rays such as ultraviolet rays, and a film containing a photocrosslinkable polymer compound crosslinked between side chains of adjacent photoreactive polymer compounds (mutually) (optical interference film) Form. By adopting an optical reflective film configuration having an optical interference film containing such a photocrosslinkable polymer compound as a binder, the above problems do not occur, and the weather resistance and water resistance of the optical interference film can be improved. Further, a part of or all of the water-soluble polymer functioning as the binder is formed by using a UV reactive (UV crosslinkable) polymer compound among the photoreactive (active energy ray crosslinkable). Later, when a hard coat layer made of UV curable resin is combined on the laminated film or on the opposite side of the substrate, UV irradiation when applying the coating liquid for the hard coat layer should be used. Can do. Therefore, it is not necessary to newly add equipment such as a UV irradiation device or newly provide a UV irradiation stage (process) in the optical interference film coating formation process, and the process load can be reduced.

本明細書中、他方に対して屈折率の高い屈折率層を高屈折率層と、他方に対して屈折率の低い屈折率層を低屈折率層と称する。本明細書において、「高屈折率層」および「低屈折率層」なる用語は、隣接した2層の屈折率差を比較した場合に、屈折率が高い方の屈折率層を高屈折率層とし、低い方の屈折率層を低屈折率層とすることを意味する。したがって、「高屈折率層」および「低屈折率層」なる用語は、光学反射フィルムを構成する各屈折率層において、隣接する2つの屈折率層に着目した場合に、各屈折率層が同じ屈折率を有する形態以外のあらゆる形態を含むものである。   In this specification, a refractive index layer having a higher refractive index than the other is referred to as a high refractive index layer, and a refractive index layer having a lower refractive index than the other is referred to as a low refractive index layer. In this specification, the terms “high refractive index layer” and “low refractive index layer” refer to a refractive index layer having a higher refractive index when comparing the refractive index difference between two adjacent layers. It means that the lower refractive index layer is a low refractive index layer. Therefore, the terms “high refractive index layer” and “low refractive index layer” are the same when each refractive index layer constituting the optical reflective film is focused on two adjacent refractive index layers. All forms other than those having a refractive index are included.

以下、本発明の光学反射フィルムの構成要素について、詳細に説明する。なお、以下では、低屈折率層および高屈折率層を区別しない場合は、両者を含む概念として「屈折率層」と称する。   Hereinafter, the components of the optical reflecting film of the present invention will be described in detail. Hereinafter, when the low refractive index layer and the high refractive index layer are not distinguished, the concept including both is referred to as a “refractive index layer”.

また、本明細書において、範囲を示す「X〜Y」は「X以上Y以下」を意味する。また、特記しない限り、操作および物性等の測定は室温(20〜25℃)/相対湿度40〜50%の条件で測定する。   In this specification, “X to Y” indicating a range means “X or more and Y or less”. Unless otherwise specified, measurement of operation and physical properties is performed under conditions of room temperature (20 to 25 ° C.) / Relative humidity 40 to 50%.

{光学反射フィルム}
本発明の光学反射フィルムは、基材と、高屈折率層および低屈折率層を交互に積層して形成された光学干渉膜と、を含む。
{Optical reflection film}
The optical reflective film of the present invention includes a base material and an optical interference film formed by alternately laminating a high refractive index layer and a low refractive index layer.

本発明の光学反射フィルムは、基材の片面上または両面上に、高屈折率層と低屈折率層が交互に積層して形成された多層の光学干渉膜を有するものであれば特に制限されない。生産性の観点から、基材の片面あたりの好ましい高屈折率層および低屈折率層の総層数の範囲は、100層以下12層以上、より好ましくは45層以下15層以上、さらに好ましくは45層以下21層以上である。なお、前記の好ましい高屈折率層および低屈折率層の総層数の範囲は、基材の片面にのみ積層される場合においても適応可能であり、基材の両面に同時に積層される場合においても適応可能である。基材の両面に積層される場合において、基材一の面と他の面との高屈折率層および低屈折率層の総層数は、同じであってもよく、異なっていてもよい。   The optical reflective film of the present invention is not particularly limited as long as it has a multilayer optical interference film formed by alternately laminating a high refractive index layer and a low refractive index layer on one side or both sides of a substrate. . From the viewpoint of productivity, the preferred range of the total number of high refractive index layers and low refractive index layers per one side of the substrate is 100 layers or less, 12 layers or more, more preferably 45 layers or less, 15 layers or more, more preferably 45 layers or less, 21 layers or more. The preferred range of the total number of high refractive index layers and low refractive index layers is applicable even when laminated on only one side of the substrate, and when laminated simultaneously on both sides of the substrate. Is also applicable. When laminated on both surfaces of the substrate, the total number of high refractive index layers and low refractive index layers on one surface of the substrate and the other surface may be the same or different.

また、本発明の光学反射フィルムにおいて、最下層および最上層(最表層)は、高屈折率層および低屈折率層のいずれであってもよい。好ましくは、低屈折率層が、最下層および最上層に位置する層構成とするものである。かかる層構成とすることにより、最下層の基材や下引層への密着性、最上層の吹かれ耐性、さらには最上層へのハードコート層等の塗布性や密着性に優れる点で好ましい。   In the optical reflective film of the present invention, the lowermost layer and the uppermost layer (outermost layer) may be either a high refractive index layer or a low refractive index layer. Preferably, the low refractive index layer has a layer configuration located in the lowermost layer and the uppermost layer. By adopting such a layer configuration, the adhesion to the lowermost base material and the undercoat layer, the blowing resistance of the uppermost layer, and further preferable in terms of excellent applicability and adhesion such as a hard coat layer to the uppermost layer. .

以下、本発明の光学反射フィルムの一般的な構成を、図面を参照しながら説明する。なお、図面の説明において同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。また、図面の寸法比率は、説明の都合上誇張されており、実際の比率とは異なる場合がある。   Hereinafter, the general structure of the optical reflective film of the present invention will be described with reference to the drawings. In the description of the drawings, the same elements are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted. In addition, the dimensional ratios in the drawings are exaggerated for convenience of explanation, and may be different from the actual ratios.

図1は、本発明の光学反射フィルムの一実施形態の一般的な構成を示す概略断面図である。図1に示す光学反射フィルム1は、基材11と、基材11の片面(太陽光Lが差し込む側の面)上に形成された下引層12と、基材11のもう一方の面(太陽光Lが差し込む側とは反対側の屋内側の面)及び下引層12上に形成された光学干渉膜13a、13bとを有する。図1では、光学干渉膜13a、13bの最下層と最上層に低屈折率層14が配置されるように、m層の低屈折率層14と、m−1層の高屈折率層15とを交互に積層した光学干渉膜13a、13bが、基板11の両面にそれぞれ形成された構成となっている。ここで、mは2以上の整数であり、図1はm=5の例を表している。また、基材11の片面(太陽光Lが差し込む側とは反対側の屋内側の面)の光学干渉膜13bの最上層の低屈折率層14上に透明なハードコート層(CHC層)16が組み合わされている(形成されている)。   FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a general configuration of an embodiment of the optical reflection film of the present invention. The optical reflective film 1 shown in FIG. 1 has a base material 11, an undercoat layer 12 formed on one side of the base material 11 (a surface on which sunlight L is inserted), and the other surface of the base material 11 ( And the optical interference films 13 a and 13 b formed on the undercoat layer 12. In FIG. 1, m low refractive index layers 14, m−1 high refractive index layers 15, and low refractive index layers 14 are disposed in the lowermost and uppermost layers of the optical interference films 13 a and 13 b. The optical interference films 13 a and 13 b are alternately formed on both surfaces of the substrate 11. Here, m is an integer of 2 or more, and FIG. 1 represents an example of m = 5. Further, a transparent hard coat layer (CHC layer) 16 is formed on the uppermost low refractive index layer 14 of the optical interference film 13b on one side of the substrate 11 (the surface on the indoor side opposite to the side where the sunlight L is inserted). Are combined (formed).

図2は、本発明の光学反射フィルムの他の実施形態の一般的な構成を示す概略断面図である。図2に示す光学反射フィルム1’は、基材11と、基材11の片面(太陽光Lが差し込む側の面)上に形成された下引層12と、下引層12上に形成された光学干渉膜13aを有する。図2では、光学干渉膜13aの最下層と最上層に低屈折率層14が配置されるように、図1と同じ構成の積層膜(干渉膜)が形成された光学干渉膜13aが、基板11の片面に形成された構成となっている。また、基材11の片面(太陽光Lが差し込む側とは反対側の屋内側の面)上に透明なハードコート層(CHC層)16が組み合わされている(形成されている)。   FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a general configuration of another embodiment of the optical reflecting film of the present invention. 2 is formed on the base layer 11, the undercoat layer 12 formed on one side of the base material 11 (the surface on which sunlight L is inserted), and the undercoat layer 12. The optical interference film 13a is provided. In FIG. 2, the optical interference film 13a in which a laminated film (interference film) having the same configuration as that of FIG. 1 is formed so that the low refractive index layer 14 is disposed in the lowermost layer and the uppermost layer of the optical interference film 13a is a substrate. 11 is formed on one side. Further, a transparent hard coat layer (CHC layer) 16 is combined (formed) on one side of the substrate 11 (the surface on the indoor side opposite to the side on which the sunlight L is inserted).

また、図1、2の構成例では、基材11の片面(太陽光Lが差し込む側の面;自動車窓や建物のガラス窓などの基体18に貼りつけられる面)の光学干渉膜13aの最上層の低屈折率層14上に透明な粘着層17が形成されている。   In the configuration example of FIGS. 1 and 2, the optical interference film 13a on one side of the base material 11 (the surface on which sunlight L is inserted; the surface that is attached to the base 18 such as an automobile window or a glass window of a building) A transparent adhesive layer 17 is formed on the upper low refractive index layer 14.

さらに、図1、2の構成例では、自動車窓や建物のガラス窓などの基体18の屋内(車内または室内)側に光学反射フィルム1、1’を貼りつければよい。図1、2では基体18に光学反射フィルム1、1’を貼りつけ後の様子を表している。また、図1、2では、基材11の片面(太陽光Lが差し込む側の面)上に下引層12を形成した例を示したが、基材11の両面に下引層12を形成してもよいし、下引層12を形成することなく、基材11上に直接、光学干渉膜13a、13bを形成してもよい。また、使用形態によっては、CHC層16や透明な粘着層17は必ずしも必要ではなく、これらの層を設けない構成とすることもできる。また、透明な粘着層17の上には、剥離層(図示せず)を設けておき、基体18に貼りつける際に、この剥離層を剥がすようにしてもよい。同様に、CHC層16の上にも、剥離層(図示せず)を設けておき、基体18に貼りつけた後に、この剥離層を剥がすようにしてもよい。   Further, in the configuration example of FIGS. 1 and 2, the optical reflection films 1 and 1 ′ may be pasted on the indoor (inside or inside) side of the base 18 such as an automobile window or a glass window of a building. 1 and 2 show a state after the optical reflection films 1 and 1 ′ are attached to the base 18. 1 and 2 show an example in which the undercoat layer 12 is formed on one surface of the base material 11 (the surface on which sunlight L is inserted), but the undercoat layer 12 is formed on both surfaces of the base material 11. Alternatively, the optical interference films 13 a and 13 b may be formed directly on the substrate 11 without forming the undercoat layer 12. Moreover, depending on the usage pattern, the CHC layer 16 and the transparent adhesive layer 17 are not necessarily required, and a configuration in which these layers are not provided may be employed. Further, a release layer (not shown) may be provided on the transparent adhesive layer 17, and this release layer may be peeled off when being attached to the substrate 18. Similarly, a release layer (not shown) may be provided on the CHC layer 16, and the release layer may be peeled off after being attached to the substrate 18.

本発明の光学反射フィルムは、図1、2の構成例に何ら制限されるものではなく、基材の片面側(例えば、太陽光Lが差し込む側とは反対側の屋内側の面)若しくはもう一方の面側(例えば、太陽光Lが差し込む側の面;自動車窓や建物のガラス窓などの基体18に貼りつけられる面)の直上や中間層や最表面層などに、さらなる機能の付加を目的として、CHC層16や透明な粘着層17だけでなく、各種機能層、例えば、導電性層、帯電防止層、ガスバリア層、易接着層、防汚層、消臭層、流滴層、易滑層、耐摩耗性層、反射防止層、電磁波シールド層、紫外線吸収層、赤外線吸収層、印刷層、蛍光発光層、ホログラム層、剥離層、粘着層、接着層、本発明の高屈折率層および低屈折率層以外の特定波長領域のカット層(金属層、液晶層)、着色層(可視光線吸収層)、合わせガラスに利用される中間膜層などの機能層の1つ以上を単独もしくは適当に組み合わせて用いてもよい。   The optical reflecting film of the present invention is not limited to the configuration examples of FIGS. 1 and 2, and is one side of the substrate (for example, the surface on the side opposite to the side where sunlight L is inserted) or the other side. Addition of additional functions to one surface side (for example, the surface into which sunlight L is inserted; the surface attached to the base 18 such as an automobile window or a glass window of a building), an intermediate layer, or an outermost layer For the purpose, not only the CHC layer 16 and the transparent adhesive layer 17 but also various functional layers such as a conductive layer, an antistatic layer, a gas barrier layer, an easy adhesion layer, an antifouling layer, a deodorizing layer, a droplet layer, Sliding layer, abrasion resistant layer, antireflection layer, electromagnetic wave shielding layer, ultraviolet absorbing layer, infrared absorbing layer, printing layer, fluorescent light emitting layer, hologram layer, release layer, adhesive layer, adhesive layer, high refractive index layer of the present invention And a cut layer (metal layer, liquid crystal layer) in a specific wavelength region other than the low refractive index layer Colored layer (visible light absorbing layer), one or more functional layers such as an intermediate layer may be used singly or appropriately utilized in laminated glass.

一般に、光学反射フィルムにおいては、高屈折率層と低屈折率層との屈折率の差を大きく設計することが、少ない層数で特定波長領域に対する反射率(例えば、近赤外線反射率)を高くすることができるという観点から好ましい。本発明では、隣接する高屈折率層と低屈折率層との屈折率差は0.1以上が好ましく、より好ましくは0.25以上であり、さらに好ましくは0.3以上であり、よりさらに好ましくは0.35以上であり、もっとも好ましくは0.4以上である。   In general, in an optical reflection film, designing a large difference in refractive index between a high refractive index layer and a low refractive index layer increases the reflectance (for example, near infrared reflectance) for a specific wavelength region with a small number of layers. From the viewpoint of being able to do. In the present invention, the difference in refractive index between the adjacent high refractive index layer and low refractive index layer is preferably 0.1 or more, more preferably 0.25 or more, still more preferably 0.3 or more, and even more. Preferably it is 0.35 or more, and most preferably 0.4 or more.

特定波長領域の反射率は、隣接する2層(高屈折率層と低屈折率層)の屈折率差と積層数で決まり、屈折率の差が大きいほど、少ない層数で同じ反射率を得られる。この屈折率差と、必要な層数とについては、市販の光学設計ソフトを用いて計算することができる。特定波長領域に対する反射率として、例えば、近赤外線反射率90%以上を得るためには、屈折率差が0.1より小さいと、200層以上の積層が必要になり、生産性が低下するだけでなく、積層界面での散乱が大きくなり、透明性が低下し、故障なく製造することも非常に困難になる場合がある。反射率の向上と層数を少なくするという観点からは、屈折率差に上限はないが、実質的には1.4程度が限界である。   The reflectance in a specific wavelength region is determined by the difference in refractive index between two adjacent layers (high refractive index layer and low refractive index layer) and the number of layers, and the larger the difference in refractive index, the same reflectance is obtained with fewer layers. It is done. The refractive index difference and the required number of layers can be calculated using commercially available optical design software. As a reflectance for a specific wavelength region, for example, in order to obtain a near-infrared reflectance of 90% or more, if the refractive index difference is smaller than 0.1, it is necessary to stack 200 layers or more, which only reduces productivity. In addition, scattering at the lamination interface increases, transparency is lowered, and it may be very difficult to manufacture without failure. From the standpoint of improving reflectivity and reducing the number of layers, there is no upper limit to the difference in refractive index, but practically about 1.4 is the limit.

光学反射フィルムが高屈折率層および低屈折率層を交互に積層する場合には、高屈折率層と低屈折率層との屈折率差が、上記好適な屈折率差の範囲内にあることが好ましい。ただし、例えば、最表層はフィルムを保護するための層として形成される場合または最下層が基板との接着性改良層として形成される場合などにおいて、最表層や最下層に関しては、上記好適な屈折率差の範囲外の構成であってもよい。   When the optical reflective film is formed by alternately laminating a high refractive index layer and a low refractive index layer, the refractive index difference between the high refractive index layer and the low refractive index layer is within the range of the preferred refractive index difference. Is preferred. However, for example, when the outermost layer is formed as a layer for protecting the film or when the lowermost layer is formed as an adhesion improving layer with the substrate, the above-mentioned preferable refraction is performed with respect to the outermost layer and the lowermost layer. A configuration outside the range of the rate difference may be used.

さらには、本発明の光学反射フィルムの光学特性としては、ヘイズ値が改善し、曇り度合いを低く透明性を高めてなることが望ましいことから、JIS R3106−1998で示される可視光領域の透過率が50%以上であり、好ましくは75%以上であり、より好ましくは85%以上である。また、光学反射フィルムでは光学反射特性を保持できることが望ましいことから、例えば、赤外線遮蔽フィルムの場合、特定波長領域として波長900nm〜1400nmの領域に反射率50%を超える領域を有することが好ましい。波長900nm〜1400nmの近赤外波長領域を反射させることで、赤外線(熱線)の透過を遮蔽することができ、熱さを防ぐことができる。光学反射フィルムの光学反射特性は、使用用途に応じて、反射させたい特定波長領域の反射率が50%を超えるのが望ましい。なお、可視光領域の透過率の測定は、JIS R3106−1998により測定できる。詳しくは、市販の分光光度計(例えば、積分球使用、日立製作所社製、U−4000型など)を用いて赤外線遮蔽フィルム(サンプル)の可視光透過率のほか、赤外線透過率及び赤外線反射率及び特定波長領域の反射率を測定することができる。   Furthermore, as the optical characteristics of the optical reflecting film of the present invention, it is desirable that the haze value is improved, the degree of haze is low, and the transparency is increased. Therefore, the transmittance in the visible light region shown in JIS R3106-1998 is desirable. Is 50% or more, preferably 75% or more, and more preferably 85% or more. In addition, since it is desirable that the optical reflection film can maintain the optical reflection characteristics, for example, in the case of an infrared shielding film, it is preferable that the specific wavelength region has a region with a reflectance exceeding 50% in a wavelength region of 900 nm to 1400 nm. By reflecting the near-infrared wavelength region having a wavelength of 900 nm to 1400 nm, transmission of infrared rays (heat rays) can be blocked, and heat can be prevented. As for the optical reflection characteristics of the optical reflection film, it is desirable that the reflectance in a specific wavelength region to be reflected exceeds 50%, depending on the use application. The transmittance in the visible light region can be measured according to JIS R3106-1998. Specifically, in addition to the visible light transmittance of an infrared shielding film (sample) using a commercially available spectrophotometer (for example, using an integrating sphere, manufactured by Hitachi, Ltd., U-4000 type), infrared transmittance and infrared reflectance In addition, the reflectance in a specific wavelength region can be measured.

本発明の光学反射フィルムの全体の厚みは、好ましくは12μm〜315μm、より好ましくは15μm〜200μm、さらに好ましくは20μm〜100μmである。また、低屈折率層の1層あたりの厚みは、20〜800nmであることが好ましく、50〜350nmであることがより好ましい。光学反射フィルムの全体の厚さは、光学反射フィルムの切断面を走査型電子顕微鏡(SEM)で測定することで求めることができる。   The total thickness of the optical reflective film of the present invention is preferably 12 μm to 315 μm, more preferably 15 μm to 200 μm, and still more preferably 20 μm to 100 μm. Further, the thickness per layer of the low refractive index layer is preferably 20 to 800 nm, and more preferably 50 to 350 nm. The total thickness of the optical reflection film can be obtained by measuring the cut surface of the optical reflection film with a scanning electron microscope (SEM).

次いで、本発明の光学反射フィルムの構成要素である高屈折率層、低屈折率層および基材について、各要素に含まれる成分などを順に詳説する。   Next, components included in each element will be described in detail in order with respect to the high refractive index layer, the low refractive index layer, and the base material, which are constituent elements of the optical reflective film of the present invention.

<高屈折率層>
本発明に係る高屈折率層は、第1の水溶性高分子および第1の金属酸化物粒子を必須成分として含み、必要により、硬化剤、表面被覆成分、界面活性剤、および各種添加剤からなる群から選択される少なくとも1種をさらに含んでもよい。
<High refractive index layer>
The high refractive index layer according to the present invention contains the first water-soluble polymer and the first metal oxide particles as essential components, and if necessary, includes a curing agent, a surface coating component, a surfactant, and various additives. It may further include at least one selected from the group consisting of:

本発明に係る高屈折率層の屈折率は、好ましくは1.80〜2.50であり、より好ましくは1.90〜2.20である。なお、屈折率の測定は、以下の各層の単膜屈折率の測定方法により行うことができる。低屈折率層の屈折率の測定についても同様である。また、隣接する高屈折率層と低屈折率層との屈折率差は、高屈折率層と低屈折率層の屈折率の測定結果から算出することもできる。   The refractive index of the high refractive index layer according to the present invention is preferably 1.80 to 2.50, more preferably 1.90 to 2.20. The refractive index can be measured by the following single film refractive index measurement method. The same applies to the measurement of the refractive index of the low refractive index layer. The difference in refractive index between the adjacent high refractive index layer and low refractive index layer can also be calculated from the measurement results of the refractive indexes of the high refractive index layer and the low refractive index layer.

(各層の単膜屈折率の測定)
基材上に屈折率を測定する対象層(高屈折率層、低屈折率層)をそれぞれ単層で塗設したサンプルを作製し、下記の方法に従って、各高屈折率層および低屈折率層の屈折率を求める。
(Measurement of single film refractive index of each layer)
Samples are prepared by coating the target layers (high refractive index layer and low refractive index layer) whose refractive index is measured on the base material as single layers, and according to the following method, each of the high refractive index layer and the low refractive index layer Find the refractive index of.

分光光度計として、U−4000型(日立製作所社製)を用いて、各サンプルの測定側の裏面を粗面化処理した後、黒色のスプレーで光吸収処理を行って裏面での光の反射を防止して、5度正反射の条件にて可視光領域(400nm〜700nm)の反射率の測定結果より、屈折率を求めることができる。   Using a U-4000 type (manufactured by Hitachi, Ltd.) as a spectrophotometer, the back side on the measurement side of each sample is roughened, and then light absorption is performed with a black spray to reflect light on the back side. The refractive index can be obtained from the measurement result of the reflectance in the visible light region (400 nm to 700 nm) under the condition of regular reflection at 5 degrees.

本発明に係る高屈折率層の1層あたりの厚みは、20〜800nmであることが好ましく、50〜350nmであることがより好ましい。高屈折率層の1層あたりの厚みは、光学反射フィルムの切断面を走査型電子顕微鏡(SEM)で測定することで求めることができる。   The thickness per layer of the high refractive index layer according to the present invention is preferably 20 to 800 nm, and more preferably 50 to 350 nm. The thickness per layer of the high refractive index layer can be determined by measuring the cut surface of the optical reflection film with a scanning electron microscope (SEM).

ここで、1層あたりの厚みを測定する場合、高屈折率層と低屈折率層とはこれらの間に明確な界面をもっていても、徐々に変化していてもよい。界面が徐々に変化している場合には、それぞれの層が混合し屈折率が連続的に変化する領域中で、最大屈折率−最小屈折率=Δnとした場合、2層間の最小屈折率+Δn/2の地点を層界面とみなす。なお、後述する低屈折率層の層厚においても同様である。   Here, when measuring the thickness per layer, the high refractive index layer and the low refractive index layer may have a clear interface between them or may be gradually changed. When the interface is gradually changing, the maximum refractive index-minimum refractive index = Δn in the region where the layers are mixed and the refractive index continuously changes, the minimum refractive index between two layers + Δn The point of / 2 is regarded as the layer interface. The same applies to the layer thickness of the low refractive index layer described later.

本発明の高屈折率層と低屈折率層とを交互に積層して形成された光学干渉膜である積層膜の金属酸化物濃度プロファイルは、スバッタ法を用いて表面から深さ方向へエッチングを行い、XPS表面分析装置を用いて、最表面を0nmとして、0.5nm/minの速度で、スバッタし、原子組成比を測定することで見ることが出来る。また、積層膜を切断して切断面をXPS表面分析装置で原子組成比を測定することで見ることも可能である。混合領域において金属酸化物の濃度が不連続に変化している場合には電子顕微鏡(TEM)による断層写真により境界はわかる。   The metal oxide concentration profile of the laminated film, which is an optical interference film formed by alternately laminating the high refractive index layer and the low refractive index layer of the present invention, is etched from the surface to the depth direction using the sputtering method. It can be seen by using an XPS surface analyzer, setting the outermost surface to 0 nm, sputtering at a rate of 0.5 nm / min, and measuring the atomic composition ratio. It is also possible to view the cut surface by cutting the laminated film and measuring the atomic composition ratio with an XPS surface analyzer. When the concentration of the metal oxide changes discontinuously in the mixed region, the boundary can be found by a tomographic photograph using an electron microscope (TEM).

XPS表面分析装置としては、特に限定なく、いかなる機種も使用することができるが、VGサイエンティフィックス社製ESCALAB−200Rを用いた。X線アノードにはMgを用い、出力600W(加速電圧15kV、エミッション電流40mA)で測定する。   There is no particular limitation on the XPS surface analyzer, and any model can be used, but ESCALAB-200R manufactured by VG Scientific Fix Co. was used. Mg is used for the X-ray anode, and measurement is performed at an output of 600 W (acceleration voltage: 15 kV, emission current: 40 mA).

「第1の金属酸化物粒子」
本発明の高屈折率層は、第1の金属酸化物粒子を含むものである。高屈折率層に含まれうる第1の金属酸化物粒子は、屈折率を異ならせる観点から、低屈折率層に含まれる第2の金属酸化物粒子とは異なる金属酸化物粒子であることが好ましい。高屈折率層を複数有する場合は、複数の高屈折率層の全ての層に第1の金属酸化物粒子を含むものである。
"First metal oxide particles"
The high refractive index layer of the present invention contains the first metal oxide particles. The first metal oxide particles that can be included in the high refractive index layer are metal oxide particles that are different from the second metal oxide particles included in the low refractive index layer from the viewpoint of different refractive indexes. preferable. In the case where a plurality of high refractive index layers are provided, the first metal oxide particles are included in all of the plurality of high refractive index layers.

本発明に係る高屈折率層に用いられる第1の金属酸化物粒子としては、例えば、酸化チタン粒子、酸化ジルコニウム粒子、酸化亜鉛粒子、合成非晶質シリ力粒子、コ口イダルシリ力粒子、アルミナ粒子、コロイダルアルミナ粒子、チタン酸鉛粒子、鉛丹粒子、黄鉛粒子、亜鉛黄粒子、酸化クロム粒子、酸化第二鉄粒子、鉄黒粒子、酸化鋼粒子、酸化マグネシウム粒子、水酸化マグネシウム粒子、チタン酸ストロンチウム粒子、酸化イットリウム粒子、酸化ニオブ粒子、酸化ユーロピウム粒子、酸化ランタン粒子、ジルコン粒子、酸化スズ粒子等が挙げられる。本発明において、屈折率を調整するために、第1の金属酸化物粒子は1種であっても2種以上を併用してもよい。   Examples of the first metal oxide particles used in the high refractive index layer according to the present invention include, for example, titanium oxide particles, zirconium oxide particles, zinc oxide particles, synthetic amorphous silica force particles, narrow mouth force particle, alumina Particles, colloidal alumina particles, lead titanate particles, red lead particles, yellow lead particles, zinc yellow particles, chromium oxide particles, ferric oxide particles, iron black particles, oxidized steel particles, magnesium oxide particles, magnesium hydroxide particles, Examples include strontium titanate particles, yttrium oxide particles, niobium oxide particles, europium oxide particles, lanthanum oxide particles, zircon particles, and tin oxide particles. In the present invention, in order to adjust the refractive index, the first metal oxide particles may be used alone or in combination of two or more.

本発明では、透明でより屈折率の高い高屈折率層を形成するために、高屈折率層は、チタン、ジルコニア等の高屈折率を有する第1の金属酸化物粒子、すなわち、酸化チタン粒子、酸化ジルコニア粒子を含有することが好ましい。また、体積平均粒径が100nm以下のルチル型(正方晶形)酸化チタン粒子を含有することが、アナターゼ型よりも小粒径化しやすく、またアナターゼ型のように光触媒作用により反応して高屈折率層に色がつくこともないなどの観点から、より好ましい。また、複数種の酸化チタン粒子を混合してもよい。   In the present invention, in order to form a transparent and higher refractive index layer having a higher refractive index, the high refractive index layer is a first metal oxide particle having a high refractive index, such as titanium or zirconia, that is, titanium oxide particles. It is preferable to contain zirconia oxide particles. In addition, containing rutile (tetragonal) titanium oxide particles having a volume average particle size of 100 nm or less is easier to reduce the particle size than the anatase type, and reacts by a photocatalytic action as in the anatase type and has a high refractive index. It is more preferable from the viewpoint that the layer is not colored. A plurality of types of titanium oxide particles may be mixed.

また、低屈折率層に含まれる第2の金属酸化物粒子と高屈折率層に含まれる第1の金属酸化物粒子とは、イオン性をそろえた状態(すなわち、電荷が同符号)にすることが好ましい。例えば、同時重層塗布する場合にはイオン性が異なると、界面で反応し凝集物ができヘイズ(透明性)が悪くなるためである。イオン性をそろえる手段としては、例えば、低屈折率層の第2の金属酸化物粒子に二酸化ケイ素(アニオン)、高屈折率層の第1の金属酸化物粒子に酸化チタン(カチオン)を用いた場合に、二酸化ケイ素をアルミニウム等で処理してカチオン化したり、あるいは、後述するように、酸化チタンを含ケイ素の水和酸化物で処理してアニオン化したりすることが可能である。   In addition, the second metal oxide particles contained in the low refractive index layer and the first metal oxide particles contained in the high refractive index layer are in a state of having ionicity (that is, the electric charges have the same sign). It is preferable. For example, in the case of simultaneous multi-layer coating, if the ionicity is different, it reacts at the interface to form an aggregate and haze (transparency) is deteriorated. As means for aligning ionicity, for example, silicon dioxide (anion) was used for the second metal oxide particles of the low refractive index layer, and titanium oxide (cation) was used for the first metal oxide particles of the high refractive index layer. In some cases, silicon dioxide can be treated with aluminum or the like to be cationized, or, as described later, titanium oxide can be treated with silicon-containing hydrated oxide to be anionized.

本発明の高屈折率層に含まれる第1の金属酸化物粒子は、その平均粒径(個数平均)が3〜100nmであることが好ましく、3〜50nmであることがより好ましい。   The average particle diameter (number average) of the first metal oxide particles contained in the high refractive index layer of the present invention is preferably 3 to 100 nm, and more preferably 3 to 50 nm.

また、高屈折率層に含まれる第1の金属酸化物粒子は、体積平均粒径が50nm以下であることが特に好ましく、1〜45nmであることがより好ましく、5〜40nmであるのがさらに好ましい。体積平均粒径が50nm以下であれば、ヘイズが少なく可視光透過性に優れる観点で好ましい。   The first metal oxide particles contained in the high refractive index layer preferably have a volume average particle size of 50 nm or less, more preferably 1 to 45 nm, and further preferably 5 to 40 nm. preferable. A volume average particle size of 50 nm or less is preferable from the viewpoint of low visible light transmittance and low haze.

ここでいう体積平均粒径とは、媒体中に分散された一次粒子または二次粒子の体積平均粒径であり、レーザー回折/散乱法、動的光散乱法等により測定できる。   The volume average particle size here is a volume average particle size of primary particles or secondary particles dispersed in a medium, and can be measured by a laser diffraction / scattering method, a dynamic light scattering method, or the like.

具体的には、粒子そのものをレーザー回折散乱法、動的光散乱法或いは電子顕微鏡を用いて観察する方法や、あるいは屈折率層の断面や表面に現れた粒子像を電子顕微鏡で観察する方法により、1,000個の任意の粒子の粒径を測定し、それぞれd1、d2・・・di・・・dkの粒径を持つ粒子がそれぞれn1、n2・・・ni・・・nk個存在する金属酸化物粒子(粒子状の金属酸化物)の集団において、粒子1個当りの体積をviとした場合に、体積平均粒径mv={Σ(vi・di)}/{Σ(vi)}で表される体積で重み付けされた平均粒径を算出する。上記した体積平均粒径の測定、算出方法は、高屈折率層に含まれる第1の金属酸化物粒子、および低屈折率層に含まれる第2の金属酸化物粒子のいずれにも適用し得るものである。   Specifically, by observing particles themselves using a laser diffraction scattering method, dynamic light scattering method or electron microscope, or by observing particle images appearing on the cross section or surface of the refractive index layer with an electron microscope. , 1,000 arbitrary particles are measured, and there are n1, n2,..., Ni, nk particles each having a particle size of d1, d2,. In a group of metal oxide particles (particulate metal oxide), where the volume per particle is vi, the volume average particle diameter mv = {Σ (vi · di)} / {Σ (vi)} The average particle diameter weighted by the volume represented by is calculated. The volume average particle size measurement and calculation method described above can be applied to both the first metal oxide particles contained in the high refractive index layer and the second metal oxide particles contained in the low refractive index layer. Is.

さらに、本発明で用いられる金属酸化物粒子は、単分散であることが好ましい。これは、多分散では粒径が大きいものが混ざり、ヘイズが上がる(膜厚均一性や透明性が低下する)ためである。ここでいう単分散とは、下記式で求められる単分散度が40%以下であることをいう。この単分散度は、さらに好ましくは30%以下であり、特に好ましくは0.1〜20%である。下記単分散度の式中の粒子の平均値は、粒子の体積平均値を指す。なお、上記した単分散及び単分散度は、高屈折率層に含まれる第1の金属酸化物粒子、および低屈折率層に含まれる第2の金属酸化物粒子のいずれにも適用し得るものである。   Furthermore, the metal oxide particles used in the present invention are preferably monodispersed. This is because, in polydispersion, large particle diameters are mixed and haze increases (thickness uniformity and transparency decrease). The monodispersion here means that the monodispersity obtained by the following formula is 40% or less. This monodispersity is more preferably 30% or less, and particularly preferably 0.1 to 20%. The average value of the particles in the following monodispersity formula refers to the volume average value of the particles. The monodispersion and monodispersity described above can be applied to both the first metal oxide particles contained in the high refractive index layer and the second metal oxide particles contained in the low refractive index layer. It is.

本発明に係る高屈折率層における第1の金属酸化物粒子の含有量としては、高屈折率層の全固形分100質量%に対して、15〜95質量%であることが好ましく、20〜88質量%であることがより好ましく、30〜85質量%であることがさらに好ましい。第1の金属酸化物粒子の含有量が上記範囲内であると、低屈折率層との屈折率差を大きくできるという観点で好ましい。また、第1の金属酸化物粒子の含有量を上記範囲内とすることで、赤外線(熱線)遮蔽性(反射性)など、所望の波長(光線)領域における光学反射(遮蔽)性の良好なものとできる。   As content of the 1st metal oxide particle in the high refractive index layer which concerns on this invention, it is preferable that it is 15-95 mass% with respect to 100 mass% of total solids of a high refractive index layer, and is 20-20. More preferably, it is 88 mass%, and it is further more preferable that it is 30-85 mass%. When the content of the first metal oxide particles is within the above range, it is preferable from the viewpoint that the refractive index difference from the low refractive index layer can be increased. Further, by setting the content of the first metal oxide particles within the above range, the optical reflection (shielding) property in a desired wavelength (light ray) region such as infrared ray (heat ray) shielding property (reflective property) is good. I can do it.

本発明の第1の金属酸化物粒子として好ましく用いられる酸化チタン粒子は、酸化チタンゾルの表面を変性して水または有機溶剤等に分散可能な状態にしたものを用いることが好ましい。   The titanium oxide particles preferably used as the first metal oxide particles of the present invention are preferably those obtained by modifying the surface of the titanium oxide sol so that it can be dispersed in water or an organic solvent.

水系の酸化チタンゾルの調製方法としては、例えば、特開昭63−17221号公報、特開平7−819号公報、特開平9−165218号公報、特開平11−43327号公報、特開昭63−17221号公報等に記載された事項を参照にすることができる。   Examples of the preparation method of the aqueous titanium oxide sol include, for example, JP-A-63-17221, JP-A-7-819, JP-A-9-165218, JP-A-11-43327, JP-A-63-3. Reference can be made to the matters described in Japanese Patent No. 17221.

第1の金属酸化物粒子として酸化チタン粒子を用いる場合、酸化チタン粒子のその他の製造方法については、例えば、「酸化チタン−物性と応用技術」清野学 p255〜258(2000年)技報堂出版株式会社、またはWO2007/039953号明細書の段落番号0011〜0023に記載の工程(2)の方法を参考にすることができる。   When titanium oxide particles are used as the first metal oxide particles, other methods for producing titanium oxide particles include, for example, “Titanium oxide—physical properties and applied technology” Manabu Seino p255-258 (2000) Gihodo Publishing Co., Ltd. Alternatively, the method of step (2) described in paragraph numbers 0011 to 0023 of WO2007 / 039953 can be referred to.

上記工程(2)による製造方法とは、二酸化チタン水和物をアルカリ金属の水酸物またはアルカリ土類金属の水酸化物からなる群から選択される、少なくとも1種の塩基性化合物で処理する工程(1)の後に、得られた二酸化チタン分散物を、カルボン酸基含有化合物および無機酸で処理する工程(2)からなる。   In the production method according to the above step (2), titanium dioxide hydrate is treated with at least one basic compound selected from the group consisting of alkali metal hydroxides or alkaline earth metal hydroxides. After the step (1), the titanium dioxide dispersion obtained comprises a step (2) of treating with a carboxylic acid group-containing compound and an inorganic acid.

また、本発明の第1の金属酸化物粒子は、酸化チタン粒子が含ケイ素の水和酸化物で被覆されたコアシェル粒子の形態が好ましい。これは、含ケイ素の水和酸化物で被覆された酸化チタン粒子を高屈折率層に含有させることで、含ケイ素の水和酸化物と第1の水溶性高分子との相互作用により、高屈折率層と低屈折率層との層間混合が抑制される効果、およびルチル型酸化チタン粒子のみならずアナターゼ型酸化チタン粒子を用いる場合の酸化チタンの光触媒活性による水溶性高分子の劣化やチョーキングなどの問題を防ぐことができるという効果を奏する。なお、含ケイ素の水和酸化物で被覆された酸化チタン粒子と他の第1の金属酸化物粒子を併用する場合には、含ケイ素の水和酸化物で被覆された酸化チタン粒子と電荷的に凝集しないよう、各種のイオン性分散剤や保護剤を用いることができる。   The first metal oxide particles of the present invention are preferably in the form of core-shell particles in which titanium oxide particles are coated with a silicon-containing hydrated oxide. This is because the titanium oxide particles coated with the silicon-containing hydrated oxide are contained in the high refractive index layer, so that the interaction between the silicon-containing hydrated oxide and the first water-soluble polymer increases. Effect of suppressing interlayer mixing between refractive index layer and low refractive index layer, and deterioration or choking of water-soluble polymer due to photocatalytic activity of titanium oxide when using not only rutile type titanium oxide particles but also anatase type titanium oxide particles There is an effect that problems such as can be prevented. When the titanium oxide particles coated with the silicon-containing hydrated oxide and the other first metal oxide particles are used in combination, the titanium oxide particles coated with the silicon-containing hydrated oxide are electrically charged. Various ionic dispersants and protective agents can be used so as not to aggregate.

ここで、「酸化チタン粒子」とは、二酸化チタン(TiO)粒子を意昧する。また、「被覆」とは、酸化チタン粒子の表面の少なくとも一部に、含ケイ素の水和酸化物が付着されている状態を意昧する。すなわち、本発明に係る第1の金属酸化物粒子として用いられる酸化チタン粒子の表面が、完全に含ケイ素の水和酸化物で、被覆されていてもよく、酸化チタン粒子の表面の一部が含ケイ素の水和酸化物で、被覆されていてもよい。被覆された酸化チタン粒子の屈折率が含ケイ素の水和酸化物の被覆量により制御される観点から、酸化チタン粒子の表面の一部が含ケイ素の水和酸化物で、被覆されることが好ましい。 Here, “titanium oxide particles” mean titanium dioxide (TiO 2 ) particles. The term “coating” means a state in which a silicon-containing hydrated oxide is attached to at least a part of the surface of the titanium oxide particles. That is, the surface of the titanium oxide particles used as the first metal oxide particles according to the present invention may be completely covered with a silicon-containing hydrated oxide, and a part of the surface of the titanium oxide particles may be covered. It may be coated with a silicon-containing hydrated oxide. From the viewpoint that the refractive index of the coated titanium oxide particles is controlled by the coating amount of the silicon-containing hydrated oxide, a part of the surface of the titanium oxide particles may be coated with the silicon-containing hydrated oxide. preferable.

本発明において、第1の金属酸化物粒子としては、含ケイ素の水和酸化物で被覆されたルチル型の酸化チタン粒子であってもよく、含ケイ素の水和酸化物で被覆されたアナターゼ型の酸化チタン粒子であってもよく、またはこれらの混合粒子であってもよい。これらの中では、含ケイ素の水和酸化物で被覆されたルチル型の酸化チタン粒子がより好ましい。   In the present invention, the first metal oxide particles may be rutile type titanium oxide particles coated with silicon-containing hydrated oxide, or anatase type coated with silicon-containing hydrated oxide. These may be titanium oxide particles, or a mixed particle thereof. Among these, rutile type titanium oxide particles coated with silicon-containing hydrated oxide are more preferable.

これは、ルチル型の酸化チタン粒子が、アナターゼ型の酸化チタン粒子より光触媒活性が低いため、高屈折率層や隣接した低屈折率層の耐候性が高くなり、さらに屈折率が高くなるという理由からである。   This is because the rutile type titanium oxide particles have lower photocatalytic activity than the anatase type titanium oxide particles, and therefore the weather resistance of the high refractive index layer and the adjacent low refractive index layer is increased, and the refractive index is further increased. Because.

本発明に係る第1の金属酸化物粒子に用いられる酸化チタン粒子を含む水溶液は、pHが1.0〜3.0であり、かつチタン粒子のゼータ電位が正である水系の酸化チタンゾルの表面を、疎水化して有機溶剤に分散可能な状態にしたものを用いることができる。   The aqueous solution containing titanium oxide particles used for the first metal oxide particles according to the present invention has a pH of 1.0 to 3.0 and the surface of an aqueous titanium oxide sol having a positive zeta potential of the titanium particles. Can be made hydrophobic and dispersible in an organic solvent.

本明細書における「含ケイ素の水和酸化物」とは、無機ケイ素化合物の水和物、有機ケイ素化合物の加水分解物および/または縮合物のいずれでもよく、本発明の効果を得るためにはシラノール基を有することがより好ましい。よって、本発明において、第1の金属酸化物粒子としては、酸化チタン粒子がシリカ変性されたシリカ変性(シラノール変性)酸化チタン粒子であることが好ましい。   In the present specification, the “silicon-containing hydrated oxide” may be any of a hydrate of an inorganic silicon compound, a hydrolyzate and / or a condensate of an organosilicon compound, and in order to obtain the effects of the present invention. It is more preferable to have a silanol group. Therefore, in the present invention, the first metal oxide particles are preferably silica-modified (silanol-modified) titanium oxide particles in which the titanium oxide particles are silica-modified.

酸化チタンの含ケイ素の水和化合物の被覆量は、酸化チタン100質量%に対して、SiOとして3〜30質量%、好ましくは3〜10質量%、より好ましくは3〜8質量%である。被覆量が30質量%以下であると、高屈折率層の高屈折率化が容易となり、被覆量が3質量%以上であると被覆した粒子を安定に形成することができる点で優れている。 The coating amount of the silicon-containing hydrated compound of titanium oxide is 3 to 30% by mass, preferably 3 to 10% by mass, more preferably 3 to 8% by mass as SiO 2 with respect to 100% by mass of titanium oxide. . When the coating amount is 30% by mass or less, it is easy to increase the refractive index of the high refractive index layer, and when the coating amount is 3% by mass or more, the coated particles can be stably formed. .

また、上記酸化チタン粒子および含ケイ素の水和酸化物で被覆された酸化チタン粒子(コアシェル粒子;第1の金属酸化物粒子)の粒径は、体積平均粒径や一次平均粒径により求めることができる。コアシェル粒子としては、コアの部分である酸化チタン粒子の体積平均粒径が、好ましく30nm以下、より好ましくは1〜30nm、さらに好ましくは5〜15nm、もっとも好ましくは6〜10nmであり、当該酸化チタン粒子の表面を、コアとなる酸化チタン100質量%に対して、含ケイ素の水和酸化物の被覆量がSiO2として3〜30質量%となるように含ケイ素の水和酸化物からなるシェルが被覆してなる構造である。コアの部分である酸化チタン粒子の体積平均粒径が1〜30nmであれば、ヘイズが少なく可視光透過性に優れる観点で好ましい。また、本発明において、第1の金属酸化物粒子としてコアシェル粒子を含有させることで、シェル層の含ケイ素の水和酸化物とバインダ樹脂(光反応性の高分子化合物を含む第1の水溶性高分子)との相互作用により、高屈折率層と低屈折率層との層間混合が抑制される効果を奏する。   The particle diameter of the titanium oxide particles and the titanium oxide particles (core-shell particles; first metal oxide particles) coated with the titanium oxide particles and the silicon-containing hydrated oxide is determined by the volume average particle diameter or the primary average particle diameter. Can do. As the core-shell particles, the volume average particle size of the titanium oxide particles as the core portion is preferably 30 nm or less, more preferably 1 to 30 nm, still more preferably 5 to 15 nm, and most preferably 6 to 10 nm. A shell made of silicon-containing hydrated oxide is used so that the coating amount of silicon-containing hydrated oxide is 3 to 30% by mass as SiO2 with respect to 100% by mass of titanium oxide as a core on the particle surface. It is a structure formed by coating. If the volume average particle diameter of the titanium oxide particles as the core portion is 1 to 30 nm, it is preferable from the viewpoint of low haze and excellent visible light transmittance. Further, in the present invention, by including core-shell particles as the first metal oxide particles, a silicon-containing hydrated oxide of the shell layer and a binder resin (first water-soluble compound containing a photoreactive polymer compound). Due to the interaction with the polymer), the intermixing of the high refractive index layer and the low refractive index layer is suppressed.

また、含ケイ素の水和酸化物で被覆された酸化チタン粒子(コアシェル粒子;第1の金属酸化物粒子)の体積平均粒径は、好ましくは2〜31nmであり、より好ましくは6〜16nmであり、さらに好ましくは7〜11nmである。含ケイ素の水和酸化物で、被覆された酸化チタン粒子(コアシェル粒子;第1の金属酸化物粒子)の体積平均粒径が2〜31nmであると、近赤外線(熱線)遮蔽性(反射性)など、所望の波長(光線)領域における光学反射(遮蔽)性や、透明性、へイズといった光学特性の観点から好ましい。   The volume average particle diameter of the titanium oxide particles (core-shell particles; first metal oxide particles) coated with the silicon-containing hydrated oxide is preferably 2 to 31 nm, more preferably 6 to 16 nm. Yes, more preferably 7 to 11 nm. When the volume average particle size of the titanium oxide particles (core-shell particles; first metal oxide particles) coated with the silicon-containing hydrated oxide is 2 to 31 nm, near-infrared (heat ray) shielding properties (reflectivity) Etc.) from the viewpoint of optical properties such as optical reflection (shielding) in a desired wavelength (light ray) region, transparency, and haze.

コアシェル粒子(第1の金属酸化物粒子)に用いられる、含ケイ素の水和酸化物で被覆されていない酸化チタン粒子(コア粒子)の一次平均粒径は、30nm以下であることが好ましく、1〜30nmであることがより好ましく、1〜20nmであることがさらに好ましく、1〜10nmであることがもっとも好ましい。一次平均粒径が1nm以上30nm以下であれば、ヘイズが少なく可視光透過性に優れる観点で好ましい。   The primary average particle size of the titanium oxide particles (core particles) used for the core-shell particles (first metal oxide particles) and not coated with the silicon-containing hydrated oxide is preferably 30 nm or less. It is more preferably ˜30 nm, further preferably 1 to 20 nm, and most preferably 1 to 10 nm. A primary average particle diameter of 1 nm or more and 30 nm or less is preferable from the viewpoint of low haze and excellent visible light transmittance.

含ケイ素の水和酸化物で被覆された酸化チタン粒子(コアシェル粒子;第1の金属酸化物粒子)の一次平均粒径は、好ましくは2〜31nmであり、より好ましくは2〜21nmであり、さらに好ましくは2〜11nmである。コアシェル粒子(第1の金属酸化物粒子)の一次平均粒径が2〜31nmであると、近赤外線(熱線)遮蔽性(反射性)など、所望の波長(光線)領域における光学反射(遮蔽)性や、透明性、へイズといった光学特性の観点から好ましい。   The primary average particle diameter of titanium oxide particles (core-shell particles; first metal oxide particles) coated with a silicon-containing hydrated oxide is preferably 2 to 31 nm, more preferably 2 to 21 nm. More preferably, it is 2-11 nm. When the primary average particle diameter of the core-shell particles (first metal oxide particles) is 2 to 31 nm, optical reflection (shielding) in a desired wavelength (light ray) region such as near infrared (heat ray) shielding (reflection) From the viewpoints of optical properties such as property, transparency, and haze.

なお、本明細書における一次平均粒径は、透過型電子顕微鏡(TEM)等による電子顕微鏡写真から計測することができる。動的光散乱法や静的光散乱法等を利用する粒度分布計等によって計測してもよい。   In addition, the primary average particle diameter in this specification can be measured from the electron micrograph by a transmission electron microscope (TEM) etc. You may measure by the particle size distribution meter etc. which utilize a dynamic light scattering method, a static light scattering method, etc.

透過型電子顕微鏡から求める場合、粒子の一次平均粒径は、粒子そのものあるいは屈折率層の断面や表面に現れた粒子を電子顕微鏡で観察し、1000個の任意の粒子の粒径を測定し、その単純平均値(個数平均)として求められる。ここで個々の粒子の粒径は、その投影面積に等しい円を仮定したときの直径で表したものである。   When obtained from a transmission electron microscope, the primary average particle diameter of the particles is observed with an electron microscope on the particles themselves or the cross section or surface of the refractive index layer, and the particle diameter of 1000 arbitrary particles is measured. It is obtained as its simple average value (number average). Here, the particle diameter of each particle is represented by a diameter assuming a circle equal to the projected area.

本発明に係る第1の金属酸化物粒子の製造方法としては、公知の方法を採用することができ、例えば、第1の金属酸化物粒子として上記コアシェル粒子を例にとれば、以下の(i)〜(v)に示す方法を挙げることができる。   As a method for producing the first metal oxide particles according to the present invention, a known method can be employed. For example, when the core-shell particles are used as the first metal oxide particles, the following (i) ) To (v).

(i)酸化チタン粒子を含有する水溶液を加熱加水分解し、または酸化チタン粒子を含有する水溶液にアルカリを添加し中和して、平均粒径が1〜30nmの酸化チタンを得た後、モル比で表して酸化チタン粒子/鉱酸が1/0.5〜1/2の範囲になるように、前記酸化チタン粒子と鉱酸とを混合したスラリーを、50℃以上該スラリーの沸点以下の温度で加熱処理し、その後得られた酸化チタン粒子を含むスラリーに、ケイ素の化合物(例えば、ケイ酸ナトリウム水溶液)を添加し、酸化チタン粒子の表面にケイ素の含水酸化物を析出させて表面処理し、次いで得られた表面処理された酸化チタン粒子のスラリーから不純物を除去する方法(特開平10−158015号公報に記載の方法)。   (I) An aqueous solution containing titanium oxide particles is hydrolyzed by heating, or an alkali is added to the aqueous solution containing titanium oxide particles and neutralized to obtain titanium oxide having an average particle size of 1 to 30 nm. The slurry in which the titanium oxide particles and the mineral acid are mixed so that the ratio of titanium oxide particles / mineral acid is in the range of 1 / 0.5 to 1/2 in terms of the ratio is 50 ° C. or more and the boiling point of the slurry or less. Heat treatment is performed at a temperature, and then a silicon compound (for example, sodium silicate aqueous solution) is added to the resulting slurry containing titanium oxide particles to precipitate silicon hydrated oxide on the surface of the titanium oxide particles. Then, impurities are removed from the resulting slurry of the surface-treated titanium oxide particles (method described in JP-A-10-158015).

(ii)含水酸化チタンなどの酸化チタンを一塩基酸またはその塩で解膠処理して得られる酸性域のpHで安定した酸化チタンゾルと、分散安定化剤としてのアルキルシリケートを常法により混合し、中性化する方法(特開2000−053421号公報に記載の方法)。   (Ii) A titanium oxide sol stabilized at pH in the acidic range obtained by peptizing a titanium oxide such as hydrous titanium oxide with a monobasic acid or a salt thereof, and an alkyl silicate as a dispersion stabilizer are mixed by a conventional method. And neutralization method (method described in JP 2000-053421 A).

(iii)過酸化水素および金属スズを、2〜3のH/Snモル比に保持しつつ同時にまたは交互にチタン塩(例えば、四塩化チタン)等の混合物水溶液に添加し、チタンを含む塩基性塩水溶液を生成し、該塩基性塩水溶液を0.1〜100時間かけて50〜100℃の温度で保持して酸化チタンを含む複合体コロイドの凝集体を生成させ、次いで、該凝集体スラリー中の電解質を除去し、酸化チタンを含む複合体コロイド粒子の安定な水性ゾルが製造される。一方、ケイ酸塩(例えば、ケイ酸ナトリウム水溶液)等を含有する水溶液を調製し、水溶液中に存在する陽イオンを除去することで、二酸化ケイ素を含む複合体コロイド粒子の安定な水性ゾルが製造される。得られた酸化チタンを含む複合体水性ゾルを金属酸化物TiOに換算して100質量部と、得られた二酸化ケイ素を含む複合体水性ゾルを金属酸化物SiOに換算して2〜100質量部と混合し、陰イオンを除去後、80℃で1時間加熱熟成する方法(特開2000−063119号公報に記載の方法)。 (Iii) Hydrogen peroxide and metallic tin are added to a mixture aqueous solution such as titanium salt (eg, titanium tetrachloride) simultaneously or alternately while maintaining a H 2 O 2 / Sn molar ratio of 2 to 3, A basic salt aqueous solution is formed, and the basic salt aqueous solution is held at a temperature of 50 to 100 ° C. for 0.1 to 100 hours to form a composite colloidal aggregate containing titanium oxide; The electrolyte in the aggregate slurry is removed, and a stable aqueous sol of composite colloidal particles containing titanium oxide is produced. On the other hand, a stable aqueous sol of composite colloidal particles containing silicon dioxide is produced by preparing an aqueous solution containing silicate (eg, sodium silicate aqueous solution) and removing cations present in the aqueous solution. Is done. Composite aqueous sol containing the resulting titanium oxide in terms 100 parts by mass in terms of metal oxides TiO 2, composite aqueous sol containing silicon dioxide resulting in a metal oxide SiO 2 2 to 100 A method of mixing with parts by mass and removing anions, followed by heating and aging at 80 ° C. for 1 hour (method described in JP-A No. 2000-063119).

(iv)含水チタン酸のゲルまたはゾルに過酸化水素を加えて含水チタン酸を溶解し、得られたペルオキソチタン酸水溶液に、ケイ素化合物等を添加し加熱し、ルチル型構造をとる複合固溶体酸化物からなるコア粒子の分散液が得られ、次いで、該コア粒子の分散液にケイ素化合物等を添加した後、加熱しコア粒子表面に被覆層を形成し、複合酸化物粒子が分散されたゾルが得られ、さらに、加熱する方法(特開2000−204301号公報に記載の方法)。   (Iv) Hydrogen peroxide is added to hydrous titanic acid gel or sol to dissolve hydrous titanic acid, and the resulting peroxotitanic acid aqueous solution is heated by adding a silicon compound or the like to form a rutile structure. A core particle dispersion is obtained, and then a silicon compound or the like is added to the core particle dispersion, followed by heating to form a coating layer on the surface of the core particles, and the composite oxide particles dispersed in the sol And a method of heating (the method described in JP 2000-204301 A).

(v)含水酸化チタンを解膠して得られた酸化チタンのヒドロゾルに、安定剤としてのオルガノアルコキシシラン(R SiX4−n)または過酸化水素および脂肪族もしくは芳香族ヒドロキシカルボン酸から選ばれた化合物を添加し、溶液のpHを3以上9未満へ調節し熟成させた後に脱塩処理を行う方法(特許第4550753号公報に記載の方法)で製造されたコアシェル粒子が挙げられる。 (V) A hydrosol of titanium oxide obtained by peptizing hydrous titanium oxide from organoalkoxysilane (R 1 n SiX 4-n ) or hydrogen peroxide and aliphatic or aromatic hydroxycarboxylic acid as a stabilizer. Examples thereof include core-shell particles produced by a method of adding a selected compound, adjusting the pH of the solution to 3 or more and less than 9 and aging, followed by desalting (a method described in Japanese Patent No. 4550753).

上記(i)〜(v)の方法により、本発明に係る第1の金属酸化物粒子(特に含ケイ素の水和酸化物で被覆された酸化チタン粒子)を製造することができる。第1の金属酸化物粒子としての酸化チタン粒子の含ケイ素の水和酸化物での被覆量を調整するには、例えば、(1)上記方法(i)および(iv)において、使用する酸化チタン粒子に対するケイ素の化合物の添加量を調整することによって、含ケイ素の水和酸化物の被覆量を調整する方法;(2)上記方法(iii)において、得られた酸化チタンを含む複合体水性ゾルおよび二酸化ケイ素を含む複合体水性ゾルをそれぞれ金属酸化物TiOおよびSiOに換算し、該当するTiOに対して該当するSiOの量を調整することによって、含ケイ素の水和酸化物の被覆量を調整する方法;(3)上記方法(v)において、使用するオルガノアルコキシシランの添加量を調整することによって、含ケイ素の水和酸化物の被覆量を調整する方法;(4)上記方法(ii)において、アルキルシリケー卜の添加量を調整する方法などが挙げられる。 By the methods (i) to (v), the first metal oxide particles (particularly titanium oxide particles coated with a silicon-containing hydrated oxide) according to the present invention can be produced. To adjust the coating amount of the titanium oxide particles as the first metal oxide particles with the silicon-containing hydrated oxide, for example, (1) Titanium oxide used in the above methods (i) and (iv) A method of adjusting a coating amount of a silicon-containing hydrated oxide by adjusting an amount of a silicon compound added to particles; (2) a composite aqueous sol containing titanium oxide obtained in the method (iii); The composite aqueous sol containing silicon dioxide and silicon dioxide is converted into the metal oxides TiO 2 and SiO 2 , respectively, and by adjusting the amount of the corresponding SiO 2 with respect to the corresponding TiO 2 , Method for adjusting the coating amount; (3) In the above method (v), the coating amount of the silicon-containing hydrated oxide is adjusted by adjusting the amount of the organoalkoxysilane used. (4) In the above method (ii), there may be mentioned a method of adjusting the amount of addition of the alkyl silicate koji.

本発明に係る第1の金属酸化物粒子(特に含ケイ素の水和酸化物で被覆された酸化チタン粒子)を調製する際に、第1の金属酸化物粒子(含ケイ素の水和酸化物で被覆された酸化チタン粒子)を含む懸濁液において、懸濁液全体の固形分100質量%に対して、当該第1の金属酸化物粒子の好ましい固形分は、1〜40質量%である。また、当該固形分は、15〜25質量%であることがより好ましい。これは、当該固形分を1質量%以上にすることで、固形分濃度が大きくして溶媒揮発負荷を低減し生産性が向上でき、また、当該固形分を40質量%以下にすることで、高粒子密度による凝集を防止でき、塗布時の欠陥を減らすことができるからである。本発明に係る第1の金属酸化物粒子を調製する際に、第1の金属酸化物粒子((含ケイ素の水和酸化物で被覆された酸化チタン粒子)を含む懸濁液のpH範囲は、3〜9であることが好ましく、4〜8であることがより好ましい。懸濁液のpHを9以下にすることでアルカリ溶解による体積平均粒径の変化を抑えることができ、懸濁液のpHを3以上にすることでハンドリング性を向上することができるからである。   When preparing the first metal oxide particles (particularly titanium oxide particles coated with a silicon-containing hydrated oxide) according to the present invention, the first metal oxide particles (silicon-containing hydrated oxide) In the suspension containing the coated titanium oxide particles), the preferable solid content of the first metal oxide particles is 1 to 40% by mass with respect to 100% by mass of the solid content of the entire suspension. The solid content is more preferably 15 to 25% by mass. This is because the solid content is 1% by mass or more, the solid content concentration is increased, the solvent volatilization load can be reduced and the productivity can be improved, and the solid content is 40% by mass or less. This is because aggregation due to high particle density can be prevented and defects during coating can be reduced. When preparing the first metal oxide particles according to the present invention, the pH range of the suspension containing the first metal oxide particles (the titanium oxide particles coated with the silicon-containing hydrated oxide) is 3 to 9 and more preferably 4 to 8. By making the pH of the suspension 9 or less, the change in volume average particle diameter due to alkali dissolution can be suppressed, and the suspension It is because handling property can be improved by making pH of 3 or more.

「第1の水溶性高分子」
本発明において、各高屈折率層および各低屈折率層には、バインダとして機能する水溶性高分子(本発明の光反応性高分子化合物を含む)が含有されている。各高屈折率層に含有される水溶性高分子を第1の水溶性高分子と称し、各低屈折率層に含有される水溶性高分子を第2の水溶性高分子と称する。本発明において、第1の水溶性高分子と第2の水溶性高分子とは、同じ構成成分であってもよく、異なる構成成分であってもよいが、第1の水溶性高分子と第2の水溶性高分子の構成成分が異なることがより好ましい。
"First water-soluble polymer"
In the present invention, each high refractive index layer and each low refractive index layer contains a water-soluble polymer (including the photoreactive polymer compound of the present invention) that functions as a binder. The water-soluble polymer contained in each high refractive index layer is referred to as a first water-soluble polymer, and the water-soluble polymer contained in each low refractive index layer is referred to as a second water-soluble polymer. In the present invention, the first water-soluble polymer and the second water-soluble polymer may be the same component or different components, but the first water-soluble polymer and the second water-soluble polymer may be different from each other. More preferably, the constituent components of the two water-soluble polymers are different.

本発明に係る第1の水溶性高分子または後述する第2の水溶性高分子は、該水溶性高分子が最も溶解する温度で、0.5質量%の濃度になるように水に溶解させた際、G2グラスフィルタ(最大細孔40〜50μm)で漏過した場合に漏別される不溶物の質量が、加えた該水溶性高分子の50質量%以内であるものを言う。   The first water-soluble polymer according to the present invention or the second water-soluble polymer, which will be described later, is dissolved in water to a concentration of 0.5% by mass at the temperature at which the water-soluble polymer is most dissolved. In this case, the mass of the insoluble matter separated when leaking through the G2 glass filter (maximum pores 40 to 50 μm) is within 50 mass% of the added water-soluble polymer.

本発明に係る第1の水溶性高分子としては、例えば、反応性官能基を有するポリマー、ゼラチン、または増粘多糖類などが挙げられる。これらの第1の水溶性高分子は、単独で用いてもよいし、2種以上組み合わせて用いてもよい。また、第1の水溶性高分子は合成品を用いてもよいし、市販品を用いてもよい。以下、本発明に係る第1の水溶性高分子について、詳細に説明する。なお、本発明の光反応性高分子化合物については、低屈折率層の第2の水溶性高分子にも含まれ得ることから、低屈折率層(第2の水溶性高分子等)について詳細に説明した後に、詳述する。   Examples of the first water-soluble polymer according to the present invention include polymers having reactive functional groups, gelatin, thickening polysaccharides, and the like. These first water-soluble polymers may be used alone or in combination of two or more. The first water-soluble polymer may be a synthetic product or a commercially available product. Hereinafter, the first water-soluble polymer according to the present invention will be described in detail. Since the photoreactive polymer compound of the present invention can be contained in the second water-soluble polymer of the low refractive index layer, the details of the low refractive index layer (second water-soluble polymer, etc.) are described. Will be described in detail.

(反応性官能基を有するポリマー)
本発明で用いられる反応性官能基を有するポリマーとしては、例えば、ポリビニルアルコール類、ポリビニルピロリドン類、ポリアクリル酸、アクリル酸−アクリルニトリル共重合体、アクリル酸カリウム−アクリルニトリル共重合体、酢酸ビニル−アクリル酸エステル共重合体、もしくはアクリル酸−アクリル酸エステル共重合体などのアクリル樹脂、スチレン−アクリル酸共重合体、スチレン−メタクリル酸共重合体、スチレン−メタクリル酸−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−α−メチルスチレン−アクリル酸共重合体、もしくはスチレン−α−メチルスチレン−アクリル酸−アクリル酸エステル共重合体などのスチレンアクリル酸樹脂、スチレン−スチレンスルホン酸ナトリウム共重合体、スチレン−2−ヒドロキシエチルアクリレート共重合体、スチレン−2−ヒドロキシエチルアクリレート−スチレンスルホン酸カリウム共重合体、スチレン−マレイン酸共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ビニルナフタレン−アクリル酸共重合体、ビニルナフタレン−マレイン酸共重合体、酢酸ビニル−マレイン酸エステル共重合体、酢酸ビニル−ク口トン酸共重合体、酢酸ビニル−アクリル酸共重合体などの酢酸ビニル系共重合体及びそれらの塩が挙げられる。これらの中でも、本発明において、ポリビニルアルコールが特に好ましく用いられる。以下では、ポリビニルアルコールについて説明する。
(Polymer having reactive functional group)
Examples of the polymer having a reactive functional group used in the present invention include polyvinyl alcohols, polyvinyl pyrrolidones, polyacrylic acid, acrylic acid-acrylonitrile copolymer, potassium acrylate-acrylonitrile copolymer, vinyl acetate. -Acrylic resin such as acrylic acid ester copolymer or acrylic acid-acrylic acid ester copolymer, styrene-acrylic acid copolymer, styrene-methacrylic acid copolymer, styrene-methacrylic acid-acrylic acid ester copolymer Styrene-acrylate resins such as styrene-α-methylstyrene-acrylic acid copolymer, or styrene-α-methylstyrene-acrylic acid-acrylic acid ester copolymer, styrene-sodium styrenesulfonate copolymer, styrene- 2-hydroxyethyla Chryrate copolymer, styrene-2-hydroxyethyl acrylate-potassium styrene sulfonate copolymer, styrene-maleic acid copolymer, styrene-maleic anhydride copolymer, vinyl naphthalene-acrylic acid copolymer, vinyl naphthalene- Mention may be made of vinyl acetate copolymers such as maleic acid copolymers, vinyl acetate-maleic ester copolymers, vinyl acetate-cuponic acid copolymers, vinyl acetate-acrylic acid copolymers, and salts thereof. . Among these, polyvinyl alcohol is particularly preferably used in the present invention. Below, polyvinyl alcohol is demonstrated.

本発明で好ましく用いられるポリビニルアルコールには、ポリ酢酸ビニルを加水分解して得られる通常のポリビニルアルコールの他に、各種の変性ポリビニルアルコールも含まれる。   The polyvinyl alcohol preferably used in the present invention includes various modified polyvinyl alcohols in addition to normal polyvinyl alcohol obtained by hydrolyzing polyvinyl acetate.

酢酸ビニルを加水分解して得られるポリビニルアルコールは、平均重合度が1,000以上のものが好ましく用いられる。特に平均重合度が1500〜5,000のものが好ましく用いられる。また、ケン化度は、70〜100%のものが好ましく、80〜99.5%のものが特に好ましい。   As the polyvinyl alcohol obtained by hydrolyzing vinyl acetate, those having an average degree of polymerization of 1,000 or more are preferably used. In particular, those having an average degree of polymerization of 1500 to 5,000 are preferably used. The degree of saponification is preferably 70 to 100%, particularly preferably 80 to 99.5%.

アニオン変性ポリビニルアルコールは、例えば、特開平1−206088号公報に記載されているようなアニオン性基を有するポリビニルアルコール、特開昭61−237681号公報および同63−307979号公報に記載されているような、ビニルアルコールと水溶性基を有するビニル化合物との共重合体及び特開平7−285265号公報に記載されているような水溶性基を有する変性ポリビニルアルコールが挙げられる。   Anion-modified polyvinyl alcohol is described in, for example, polyvinyl alcohol having an anionic group as described in JP-A-1-206088, JP-A-61-237681 and JP-A-63-307979. Examples thereof include a copolymer of vinyl alcohol and a vinyl compound having a water-soluble group, and modified polyvinyl alcohol having a water-soluble group as described in JP-A-7-285265.

また、ノニオン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開平7−9758号公報に記載されているようなポリアルキレンオキサイド基をビニルアルコールの一部に付加したポリビニルアルコール誘導体、特開平8−25795号公報に記載されている疎水性基を有するビニル化合物とビニルアルコールとのブロック共重合体等が挙げられる。ポリビニルアルコールは、重合度や変性の種類違いなど二種類以上を併用することもできる。   Nonionic modified polyvinyl alcohol includes, for example, a polyvinyl alcohol derivative in which a polyalkylene oxide group as described in JP-A-7-9758 is added to a part of vinyl alcohol, and JP-A-8-25795. The block copolymer of the vinyl compound and vinyl alcohol which have the described hydrophobic group is mentioned. Polyvinyl alcohol can be used in combination of two or more, such as the degree of polymerization and the type of modification.

カチオン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開昭61−10483号公報に記載されているような、第一〜三級アミノ基や第四級アンモニウム基を上記ポリビニルアルコールの主鎖または側鎖中に有するポリビニルアルコールであり、カチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体と酢酸ビニルとの共重合体をケン化することにより得られる。   Examples of the cation-modified polyvinyl alcohol include primary to tertiary amino groups and quaternary ammonium groups, as described in JP-A No. 61-10383, in the main chain or side chain of the polyvinyl alcohol. It is obtained by saponifying a copolymer of an ethylenically unsaturated monomer having a cationic group and vinyl acetate.

カチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体としては、例えば、トリメチル−(2−アクリルアミド−2,2−ジメチルエチル)アンモニウムクロライド、トリメチル−(3−アクリルアミド−3,3−ジメチルプロピル)アンモニウムクロライド、N−ビニルイミダゾール、N−ビニル−2−メチルイミダゾール、N−(3−ジメチルアミノプロピル)メタクリルアミド、ヒドロキシルエチルトリメチルアンモニウムクロライド、トリメチル−(2−メタクリルアミドプロピル)アンモニウムクロライド、N−(1,1−ジメチル−3−ジメチルアミノプロピル)アクリルアミド等が挙げられる。カチオン変性ポリビニルアルコールのカチオン変性基含有単量体の比率は、酢酸ビニルに対して0.1〜10モル%、好ましくは0.2〜5モル%である。   Examples of the ethylenically unsaturated monomer having a cationic group include trimethyl- (2-acrylamido-2,2-dimethylethyl) ammonium chloride and trimethyl- (3-acrylamido-3,3-dimethylpropyl) ammonium chloride. N-vinylimidazole, N-vinyl-2-methylimidazole, N- (3-dimethylaminopropyl) methacrylamide, hydroxylethyltrimethylammonium chloride, trimethyl- (2-methacrylamidopropyl) ammonium chloride, N- (1, 1-dimethyl-3-dimethylaminopropyl) acrylamide and the like. The ratio of the cation-modified group-containing monomer of the cation-modified polyvinyl alcohol is 0.1 to 10 mol%, preferably 0.2 to 5 mol%, relative to vinyl acetate.

(ゼラチン)
本発明に適用可能なゼラチンとしては、従来、ハロゲン化銀写真感光材料分野で広く用いられてきた各種ゼラチンを適用することができ、例えば、酸処理ゼラチン、アルカリ処理ゼラチンの他に、ゼラチンの製造過程で酵素処理をする酵素処理ゼラチンおよびゼラチン誘導体、すなわち分子中に官能基としてのアミノ基、イミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基を有し、それと反応して得る基を持った試薬で処理し改質したものでもよい。ゼラチンの一般的製造法に関してはよく知られており、例えば、T.H.James:The Theory of Photographic Process 4th.ed.1977(Macmillan)55項、科学写真便覧(上)72〜75項(丸善)、写真工学の基礎−銀塩写真編119〜124頁(コロナ社)等の記載を参考にすることができる。また、リサーチ・ディスクロージャー誌第176巻、No.17643(1978年12月)のIX項に記載されているゼラチンを挙げることができる。
(gelatin)
As the gelatin applicable to the present invention, various gelatins that have been widely used in the field of silver halide photographic light-sensitive materials can be applied. For example, in addition to acid-processed gelatin and alkali-processed gelatin, production of gelatin is possible. Enzyme-treated gelatin and gelatin derivatives that undergo enzyme treatment in the process, that is, modified with a reagent that has an amino group, imino group, hydroxyl group, carboxyl group as a functional group in the molecule and a group obtained by reaction with it. It may be quality. Well-known methods for producing gelatin are well known. H. James: The Theory of Photographic Process 4th. ed. Reference can be made to descriptions such as 1977 (Macmillan) 55, Science Photo Handbook (above) 72-75 (Maruzen), Fundamentals of Photographic Engineering-Silver Salt Photo Hen 119-124 (Corona). Also, Research Disclosure Magazine Vol. 176, No. And gelatin described in Section IX of 17643 (December, 1978).

(ゼラチンの硬膜剤)
ゼラチンを用いる場合、必要に応じてゼラチンの硬膜剤を添加することもできる。使用できる硬膜剤としては、通常の写真乳剤層の硬膜剤として使用されている公知の化合物を使用でき、例えば、ビニルスルホン化合物、尿素−ホルマリン縮合物、メラニン−ホルマリン縮合物、エポキシ系化合物、アジリジン系化合物、活性オレフィン類、イソシアネート系化合物などの有機硬膜剤、クロム、アルミニウム、ジルコニウムなどの無機多価金属塩類などを挙げることができる。
(Gelatin hardener)
When gelatin is used, a gelatin hardener can be added as necessary. As the hardener that can be used, known compounds that are used as hardeners for ordinary photographic emulsion layers can be used. For example, vinylsulfone compounds, urea-formalin condensates, melanin-formalin condensates, epoxy compounds And organic hardeners such as aziridine compounds, active olefins and isocyanate compounds, and inorganic polyvalent metal salts such as chromium, aluminum and zirconium.

(セルロース類)
本発明で用いることのできるセルロース類としては、水溶性のセルロース誘導体が好ましく用いることができ、例えば、カルボキシメチルセルロース(セルロースカルボキシメチルエーテル)、メチルセルロース、ヒドロキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等の水溶性セルロース誘導体や、カルボン酸基含有セルロース類であるカルボキシメチルセルロース(セルロースカルボキシメチルエーテル)、カルボキシエチルセルロース等を挙げることができる。その他には、ニトロセルロース、セルロースアセテートフロピオネート、酢酸セルロース、セルロース硫酸エステル等のセルロース誘導体を挙げることができる。
(Cellulose)
As the celluloses that can be used in the present invention, a water-soluble cellulose derivative can be preferably used. For example, water-soluble cellulose derivatives such as carboxymethyl cellulose (cellulose carboxymethyl ether), methyl cellulose, hydroxymethyl cellulose, hydroxyethyl cellulose, and hydroxypropyl cellulose. Examples thereof include cellulose derivatives, carboxymethyl cellulose (cellulose carboxymethyl ether) and carboxyethyl cellulose which are carboxylic acid group-containing celluloses. Other examples include cellulose derivatives such as nitrocellulose, cellulose acetate furopionate, cellulose acetate, and cellulose sulfate.

(増粘多糖類)
本発明で用いることのできる増粘多糖類としては、特に制限はなく、例えば、一般に知られている天然単純多糖類、天然複合多糖類、合成単純多糖類及び合成複合多糖類を挙げることができる。これら多糖類の詳細については、「生化学事典(第2版),東京化学同人出版」、「食品工業」第31巻(1988)21頁等を参照することができる。
(Thickening polysaccharide)
The thickening polysaccharide that can be used in the present invention is not particularly limited, and examples thereof include generally known natural simple polysaccharides, natural complex polysaccharides, synthetic simple polysaccharides, and synthetic complex polysaccharides. . For details of these polysaccharides, reference can be made to “Biochemical Encyclopedia (2nd edition), Tokyo Chemical Doujinshi”, “Food Industry”, Vol. 31 (1988), p.

本発明でいう増粘多糖類とは、糖類の重合体であり分子内に水素結合基を多数有するもので、温度により分子間の水素結合力の違いにより、低温時の粘度と高温時の粘度差が大きな特性を備えた多糖類であり、さらに金属酸化物微粒子を添加すると、低温時にその金属酸化物微粒子との水素結合によると思われる粘度上昇を起こすものであり、その粘度上昇幅は、添加することにより15℃における粘度が1.0mPa.s以上の上昇を生じる多糖類であり、好ましくは5.0mPa.s以上であり、更に好ましくは10.0mPa.s以上の粘度上昇能を備えた多糖類である。   The thickening polysaccharide referred to in the present invention is a polymer of saccharides and has many hydrogen bonding groups in the molecule, and the viscosity at low temperature and the viscosity at high temperature due to the difference in hydrogen bonding force between molecules depending on the temperature. It is a polysaccharide with a large difference in characteristics, and when adding metal oxide fine particles, it causes a viscosity increase that seems to be due to hydrogen bonding with the metal oxide fine particles at a low temperature. When added, the viscosity at 15 ° C. is 1.0 mPa.s. s or higher, preferably 5.0 mPa.s. s or more, and more preferably 10.0 mPa.s. It is a polysaccharide having a viscosity increasing ability of s or more.

本発明に適用可能な増粘多糖類としては、例えば、ガラクタン(例えば、アガロース、アガロペクチン等)、ガラクトマンノグリカン(例えば、ローカストビーンガム、グアラン等)、キシログルカン(例えば、タマリンドガム等)、グルコマンノグリカン(例えば、蒟蒻マンナン、木材由来グルコマンナン、キサンタンガム等)、ガラクトグルコマンノグリカン(例えば、針葉樹材由来グリカン)、アラビノガラクトグリカン(例えば、大豆由来グリカン、微生物由来グリカン等)、グルコラムノグリカン(例えば、ジェランガム等)、グリコサミノグリカン(例えば、ヒアルロン酸、ケラタン硫酸等)、アルギン酸及びアルギン酸塩、寒天、κ−カラギーナン、λ−カラギーナン、ι−カラギーナン、ファーセレランなどの紅藻類に由来する天然高分子多糖類などが挙げられる。塗布液中に共存する金属酸化物粒子の分散安定性を低下させない観点から、好ましくは、その構成単位がカルボン酸基やスルホン酸基を有しないものが好ましい。その様な増粘多糖類としては、例えば、L−アラビトース、D−リボース、2−デオキシリボース、D−キシロースなどのペントース、D−グルコース、D−フルクトース、D−マンノース、D−ガラクトースなどのヘキソースのみからなる多糖類であることが好ましい。具体的には、主鎖がグルコースであり、側鎖もグルコースであるキシログルカンとして知られるタマリンドシードガムや、主鎖がマンノースで側鎖がグルコースであるガラクトマンナンとして知られるグアーガム、カチオン化グアーガム、ヒドロキシプロピルグアーガム、ローカストビーンガム、タラガムや、主鎖がガラクトースで側鎖がアラビノースであるアラビノガラクタンを好ましく使用することができる。本発明においては、特には、タマリンド、グアーガム、カチオン化グアーガム、ヒドロキシプロピルグアーガムが好ましい。本発明においては、さらには、二種類以上の増粘多糖類を併用することもできる。   Examples of the thickening polysaccharide applicable to the present invention include galactan (eg, agarose, agaropectin, etc.), galactomannoglycan (eg, locust bean gum, guaran, etc.), xyloglucan (eg, tamarind gum, etc.), Glucomannoglycan (eg, salmon mannan, wood-derived glucomannan, xanthan gum, etc.), galactoglucomannoglycan (eg, softwood-derived glycan), arabinogalactoglycan (eg, soybean-derived glycan, microorganism-derived glycan, etc.), Red algae such as glucuronoglycan (eg gellan gum), glycosaminoglycan (eg hyaluronic acid, keratan sulfate etc.), alginic acid and alginates, agar, κ-carrageenan, λ-carrageenan, ι-carrageenan Derived from Such as natural polymer polysaccharides. From the viewpoint of not lowering the dispersion stability of the metal oxide particles coexisting in the coating solution, it is preferable that the structural unit does not have a carboxylic acid group or a sulfonic acid group. Examples of such thickening polysaccharides include pentoses such as L-arabitose, D-ribose, 2-deoxyribose and D-xylose, and hexoses such as D-glucose, D-fructose, D-mannose and D-galactose. It is preferable that it is a polysaccharide which consists only of. Specifically, tamarind seed gum known as xyloglucan whose main chain is glucose and side chain is glucose, guar gum known as galactomannan whose main chain is mannose and side chain is glucose, cationized guar gum, Hydroxypropyl guar gum, locust bean gum, tara gum, and arabinogalactan whose main chain is galactose and whose side chain is arabinose can be preferably used. In the present invention, tamarind, guar gum, cationized guar gum, and hydroxypropyl guar gum are particularly preferable. In the present invention, two or more thickening polysaccharides can be used in combination.

上記の中でも、第1の水溶性高分子としては、ポリビニルアルコールが好ましい。ポリビニルアルコールを用いる場合、ポリビニルアルコールとともに、他の水溶性高分子を併用してもよく、この際、併用する他の水溶性高分子の含有量は、高屈折率層の固形分100質量%に対して、0.5〜10質量%で用いることができる。   Among the above, polyvinyl alcohol is preferable as the first water-soluble polymer. When polyvinyl alcohol is used, other water-soluble polymer may be used in combination with polyvinyl alcohol. At this time, the content of the other water-soluble polymer used in combination is 100% by mass of the solid content of the high refractive index layer. On the other hand, it can be used at 0.5 to 10% by mass.

本発明に係る第1の水溶性高分子の重量平均分子量は、1,000以上200,000以下が好ましく、3,000以上40,000以下がより好ましい。本発明における重量平均分子量は、公知の方法によって測定することができ、例えば、静的光散乱法、ゲルパーミエーションクロマトグラフ法(GPC)、TOFMASSなどによって測定することができ、本発明では一般的な公知の方法であるゲルパーミエーションク口マトグラ法(GPC法)によって測定している。   The weight average molecular weight of the first water-soluble polymer according to the present invention is preferably 1,000 to 200,000, more preferably 3,000 to 40,000. The weight average molecular weight in the present invention can be measured by a known method. For example, it can be measured by a static light scattering method, gel permeation chromatography (GPC), TOFMASS, etc. It is measured by a gel permeation mouth-to-gratula method (GPC method) which is a known method.

本発明においては、上記の第1の水溶性高分子は、高屈折率層の全量に対し、5〜50質量%の範囲で含有することが好ましく、10〜40質量%の範囲で含有することがより好ましい。但し、第1の水溶性高分子と共に、例えば、エマルジョン樹脂を併用する場合には、2質量%以上、好ましくは3質量%以上含有すればよい。第1の水溶性高分子の含有量が5質量%以上(エマルジョン樹脂と併用する場合は2質量%以上)であれば、高屈折率層を塗工した後の乾燥時に、膜面が乱れることもなく高い透明性を発現することができる点で優れている。一方、第1の水溶性高分子の含有量が50質量%以下であれば、高い透明性を発現することができるほか、相対的な金属酸化物の含有量が適切となり、高屈折率層と低屈折率層の屈折率差を大きくすることが容易になる。   In the present invention, the first water-soluble polymer is preferably contained in the range of 5 to 50% by mass, and preferably contained in the range of 10 to 40% by mass with respect to the total amount of the high refractive index layer. Is more preferable. However, for example, when an emulsion resin is used in combination with the first water-soluble polymer, it may be contained in an amount of 2% by mass or more, preferably 3% by mass or more. If the content of the first water-soluble polymer is 5% by mass or more (2% by mass or more when used in combination with an emulsion resin), the film surface may be disturbed during drying after coating the high refractive index layer. It is excellent in that high transparency can be expressed. On the other hand, if the content of the first water-soluble polymer is 50% by mass or less, high transparency can be expressed, and the relative metal oxide content becomes appropriate, and the high refractive index layer and It becomes easy to increase the refractive index difference of the low refractive index layer.

「硬化剤」
本発明においては、バインダである水溶性高分子を硬化させるため、硬化剤を使用することもできる。第1の水溶性高分子と共に用いることのできる硬化剤としては、当該水溶性高分子と硬化反応を起こすものであれば特に制限はない。例えば、第1の水溶性高分子として、ポリビニルアルコールを用いる場合では、硬化剤として、ホウ酸及びその塩が好ましい。ホウ酸及びその塩以外にも公知のものが使用でき、一般的には、ポリビニルアルコールと反応し得る基を有する化合物あるいはポリビニルアルコールが有する異なる基同士の反応を促進するような化合物であり、適宜選択して用いられる。硬化剤の具体例としては、例えば、エポキシ系硬化剤(ジグリシジルエチルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6−ジグリシジルシクロヘキサン、N,N−ジグリシジル−4−グリシジルオキシアニリン、ソルビトールポリグリシジルエーテル、グリセロールポリグリシジルエーテル等)、アルデヒド系硬化剤(ホルムアルデヒド、グリオキザール等)、活性ハロゲン系硬化剤(2,4−ジクロロ−4−ヒドロキシ−(3,5,−s−トリアジン等)、活性ビニル系化合物(1,3,5−トリスアクリロイル−ヘキサヒドロ−s−トリアジン、ビスビニルスルホニルメチルエーテル等)、アルミニウム明礬、ホウ砂等が挙げられる。
"Curing agent"
In the present invention, a curing agent can be used to cure the water-soluble polymer as a binder. The curing agent that can be used together with the first water-soluble polymer is not particularly limited as long as it causes a curing reaction with the water-soluble polymer. For example, when polyvinyl alcohol is used as the first water-soluble polymer, boric acid and its salt are preferable as the curing agent. In addition to boric acid and its salts, known ones can be used, and in general, a compound having a group capable of reacting with polyvinyl alcohol or a compound that promotes the reaction between different groups possessed by polyvinyl alcohol. Select and use. Specific examples of the curing agent include, for example, epoxy curing agents (diglycidyl ethyl ether, ethylene glycol diglycidyl ether, 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-diglycidyl cyclohexane, N, N-diglycidyl- 4-glycidyloxyaniline, sorbitol polyglycidyl ether, glycerol polyglycidyl ether, etc.), aldehyde curing agents (formaldehyde, glioxal, etc.), active halogen curing agents (2,4-dichloro-4-hydroxy- (3, 5, -S-triazine, etc.), active vinyl compounds (1,3,5-trisacryloyl-hexahydro-s-triazine, bisvinylsulfonylmethyl ether, etc.), aluminum alum, borax and the like.

ホウ酸またはその塩とは、棚素原子を中心原子とする酸素酸およびその塩のことをいい、具体的には、オルトホウ酸、二ホウ酸、メタホウ酸、四ホウ酸、五ホウ酸および八ホウ酸およびそれらの塩が挙げられる。   Boric acid or a salt thereof refers to an oxygen acid having a central atom as a central atom and a salt thereof, and specifically includes orthoboric acid, diboric acid, metaboric acid, tetraboric acid, pentaboric acid, and octabored acid. Boric acid and their salts.

硬化剤としてのホウ素原子を有するホウ酸およびその塩は、単独の水溶液でも、また、2種以上を混合して使用しても良い。特に好ましいのはホウ酸とホウ砂の混合水溶液で、ある。   Boric acid having a boron atom and a salt thereof as a curing agent may be used alone or in combination of two or more. Particularly preferred is a mixed aqueous solution of boric acid and borax.

ホウ酸とホウ砂との水溶液は、それぞれ比較的希薄水溶液でしか添加することが出来ないが両者を混合することで濃厚な水溶液にすることが出来、塗布液を濃縮化する事が出来る。また、添加する水溶液のpHを比較的自由にコントロールすることが出来る利点がある。   The aqueous solutions of boric acid and borax can be added only in relatively dilute aqueous solutions, respectively, but by mixing them both can be made into a concentrated aqueous solution and the coating solution can be concentrated. Further, there is an advantage that the pH of the aqueous solution to be added can be controlled relatively freely.

本発明では、ホウ酸およびその塩並びにホウ砂の少なくとも一方を用いることが本発明の効果を得るためには好ましい。ホウ酸およびその塩並びにホウ砂の少なくとも一方を用いた場合には、金属酸化物粒子と水溶性高分子であるポリビニルアルコールのOH基と水素結合ネットワークがより形成しやすく、その結果として高屈折率層と低屈折率層との層間混合が抑制され、好ましい光学反射特性(例えば、特定波長領域に対する反射特性、具体的には近赤外遮蔽特性など)が達成されると考えられる。特に、高屈折率層と低屈折率層の多層重層をコーターで塗布後、一旦塗膜の膜面温度を15℃程度に冷やした後、膜面を乾燥させるセット系塗布プ口セスを用いた場合には、より好ましく効果を発現することができる。   In the present invention, it is preferable to use at least one of boric acid and its salt and borax in order to obtain the effects of the present invention. When at least one of boric acid and its salts and borax is used, metal oxide particles and water-soluble polymer polyvinyl alcohol OH groups and hydrogen bonding networks are more easily formed, resulting in a high refractive index. It is considered that interlayer mixing between the layer and the low refractive index layer is suppressed, and preferable optical reflection characteristics (for example, reflection characteristics for a specific wavelength region, specifically, near-infrared shielding characteristics) are achieved. In particular, a set coating process was used in which a multilayer coating of a high refractive index layer and a low refractive index layer was applied by a coater, the film surface temperature of the coating film was once cooled to about 15 ° C., and then the film surface was dried. In some cases, the effect can be expressed more preferably.

高屈折率層における硬化剤の含有量は、高屈折率層の固形分100質量%に対して、1〜10質量%であることが好ましく、2〜6質量%であることがより好ましい。   The content of the curing agent in the high refractive index layer is preferably 1 to 10% by mass and more preferably 2 to 6% by mass with respect to 100% by mass of the solid content of the high refractive index layer.

特に、第1の水溶性高分子としてポリビニルアルコールを使用する場合の上記硬化剤の総使用量は、ポリビニルアルコール1g当たり1〜600mgが好ましく、ポリビニルアルコール1g当たり100〜600mgがより好ましい。   In particular, the total amount of the curing agent used when polyvinyl alcohol is used as the first water-soluble polymer is preferably 1 to 600 mg per 1 g of polyvinyl alcohol, and more preferably 100 to 600 mg per 1 g of polyvinyl alcohol.

「界面活性剤」
本発明に係る高屈折率層および後述する低屈折率層には、塗布性の観点から界面活性剤を含有することが好ましい。
"Surfactant"
The high refractive index layer according to the present invention and the low refractive index layer described later preferably contain a surfactant from the viewpoint of coatability.

塗布時の表面張力調整のため用いられる界面活性剤としてアニオン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、両性界面活性剤などを用いることができるが、アニオン系界面活性剤がより好ましい。好ましい化合物としては、1分子中に炭素数8〜30の疎水性基とスルホン酸基又はその塩を含有するものが挙げられる。   Anionic surfactants, nonionic surfactants, amphoteric surfactants and the like can be used as the surfactant used for adjusting the surface tension at the time of coating, but anionic surfactants are more preferable. Preferred compounds include those containing a hydrophobic group having 8 to 30 carbon atoms and a sulfonic acid group or a salt thereof in one molecule.

アニオン性界面活性剤としては、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、アルカンまたはオレフィンスルホン酸塩、アルキル硫酸エステル塩、ポリオキシエチレンアルキル又はアルキルアリールエーテル硫酸エステル塩、アルキルリン酸塩、アルキルジフエニルエーテルジスルホン酸塩、エーテルカルボキシレート、アルキルスルホコハク酸エステル塩、α−スルホ脂肪酸エステル及び脂肪酸塩よりなる群から選ばれる界面活性剤や、高級脂肪酸とアミノ酸との縮合物、ナフテン酸塩等を用いることができる。好ましく用いられるアニオン性界面活性剤は、アルキルベンゼンスルホン酸塩(とりわけ直鎖アルキルのもの)、アルカン又はオレフィンスルホン酸塩(とりわけ第2級アルカンスルホン酸塩、α−オレフィンスルホン酸塩)、アルキル硫酸エステル塩、ポリオキシエチレンアルキル又はアルキルアリールエーテル硫酸エステル塩(とりわけポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩)、アルキル燐酸塩(とりわけモノアルキルタイプ)、エーテルカルボキシレート、アルキルスルホコハク酸塩、α−スルホ脂肪酸エステル及び脂肪酸塩よりなる群から選ばれる界面活性剤であり、特に好ましくは、アルキルスルホコハク酸塩である。   Anionic surfactants include alkyl benzene sulfonates, alkyl naphthalene sulfonates, alkane or olefin sulfonates, alkyl sulfate esters, polyoxyethylene alkyl or alkyl aryl ether sulfate esters, alkyl phosphates, alkyl diphates. Use surfactants selected from the group consisting of enyl ether disulfonates, ether carboxylates, alkylsulfosuccinic acid ester salts, α-sulfo fatty acid esters and fatty acid salts, condensates of higher fatty acids with amino acids, naphthenates, and the like. be able to. Preferred anionic surfactants are alkylbenzene sulfonates (especially those of linear alkyl), alkanes or olefin sulfonates (especially secondary alkane sulfonates, α-olefin sulfonates), alkyl sulfates Salts, polyoxyethylene alkyl or alkyl aryl ether sulfates (especially polyoxyethylene alkyl ether sulfates), alkyl phosphates (especially monoalkyl type), ether carboxylates, alkyl sulfosuccinates, α-sulfo fatty acid esters and A surfactant selected from the group consisting of fatty acid salts, and alkylsulfosuccinate is particularly preferable.

高屈折率層における界面活性剤の含有量は、高屈折率層の塗布液の全質量を100質量%として、0.001〜0.03質量%であることが好ましく、0.005〜0.015質量%であることがより好ましい。   The content of the surfactant in the high refractive index layer is preferably 0.001 to 0.03% by mass, with the total mass of the coating liquid of the high refractive index layer being 100% by mass, and preferably 0.005 to 0.03. More preferably, it is 015 mass%.

「添加剤」
本発明に係る高屈折率層および後述する低屈折率層には、必要に応じて各種の添加剤を用いることができる。また、高屈折率層における添加剤の含有量は、高屈折率層の固形分100質量%に対して、0〜20質量%であることが好ましい。当該添加剤の例を以下に記載する。
"Additive"
Various additives can be used in the high refractive index layer according to the present invention and the low refractive index layer described later, if necessary. Moreover, it is preferable that content of the additive in a high refractive index layer is 0-20 mass% with respect to 100 mass% of solid content of a high refractive index layer. Examples of such additives are described below.

(等電点が6.5以下のアミノ酸)
本発明に係る高屈折率層または低屈折率層は、等電点が6.5以下のアミノ酸を含有していてもよい。アミノ酸を含むことにより、高屈折率層または低屈折率層中の金属酸化物粒子の分散性が向上しうる。
(Amino acids with an isoelectric point of 6.5 or less)
The high refractive index layer or the low refractive index layer according to the present invention may contain an amino acid having an isoelectric point of 6.5 or less. By including an amino acid, the dispersibility of the metal oxide particles in the high refractive index layer or the low refractive index layer can be improved.

ここでアミノ酸とは、同一分子内にアミノ基とカルボキシル基とを有する化合物であり、α−、β−、γ−などいずれのタイプのアミノ酸でもよい。アミノ酸には光学異性体が存在するものもあるが、本発明においては光学異性体による効果の差はなく、いずれの異性体も単独であるいはラセミ体でも使用することができる。   The amino acid is a compound having an amino group and a carboxyl group in the same molecule, and may be any type of amino acid such as α-, β-, and γ-. Some amino acids have optical isomers, but in the present invention, there is no difference in effect due to optical isomers, and any isomer can be used alone or in racemic form.

アミノ酸の詳しい解説は、化学大辞典1縮刷版(共立出版;昭和35年発行)268頁〜270頁の記載を参照することができる。   For a detailed explanation of amino acids, reference can be made to the descriptions on pages 268 to 270 of the Chemical Dictionary 1 Reprint (Kyoritsu Shuppan; issued in 1960).

具体的に好ましいアミノ酸として、アスパラギン酸、グルタミン酸、グリシン、セリン、等を挙げることができ、特にグリシン、セリンが好ましい。   Specific examples of preferable amino acids include aspartic acid, glutamic acid, glycine, serine, and the like, and glycine and serine are particularly preferable.

アミノ酸の等電点とは、アミノ酸は特定のpHにおいて分子内の正・負電荷が釣り合い、全体としての電荷が0となるので、このpH値をいう。各アミノ酸の等電点については、低イオン強度での等電点電気泳動で求めることが出来る。   The isoelectric point of an amino acid means this pH value because an amino acid balances positive and negative charges in a molecule at a specific pH, and the overall charge becomes zero. The isoelectric point of each amino acid can be determined by isoelectric focusing at a low ionic strength.

(エマルジョン樹脂)
本発明に係る高屈折率層または低屈折率層は、エマルジョン樹脂をさらに含有していてもよい。エマルジョン樹脂を含むことにより、膜の柔軟性が高くなりガラスへの貼りつけ等の加工性がよくなる。
(Emulsion resin)
The high refractive index layer or the low refractive index layer according to the present invention may further contain an emulsion resin. By including the emulsion resin, the flexibility of the film is increased and the workability such as sticking to glass is improved.

エマルジョン樹脂とは、水系媒体中に微細な、例えば、平均粒径が0.01〜2.0μm程度の樹脂粒子がエマルジョン状態で分散されている樹脂で、油溶性のモノマーを、水酸基を有する高分子分散剤を用いてエマルジョン重合して得られる。用いる分散剤の種類によって、得られるエマルジョン樹脂のポリマー成分に基本的な違いは見られない。エマルジョンの重合時に使用される分散剤としては、例えば、アルキルスルホン酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、ジエチルアミン、エチレンジアミン、4級アンモニウム塩のような低分子の分散剤の他に、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエキシエチレンラウリル酸エーテル、ヒドロキシエチルセルロース、ポリビニルピロリドンのような高分子分散剤が挙げられる。水酸基を有する高分子分散剤を用いてエマルジョン重合すると、微細な微粒子の少なくとも表面に水酸基の存在が推定され、他の分散剤を用いて重合したエマルジョン樹脂とはエマルジョンの化学的、物理的性質が異なる。   The emulsion resin is a resin in which fine resin particles having an average particle diameter of about 0.01 to 2.0 μm, for example, are dispersed in an emulsion state in an aqueous medium, and an oil-soluble monomer having a high hydroxyl group. Obtained by emulsion polymerization using a molecular dispersant. There is no fundamental difference in the polymer component of the resulting emulsion resin depending on the type of dispersant used. Examples of the dispersant used in the polymerization of the emulsion include polyoxyethylene nonylphenyl ether in addition to low molecular weight dispersants such as alkylsulfonate, alkylbenzenesulfonate, diethylamine, ethylenediamine, and quaternary ammonium salt. , Polymer dispersing agents such as polyoxyethylene lauryl ether, hydroxyethyl cellulose, and polyvinylpyrrolidone. When emulsion polymerization is performed using a polymer dispersant having a hydroxyl group, the presence of hydroxyl groups is estimated on at least the surface of fine particles, and the emulsion resin polymerized using other dispersants has chemical and physical properties of the emulsion. Different.

水酸基を含む高分子分散剤とは、重量平均分子量が10000以上の高分子の分散剤で、側鎖または末端に水酸基が置換されたものであり、例えばポリアクリル酸ソーダ、ポリアクリルアミドのようなアクリル系の高分子で2−エチルヘキシルアクリレートが共重合されたもの、ポリエチレングリコールやポリプロピレングリコールのようなポリエーテル、ポリビニルアルコールなどが挙げられ、特にポリビニルアルコールが好ましい。   The polymer dispersant containing a hydroxyl group is a polymer dispersant having a weight average molecular weight of 10,000 or more, and has a hydroxyl group substituted at the side chain or terminal. For example, an acrylic polymer such as sodium polyacrylate or polyacrylamide is used. Examples of such a polymer include those obtained by copolymerization of 2-ethylhexyl acrylate, polyethers such as polyethylene glycol and polypropylene glycol, and polyvinyl alcohol. Polyvinyl alcohol is particularly preferable.

高分子分散剤として使用されるポリビニルアルコールは、ポリ酢酸ビニルを加水分解して得られる通常のポリビニルアルコールの他に、カチオン変性したポリビニルアルコールやカルボキシル基のようなアニオン性基を有するアニオン変性ポリビニルアルコール、シリル基を有するシリル変性ポリビニルアルコール等の変性ポリビニルアルコールも含まれる。ポリビニルアルコールは、平均重合度は高い方が高屈折率層または低屈折率層を形成する際のクラックの発生を抑制する効果が大きいが、平均重合度が5000以内であると、エマルジョン樹脂の粘度が高くなく、製造時に取り扱いやすい。したがって、平均重合度は300〜5000のものが好ましく、1500〜5000のものがより好ましく、3000〜4500のものが特に好ましい。ポリビニルアルコールのケン化度は70〜100モル%のものが好ましく、80〜99.5モル%のものがより好ましい。   Polyvinyl alcohol used as a polymer dispersant is an anion-modified polyvinyl alcohol having an anionic group such as a cation-modified polyvinyl alcohol or a carboxyl group in addition to ordinary polyvinyl alcohol obtained by hydrolysis of polyvinyl acetate. Further, modified polyvinyl alcohol such as silyl-modified polyvinyl alcohol having a silyl group is also included. Polyvinyl alcohol has a higher effect of suppressing the occurrence of cracks when forming a high refractive index layer or a low refractive index layer when the average degree of polymerization is high, but when the average degree of polymerization is within 5000, the viscosity of the emulsion resin Is not expensive and easy to handle during manufacture. Accordingly, the average degree of polymerization is preferably 300 to 5000, more preferably 1500 to 5000, and particularly preferably 3000 to 4500. The saponification degree of polyvinyl alcohol is preferably 70 to 100 mol%, more preferably 80 to 99.5 mol%.

上記の高分子分散剤で乳化重合される樹脂としては、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、ビニル系化合物、スチレン系化合物といったエチレン系単量体、ブタジエン、イソフレンといったジエン系化合物の単独重合体または共重合体が挙げられ、例えばアクリル系樹脂、スチレン−ブタジエン系樹脂、エチレン−酢酸ビニル系樹脂等が挙げられる。   Examples of the resin that is emulsion-polymerized with the above polymer dispersant include homopolymers or copolymers of ethylene monomers such as acrylic acid esters, methacrylic acid esters, vinyl compounds, and styrene compounds, and diene compounds such as butadiene and isofrene. Examples of the polymer include acrylic resins, styrene-butadiene resins, and ethylene-vinyl acetate resins.

その他にも、本発明に係る高屈折率層または後述する低屈折率層には、例えば、特開昭57−74193号公報、同57−87988号公報及び同62−261476号公報に記載の紫外線吸収剤、特開昭57−74192号公報、同57−87989号公報、同60−72785号公報、同61−146591号公報、特開平1−95091号公報および同3−13376号公報等に記載されている退色防止剤、アニオン、カチオンまたはノニオンの各種界面活性剤、特開昭59−42993号公報、同59−52689号公報、同62−280069号公報、同61−242871号公報および特開平4−219266号公報等に記載されている蛍光増白剤、硫酸、リン酸、酢酸、クエン酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等のpH調整剤、消泡剤、ジエチレングリコール等の潤滑剤、防腐剤、帯電防止剤、マット剤等の公知の各種添加剤を含有していてもよい。   In addition, the high refractive index layer according to the present invention or the low refractive index layer described later includes, for example, an ultraviolet ray described in JP-A-57-74193, 57-87988 and 62-261476. Absorbents, described in JP-A-57-74192, JP-A-57-87989, JP-A-60-72785, JP-A-61-146591, JP-A-1-95091 and JP-A-3-13376 Anti-fading agents, various anionic, cationic or nonionic surfactants, JP-A-59-42993, JP-A-59-52689, JP-A-62-280069, JP-A-61-242871, and JP-A Fluorescent whitening agent, sulfuric acid, phosphoric acid, acetic acid, citric acid, sodium hydroxide, potassium hydroxide, carbonate pH adjusting agents such as um, antifoaming agents, lubricants such as diethylene glycol, preservatives, antistatic agents, may contain various known additives such as a matting agent.

以上のように、本発明は、第1の水溶性高分子及び第1の金属酸化物粒子を高屈折率層に含有させることにより、第1の金属酸化物粒子と第1の水溶性高分子との相互作用が働き高屈折率層と低屈折率層との層間混合が抑制され、また、酸化チタン粒子の光触媒活性によるバインダの劣化やチョーキングなどの問題を防ぐことができる。したがって、本発明の光学反射フィルムは、耐久性や膜柔軟性に優れ、可視光透過率が高く、特定波長領域に対する反射特性(例えば、近赤外遮蔽性)に優れたものとなる。   As described above, the present invention includes the first metal oxide particles and the first water-soluble polymer by including the first water-soluble polymer and the first metal oxide particles in the high refractive index layer. And the intermixing of the high refractive index layer and the low refractive index layer is suppressed, and problems such as binder deterioration and choking due to the photocatalytic activity of the titanium oxide particles can be prevented. Therefore, the optical reflective film of the present invention has excellent durability and film flexibility, high visible light transmittance, and excellent reflection characteristics (for example, near-infrared shielding) for a specific wavelength region.

<低屈折率層>
本発明に係る低屈折率層は、第2の水溶性高分子および第2の金属酸化物粒子を必須成分として含み、必要により硬化剤、界面活性剤、および各種添加剤からなる群から選択される少なくとも1種を含んでもよい。
<Low refractive index layer>
The low refractive index layer according to the present invention includes the second water-soluble polymer and the second metal oxide particles as essential components, and is selected from the group consisting of a curing agent, a surfactant, and various additives as necessary. It may contain at least one kind.

本発明に係る低屈折率層の屈折率は、好ましくは1.10〜1.60であり、より好ましくは1.30〜1.50である。   The refractive index of the low refractive index layer according to the present invention is preferably 1.10 to 1.60, more preferably 1.30 to 1.50.

本発明に係る低屈折率層の1層あたりの厚みは、20〜800nmであることが好ましく、50〜350nmであることがより好ましい。   The thickness per layer of the low refractive index layer according to the present invention is preferably 20 to 800 nm, and more preferably 50 to 350 nm.

「第2の金属酸化物粒子」
本発明に係る第2の金属酸化物粒子としては、シリカ(二酸化ケイ素)を用いることが好ましく、具体的な例として合成非晶質シリカ、コロイダルシリカ等が挙げられる。これらのうち、酸性のコロイダルシリカゾルを用いることがより好ましく、有機溶媒に分散させたコロイダルシリカゾルを用いることがさらに好ましい。また、屈折率をより低減させるためには、第2の金属酸化物粒子として、粒子の内部に空孔を有する中空微粒子を用いることができ、特にシリカ(二酸化ケイ素)の中空微粒子が好ましい。また、シリカ以外の公知の金属酸化物粒子も使用することができる。
"Second metal oxide particles"
As the second metal oxide particles according to the present invention, silica (silicon dioxide) is preferably used, and specific examples thereof include synthetic amorphous silica and colloidal silica. Of these, acidic colloidal silica sol is more preferably used, and colloidal silica sol dispersed in an organic solvent is more preferably used. In order to further reduce the refractive index, hollow fine particles having pores inside the particles can be used as the second metal oxide particles, and hollow fine particles of silica (silicon dioxide) are particularly preferable. Moreover, well-known metal oxide particles other than a silica can also be used.

本発明において、第2の金属酸化物粒子(好ましくは二酸化ケイ素)は、その一次平均粒径が3〜100nmであることが好ましい。一次粒子の状態で分散された二酸化ケイ素の一次粒子の平均粒径(塗布前の分散液状態での一次平均粒径)は、3〜50nmであるのがより好ましく、3〜40nmであるのがさらに好ましく、3〜20nmであるのが特に好ましく、4〜10nmであるのがもっとも好ましい。また、二次粒子の平均粒径としては、30nm以下であることが、ヘイズが少なく可視光透過性に優れる観点で好ましい。   In the present invention, the second metal oxide particles (preferably silicon dioxide) preferably have a primary average particle size of 3 to 100 nm. The average particle size of primary particles of silicon dioxide dispersed in a primary particle state (primary average particle size in a dispersion state before coating) is more preferably 3 to 50 nm, and more preferably 3 to 40 nm. More preferably, 3 to 20 nm is particularly preferable, and 4 to 10 nm is most preferable. Moreover, as an average particle diameter of secondary particle | grains, it is preferable from a viewpoint with few hazes and excellent visible light transmittance | permeability that it is 30 nm or less.

本発明において、第2の金属酸化物粒子の一次平均粒径は、粒子そのものあるいは屈折率層の断面や表面に現れた粒子を電子顕微鏡で観察し、1,000個の任意の粒子の粒径を測定し、その単純平均値(個数平均)として求められる。ここで個々の粒子の粒径は、その投影面積に等しい円を仮定したときの直径で表したものである。   In the present invention, the primary average particle size of the second metal oxide particles is determined by observing the particles themselves or the particles appearing on the cross section or surface of the refractive index layer with an electron microscope, and the particle size of 1,000 arbitrary particles. Is obtained as a simple average value (number average). Here, the particle diameter of each particle is represented by a diameter assuming a circle equal to the projected area.

また、本発明において、第2の金属酸化物粒子の粒径は、一次平均粒径の他に、体積平均粒径により求めることもできる。なお、体積平均粒径の測定方法は前述の第1の金属酸化物粒子の場合と同様である。   In the present invention, the particle diameter of the second metal oxide particles can be determined by a volume average particle diameter in addition to the primary average particle diameter. In addition, the measuring method of a volume average particle diameter is the same as that of the case of the above-mentioned 1st metal oxide particle.

本発明で用いられるコロイダルシリカは、珪酸ナトリウムの酸等による複分解やイオン交換樹脂層を通過させて得られるシリカゾルを加熱熟成して得られるものであり、たとえば、特開昭57−14091号公報、特開昭60−219083号公報、特開昭60−219084号公報、特開昭61−20792号公報、特開昭61−188183号公報、特開昭63−17807号公報、特開平4−93284号公報、特開平5−278324号公報、特開平6−92011号公報、特開平6−183134号公報、特開平6−297830号公報、特開平7−81214号公報、特開平7−101142号公報、特開平7−179029号公報、特開平7−137431号公報、および国際公開第94/26530号などに記載されているものである。   The colloidal silica used in the present invention is obtained by heating and aging a silica sol obtained by metathesis with an acid of sodium silicate or the like and passing through an ion exchange resin layer. For example, JP-A-57-14091, JP-A-60-219083, JP-A-60-219084, JP-A-61-20792, JP-A-61-188183, JP-A-63-17807, JP-A-4-93284 No. 5, JP-A-5-278324, JP-A-6-92011, JP-A-6-183134, JP-A-6-297830, JP-A-7-81214, JP-A-7-101142. JP-A-7-179029, JP-A-7-137431, and International Publication No. 94/26530. Than is.

かようなコロイダルシリカは合成品を用いてもよいし、市販品を用いてもよい。コロイダルシリカは、その表面をカチオン変性されたものであってもよく、また、Al、Ca、MgまたはBa等で処理されたものであってもよい。   Such colloidal silica may be a synthetic product or a commercially available product. The surface of the colloidal silica may be cation-modified, or may be treated with Al, Ca, Mg, Ba or the like.

本発明では第2の金属酸化物粒子として、中空微粒子を用いることもできる。中空微粒子を用いる場合には、平均粒子空孔径が、3〜70nmであるのが好ましく、5〜50nmがより好ましく、5〜45nmがさらに好ましい。なお、中空微粒子の平均粒子空孔径とは、中空微粒子の内径の平均値である。本発明において、中空微粒子の平均粒子空孔径は、上記範囲であれば、十分に低屈折率層の屈折率が低屈折率化される。平均粒子空孔径は、電子顕微鏡観察で、円形、楕円形または実質的に円形は楕円形として観察できる空孔径を、ランダムに50個以上観察し、各粒子の空孔径を求め、その数平均値を求めることにより得られる。なお、本明細書中、平均粒子空孔径としては、円形、楕円形または実質的に円形もしくは楕円形として観察できる空孔径の外縁を、2本の平行線で挟んだ距離のうち、最小の距離を意味する。   In the present invention, hollow fine particles can also be used as the second metal oxide particles. When hollow fine particles are used, the average particle pore size is preferably 3 to 70 nm, more preferably 5 to 50 nm, and even more preferably 5 to 45 nm. The average particle pore size of the hollow fine particles is an average value of the inner diameters of the hollow fine particles. In the present invention, when the average particle pore diameter of the hollow fine particles is within the above range, the refractive index of the low refractive index layer is sufficiently lowered. The average particle diameter is 50 or more at random, which can be observed as an ellipse in a circular, elliptical or substantially circular shape by electron microscope observation, and obtains the pore diameter of each particle. Is obtained. In the present specification, as the average particle pore diameter, the minimum distance among the distances between the outer edges of the pore diameter that can be observed as a circle, an ellipse, a substantially circle or an ellipse, between two parallel lines Means.

低屈折率層における第2の金属酸化物粒子の含有量は、低屈折率層の固形分100質量%に対して、0.1〜70質量%であることが好ましく、30〜70質量%であることがより好ましく、45〜65質量%であることがさらに好ましい。   The content of the second metal oxide particles in the low refractive index layer is preferably 0.1 to 70% by mass, and 30 to 70% by mass with respect to 100% by mass of the solid content of the low refractive index layer. More preferably, it is more preferably 45 to 65% by mass.

「第2の水溶性高分子」
本発明に係る第2の水溶性高分子の具体例、好ましい重量平均分子量等は、上記の第1の水溶性高分子の欄で、説明した内容と同様であるので、ここでは説明を省略する。本発明に係る第2の水溶性高分子として、ポリビニルアルコールが好ましく用いられ、さらに、第1の水溶性高分子として好ましく用いられるポリビニルアルコールと異なる種類のポリビニルアルコールがより好ましく用いられる。ここで、第1の水溶性高分子とは異なる種類のポリビニルアルコールとは、変性の種類、ケン化度、重合度、および重量平均分子量からなる群より選択される少なくとも1つが、第1の水溶性高分子として用いられるポリビニルアルコールとは異なるものをいう。
"Second water-soluble polymer"
Specific examples, preferred weight average molecular weights, and the like of the second water-soluble polymer according to the present invention are the same as those described in the column of the first water-soluble polymer, and thus the description thereof is omitted here. . As the second water-soluble polymer according to the present invention, polyvinyl alcohol is preferably used, and a polyvinyl alcohol of a type different from the polyvinyl alcohol preferably used as the first water-soluble polymer is more preferably used. Here, the type of polyvinyl alcohol different from the first water-soluble polymer means that at least one selected from the group consisting of the type of modification, the degree of saponification, the degree of polymerization, and the weight average molecular weight is the first water-soluble polymer. It is different from polyvinyl alcohol used as a conductive polymer.

本発明に係る低屈折率層において、第2の水溶性高分子として好ましく用いられるポリビニルアルコールとともに、他の水溶性高分子を併用してもよく、この際、併用する他の高分子の含有量は、低屈折率層の固形分100質量%に対して、0.5〜10質量%で用いることができる。   In the low refractive index layer according to the present invention, together with polyvinyl alcohol preferably used as the second water-soluble polymer, another water-soluble polymer may be used in combination, and in this case, the content of the other polymer to be used together Can be used at 0.5 to 10% by mass with respect to 100% by mass of the solid content of the low refractive index layer.

本発明に係る低屈折率層における第2の水溶性高分子の含有量は、低屈折率層全量に対して、10〜99.9質量%であることが好ましく、20〜70質量%であることがより好ましい。第2の水溶性高分子の含有量が10質量%以上であれば、低屈折率層を塗工した後の乾燥時に、膜面が乱れることもなく高い透明性を発現することができる点で優れている。一方、第2の水溶性高分子の含有量が99.9質量%以下であれば、高い透明性を発現できるほか、相対的な金属酸化物の含有量が適切となり、高屈折率層と低屈折率層の屈折率差を大きくすることが容易になる。   The content of the second water-soluble polymer in the low refractive index layer according to the present invention is preferably 10 to 99.9% by mass with respect to the total amount of the low refractive index layer, and is 20 to 70% by mass. It is more preferable. If the content of the second water-soluble polymer is 10% by mass or more, it is possible to express high transparency without disturbing the film surface during drying after coating the low refractive index layer. Are better. On the other hand, if the content of the second water-soluble polymer is 99.9% by mass or less, not only high transparency can be expressed, but the relative content of metal oxide becomes appropriate, and the low refractive index layer and the low refractive index layer are low. It becomes easy to increase the refractive index difference of the refractive index layer.

低屈折率層において、第2の水溶性高分子として好ましく用いられるポリビニルアルコールとともに、併用する他の水溶性高分子の含有量は、低屈折率層の固形分100質量%に対して、0.5〜10質量%で用いることができる。   In the low refractive index layer, the content of the other water soluble polymer used in combination with polyvinyl alcohol preferably used as the second water soluble polymer is 0.000% with respect to 100% by mass of the solid content of the low refractive index layer. It can be used at 5 to 10% by mass.

「硬化剤」
本発明に係る低屈折率層において、前記高屈折率層と同様に、硬化剤をさらに含むことができる。低屈折率層に係る第2の水溶性高分子と硬化反応を起こすものであれば、特に制限されない。特に、第2の水溶性高分子としてポリビニルアルコールを用いた場合の硬化剤としては、ホウ酸およびその塩ならびにホウ砂の少なくとも一方が好ましい。また、これら以外にも公知のものが使用できる。
"Curing agent"
Similarly to the high refractive index layer, the low refractive index layer according to the present invention may further include a curing agent. There is no particular limitation as long as it causes a curing reaction with the second water-soluble polymer related to the low refractive index layer. In particular, as a curing agent when polyvinyl alcohol is used as the second water-soluble polymer, at least one of boric acid, a salt thereof, and borax is preferable. Besides these, known ones can be used.

低屈折率層における硬化剤の含有量は、低屈折率層の固形分100質量%に対して、1〜10質量%であることが好ましく、2〜6質量%であることがより好ましい。   The content of the curing agent in the low refractive index layer is preferably 1 to 10% by mass and more preferably 2 to 6% by mass with respect to 100% by mass of the solid content of the low refractive index layer.

特に、第2の水溶性高分子としてポリビニルアルコールを使用する場合の上記硬化剤の総使用量は、ポリビニルアルコール1g当たり1〜600mgが好ましく、ポリビニルアルコール1g当たり100〜600mgがより好ましい。   In particular, when polyvinyl alcohol is used as the second water-soluble polymer, the total amount of the curing agent used is preferably 1 to 600 mg per 1 g of polyvinyl alcohol, and more preferably 100 to 600 mg per 1 g of polyvinyl alcohol.

硬化剤の具体例などは、上述した高屈折率層と同様であるので、ここでは説明を省略する。   Specific examples of the curing agent and the like are the same as those of the above-described high refractive index layer, and thus description thereof is omitted here.

「界面活性剤」
本発明に係る低屈折率層にも、塗布性の観点から界面活性剤を含有することが好ましい。特に、アニオン性界面活性剤を含有することが好ましい。本発明に係る界面活性剤としては、上記の高屈折率層に含有するものと同一のものを使用することができるので、ここでは説明を省略する。
"Surfactant"
The low refractive index layer according to the present invention also preferably contains a surfactant from the viewpoint of coatability. In particular, it is preferable to contain an anionic surfactant. As the surfactant according to the present invention, the same surfactants as those contained in the high refractive index layer can be used, and the description thereof is omitted here.

低屈折率層における界面活性剤の含有量は、低屈折率層の塗布液の全量を100質量%として、0.001〜0.03質量%であることが好ましく、0.005〜0.02質量%であることがより好ましい。   The content of the surfactant in the low refractive index layer is preferably 0.001 to 0.03 mass%, with the total amount of the coating liquid of the low refractive index layer being 100 mass%, and preferably 0.005 to 0.02. More preferably, it is mass%.

「添加剤」
本発明に係る低屈折率層には、必要に応じて各種添加剤を用いることができ、当該低屈折率層における各種添加物は、上記の高屈折率層に使用した添加物と同一のものを使用することができるので、ここでは説明を省略する。
"Additive"
Various additives can be used in the low refractive index layer according to the present invention as needed, and the various additives in the low refractive index layer are the same as the additives used in the high refractive index layer. The description thereof is omitted here.

上記したように本発明の光学反射フィルムでは、基材上に、第1の水溶性高分子及び第1の金属酸化物粒子を含む高屈折率層、ならびに第2の水溶性高分子及び第2の金属酸化物粒子を含む低屈折率層を交互に積層して形成された光学干渉膜を有するものである。更に本発明の光学反射フィルムでは、前記光学干渉膜を構成する高屈折率層および低屈折率層の少なくとも1層が、活性エネルギー線により架橋する高分子化合物(光反応性高分子化合物ともいう)であって、親水性主鎖に複数の側鎖を有する該光反応性高分子化合物に、活性エネルギー線を照射して得られる、側鎖間で架橋結合された光架橋型高分子化合物をバインダとして含有することを特徴とするものである。   As described above, in the optical reflective film of the present invention, the high refractive index layer containing the first water-soluble polymer and the first metal oxide particles, the second water-soluble polymer, and the second on the substrate. And an optical interference film formed by alternately laminating low refractive index layers containing metal oxide particles. Furthermore, in the optical reflective film of the present invention, a polymer compound (also referred to as a photoreactive polymer compound) in which at least one of the high refractive index layer and the low refractive index layer constituting the optical interference film is crosslinked by active energy rays. A photocrosslinkable polymer compound that is obtained by irradiating active energy rays to the photoreactive polymer compound having a plurality of side chains in the hydrophilic main chain and that is cross-linked between the side chains. It is characterized by containing as.

〈光反応性高分子化合物〉
本発明に係る、親水性主鎖に複数の側鎖を有し、活性エネルギー線を照射することにより、側鎖間で架橋結合可能な高分子化合物(光反応性高分子化合物)とは、ポリ酢酸ビニルのケン化物(ポリビニルアルコール)、ポリビニルアセタール、ポリエチレンオキサイド、ポリアルキレンオキサイド、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、ポリアクリル酸、ヒドロキシエチルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、またはこれら親水性樹脂の誘導体、ならびにこれらの共重合体からなる群より選ばれる少なくとも一種の親水性樹脂に対して、側鎖に光二量化型、光分解型、光重合型、光変性型、光解重合型等の変性基を導入したものである。光重合型の架橋性基が耐候性、耐水性の観点から望ましい。
<Photoreactive polymer compound>
A polymer compound (photoreactive polymer compound) having a plurality of side chains in a hydrophilic main chain and capable of being cross-linked between side chains by irradiating active energy rays, according to the present invention, Saponified vinyl acetate (polyvinyl alcohol), polyvinyl acetal, polyethylene oxide, polyalkylene oxide, polyvinyl pyrrolidone, polyacrylamide, polyacrylic acid, hydroxyethyl cellulose, methyl cellulose, hydroxypropyl cellulose, or derivatives of these hydrophilic resins, and these Introducing a modifying group such as a photodimerization type, a photodecomposition type, a photopolymerization type, a photo-denaturation type, or a photo-depolymerization type to the side chain with respect to at least one hydrophilic resin selected from the group consisting of copolymers It is. Photopolymerizable crosslinking groups are desirable from the viewpoints of weather resistance and water resistance.

第1乃至第2の金属酸化物粒子のイオン性と前記光反応性高分子化合物の側鎖のイオン性の間には、好ましい組合せが存在する。第1乃至第2の金属酸化物粒子にアニオン性を選択し、側鎖にはノニオン性またはアニオン性を組み合わせることで、凝集を防止し、耐候性、耐水性、ヘイズ、耐傷性、密着性の観点で優れていることがわかった。側鎖としてはノニオン性が最も好ましい。理由は定かではないが、上記イオンの組合せの場合は、製造時の塗布液中の第1乃至第2の金属酸化物粒子との凝集等が少なくなり、このことが、上記効果に影響している可能性がある。   There is a preferred combination between the ionicity of the first or second metal oxide particles and the ionicity of the side chain of the photoreactive polymer compound. By selecting anionicity for the first or second metal oxide particles and combining nonionicity or anionicity in the side chain, aggregation is prevented and weather resistance, water resistance, haze, scratch resistance, adhesion It turned out to be excellent from a viewpoint. The side chain is most preferably nonionic. The reason is not clear, but in the case of a combination of the above ions, the aggregation with the first and second metal oxide particles in the coating solution at the time of production is reduced, which affects the above effect. There is a possibility.

本発明の光反応性高分子化合物の親水性主鎖と側鎖の部分構造が下記一般式(A)で表されるものが好ましい。   It is preferable that the partial structure of the hydrophilic main chain and side chain of the photoreactive polymer compound of the present invention is represented by the following general formula (A).

上記式中、Polyは親水性主鎖を表す。ポリ酢酸ビニルのケン化物(ポリビニルアルコール)、ポリビニルアセタール、ポリエチレンオキサイド、ポリアルキレンオキサイド、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、ポリアクリル酸、ヒドロキシエチルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、またはこれらの親水性樹脂の誘導体、ならびにこれらの共重合体が好ましい。   In the above formula, Poly represents a hydrophilic main chain. Saponified polyvinyl acetate (polyvinyl alcohol), polyvinyl acetal, polyethylene oxide, polyalkylene oxide, polyvinyl pyrrolidone, polyacrylamide, polyacrylic acid, hydroxyethyl cellulose, methyl cellulose, hydroxypropyl cellulose, or derivatives of these hydrophilic resins, and These copolymers are preferred.

{ }内は側鎖を表す。側鎖中、Xは(p+1)価の連結基を表わす。pは正の整数を表し、好ましくは1〜5の整数である。具体的には、p=1のとき、Xが2価の連結基を表し、例えば、アルキレン基、アリーレン基、ヘテロアリーレン基、エーテル基、チオエーテル基、イミノ基、エステル基、アミド基、スルホニル基などが挙げられ、又、これらが組み合わさって一つの2価以上の基を形成してもよい。またp=2以上のとき、後述する複数のB及びYは同一で、あっても異なっていてもよい。 The inside of {} represents a side chain. In the side chain, X 1 represents a (p + 1) -valent linking group. p represents a positive integer, preferably an integer of 1 to 5. Specifically, when p = 1, X 1 represents a divalent linking group, for example, an alkylene group, an arylene group, a heteroarylene group, an ether group, a thioether group, an imino group, an ester group, an amide group, a sulfonyl group Groups may be mentioned, and these may be combined to form one divalent or higher group. In addition, when p = 2 or more, a plurality of B and Y l described later may be the same or different.

は、好ましくは、アルキレンオキシド、芳香族基が少なくとも組み合わさっている2価以上の連結基が挙げられる。 X l is preferably an alkylene oxide or a divalent or higher linking group in which an aromatic group is combined at least.

Bは、架橋基を表す。具体的には、二重結合、三重結合を含有する基であり、例えば、アクリル基、メタクリル基、ピニル基、アリル基、ジアゾ基、アジド基を表す。好ましくは、アクリル基、メタクリル基である。   B represents a crosslinking group. Specifically, it is a group containing a double bond or a triple bond, and represents, for example, an acryl group, a methacryl group, a pinyl group, an allyl group, a diazo group, or an azide group. An acrylic group and a methacryl group are preferable.

は、水素原子または置換基を表す。置換基とは具体的にはハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子等)、アルキル基(例えば、メチル、エチル、ブチル、ベンチル、2−メトキシエチル、トリフルオロメチル、2−エチルヘキシル、シクロヘキシル等)、アリール基(例えば、フェニル、p−トリル、ナフチル等)、アシル基(例えば、アセチル、プロピオニル、ベンゾイル等)、アルコキシ基(例えば、メトキシ、エトキシ、ブトキシ等)、アルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル、i−プロポキシカルボニル等)、アシルオキシ基(例えば、アセチルオキシ、エチルカルボニルオキシ等)、カルバモイル基(例えば、メチルカルバモイル、エチルカルバモイル、ブチルカルバモイル、フェニルカルバモイル等)、スルファモイル基(例えば、スルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイル等)、アルキルチオ基(例えば、メチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ等)、アリールチオ基(例えば、フェニルチオ、p−トリルチオ等)、アルキルウレイド基(例えば、メチルウレイド、エチルウレイド、メトキシエチルウレイド、ジメチルウレイド等)、アリールウレイド基(例えば、フェニルウレイド等)、アルキルスルホンアミド基(例えば、メタンスルホンアミド、エタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミド、トリフルオロメチルスルホンアミド、2,2,2−トリフルオロエチルスルホンアミド等)、アリールスルホンアミド基(例えば、フェニルスルホンアミド、トリルスルホンアミド等)、アルキルアミノスルホニルアミノ基(例えば、メチルアミノスルホニルアミノ、エチルアミノスルホニルアミノ等)、アリールアミノスルホニルアミノ基(例えば、フェニルアミノスルホニルアミノ等)、ヒドロキシ基、複素環基(例えば、ピリジル、ピラゾリル、イミダゾリル、フリル、チエニル等)などが挙げられ、更にこれらは置換基を有していても良い。 Y l represents a hydrogen atom or a substituent. Specifically, the substituent is a halogen atom (for example, fluorine atom, chlorine atom, etc.), an alkyl group (for example, methyl, ethyl, butyl, ventil, 2-methoxyethyl, trifluoromethyl, 2-ethylhexyl, cyclohexyl, etc.) , Aryl groups (eg, phenyl, p-tolyl, naphthyl, etc.), acyl groups (eg, acetyl, propionyl, benzoyl, etc.), alkoxy groups (eg, methoxy, ethoxy, butoxy, etc.), alkoxycarbonyl groups (eg, methoxycarbonyl) I-propoxycarbonyl etc.), acyloxy group (eg acetyloxy, ethylcarbonyloxy etc.), carbamoyl group (eg methylcarbamoyl, ethylcarbamoyl, butylcarbamoyl, phenylcarbamoyl etc.), sulfamoyl group (eg sulfayl) Yl, methylsulfamoyl, dimethylsulfamoyl, phenylsulfamoyl, etc.), alkylthio groups (eg, methylthio, ethylthio, octylthio, etc.), arylthio groups (eg, phenylthio, p-tolylthio, etc.), alkylureido groups (eg, , Methylureido, ethylureido, methoxyethylureido, dimethylureido, etc.), arylureido groups (eg, phenylureido etc.), alkylsulfonamide groups (eg, methanesulfonamide, ethanesulfonamide, butanesulfonamide, trifluoromethylsulfone) Amide, 2,2,2-trifluoroethylsulfonamide, etc.), arylsulfonamide groups (eg, phenylsulfonamide, tolylsulfonamide, etc.), alkylaminosulfonylamino groups (eg, Methylaminosulfonylamino, ethylaminosulfonylamino, etc.), arylaminosulfonylamino groups (eg, phenylaminosulfonylamino, etc.), hydroxy groups, heterocyclic groups (eg, pyridyl, pyrazolyl, imidazolyl, furyl, thienyl, etc.), etc. In addition, these may have a substituent.

mは、0または1を表す。   m represents 0 or 1.

nは、0または1を表す。   n represents 0 or 1.

(親水性主鎖;主鎖のポリビニルアルコール)
本発明の光反応性高分子化合物において、親水性主鎖においては、側鎖の導入に対する簡便性や出来上がった光学反射フィルムの耐候性の観点から、ポリ酢酸ビニルのケン化物であるポリビニルアルコールが好ましく、ケン化度は77%以上、99%以下であることが好ましい。その重合度は200以上、5000以下であることが好ましく、500以上、4500以下がより好ましく、1000以上4500以下であることがさらに好ましい。ポリ酢酸ビニルのケン化物(ポリビニルアルコール)のケン化度及びその重合度が共に上記範囲内であれば、耐候性試験後の可視光透過率、近赤外反射率に優れ、外観、特にクラック;ひび割れがなく、耐水性試験後のヘイズ(曇価)が低く透明性に優れ、膜剥がれもなく、良好なフィルム特性(特に優れた耐候性、耐水性)を発現することができる点で優れている。特に重合度は上記範囲内であれば、大きくなるほど耐候性が良好になる傾向がある。
(Hydrophilic main chain; main chain polyvinyl alcohol)
In the photoreactive polymer compound of the present invention, in the hydrophilic main chain, polyvinyl alcohol, which is a saponified product of polyvinyl acetate, is preferable from the viewpoint of simplicity of side chain introduction and weather resistance of the resulting optical reflection film. The saponification degree is preferably 77% or more and 99% or less. The degree of polymerization is preferably 200 or more and 5000 or less, more preferably 500 or more and 4500 or less, and further preferably 1000 or more and 4500 or less. If the degree of saponification and the degree of polymerization of the saponified polyvinyl acetate (polyvinyl alcohol) are both within the above ranges, the visible light transmittance and the near infrared reflectance after the weather resistance test are excellent, and the appearance, particularly cracks; Excellent in that there are no cracks, low haze (water haze) after water resistance test, excellent transparency, no film peeling, and good film properties (especially excellent weather resistance and water resistance). Yes. In particular, if the degree of polymerization is within the above range, the weather resistance tends to be better as it becomes larger.

(側鎖の変性率)
本発明の光反応性高分子化合物において、親水性主鎖に対する側鎖の変性率は、0.3〜4.5モル%の範囲が好ましく、0.7〜4.5モル%の範囲がより好ましく、1.0〜4.5モル%の範囲がさらに好ましい。親水性主鎖に対する側鎖の変性率が上記範囲内であれば、耐候性試験後の可視光透過率、近赤外反射率に優れ、外観、特にクラック;ひび割れがなく、耐水性試験後のヘイズ(曇価)が低く透明性に優れ、膜剥がれもなく、良好なフィルム特性(特に優れた耐候性、耐水性)を発現することができる点で優れている。親水性主鎖に対する側鎖の変性率が0.3モル%以上、好ましくは0,7モル以上、より好ましくは1モル%以上であれば、上記フィルム特性に加え、架橋性が不足することなく、本発明の効果が十分に発現することができる点で優れている。主鎖に対する側鎖の変性率が4.5モル%以下であれば、上記フィルム特性に加え、架橋密度が大きくなりすぎることもないので、硬くて脆い膜とならず、柔軟性(可撓性)を有し、壊れにくく丈夫で強い(ひび割れ難く、剥がれ難い)膜を得ることができ、高い膜強度を発現できる点で優れている。
(Modification rate of side chain)
In the photoreactive polymer compound of the present invention, the modification rate of the side chain with respect to the hydrophilic main chain is preferably in the range of 0.3 to 4.5 mol%, more preferably in the range of 0.7 to 4.5 mol%. The range of 1.0 to 4.5 mol% is more preferable. If the modification rate of the side chain with respect to the hydrophilic main chain is within the above range, the visible light transmittance and the near infrared reflectance after the weather resistance test are excellent, and there is no appearance, particularly cracks; cracks, after the water resistance test. It is excellent in that the haze (cloudiness value) is low, the transparency is excellent, the film is not peeled off, and good film properties (particularly excellent weather resistance and water resistance) can be expressed. If the modification rate of the side chain with respect to the hydrophilic main chain is 0.3 mol% or more, preferably 0.7 mol or more, more preferably 1 mol% or more, in addition to the above film properties, the crosslinkability is not insufficient. This is excellent in that the effect of the present invention can be sufficiently exhibited. If the modification rate of the side chain with respect to the main chain is 4.5 mol% or less, in addition to the above film properties, the crosslinking density will not be too high, so that the film will not be hard and brittle, and the flexibility (flexibility) ), And is strong and strong (hard to crack and difficult to peel off), and is excellent in that high film strength can be expressed.

本発明の光反応性高分子化合物において、さらに好ましい構造としては、特開昭56−67309号公報記載の感光性樹脂が挙げられる。この感光性樹脂は、ポリビニルアルコール構造体中に、下記一般式(1)で表される2−アジド−5−ニトロフェニルカルボニルオキシエチレン構造(ノニオン性)の側鎖、又は、下記一般式(2)で表される4−アジド−3−ニトロフェニルカルボニルオキシエチレン構造(ノニオン性)の側鎖、を有する樹脂組成物である。   In the photoreactive polymer compound of the present invention, a more preferable structure is a photosensitive resin described in JP-A-56-67309. This photosensitive resin contains a side chain of a 2-azido-5-nitrophenylcarbonyloxyethylene structure (nonionic) represented by the following general formula (1) in the polyvinyl alcohol structure, or the following general formula (2 And a side chain of a 4-azido-3-nitrophenylcarbonyloxyethylene structure (nonionic) represented by formula (1).

また、下記一般式(3)で表される変性基(アニオン性)の側鎖も好ましく用いられる。   A side chain of a modifying group (anionic) represented by the following general formula (3) is also preferably used.

式中、Rはアルキレン基又は芳香族環を表す。好ましくはベンゼン環である。   In the formula, R represents an alkylene group or an aromatic ring. A benzene ring is preferred.

光重合型の変性基としては、例えば特開2000−181062号、特開2004−189841号に示される下記一般式(4)で表される樹脂(ノニオン性)が反応性の観点から好ましい。   As the photopolymerization type modifying group, for example, a resin (nonionic) represented by the following general formula (4) disclosed in JP-A Nos. 2000-181062 and 2004-189841 is preferable from the viewpoint of reactivity.

式中、Rはメチル(Meとも略記する)又は水素原子(Hとも略記する)を表し、nは1又は2を表し、Xは(CH−COO−又は−O−を表し、Yは芳香族環又は単結合を表し、mは0〜6までの整数を表す。 In the formula, R 2 represents methyl (abbreviated as Me) or a hydrogen atom (abbreviated as H), n represents 1 or 2, X represents (CH 2 ) m —COO— or —O—, Y represents an aromatic ring or a single bond, and m represents an integer of 0 to 6.

また、特開2004−161942号公報に記載されている光重合型の下記一般式(5)で表される変性基(ノニオン性)を、従来公知の水溶性樹脂に用いることも好ましい。   Moreover, it is also preferable to use the photopolymerization type | mold modified group (nonionic property) represented by following General formula (5) described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2004-161942 for a conventionally well-known water-soluble resin.

式中、RはMe又はHを表し、Rは炭素数2〜10の直鎖状または分岐状のアルキレン基を表す。 In the formula, R 3 represents Me or H, and R 4 represents a linear or branched alkylene group having 2 to 10 carbon atoms.

更に、下記一般式(6)乃至(8)で表される変性基(ノニオン性)も好ましく用いられる。   Furthermore, modified groups (nonionic) represented by the following general formulas (6) to (8) are also preferably used.

このような活性エネルギー線架橋型の樹脂である光反応性高分子化合物は、低屈折率層用塗布液ないし高屈折率層用塗布液(以下、これらを単に塗布液ともいう)全質量に対して0.8〜5.0質量%含有することが好ましい。0.8質量%以上存在することで、架橋効率が向上し、塗布、乾燥、架橋(硬化)後の塗布層(低屈折率層ないし高屈折率層)の粘度の急激な上昇(膜強度の大幅な向上)により特に高屈折率層と低屈折率層の多層同時重層塗布時に耐候性、耐水性、ヘイズ、耐傷性がより好ましくなる。5.0質量%以下の場合は、塗布液のポットライフ等も保たれ塗布故障も発生しにくい点で好ましい。   The photoreactive polymer compound which is such an active energy ray-crosslinking resin is based on the total mass of the coating solution for the low refractive index layer or the coating solution for the high refractive index layer (hereinafter also referred to simply as coating solution). It is preferable to contain 0.8-5.0 mass%. The presence of 0.8% by mass or more improves the crosslinking efficiency, and the viscosity of the coating layer (low refractive index layer or high refractive index layer) after coating, drying, and crosslinking (curing) suddenly increases (film strength) In particular, the weather resistance, water resistance, haze, and scratch resistance are more preferable when a multilayer coating of a high refractive index layer and a low refractive index layer is applied simultaneously. In the case of 5.0 mass% or less, it is preferable at the point which the pot life etc. of a coating liquid are maintained and a coating failure does not generate | occur | produce easily.

(光反応性高分子化合物と第1ないし第2の水溶性高分子との混合比)
本発明では、低屈折率層ないし高屈折率層の形成に用いる低屈折率層用塗布液ないし高屈折率層用塗布液(塗布液)中の、第1ないし第2の水溶性高分子(水溶性高分子ともいう)の少なくとも一部に変えて、光反応性高分子化合物を用いるものである。詳しくは、上記塗布液中の光反応性高分子化合物の含有量は、光反応性高分子化合物と水溶性高分子の全量に対して、5〜80質量%、好ましくは10〜80質量%、より好ましくは20〜70質量%、さらに好ましくは30〜60質量%の範囲である。光反応性高分子化合物の含有量が5質量%以上であれば、活性エネルギー線の照射により側鎖間で架橋結合が十分になされ、得られる光学干渉膜の耐候性、耐水性を向上することができる点で優れている。光反応性高分子化合物の含有量が80質量%以下であれば架橋が強くなりすぎることもなく、得られる高屈折率層、低屈折率層が硬くなりすぎて脆くなることもなく十分な膜強度を有することから、製造段階から製品段階(実施用段階)での膜割れを防止することができ、得られる光学干渉膜の耐候性を向上することができる点で優れている。なお、光反応性高分子化合物のみ(100質量%)の場合には、架橋により膜が硬くなりすぎ、脆くなり膜割れなどを生じる。また光反応性高分子化合物のみの場合には、重合度が高く、粘度も高いため、塗布し難く、塗布層の表面が凹凸になり、光が散乱する(反射率が低下する)。こうした観点からも、上記したようにバインダとして機能する第1ないし第2の水溶性高分子を必須成分として(好ましくは上記含有量にて)併用することで、優れた光学反射特性を保持した上で、光学干渉膜の耐候性、耐水性を向上してなる光学反射フィルムを提供できるものである。
(Mixing ratio between photoreactive polymer compound and first or second water-soluble polymer)
In the present invention, the first or second water-soluble polymer (the coating solution for the low refractive index layer or the coating solution for the high refractive index layer (coating solution) used for forming the low refractive index layer or the high refractive index layer (the second water soluble polymer). A photoreactive polymer compound is used instead of at least a part of the water-soluble polymer. Specifically, the content of the photoreactive polymer compound in the coating solution is 5 to 80% by mass, preferably 10 to 80% by mass, based on the total amount of the photoreactive polymer compound and the water-soluble polymer. More preferably, it is 20-70 mass%, More preferably, it is the range of 30-60 mass%. If the content of the photoreactive polymer compound is 5% by mass or more, crosslinking between the side chains is sufficiently achieved by irradiation with active energy rays, and the weather resistance and water resistance of the resulting optical interference film are improved. It is excellent in that it can. If the content of the photoreactive polymer compound is 80% by mass or less, the crosslinking is not excessively strong, and the resulting high refractive index layer and low refractive index layer are not too hard and brittle. Since it has strength, it is excellent in that it can prevent film cracking from the production stage to the product stage (practical stage) and can improve the weather resistance of the resulting optical interference film. In the case of only the photoreactive polymer compound (100% by mass), the film becomes too hard due to crosslinking and becomes brittle and causes film cracking. Further, in the case of only the photoreactive polymer compound, since the degree of polymerization is high and the viscosity is high, it is difficult to apply, the surface of the application layer becomes uneven, and light is scattered (reflectance decreases). From such a viewpoint, as described above, the first or second water-soluble polymer functioning as a binder is used as an essential component (preferably at the above-mentioned content) to maintain excellent optical reflection characteristics. Thus, an optical reflection film having improved weather resistance and water resistance of the optical interference film can be provided.

本発明の活性エネルギー線架橋型の樹脂である光反応性高分子化合物においては、元々ある程度の重合度をもった主鎖に対して側鎖間で架橋結合を介して架橋をするため、一般的な連鎖反応を介して重合する活性エネルギー線架橋型の樹脂に対して光子一つ当たりの分子量増加効果が著しく大きい。一方、従来公知の活性エネルギー線硬化型の樹脂においては架橋点の数は制御不可能であるため硬化後の膜の物性をコントロールすることができず、硬くてもろい光学干渉膜となりやすい。   In the photoreactive polymer compound that is an active energy ray cross-linking resin of the present invention, the main chain having a certain degree of polymerization is cross-linked through a cross-linking bond between side chains. The effect of increasing the molecular weight per photon is remarkably large with respect to the active energy ray-crosslinked resin that polymerizes through a simple chain reaction. On the other hand, in the conventionally known active energy ray curable resins, the number of crosslinking points is not controllable, so the physical properties of the cured film cannot be controlled, and it tends to be a hard and brittle optical interference film.

本発明に用いられる活性エネルギー線架橋型の樹脂である光反応性高分子化合物においては、架橋点の数は親水性主鎖の長さと、側鎖の導入量で完全に制御でき、目的に応じた光学干渉膜の物性制御が可能である。   In the photoreactive polymer compound, which is an active energy ray cross-linking resin used in the present invention, the number of cross-linking points can be completely controlled by the length of the hydrophilic main chain and the amount of side chains introduced, depending on the purpose. The physical properties of the optical interference film can be controlled.

さらに、従来公知の活性エネルギー線硬化型の樹脂を含む塗布液が、第1ないし第2の金属酸化物粒子以外のほぼ全量が硬化性の成分であり、そのため硬化後の層が硬くなりすぎて脆くなり、十分な膜強度を有する光学反射膜が得られにくいことに対し、本発明に用いられる活性エネルギー線架橋型の樹脂である光反応性高分子化合物においては、必要量が少量ですみ、乾燥成分が多いため乾燥、架橋後の膜強度の向上が図られ、かつ密着性も良い。   Furthermore, the coating liquid containing the conventionally known active energy ray-curable resin is almost entirely curable components other than the first and second metal oxide particles, and therefore the layer after curing becomes too hard. The photoreactive polymer compound, which is an active energy ray cross-linking resin used in the present invention, is required in a small amount, whereas it becomes brittle and it is difficult to obtain an optical reflecting film having sufficient film strength. Since there are many dry components, the film strength after drying and crosslinking can be improved, and the adhesion is good.

(光重合開始剤、増感剤)
本発明においては、光反応性高分子化合物を加える塗布液(屈折率層)に、光重合開始剤や増感剤を添加するのも好ましい。これらの化合物は溶媒に溶解、または分散した状態か、もしくは感光性樹脂に対して化学的に結合されていてもよい。
(Photopolymerization initiator, sensitizer)
In the present invention, it is also preferable to add a photopolymerization initiator or a sensitizer to the coating liquid (refractive index layer) to which the photoreactive polymer compound is added. These compounds may be dissolved or dispersed in a solvent, or may be chemically bonded to the photosensitive resin.

適用される光重合開始剤、光増感剤について特に制限はなく、従来公知のものを用いることができる。   There is no restriction | limiting in particular about the photoinitiator and photosensitizer which are applied, A conventionally well-known thing can be used.

適用される光重合開始剤、光増感剤について特に制限はないが、水溶性のものが混合性、反応効率の観点から好ましい。特に4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン(HMPK)、チオキサントンアンモニウム塩(QTX)、ベンゾフェノンアンモニウム塩(ABQ)が水系溶媒への混合性という観点で好ましい。   Although there is no restriction | limiting in particular about the photoinitiator and photosensitizer which are applied, A water-soluble thing is preferable from a viewpoint of mixing property and reaction efficiency. In particular, 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl- (2-hydroxy-2-propyl) ketone (HMPK), thioxanthone ammonium salt (QTX), and benzophenone ammonium salt (ABQ) are preferable from the viewpoint of miscibility with an aqueous solvent.

さらに、活性エネルギー線架橋型の樹脂である光反応性高分子化合物との相溶性の観点から下記一般式(9)で表される4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン(n=1、HMPK)や、そのエチレンオキシド付加物(n=2〜5)がより好ましい。   Furthermore, 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl- (2-hydroxy-2) represented by the following general formula (9) from the viewpoint of compatibility with the photoreactive polymer compound which is an active energy ray cross-linking resin. -Propyl) ketone (n = 1, HMPK) and its ethylene oxide adduct (n = 2 to 5) are more preferable.

式中、nは1〜5の整数を表す。   In the formula, n represents an integer of 1 to 5.

また、他には一例としベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ビス−N,N−ジメチルアミノベンゾフェノン、ビス−N,N−ジエチルアミノベンゾフェノン、4−メトキシ−4’−ジメチルアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン類。チオキサトン、2,4−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、クロロチオキサントン、イソプロポキシクロロチオキサントン等のチオキサントン類。エチルアントラキノン、ベンズアントラキノン、アミノアントラキノン、クロロアントラキノン等のアントラキノン類。アセトフェノン類。ベンゾインメチルエーテル等のベンゾインエーテル類。2,4,6−トリハロメチルトリアジン類、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール2量体、2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジ(m−メトキシフェニル)イミダゾール2量体、2−(o−フルオロフェニル)−4,5−フェニルイミダゾール2量体、2−(o−メトキシフェニル)−4,5−フェニルイミダゾール2量体、2−(p−メトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール2量体、2,4−ジ(p−メトキシフェニル)−5−フェニルイミダゾール2量体、2−(2,4−ジメトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール2量体等の2,4,5−トリアリールイミダゾール2量体、ベンジルジメチルケタール、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)ブタン−1−オン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノ−1−プロパノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、フェナントレンキノン、9,10−フェナンスレンキノン、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン等ベンゾイン類、9−フェニルアクリジン、1,7−ビス(9,9’−アクリジニル)へプタン等のアクリジン誘導体、ビスアシルフォスフィンオキサイド、及びこれらの混合物等が好ましく用いられ、上記は単独で使用しても混合して使用してもかまわない。   Other examples include benzophenones such as benzophenone, hydroxybenzophenone, bis-N, N-dimethylaminobenzophenone, bis-N, N-diethylaminobenzophenone, 4-methoxy-4'-dimethylaminobenzophenone. Thioxanthones such as thioxatone, 2,4-diethylthioxanthone, isopropylthioxanthone, chlorothioxanthone, and isopropoxychlorothioxanthone. Anthraquinones such as ethyl anthraquinone, benzanthraquinone, aminoanthraquinone and chloroanthraquinone. Acetophenones. Benzoin ethers such as benzoin methyl ether. 2,4,6-trihalomethyltriazines, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2- (o-chlorophenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, 2- (o-chlorophenyl) -4,5-di ( m-methoxyphenyl) imidazole dimer, 2- (o-fluorophenyl) -4,5-phenylimidazole dimer, 2- (o-methoxyphenyl) -4,5-phenylimidazole dimer, 2- (P-methoxyphenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, 2,4-di (p-methoxyphenyl) -5-phenylimidazole dimer, 2- (2,4-dimethoxyphenyl) -4, 2,4,5-triarylimidazole dimer such as 5-diphenylimidazole dimer, benzyldimethyl ketal, 2-benzyl-2-di Tylamino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-1-propanone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl -Propan-1-one, 1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, phenanthrenequinone, 9,10-phenanthrenequinone, Benzoins such as methylbenzoin and ethylbenzoin, 9-phenylacridine, acridine derivatives such as 1,7-bis (9,9′-acridinyl) heptane, bisacylphosphine oxide, and mixtures thereof are preferably used. The above may be used alone or in combination.

これらの光重合開始剤に加え、促進剤等を添加することもできる。これらの例として、p−ジメチルアミノ安息香酸エチル、p−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等があげられる。   In addition to these photopolymerization initiators, accelerators and the like can also be added. Examples of these include ethyl p-dimethylaminobenzoate, isoamyl p-dimethylaminobenzoate, ethanolamine, diethanolamine, triethanolamine and the like.

これらの光重合開始剤は親水性主鎖に対して、側鎖にグラフト化されていても好ましい。   Even if these photoinitiators are grafted to the side chain with respect to the hydrophilic main chain.

(活性エネルギー線、照射方法)
本発明でいう活性エネルギー線とは、例えば電子線、紫外線、α線、β線、γ線、エックス線等が挙げられるが、人体への危険性や、取り扱いが容易で、工業的にもその利用が普及している電子線や紫外線が好ましい。
(Active energy rays, irradiation method)
Examples of the active energy ray in the present invention include electron beam, ultraviolet ray, α ray, β ray, γ ray, X ray, etc., but it is dangerous to human body, easy to handle, and industrially uses it. Electron beams and ultraviolet rays are widely used.

電子線を用いる場合には、照射する電子線の量は0.1〜30Mradの範囲が望ましい。0.1Mrad以上であれば、十分な照射効果が得られる点で優れている。30Mrad以下であれば、基材等の光学反射フィルムの構成材料を劣化させることなく、活性エネルギー線架橋性高分子化合物の側鎖間で十分な架橋結合を行うことができる点で優れている。   When using an electron beam, the amount of the electron beam to be irradiated is preferably in the range of 0.1 to 30 Mrad. If it is 0.1 Mrad or more, it is excellent at the point from which sufficient irradiation effect is acquired. If it is 30 Mrad or less, it is excellent in that sufficient cross-linking can be performed between the side chains of the active energy ray-crosslinkable polymer compound without deteriorating the constituent materials of the optical reflection film such as the base material.

紫外線を用いる場合は、光源として、例えば、0.1kPaから1MPaまでの動作圧力を有する低圧、中圧、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプや紫外域の発光波長を持つキセノンランプ、冷陰極管、熱陰極管、LED等従来公知の物が用いられる。   When ultraviolet rays are used, the light source is, for example, a low pressure, medium pressure, high pressure mercury lamp, metal halide lamp, xenon lamp having a light emission wavelength in the ultraviolet region, cold cathode tube, hot cathode having an operating pressure of 0.1 kPa to 1 MPa. A conventionally well-known thing, such as a pipe | tube and LED, is used.

(光反応性高分子化合物を含む塗布層(屈折率層)への光照射条件)
活性光線(活性エネルギー線)の照射条件として、光反応性高分子化合物を含む塗布液を塗布(乾燥)後の塗布層(更には当該塗布層の上に、更に他の活性エネルギー線で架橋、硬化される層、例えば、赤外吸収ナノ粒子層の塗布液を塗布(乾燥)後の塗布層全体、あるいは当該塗布層と基材をはさんで反対側に赤外吸収ナノ粒子層の塗布液を塗布後)に、0.001〜1.0秒の間に活性光線が照射されることが好ましく、より好ましくは0.001〜0.5秒である。耐候性、耐水性、ヘイズ、耐傷性、密着性に優れる光学反射フィルムを形成するためには、照射タイミングができるだけ早いことが特に重要となる。
(Light irradiation conditions for coating layer (refractive index layer) containing photoreactive polymer compound)
As an irradiation condition of actinic rays (active energy rays), a coating layer containing a photoreactive polymer compound is applied (dried) after coating (and further on the coating layer, further crosslinked with other active energy rays, The layer to be cured, for example, the entire coating layer after applying (drying) the coating solution of the infrared absorbing nanoparticle layer, or the coating solution of the infrared absorbing nanoparticle layer on the opposite side across the coating layer and the substrate After application, the active light is preferably irradiated for 0.001 to 1.0 seconds, more preferably 0.001 to 0.5 seconds. In order to form an optical reflective film excellent in weather resistance, water resistance, haze, scratch resistance, and adhesion, it is particularly important that the irradiation timing is as early as possible.

(ランプの設置)
活性光線(活性エネルギー線)の照射方法として、その基本的な方法が特開昭60−132767号公報に開示されている。これによると、ヘッドユニットの両側に光源を設け、シャトル方式でヘッドと光源を走査する。照射は、光反応性高分子化合物を含む塗布液を塗布(乾燥)後の塗布層(更には当該塗布層の上に、更に他の活性光線で架橋、硬化される層、例えば、赤外吸収ナノ粒子層の塗布液を塗布(乾燥)後の塗布層全体あるいは当該塗布層と基材をはさんで反対側に赤外吸収ナノ粒子層の塗布液を塗布後)に、一定時間を置いて行われることになる。更に、駆動を伴わない別光源によって架橋結合(硬化)を完了させる。米国特許第6,145,979号明細書では、照射方法として、光ファイバーを用いた方法や、コリメー卜された光源をヘッドユニット側面に設けた鏡面に当て、上記塗布層へUV(紫外線)光を照射する方法が開示されている。本発明の光学反射フィルムの塗布層(屈折率層の形成)においては、これらの何れの照射方法も用いることができる。
(Installation of lamp)
As a method for irradiating actinic rays (active energy rays), a basic method is disclosed in JP-A-60-132767. According to this, the light source is provided on both sides of the head unit, and the head and the light source are scanned by the shuttle method. Irradiation is a coating layer after coating (drying) a coating solution containing a photoreactive polymer compound (further, a layer that is further crosslinked and cured with actinic rays on the coating layer, for example, infrared absorption. After applying (drying) the coating solution for the nanoparticle layer, or after applying the infrared absorbing nanoparticle layer coating solution on the opposite side across the coating layer and the substrate, leave a certain amount of time. Will be done. Further, the cross-linking (curing) is completed by another light source that is not driven. In US Pat. No. 6,145,979, as an irradiation method, a method using an optical fiber or a collimated light source is applied to a mirror surface provided on the side of the head unit, and UV (ultraviolet) light is applied to the coating layer. A method of irradiating is disclosed. Any of these irradiation methods can be used in the coating layer (formation of the refractive index layer) of the optical reflective film of the present invention.

また、活性光線(活性エネルギー線)の照射を2段階に分け、光反応性高分子化合物を含む塗布液を塗布(乾燥)後の塗布層(更には当該塗布層の上に、更に他の活性光線で架橋、硬化される層、例えば、赤外吸収ナノ粒子層の塗布液を塗布(乾燥)後の塗布層全体あるいは当該塗布層と基材をはさんで反対側に赤外吸収ナノ粒子層の塗布液を塗布後)に、0.001〜2.0秒の間に前述の方法で活性光線を照射し、更に活性光線を照射する方法も好ましい態様の1つである。活性光線の照射を2段階に分けることで、光反応性高分子化合物の側鎖間で架橋結合させる際に起こる、光学反射フィルムの構成材料(基材等)の収縮をより一層抑えることが可能となる。   In addition, irradiation with actinic rays (active energy rays) is divided into two stages, and a coating solution containing a photoreactive polymer compound is applied (dried) after coating (and further on the coating layer) A layer that is crosslinked and cured by light, for example, an infrared absorbing nanoparticle layer on the opposite side of the entire coating layer after application (drying) of the infrared absorbing nanoparticle layer or between the coating layer and the substrate A method of irradiating actinic rays with the above-mentioned method for 0.001 to 2.0 seconds and then irradiating actinic rays is also a preferred embodiment. By dividing the irradiation of actinic rays into two stages, it is possible to further suppress the shrinkage of the constituent materials (base materials, etc.) of the optical reflection film that occurs when the photoreactive polymer compound is cross-linked between the side chains. It becomes.

〈光架橋型高分子化合物〉
本発明では、高屈折率層ないし低屈折率層の少なくとも1層(好ましくは全層)に、上記光反応性高分子化合物に上記照射条件等により活性エネルギー線を照射して得られる、側鎖間で架橋結合された光架橋型高分子化合物をバインダとして含有することを特徴とするものである。即ち、バインダとして機能する第1ないし第2の水溶性高分子と共に、光架橋型高分子化合物をバインダとして併用するものである。ここで、光架橋型高分子化合物をバインダとして含有する層は、屈折率層(高屈折率層ないし低屈折率層)の少なくとも1層であればよいが、好ましくは半数以上の層、より好ましくは全層である。光架橋型高分子化合物をバインダとして含有する層を、屈折率層の半数以上の層、より好ましくは全層とすることにより、本発明の効果である、光学反射特性及び光学干渉膜の耐候性、耐水性の向上効果がより大きい点で優れている。また光架橋型高分子化合物をバインダとして含有する層を、隣接する層に用いる場合には、隣接する層間でも密着性が向上する点で優れている。また、光架橋型高分子化合物をバインダとして含有する層を屈折率層の全層ないし中間層に用いる場合には、上記した効果に加え、屈折率層(光学干渉膜)の耐候性、耐水性およびヘイズ(透明性)の向上(改善)効果に優れている。また光架橋型高分子化合物をバインダとして含有する層を屈折率層の最上層(最表層)に用いる場合には、上記した効果に加え、光学干渉膜表面の膜強度の向上により、耐傷性の向上(改善)効果に優れている。また光架橋型高分子化合物をバインダとして含有する層を屈折率層の最下層(基材側)に用いる場合には、上記した効果に加え、基材や下引層との密着性、耐水性の向上(改善)効果に優れている。また、光架橋型高分子化合物をバインダとして含有する層が最上層でなおかつハードコート(HC)層と組み合わせた構成とする場合には、最上層とHC層との密着性、及びフィルム強度が向上する点で優れている。
<Photo-crosslinking polymer compound>
In the present invention, at least one layer (preferably all layers) of a high refractive index layer or a low refractive index layer is obtained by irradiating the photoreactive polymer compound with active energy rays according to the above irradiation conditions or the like. It contains a photocrosslinking polymer compound crosslinked between them as a binder. That is, together with the first and second water-soluble polymers that function as a binder, a photocrosslinking polymer compound is used in combination as a binder. Here, the layer containing the photocrosslinkable polymer compound as a binder may be at least one layer of a refractive index layer (a high refractive index layer or a low refractive index layer), preferably a half or more layers, more preferably Is all layers. By making the layer containing the photocrosslinkable polymer compound as a binder more than half of the refractive index layer, more preferably all layers, the optical reflection characteristics and the weather resistance of the optical interference film are the effects of the present invention. The water resistance improvement effect is superior in that it is greater. Further, when a layer containing a photocrosslinkable polymer compound as a binder is used in an adjacent layer, it is excellent in that adhesion is improved even between adjacent layers. In addition, in the case where a layer containing a photocrosslinkable polymer compound as a binder is used for all or intermediate layers of the refractive index layer, in addition to the above effects, the weather resistance and water resistance of the refractive index layer (optical interference film) In addition, the haze (transparency) is improved (improved). When a layer containing a photocrosslinking polymer compound as a binder is used as the uppermost layer (outermost layer) of the refractive index layer, in addition to the effects described above, the film strength on the surface of the optical interference film is improved, thereby improving the scratch resistance. Excellent improvement (improvement) effect. In addition, when using a layer containing a photocrosslinkable polymer compound as a binder for the lowermost layer (base material side) of the refractive index layer, in addition to the above effects, adhesion to the base material and undercoat layer, water resistance Excellent improvement (improvement) effect. In addition, when the layer containing the photocrosslinking polymer compound as the binder is the top layer and combined with the hard coat (HC) layer, the adhesion between the top layer and the HC layer and the film strength are improved. Is excellent in terms of

上記光架橋型高分子化合物の含有量は、屈折率層(高屈折率層ないし低屈折率層)全量に対し、0.25〜40質量%の範囲が好ましく、0.5〜32質量%の範囲がより好ましい。光架橋型高分子化合物の含有量が0.25質量%以上であれば、側鎖間で架橋結合が十分になされた光架橋型高分子化合物の形成が可能である為、光学干渉膜の耐候性、耐水性を向上することができる。更に、ハードコート(HC)層の光架橋時を利用して、屈折率層の光反応性高分子化合物も同時に架橋させて光架橋型高分子化合物を形成することができ、更に基材や下引層との密着性を向上させることができる点で優れている。一方、光架橋型高分子化合物の含有量が40質量%以下であれば、相対的な金属酸化物の含有量が適切となり、高屈折率層と低屈折率層の屈折率差を大きくすることが容易になる。   The content of the photocrosslinkable polymer compound is preferably in the range of 0.25 to 40% by mass, and preferably 0.5 to 32% by mass with respect to the total amount of the refractive index layer (high refractive index layer or low refractive index layer). A range is more preferred. If the content of the photocrosslinkable polymer compound is 0.25% by mass or more, it is possible to form a photocrosslinkable polymer compound in which the crosslinks are sufficiently formed between the side chains. And water resistance can be improved. Furthermore, using the photocrosslinking of the hard coat (HC) layer, the photoreactive polymer compound of the refractive index layer can be simultaneously crosslinked to form a photocrosslinkable polymer compound. It is excellent in that the adhesion with the pulling layer can be improved. On the other hand, if the content of the photocrosslinkable polymer compound is 40% by mass or less, the relative metal oxide content becomes appropriate, and the refractive index difference between the high refractive index layer and the low refractive index layer is increased. Becomes easier.

(光架橋型高分子化合物と第1ないし第2の水溶性高分子との混合比)
本発明では、低屈折率層ないし高屈折率層の構成材料である、バインダとして機能する第1ないし第2の水溶性高分子(水溶性高分子)と共に、光架橋型高分子化合物をバインダとして併用するものである。詳しくは、光架橋型高分子化合物の含有量は、バインダ(光架橋型高分子化合物と第1ないし第2の水溶性高分子)全量に対して、5〜80質量%、好ましくは10〜80質量%、より好ましくは20〜70質量%、さらに好ましくは30〜60質量%の範囲である。光架橋型高分子化合物の含有量が5質量%以上であれば、側鎖間で架橋結合が十分になされた光架橋型高分子化合物の形成が可能である為、光学干渉膜の耐候性、耐水性を向上することができる点で優れている。光反応性高分子化合物の含有量が80質量%以下であれば架橋が強くなりすぎることもなく、得られる屈折率層が硬くなりすぎて脆くなることもなく十分な膜強度を有することから、製造段階から製品段階(実施用段階)での膜割れを防止することができ、得られる光学干渉膜の耐候性を向上することができる点で優れている。
(Mixing ratio between photocrosslinkable polymer compound and first or second water-soluble polymer)
In the present invention, the first and second water-soluble polymers (water-soluble polymers) functioning as a binder, which are constituent materials of the low refractive index layer or the high refractive index layer, are used as a binder. It is used together. Specifically, the content of the photocrosslinkable polymer compound is 5 to 80% by mass, preferably 10 to 80%, based on the total amount of the binder (the photocrosslinkable polymer compound and the first or second water-soluble polymer). It is in the range of mass%, more preferably 20 to 70 mass%, and still more preferably 30 to 60 mass%. If the content of the photocrosslinkable polymer compound is 5% by mass or more, it is possible to form a photocrosslinkable polymer compound in which the crosslinks are sufficiently formed between the side chains. It is excellent in that the water resistance can be improved. If the content of the photoreactive polymer compound is 80% by mass or less, the crosslinking does not become too strong, and the obtained refractive index layer has sufficient film strength without becoming too hard and brittle. It is excellent in that the film cracking from the production stage to the product stage (practical stage) can be prevented, and the weather resistance of the obtained optical interference film can be improved.

<基材>
本発明に係る光学反射フィルムの支持体である基材の厚みは、5〜200μmであることが好ましく、より好ましくは15〜150μmである。また、本発明に係る基材は、2枚を重ねたものであっても良く、この場合、その種類が同じでも異なってもよい。
<Base material>
The thickness of the substrate that is the support of the optical reflection film according to the present invention is preferably 5 to 200 μm, more preferably 15 to 150 μm. Moreover, the base material which concerns on this invention may be what piled up two sheets, and the kind may be the same or different in this case.

本発明の光学反射フィルムに適用する基材としては、透明であれば特に制限されることはなく、種々の樹脂フィルムを用いることができ、ポリオレフィンフィルム(ポリエチレン、ポリプロピレン等)、ポリエステルフィルム(ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等)、ポリ塩化ビニル、3酢酸セルロース等を用いることができ、好ましくはポリエステルフィルムである。ポリエステルフィルム(以降ポリエステルと称す)としては、特に限定されるものではないが、ジカルボン酸成分とジオール成分を主要な構成成分とするフィルム形成性を有するポリエステルであることが好ましい。主要な構成成分のジカルボン酸成分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、2,7−ナフタレンジカルボン酸、ジフェニルスルホンジカルボン酸、ジフェニルエーテルジカルボン酸、ジフェニルエタンジカルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、ジフェニルジカルボン酸、ジフェニルチオエーテルジカルボン酸、ジフェニルケトンジカルボン酸、フェニルインダンジカルボン酸などを挙げることができる。また、ジオール成分としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、テトラメチレングリコール、シクロヘキサンジメタノール、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシエトキシフェニル)プロパン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン、ビスフェノールフルオレンジヒドロキシエチルエーテル、ジエチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ハイドロキノン、シクロヘキサンジオールなどを挙げることができる。これらを主要な構成成分とするポリエステルの中でも透明性、機械的強度、寸法安定性などの点から、ジカルボン酸成分として、テレフタル酸や2,6−ナフタレンジカルボン酸、ジオール成分として、エチレングリコールや1,4−シクロヘキサンジメタノールを主要な構成成分とするポリエステルが好ましい。中でも、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートを主要な構成成分とするポリエステルや、テレフタル酸と2,6−ナフタレンジカルボン酸とエチレングリコールからなる共重合ポリエステル、およびこれらのポリエステルの二種以上の混合物を主要な構成成分とするポリエステルが好ましい。   The substrate applied to the optical reflective film of the present invention is not particularly limited as long as it is transparent, and various resin films can be used. Polyolefin films (polyethylene, polypropylene, etc.), polyester films (polyethylene terephthalate) , Polyethylene naphthalate, etc.), polyvinyl chloride, cellulose acetate, and the like, and a polyester film is preferable. Although it does not specifically limit as a polyester film (henceforth polyester), It is preferable that it is polyester which has the film formation property which has a dicarboxylic acid component and a diol component as main structural components. The main constituent dicarboxylic acid components include terephthalic acid, isophthalic acid, phthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 2,7-naphthalenedicarboxylic acid, diphenylsulfone dicarboxylic acid, diphenyl ether dicarboxylic acid, diphenylethanedicarboxylic acid, Examples thereof include cyclohexane dicarboxylic acid, diphenyl dicarboxylic acid, diphenyl thioether dicarboxylic acid, diphenyl ketone dicarboxylic acid, and phenylindane dicarboxylic acid. Examples of the diol component include ethylene glycol, propylene glycol, tetramethylene glycol, cyclohexanedimethanol, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxyethoxyphenyl) propane, bis ( 4-Hydroxyphenyl) sulfone, bisphenol fluorene hydroxyethyl ether, diethylene glycol, neopentyl glycol, hydroquinone, cyclohexanediol and the like. Among the polyesters having these as main constituent components, from the viewpoint of transparency, mechanical strength, dimensional stability, etc., dicarboxylic acid components such as terephthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, diol components such as ethylene glycol and 1 Polyester having 1,4-cyclohexanedimethanol as the main constituent is preferred. Among these, polyesters mainly composed of polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, copolymerized polyesters composed of terephthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid and ethylene glycol, and mixtures of two or more of these polyesters are mainly used. Polyester as a constituent component is preferable.

また、基材は、JIS R3106−1998で示される可視光領域の透過率としては85%以上であることが好ましく、特に90%以上であることが好ましい。基材が上記透過率以上であることにより、光学反射フィルム(特に近赤外遮蔽フィルム)としたときのJIS R3106−1998で示される可視光領域の透過率を50%以上にするという点で有利であり、好ましい。   The substrate preferably has a visible light transmittance of 85% or more as shown in JIS R3106-1998, particularly preferably 90% or more. It is advantageous in that the transmittance of the visible light region shown in JIS R3106-1998 is 50% or more when an optical reflection film (particularly a near-infrared shielding film) is used because the base material has the above transmittance or more. It is preferable.

また、上記樹脂等を用いた基材は、未延伸フィルムでもよく、延伸フィルムでもよい。強度向上、熱膨張抑制の点から延伸フィルムが好ましい。   In addition, the base material using the resin or the like may be an unstretched film or a stretched film. A stretched film is preferable from the viewpoint of strength improvement and thermal expansion suppression.

基材は、従来公知の一般的な方法により製造することが可能である。例えば、材料となる樹脂を押し出し機により溶融し、環状ダイやTダイにより押し出して急冷することにより、実質的に無定形で配向していない未延伸の基材を製造することができる。また、未延伸の基材を一軸延伸、テンター式逐次二軸延伸、テンター式同時二軸延伸、チューブラー式同時二軸延伸などの公知の方法により、基材の流れ(縦軸)方向、または基材の流れ方向と直角(横軸)方向に延伸することにより延伸基材を製造することができる。この場合の延伸倍率は、基材の原料となる樹脂に合わせて適宜選択することできるが、縦軸方向及び横軸方向にそれぞれ2〜10倍が好ましい。   The substrate can be produced by a conventionally known general method. For example, an unstretched substrate that is substantially amorphous and not oriented can be produced by melting a resin as a material with an extruder, extruding it with an annular die or a T-die, and quenching. In addition, the unstretched base material is subjected to a known method such as uniaxial stretching, tenter-type sequential biaxial stretching, tenter-type simultaneous biaxial stretching, tubular-type simultaneous biaxial stretching, or the flow direction of the base material (vertical axis), or A stretched substrate can be produced by stretching in the direction perpendicular to the flow direction of the substrate (horizontal axis). The draw ratio in this case can be appropriately selected according to the resin as the raw material of the base material, but is preferably 2 to 10 times in each of the vertical axis direction and the horizontal axis direction.

また、基材は、寸法安定性の点で弛緩処理、オフライン熱処理を行ってもよい。弛緩処理は前記ポリエステルフィルムの延伸製膜工程中の熱固定した後、横延伸のテンター内、またはテンターを出た後の巻き取りまでの工程で行われるのが好ましい。弛緩処理は処理温度が80〜200℃で行われることが好ましく、より好ましくは処理温度が100〜180℃である。また長手方向、幅手方向ともに、弛緩率が0.1〜10%の範囲で行われることが好ましく、より好ましくは弛緩率が2〜6%で処理されることである。弛緩処理された基材は、下記のオフライン熱処理を施すことにより耐熱性が向上し、さらに、寸法安定性が良好になる。   In addition, the base material may be subjected to relaxation treatment or off-line heat treatment in terms of dimensional stability. It is preferable that the relaxation treatment is performed in a process from the heat setting in the stretching process of the polyester film to the winding in the transversely stretched tenter or after exiting the tenter. The relaxation treatment is preferably performed at a treatment temperature of 80 to 200 ° C, more preferably a treatment temperature of 100 to 180 ° C. Moreover, it is preferable that the relaxation rate is in the range of 0.1 to 10% in both the longitudinal direction and the width direction, and more preferably, the relaxation rate is 2 to 6%. The relaxed base material is subjected to the following off-line heat treatment to improve heat resistance and to improve dimensional stability.

(下引層)
基材は、製膜過程で片面または両面にインラインで下引層塗布液を塗布することが好ましい。即ち、基材の片面または両面に下引層を形成するのが好ましい(図1、2参照)。本発明においては、製膜工程中での下引塗布をインライン下引という。本発明に有用な下引層塗布液に使用する樹脂としては、ポリエステル樹脂、アクリル変性ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリエチレンイミンビニリデン樹脂、ポリエチレンイミン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、変性ポリビニルアルコール樹脂及びゼラチン等が挙げられ、いずれも好ましく用いることができる。これらの下引層には、従来公知の添加剤を加えることもできる。そして、上記の下引層は、ロールコート、グラビアコート、ナイフコート、ディップコート、スプレーコート等の公知の方法によりコーテイングすることができる。上記の下引層の塗布量としては、0.01〜2g/m(乾燥状態)程度が好ましい。
(Undercoat layer)
It is preferable that the substrate is coated with the undercoat layer coating solution inline on one side or both sides during the film forming process. That is, it is preferable to form an undercoat layer on one side or both sides of the substrate (see FIGS. 1 and 2). In the present invention, undercoating during the film forming process is referred to as in-line undercoating. Examples of resins used in the undercoat layer coating solution useful in the present invention include polyester resins, acrylic-modified polyester resins, polyurethane resins, acrylic resins, vinyl resins, vinylidene chloride resins, polyethyleneimine vinylidene resins, polyethyleneimine resins, and polyvinyl alcohol resins. , Modified polyvinyl alcohol resin, gelatin and the like, and any of them can be preferably used. A conventionally well-known additive can also be added to these undercoat layers. The undercoat layer can be coated by a known method such as roll coating, gravure coating, knife coating, dip coating, or spray coating. The coating amount of the undercoat layer is preferably about 0.01 to 2 g / m 2 (dry state).

(透明なハードコート層:CHC層)
光学反射フィルム1、1’は、光学干渉膜13a、13bや基材11を擦傷から保護する目的で、光学反射フィルムの最表層に、透明なハードコート層(CHC層)16をさらに有することが好ましい(図1、2参照)。
(Transparent hard coat layer: CHC layer)
The optical reflection films 1 and 1 ′ may further include a transparent hard coat layer (CHC layer) 16 on the outermost layer of the optical reflection film for the purpose of protecting the optical interference films 13a and 13b and the substrate 11 from scratches. Preferred (see FIGS. 1 and 2).

CHC層16で使用される硬化樹脂としては、熱硬化性樹脂や活性エネルギー線硬化性樹脂が挙げられるが、成形が容易なことから、活性エネルギー線硬化性樹脂が好ましい。かような硬化性樹脂は、単独でもまたは2種以上組み合わせても用いることができる。また、硬化型樹脂は市販品を用いてもよいし、合成品を用いてもよい。   Examples of the curable resin used in the CHC layer 16 include a thermosetting resin and an active energy ray curable resin, but an active energy ray curable resin is preferable because of easy molding. Such curable resins can be used singly or in combination of two or more. As the curable resin, a commercially available product may be used, or a synthetic product may be used.

活性エネルギー線樹脂とは、紫外線や電子線のような活性エネルギー線照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂をいう。活性エネルギー線硬化樹脂としては、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマーを含む成分が好ましく用いられ、紫外線や電子線のような活性エネルギー線を照射することによって硬化させて活性エネルギー線硬化樹脂層が形成される。活性エネルギー線硬化樹脂としては紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が代表的なものとして挙げられるが、紫外線照射によって硬化する紫外線硬化性樹脂が好ましい。   The active energy ray resin refers to a resin that is cured through a crosslinking reaction or the like by irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays or electron beams. As the active energy ray curable resin, a component containing a monomer having an ethylenically unsaturated double bond is preferably used, and the active energy ray curable resin layer is cured by irradiation with an active energy ray such as an ultraviolet ray or an electron beam. Is formed. Typical examples of the active energy ray curable resin include an ultraviolet curable resin, an electron beam curable resin, and the like, and an ultraviolet curable resin that is cured by ultraviolet irradiation is preferable.

紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化性ウレタンアクリレート系樹脂、紫外線硬化性ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化性エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化性ポリオールアクリレート系樹脂、または紫外線硬化性エポキシ樹脂等が好ましく用いられる。中でも紫外線硬化性アクリレート系樹脂が好ましい。   As the ultraviolet curable resin, for example, an ultraviolet curable urethane acrylate resin, an ultraviolet curable polyester acrylate resin, an ultraviolet curable epoxy acrylate resin, an ultraviolet curable polyol acrylate resin, or an ultraviolet curable epoxy resin is preferable. Used. Of these, ultraviolet curable acrylate resins are preferred.

紫外線硬化性アクリル・ウレタン系樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、またはプレポリマーを反応させて得られた生成物にさらに2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート(以下アクリレートにはメタクリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示する)、2−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることができる。例えば、特開昭59−151110号公報に記載の、ユニディック17−806(大日本インキ(株)製)100部とコロネートL(日本ポリウレタン(株)製)1部との混合物等が好ましく用いられる。   UV curable acrylic / urethane resins generally include 2-hydroxyethyl acrylate and 2-hydroxyethyl methacrylate (hereinafter referred to as acrylate) in products obtained by reacting polyester polyols with isocyanate monomers or prepolymers. Only acrylate is indicated), and it can be easily obtained by reacting an acrylate monomer having a hydroxyl group such as 2-hydroxypropyl acrylate. For example, a mixture of 100 parts Unidic 17-806 (manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd.) and 1 part of Coronate L (manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd.) described in JP-A-59-151110 is preferably used. It is done.

紫外線硬化性ポリエステルアクリレート系樹脂は、一般にポリエステル末端の水酸基やカルボキシル基に2−ヒドロキシエチルアクリレート、グリシジルアクリレート、アクリル酸のようなモノマーを反応させることによって容易に得ることができる(例えば、特開昭59−151112号公報)。   The UV curable polyester acrylate resin can be easily obtained by reacting a monomer such as 2-hydroxyethyl acrylate, glycidyl acrylate or acrylic acid with a hydroxyl group or carboxyl group at the end of the polyester (see, for example, JP-A No. 59-151112).

紫外線硬化性エポキシアクリレート系樹脂は、エポキシ樹脂の末端の水酸基にアクリル酸、アクリル酸クロライド、グリシジルアクリレートのようなモノマーを反応させて得られる。   The ultraviolet curable epoxy acrylate resin is obtained by reacting a terminal hydroxyl group of an epoxy resin with a monomer such as acrylic acid, acrylic acid chloride, or glycidyl acrylate.

紫外線硬化性ポリオールアクリレート系樹脂としては、エチレングリコール(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、グリセリントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることができる。   Examples of ultraviolet curable polyol acrylate resins include ethylene glycol (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, glycerin tri (meth) acrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, and dipenta. Examples include erythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, and alkyl-modified dipentaerythritol pentaacrylate.

さらにまた、これらの樹脂の光増感剤(ラジカル重合開始剤)として、ペンゾイン、べンゾインメチルエーテル、べンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、べンジルメチルケタール等のべンゾインとそのアルキルエーテル類;アセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(商品名イルガキュア184;BASF社)、2−メチル−1[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モリフォリノプロパン−1−オン(商品名イルガキュア907、;BASF社)等のアセトフェノン類;メチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、2−アミルアントラキノン等のアントラキノン類;チオキサントン、2,4―ジエチルチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン類;アセトフェノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタール等のケタール類;ベンゾフェノン、4,4−ビスメチルアミノべンゾフェノン等のベンゾフェノン類およびアゾ化合物等を用いることができる。これらは単独でもまたは2種以上組み合わせても使用することができる。加えて、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン等の第3級アミン;2−ジメチルアミノエチル安息香酸、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル等の安息香酸誘導体等の光開始助剤等と組み合わせて使用することができる。これらラジカル重合開始剤の使用量は、樹脂の重合性成分100質量部に対して好ましくは0.5〜20質量部、より好ましくは1〜15質量部である。   Furthermore, as photosensitizers (radical polymerization initiators) for these resins, benzoins such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzyl methyl ketal and the like Alkyl ethers; acetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (trade name Irgacure 184; BASF), 2-methyl-1 [4- (methylthio) phenyl] -2-mori Acetophenones such as folinopropan-1-one (trade name Irgacure 907; BASF); anthraquinones such as methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone and 2-amylanthraquinone; thioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2, 4-di Thioxanthones such as isopropyl thioxanthone; acetophenone dimethyl ketal, benzil ketals such as dimethyl ketal; can be used benzophenone, 4,4-bis benzophenones such as methylamino benzophenone and azo compounds. These may be used alone or in combination of two or more. In addition, tertiary amines such as triethanolamine and methyldiethanolamine; photoinitiators such as benzoic acid derivatives such as 2-dimethylaminoethylbenzoic acid and ethyl 4-dimethylaminobenzoate may be used in combination. it can. The amount of these radical polymerization initiators used is preferably 0.5 to 20 parts by mass, more preferably 1 to 15 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymerizable component of the resin.

熱硬化性樹脂としては、ポリシロキサンに代表される無機系材料が挙げられる。   Examples of the thermosetting resin include inorganic materials typified by polysiloxane.

ポリシロキサン系ハードコート層(CHC層16)は、一般式RmSi(OR’)nで示されるものが出発原料である。RおよびR’は、炭素数1〜10のアルキル基を表し、mおよびnは、m+n=4の関係を満たす整数である。具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−iso−プロポキシシラン、テトラ−n−ポロポキシシラン、テトラ−n−ブトキシシラン、テトラ−sec−ブトキシシラン、テトラ−tert−ブトキシシラン、テロラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−iso−プロポキシシラン、テトラペンタ−n−プロポキシシラン、テトラペンタ−n−ブトキシシラン、テトラペンタ−sec−ブトキシシラン、テトラペンタ−tert−ブトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等が挙げられる。また、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルメチルジメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、N−β−(N−アミノベンジルアミノエチル)−γ−アミノプロピルメトキシシラン・塩酸塩、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、アミノシラン、メチルメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、ビニルトリス(β−メトキシエトキシ)シラン、オクタデシルジメチル[3−(トリメトキシシリル)プロピル]アンモニウムクロライドを用いることもできる。これらのメトキシ基、エトキシ基等の加水分解性基が水酸基に置換した状態のものが、一般的にポリオルガノシロキサン系ハードコートといわれている。これを基板上に塗布し、加熱硬化させることで、脱水縮合反応が促進し、硬化・架橋することで、ハードコート層(CHC層16)が製膜される。これらのポリオルガノシロキサン系ハードコート中でも、加水分解によって脱離しない有機基がメチル基のものが最も耐候性が高い。また、メチル基であれば、ハードコート製膜後の表面にメチル基が均一且密に分布するため、転落角も低い。そのため、本用途では、メチルポリシロキサンを用いることが好ましい。   The starting material of the polysiloxane hard coat layer (CHC layer 16) is represented by the general formula RmSi (OR ') n. R and R ′ represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and m and n are integers satisfying the relationship of m + n = 4. Specifically, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetra-iso-propoxysilane, tetra-n-polopoxysilane, tetra-n-butoxysilane, tetra-sec-butoxysilane, tetra-tert-butoxysilane, terapentaethoxy Silane, tetrapenta-iso-propoxysilane, tetrapenta-n-propoxysilane, tetrapenta-n-butoxysilane, tetrapenta-sec-butoxysilane, tetrapenta-tert-butoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltributoxy Silane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, dimethylethoxysilane, dimethylmethoxysilane, dimethylpropoxysilane, dimethylbutoxysilane, dimethyl Dimethoxysilane, dimethyl diethoxy silane, hexyl trimethoxy silane and the like. In addition, γ- (2-aminoethyl) aminopropyltrimethoxysilane, γ- (2-aminoethyl) aminopropylmethyldimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, N-β- ( N-aminobenzylaminoethyl) -γ-aminopropylmethoxysilane / hydrochloride, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, aminosilane, methylmethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-chloro Propyltrilimethoxysilane, hexamethyldisilazane, vinyltris (β-methoxyethoxy) silane, and octadecyldimethyl [3- (trimethoxysilyl) propyl] ammonium chloride can also be used. A state in which a hydrolyzable group such as methoxy group or ethoxy group is substituted with a hydroxyl group is generally called a polyorganosiloxane hard coat. By applying this on a substrate and curing by heating, the dehydration condensation reaction is accelerated, and by curing and crosslinking, a hard coat layer (CHC layer 16) is formed. Among these polyorganosiloxane hard coats, those having an organic group that is not eliminated by hydrolysis are methyl groups have the highest weather resistance. Moreover, if it is a methyl group, since the methyl group is uniformly and densely distributed on the surface after the hard coat film formation, the falling angle is also low. Therefore, in this application, it is preferable to use methylpolysiloxane.

ポリシロキサン系ハードコート層(CHC層16)の膜厚として、厚すぎれば、応力によってCHC層16が割れる危険性があり、薄すぎれば硬度が維持できない。そのため、厚さとして、1〜5μmが好ましく、1.5〜3μmであることが好ましい。   If the polysiloxane hard coat layer (CHC layer 16) is too thick, there is a risk that the CHC layer 16 will break due to stress, and if it is too thin, the hardness cannot be maintained. Therefore, 1-5 micrometers is preferable as thickness, and it is preferable that it is 1.5-3 micrometers.

ポリオルガノシロキサン系ハードコート層(CHC層16)として具体的には、サーコートシリーズ(動研製)、SR2441(東レ・ダウコーニング社)、KF−86(信越シリコン社)、Perma‐New(登録商標)6000(California Hardcoating Company)等を利用することができる。   Specific examples of the polyorganosiloxane-based hard coat layer (CHC layer 16) include Surcoat series (manufactured by Doken), SR2441 (Toray Dow Corning), KF-86 (Shin-Etsu Silicone), Perma-New (registered trademark). 6000 (California Hardcoating Company) or the like can be used.

硬化樹脂のCHC層16中の配合量は、CHC層16の合計100質量%(固形分換算)に対して、20〜70質量%であることが好ましく、30〜50質量%であることがより好ましい。   The blending amount of the cured resin in the CHC layer 16 is preferably 20 to 70% by mass and more preferably 30 to 50% by mass with respect to a total of 100% by mass (in terms of solid content) of the CHC layer 16. preferable.

CHC層16の厚みは0.1〜20μmが好ましく、1〜15μmがより好ましく、3〜10μmであることがより好ましい。0.1μm以上であればハードコート性が向上する傾向にあり、20μm以上であればCHC層16のカールが大きく、耐屈曲性が低下する傾向にある。   The thickness of the CHC layer 16 is preferably 0.1 to 20 μm, more preferably 1 to 15 μm, and more preferably 3 to 10 μm. If it is 0.1 μm or more, the hard coat property tends to be improved, and if it is 20 μm or more, the curl of the CHC layer 16 is large and the bending resistance tends to be lowered.

CHC層16は、硬化樹脂層形成用組成物(塗布液)をワイヤーバーによるコーティング、スピンコーティング、ディップコーティングにより塗布することで作製することができ、蒸着等の乾式製膜法でも作製することができる。また、上記の組成物(塗布液)をダイコーター、グラビアコーター、コンマコーター等の連続塗布装置でも塗布・製膜することは可能である。ポリシロキサン系ハードコートの場合、塗布後、溶剤を乾燥させた後、該ハードコート層の硬化・架橋を促進するため、50℃以上、150℃以下の温度で30分〜数日間の熱処理を必要とする。塗布基材の耐熱性やロールにした時の基材の安定性を考慮して、40℃以上80℃以下で2日間以上処理することが好ましい。活性エネルギー線硬化樹脂の場合、活性エネルギー線の照射波長、照度、光量によってその反応性が変わるため、使用する樹脂によって最適な条件を選択する必要がある。   The CHC layer 16 can be produced by applying a cured resin layer forming composition (coating solution) by wire bar coating, spin coating, or dip coating, and can also be produced by a dry film forming method such as vapor deposition. it can. The composition (coating liquid) can be applied and formed into a film by a continuous coating apparatus such as a die coater, a gravure coater, or a comma coater. In the case of polysiloxane hard coat, after application, after drying the solvent, heat treatment for 30 minutes to several days is required at a temperature of 50 ° C. or more and 150 ° C. or less in order to promote curing / crosslinking of the hard coat layer. And In consideration of the heat resistance of the coated substrate and the stability of the substrate when it is made into a roll, it is preferable to perform the treatment at 40 ° C. or more and 80 ° C. or less for 2 days or more. In the case of an active energy ray curable resin, the reactivity varies depending on the irradiation wavelength, the illuminance, and the light amount of the active energy ray, and therefore it is necessary to select an optimum condition depending on the resin to be used.

硬化樹脂層形成用組成物(塗布液)には溶媒が含まれていてもよく、必要に応じて適宜含有し、希釈されたものであってもよい。塗布液に含有される有機溶媒としては、例えば、炭化水素類(トルエン、キシレン、)、アルコール類(メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン)、エステル類(酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸メチル)、グリコールエーテル類、その他の有機溶媒の中から適宜選択し、またはこれらを混合し利用できる。   The composition for forming the cured resin layer (coating liquid) may contain a solvent, or may be appropriately contained and diluted as necessary. Examples of the organic solvent contained in the coating solution include hydrocarbons (toluene, xylene), alcohols (methanol, ethanol, isopropanol, butanol, cyclohexanol), ketones (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone), It can be appropriately selected from esters (methyl acetate, ethyl acetate, methyl lactate), glycol ethers, and other organic solvents, or a mixture thereof can be used.

CHC層16の下層への密着性が得られない場合、硬化樹脂層を積層する前にアンカー層(プライマー層;図1、2中に図示せず)を形成することができる。アンカー層の膜厚は特に限定されるものではないが、0.1〜10μm程度である。好適な例として、アンカー層を構成する樹脂としては、ポリビニルアセタール樹脂、アクリル樹脂が挙げられる。   When adhesion to the lower layer of the CHC layer 16 is not obtained, an anchor layer (primer layer; not shown in FIGS. 1 and 2) can be formed before laminating the cured resin layer. The thickness of the anchor layer is not particularly limited, but is about 0.1 to 10 μm. Preferable examples of the resin constituting the anchor layer include polyvinyl acetal resin and acrylic resin.

{光学反射フィルムの製造方法}
本発明の光学反射フィルムの製造方法について特に制限はなく、基材上に、高屈折率層と低屈折率層とから構成されるユニットを少なくとも1つ形成する(即ち、高屈折率層と低屈折率層が交互に積層して形成された光学干渉膜を形成する)ことができるのであれば、いかなる方法でも用いられうる。
{Production method of optical reflection film}
There is no restriction | limiting in particular about the manufacturing method of the optical reflection film of this invention, At least 1 unit comprised from a high-refractive-index layer and a low-refractive-index layer is formed on a base material (namely, a high-refractive-index layer and a low refractive index layer). Any method can be used as long as it can form an optical interference film in which refractive index layers are alternately laminated.

本発明の光学反射フィルムの製造方法では、基材上に、高屈折率層と低屈折率層とから構成されるユニットを積層して形成されるが、具体的には高屈折率層と低屈折率層とを同時重層塗布を行い、乾燥して積層体(光学干渉膜)を形成することが好ましい。より詳細には、基材上に、高屈折率層塗布液と、低屈折率層塗布液とを同時重層塗布し、乾燥して、高屈折率層、および低屈折率層を含む光学反射フィルムを形成する方法が好ましい。   In the method for producing an optical reflective film of the present invention, a unit composed of a high refractive index layer and a low refractive index layer is laminated on a base material. It is preferable to form a laminated body (optical interference film) by applying simultaneous multilayer coating to the refractive index layer and drying. More specifically, an optical reflective film comprising a high refractive index layer coating liquid and a low refractive index layer coating liquid simultaneously coated on a base material and dried, and then dried to provide an optical reflective film comprising the high refractive index layer and the low refractive index layer. The method of forming is preferred.

塗布方式としては、例えば、カーテン塗布方法、米国特許第2,761,419号、同第2,761,791号公報に記載のホッパーを使用するスライドビード塗布方法、エクストルージョンコート法等が好ましく用いられる。   As the coating method, for example, a curtain coating method, a slide bead coating method using a hopper described in U.S. Pat. Nos. 2,761,419 and 2,761,791, an extrusion coating method and the like are preferably used. It is done.

高屈折率層塗布液および低屈折率層塗布液を調製するための溶媒は、特に制限されないが、水、有機溶媒、またはその混合溶媒が好ましい。また、有機溶媒の飛散による環境面を考慮すると、水、または水と少量の有機溶媒との混合溶媒がより好ましく、水が特に好ましい。   The solvent for preparing the high refractive index layer coating solution and the low refractive index layer coating solution is not particularly limited, but water, an organic solvent, or a mixed solvent thereof is preferable. In consideration of environmental aspects due to the scattering of the organic solvent, water or a mixed solvent of water and a small amount of an organic solvent is more preferable, and water is particularly preferable.

前記有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、2−プロパノール、1−ブタノールなどのアルコール類、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどのエステル類、ジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルなどのエーテル類、ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドンなどのアミド類、アセトン、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、シクロヘキサノンなどのケトン類などが挙げられる。これら有機溶媒は、単独でもまたは2種以上混合して用いてもよい。環境面、操作の簡便性などから、塗布液の溶媒としては、特に水、または水とメタノール、エタノール、もしくは酢酸エチルとの混合溶媒が好ましく、水がより好ましい。   Examples of the organic solvent include alcohols such as methanol, ethanol, 2-propanol and 1-butanol, esters such as ethyl acetate, butyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol monoethyl ether acetate, diethyl ether, Examples thereof include ethers such as propylene glycol monomethyl ether and ethylene glycol monoethyl ether, amides such as dimethylformamide and N-methylpyrrolidone, and ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, acetylacetone and cyclohexanone. These organic solvents may be used alone or in combination of two or more. From the viewpoint of environment and simplicity of operation, the solvent of the coating solution is preferably water or a mixed solvent of water and methanol, ethanol, or ethyl acetate, and more preferably water.

水と少量の有機溶媒との混合溶媒を用いる際、当該混合溶媒中の水の含有量は、混合溶媒全体を100質量%として、80〜99.9質量%であることが好ましく、90〜99.5質量%であることがより好ましい。ここで、80質量%以上にすることで、溶媒の揮発による体積変動が低減でき、ハンドリングが向上し、また、99.9質量%以下にすることで、液添加時の均質性が増し、安定した液物性を得ることができるからである。   When using a mixed solvent of water and a small amount of an organic solvent, the content of water in the mixed solvent is preferably 80 to 99.9% by mass, based on 100% by mass of the entire mixed solvent, and 90 to 99%. More preferably, it is 5 mass%. Here, by setting it to 80% by mass or more, volume fluctuation due to solvent volatilization can be reduced, handling is improved, and by setting it to 99.9% by mass or less, homogeneity at the time of liquid addition is increased and stable. This is because the obtained liquid properties can be obtained.

高屈折率層塗布液中の第1の水溶性高分子(光反応性高分子化合物は含まず)の濃度は、1〜10質量%であることが好ましい。また、高屈折率層塗布液中の第1の金属酸化物粒子の濃度は、1〜50質量%であることが好ましい。更に、高屈折率層に光架橋型高分子化合物をバインダとして含有する構成の場合には、高屈折率層塗布液中の光反応性高分子化合物の濃度は、0.05〜8質量%であることが好ましい。   The concentration of the first water-soluble polymer (not including the photoreactive polymer compound) in the high refractive index layer coating solution is preferably 1 to 10% by mass. Moreover, it is preferable that the density | concentration of the 1st metal oxide particle in a high refractive index layer coating liquid is 1-50 mass%. Further, when the high refractive index layer contains a photocrosslinking polymer compound as a binder, the concentration of the photoreactive polymer compound in the high refractive index layer coating solution is 0.05 to 8% by mass. Preferably there is.

低屈折率層塗布液中の第2の水溶性高分子(本発明の光反応性高分子化合物は含まず)の濃度は、1〜10質量%であることが好ましい。また、低屈折率層塗布液中の第2の金属酸化物粒子の濃度は、1〜50質量%であることが好ましい。更に、低屈折率層に光架橋型高分子化合物をバインダとして含有する構成の場合には、低屈折率層塗布液中の光反応性高分子化合物の濃度は、0.05〜8質量%であることが好ましい。   The concentration of the second water-soluble polymer (not including the photoreactive polymer compound of the present invention) in the low refractive index layer coating solution is preferably 1 to 10% by mass. Moreover, it is preferable that the density | concentration of the 2nd metal oxide particle in a low refractive index layer coating liquid is 1-50 mass%. Furthermore, when the low refractive index layer contains a photocrosslinking polymer compound as a binder, the concentration of the photoreactive polymer compound in the low refractive index layer coating solution is 0.05 to 8% by mass. Preferably there is.

高屈折率層塗布液および低屈折率層塗布液の調製方法は、特に制限されず、例えば、金属酸化物粒子、水溶性高分子(本発明の光反応性高分子化合物を含む)、および必要に応じて添加されるその他の添加剤を添加し、撹拌混合する方法が挙げられる。この際、各成分の添加順も特に制限されず、撹拌しながら各成分を順次添加し混合してもよいし、撹拌しながら一度に添加し混合してもよい。必要に応じて、さらに溶媒を用いて、適当な粘度に調製される。   The method for preparing the high refractive index layer coating solution and the low refractive index layer coating solution is not particularly limited. For example, metal oxide particles, water-soluble polymer (including the photoreactive polymer compound of the present invention), and necessary There may be mentioned a method in which other additives added according to the above are added and mixed with stirring. At this time, the order of addition of the respective components is not particularly limited, and the respective components may be sequentially added and mixed while stirring, or may be added and mixed at one time while stirring. If necessary, it is further adjusted to an appropriate viscosity using a solvent.

本発明においては、第1の金属酸化物粒子を添加、分散して調製した水系の高屈折率層塗布液を用いて、高屈折率層を形成することが好ましい。このとき、本発明の第1の金属酸化物粒子としては、pHが5.0以上、7.5以下で、かつ粒子のゼータ電位が負であるゾルとして、高屈折率層塗布液に添加して調製することが好ましい。   In the present invention, it is preferable to form the high refractive index layer using an aqueous high refractive index layer coating solution prepared by adding and dispersing the first metal oxide particles. At this time, the first metal oxide particles of the present invention are added to the high refractive index layer coating liquid as a sol having a pH of 5.0 or more and 7.5 or less and a negative zeta potential of the particles. It is preferable to prepare them.

同時重層塗布を行う際の高屈折率層塗布液および低屈折率層塗布液の温度は、スライドビード塗布方式を用いる場合は、25〜60℃の温度範囲が好ましく、30〜45℃の温度範囲がより好ましい。また、カーテン塗布方式を用いる場合は、25〜60℃の温度範囲が好ましく、30〜45℃の温度範囲がより好ましい。   When the slide bead coating method is used, the temperature of the high refractive index layer coating solution and the low refractive index layer coating solution in simultaneous multilayer coating is preferably a temperature range of 25 to 60 ° C, and a temperature range of 30 to 45 ° C. Is more preferable. Moreover, when using a curtain application | coating system, the temperature range of 25-60 degreeC is preferable, and the temperature range of 30-45 degreeC is more preferable.

同時重層塗布を行う際の高屈折率層塗布液および低屈折率層塗布液の粘度は、特に制限されない。しかしながら、スライドビード塗布方式を用いる場合には、上記の塗布液の好ましい温度の範囲において、5〜100mPa.sの範囲であることが好ましく、10〜50mPa.sの範囲であることがより好ましい。また、カーテン塗布方式を用いる場合には、上記の塗布液の好ましい温度の範囲において、5〜1200mPa.sの範囲であることが好ましく、25〜500mPa.sの範囲であることがより好ましい。このような粘度の範囲であれば、効率よく同時重層塗布を行うことができる。   The viscosity of the high refractive index layer coating solution and the low refractive index layer coating solution when performing simultaneous multilayer coating is not particularly limited. However, when the slide bead coating method is used, 5 to 100 mPa.s within the preferable temperature range of the coating solution. in the range of 10 to 50 mPa.s. A range of s is more preferable. Further, when the curtain coating method is used, in the preferable temperature range of the coating liquid, 5 to 1200 mPa.s. in the range of 25 to 500 mPa.s. A range of s is more preferable. If it is the range of such a viscosity, simultaneous multilayer coating can be performed efficiently.

また、塗布液の15℃における粘度としては、100mPa.s以上が好ましく、100〜30,000mPa.sがより好ましく、さらに好ましくは3,000〜30,000mPa.sであり、最も好ましいのは10,000〜30,000mPa.sである。   Moreover, as a viscosity at 15 degreeC of a coating liquid, it is 100 mPa.s. s or more, preferably 100 to 30,000 mPa.s. s is more preferable, and more preferably 3,000 to 30,000 mPa.s. s, and most preferably 10,000 to 30,000 mPa.s. s.

塗布および乾燥方法としては、高屈折率層塗布液および低屈折率層塗布液を30℃以上に加温して、塗布を行った後、形成した塗膜の温度を1〜15℃に一旦冷却し、10℃以上で乾燥することが好ましく、より好ましくは、乾燥条件として、湿球温度5〜50℃、膜面温度10〜50℃の範囲の条件で行うことである。また、塗布直後の冷却方式としては、形成された塗膜均一性の観点から、水平セット方式で行うことが好ましい。   As a coating and drying method, the high refractive index layer coating solution and the low refractive index layer coating solution are heated to 30 ° C. or more and coated, and then the temperature of the formed coating film is temporarily cooled to 1 to 15 ° C. The drying is preferably performed at 10 ° C. or more, and more preferably, the drying conditions are wet bulb temperature 5 to 50 ° C. and film surface temperature 10 to 50 ° C. Moreover, as a cooling method immediately after application | coating, it is preferable to carry out by a horizontal set system from a viewpoint of the formed coating-film uniformity.

本発明において、光学反射体(例えば、近赤外反射体など)に用いられる光学反射フィルム(例えば、近赤外遮蔽フィルムなど)は、上述の各種の機能層を有する際の積層順としては、特に制限されない。   In the present invention, an optical reflection film (for example, a near infrared shielding film) used for an optical reflector (for example, a near infrared reflector) has a stacking order when having the above-described various functional layers. There is no particular limitation.

例えば、窓ガラスの室内側に本発明の光学反射フィルムとして、例えば、近赤外遮蔽フィルムを貼る(内貼り)仕様では、基材表面に、下引層、光学干渉膜、粘着層の順に積層し、さらにこれらの層が積層されている側とは逆の側(反対側)の基材表面に透明なハードコート層(CHC層)を塗設する形態(図2参照)が好ましい一例として挙げられる。また、粘着層、光学干渉膜、下引層、基材、光学干渉膜、ハードコート層(CHC層)を塗設する形態(図1参照)が好ましい一例として挙げられる。また、粘着層、基材、光学干渉膜、ハードコート層(CHC層)の順であってもよく、さらに他の機能層、基材、または赤外吸収剤などを有していてもよい。また、窓ガラスの室外側に本発明の光学反射フィルムとして、例えば、近赤外遮蔽フィルムを貼る(外貼り)仕様で好ましい一例を挙げると、基材表面に下引層、光学干渉膜、粘着層の順に積層し、さらにこれらの層が積層されている側とは逆の側(反対側)の基材表面にハードコート層(CHC層)を塗設する構成である。内貼りの場合と同様に、粘着層、光学干渉膜、下引層、基材、光学干渉膜、ハードコート層(CHC層)を塗設する形態であってもよい。さらに、粘着層、基材、光学干渉膜、ハードコート層(CHC層)の順であってもよく、さらに他の機能層基材、または赤外吸収剤などを有していてもよい。   For example, in the specification of applying a near-infrared shielding film as an optical reflecting film of the present invention on the indoor side of a window glass (internal bonding), an undercoat layer, an optical interference film, and an adhesive layer are laminated in this order on the substrate surface. Further, a preferred example is a mode (see FIG. 2) in which a transparent hard coat layer (CHC layer) is coated on the surface of the substrate opposite to the side where these layers are laminated (opposite side). It is done. Moreover, the form (refer FIG. 1) which coats an adhesion layer, an optical interference film | membrane, an undercoat layer, a base material, an optical interference film | membrane, and a hard-coat layer (CHC layer) is mentioned as a preferable example. Moreover, the order may be an adhesive layer, a base material, an optical interference film, and a hard coat layer (CHC layer), and may further have another functional layer, a base material, or an infrared absorber. Moreover, as an optical reflective film of the present invention on the outdoor side of a window glass, for example, a preferable example is a specification in which a near-infrared shielding film is pasted (outside pasting), an undercoat layer, an optical interference film, an adhesive on the substrate surface It is the structure which laminates | stacks in order of a layer, and coats a hard-coat layer (CHC layer) on the base-material surface on the opposite side (opposite side) to the side where these layers are laminated | stacked. As in the case of the internal bonding, an adhesive layer, an optical interference film, an undercoat layer, a substrate, an optical interference film, and a hard coat layer (CHC layer) may be applied. Furthermore, the order may be an adhesive layer, a substrate, an optical interference film, and a hard coat layer (CHC layer), and may further include another functional layer substrate or an infrared absorber.

{光学反射体}
本発明の光学反射により提供される光学反射フィルムは、幅広い分野に応用することができる。例えば、建物の屋外の窓や自動車窓等長期間太陽光に晒らされる設備(基体)に貼り合せ、近赤外遮蔽(光学反射)効果を付与する近赤外遮蔽フィルム(光学反射フィルム)等の窓貼用フィルム、農業用ビニールハウス用フィルム等として、主として耐候性を高める目的で用いられる。特に、本発明に係る光学反射フィルムが直接または接着剤を介してガラスまたはガラス代替の樹脂などの基体に貼合されている部材に好適である。
{Optical reflector}
The optical reflection film provided by the optical reflection of the present invention can be applied to a wide range of fields. For example, a near-infrared shielding film (optical reflection film) that gives a near-infrared shielding (optical reflection) effect by bonding to equipment (base) that is exposed to sunlight for a long period of time, such as outdoor windows in buildings and automobile windows It is used mainly for the purpose of improving weather resistance, such as a film for window pasting, a film for agricultural greenhouses, and the like. In particular, the optical reflective film according to the present invention is suitable for a member that is bonded to a substrate such as glass or a glass substitute resin directly or via an adhesive.

すなわち、本発明の第2実施形態は、本発明に係る光学反射フィルムを、基体の少なくとも一方の面に設けてなる光学反射体(例えば、近赤外遮蔽体)である。かかる光学反射体では、優れた光学反射特性を保持した上で、耐候性、耐水性を向上してなる光学反射フィルムを用いることで、同様の効果を奏する(即ち、優れた光学反射特性を保持した上で、耐候性、耐水性を向上してなる光学反射体を提供する)ことができる。   That is, 2nd Embodiment of this invention is an optical reflector (for example, near-infrared shielding body) which provides the optical reflection film which concerns on this invention in the at least one surface of a base | substrate. In such an optical reflector, the same effect is obtained by using an optical reflection film having improved weather resistance and water resistance while maintaining excellent optical reflection characteristics (that is, maintaining excellent optical reflection characteristics). In addition, an optical reflector having improved weather resistance and water resistance can be provided).

前記基体の具体的な例としては、例えば、ガラス、ポリカーボネート樹脂、ポリスルホン樹脂、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスルフィド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、ジアリルフタレート樹脂、ポリイミド樹脂、ウレタン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、スチレン樹脂、塩化ビニル樹脂、金属板、セラミック等が挙げられる。樹脂の種類は、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂のいずれでも良く、これらを2種以上組み合わせて用いても良い。本発明で使用されうる基体は、押出成形、カレンダー成形、射出成形、中空成形、圧縮成形等、公知の方法で製造することができる。基体の厚みは特に制限されないが、通常0.lmm〜5cmである。   Specific examples of the substrate include, for example, glass, polycarbonate resin, polysulfone resin, acrylic resin, polyolefin resin, polyether resin, polyester resin, polyamide resin, polysulfide resin, unsaturated polyester resin, epoxy resin, melamine resin, Examples thereof include phenol resin, diallyl phthalate resin, polyimide resin, urethane resin, polyvinyl acetate resin, polyvinyl alcohol resin, styrene resin, vinyl chloride resin, metal plate, ceramic and the like. The type of resin may be any of a thermoplastic resin, a thermosetting resin, and an ionizing radiation curable resin, and two or more of these may be used in combination. The substrate that can be used in the present invention can be produced by a known method such as extrusion molding, calendar molding, injection molding, hollow molding, compression molding and the like. The thickness of the substrate is not particularly limited, but is usually 0. 1 mm to 5 cm.

光学反射フィルムと基体とを貼り合わせる接着層または粘着層(図1、2に示すように、光学反射フィルムの構成部材の接着層または粘着層17としてもよい)は、光学反射フィルムを日光(熱線)入射面側に設置することが好ましい。また、本発明に係る光学反射フィルムを、窓ガラスと基体との間に挟持すると、水分等の周囲のガスから封止でき耐久性に優れるため好ましい。本発明に係る光学反射フィルムを屋外や車の外側(外貼り用)に設置しても環境耐久性があって好ましい。   An adhesive layer or an adhesive layer (which may be used as an adhesive layer or an adhesive layer 17 of a component of the optical reflective film as shown in FIGS. 1 and 2) for bonding the optical reflective film and the substrate to sunlight (heat ray) It is preferable to install on the incident surface side. In addition, it is preferable to sandwich the optical reflection film according to the present invention between a window glass and a substrate because it can be sealed from surrounding gas such as moisture and has excellent durability. Even if the optical reflective film according to the present invention is installed outdoors or outside a car (for external application), it is preferable because of environmental durability.

光学反射フィルムと基体とを貼り合わせる接着層または粘着層に用いられる接着剤としては、光硬化性もしくは熱硬化性の樹脂を主成分とする接着剤を用いることができる。   As the adhesive used for the adhesive layer or the pressure-sensitive adhesive layer that bonds the optical reflective film and the substrate, an adhesive mainly composed of a photocurable or thermosetting resin can be used.

光学反射フィルムと基体とを貼り合わせる接着層または粘着層に用いられる(接着剤または)粘着剤としては、紫外線に対して耐久性を有するものが好ましく、アクリル系粘着剤またはシリコーン系粘着剤が好ましい。更に粘着特性やコストの観点から、アクリル系粘着剤が好ましい。特に剥離強さの制御が容易なことから、アクリル系粘着剤において、溶剤系が好ましい。アクリル溶剤系粘着剤として溶液重合ポリマーを使用する場合、そのモノマーとしては公知のものを使用できる。   As the adhesive (adhesive or adhesive) used for the adhesive layer or adhesive layer for bonding the optical reflective film and the substrate, those having durability against ultraviolet rays are preferable, and acrylic adhesives or silicone adhesives are preferable. . Furthermore, an acrylic adhesive is preferable from the viewpoint of adhesive properties and cost. In particular, a solvent system is preferable in the acrylic pressure-sensitive adhesive because the peel strength can be easily controlled. When a solution polymerization polymer is used as the acrylic solvent-based pressure-sensitive adhesive, known monomers can be used as the monomer.

また、合わせガラスの中間層として用いられるポリビニルブチラール系樹脂、あるいはエチレン−酢酸ビニル共重合体系樹脂を用いてもよい。具体的には可塑性ポリビニルブチラール(積水化学工業株式会社製、三菱モンサント株式会社製等)、エチレン−酢酸ビニル共重合体(デュポン社製、武田薬品工業株式会社製、デュラミン)、変性エチレン−酢酸ビニル共重合体(東ソー株式会社製、メルセンG)等である。なお、接着層には紫外線吸収剤、抗酸化剤、帯電防止剤、熱安定剤、滑剤、充填剤、着色剤、接着調整剤等を適宜添加配合してもよい。   Moreover, you may use the polyvinyl butyral resin used as an intermediate | middle layer of a laminated glass, or ethylene-vinyl acetate copolymer type resin. Specifically, plastic polyvinyl butyral (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd., Mitsubishi Monsanto Co., Ltd.), ethylene-vinyl acetate copolymer (manufactured by DuPont, Takeda Pharmaceutical Co., Ltd., duramin), modified ethylene-vinyl acetate Copolymers (Mersen G manufactured by Tosoh Corporation) and the like. In addition, you may add and mix | blend an ultraviolet absorber, an antioxidant, an antistatic agent, a heat stabilizer, a lubricant, a filler, a coloring agent, an adhesion adjusting agent etc. suitably in a contact bonding layer.

光学反射フィルムまたは光学反射体の太陽光(熱線)等の特定波長領域に対する反射性能として、例えば、断熱性能、日射熱遮へい性能は、一般的にJIS R3209−1998(複層ガラス)、JIS R3106−1998(板ガラス類の透過率・反射率・放射率・日射熱取得率の試験方法)、JIS R3107−1998(板ガラス類の熱抵抗および建築における熱貫流率の算定方法)に準拠した方法により求めることができる。   As the reflection performance of the optical reflection film or optical reflector with respect to a specific wavelength region such as sunlight (heat rays), for example, heat insulation performance and solar heat shielding performance are generally JIS R3209-1998 (multi-layer glass), JIS R3106. Obtained by a method based on 1998 (Testing method for transmittance, reflectance, emissivity, and solar heat gain of sheet glass) and JIS R3107-1998 (Calculation method for thermal resistance of sheet glass and heat transmissivity in buildings) Can do.

日射透過率、日射反射率、放射率、可視光透過率の測定は、(1)波長(300〜2500nm)の分光測光器を用い、各種単板ガラスの分光透過率、分光反射率を測定する。また、波長5.5〜50μmの分光測定器を用いて放射率を測定する。なお、フロート板ガラス、磨き板ガラス、型板ガラス、熱線吸収板ガラスの放射率は既定値を用いる。(2)日射透過率、日射反射率、日射吸収率、修正放射率の算出は、JIS R3106−1998に従い、日射透過率、日射反射率、日射吸収率、垂直放射率を算出する。修正放射率に関しては、JIS R3107−1998に示されている係数を、垂直放射率に乗ずることにより求める。断熱性、日射熱遮へい性の算出は、(1)厚さの測定値、修正放射率を用い、JIS R3209−1998に従って複層ガラスの熱抵抗を算出する。ただし中空層が2mmを超える場合は、JIS R3107−1998に従って中空層の気体熱コンダクタンスを求める。(2)断熱性は、複層ガラスの熱抵抗に熱伝達抵抗を加えて熱貫流抵抗で求める。(3)日射熱遮蔽性は、JIS R3106−1998により日射熱取得率を求め、1から差し引いて算出する。   The solar transmittance, solar reflectance, emissivity, and visible light transmittance are measured by (1) using a spectrophotometer having a wavelength (300 to 2500 nm) to measure the spectral transmittance and spectral reflectance of various single plate glasses. Further, the emissivity is measured using a spectrophotometer having a wavelength of 5.5 to 50 μm. In addition, a predetermined value is used for the emissivity of float plate glass, polished plate glass, mold plate glass, and heat ray absorbing plate glass. (2) The solar transmittance, solar reflectance, solar absorption rate, and modified emissivity are calculated in accordance with JIS R3106-1998 by calculating the solar transmittance, solar reflectance, solar absorption rate, and vertical emissivity. The corrected emissivity is obtained by multiplying the vertical emissivity by the coefficient shown in JIS R3107-1998. The heat insulation and solar heat shielding properties are calculated by (1) calculating the thermal resistance of the multilayer glass according to JIS R3209-1998 using the measured thickness value and the corrected emissivity. However, when the hollow layer exceeds 2 mm, the gas thermal conductance of the hollow layer is determined according to JIS R3107-1998. (2) The heat insulation is obtained by adding a heat transfer resistance to the heat resistance of the double-glazed glass and calculating the heat flow resistance. (3) The solar heat shielding property is calculated by obtaining the solar heat acquisition rate according to JIS R3106-1998 and subtracting it from 1.

以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited thereto.

(可視光透過率および近赤外線透過率の測定)
分光光度計(積分球使用、日立製作所株式会社製、U−4000型)を用い、光学反射フィルム試料1〜14の300nm〜2000nmの領域における透過率を測定した。可視光透過率として、550nmにおける透過率の値を、近赤外線反射率として、1200nmにおける反射率の値をそれぞれ測定した。測定結果を下記の表3に示す。
(Measurement of visible light transmittance and near infrared transmittance)
The transmittance | permeability in the 300 nm-2000 nm area | region of the optical reflection film samples 1-14 was measured using the spectrophotometer (The integrating sphere use, the Hitachi Ltd. make, U-4000 type | mold). The transmittance value at 550 nm was measured as the visible light transmittance, and the reflectance value at 1200 nm was measured as the near infrared reflectance. The measurement results are shown in Table 3 below.

(キセノン耐光性(耐候性)試験)
厚さ3mmの青色ガラスに、光学反射フィルム試料1〜14のそれぞれを粘着剤層を介して貼り付けた。このサンプルを30℃60%RHの条件でキセノンウェザーメーター(スガ試験機社製;太陽光に極めて近似した光を発する)を用いて150W/mの強度のキセノン光に100時間曝露した。そして、曝露後にフィルムに膜割れが発生したかどうかを目視にて確認し、以下の評価基準に従って評価した。評価結果を下記の表3に示す。
(Xenon light resistance (weather resistance) test)
Each of the optical reflection film samples 1 to 14 was attached to blue glass having a thickness of 3 mm via an adhesive layer. This sample was exposed to xenon light having an intensity of 150 W / m 2 for 100 hours using a xenon weather meter (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd .; emitting light very close to sunlight) at 30 ° C. and 60% RH. And it was confirmed visually whether the film had cracked after exposure, and evaluated according to the following evaluation criteria. The evaluation results are shown in Table 3 below.

・耐候性試験による膜割れ(ひび割れ)の評価基準
A:膜割れが発生していない;
B:わずかに膜割れが発生している;
C:目視で十分わかる膜割れが発生している;
D:フィルム全体に明らかに膜割れが発生している。
-Evaluation criteria of film cracking (cracking) by weather resistance test A: No film cracking occurred;
B: Slight film cracking occurred;
C: A film crack that can be sufficiently visually confirmed has occurred;
D: Membrane cracks are clearly generated in the entire film.

(耐水性試験)
厚さ3mmの青色ガラスに、光学反射フィルム試料1〜14のそれぞれを粘着剤層を介して貼り付けた。このサンプルを40℃50%RHの条件でキセノンキセノンウェザーメーター(スガ試験機社製;太陽光に極めて近似した光を発する)を用いて180W/m2の強度のキセノン光に120分照射中に18分の水噴射を繰り返し、300時間暴露した。そして、曝露後にフィルムに膜剥がれが発生したかどうかを目視にて確認し、以下の評価基準に従って評価した。評価結果を下記の表3に示す。
(Water resistance test)
Each of the optical reflection film samples 1 to 14 was attached to blue glass having a thickness of 3 mm via an adhesive layer. The sample was irradiated with xenon light having an intensity of 180 W / m 2 for 120 minutes using a xenon xenon weather meter (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd .; emitting light very close to sunlight) under the conditions of 40 ° C. and 50% RH. Min water spray was repeated and exposed for 300 hours. And whether or not film peeling occurred on the film after exposure was visually confirmed and evaluated according to the following evaluation criteria. The evaluation results are shown in Table 3 below.

・耐水性試験による膜剥がれの評価基準
A:膜剥がれが発生していない;
B:端部で極僅か(貼りつけ面積の1%未満で)剥がれが認められる;
C:貼りつけ面積の1〜10%の割合で剥がれる;
D:貼りつけ面積の10%を超える割合で剥がれる。
-Evaluation criteria for film peeling by water resistance test A: No film peeling occurred;
B: Slight peeling (less than 1% of the pasting area) is observed at the end;
C: Peel off at a rate of 1 to 10% of the pasting area;
D: Peel off at a rate exceeding 10% of the pasted area.

実施例1
〈紫外線重合型ポリビニルアルコール誘導体水溶液1の調製〉
特開2000−181062号公報の実施例に記載の方法に従って、重合度3500、ケン化度88%のポリビニルアルコールに、p−(3−メタクリロキシ−2−ヒドロキシプロピルオキシ)ベンズアルデヒドを反応させ、下記の式(6)で示す構造の紫外線重合型ポリビニルアルコール誘導体(架橋基変性率1.2mol%、固形分濃度4質量%)の水溶液1を調製した。
Example 1
<Preparation of UV polymerization type polyvinyl alcohol derivative aqueous solution 1>
According to the method described in Examples of JP-A No. 2000-181062, p- (3-methacryloxy-2-hydroxypropyloxy) benzaldehyde is reacted with polyvinyl alcohol having a polymerization degree of 3500 and a saponification degree of 88%, An aqueous solution 1 of an ultraviolet-polymerizable polyvinyl alcohol derivative having a structure represented by the formula (6) (crosslinking group modification rate: 1.2 mol%, solid content concentration: 4 mass%) was prepared.

〈紫外線重合型ポリビニルアルコール誘導体水溶液2の調製〉
紫外線重合型ポリビニルアルコール誘導体水溶液1の重合度3500、ケン化度88%のポリビニルアルコールを重合度2400、ケン化度98.5%のポリビニルアルコールに変える以外は同様にして紫外線重合型ポリビニルアルコール誘導体(架橋基変性率0.9mol%、固形分濃度4質量%)の水溶液2を調製した。
<Preparation of UV polymerization type polyvinyl alcohol derivative aqueous solution 2>
In the same manner, except that the polyvinyl alcohol having a polymerization degree of 3500 and a saponification degree of 88% in the ultraviolet polymerization type polyvinyl alcohol derivative aqueous solution 1 is changed to a polyvinyl alcohol having a polymerization degree of 2400 and a saponification degree of 98.5% ( An aqueous solution 2 having a crosslinking group modification rate of 0.9 mol% and a solid content concentration of 4 mass% was prepared.

光学反射フィルム1の作製
反射フィルム作製(ICE構成)
〔基材(透明樹脂フィルム)の準備〕
基材に用いる透明樹脂フィルムとして、ポリエチレンテレフタレートフィルム(A4300、両面易接着層、厚さ:50μm、長さ200m×幅330mm、東洋紡績株式会社製、以下、PETフィルムと略記する。)を準備した。
Production of optical reflection film 1 Production of reflection film (ICE configuration)
[Preparation of base material (transparent resin film)]
As a transparent resin film used for the base material, a polyethylene terephthalate film (A4300, double-sided easy-adhesion layer, thickness: 50 μm, length 200 m × width 330 mm, manufactured by Toyobo Co., Ltd., hereinafter abbreviated as PET film) was prepared. .

(低屈折率層用塗布液1の調製)
下記表1に示す各構成材料をその配合量にて、それぞれ45℃でこの順に(表1の上から順に)添加、混合した後、純水で1000質量部に仕上げて、低屈折率層用塗布液1を調製した。
(Preparation of coating solution 1 for low refractive index layer)
Each constituent material shown in Table 1 below was added and mixed in this order at 45 ° C. in this order (in order from the top of Table 1), then finished to 1000 parts by mass with pure water, and used for the low refractive index layer. Coating solution 1 was prepared.

(高屈折率層用塗布液1の調製)
下記の手順に従って、高屈折率層用塗布液1を調製した。
(Preparation of coating solution 1 for high refractive index layer)
A coating solution 1 for a high refractive index layer was prepared according to the following procedure.

〈シリカ変性酸化チタン粒子の分散液の調製〉
はじめに、下記の方法に従って、シリカ変性酸化チタン粒子の分散液を調製し、これに溶媒等を添加した。
<Preparation of silica-modified titanium oxide particle dispersion>
First, a dispersion of silica-modified titanium oxide particles was prepared according to the following method, and a solvent or the like was added thereto.

シリカ変性酸化チタン粒子の分散液は、以下のように調製した。   A dispersion of silica-modified titanium oxide particles was prepared as follows.

硫酸チタン水溶液を公知の方法により熱加水分解して、酸化チタン水和物を得た。得られた酸化チタン水和物を水に懸濁させて、酸化チタン水和物の水性懸濁液(TiO濃度:100g/L)10Lを得た。これに、水酸化ナトリウム水溶液(濃度10mol/L)30Lを撹拌下で添加し、90℃に昇温して、5時間熟成した。得られた溶液を塩酸で中和し、濾過、水洗することで、塩基処理チタン化合物を得た。 The titanium sulfate aqueous solution was thermally hydrolyzed by a known method to obtain titanium oxide hydrate. The obtained titanium oxide hydrate was suspended in water to obtain 10 L of an aqueous suspension of titanium oxide hydrate (TiO 2 concentration: 100 g / L). To this, 30 L of an aqueous sodium hydroxide solution (concentration 10 mol / L) was added with stirring, the temperature was raised to 90 ° C., and the mixture was aged for 5 hours. The obtained solution was neutralized with hydrochloric acid, filtered and washed with water to obtain a base-treated titanium compound.

次に、塩基処理チタン化合物をTiO濃度20g/Lになるよう純水に懸濁させて撹拌した。撹拌下、TiO量に対し0.4mol%の量のクエン酸を添加した。95℃まで昇温し、濃塩酸を塩酸濃度が30g/Lとなるように加え、液温を維持して3時間撹拌した。ここで、得られた混合液のpH及びゼータ電位を測定したところ、25℃におけるpHは1.4、ゼータ電位は+40mVであった。また、ゼータサイザーナノ(マルバーン社製)により粒径測定を行ったところ、体積平均粒子径は35nm、単分散度は16%であった。 Next, the base-treated titanium compound was suspended in pure water and stirred so that the TiO 2 concentration was 20 g / L. Under stirring, it was added citric acid in an amount of 0.4 mol% with respect to TiO 2 weight. The temperature was raised to 95 ° C., concentrated hydrochloric acid was added so that the hydrochloric acid concentration was 30 g / L, and the solution temperature was maintained, followed by stirring for 3 hours. Here, when the pH and zeta potential of the obtained mixed liquid were measured, the pH at 25 ° C. was 1.4, and the zeta potential was +40 mV. Further, when the particle size was measured by Zetasizer Nano (manufactured by Malvern), the volume average particle size was 35 nm and the monodispersity was 16%.

ルチル型酸化チタン粒子を含む20.0質量%の酸化チタンゾル水系分散液1kgに純水1kgを添加して、10.0質量%の酸化チタンゾル水系分散液を調製した。   1 kg of pure water was added to 1 kg of a 20.0 mass% titanium oxide sol aqueous dispersion containing rutile-type titanium oxide particles to prepare a 10.0 mass% titanium oxide sol aqueous dispersion.

上記10.0質量%の酸化チタンゾル水系分散液の0.5kgに、純水2kgを加えた後、90℃に加熱した。その後、SiO濃度が2.0質量%のケイ酸水溶液1.3kgを徐々に添加した。得られた分散液をオートクレーブ中、175℃で18時間加熱処理を行い、さらに濃縮することで、SiOで被覆されたルチル型構造を有する酸化チタンを含む、20質量%のシリカ変性酸化チタン粒子の分散液(ゾル水分散液)を得た。 2 kg of pure water was added to 0.5 kg of the 10.0 mass% titanium oxide sol aqueous dispersion, followed by heating to 90 ° C. Thereafter, 1.3 kg of an aqueous silicic acid solution having a SiO 2 concentration of 2.0 mass% was gradually added. The obtained dispersion is subjected to a heat treatment at 175 ° C. for 18 hours in an autoclave, and further concentrated to thereby contain 20% by mass of silica-modified titanium oxide particles containing titanium oxide having a rutile structure coated with SiO 2. A dispersion (sol aqueous dispersion) was obtained.

〈塗布液の調製〉
上記調製したシリカ変性酸化チタン粒子のゾル水分散液に、下記表2に示す各構成材料を45℃で順次(表2の上から順に)添加し、最後に純水で1000質量部に仕上げ、高屈折率層用塗布液1を調製した。
<Preparation of coating solution>
The constituent materials shown in Table 2 below were sequentially added at 45 ° C. (in order from the top of Table 2) to the sol dispersion of silica-modified titanium oxide particles prepared above, and finally finished with pure water to 1000 parts by mass, A coating solution 1 for a high refractive index layer was prepared.

15層重層塗布可能なスライドホッパー型湿式塗布装置を用い、上記調製した低屈折率層用塗布液1及び高屈折率層用塗布液1を40℃に保温しながら、前記透明樹脂フィルム上に、15層の重層塗布を行った。各屈折率層用塗布液を塗布した直後、5℃の冷風を吹き付けてセットした。このとき、表面を指で触れても指に何もつかなくなるまでの時間(セット時間)は5分であった。セット完了後、80℃の温風を吹き付けて乾燥させて、15層で全層厚2.1μmからなる光学干渉膜(光学反射層)を作製した。   Using a slide hopper type wet coating apparatus capable of 15-layer coating, the above-prepared coating solution 1 for the low refractive index layer and coating solution 1 for the high refractive index layer are kept on the transparent resin film while keeping the temperature at 40 ° C. Fifteen layers were applied. Immediately after coating each refractive index layer coating solution, cold air of 5 ° C. was blown and set. At this time, even if the surface was touched with a finger, the time until the finger was lost (set time) was 5 minutes. After completion of the setting, warm air of 80 ° C. was blown and dried to prepare an optical interference film (optical reflection layer) having 15 layers and a total thickness of 2.1 μm.

この際、15層からなる光学干渉膜においては、最下層(基材側)及び最上層は低屈折率層とした。光学反射フィルム(窓貼り用フィルム)1の光学干渉膜の構成においては、低屈折率層及び高屈折率層がそれぞれ交互に積層される構成とした。   At this time, in the 15-layer optical interference film, the lowermost layer (base material side) and the uppermost layer were low refractive index layers. In the configuration of the optical interference film of the optical reflection film (window pasting film) 1, a low refractive index layer and a high refractive index layer were alternately laminated.

塗布量については、乾燥時の層厚が低屈折率層は各層150nm、高屈折率層は各層130nmになるように調整した。なお、各層厚は、作製した光学反射フィルム(窓貼り用フィルム)1を切断し、その切断面を電子顕微鏡により観察することで確認した。この際、二つの層間の界面を明確に観測することができない場合には、XPS表面分析装置により得た層中に含まれるTiOの厚さ方向のXPSデプスプロファイルにより界面を決定した。 The coating amount was adjusted so that the layer thickness during drying was 150 nm for each low refractive index layer and 130 nm for each high refractive index layer. In addition, each layer thickness was confirmed by cut | disconnecting the produced optical reflection film (film for window pasting) 1, and observing the cut surface with an electron microscope. At this time, when the interface between the two layers could not be clearly observed, the interface was determined by the XPS depth profile in the thickness direction of TiO 2 contained in the layer obtained by the XPS surface analyzer.

(赤外吸収ナノ粒子層の形成)
AZO分散液(アンチモン酸亜鉛微粒子分散液;製品名:セルナックスCX−Z610M−F2、平均粒径15nm、溶媒;メタノール、固形分60質量%、日産化学工業株式会社製)に対して、メタノールでAZO濃度40質量%になるように希釈し、紫外線硬化性ハードコート剤であるKRM8495(ダイセル・オルネクス社製、アクリレート系硬化樹脂と重合開始剤の混合物)を添加し、全固形分が30質量%、AZO濃度が固形分に対して50質量%、硬化樹脂が50質量%(重合開始剤込)になるように調製して、赤外吸収ナノ粒子層形成用塗布液1を作製した。乾燥膜厚が1μmになるように、グラビアコーターを用いて、光学干渉膜(光学反射層)と基材を介して反対側に赤外吸収ナノ粒子層形成用塗布液1を塗布し、恒率乾燥区間温度50℃、減率乾燥区間温度90℃で乾燥の後、紫外線ランプを用い照射部の照度が100mW/cmで、照射量を0.2J/cmとして塗布層(ここでは赤外吸収ナノ粒子層と共に、光学干渉膜を構成する低屈折率層及び低屈折率層中の紫外線重合型ポリビニルアルコール誘導体(光反応性高分子化合物;光反応性PVA))を架橋、硬化させ、乾燥膜厚が1μmの赤外吸収ナノ粒子層を光学干渉膜上に形成した。
(Formation of infrared absorbing nanoparticle layer)
With respect to the AZO dispersion (zinc antimonate fine particle dispersion; product name: Celnax CX-Z610M-F2, average particle size 15 nm, solvent: methanol, solid content 60% by mass, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.), methanol Dilute to an AZO concentration of 40% by mass, add KRM8495 (a mixture of acrylate-based cured resin and polymerization initiator, which is an ultraviolet curable hard coat agent), and a total solid content of 30% by mass. The coating solution 1 for forming an infrared absorbing nanoparticle layer was prepared by adjusting the AZO concentration to 50% by mass with respect to the solid content and 50% by mass of the cured resin (including a polymerization initiator). Using a gravure coater, the infrared absorbing nanoparticle layer forming coating solution 1 is applied to the opposite side through the optical interference film (optical reflection layer) and the substrate so that the dry film thickness becomes 1 μm. After drying at a drying zone temperature of 50 ° C. and a reduced rate drying zone temperature of 90 ° C., an irradiance is 100 mW / cm 2 using an ultraviolet lamp and the irradiation amount is 0.2 J / cm 2. Along with the absorbing nanoparticle layer, the low refractive index layer constituting the optical interference film and the UV-polymerized polyvinyl alcohol derivative (photoreactive polymer compound; photoreactive PVA) in the low refractive index layer are crosslinked, cured, and dried. An infrared absorption nanoparticle layer having a thickness of 1 μm was formed on the optical interference film.

(粘着層の形成;光学反射フィルム1の作製)
ヒドロキシ基を有するアクリル樹脂100質量部、MKCメチルシリケートMS−56(三菱化学株式会社製、テトラメチルシリケート部分加水分解物縮合物、nの平均値=10(即ち、テトラメトキシシランの平均10量体)50質量部、ジブチルスズラウレート1質量部、キシレン700質量部、イソプロピルアルコール150質量部を混合、攪拌して、固形分10質量%の樹脂混合物を調製した。
(Formation of adhesive layer; production of optical reflection film 1)
100 parts by mass of an acrylic resin having a hydroxy group, MKC methyl silicate MS-56 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, tetramethyl silicate partial hydrolyzate condensate, average value of n = 10 (that is, average tetramer of tetramethoxysilane) 50 parts by mass, 1 part by mass of dibutyltin laurate, 700 parts by mass of xylene, and 150 parts by mass of isopropyl alcohol were mixed and stirred to prepare a resin mixture having a solid content of 10% by mass.

得られた樹脂混合物に、チヌビン477(BASFジャパン社製の紫外線吸収剤)2.0質量部を混合して、粘着層形成用塗布液1を調製した。   The obtained resin mixture was mixed with 2.0 parts by mass of Tinuvin 477 (a UV absorber manufactured by BASF Japan Ltd.) to prepare a coating solution 1 for forming an adhesive layer.

上記調製した粘着層形成用塗布液1を用いて、ワイヤーバーにて上記光学干渉膜の上に塗布し乾燥した。乾燥後の粘着層の膜厚は8μmであった。この粘着層付きフィルムの粘着層表面にセパレーターフィルムとして25μm厚のポリエステルフィルム(セラピール、東洋メタライジング社製)を貼合機により貼合して、光学反射フィルム1を作製した。   Using the prepared coating liquid 1 for forming an adhesive layer, it was coated on the optical interference film with a wire bar and dried. The film thickness of the adhesive layer after drying was 8 μm. A 25 μm thick polyester film (Therapel, manufactured by Toyo Metallizing Co., Ltd.) was bonded as a separator film to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer of the film with the pressure-sensitive adhesive layer to produce an optical reflective film 1.

実施例2
(光学反射フィルム2の作製)
実施例1の光学反射フィルム1の作製において、光学干渉膜を構成する高屈折率層の形成に用いた高屈折率層用塗布液1の構成材料である紫外線重合型ポリビニルアルコール誘導体水溶液2を調製するのに変えて、特開2000−181062号公報の実施例に記載の方法に従って、重合度2400、ケン化度98.5%のポリビニルアルコールに、p−(3−メタクリロキシ−2−ヒドロキシプロピルオキシ)ベンズアルデヒドを反応させ、上記の式(6)で示す構造の紫外線重合型ポリビニルアルコール誘導体(架橋基変性率1.2mol%、固形分濃度4質量%)の水溶液3を調製して用いた以外は同様にして、光学反射フィルム2を作製した。
Example 2
(Preparation of optical reflection film 2)
In the production of the optical reflective film 1 of Example 1, an ultraviolet polymerization type polyvinyl alcohol derivative aqueous solution 2 which is a constituent material of the coating solution 1 for the high refractive index layer used for forming the high refractive index layer constituting the optical interference film is prepared. Instead, according to the method described in Examples of JP-A No. 2000-181062, polyvinyl alcohol having a polymerization degree of 2400 and a saponification degree of 98.5% was converted to p- (3-methacryloxy-2-hydroxypropyloxy). ) Except that benzaldehyde was reacted to prepare and use an aqueous solution 3 of an ultraviolet-polymerizable polyvinyl alcohol derivative (crosslinkable group modification rate 1.2 mol%, solid content concentration 4 mass%) having the structure represented by the above formula (6). Similarly, the optical reflection film 2 was produced.

実施例3
(光学反射フィルム3の作製)
実施例1の光学反射フィルム1の作製において、光学干渉膜を構成する高屈折率層の形成に用いた高屈折率層用塗布液1の構成材料である紫外線重合型ポリビニルアルコール誘導体水溶液2を調製するのに変えて、特開2000−181062号公報の実施例に記載の方法に従って、重合度2400、ケン化度98.5%のポリビニルアルコールに、p−(3−メタクリロキシ−2−ヒドロキシプロピルオキシ)ベンズアルデヒドを反応させ、上記の式(6)で示す構造の紫外線重合型ポリビニルアルコール誘導体(架橋基変性率3.8mol%、固形分濃度4質量%)の水溶液4を調製して用いた以外は同様にして、光学反射フィルム3を作製した。
Example 3
(Preparation of optical reflection film 3)
In the production of the optical reflective film 1 of Example 1, an ultraviolet polymerization type polyvinyl alcohol derivative aqueous solution 2 which is a constituent material of the coating solution 1 for the high refractive index layer used for forming the high refractive index layer constituting the optical interference film is prepared. Instead, according to the method described in Examples of JP-A No. 2000-181062, polyvinyl alcohol having a polymerization degree of 2400 and a saponification degree of 98.5% was converted to p- (3-methacryloxy-2-hydroxypropyloxy). ) Except that benzaldehyde was reacted to prepare and use an aqueous solution 4 of a UV-polymerized polyvinyl alcohol derivative (crosslinking group modification rate: 3.8 mol%, solid content concentration: 4 mass%) having the structure represented by the above formula (6). Similarly, an optical reflection film 3 was produced.

実施例4
(光学反射フィルム4の作製)
実施例1の光学反射フィルム1の作製において、光学干渉膜を構成する高屈折率層の形成に用いた高屈折率層用塗布液1の構成材料である紫外線重合型ポリビニルアルコール誘導体水溶液2を調製するのに変えて、特開2000−181062号公報の実施例に記載の方法に従って、重合度2400、ケン化度98.5%のポリビニルアルコールに、p−(3−メタクリロキシ−2−ヒドロキシプロピルオキシ)ベンズアルデヒドを反応させ、上記の式(6)で示す構造の紫外線重合型ポリビニルアルコール誘導体(架橋基変性率4.2mol%、固形分濃度4質量%)の水溶液5を調製して用いた以外は同様にして、光学反射フィルム4を作製した。
Example 4
(Preparation of optical reflection film 4)
In the production of the optical reflective film 1 of Example 1, an ultraviolet polymerization type polyvinyl alcohol derivative aqueous solution 2 which is a constituent material of the coating solution 1 for the high refractive index layer used for forming the high refractive index layer constituting the optical interference film is prepared. Instead, according to the method described in Examples of JP-A No. 2000-181062, polyvinyl alcohol having a polymerization degree of 2400 and a saponification degree of 98.5% was converted to p- (3-methacryloxy-2-hydroxypropyloxy). ) Except that benzaldehyde was reacted to prepare and use an aqueous solution 5 of a UV-polymerized polyvinyl alcohol derivative having a structure represented by the above formula (6) (crosslinking group modification rate: 4.2 mol%, solid content concentration: 4 mass%). Similarly, an optical reflection film 4 was produced.

実施例5
(光学反射フィルム5の作製)
実施例1の光学反射フィルム1の作製において、光学干渉膜を構成する高屈折率層の形成に用いた高屈折率層用塗布液1の構成材料である紫外線重合型ポリビニルアルコール誘導体水溶液2を調製するのに変えて、特開2000−181062号公報の実施例に記載の方法に従って、重合度500、ケン化度98.5%のポリビニルアルコールに、p−(3−メタクリロキシ−2−ヒドロキシプロピルオキシ)ベンズアルデヒドを反応させ、上記の式(6)で示す構造の紫外線重合型ポリビニルアルコール誘導体(架橋基変性率1.2mol%、固形分濃度4質量%)の水溶液6を調製して用いた以外は同様にして、光学反射フィルム5を作製した。
Example 5
(Preparation of optical reflection film 5)
In the production of the optical reflective film 1 of Example 1, an ultraviolet polymerization type polyvinyl alcohol derivative aqueous solution 2 which is a constituent material of the coating solution 1 for the high refractive index layer used for forming the high refractive index layer constituting the optical interference film is prepared. Instead, according to the method described in Examples of JP-A-2000-181062, polyvinyl alcohol having a polymerization degree of 500 and a saponification degree of 98.5% was converted to p- (3-methacryloxy-2-hydroxypropyloxy). ) Except that benzaldehyde was reacted to prepare and use an aqueous solution 6 of a UV-polymerized polyvinyl alcohol derivative having a structure represented by the above formula (6) (crosslinking group modification rate 1.2 mol%, solid content concentration 4 mass%). Similarly, the optical reflection film 5 was produced.

実施例6
(光学反射フィルム6の作製)
実施例1の光学反射フィルム1の作製において、光学干渉膜を構成する高屈折率層の形成に用いた高屈折率層用塗布液1の構成材料である紫外線重合型ポリビニルアルコール誘導体水溶液2を調製するのに変えて、特開2000−181062号公報の実施例に記載の方法に従って、重合度1700、ケン化度98.5%のポリビニルアルコールに、p−(3−メタクリロキシ−2−ヒドロキシプロピルオキシ)ベンズアルデヒドを反応させ、上記の式(6)で示す構造の紫外線重合型ポリビニルアルコール誘導体(架橋基変性率1.2mol%、固形分濃度4質量%)の水溶液7を調製して用いた以外は同様にして、光学反射フィルム6を作製した。
Example 6
(Preparation of optical reflection film 6)
In the production of the optical reflective film 1 of Example 1, an ultraviolet polymerization type polyvinyl alcohol derivative aqueous solution 2 which is a constituent material of the coating solution 1 for the high refractive index layer used for forming the high refractive index layer constituting the optical interference film is prepared. Instead, according to the method described in Examples of JP-A No. 2000-181062, polyvinyl alcohol having a polymerization degree of 1700 and a saponification degree of 98.5% was converted to p- (3-methacryloxy-2-hydroxypropyloxy). ) Except that benzaldehyde was reacted to prepare and use an aqueous solution 7 of a UV-polymerized polyvinyl alcohol derivative (crosslinkable group modification rate 1.2 mol%, solid content concentration 4 mass%) having the structure represented by the above formula (6). Similarly, an optical reflection film 6 was produced.

実施例7
(光学反射フィルム7の作製)
実施例1の光学反射フィルム1の作製において、光学干渉膜を構成する低屈折率層の形成に用いた低屈折率層用塗布液1の構成材料である紫外線重合型ポリビニルアルコール誘導体水溶液1を調製するのに変えて、特開2000−181062号公報の実施例に記載の方法に従って、重合度500、ケン化度88%のポリビニルアルコールに、p−(3−メタクリロキシ−2−ヒドロキシプロピルオキシ)ベンズアルデヒドを反応させ、上記の式(6)で示す構造の紫外線重合型ポリビニルアルコール誘導体(架橋基変性率1.2mol%、固形分濃度4質量%)の水溶液8を調製して用い、更に光学干渉膜を構成する高屈折率層の形成に用いた高屈折率層用塗布液1の構成材料である紫外線重合型ポリビニルアルコール誘導体水溶液2を調製するのに変えて、実施例2で調製した紫外線重合型ポリビニルアルコール誘導体の水溶液3を用いた以外は同様にして、光学反射フィルム7を作製した。
Example 7
(Preparation of optical reflection film 7)
In the production of the optical reflective film 1 of Example 1, an ultraviolet polymerization type polyvinyl alcohol derivative aqueous solution 1 which is a constituent material of the coating solution 1 for the low refractive index layer used for forming the low refractive index layer constituting the optical interference film is prepared. Instead of this, polyvinyl alcohol having a polymerization degree of 500 and a saponification degree of 88% was converted to p- (3-methacryloxy-2-hydroxypropyloxy) benzaldehyde according to the method described in the examples of JP-A No. 2000-181062. To prepare an aqueous solution 8 of an ultraviolet-polymerizable polyvinyl alcohol derivative having a structure represented by the above formula (6) (crosslinking group modification rate: 1.2 mol%, solid content concentration: 4 mass%), and further using an optical interference film Preparation of UV-polymerizable polyvinyl alcohol derivative aqueous solution 2 which is a constituent material of coating solution 1 for high refractive index layer used for forming the high refractive index layer constituting Instead to, in the same manner except for using an aqueous solution 3 ultraviolet polymerizable polyvinyl alcohol derivative prepared in Example 2, to produce an optical reflection film 7.

実施例8
(光学反射フィルム8の作製)
実施例1の光学反射フィルム1の作製において、光学干渉膜を構成する低屈折率層の形成に用いた低屈折率層用塗布液1の構成材料である紫外線重合型ポリビニルアルコール誘導体水溶液1を調製するのに変えて、特開2000−181062号公報の実施例に記載の方法に従って、重合度1700、ケン化度88%のポリビニルアルコールに、p−(3−メタクリロキシ−2−ヒドロキシプロピルオキシ)ベンズアルデヒドを反応させ、上記の式(6)で示す構造の紫外線重合型ポリビニルアルコール誘導体(架橋基変性率1.2mol%、固形分濃度4質量%)の水溶液9を調製して用い、更に光学干渉膜を構成する高屈折率層の形成に用いた高屈折率層用塗布液1の構成材料である紫外線重合型ポリビニルアルコール誘導体水溶液2に変えて、実施例2で調製した紫外線重合型ポリビニルアルコール誘導体の水溶液3を用いた以外は同様にして、光学反射フィルム8を作製した。
Example 8
(Preparation of optical reflection film 8)
In the production of the optical reflective film 1 of Example 1, an ultraviolet polymerization type polyvinyl alcohol derivative aqueous solution 1 which is a constituent material of the coating solution 1 for the low refractive index layer used for forming the low refractive index layer constituting the optical interference film is prepared. Instead of this, polyvinyl alcohol having a polymerization degree of 1700 and a saponification degree of 88% was converted to p- (3-methacryloxy-2-hydroxypropyloxy) benzaldehyde according to the method described in the examples of JP-A-2000-181062. To prepare an aqueous solution 9 of a UV-polymerizable polyvinyl alcohol derivative having a structure represented by the above formula (6) (crosslinking group modification rate: 1.2 mol%, solid content concentration: 4% by mass), and further using an optical interference film UV-polymerizable polyvinyl alcohol derivative aqueous solution 2 which is a constituent material of coating solution 1 for high refractive index layer used for forming the high refractive index layer constituting Ete, in the same manner except for using an aqueous solution 3 ultraviolet polymerizable polyvinyl alcohol derivative prepared in Example 2, to produce an optical reflection film 8.

実施例9
(光学反射フィルム9の作製)
実施例1の光学反射フィルム1の作製において、光学干渉膜を構成する低屈折率層の形成に用いた低屈折率層用塗布液1の構成材料である紫外線重合型ポリビニルアルコール誘導体水溶液1を調製するのに変えて、特開2000−181062号公報の実施例に記載の方法に従って、重合度4500、ケン化度88%のポリビニルアルコールに、p−(3−メタクリロキシ−2−ヒドロキシプロピルオキシ)ベンズアルデヒドを反応させ、上記の式(6)で示す構造の紫外線重合型ポリビニルアルコール誘導体(架橋基変性率1.2mol%、固形分濃度4質量%)の水溶液10を調製して用い、更に光学干渉膜を構成する高屈折率層の形成に用いた高屈折率層用塗布液1の構成材料である紫外線重合型ポリビニルアルコール誘導体水溶液2に変えて、実施例2で調製した紫外線重合型ポリビニルアルコール誘導体の水溶液3を用いた以外は同様にして、光学反射フィルム9を作製した。
Example 9
(Preparation of optical reflection film 9)
In the production of the optical reflective film 1 of Example 1, an ultraviolet polymerization type polyvinyl alcohol derivative aqueous solution 1 which is a constituent material of the coating solution 1 for the low refractive index layer used for forming the low refractive index layer constituting the optical interference film is prepared. Instead of this, polyvinyl alcohol having a polymerization degree of 4500 and a saponification degree of 88% was converted to p- (3-methacryloxy-2-hydroxypropyloxy) benzaldehyde according to the method described in Examples of JP-A No. 2000-181062. To prepare an aqueous solution 10 of an ultraviolet-polymerizable polyvinyl alcohol derivative having a structure represented by the above formula (6) (crosslinking group modification rate 1.2 mol%, solid content concentration 4% by mass), and further using an optical interference film UV-polymerizable polyvinyl alcohol derivative aqueous solution 2 which is a constituent material of coating solution 1 for high refractive index layer used for forming the high refractive index layer constituting Varied, in the same manner except for using an aqueous solution 3 ultraviolet polymerizable polyvinyl alcohol derivative prepared in Example 2, to produce an optical reflection film 9.

実施例10
(光学反射フィルム10の作製)
実施例1の光学反射フィルム1の作製において、光学干渉膜を構成する低屈折率層の形成に用いた低屈折率層用塗布液1の構成材料のうち、紫外線重合型ポリビニルアルコール誘導体水溶液1 150質量部を24質量部(バインダ中の比率8質量%)に、4質量%のポリビニルアルコール(4質量%水溶液、PVA−235;重合度:3500;ケン化度:88mol%;クラレ株式会社製)150質量部を276質量部(バインダ中の比率92質量%)に変え、更に光学干渉膜を構成する高屈折率層の形成に用いた高屈折率層用塗布液1の構成材料である紫外線重合型ポリビニルアルコール誘導体水溶液2に変えて、実施例2で調製した紫外線重合型ポリビニルアルコール誘導体の水溶液3を用いた以外は同様にして、光学反射フィルム10を作製した。
Example 10
(Preparation of optical reflection film 10)
Among the constituent materials of the coating solution 1 for the low refractive index layer used for forming the low refractive index layer constituting the optical interference film in the production of the optical reflective film 1 of Example 1, the ultraviolet polymerization type polyvinyl alcohol derivative aqueous solution 1 150. 24 parts by mass (8% by mass in the binder) of 4 parts by mass of polyvinyl alcohol (4% by mass aqueous solution, PVA-235; polymerization degree: 3500; saponification degree: 88 mol%; manufactured by Kuraray Co., Ltd.) 150 parts by mass is changed to 276 parts by mass (ratio 92% by mass in the binder), and UV polymerization is a constituent material of the coating solution 1 for the high refractive index layer used for forming the high refractive index layer constituting the optical interference film. The optical reflective film 1 was prepared in the same manner except that the aqueous solution 3 of the UV-polymerized polyvinyl alcohol derivative prepared in Example 2 was used instead of the aqueous polyvinyl alcohol derivative solution 2. 0 was produced.

実施例11
(光学反射フィルム11の作製)
実施例1の光学反射フィルム1の作製において、光学干渉膜を構成する低屈折率層の形成に用いた低屈折率層用塗布液1の構成材料のうち、紫外線重合型ポリビニルアルコール誘導体水溶液1 150質量部を90質量部(バインダ中の比率30質量%)に、4質量%のポリビニルアルコール(4質量%水溶液、PVA−235;重合度:3500;ケン化度:88mol%;クラレ株式会社製)150質量部を210質量部(バインダ中の比率70質量%)に変え、更に光学干渉膜を構成する高屈折率層の形成に用いた高屈折率層用塗布液1の構成材料である紫外線重合型ポリビニルアルコール誘導体水溶液2に変えて、実施例2で調製した紫外線重合型ポリビニルアルコール誘導体の水溶液3を用いた以外は同様にして、光学反射フィルム11を作製した。
Example 11
(Preparation of optical reflection film 11)
Among the constituent materials of the coating solution 1 for the low refractive index layer used for forming the low refractive index layer constituting the optical interference film in the production of the optical reflective film 1 of Example 1, the ultraviolet polymerization type polyvinyl alcohol derivative aqueous solution 1 150. 90 parts by mass (ratio in the binder: 30% by mass), 4% by mass of polyvinyl alcohol (4% by mass aqueous solution, PVA-235; degree of polymerization: 3500; degree of saponification: 88 mol%; manufactured by Kuraray Co., Ltd.) 150 parts by mass is changed to 210 parts by mass (70% by mass in the binder), and UV polymerization is a constituent material of the coating solution 1 for the high refractive index layer used for forming the high refractive index layer constituting the optical interference film. In the same manner, except that the aqueous solution 3 of the UV-polymerized polyvinyl alcohol derivative prepared in Example 2 was used instead of the aqueous solution 2 of polyvinyl alcohol derivative, the optical reflective film 11 was produced.

実施例12
(光学反射フィルム12の作製)
実施例1の光学反射フィルム1の作製において、光学干渉膜を構成する低屈折率層の形成に用いた低屈折率層用塗布液1の構成材料のうち、紫外線重合型ポリビニルアルコール誘導体水溶液1 150質量部を210質量部(バインダ中の比率70質量%)に、4質量%のポリビニルアルコール(4質量%水溶液、PVA−235;重合度:3500;ケン化度:88mol%;クラレ株式会社製)150質量部を90質量部(バインダ中の比率70質量%)に変え、更に光学干渉膜を構成する高屈折率層の形成に用いた高屈折率層用塗布液1の構成材料である紫外線重合型ポリビニルアルコール誘導体水溶液2に変えて、実施例2で調製した紫外線重合型ポリビニルアルコール誘導体の水溶液3を用いた以外は同様にして、光学反射フィルム12を作製した。
Example 12
(Preparation of optical reflection film 12)
Among the constituent materials of the coating solution 1 for the low refractive index layer used for forming the low refractive index layer constituting the optical interference film in the production of the optical reflective film 1 of Example 1, the ultraviolet polymerization type polyvinyl alcohol derivative aqueous solution 1 150. Part by mass is 210 parts by mass (70% by mass in the binder) and 4% by mass of polyvinyl alcohol (4% by mass aqueous solution, PVA-235; degree of polymerization: 3500; degree of saponification: 88 mol%; manufactured by Kuraray Co., Ltd.) UV polymerization, which is a constituent material of the coating solution 1 for the high refractive index layer used for forming the high refractive index layer constituting the optical interference film, by changing 150 parts by mass to 90 parts by mass (ratio of 70% by mass in the binder). In the same manner, except that the aqueous solution 3 of the UV-polymerized polyvinyl alcohol derivative prepared in Example 2 was used instead of the aqueous solution 2 of polyvinyl alcohol derivative, the optical reflective film 12 was produced.

比較例1
(光学反射フィルム13の作製)
実施例1の光学反射フィルム1の作製において、光学干渉膜を構成する低屈折率層の形成に用いた低屈折率層用塗布液1の構成材料のうち、紫外線重合型ポリビニルアルコール誘導体水溶液1 150質量部を0質量部(バインダ中の比率0質量%)に、4質量%のポリビニルアルコール(4質量%水溶液、PVA−235;重合度:3500;ケン化度:88mol%;クラレ株式会社製)150質量部を300質量部(バインダ中の比率100質量%)に変え、更に高屈折率層用塗布液1の構成材料のうち、紫外線重合型ポリビニルアルコール誘導体水溶液1 150質量部を0質量部(バインダ中の比率0質量%)に、4質量%のポリビニルアルコール(4質量%水溶液、PVA−124、重合度:2400、ケン化度:99mol%、株式会社クラレ製)150質量部を300質量部(バインダ中の比率100質量%)に変えた以外は同様にして、比較用の光学反射フィルム13を作製した。
Comparative Example 1
(Preparation of optical reflection film 13)
Among the constituent materials of the coating solution 1 for the low refractive index layer used for forming the low refractive index layer constituting the optical interference film in the production of the optical reflective film 1 of Example 1, the ultraviolet polymerization type polyvinyl alcohol derivative aqueous solution 1 150. Part by mass is 0 part by mass (the ratio in the binder is 0% by mass), 4% by mass of polyvinyl alcohol (4% by mass aqueous solution, PVA-235; degree of polymerization: 3500; degree of saponification: 88 mol%; manufactured by Kuraray Co., Ltd.) 150 parts by mass is changed to 300 parts by mass (ratio in the binder is 100% by mass), and among the constituent materials of the coating liquid 1 for the high refractive index layer, 150 parts by mass of the UV-polymerized polyvinyl alcohol derivative aqueous solution 1 is 0 parts by mass ( 4 wt% polyvinyl alcohol (4 wt% aqueous solution, PVA-124, polymerization degree: 2400, saponification degree: 99 mol%) Except for changing the expression company Kuraray) 150 parts by weight of 300 parts by weight (ratio 100 wt% in the binder) in the same manner to produce an optical reflection film 13 for comparison.

実施例1〜12及び比較例1で得られた光学反射フィルム1〜13を用いて、上記した可視光透過率および近赤外線透過率の測定を上記した耐候性試験の試験前後にそれぞれ行った。また、上記した耐候性試験を行い、試験後の光学反射フィルム1〜13の膜割れ(ひび割れ)を観察、評価を行った。さらに耐水性試験を行い、試験後の光学反射フィルム1〜13の膜剥がれの観察、評価を行った。これらの測定及び試験後の評価結果を下記表3に示す。   Using the optical reflective films 1 to 13 obtained in Examples 1 to 12 and Comparative Example 1, the above-described visible light transmittance and near infrared transmittance were measured before and after the above weather resistance test. Moreover, the above-mentioned weather resistance test was conducted, and film cracks (cracks) of the optical reflection films 1 to 13 after the test were observed and evaluated. Further, a water resistance test was performed, and the film peeling of the optical reflection films 1 to 13 after the test was observed and evaluated. These measurements and the evaluation results after the test are shown in Table 3 below.

上記表3中、低屈折率層の反応性PVAは、低屈折率層用塗布液の構成材料である紫外線重合型ポリビニルアルコール誘導体水溶液中の紫外線重合型ポリビニルアルコール誘導体をいう。高屈折率層の反応性PVAは、高屈折率層用塗布液の構成材料である紫外線重合型ポリビニルアルコール誘導体水溶液中の紫外線重合型ポリビニルアルコール誘導体をいう。   In Table 3 above, the reactive PVA of the low refractive index layer refers to an ultraviolet polymerizable polyvinyl alcohol derivative in an aqueous solution of an ultraviolet polymerizable polyvinyl alcohol derivative that is a constituent material of the coating solution for the low refractive index layer. The reactive PVA of the high refractive index layer refers to an ultraviolet polymerizable polyvinyl alcohol derivative in an aqueous solution of an ultraviolet polymerizable polyvinyl alcohol derivative that is a constituent material of the coating solution for the high refractive index layer.

上記表3中、低屈折率層の「バインダ中の反応性バインダ比率(質量%)」は、低屈折率層用塗布液中の構成材料である4質量%のポリビニルアルコール水溶液の固形分(PVA−235;重合度:3500;ケン化度:88mol%;クラレ株式会社製;非反応性バインダ)と反応性PVAである紫外線重合型ポリビニルアルコール誘導体水溶液の固形分(反応性バインダ)の総和(全量)に占める反応性バインダ(反応性PVA)の比率(質量%)である。   In Table 3 above, the “reactive binder ratio in binder (mass%)” of the low refractive index layer is the solid content (PVA) of a 4 mass% polyvinyl alcohol aqueous solution that is a constituent material in the coating liquid for the low refractive index layer. -235; Degree of polymerization: 3500; Degree of saponification: 88 mol%; Kuraray Co., Ltd .; non-reactive binder) and total amount of solid content (reactive binder) of UV-polymerizable polyvinyl alcohol derivative aqueous solution as reactive PVA (total amount) ) In the reactive binder (reactive PVA).

上記表3中、高屈折率層の「バインダ中の反応性バインダ比率(質量%)」は、高屈折率層用塗布液中の構成材料である4質量%のポリビニルアルコール水溶液の固形分(PVA−124、重合度:2400、ケン化度:99mol%、株式会社クラレ製;非反応性バインダ)と反応性PVAである紫外線重合型ポリビニルアルコール誘導体水溶液の固形分(反応性バインダ)の総和(全量)に占める反応性バインダ(反応性PVA)の比率(質量%)である。   In Table 3 above, “reactive binder ratio in binder (mass%)” of the high refractive index layer is the solid content (PVA) of 4 mass% polyvinyl alcohol aqueous solution which is a constituent material in the coating liquid for the high refractive index layer. -124, degree of polymerization: 2400, degree of saponification: 99 mol%, manufactured by Kuraray Co., Ltd .; non-reactive binder) and the total solid content (reactive binder) of the UV-polymerizable polyvinyl alcohol derivative aqueous solution which is reactive PVA (total amount) ) In the reactive binder (reactive PVA).

上記表3中、低屈折率層の反応性PVAの「重合度」「ケン化度」「変性率(mol%)」は、低屈折率層用塗布液中の構成材料である反応性PVAである紫外線重合型ポリビニルアルコール誘導体の重合度、ケン化度、架橋基変性率(mol%)を表す(重合度とケン化度は、p−(3−メタクリロキシ−2−ヒドロキシプロピルオキシ)ベンズアルデヒドを反応させる前の、特開2000−181062号公報の実施例に記載の方法に従って得られたポリビニルアルコールの重合度とケン化度と同じである)。   In Table 3 above, the “polymerization degree”, “saponification degree”, and “modification rate (mol%)” of the reactive PVA of the low refractive index layer are reactive PVA that is a constituent material in the coating solution for the low refractive index layer. Represents the polymerization degree, saponification degree, and crosslinking group modification rate (mol%) of a certain UV-polymerized polyvinyl alcohol derivative (polymerization degree and saponification degree are reacted with p- (3-methacryloxy-2-hydroxypropyloxy) benzaldehyde. The degree of polymerization and the degree of saponification of the polyvinyl alcohol obtained according to the method described in the examples of JP-A No. 2000-181062 are the same.

上記表3中、高屈折率層の反応性PVAの「重合度」「ケン化度」「変性率(mol%)」は、高屈折率層用塗布液中の構成材料である反応性PVAである紫外線重合型ポリビニルアルコール誘導体の重合度、ケン化度、架橋基変性率(mol%)を表す(重合度とケン化度は、p−(3−メタクリロキシ−2−ヒドロキシプロピルオキシ)ベンズアルデヒドを反応させる前の、特開2000−181062号公報の実施例に記載の方法に従って得られたポリビニルアルコールの重合度とケン化度と同じである)。   In Table 3 above, the “polymerization degree”, “saponification degree”, and “modification rate (mol%)” of the reactive PVA of the high refractive index layer are the reactive PVA that is a constituent material in the coating liquid for the high refractive index layer. Represents the polymerization degree, saponification degree, and crosslinking group modification rate (mol%) of a certain UV-polymerized polyvinyl alcohol derivative (polymerization degree and saponification degree are reacted with p- (3-methacryloxy-2-hydroxypropyloxy) benzaldehyde. The degree of polymerization and the degree of saponification of the polyvinyl alcohol obtained according to the method described in the examples of JP-A No. 2000-181062 are the same.

なお、実施例及び比較例の光学反射フィルム中の低屈折率層及び高屈折率層では、表3の反応性PVA(紫外線重合型ポリビニルアルコール誘導体)は、赤外吸収ナノ粒子層を形成する際に、紫外線照射により、反応性PVAの側鎖間で架橋結合された光架橋型PVA(バインダ)を形成している。   In addition, in the low refractive index layer and the high refractive index layer in the optical reflective films of Examples and Comparative Examples, the reactive PVA (ultraviolet-polymerized polyvinyl alcohol derivative) in Table 3 is used when forming the infrared absorbing nanoparticle layer. In addition, a photocrosslinked PVA (binder) that is cross-linked between the side chains of the reactive PVA is formed by ultraviolet irradiation.

上記表3から、本発明の実施例1〜12の光学反射フィルム試料1〜12は、比較例1の光学反射フィルム試料13に比べて、試験前の可視光透過率及び近赤外反射率では有意な差は見られないが、耐候試験後の可視光透過率、近赤外反射率及びひび割れ(膜割れ)、さらに耐水試験後の膜剥がれにつき、有意な改善、向上効果が見られることが分かる。   From Table 3 above, the optical reflection film samples 1 to 12 of Examples 1 to 12 of the present invention are more visible light transmittance and near infrared reflectance before the test than the optical reflection film sample 13 of Comparative Example 1. Although there is no significant difference, there is a significant improvement and improvement effect in terms of visible light transmittance, near infrared reflectance and cracking (film cracking) after the weathering test, and film peeling after the water resistance test. I understand.

また、実施例1〜12の光学反射フィルム試料1〜12について見ると、高屈折率層の反応性PVAとして重合度500のものを用いた実施例5よりも、高屈折率層の反応性PVAとして重合度1700〜2400のものを用いた実施例2、6等の方が、耐候試験後のひび割れ(膜割れ)や耐水試験後の膜剥がれにつき、有意な改善、向上効果が見られた。同様に、低屈折率層の反応性PVAとして重合度500のものを用いた実施例7よりも、低屈折率層の反応性PVAとして重合度1700〜4500のものを用いた実施例2、8、9等の方が、耐水試験後の膜剥がれにつき、有意な改善、向上効果が見られることが分かる。   Moreover, when it sees about the optical reflection film samples 1-12 of Examples 1-12, the reactive PVA of a high refractive index layer is more than Example 5 using the thing of polymerization degree 500 as reactive PVA of a high refractive index layer. As for Examples 2 and 6 using those having a polymerization degree of 1700 to 2400, significant improvement and improvement effects were observed with respect to cracks (film cracking) after the weather resistance test and film peeling after the water resistance test. Similarly, Examples 2 and 8 using those having a polymerization degree of 1700 to 4500 as the reactive PVA of the low refractive index layer than Example 7 using those having a polymerization degree of 500 as the reactive PVA of the low refractive index layer. 9 and the like show that a significant improvement and improvement effect can be seen with respect to film peeling after the water resistance test.

また、実施例1〜12の光学反射フィルム試料1〜12について見ると、低屈折率層の反応性PVAの比率が8質量%のものを用いた実施例10よりも、低屈折率層の反応性PVAの比率が30〜70質量%のものを用いた実施例2、11、12等の方が、耐候試験後のひび割れ(膜割れ)や耐水試験後の膜剥がれにつき、有意な改善、向上効果が見られることが分かる。また実施例2、11、12の中では、低屈折率層の反応性PVAの比率が30質量%のものを用いた実施例11よりも、低屈折率層の反応性PVAの比率が50〜70質量%のものを用いた実施例2、12の方が、耐水試験後の膜剥がれにつき、有意な改善、向上効果が見られることが分かる。   Moreover, when it sees about the optical reflection film samples 1-12 of Examples 1-12, reaction of a low refractive index layer is more than Example 10 using the thing of the ratio of reactive PVA of a low refractive index layer to 8 mass%. In Examples 2, 11, 12 and the like using a PVA ratio of 30 to 70% by mass, significant improvements and improvements were observed in terms of cracks (film cracks) after the weather resistance test and film peeling after the water resistance test. It turns out that an effect is seen. In Examples 2, 11, and 12, the ratio of reactive PVA in the low refractive index layer is 50 to 50% more than that in Example 11 in which the ratio of reactive PVA in the low refractive index layer is 30% by mass. It can be seen that in Examples 2 and 12 using 70% by mass, significant improvement and improvement effects are observed with respect to film peeling after the water resistance test.

また、実施例1〜12の光学反射フィルム試料1〜12について見ると、高屈折率層の反応性PVAの側鎖の変性率0.9〜4.2のものを用いた実施例1〜4では、いずれも耐候試験後の可視光透過率、近赤外反射率及びひび割れ(膜割れ)、さらに耐水試験後の膜剥がれにつき、有意な改善、向上効果が見られることが分かる。   Moreover, when it sees about the optical reflection film samples 1-12 of Examples 1-12, Examples 1-4 which used the thing of the modification | denaturation rate 0.9-4.2 of the side chain of the reactive PVA of a high refractive index layer. Thus, it can be seen that significant improvement and improvement effects can be seen with respect to visible light transmittance, near infrared reflectance and cracking (film cracking) after the weathering test, and film peeling after the water resistance test.

1、1’ 光学反射フィルム、
11 基材、
12 下引層、
13a、13b 積層ユニット(9層重層品)、
14 低屈折率層、
15 高屈折率層、
16 透明なハードコート層(CHC層)、
17 透明な粘着層、
18 基体、
L 太陽光。
1, 1 'optical reflective film,
11 substrate,
12 Undercoat layer,
13a, 13b Multi-layer unit (9 layer multi-layer product),
14 low refractive index layer,
15 high refractive index layer,
16 Transparent hard coat layer (CHC layer),
17 Transparent adhesive layer,
18 substrate,
L Sunlight.

Claims (5)

基材上に、第1の水溶性高分子及び第1の金属酸化物粒子を含む高屈折率層、ならびに第2の水溶性高分子及び第2の金属酸化物粒子を含む低屈折率層を交互に積層して形成された光学干渉膜を有する光学反射フィルムにおいて、
前記光学干渉膜を構成する高屈折率層および低屈折率層の少なくとも1層が、活性エネルギー線により架橋する高分子化合物(以下、光反応性高分子化合物ともいう)であって、親水性主鎖に複数の側鎖を有する該高分子化合物に、活性エネルギー線を照射して得られる、側鎖間で架橋結合された光架橋型高分子化合物をバインダとして含有することを特徴とする光学反射フィルム。
A high refractive index layer containing a first water-soluble polymer and first metal oxide particles, and a low refractive index layer containing a second water-soluble polymer and second metal oxide particles on a substrate. In the optical reflection film having the optical interference film formed by alternately laminating,
At least one of the high refractive index layer and the low refractive index layer constituting the optical interference film is a polymer compound (hereinafter also referred to as a photoreactive polymer compound) that is cross-linked by active energy rays, and has a hydrophilic main property. Optical reflection characterized by containing as a binder a photocrosslinkable polymer compound obtained by irradiating active energy rays to the polymer compound having a plurality of side chains in the chain, which is crosslinked between the side chains the film.
前記光反応性高分子化合物の親水性主鎖と側鎖の部分構造が、下記一般式(A)
〔式中、Polyは親水性主鎖を表し、{ }内は側鎖を表し、Xは(p+l)価の連結基を表し、Bは架橋性基を表し、Yは水素原子または置換基を表す。mは0または1、nは0または1、pは正の整数を表す。pが2以上のとき、複数のB及びYは同一でも異なってもよい。〕で表されることを特徴とする請求項1に記載の光学反射フィルム。
The partial structure of the hydrophilic main chain and side chain of the photoreactive polymer compound has the following general formula (A)
[In the formula, Poly represents a hydrophilic main chain, {} represents a side chain, X l represents a (p + l) -valent linking group, B represents a crosslinkable group, and Y l represents a hydrogen atom or a substituted group. Represents a group. m represents 0 or 1, n represents 0 or 1, and p represents a positive integer. When p is 2 or more, the plurality of B and Y l may be the same or different. The optical reflective film according to claim 1, wherein
前記光反応性高分子化合物の親水性主鎖がポリ酢酸ビニルのケン化物であり、且つケン化度が77〜99%、重合度が500〜5000の範囲であることを特徴とする請求項1または2に記載の光学反射フィルム。   2. The hydrophilic main chain of the photoreactive polymer compound is a saponified product of polyvinyl acetate, having a saponification degree of 77 to 99% and a polymerization degree of 500 to 5,000. Or the optical reflection film of 2. 前記光反応性高分子化合物の親水性主鎖に対する前記側鎖の変性率が0.7〜4.5モル%の範囲であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の光学反射フィルム。   The modification rate of the side chain with respect to the hydrophilic main chain of the photoreactive polymer compound is in a range of 0.7 to 4.5 mol%, according to any one of claims 1 to 3. Optical reflective film. 請求項1〜4のいずれか1項に記載の光学反射フィルムが、基体の少なくとも一方の面に設けられてなる光学反射体。   An optical reflector formed by providing the optical reflective film according to any one of claims 1 to 4 on at least one surface of a substrate.
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