JP2016057537A - Optical reflection film, method for producing the same and optical reflection body prepared therewith - Google Patents
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Landscapes
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Abstract
Description
本発明は、光学反射フィルム、その製造方法およびそれを用いる光学反射体に関する。 The present invention relates to an optical reflection film, a method for producing the same, and an optical reflector using the same.
屈折率の異なる層を交互積層した積層ユニットを有する光学反射フィルムにおいて各層の光学特性を調整することで、近赤外線や遠赤外線、可視光、紫外線などの特定波長領域の光線を反射するように設計できることが知られている。 Designed to reflect light in a specific wavelength region such as near-infrared, far-infrared, visible light, and ultraviolet light by adjusting the optical characteristics of each layer in an optical reflective film that has a laminated unit in which layers with different refractive indexes are laminated alternately It is known that it can be done.
このような光学反射フィルムは、その用途に制限はないが、例えば、金属光沢調フィルム、可視光透過着色フィルム、遮熱フィルムとして好適に使用できる。 Although such an optical reflection film has no restriction | limiting in the use, For example, it can be used conveniently as a metallic glossy tone film, a visible light transmission coloring film, and a heat-shielding film.
上記に関する開発は、各種方面でなされており、例えば、特許文献1には、建築物の窓ガラスや車載ガラス及びそれらに貼着して利用するフィルム、眼鏡用レンズ、カメラ用レンズ、ディスプレー用フィルター等のプラスチックやガラス上に多層コートすることで特定波長を選択反射、または透過する機能性膜を実現するためのコーティング用組成物が開示されている。 Developments related to the above have been made in various fields. For example, Patent Document 1 discloses a window glass for a building, an in-vehicle glass, and a film, an eyeglass lens, a camera lens, and a display filter that are used by being attached to them. A coating composition for realizing a functional film that selectively reflects or transmits a specific wavelength by multilayer coating on plastic or glass such as the above is disclosed.
しかしながら、従来の光学反射フィルムにおいては、例えば、太陽光等に長時間曝されると、反射率が低下する問題があった。 However, the conventional optical reflection film has a problem that the reflectance decreases when exposed to, for example, sunlight for a long time.
そこで、本発明では、太陽光等に長時間曝されても、反射率の低下が抑制される、光学反射フィルムを提供することを目的とする。 Therefore, an object of the present invention is to provide an optical reflection film in which a decrease in reflectance is suppressed even when exposed to sunlight or the like for a long time.
また、かような光学反射フィルムの製造方法およびそれを用いる光学反射体を提供することを目的とする。 Moreover, it aims at providing the manufacturing method of such an optical reflection film, and an optical reflector using the same.
本発明者は、上記課題を解決すべく、鋭意検討を行った。 The present inventor has intensively studied to solve the above problems.
その過程で、太陽光等に長時間曝された際に、反射率が低下するメカニズムについて検討した。 In the process, the mechanism by which the reflectance decreases when exposed to sunlight for a long time was examined.
検討を進めていく中で、光学反射フィルムに、表面にスジや、割れ、あるいは剥がれが発生していることが分かり、それが、反射率の低下に繋がっていると考えた。そして、それは、外観の悪化にも繋がっていた。 As the study progressed, it was found that the optical reflective film had streaks, cracks, or peeling on the surface, which led to a decrease in reflectance. And it also led to the deterioration of the appearance.
光学反射フィルムは、通常、高屈折率層と、低屈折率層とからなる一ユニットを少なくとも一層含む反射層を、基材上に積層してなるが、本発明では、高屈折率層の金属酸化物として酸化チタン、低屈折率層の金属酸化物として酸化ケイ素を採用し、このユニットの少なくとも一つに、界面の剥離抑制処理を施すことで、スジや、割れ、あるいは剥がれなどの外観の低下が抑制され、ひいては、反射率を向上させることができることを見出し、本発明を完成させることができた。 The optical reflective film is usually formed by laminating a reflective layer including at least one unit composed of a high refractive index layer and a low refractive index layer on a substrate. In the present invention, the metal of the high refractive index layer is laminated. Titanium oxide is used as the oxide, and silicon oxide is used as the metal oxide of the low refractive index layer, and at least one of these units is subjected to an interface peeling suppression treatment, so that the appearance of streaks, cracks, peeling, etc. It was found that the decrease was suppressed, and as a result, the reflectance could be improved, and the present invention could be completed.
本発明によれば、太陽光等に長時間曝されても、反射率の低下が抑制される、光学反射フィルムを提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, even if it exposes to sunlight etc. for a long time, the optical reflection film by which the fall of a reflectance is suppressed can be provided.
また、かような光学反射フィルムの製造方法およびそれを用いる光学反射体を提供することができる。 Moreover, the manufacturing method of such an optical reflection film and an optical reflector using the same can be provided.
本発明の第1は、酸化チタンを含有する高屈折率層と、酸化ケイ素を含有する低屈折率層とからなる一ユニットを少なくとも一層含む反射層を、基材上に積層してなる、光学反射フィルムであって、前記ユニットの少なくとも一つに、界面の剥離抑制処理が施されている、光学反射フィルムである。 In the first aspect of the present invention, an optical layer is formed by laminating a reflective layer including at least one unit composed of a high refractive index layer containing titanium oxide and a low refractive index layer containing silicon oxide on a substrate. It is a reflection film, It is an optical reflection film by which the peeling prevention process of the interface is performed to at least one of the said units.
本発明の第2は、酸化チタンを含有する高屈折率層と、酸化ケイ素を含有する低屈折率層とからなる一ユニットを少なくとも一層含む反射層を、基材上に積層することを有する、光学反射フィルムの製造方法であって、前記ユニットの少なくとも一つに、界面の剥離抑制処理を施すことを有する、光学反射フィルムの製造方法である。 The second aspect of the present invention includes laminating a reflective layer including at least one unit composed of a high refractive index layer containing titanium oxide and a low refractive index layer containing silicon oxide on a substrate. It is a manufacturing method of an optical reflective film, Comprising: It is a manufacturing method of an optical reflective film which has performing the peeling suppression process of an interface to at least one of the said units.
本発明の第3は、本発明の第1の光学反射フィルム、または、本発明の第2の製造方法により光学反射フィルムが、基体の少なくとも一方の面に設けられてなる光学反射体である。 A third aspect of the present invention is an optical reflector in which an optical reflective film is provided on at least one surface of a substrate by the first optical reflective film of the present invention or the second production method of the present invention.
上記構成をとることによって、太陽光等に長時間曝されても、反射率の低下が抑制される、光学反射フィルムを提供することができる。 By adopting the above configuration, it is possible to provide an optical reflection film in which a decrease in reflectance is suppressed even when exposed to sunlight or the like for a long time.
また、かような光学反射フィルムの製造方法およびそれを用いる光学反射体を提供することができる。 Moreover, the manufacturing method of such an optical reflection film and an optical reflector using the same can be provided.
以下、本発明の好ましい実施形態について、詳細に説明する。なお、以下では、低屈折率層および高屈折率層を区別しない場合は、両者を含む、あるいはいずれか一方を指す概念として「屈折率層」と称する場合がある。 Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail. In the following, when the low refractive index layer and the high refractive index layer are not distinguished from each other, they may be referred to as “refractive index layer” as a concept including both or referring to either of them.
また、本明細書において、範囲を示す「X〜Y」は「X以上Y以下」を意味する。また、特記しない限り、操作および物性等の測定は室温(20〜25℃)/相対湿度40〜50%の条件で測定する。 In this specification, “X to Y” indicating a range means “X or more and Y or less”. Unless otherwise specified, measurement of operation and physical properties is performed under conditions of room temperature (20 to 25 ° C.) / Relative humidity 40 to 50%.
[本発明の第1]
本発明の第1は、酸化チタンを含有する高屈折率層と、酸化ケイ素を含有する低屈折率層とからなる一ユニットを少なくとも一層含む反射層を、基材上に積層してなる、光学反射フィルムであって、前記ユニットの少なくとも一つに、界面の剥離抑制処理が施されている、光学反射フィルムである。
[First of the present invention]
In the first aspect of the present invention, an optical layer is formed by laminating a reflective layer including at least one unit composed of a high refractive index layer containing titanium oxide and a low refractive index layer containing silicon oxide on a substrate. It is a reflection film, It is an optical reflection film by which the peeling prevention process of the interface is performed to at least one of the said units.
<光学反射フィルムの層構成>
まず、光学反射フィルムの層構成について説明する。本発明の第1に用いられる光学反射フィルムは、その基本の層構成として、酸化チタンを含有する高屈折率層と、酸化ケイ素を含有する低屈折率層とからなる一ユニットを少なくとも一層含む反射層を、基材上に積層してなる。ここで、該ユニットは、基材の片面にのみ形成されていてもよいし、両面に形成されていてもよい。
<Layer structure of optical reflection film>
First, the layer structure of the optical reflection film will be described. The optical reflection film used in the first aspect of the present invention has a basic layer structure that includes at least one unit composed of a high refractive index layer containing titanium oxide and a low refractive index layer containing silicon oxide. A layer is laminated | stacked on a base material. Here, the unit may be formed only on one side of the base material, or may be formed on both sides.
上記のように、従来の光学反射フィルムは、太陽光等に長時間曝されると、表面にスジや、割れ、あるいは剥がれが発生してしまう。それが、反射率の低下に繋がっていると、本発明者は考えた。 As described above, when the conventional optical reflective film is exposed to sunlight or the like for a long time, streaks, cracks, or peeling occurs on the surface. The inventor considered that this led to a decrease in reflectance.
そこで、酸化チタンを含有する高屈折率層と、酸化ケイ素を含有する低屈折率層とからなる一ユニットの少なくとも一層に、剥離抑制処理を施すことで、表面にスジや、割れ、あるいは剥がれを抑制し、また、反射率の低下を抑制することができた。 Therefore, at least one layer of one unit composed of a high refractive index layer containing titanium oxide and a low refractive index layer containing silicon oxide is subjected to a peeling suppression treatment, thereby causing streaks, cracks, or peeling on the surface. It was possible to suppress the decrease in reflectance.
ここで、剥離抑制処理の具体的方法については、酸化チタンを含有する高屈折率層と、酸化ケイ素を含有する低屈折率層との界面の剥離を抑制することができる方法であれば、特に制限されないが、好ましくは、光照射後の定常状態における、高屈折率層の温度と、光照射後の定常状態における、低屈折率層の温度との差を、小さくする処理を行う。 Here, the specific method of the peeling suppression treatment is particularly a method that can suppress peeling at the interface between the high refractive index layer containing titanium oxide and the low refractive index layer containing silicon oxide. Although not limited, preferably, a process for reducing the difference between the temperature of the high refractive index layer in the steady state after light irradiation and the temperature of the low refractive index layer in the steady state after light irradiation is performed.
より詳しく説明すると、本発明者は、表面にスジや、割れ、あるいは剥がれが発生してしまう原因について探求する課程で、高屈折率層の酸化チタンについて着目した。高屈折率層の酸化チタンは、太陽光等に照射されると温度が上昇するのに対して、低屈折率層の酸化ケイ素は、それと比較して上昇しない。そうすると、反射層内の各層における温度が不均一になって、各層の体積変化に差異が生じ、それに起因して、界面に剥離等が発生し、それが、反射率の低下、外観の悪化に繋がるのではないか、と考えた。 More specifically, the present inventor paid attention to titanium oxide of the high refractive index layer in the course of searching for the cause of the occurrence of streaks, cracks, or peeling on the surface. The temperature of the titanium oxide of the high refractive index layer rises when irradiated with sunlight or the like, whereas the silicon oxide of the low refractive index layer does not rise as compared with it. Then, the temperature in each layer in the reflective layer becomes non-uniform, resulting in a difference in the volume change of each layer, resulting in peeling and the like at the interface, which reduces the reflectance and deteriorates the appearance. I thought it would be connected.
そこで、本発明の第1の好ましい実施形態によれば、前記剥離抑制処理は、光照射後の定常状態における、高屈折率層の温度をX℃とし、低屈折率層の温度をY℃としたときに、下記式1: Therefore, according to the first preferred embodiment of the present invention, in the peeling suppression treatment, the temperature of the high refractive index layer is set to X ° C. and the temperature of the low refractive index layer is set to Y ° C. in a steady state after light irradiation. When the following formula 1:
を満たすようにすることによって行われてなる。 Will be done by satisfying.
このように、光照射後の定常状態における高屈折率層の温度と、光照射後の定常状態における低屈折率層の温度との差が、20℃以内となるようにすることで、界面の剥離をより抑制することができ、ひいては、反射率の低下、外観の悪化をより抑制することができる。 In this way, the difference between the temperature of the high refractive index layer in the steady state after light irradiation and the temperature of the low refractive index layer in the steady state after light irradiation is within 20 ° C. Peeling can be further suppressed, and as a result, a decrease in reflectance and a deterioration in appearance can be further suppressed.
ここで、「定常状態」とは、以下を意味する。 Here, “steady state” means the following.
すなわち、ある光源に由来する光が、光学反射フィルムに照射された場合、各層とも、時間の経過に応じて温度が上昇する。しかし、一定時間照射を継続すると、それ以上照射をしても実質的に昇温しなくなる。その実質的に昇温しなくなった状態を「定常状態」と定義する。なお、ここで「実質的に」とは、例えば、±3℃以内である場合を言う。 That is, when light derived from a certain light source is irradiated on the optical reflection film, the temperature of each layer increases with the passage of time. However, if irradiation is continued for a certain period of time, the temperature will not increase substantially even if irradiation is continued for a longer time. The state in which the temperature does not substantially increase is defined as “steady state”. Here, “substantially” means, for example, a case of within ± 3 ° C.
また、本発明の第1のより好ましい実施形態によれば、下記式2: According to a first more preferred embodiment of the present invention, the following formula 2:
を満たすようにすることによって行われてなる。 Will be done by satisfying.
このような構成にすることによって、表面の割れや、剥がれをさらに抑制(好ましくは防止)することができ、ひいては、反射率をさらに向上させ、また、さらなる外観の改善にも繋がる。 By adopting such a configuration, it is possible to further suppress (preferably prevent) cracking and peeling of the surface, thereby further improving the reflectance and further improving the appearance.
また、本発明の第1の別のより好ましい実施形態によれば、下記式3: Also, according to the first another more preferred embodiment of the present invention, the following formula 3:
を満たすようにすることによって行われてなる。 Will be done by satisfying.
このように、光照射後の定常状態における高屈折率層の温度が、光照射後の定常状態における低屈折率層の温度より高くなるように設定することで、表面の割れや、剥がれを抑制(好ましくは防止)することができ、ひいては、反射率を向上させることができる。ただし、後述するΔEの数値を小さくする観点で考えると、下記式4: In this way, by setting the temperature of the high refractive index layer in the steady state after light irradiation to be higher than the temperature of the low refractive index layer in the steady state after light irradiation, surface cracking and peeling are suppressed. (Preferably prevention), and thus the reflectance can be improved. However, from the viewpoint of reducing the numerical value of ΔE described later, the following formula 4:
と設定する方がよい。そのメカニズムは、高屈折率層の膜厚の変動が可視域の反射ピークに影響を与えるためと推測される。 It is better to set. The mechanism is presumed to be because the fluctuation of the film thickness of the high refractive index layer affects the reflection peak in the visible range.
なお、本発明の第1の光学反射フィルムは、基材の下または基材と反対側の最表面層の上に、さらなる機能の付加を目的として、導電性層、帯電防止層、ガスバリア層、易接着層(接着層)、防汚層、消臭層、流滴層、易滑層、ハードコート層、耐摩耗性層、反射防止層、電磁波シールド層、紫外線吸収層、赤外線吸収層、印刷層、蛍光発光層、ホログラム層、剥離層、粘着層、接着層、上記高屈折率層および低屈折率層以外の赤外線カット層(金属層、液晶層)、着色層(可視光線吸収層)、合わせガラスに利用される中間膜層などの機能層の1つ以上を有していてもよい。なお、上述の各種の機能層の積層順は、特に制限されない。 The first optical reflective film of the present invention is a conductive layer, an antistatic layer, a gas barrier layer, for the purpose of adding further functions under the base material or on the outermost surface layer opposite to the base material. Easy adhesion layer (adhesion layer), antifouling layer, deodorant layer, droplet layer, easy slip layer, hard coat layer, wear-resistant layer, antireflection layer, electromagnetic wave shielding layer, ultraviolet absorption layer, infrared absorption layer, printing Layer, fluorescent light emitting layer, hologram layer, release layer, adhesive layer, adhesive layer, infrared cut layer (metal layer, liquid crystal layer) other than the above high refractive index layer and low refractive index layer, colored layer (visible light absorbing layer), You may have 1 or more of functional layers, such as an intermediate film layer utilized for a laminated glass. The order of stacking the various functional layers described above is not particularly limited.
例えば、窓ガラスの室内側に光学反射フィルムを貼る(内貼り)仕様では、基材表面に、上記高屈折率層および低屈折率層を積層したユニットを少なくとも1つ含む光学反射層、粘着層の順に積層し、さらにこれらの層が積層されている側とは逆の側の基材表面にハードコート層を塗設する形態が好ましい一例として挙げられる。また、粘着層、基材、光学反射層、ハードコート層の順であってもよく、さらに他の機能層、基材、または赤外吸収剤などを有していてもよい。また、窓ガラスの室外側に本発明の光学反射フィルムを貼る(外貼り)仕様でも好ましい一例を挙げると、基材表面に光学反射層、粘着層の順に積層し、さらにこれらの層が積層されている側とは逆の側の基材表面にハードコート層が塗設する構成である。内貼りの場合と同様に、粘着層、基材、光学反射層、ハードコート層の順であってもよく、さらに他の機能層基材、または赤外吸収剤などを有していてもよい。 For example, in the specification of attaching an optical reflection film to the indoor side of a window glass (internal bonding), an optical reflection layer and an adhesive layer including at least one unit in which the high refractive index layer and the low refractive index layer are laminated on the substrate surface A preferred example is a form in which a hard coat layer is coated on the base material surface on the side opposite to the side on which these layers are laminated. Moreover, the order may be an adhesive layer, a base material, an optical reflection layer, and a hard coat layer, and may further have another functional layer, a base material, or an infrared absorber. Moreover, if a preferable example is given also in the specification which affixes the optical reflection film of this invention on the outdoor side of a window glass (outside sticking), it will laminate | stack in order of an optical reflection layer and an adhesion layer on the base-material surface, and also these layers will be laminated | stacked. The hard coat layer is coated on the surface of the base material on the side opposite to the coated side. As in the case of the internal bonding, the order may be an adhesive layer, a base material, an optical reflection layer, and a hard coat layer, and may further have another functional layer base material or an infrared absorber. .
ただし、上記のような機能層を付与する形態であったとしても、光照射後の定常状態における高屈折率層の温度と、光照射後の定常状態における低屈折率層の温度との差を、小さくする処理を行うようにすることがよい。 However, even if the functional layer is provided as described above, the difference between the temperature of the high refractive index layer in the steady state after light irradiation and the temperature of the low refractive index layer in the steady state after light irradiation is It is preferable to perform a process of reducing the size.
<高屈折率層中の酸化チタン>
本発明において、高屈折率層は、高屈折率層用塗布液を塗布することによりなる。
<Titanium oxide in the high refractive index layer>
In the present invention, the high refractive index layer is formed by applying a coating solution for a high refractive index layer.
本発明において、高屈折率層に使用される酸化チタンは、特に限定されないが、粒子状のものが想定されている。本発明では、透明でより屈折率の高い高屈折率層を形成するために、高屈折率層は、金属酸化物微粒子として酸化チタンを含有する。特に、ルチル型(正方晶形)酸化チタン粒子を含有することが高屈折率を示すことから好ましい。 In the present invention, the titanium oxide used in the high refractive index layer is not particularly limited, but a particulate form is assumed. In the present invention, in order to form a transparent and higher refractive index layer having a higher refractive index, the high refractive index layer contains titanium oxide as metal oxide fine particles. In particular, it is preferable to contain rutile (tetragonal) titanium oxide particles because of high refractive index.
水系の酸化チタンゾルの調製方法としては、従来公知のいずれの方法も用いることができ、例えば、特開昭63−17221号公報、特開平7−819号公報、特開平9−165218号公報、特開平11−43327号公報、特開昭63−17221号公報、特開平7−819号公報、特開平9−165218号公報、特開平11−43327号公報等に記載された事項を参照することができる。 As a method for preparing the aqueous titanium oxide sol, any conventionally known method can be used. For example, JP-A-63-17221, JP-A-7-819, JP-A-9-165218, Refer to the matters described in Kaihei 11-43327, JP-A-63-17221, JP-A-7-819, JP-A-9-165218, JP-A-11-43327, etc. it can.
また、酸化チタン粒子のその他の製造方法については、例えば、「酸化チタン−物性と応用技術」清野学 p255〜258(2000年)技報堂出版株式会社、またはWO2007/039953号明細書の段落番号「0011」〜「0023」に記載の工程(2)の方法を参考にすることができる。ここで、上記工程(2)による製造方法とは、二酸化チタン水和物をアルカリ金属の水酸物またはアルカリ土類金属の水酸化物からなる群から選択される、少なくとも1種の塩基性化合物で処理する工程(1)の後に、得られた二酸化チタン分散物を、カルボン酸基含有化合物および無機酸で処理する工程(2)からなる。 As for other methods for producing titanium oxide particles, for example, “Titanium oxide—physical properties and applied technology”, Kiyono Manabu, p. 255-258 (2000), Gihodo Publishing Co., Ltd. The method of the step (2) described in “˜0023” can be referred to. Here, the production method according to the above step (2) refers to at least one basic compound selected from the group consisting of an alkali metal hydroxide or an alkaline earth metal hydroxide. After the step (1) of treating with, the titanium dioxide dispersion obtained comprises a step (2) of treating with a carboxylic acid group-containing compound and an inorganic acid.
さらに、酸化チタンは、含ケイ素の酸化物で被覆されたコアシェル粒子の形態が好ましい。ここで、「被覆」とは、酸化チタン粒子の表面の少なくとも一部に、含ケイ素の酸化物が付着されている状態を意味する。すなわち、酸化チタン粒子の表面が、完全に含ケイ素の酸化物で被覆されていてもよく、酸化チタン粒子の表面の一部が含ケイ素の酸化物で被覆されていてもよい。 Further, the titanium oxide is preferably in the form of core-shell particles coated with a silicon-containing oxide. Here, the “coating” means a state in which a silicon-containing oxide is attached to at least a part of the surface of the titanium oxide particles. That is, the surface of the titanium oxide particles may be completely covered with a silicon-containing oxide, or a part of the surface of the titanium oxide particles may be covered with a silicon-containing oxide.
上記のように、含ケイ素の酸化物で被覆された酸化チタン粒子の酸化チタンはルチル型であってもアナターゼ型であってもよいが、ルチル型であることがより好ましい。これは、ルチル型の酸化チタン粒子が、アナターゼ型の酸化チタン粒子より光触媒活性が低いため、高屈折率層や隣接した低屈折率層の耐候性が高くなり、さらに屈折率が高くなるという理由からである。 As described above, the titanium oxide of the titanium oxide particles coated with the silicon-containing oxide may be a rutile type or an anatase type, but is more preferably a rutile type. This is because the rutile type titanium oxide particles have lower photocatalytic activity than the anatase type titanium oxide particles, and therefore the weather resistance of the high refractive index layer and the adjacent low refractive index layer is increased, and the refractive index is further increased. Because.
含ケイ素の酸化物の被覆量は、コアとなる酸化チタンに対して、3〜30質量%、好ましくは3〜20質量%、より好ましくは3〜10質量%である。被覆量が30質量%以下であると、高屈折率層の所望の屈折率化が得られ、被覆量が3質量%以上であると粒子を安定に形成することができるからである。 The coating amount of the silicon-containing oxide is 3 to 30% by mass, preferably 3 to 20% by mass, and more preferably 3 to 10% by mass with respect to titanium oxide serving as the core. This is because when the coating amount is 30% by mass or less, a desired refractive index of the high refractive index layer can be obtained, and when the coating amount is 3% by mass or more, particles can be stably formed.
酸化チタン粒子を含ケイ素の酸化物で被覆する方法としては、本実施例に示されるような、加熱、濾過、脱塩を経る方法でもよいし、あるいは、従来公知の方法を適用することもでき、例えば、特開平10−158015号公報、特開2000−204301号公報、特開2007−246351号公報等に記載された事項を参照にすることができる。 As a method of coating the titanium oxide particles with the silicon-containing oxide, a method through heating, filtration and desalting as shown in this example may be used, or a conventionally known method may be applied. For example, the matters described in JP-A-10-158015, JP-A-2000-204301, JP-A-2007-246351 and the like can be referred to.
なお、高屈折率層の金属酸化物として含ケイ素の酸化物で被覆された酸化チタン粒子を用いることで、シェル層の含ケイ素の酸化物と、後述するポリビニルアルコールとの相互作用により、高屈折率層と低屈折率層との層間混合が抑制される効果を奏する。 By using titanium oxide particles coated with a silicon-containing oxide as the metal oxide of the high refractive index layer, a high refractive index is obtained due to the interaction between the silicon-containing oxide of the shell layer and polyvinyl alcohol described later. The interlayer mixing of the refractive index layer and the low refractive index layer is suppressed.
酸化チタン粒子(被覆された酸化チタン粒子)の体積平均粒径は、1〜50nmであることがより好ましく、10〜40nmであるのがさらに好ましい。ここで、本明細書でいう体積平均粒径とは、粒子そのものをレーザー回折散乱法、動的光散乱法、あるいは電子顕微鏡を用いて観察する方法や、屈折率層の断面や表面に現れた粒子像を電子顕微鏡で観察する方法により、1,000個の任意の粒子の粒径を測定し、それぞれd1、d2・・・di・・・dkの粒径を持つ粒子がそれぞれn1、n2・・・ni・・・nk個存在する無機酸化物粒子の集団において、粒子1個当りの体積をviとした場合に、体積平均粒径mv={Σ(vi・di)}/{Σ(vi)}で表される体積で重み付けされた平均粒径を算出する。 The volume average particle diameter of the titanium oxide particles (coated titanium oxide particles) is more preferably 1 to 50 nm, and further preferably 10 to 40 nm. Here, the volume average particle size referred to in the present specification is a method of observing the particles themselves using a laser diffraction scattering method, a dynamic light scattering method, or an electron microscope, or appears on the cross section or surface of the refractive index layer. The particle diameter of 1,000 arbitrary particles is measured by a method of observing the particle image with an electron microscope, and particles having particle diameters of d1, d2,. ..., Ni..., Nk inorganic oxide particles, where the volume average particle diameter mv = {Σ (vi · di)} / {Σ (vi )} Is calculated by weighting the average particle size.
さらに、高屈折率層に用いられる酸化チタン粒子は、単分散であることが好ましい。ここでいう単分散とは、下記式で求められる単分散度が40%以下であることをいう。この単分散度は、さらに好ましくは30%以下であり、特に好ましくは0.1〜20%である。このような範囲であると、膨張、伸縮時の応力の特異的な集中がなくわれに強い技術的効果を有する。 Furthermore, the titanium oxide particles used for the high refractive index layer are preferably monodispersed. The monodispersion here means that the monodispersity obtained by the following formula is 40% or less. This monodispersity is more preferably 30% or less, and particularly preferably 0.1 to 20%. Within such a range, there is a strong technical effect since the specific concentration of stress during expansion and expansion / contraction is eliminated.
また、高屈折率層における酸化チタン粒子の含有量としては、特に制限されないが、高屈折率層において、15〜90体積%であることが好ましく、20〜85体積%であることがより好ましく、30〜80体積%であることがさらに好ましく、40〜80体積%であることが特に好ましい。上記範囲とすることで、光学反射特性の良好なものとできる。よって、本発明の第1の好ましい実施形態によれば、前記酸化チタンの含有量は、前記高屈折率層において、40〜80体積%である。 Further, the content of titanium oxide particles in the high refractive index layer is not particularly limited, but in the high refractive index layer, it is preferably 15 to 90% by volume, more preferably 20 to 85% by volume, More preferably, it is 30-80 volume%, and it is especially preferable that it is 40-80 volume%. By setting it as the said range, it can be set as a favorable optical reflection characteristic. Therefore, according to the first preferred embodiment of the present invention, the content of the titanium oxide is 40 to 80% by volume in the high refractive index layer.
<低屈折率層中の酸化ケイ素>
本発明において、低屈折率層は、低屈折率層用塗布液を塗布することによりなる。
<Silicon oxide in the low refractive index layer>
In the present invention, the low refractive index layer is formed by applying a coating solution for the low refractive index layer.
本発明において、低屈折率層中に使用される酸化ケイ素は、具体的な例としては、合成非晶質シリカ、コロイダルシリカ等が挙げられる。これらのうち、コロイダルシリカ、特に酸性のコロイダルシリカを用いることがより好ましい。酸性のコロイダルシリカを用いることで、水溶性樹脂と安定な塗布液を形成でき、生産性が向上する技術的効果を有する。 In the present invention, specific examples of the silicon oxide used in the low refractive index layer include synthetic amorphous silica and colloidal silica. Of these, colloidal silica, particularly acidic colloidal silica is more preferably used. By using acidic colloidal silica, a water-soluble resin and a stable coating solution can be formed, and the technical effect of improving productivity is obtained.
低屈折率層中の酸化ケイ素の平均一次粒径(塗布前の分散液状態での粒径)は、1〜25nmであるのがより好ましく、2〜20nmであるのがさらに好ましく、3〜10nmであるのが特に好ましく、4〜10nmであるのが最も好ましい。また、二次粒子の平均粒径としては、30nm以下であることが、ヘイズが少なく可視光透過性に優れる観点で好ましい。 The average primary particle size of the silicon oxide in the low refractive index layer (particle size in the dispersion state before coating) is more preferably 1 to 25 nm, further preferably 2 to 20 nm. It is particularly preferred that it is 4 to 10 nm. Moreover, as an average particle diameter of secondary particle | grains, it is preferable from a viewpoint with few hazes and excellent visible light transmittance | permeability that it is 30 nm or less.
ここで、本明細書において平均一次粒径は、透過型電子顕微鏡(TEM)等による電子顕微鏡写真から計測することができる。動的光散乱法や静的光散乱法等を利用する粒度分布計等によって計測してもよい。透過型電子顕微鏡から求める場合、平均一次粒径は、粒子そのものあるいは屈折率層の断面や表面に現れた粒子を電子顕微鏡で観察し、1000個の任意の粒子の粒径を測定し、その単純平均値(個数平均)として求められる。ここで個々の粒子の粒径は、その投影面積に等しい円を仮定したときの直径で表したものである。本発明においては、透過型電子顕微鏡を用いた方法を採用するものとする。 Here, in the present specification, the average primary particle size can be measured from an electron micrograph taken with a transmission electron microscope (TEM) or the like. You may measure by the particle size distribution meter etc. which utilize a dynamic light scattering method, a static light scattering method, etc. When determined from a transmission electron microscope, the average primary particle size is determined simply by observing the particle itself or particles appearing on the cross section or surface of the refractive index layer with an electron microscope, measuring the particle size of 1000 arbitrary particles, It is obtained as an average value (number average). Here, the particle diameter of each particle is represented by a diameter assuming a circle equal to the projected area. In the present invention, a method using a transmission electron microscope is adopted.
なお、本発明で用いられうるコロイダルシリカは、珪酸ナトリウムの酸等による複分解やイオン交換樹脂層を通過させて得られるシリカゾルを加熱熟成して得られるものであることも好ましく、例えば、特開昭57−14091号公報、特開昭60−219083号公報、特開昭60−219084号公報、特開昭61−20792号公報、特開昭61−188183号公報、特開昭63−17807号公報、特開平4−93284号公報、特開平5−278324号公報、特開平6−92011号公報、特開平6−183134号公報、特開平6−297830号公報、特開平7−81214号公報、特開平7−101142号公報、特開平7−179029号公報、特開平7−137431号公報、および国際公開第94/26530号などに記載されているものがよい。 The colloidal silica that can be used in the present invention is also preferably obtained by metathesis of sodium silicate with an acid or the like, or by heating and aging a silica sol obtained by passing through an ion exchange resin layer. JP-A-57-14091, JP-A-60-219083, JP-A-60-219084, JP-A-61-20792, JP-A-61-188183, JP-A-63-17807 JP-A-4-93284, JP-A-5-278324, JP-A-6-92011, JP-A-6-183134, JP-A-6-297830, JP-A-7-81214, Kaihei 7-101142, JP-A-7-179029, JP-A-7-137431, and WO94 / 26530. It is those described in etc..
このようなコロイダルシリカは合成品を用いてもよいし、市販品を用いてもよい。市販品としては、日産化学工業(株)から販売されているスノーテックスシリーズ(スノーテックスOS、OXS、S、OS、20、30、40、O、N、C等)が挙げられる。 Such colloidal silica may be a synthetic product or a commercially available product. Examples of commercially available products include the Snowtex series (Snowtex OS, OXS, S, OS, 20, 30, 40, O, N, C, etc.) sold by Nissan Chemical Industries.
低屈折率層における酸化ケイ素の含有量は、低屈折率層の全固形分に対して、20〜90質量%であることが好ましく、30〜85質量%であることがより好ましく、40〜80質量%であることがさらに好ましい。20質量%以上であると、所望の屈折率が得られ90質量%以下であると塗布性が良好となり好ましい。 The content of silicon oxide in the low refractive index layer is preferably 20 to 90 mass%, more preferably 30 to 85 mass%, more preferably 40 to 80 mass% based on the total solid content of the low refractive index layer. More preferably, it is mass%. When it is 20% by mass or more, a desired refractive index is obtained, and when it is 90% by mass or less, the coatability is good, which is preferable.
上記のように、剥離抑制処理の具体的方法は、酸化チタンを含有する高屈折率層と、酸化ケイ素を含有する低屈折率層との界面の剥離を抑制することができる方法であれば、特に制限されないが、好ましくは、光照射後の定常状態における高屈折率層の温度と、光照射後の定常状態における低屈折率層の温度との差を、小さくする処理を行う。 As described above, the specific method of the peeling suppression treatment is a method capable of suppressing peeling at the interface between the high refractive index layer containing titanium oxide and the low refractive index layer containing silicon oxide. Although not particularly limited, preferably, a process for reducing the difference between the temperature of the high refractive index layer in the steady state after light irradiation and the temperature of the low refractive index layer in the steady state after light irradiation is performed.
ここで、かような処理の具体的方法についても特に制限されないが、高屈折率層の温度の上昇に、低屈折率層の温度を追随させるような形態で行うことがよい。そのような形態としては、本発明の第1の好ましい実施形態によれば、前記剥離抑制処理を、低屈折率層に、温度上昇促進剤を含ませることによって行う。低屈折率層に、温度上昇促進剤を含ませることによって、高屈折率層の温度上昇に、低屈折率層の温度上昇も追随し、ひいては、温度差を小さくすることができ、結果的に、界面の剥離の発生、反射率の低下および外観の悪化を抑制することができる。このように、好ましくは、温度上昇促進剤は、低屈折率層にのみ含有させる。 Here, the specific method of such treatment is not particularly limited, but it is preferable that the temperature of the low refractive index layer is made to follow the increase in the temperature of the high refractive index layer. As such a form, according to the first preferred embodiment of the present invention, the peeling suppression treatment is performed by including a temperature increase accelerator in the low refractive index layer. By including a temperature increase accelerator in the low refractive index layer, the temperature increase of the low refractive index layer can follow the temperature increase of the high refractive index layer, and as a result, the temperature difference can be reduced. Further, it is possible to suppress the occurrence of peeling of the interface, a decrease in reflectance, and a deterioration in appearance. Thus, preferably, the temperature rise accelerator is contained only in the low refractive index layer.
ただし、高屈折率層に、温度上昇促進剤を含有してはいけないわけではなく、高屈折率層にも、同様の温度上昇促進剤を含ませるのであれば、前記低屈折率層中の温度上昇促進剤の含有量が、前記高屈折率層中の温度上昇促進剤の含有量より多くなるように設定することが好ましい。 However, the high refractive index layer should not contain a temperature rise accelerator. If the high refractive index layer contains a similar temperature rise accelerator, the temperature in the low refractive index layer is not limited. It is preferable to set the content of the increase promoter to be higher than the content of the temperature increase accelerator in the high refractive index layer.
また、温度上昇促進剤の種類によっても、昇温速度(つまり、単位時間当たりの温度上昇の速度)が異なる場合もあるので、各屈折率層への含有量は、温度上昇促進剤の種類に応じて、適宜調整すればよい。また、高屈折率層に、温度上昇促進剤を含有させるのであれば、温度上昇促進剤の種類に応じても、含有量等を調整する方がよい。 In addition, the rate of temperature increase (that is, the rate of temperature increase per unit time) may vary depending on the type of temperature increase accelerator, so the content in each refractive index layer depends on the type of temperature increase accelerator. Accordingly, it may be adjusted as appropriate. Further, if the high-refractive index layer contains a temperature rise accelerator, it is better to adjust the content and the like depending on the type of the temperature rise accelerator.
ここで、本発明の第1のより好ましい実施形態によれば、前記温度上昇促進剤の含有量は、前記低屈折率層の全固形分に対して、0.7〜5質量%である。このような構成とすることで、光照射後の定常状態における高屈折率層の温度と、光照射後の定常状態における低屈折率層の温度との差を、有意に小さくすることができ、表面の割れや、剥がれを抑制(好ましくは防止)することができ、ひいては、反射率を向上させ、また、外観の改善にも繋がる。より好ましくは、前記温度上昇促進剤の含有量は、前記低屈折率層の全固形分に対して、0.8〜4.9質量%であり、さらに好ましくは1.1〜4.8質量%である。 Here, according to the 1st more preferable embodiment of this invention, content of the said temperature rise promoter is 0.7-5 mass% with respect to the total solid of the said low refractive index layer. By adopting such a configuration, the difference between the temperature of the high refractive index layer in the steady state after light irradiation and the temperature of the low refractive index layer in the steady state after light irradiation can be significantly reduced. Surface cracking and peeling can be suppressed (preferably prevented), and as a result, the reflectance is improved and the appearance is also improved. More preferably, the content of the temperature rise accelerator is 0.8 to 4.9% by mass, and more preferably 1.1 to 4.8% by mass with respect to the total solid content of the low refractive index layer. %.
温度上昇促進剤としては、低屈折率層の温度を上昇させることができるものであれば、特に制限はされないが、トリアゾール骨格、ベンゾフェノン骨格またはイミダゾール骨格を有する。このような構成とすることで、本発明の効果を効率的に奏することができる。 The temperature rise accelerator is not particularly limited as long as it can raise the temperature of the low refractive index layer, but has a triazole skeleton, a benzophenone skeleton, or an imidazole skeleton. With such a configuration, the effects of the present invention can be efficiently achieved.
また、本発明における好ましい実施形態によると、温度上昇促進剤の化合物は、カルボン酸Na基、リン酸Na基、スルホ基または−SO3Naを有する。このような構成によって、水溶性が付与されるとの技術的効果を有する。 Further, according to a preferred embodiment of the present invention, the compound for the temperature rise accelerator has a carboxylic acid Na group, a phosphoric acid Na group, a sulfo group or —SO 3 Na. Such a configuration has a technical effect that water solubility is imparted.
本発明における好ましい実施形態によると、トリアゾール骨格を有するものとしては、ベンゾトリアゾール骨格を有する化合物であることが好ましく、例えば、下記の一般式(1)で表される化合物が好適に挙げられる。 According to a preferred embodiment of the present invention, the compound having a triazole skeleton is preferably a compound having a benzotriazole skeleton, and examples thereof include a compound represented by the following general formula (1).
一般式(1)において、R1は、水素原子、ハロゲン原子または炭素数1〜10、好ましくは1〜6のアルキル基を示す。ハロゲン原子としてはフッ素、塩素、臭素またはヨウ素を挙げることができる。アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、i−プロピル基、ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、シクロヘキシル基等を挙げることができる。R1の置換位置は、ベンゾトリアゾール骨格の4位または5位であることが好ましいが、ハロゲン原子およびアルキル基は4位に位置することが好ましい。R2は、水素原子または炭素数1〜10、好ましくは1〜6のアルキル基を示す。アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、i−プロピル基、ブチル基、t−ブチル基、i−ブチル基、シクロヘキシル基等を挙げることができる。R3は、炭素数1〜10、好ましくは1〜3のアルキル基、スルホ基または−SO3Naを示す。 In the general formula (1), R 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 6 carbon atoms. As the halogen atom, there can be mentioned fluorine, chlorine, bromine or iodine. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an i-propyl group, a butyl group, a sec-butyl group, a t-butyl group, and a cyclohexyl group. The substitution position of R 1 is preferably the 4- or 5-position of the benzotriazole skeleton, but the halogen atom and the alkyl group are preferably located at the 4-position. R 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 6 carbon atoms. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an i-propyl group, a butyl group, a t-butyl group, an i-butyl group, and a cyclohexyl group. R 3 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 3 carbon atoms, a sulfo group, or —SO 3 Na.
本発明における好ましい実施形態によると、ベンゾフェノン骨格を有するものとしては、例えば、下記の一般式(2)〜(3)で示される化合物が好適に挙げられる。 According to a preferred embodiment of the present invention, examples of the compound having a benzophenone skeleton include compounds represented by the following general formulas (2) to (3).
上記一般式(2)、一般式(3)において、
R4〜R6は、それぞれ独立して、炭素数1〜10、好ましくは1〜6のアルキル基、炭素数1〜10、好ましくは1〜6のアルコキシ基、スルホ基または−SO3Naである。アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、i−プロピル基、ブチル基、t−ブチル基、及びシクロヘキシル基を挙げることができる。アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、i−プロポキシ基、及びブトキシ基を挙げることができる。
In the above general formula (2) and general formula (3),
R 4 to R 6 are each independently an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 6 carbon atoms, a sulfo group, or —SO 3 Na. is there. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an i-propyl group, a butyl group, a t-butyl group, and a cyclohexyl group. As an alkoxy group, a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, i-propoxy group, and a butoxy group can be mentioned, for example.
q1〜q3は、それぞれ独立して、0〜4であり、好ましくは1〜3であり、より好ましくは2である。 q < 1 > -q < 3 > is 0-4 each independently, Preferably it is 1-3, More preferably, it is 2.
なお、一般式(3)中、R5およびR6の好ましい組み合わせは、それぞれ、1〜6のアルコキシ基、スルホ基および−SO3Naの少なくとも二種;1〜6のアルコキシ基、スルホ基および−SO3Naの少なくとも二種である。 In general formula (3), preferred combinations of R 5 and R 6 are each at least two of 1 to 6 alkoxy groups, sulfo groups, and —SO 3 Na; 1 to 6 alkoxy groups, sulfo groups, and at least two of the -SO 3 Na.
本発明における好ましい実施形態によると、イミダゾール骨格を有するものとしては、 According to a preferred embodiment of the present invention, as having an imidazole skeleton,
上記一般式(4)において、
R7は、炭素数1〜10、好ましくは1〜3のアルキル基、スルホ基または−SO3Naを示す。R7の置換位置は、特に制限されない。
In the general formula (4),
R 7 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 3 carbon atoms, a sulfo group or —SO 3 Na. The substitution position of R 7 is not particularly limited.
<基材>
本発明の第1の光学反射フィルムの基材としては、種々の樹脂フィルムを用いることができ、ポリオレフィンフィルム(ポリエチレン、ポリプロピレン等)、ポリエステルフィルム(ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート等)、ポリ塩化ビニル、3酢酸セルロース等を用いることができ、好ましくはポリエステルフィルムである。ポリエステルフィルム(以降ポリエステルと称す)としては、特に限定されるものではないが、ジカルボン酸成分とジオール成分を主要な構成成分とするフィルム形成性を有するポリエステルであることが好ましい。
<Base material>
As the substrate of the first optical reflective film of the present invention, various resin films can be used. Polyolefin film (polyethylene, polypropylene, etc.), polyester film (polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate, etc.), poly Vinyl chloride, cellulose acetate and the like can be used, and a polyester film is preferable. Although it does not specifically limit as a polyester film (henceforth polyester), It is preferable that it is polyester which has the film formation property which has a dicarboxylic acid component and a diol component as main structural components.
主要な構成成分のジカルボン酸成分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、2,7−ナフタレンジカルボン酸、ジフェニルスルホンジカルボン酸、ジフェニルエーテルジカルボン酸、ジフェニルエタンジカルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、ジフェニルジカルボン酸、ジフェニルチオエーテルジカルボン酸、ジフェニルケトンジカルボン酸、フェニルインダンジカルボン酸などを挙げることができる。また、ジオール成分としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、テトラメチレングリコール、シクロヘキサンジメタノール、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシエトキシフェニル)プロパン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン、ビスフェノールフルオレンジヒドロキシエチルエーテル、ジエチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ハイドロキノン、シクロヘキサンジオールなどを挙げることができる。これらを主要な構成成分とするポリエステルの中でも透明性、機械的強度、寸法安定性などの点から、ジカルボン酸成分として、テレフタル酸や2,6−ナフタレンジカルボン酸、ジオール成分として、エチレングリコールや1,4−シクロヘキサンジメタノールを主要な構成成分とするポリエステルが好ましい。中でも、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートを主要な構成成分とするポリエステルや、テレフタル酸と2,6−ナフタレンジカルボン酸とエチレングリコールからなる共重合ポリエステル、およびこれらのポリエステルの2種以上の混合物を主要な構成成分とするポリエステルが好ましい。 The main constituent dicarboxylic acid components include terephthalic acid, isophthalic acid, phthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 2,7-naphthalenedicarboxylic acid, diphenylsulfone dicarboxylic acid, diphenyl ether dicarboxylic acid, diphenylethanedicarboxylic acid, Examples thereof include cyclohexane dicarboxylic acid, diphenyl dicarboxylic acid, diphenyl thioether dicarboxylic acid, diphenyl ketone dicarboxylic acid, and phenylindane dicarboxylic acid. Examples of the diol component include ethylene glycol, propylene glycol, tetramethylene glycol, cyclohexanedimethanol, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxyethoxyphenyl) propane, bis ( 4-Hydroxyphenyl) sulfone, bisphenol fluorene hydroxyethyl ether, diethylene glycol, neopentyl glycol, hydroquinone, cyclohexanediol and the like. Among the polyesters having these as main constituent components, from the viewpoint of transparency, mechanical strength, dimensional stability, etc., dicarboxylic acid components such as terephthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, diol components such as ethylene glycol and 1 Polyester having 1,4-cyclohexanedimethanol as the main constituent is preferred. Of these, polyesters mainly composed of polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, copolymerized polyesters composed of terephthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid and ethylene glycol, and mixtures of two or more of these polyesters are mainly used. Polyester as a constituent component is preferable.
本発明に用いられる基材の厚みは、10〜300μm、特に20〜150μmであることが好ましい。また、基材は、2枚重ねたものであってもよく、この場合、その種類が同じでも異なってもよい。 The thickness of the base material used in the present invention is preferably 10 to 300 μm, particularly 20 to 150 μm. In addition, two substrates may be stacked, and in this case, the type may be the same or different.
基材は、JIS R3106−1998で示される可視光領域の透過率が85%以上であることが好ましく、特に90%以上であることが好ましい。基材が上記透過率以上であることにより、赤外遮蔽フィルムとしたときのJIS R3106−1998で示される可視光領域の透過率を50%以上(上限:100%)にするという点で有利であり、好ましい。 The substrate preferably has a visible light region transmittance of 85% or more as shown in JIS R3106-1998, particularly preferably 90% or more. The base material having the above transmittance or more is advantageous in that the transmittance in the visible light region shown in JIS R3106-1998 is 50% or more (upper limit: 100%) when an infrared shielding film is used. Yes, it is preferable.
また、上記樹脂等を用いた基材は、未延伸フィルムでもよく、延伸フィルムでもよい。
強度向上、熱膨張抑制の点から延伸フィルムが好ましい。
In addition, the base material using the resin or the like may be an unstretched film or a stretched film.
A stretched film is preferable from the viewpoint of strength improvement and thermal expansion suppression.
基材は、従来公知の一般的な方法により製造することが可能である。例えば、材料となる樹脂を押し出し機により溶融し、環状ダイやTダイにより押し出して急冷することにより、実質的に無定形で配向していない未延伸の基材を製造することができる。また、未延伸の基材を一軸延伸、テンター式逐次二軸延伸、テンター式同時二軸延伸、チューブラー式同時二軸延伸などの公知の方法により、基材の流れ(縦軸)方向、または基材の流れ方向と直角(横軸)方向に延伸することにより延伸基材を製造することができる。この場合の延伸倍率は、基材の原料となる樹脂に合わせて適宜選択することできるが、縦軸方向および横軸方向にそれぞれ2〜10倍が好ましい。 The substrate can be produced by a conventionally known general method. For example, an unstretched substrate that is substantially amorphous and not oriented can be produced by melting a resin as a material with an extruder, extruding it with an annular die or a T-die, and quenching. In addition, the unstretched base material is subjected to a known method such as uniaxial stretching, tenter-type sequential biaxial stretching, tenter-type simultaneous biaxial stretching, tubular-type simultaneous biaxial stretching, or the flow direction of the base material (vertical axis), or A stretched substrate can be produced by stretching in the direction perpendicular to the flow direction of the substrate (horizontal axis). The draw ratio in this case can be appropriately selected according to the resin as the raw material of the substrate, but is preferably 2 to 10 times in the vertical axis direction and the horizontal axis direction.
また、基材は、寸法安定性の点で弛緩処理、オフライン熱処理を行ってもよい。弛緩処理は前記ポリエステルフィルムの延伸製膜工程中の熱固定した後、横延伸のテンター内、またはテンターを出た後の巻き取りまでの工程で行われるのが好ましい。弛緩処理は処理温度が80〜200℃で行われることが好ましく、より好ましくは処理温度が100〜180℃である。また長手方向、幅手方向ともに、弛緩率が0.1〜10%の範囲で行われることが好ましく、より好ましくは弛緩率が2〜6%で処理されることである。弛緩処理された基材は、下記のオフライン熱処理を施すことにより耐熱性が向上し、さらに、寸法安定性が良好になる。 In addition, the base material may be subjected to relaxation treatment or off-line heat treatment in terms of dimensional stability. It is preferable that the relaxation treatment is performed in a process from the heat setting in the stretching process of the polyester film to the winding in the transversely stretched tenter or after exiting the tenter. The relaxation treatment is preferably performed at a treatment temperature of 80 to 200 ° C, more preferably a treatment temperature of 100 to 180 ° C. Moreover, it is preferable that the relaxation rate is in the range of 0.1 to 10% in both the longitudinal direction and the width direction, and more preferably, the relaxation rate is 2 to 6%. The relaxed base material is subjected to the following off-line heat treatment to improve heat resistance and to improve dimensional stability.
<反射層>
本発明の第1の光学反射フィルムにおける反射層は、高屈折率層と、低屈折率層とを積層してなるユニットを少なくとも1層含む。好適には、基材の片面上または両面上に、高屈折率層と低屈折率層が交互に積層して形成された多層の光学干渉膜を有する。生産性の観点から、基材の片面あたりの好ましい高屈折率層および低屈折率層の総層数の範囲は、100層以下、より好ましくは45層以下である。基材の片面あたりの好ましい高屈折率層および低屈折率層の総層数の範囲の下限は特に限定されるものではないが、5層以上であることが好ましい。
<Reflective layer>
The reflective layer in the first optical reflective film of the present invention includes at least one unit formed by laminating a high refractive index layer and a low refractive index layer. Preferably, it has a multilayer optical interference film in which a high refractive index layer and a low refractive index layer are alternately laminated on one side or both sides of a substrate. From the viewpoint of productivity, the range of the total number of high refractive index layers and low refractive index layers per side of the substrate is preferably 100 layers or less, more preferably 45 layers or less. The lower limit of the range of the total number of high refractive index layers and low refractive index layers per side of the substrate is not particularly limited, but is preferably 5 layers or more.
本発明の第1の光学反射フィルムの好ましい実施形態によれば、ユニット数は、高屈折率層と低屈折率層との総数をZとしたとき、Z/2となる(ただし、「Z/2」が整数でない場合、切り捨てた値となる)。 According to a preferred embodiment of the first optical reflective film of the present invention, the number of units is Z / 2 when the total number of the high refractive index layer and the low refractive index layer is Z (provided that “Z / If “2” is not an integer, the value is rounded down).
なお、前記の好ましい高屈折率層および低屈折率層の総層数の範囲は、基材の片面にのみ積層される場合においても適応可能であり、基材の両面に同時に積層される場合においても適応可能である。基材の両面に積層される場合において、基材一の面と他の面との高屈折率層および低屈折率層の総層数は、同じであってもよく、異なっていてもよい。 The preferred range of the total number of high refractive index layers and low refractive index layers is applicable even when laminated on only one side of the substrate, and when laminated simultaneously on both sides of the substrate. Is also applicable. When laminated on both surfaces of the substrate, the total number of high refractive index layers and low refractive index layers on one surface of the substrate and the other surface may be the same or different.
また、本発明の第1の光学反射フィルムにおいて、最下層(基材と接触する層)および最表層は、高屈折率層および低屈折率層のいずれであってもよい。しかしながら、低屈折率層が、最下層および最表層に位置する層構成とすることにより、最下層の基材への密着性、最上層の吹かれ耐性、さらには最表層へのハードコート層等の塗布性や密着性に優れるという観点から、最下層および最表層が、低屈折率層である層構成が好ましい。 In the first optical reflective film of the present invention, the lowermost layer (layer in contact with the substrate) and the outermost layer may be either a high refractive index layer or a low refractive index layer. However, when the low refractive index layer has a layer structure located in the lowermost layer and the outermost layer, the adhesion to the base material of the lowermost layer, the blowing resistance of the uppermost layer, and the hard coat layer to the outermost layer, etc. From the viewpoint of excellent coating properties and adhesiveness, a layer structure in which the lowermost layer and the outermost layer are low refractive index layers is preferable.
本発明の第1の光学反射フィルムは、ユニットの少なくとも一つに、剥離抑制処理が施されているが、反射層のうちすべてのユニットに剥離抑制処理が施されていてもよいし、一部であってもよい。一部である場合は、好ましくは、ユニットの総数の60%以上、より好ましくは70%以上、さらに好ましくは80%以上、特に好ましくは90%以上、剥離抑制処理が施されている。 In the first optical reflective film of the present invention, at least one of the units is subjected to peeling prevention treatment, but all units of the reflective layer may be subjected to peeling inhibition treatment, or a part thereof. It may be. In the case where it is a part, it is preferable that 60% or more of the total number of units, more preferably 70% or more, still more preferably 80% or more, and particularly preferably 90% or more is subjected to the peeling prevention treatment.
また、一部である場合は、反射層の最表面に近い方に施すことが好ましい。具体的には、剥離抑制処理が施されているユニットの好ましくは70%以上、さらに好ましくは80%以上が、反射層の最表面から見て(数えて)、好ましくは1/2以内に、より好ましくは1/3以内に存在していることがよい。 Moreover, when it is a part, it is preferable to apply to the one near the outermost surface of the reflective layer. Specifically, preferably 70% or more, more preferably 80% or more of the units subjected to the peeling prevention treatment are (counted) when viewed from the outermost surface of the reflective layer, preferably within ½, More preferably, it exists within 1/3.
本発明の第1の光学反射フィルムにおける好ましい実施形態において、各層の厚みは各層の屈折率と反射ピークをどこに何層の積層体で出したいかによって決定すればよいが、最表層、最下層以外の屈折率層の1層あたりの厚み(乾燥後の厚み)は、通常、20〜1000nm、50〜500nm、800〜350nm、あるいは、100〜200nm程度である。 In a preferred embodiment of the first optical reflection film of the present invention, the thickness of each layer may be determined depending on where and how many layers of the refractive index and reflection peak of each layer are to be taken out, except for the outermost layer and the lowermost layer. The thickness of the refractive index layer per layer (thickness after drying) is usually about 20 to 1000 nm, 50 to 500 nm, 800 to 350 nm, or about 100 to 200 nm.
最表層の厚みは、通常、80〜250nmであり、より好ましくは90〜150nmである。 The thickness of the outermost layer is usually 80 to 250 nm, more preferably 90 to 150 nm.
最下層の厚みは、同時多層塗布を採用する場合、塗布時の塗布液の厚みがある程度必要であり、それには、反射ピークに影響を持たない最下層の厚みを厚くすることで調整すればよく、通常、300〜3000nmであり、あるいは、1000〜3000nmである。 When using simultaneous multilayer coating, the thickness of the lowermost layer requires a certain amount of coating solution at the time of coating, which can be adjusted by increasing the thickness of the lowermost layer that does not affect the reflection peak. Usually, it is 300 to 3000 nm, or 1000 to 3000 nm.
また、最表層、最下層以外の、高屈折率層と低屈折率層との厚みは、同じものであっても、異なるものであってもよいが、塗布後の乾燥のムラの観点から、同じであることが好ましい。異なる場合であっても、高屈折率層と低屈折率層との厚みの比は、薄い層/厚い層が、0.6〜0.99程度であることが好ましい。 Further, the thickness of the high refractive index layer and the low refractive index layer other than the outermost layer and the lowermost layer may be the same or different, but from the viewpoint of unevenness of drying after coating, Preferably they are the same. Even if they are different, the ratio of the thickness between the high refractive index layer and the low refractive index layer is preferably about 0.6 to 0.99 for the thin layer / thick layer.
本発明の第1の光学反射フィルムにおける低屈折率層は、基本的に、より低屈折率が望ましい。ただし、通常、低屈折率層の屈折率は、1.10〜1.60程度、あるいは、1.30〜1.50程度になりうる。高屈折率層も、より高屈折率であることが望ましい。ただし、通常、高屈折率層の屈折率は、1.70〜2.50程度、あるいは、1.90〜2.20程度になりうる。 The low refractive index layer in the first optical reflective film of the present invention basically has a lower refractive index. However, normally, the refractive index of the low refractive index layer can be about 1.10 to 1.60, or about 1.30 to 1.50. It is desirable that the high refractive index layer also has a higher refractive index. However, the refractive index of the high refractive index layer can usually be about 1.70 to 2.50, or about 1.90 to 2.20.
なお、一般に、光学反射フィルムにおいては、高屈折率層と低屈折率層との屈折率の差を大きく設計することが、少ない層数で所望の光線に対する反射率を高くすることができるという観点から好ましい。本発明においては、少なくとも隣接した2層(高屈折率層および低屈折率層)の屈折率差が0.3以上であることが好ましく、より好ましくは0.35以上であり、最も好ましくは0.4以上である。また、上限には特に制限はないが通常1.4以下である。 In general, in an optical reflection film, it is possible to increase the reflectance for a desired light beam with a small number of layers by designing a large difference in refractive index between a high refractive index layer and a low refractive index layer. To preferred. In the present invention, the difference in refractive index between at least two adjacent layers (high refractive index layer and low refractive index layer) is preferably 0.3 or more, more preferably 0.35 or more, and most preferably 0. .4 or more. The upper limit is not particularly limited, but is usually 1.4 or less.
この屈折率差と、必要な層数とについては、市販の光学設計ソフトを用いて計算することができる。例えば、近赤外線反射率90%以上を得るためには、屈折率差が0.1より小さいと200層以上の積層が必要になり、生産性が低下するだけでなく、積層界面での散乱が大きくなり、透明性が低下し、故障なく製造することも非常に困難になる場合がある。 The refractive index difference and the required number of layers can be calculated using commercially available optical design software. For example, in order to obtain a near-infrared reflectance of 90% or more, if the difference in refractive index is smaller than 0.1, it is necessary to laminate 200 layers or more, which not only lowers productivity but also causes scattering at the lamination interface. Larger, less transparent, and very difficult to manufacture without failure.
光学反射フィルムにおいて高屈折率層および低屈折率層を交互に積層する場合には、高屈折率層と低屈折率層との屈折率差が、上記好適な屈折率差の範囲内にあることが好ましい。ただし、例えば、最表層はフィルムを保護するための層として形成される場合または最下層が基板との接着性改良層として形成される場合などにおいて、最表層や最下層に関しては、上記好適な屈折率差の範囲外の構成であってもよい。 When the high refractive index layer and the low refractive index layer are alternately laminated in the optical reflection film, the refractive index difference between the high refractive index layer and the low refractive index layer is within the range of the preferred refractive index difference. Is preferred. However, for example, when the outermost layer is formed as a layer for protecting the film or when the lowermost layer is formed as an adhesion improving layer with the substrate, the above-mentioned preferable refraction is performed with respect to the outermost layer and the lowermost layer. A configuration outside the range of the rate difference may be used.
本発明の光学反射フィルムは、反射率をアップさせる特定波長領域を変えることにより、可視光反射フィルムや近赤外線反射フィルムとすることができる。すなわち、反射率をアップさせる特定波長領域を可視光領域に設定すれば可視光線反射フィルムとなり、近赤外領域に設定すれば近赤外線反射フィルムとなる。また、反射率をアップさせる特定波長領域を紫外光領域に設定すれば、紫外線反射フィルムとなる。本発明の光学反射フィルムを遮熱フィルムに用いる場合は、(近)赤外反射(遮蔽)フィルムとすればよい。 The optical reflection film of the present invention can be made into a visible light reflection film or a near-infrared reflection film by changing the specific wavelength region for increasing the reflectance. That is, if the specific wavelength region for increasing the reflectance is set to the visible light region, the visible light reflecting film is obtained, and if the specific wavelength region is set to the near infrared region, the near infrared reflecting film is obtained. Moreover, if the specific wavelength area | region which raises a reflectance is set to an ultraviolet light area | region, it will become an ultraviolet reflective film. When the optical reflective film of the present invention is used for a heat shield film, it may be a (near) infrared reflective (shield) film.
本発明の光学反射フィルムの全体の厚みは、好ましくは12μm〜315μm、より好ましくは15μm〜200μm、さらに好ましくは20μm〜100μmである。 The total thickness of the optical reflective film of the present invention is preferably 12 μm to 315 μm, more preferably 15 μm to 200 μm, and still more preferably 20 μm to 100 μm.
<水溶性高分子>
本発明においては、屈折率層の中に、水溶性高分子を含むと好ましい。以下、屈折率層に含まれる水溶性高分子について説明する。なお、高屈折率層に含まれる水溶性高分子は、低屈折率層に含まれる水溶性高分子と同じであっても、互いに異なるものであってもよい。
<Water-soluble polymer>
In the present invention, the refractive index layer preferably contains a water-soluble polymer. Hereinafter, the water-soluble polymer contained in the refractive index layer will be described. The water-soluble polymer contained in the high refractive index layer may be the same as or different from the water-soluble polymer contained in the low refractive index layer.
屈折率層で用いられうる水溶性高分子の溶剤は水であるから、後述の基材に対して腐食、溶解、浸透を起こさないという利点もある。さらに、水溶性高分子は、柔軟性が高いため、屈曲時の光学反射層の耐久性が向上するため好ましい。以下、本発明の光学反射フィルムにおいて好適に用いられる水溶性高分子について説明する。 Since the solvent of the water-soluble polymer that can be used in the refractive index layer is water, there is also an advantage that it does not cause corrosion, dissolution, or penetration with respect to the base material described later. Furthermore, the water-soluble polymer is preferable because it has high flexibility and thus improves the durability of the optical reflection layer when bent. Hereinafter, the water-soluble polymer suitably used in the optical reflection film of the present invention will be described.
本発明において、屈折率層で用いられる水溶性高分子としては、特に制限されないが、ポリビニルアルコール類(ポリビニルアルコールまたは変性ポリビニルアルコール)、ポリビニルピロリドン類などの合成水溶性樹脂;ゼラチン、増粘多糖類などの天然水溶性高分子などが挙げられる。これらの中でも、酸素透過性が低く、高屈折率層中に含まれる酸化チタンの光触媒作用を抑制するという観点から、ポリビニルアルコール類(ポリビニルアルコールまたは変性ポリビニルアルコール)を用いると好ましい。よって、本発明の第1の好ましい形態によれば、前記高屈折率層および前記低屈折率層が、それぞれ、ポリビニルアルコールまたは変性ポリビニルアルコールをさらに含有する。 In the present invention, the water-soluble polymer used in the refractive index layer is not particularly limited, but synthetic water-soluble resins such as polyvinyl alcohols (polyvinyl alcohol or modified polyvinyl alcohol) and polyvinyl pyrrolidones; gelatin, thickening polysaccharides Natural water-soluble polymers such as Among these, it is preferable to use polyvinyl alcohols (polyvinyl alcohol or modified polyvinyl alcohol) from the viewpoint of low oxygen permeability and suppressing the photocatalytic action of titanium oxide contained in the high refractive index layer. Therefore, according to the 1st preferable form of this invention, the said high refractive index layer and the said low refractive index layer further contain polyvinyl alcohol or modified polyvinyl alcohol, respectively.
ポリビニルアルコール類には、ポリ酢酸ビニルを加水分解して得られる通常のポリビニルアルコールの他に、カチオン変性したカチオン変性ポリビニルアルコール、カルボキシル基のようなアニオン性基を有するアニオン変性ポリビニルアルコール、ノニオン性基を有するノニオン変性ポリビニルアルコール、シリル基を有するシリル変性ポリビニルアルコール等の変性ポリビニルアルコールも含まれる。 Polyvinyl alcohols include, in addition to ordinary polyvinyl alcohol obtained by hydrolysis of polyvinyl acetate, cation-modified polyvinyl alcohol, anion-modified polyvinyl alcohol having an anionic group such as a carboxyl group, nonionic group Also included are modified polyvinyl alcohols such as nonionic modified polyvinyl alcohol having a silyl group and silyl modified polyvinyl alcohol having a silyl group.
ポリビニルアルコールは、重合度が200以上のものが好ましく用いられ、さらに、1,000以上のものが好ましく、重合度が1,500〜5,000のものがより好ましく、2,000〜5,000のものが特に好ましく用いられる。ポリビニルアルコールの重合度が200以上であると塗布膜のひび割れがなく、5,000以下であると塗布液が安定するからである。なお、塗布液が安定するとは塗布液が経時的に安定することを意味する。以下、同様である。 Polyvinyl alcohol having a polymerization degree of 200 or more is preferably used, more preferably 1,000 or more, more preferably 1,500 to 5,000, and more preferably 2,000 to 5,000. Are particularly preferably used. This is because when the polymerization degree of polyvinyl alcohol is 200 or more, the coating film does not crack, and when it is 5,000 or less, the coating solution is stabilized. In addition, that the coating solution is stable means that the coating solution is stabilized over time. The same applies hereinafter.
また、鹸化度は、70〜100モル%のものが好ましく、80〜99.5モル%のものが水への溶解性の点でより好ましい。 The saponification degree is preferably 70 to 100 mol%, more preferably 80 to 99.5 mol% from the viewpoint of solubility in water.
カチオン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開昭61−10483号公報に記載されているような、第一〜三級アミノ基や第四級アンモニウム基を上記ポリビニルアルコールの主鎖または側鎖中に有するポリビニルアルコールであり、カチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体と酢酸ビニルとの共重合体を鹸化することにより得られる。 Examples of the cation-modified polyvinyl alcohol include primary to tertiary amino groups and quaternary ammonium groups, as described in JP-A No. 61-10383, in the main chain or side chain of the polyvinyl alcohol. It is obtained by saponifying a copolymer of an ethylenically unsaturated monomer having a cationic group and vinyl acetate.
カチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体としては、例えば、トリメチル−(2−アクリルアミド−2,2−ジメチルエチル)アンモニウムクロライド、トリメチル−(3−アクリルアミド−3,3−ジメチルプロピル)アンモニウムクロライド、N−ビニルイミダゾール、N−ビニル−2−メチルイミダゾール、N−(3−ジメチルアミノプロピル)メタクリルアミド、ヒドロキシルエチルトリメチルアンモニウムクロライド、トリメチル−(2−メタクリルアミドプロピル)アンモニウムクロライド、N−(1,1−ジメチル−3−ジメチルアミノプロピル)アクリルアミド等が挙げられる。カチオン変性ポリビニルアルコールのカチオン変性基含有単量体の比率は、酢酸ビニルに対して0.1〜10モル%、好ましくは0.2〜5モル%である。 Examples of the ethylenically unsaturated monomer having a cationic group include trimethyl- (2-acrylamido-2,2-dimethylethyl) ammonium chloride and trimethyl- (3-acrylamido-3,3-dimethylpropyl) ammonium chloride. N-vinylimidazole, N-vinyl-2-methylimidazole, N- (3-dimethylaminopropyl) methacrylamide, hydroxylethyltrimethylammonium chloride, trimethyl- (2-methacrylamidopropyl) ammonium chloride, N- (1, 1-dimethyl-3-dimethylaminopropyl) acrylamide and the like. The ratio of the cation-modified group-containing monomer of the cation-modified polyvinyl alcohol is 0.1 to 10 mol%, preferably 0.2 to 5 mol%, relative to vinyl acetate.
アニオン変性ポリビニルアルコールは、例えば、特開平1−206088号公報に記載されているようなアニオン性基を有するポリビニルアルコール、特開昭61−237681号公報および同63−307979号公報に記載されているような、ビニルアルコールと水溶性基を有するビニル化合物との共重合体および特開平7−285265号公報に記載されているような水溶性基を有する変性ポリビニルアルコールが挙げられる。 Anion-modified polyvinyl alcohol is described in, for example, polyvinyl alcohol having an anionic group as described in JP-A-1-206088, JP-A-61-237681 and JP-A-63-307979. Examples thereof include a copolymer of vinyl alcohol and a vinyl compound having a water-soluble group, and a modified polyvinyl alcohol having a water-soluble group as described in JP-A-7-285265.
また、ノニオン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開平7−9758号公報に記載されているようなポリアルキレンオキサイド基をビニルアルコールの一部に付加したポリビニルアルコール誘導体、特開平8−25795号公報に記載されている疎水性基を有するビニル化合物とビニルアルコールとのブロック共重合体、シラノール基を有するシラノール変性ポリビニルアルコール、アセトアセチル基やカルボニル基、カルボキシル基などの反応性基を有する反応性基変性ポリビニルアルコール等が挙げられる。 Nonionic modified polyvinyl alcohol includes, for example, a polyvinyl alcohol derivative in which a polyalkylene oxide group as described in JP-A-7-9758 is added to a part of vinyl alcohol, and JP-A-8-25795. Block copolymer of vinyl compound having a hydrophobic group and vinyl alcohol, silanol-modified polyvinyl alcohol having silanol group, reactive group modification having reactive group such as acetoacetyl group, carbonyl group, carboxyl group Polyvinyl alcohol etc. are mentioned.
これらポリビニルアルコール類は、単独でも、または重合度や変性の種類違いなどの2種以上を併用してもよい。また、ポリビニルアルコール類は、市販品を用いてもよいし合成品を用いてもよい。市販品の例としては、例えば、PVA−102、PVA−103、PVA−105、PVA−110、PVA−117、PVA−120、PVA−124、PVA−135、PVA−203、PVA−205、PVA−210、PVA−217、PVA−220、PVA−224、PVA−235等のポバール(登録商標、株式会社クラレ製)、エクセバール(登録商標、株式会社クラレ製)、ニチゴーGポリマー(登録商標、日本合成化学工業株式会社製)等が挙げられる。 These polyvinyl alcohols may be used alone or in combination of two or more such as the degree of polymerization and the type of modification. As the polyvinyl alcohols, commercially available products or synthetic products may be used. Examples of commercially available products include, for example, PVA-102, PVA-103, PVA-105, PVA-110, PVA-117, PVA-120, PVA-124, PVA-135, PVA-203, PVA-205, PVA -210, PVA-217, PVA-220, PVA-224, PVA-235, etc. Poval (registered trademark, manufactured by Kuraray Co., Ltd.), EXEVAL (registered trademark, manufactured by Kuraray Co., Ltd.), Nichigo G polymer (registered trademark, Japan) Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.).
屈折率層におけるポリビニルアルコールの含有量は、屈折率層の全固形分に対して、好ましくは3〜70質量%、より好ましくは5〜60質量%、さらに好ましくは10〜50質量%、特に好ましくは15〜45質量%である。 The content of polyvinyl alcohol in the refractive index layer is preferably from 3 to 70% by mass, more preferably from 5 to 60% by mass, even more preferably from 10 to 50% by mass, particularly preferably based on the total solid content of the refractive index layer. Is 15 to 45% by mass.
(硬化剤)
本発明においては、屈折率層の中に、硬化剤を使用してもよい。水溶性高分子としてポリビニルアルコールを用いた場合、その効果は特に発揮されうる。
(Curing agent)
In the present invention, a curing agent may be used in the refractive index layer. When polyvinyl alcohol is used as the water-soluble polymer, the effect can be exhibited particularly.
ポリビニルアルコールと共に用いることのできる硬化剤としては、ポリビニルアルコールと硬化反応を起こすものであれば特に制限はないが、ホウ酸及びその塩が好ましい。ホウ酸またはその塩とは、ホウ素原子を中心原子とする酸素酸およびその塩のことをいい、具体的には、オルトホウ酸、二ホウ酸、メタホウ酸、四ホウ酸、五ホウ酸および八ホウ酸およびそれらの塩が挙げられる。硬化剤としてのホウ酸およびホウ酸塩は、単独の水溶液でも、また、2種以上を混合して使用してもよい。本発明において、ホウ酸および/またはその塩を用いた場合には、酸化チタン粒子とポリビニルアルコールのOH基と水素結合ネットワークを形成し、その結果として高屈折率層と低屈折率層との層間混合が抑制され、好ましい光学特性が達成されうる。特に、高屈折率層と低屈折率層の多層重層をコーターで塗布後、一旦塗膜の膜面温度を15℃程度に冷やした後、膜面を乾燥させるセット系塗布プロセスを用いた場合には、より好ましく効果を発現することができる。 The curing agent that can be used together with polyvinyl alcohol is not particularly limited as long as it causes a curing reaction with polyvinyl alcohol, but boric acid and salts thereof are preferable. Boric acid or a salt thereof refers to an oxygen acid having a boron atom as a central atom and a salt thereof. Specifically, orthoboric acid, diboric acid, metaboric acid, tetraboric acid, pentaboric acid and octabored acid. Examples include acids and their salts. The boric acid and borate as the curing agent may be used as a single aqueous solution or as a mixture of two or more. In the present invention, when boric acid and / or a salt thereof is used, a titanium oxide particle and an OH group of polyvinyl alcohol form a hydrogen bond network, and as a result, an interlayer between the high refractive index layer and the low refractive index layer. Mixing is suppressed and favorable optical properties can be achieved. In particular, when a multilayer coating of a high refractive index layer and a low refractive index layer is applied with a coater, the film surface temperature of the coating film is once cooled to about 15 ° C., and then the set surface coating process is used to dry the film surface. Can express an effect more preferably.
硬化剤としては、上記ホウ酸及びその塩以外にも、公知のものを使用することができ、一般的にはポリビニルアルコールと反応し得る基を有する化合物あるいはポリビニルアルコールが有する異なる基同士の反応を促進するような化合物であり、適宜選択して用いられる。硬化剤の具体例としては、例えば、エポキシ系硬化剤(ジグリシジルエチルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6−ジグリシジルシクロヘキサン、N,N−ジグリシジル−4−グリシジルオキシアニリン、ソルビトールポリグリシジルエーテル、グリセロールポリグリシジルエーテル等)、アルデヒド系硬化剤(ホルムアルデヒド、グリオキザール等)、活性ハロゲン系硬化剤(2,4−ジクロロ−4−ヒドロキシ−1,3,5,−s−トリアジン等)、活性ビニル系化合物(1,3,5−トリスアクリロイル−ヘキサヒドロ−s−トリアジン、ビスビニルスルホニルメチルエーテル等)、アルミニウム明礬等が挙げられる。 As the curing agent, in addition to the boric acid and its salts, known ones can be used, and in general, a compound having a group capable of reacting with polyvinyl alcohol or a reaction between different groups possessed by polyvinyl alcohol. It is a compound that promotes and is appropriately selected and used. Specific examples of the curing agent include, for example, epoxy curing agents (diglycidyl ethyl ether, ethylene glycol diglycidyl ether, 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-diglycidyl cyclohexane, N, N-diglycidyl- 4-glycidyloxyaniline, sorbitol polyglycidyl ether, glycerol polyglycidyl ether, etc.), aldehyde curing agents (formaldehyde, glioxal, etc.), active halogen curing agents (2,4-dichloro-4-hydroxy-1,3,5) , -S-triazine, etc.), active vinyl compounds (1,3,5-trisacryloyl-hexahydro-s-triazine, bisvinylsulfonylmethyl ether, etc.), aluminum alum and the like.
上記硬化剤の総使用量は、ポリビニルアルコール(複数のポリビニルアルコールを用いる場合には、その合計量)1g当たり10〜600mgが好ましく、20〜500mgがより好ましい。 The total amount of the curing agent used is preferably 10 to 600 mg per 1 g of polyvinyl alcohol (the total amount when polyvinyl alcohol is used), and more preferably 20 to 500 mg.
<界面活性剤>
本発明においては、屈折率層の中に、界面活性剤が含まれてもよい。それは、高屈折率層用塗布液、低屈折率層用塗布液が、界面活性剤を含むと、塗布性の観点から好適であるからである。なお、高屈折率層に含まれる界面活性剤は、低屈折率層に含まれる界面活性剤と同じであっても、互いに異なるものであってもよい。
<Surfactant>
In the present invention, a surfactant may be contained in the refractive index layer. This is because it is preferable from the viewpoint of coatability that the coating liquid for the high refractive index layer and the coating liquid for the low refractive index layer contain a surfactant. Note that the surfactant contained in the high refractive index layer may be the same as or different from the surfactant contained in the low refractive index layer.
塗布時の表面張力調整のため用いられる界面活性剤として、アニオン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、両性界面活性剤などを用いることができるが、両性界面活性剤がより好ましい。 An anionic surfactant, a nonionic surfactant, an amphoteric surfactant, and the like can be used as the surfactant used for adjusting the surface tension at the time of coating, but an amphoteric surfactant is more preferable.
本発明に好ましく用いられる両性界面活性剤としては、アドミスルホベタイン型、カルボキシベタイン型、スルホベタイン型、イミダゾリウム型などがある。本発明に好ましく用いられる両性界面活性剤の具体例を以下に示す。本発明ではスルホベタイン型が塗布ムラの観点から好ましく、製品としてはLSB−R、LSB(川研ファインケミカル株式会社製)、アンヒトールHD(花王株式会社製)等が挙げられる。 Examples of amphoteric surfactants preferably used in the present invention include admisulfobetaine type, carboxybetaine type, sulfobetaine type, and imidazolium type. Specific examples of the amphoteric surfactant preferably used in the present invention are shown below. In the present invention, the sulfobetaine type is preferable from the viewpoint of coating unevenness, and examples of the product include LSB-R, LSB (manufactured by Kawaken Fine Chemical Co., Ltd.), Anhitoal HD (manufactured by Kao Corporation), and the like.
屈折率層および低屈折率層における界面活性剤の含有量は、高屈折率層および低屈折率層の全固形分に対して、それぞれ、0.001〜1質量%であることが好ましく、0.005〜0.50質量%であることがより好ましい。 The surfactant content in the refractive index layer and the low refractive index layer is preferably 0.001 to 1% by mass with respect to the total solid content of the high refractive index layer and the low refractive index layer, respectively. More preferably, the content is 0.005 to 0.50% by mass.
〔その他の添加剤〕
本発明の第1の高屈折率層または低屈折率層には、例えば、特開昭57−74192号公報、同57−87989号公報、同60−72785号公報、同61−146591号公報、特開平1−95091号公報および同3−13376号公報等に記載されている退色防止剤、アニオン、カチオンまたはノニオンの各種界面活性剤、特開昭59−42993号公報、同59−52689号公報、同62−280069号公報、同61−242871号公報および特開平4−219266号公報等に記載されている蛍光増白剤、硫酸、リン酸、酢酸、クエン酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等のpH調整剤、消泡剤、ジエチレングリコール等の潤滑剤、防腐剤、帯電防止剤、マット剤等の公知の各種添加剤を含有していてもよい。特に、クエン酸を添加すると、塗布液の安定化に寄与する。
[Other additives]
Examples of the first high refractive index layer or low refractive index layer of the present invention include, for example, JP-A-57-74192, 57-87989, 60-72785, 61-146591, Antifading agents, various anionic, cationic or nonionic surfactants described in JP-A-1-95091 and JP-A-3-13376, JP-A-59-42993, JP-A-59-52689 Fluorescent brighteners, sulfuric acid, phosphoric acid, acetic acid, citric acid, sodium hydroxide, potassium hydroxide described in JP-A-62-280069, JP-A-61-228771 and JP-A-4-219266 , Contains pH adjusting agents such as potassium carbonate, antifoaming agents, lubricants such as diethylene glycol, preservatives, antistatic agents, and various known additives such as matting agents. Good. In particular, the addition of citric acid contributes to the stabilization of the coating solution.
上記のように、本発明の第1によれば、光学反射フィルムの界面の剥離の発生を抑制することができる。そして、反射率の低下および外観の悪化を抑制することができる。 As described above, according to the first aspect of the present invention, it is possible to suppress the occurrence of peeling at the interface of the optical reflection film. And the fall of a reflectance and the deterioration of an external appearance can be suppressed.
よって、本発明においては、酸化チタンを含有する高屈折率層と、酸化ケイ素を含有する低屈折率層とからなる一ユニットを少なくとも一層含む反射層を、基材上に積層してなる、光学反射フィルムにおける、前記少なくとも一つのユニットの界面の剥離を抑制する方法であって、前記少なくとも一つのユニットの低屈折率層に、温度上昇促進剤を含ませることを有する、剥離を抑制する方法もが提供される。 Therefore, in the present invention, an optical layer formed by laminating a reflective layer including at least one unit composed of a high refractive index layer containing titanium oxide and a low refractive index layer containing silicon oxide on a substrate. There is also a method for suppressing peeling at the interface of the at least one unit in a reflective film, the method comprising suppressing temperature peeling by including a temperature increase accelerator in the low refractive index layer of the at least one unit. Is provided.
かかる実施形態の具体的説明は、上記の説明と同様であり、直接適用できる。なお、仮に、少なくとも一つのユニットの低屈折率層に、温度上昇促進剤を含ませた場合であっても、高屈折率層にも同様に含ませるなどして、剥離を抑制することができなければ、本形態の「剥離を抑制する方法」には、含まれない。 The specific description of this embodiment is the same as the above description, and can be applied directly. Note that even if a temperature increase accelerator is included in the low refractive index layer of at least one unit, peeling can be suppressed by including the same in the high refractive index layer. Otherwise, it is not included in the “method for suppressing peeling” in this embodiment.
[本発明の第2]
本発明の第2は、酸化チタンを含有する高屈折率層と、酸化ケイ素を含有する低屈折率層とからなる一ユニットを少なくとも一層含む反射層を、基材上に積層することを有する、光学反射フィルムの製造方法であって、前記ユニットの少なくとも一つに、界面の剥離抑制処理を施すことを有する、光学反射フィルムの製造方法である。
[Second of the present invention]
The second aspect of the present invention includes laminating a reflective layer including at least one unit composed of a high refractive index layer containing titanium oxide and a low refractive index layer containing silicon oxide on a substrate. It is a manufacturing method of an optical reflective film, Comprising: It is a manufacturing method of an optical reflective film which has performing the peeling suppression process of an interface to at least one of the said units.
前記ユニットの少なくとも一つに、界面の剥離抑制処理を施すこと以外は、従来公知の方法を適宜参照し、あるいは組み合わせることで、光学反射フィルムを製造することができる。 An optical reflective film can be produced by appropriately referring to or combining conventionally known methods except that at least one of the units is subjected to an interface peeling suppression treatment.
本発明の第2の好ましい実施形態によれば、高屈折率層と低屈折率層とを交互に塗布、乾燥して積層体を形成することが好ましい。具体的には以下の形態が挙げられる;(1)基材上に、高屈折率層用塗布液を塗布し乾燥して高屈折率層を形成した後、低屈折率層用塗布液を塗布し乾燥して低屈折率層を形成し、光学反射フィルムを形成する方法;(2)基材上に、低屈折率層用塗布液を塗布し乾燥して低屈折率層を形成した後、高屈折率層用塗布液を塗布し乾燥して高屈折率層を形成し、光学反射フィルムを形成する方法;(3)基材上に、高屈折率層用塗布液と、低屈折率層用塗布液とを交互に逐次重層塗布した後乾燥して、高屈折率層、および低屈折率層を含む光学反射フィルムを形成する方法;(4)基材上に、高屈折率層用塗布液と、低屈折率層用塗布液とを同時重層塗布し、乾燥して、高屈折率層、および低屈折率層を含む光学反射フィルムを形成する方法;などが挙げられる。なかでも、より簡便な製造プロセスとなる上記(4)の方法が好ましい。 According to the second preferred embodiment of the present invention, it is preferable that a high refractive index layer and a low refractive index layer are alternately applied and dried to form a laminate. Specific examples include: (1) A high refractive index layer coating solution is applied on a substrate and dried to form a high refractive index layer, and then a low refractive index layer coating solution is applied. And then drying to form a low refractive index layer and forming an optical reflective film; (2) After applying a low refractive index layer coating solution on a substrate and drying to form a low refractive index layer, A method of forming a high refractive index layer by applying a coating solution for a high refractive index layer and drying to form an optical reflective film; (3) a coating solution for a high refractive index layer and a low refractive index layer on a substrate; A method of forming an optical reflective film including a high refractive index layer and a low refractive index layer by alternately applying successive coating layers for coating and then drying; (4) coating for a high refractive index layer on a substrate; A liquid and a coating solution for a low refractive index layer are simultaneously applied and dried to form an optical reflective film including a high refractive index layer and a low refractive index layer; Etc., and the like. Among these, the method (4), which is a simpler manufacturing process, is preferable.
塗布方式としては、例えば、ロールコーティング法、ロッドバーコーティング法、エアナイフコーティング法、スプレーコーティング法、カーテン塗布方法、あるいは米国特許第2,761,419号、同第2,761,791号公報に記載のホッパーを使用するスライドビード塗布方法、エクストルージョンコート法等が好ましく用いられる。 Examples of the coating method include a roll coating method, a rod bar coating method, an air knife coating method, a spray coating method, a curtain coating method, or US Pat. Nos. 2,761,419 and 2,761,791. A slide bead coating method using an hopper, an extrusion coating method, or the like is preferably used.
高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液を調製するための溶媒は、特に制限されないが、水、有機溶媒、またはその混合溶媒が好ましい。本発明においては、水系溶媒を用いることができる。水系溶媒は、有機溶媒を用いる場合と比較して、大規模な生産設備を必要とすることがないため、生産性の点で好ましく、また環境保全の点でも好ましい。 The solvent for preparing the coating solution for the high refractive index layer and the coating solution for the low refractive index layer is not particularly limited, but water, an organic solvent, or a mixed solvent thereof is preferable. In the present invention, an aqueous solvent can be used. Compared to the case where an organic solvent is used, the aqueous solvent does not require a large-scale production facility, so that it is preferable in terms of productivity and also in terms of environmental conservation.
前記有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、2−プロパノール、1−ブタノールなどのアルコール類、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどのエステル類、ジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルなどのエーテル類、ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドンなどのアミド類、アセトン、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、シクロヘキサノンなどのケトン類などが挙げられる。これら有機溶媒は、単独でもまたは2種以上混合して用いてもよい。環境面、操作の簡便性などから、塗布液の溶媒としては、水系溶媒が好ましく、水、または水とメタノール、エタノール、もしくは酢酸エチルとの混合溶媒がより好ましく、水が特に好ましい。 Examples of the organic solvent include alcohols such as methanol, ethanol, 2-propanol and 1-butanol, esters such as ethyl acetate, butyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol monoethyl ether acetate, diethyl ether, Examples thereof include ethers such as propylene glycol monomethyl ether and ethylene glycol monoethyl ether, amides such as dimethylformamide and N-methylpyrrolidone, and ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, acetylacetone and cyclohexanone. These organic solvents may be used alone or in combination of two or more. From the viewpoint of environment and simplicity of operation, the solvent of the coating solution is preferably an aqueous solvent, more preferably water or a mixed solvent of water and methanol, ethanol, or ethyl acetate, and water is particularly preferable.
水と少量の有機溶媒との混合溶媒を用いる際、当該混合溶媒中の水の含有量は、混合溶媒全体を100質量%として、80〜99.9質量%であることが好ましく、90〜99.5質量%であることがより好ましい。ここで、80質量%以上にすることで、溶媒の揮発による体積変動が低減でき、ハンドリングが向上し、また、99.9質量%以下にすることで、液添加時の均質性が増し、安定した液物性を得ることができるからである。 When using a mixed solvent of water and a small amount of an organic solvent, the content of water in the mixed solvent is preferably 80 to 99.9% by mass, based on 100% by mass of the entire mixed solvent, and 90 to 99%. More preferably, it is 5 mass%. Here, by setting it to 80% by mass or more, volume fluctuation due to solvent volatilization can be reduced, handling is improved, and by setting it to 99.9% by mass or less, homogeneity at the time of liquid addition is increased and stable. This is because the obtained liquid properties can be obtained.
ここで、高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液の調製方法は、特に制限されず、例えば、各成分を添加し、混合する方法が挙げられる。この際、各成分の添加順も特に制限されず、攪拌しながら各成分を順次添加し混合してもよいし、攪拌しながら一度に添加し混合してもよい。 Here, the preparation method of the coating liquid for the high refractive index layer and the coating liquid for the low refractive index layer is not particularly limited, and examples thereof include a method of adding and mixing each component. At this time, the order of addition of the respective components is not particularly limited, and the respective components may be sequentially added and mixed while stirring, or may be added and mixed at one time while stirring.
また、本発明において、同時多層塗布を行う場合は高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液に用いるポリビニルアルコールの鹸化度が異なることが好ましい。鹸化度が異なることによって塗布、乾燥工程の各工程において層の混合を抑制することができる。この仕組みはいまだ明らかではないが、鹸化度差に由来する表面張力差によって混合が抑制されていると考えられる。本発明においては高屈折率層用塗布液と低屈折率層用塗布液に用いるポリビニルアルコールの鹸化度の差は3モル%以上が好ましく、より好ましくは8モル%以上が好ましい。すなわち、高屈折率層の鹸化度と低屈折率層の鹸化度との差が3モル%以上であることが好ましく、8モル%以上であることがより好ましい。高屈折率層の鹸化度と低屈折率層の鹸化度との差の上限は、高屈折率層と低屈折率層との層間混合の抑制/防止効果を考慮すると、高いほど好ましいため、特に制限されないが、20モル%以下であることが好ましく、15モル%以下であることがより好ましい。 In the present invention, when simultaneous multilayer coating is performed, it is preferable that the saponification degrees of polyvinyl alcohol used in the coating solution for the high refractive index layer and the coating solution for the low refractive index layer are different. Different saponification degrees can suppress layer mixing in each step of coating and drying. Although this mechanism is not yet clear, it is thought that mixing is suppressed by the difference in surface tension derived from the difference in saponification degree. In the present invention, the difference in the saponification degree of polyvinyl alcohol used in the coating solution for the high refractive index layer and the coating solution for the low refractive index layer is preferably 3 mol% or more, more preferably 8 mol% or more. That is, the difference between the saponification degree of the high refractive index layer and the saponification degree of the low refractive index layer is preferably 3 mol% or more, and more preferably 8 mol% or more. The upper limit of the difference between the saponification degree of the high refractive index layer and the saponification degree of the low refractive index layer is preferably as high as possible in view of the effect of suppressing / preventing interlayer mixing between the high refractive index layer and the low refractive index layer. Although not limited, it is preferably 20 mol% or less, and more preferably 15 mol% or less.
各屈折率層中で鹸化度の相違を比較するポリビニルアルコールは、各屈折率層が(鹸化度および重合度が異なる)複数のポリビニルアルコールを含む場合には、屈折率層中で最も含有量の高いポリビニルアルコールである。ここで、「屈折率層中で最も含有量が高いポリビニルアルコール」という際には、鹸化度の差が3モル%以内のポリビニルアルコールは同一のポリビニルアルコールであるとし、重合度を算出する。具体的には、鹸化度が90モル%、鹸化度が91モル%、鹸化度が93モル%のポリビニルアルコールが同一層内にそれぞれ10質量%、40質量%、50質量%含まれる場合には、これら3つのポリビニルアルコールは同一のポリビニルアルコールとし、これら3つの混合物をポリビニルアルコール(A)または(B)とするが、このポリビニルアルコール(A)/(B)の鹸化度は、(90×0.1+91×0.4+93×0.5)/1=91.9モル%となる。また、上記「鹸化度の差が3モル%以内のポリビニルアルコール」とは、いずれかのポリビニルアルコールに着目した場合に3モル%以内であれば足り、例えば、90、91、92、94モル%のビニルアルコールを含む場合には、91モル%のビニルアルコールに着目した場合にいずれのポリビニルアルコールも3モル%以内なので、同一のポリビニルアルコールとなる。 The polyvinyl alcohol for comparing the difference in the degree of saponification in each refractive index layer has the highest content in the refractive index layer when each refractive index layer contains a plurality of polyvinyl alcohols (different in saponification degree and polymerization degree). High polyvinyl alcohol. Here, when the phrase “polyvinyl alcohol having the highest content in the refractive index layer” is used, the degree of polymerization is calculated assuming that the polyvinyl alcohol having a saponification degree difference of 3 mol% or less is the same polyvinyl alcohol. Specifically, when polyvinyl alcohol having a saponification degree of 90 mol%, a saponification degree of 91 mol%, and a saponification degree of 93 mol% is contained in the same layer by 10 mass%, 40 mass%, and 50 mass%, respectively. These three polyvinyl alcohols are the same polyvinyl alcohol, and the mixture of these three is polyvinyl alcohol (A) or (B). The saponification degree of this polyvinyl alcohol (A) / (B) is (90 × 0 1 + 91 × 0.4 + 93 × 0.5) /1=91.9 mol%. The “polyvinyl alcohol having a saponification degree difference of 3 mol% or less” is not more than 3 mol% when attention is paid to any polyvinyl alcohol. For example, 90, 91, 92, 94 mol% In the case where the vinyl alcohol is included, since all the polyvinyl alcohols are within 3 mol% when focusing on 91 mol% vinyl alcohol, the same polyvinyl alcohol is obtained.
同一層内に鹸化度が3モル%以上異なるポリビニルアルコールが含まれる場合、異なるポリビニルアルコールの混合物とみなし、それぞれに重合度と鹸化度を算出する。 When polyvinyl alcohol having a saponification degree different by 3 mol% or more is contained in the same layer, it is regarded as a mixture of different polyvinyl alcohols, and the polymerization degree and the saponification degree are respectively calculated.
例えば、PVA203:5質量%、PVA117:25質量%、PVA217:10質量%、PVA220:10質量%、PVA224:10質量%、PVA235:20質量%、PVA245:20質量%が含まれる場合、最も含有量の多いPVAはPVA217〜245の混合物であり(PVA217〜245の鹸化度の差は3モル%以内なので同一のポリビニルアルコールである)、この混合物がポリビニルアルコール(A)または(B)となる。そして、PVA217〜245の混合物(ポリビニルアルコール(A)/(B))においては、重合度は、(1700×0.1+2000×0.1+2400×0.1+3500×0.2+4500×0.2)/0.7=3200であり、鹸化度は、88モル%となる。 For example, PVA203: 5% by mass, PVA117: 25% by mass, PVA217: 10% by mass, PVA220: 10% by mass, PVA224: 10% by mass, PVA235: 20% by mass, PVA245: 20% by mass, most contained A large amount of PVA is a mixture of PVA 217 to 245 (the difference in the degree of saponification of PVA 217 to 245 is within 3 mol%, which is the same polyvinyl alcohol), and this mixture becomes polyvinyl alcohol (A) or (B). In the mixture of PVA 217 to 245 (polyvinyl alcohol (A) / (B)), the degree of polymerization is (1700 × 0.1 + 2000 × 0.1 + 2400 × 0.1 + 3500 × 0.2 + 4500 × 0.2) / 0. 7 = 3200, and the degree of saponification is 88 mol%.
同時重層塗布を行う際の高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液の温度は、スライドビード塗布方式を用いる場合は、25〜60℃の温度範囲が好ましく、30〜45℃の温度範囲がより好ましい。また、カーテン塗布方式を用いる場合は、25〜60℃の温度範囲が好ましく、30〜45℃の温度範囲がより好ましい。 When the slide bead coating method is used, the temperature of the coating solution for the high refractive index layer and the coating solution for the low refractive index layer at the time of simultaneous multilayer coating is preferably 25 to 60 ° C, preferably 30 to 45 ° C. A temperature range is more preferred. Moreover, when using a curtain application | coating system, the temperature range of 25-60 degreeC is preferable, and the temperature range of 30-45 degreeC is more preferable.
同時重層塗布を行う際の高屈折率層用塗布液と低屈折率層用塗布液の粘度は、特に制限されない。しかしながら、スライドビード塗布方式を用いる場合には、上記の塗布液の好ましい温度の範囲において、5〜160mPa・sの範囲が好ましく、さらに好ましくは60〜140mPa・sの範囲である。また、カーテン塗布方式を用いる場合には、上記の塗布液の好ましい温度の範囲において、5〜1200mPa・sの範囲が好ましく、さらに好ましくは25〜500mPa・sの範囲である。このような粘度の範囲であれば、効率よく同時重層塗布を行うことができる。 The viscosity of the coating solution for the high refractive index layer and the coating solution for the low refractive index layer at the time of simultaneous multilayer coating is not particularly limited. However, when the slide bead coating method is used, the preferable temperature range of the coating liquid is preferably in the range of 5 to 160 mPa · s, more preferably in the range of 60 to 140 mPa · s. Moreover, when using a curtain application | coating system, in the preferable temperature range of said coating liquid, the range of 5-1200 mPa * s is preferable, More preferably, it is the range of 25-500 mPa * s. If it is the range of such a viscosity, simultaneous multilayer coating can be performed efficiently.
また、高屈折率層用塗布液と低屈折率層用塗布液の15℃における粘度としては、それぞれ独立して、100mPa・s以上が好ましく、100〜30,000mPa・sがより好ましく、さらに好ましくは2,500〜30,000mPa・sである。 The viscosities at 15 ° C. of the coating solution for the high refractive index layer and the coating solution for the low refractive index layer are each independently preferably 100 mPa · s or more, more preferably 100 to 30,000 mPa · s, and even more preferably. Is 2,500 to 30,000 mPa · s.
塗布および乾燥方法の条件は、特に制限されないが、例えば、逐次塗布法の場合は、まず、30〜60℃に加温した高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液のいずれか一方を基材上に塗布、乾燥して層を形成した後、もう一方の塗布液をこの層上に塗布、乾燥して積層膜前駆体を形成する。次に、所望の性能を発現するために必要なユニット数を、前記方法にて逐次塗布、乾燥して積層させて積層膜前駆体を得る。乾燥する際は、形成した塗膜を、30℃以上で乾燥することが好ましい。例えば、膜面温度5〜100℃(好ましくは10〜50℃)の範囲で乾燥するのが好ましく、例えば、40〜60℃の温風を1〜5秒吹き付けて乾燥する。乾燥方法としては、温風乾燥、赤外乾燥、マイクロ波乾燥が用いられる。また単一プロセスでの乾燥よりも多段プロセスの乾燥が好ましく、恒率乾燥部の温度<減率乾燥部の温度にするのがより好ましい。この場合の恒率乾燥部の温度範囲は30〜60℃、減率乾燥部の温度範囲は50〜100℃にするのが好ましい。 The conditions for the coating and drying method are not particularly limited. For example, in the case of the sequential coating method, first, either the coating solution for the high refractive index layer or the coating solution for the low refractive index layer heated to 30 to 60 ° C. One is coated on a substrate and dried to form a layer, and then the other coating solution is coated on this layer and dried to form a laminated film precursor. Next, the number of units necessary for expressing the desired performance is sequentially applied and dried by the above-described method and laminated to obtain a laminated film precursor. When drying, it is preferable to dry the formed coating film at 30 ° C. or higher. For example, the film surface temperature is preferably 5 to 100 ° C. (preferably 10 to 50 ° C.), and for example, 40 to 60 ° C. warm air is blown for 1 to 5 seconds to dry. As a drying method, warm air drying, infrared drying, and microwave drying are used. Further, drying in a multi-stage process is preferable to drying in a single process, and it is more preferable to set the temperature of the constant rate drying section <the temperature of the rate-decreasing drying section. In this case, the temperature range of the constant rate drying part is preferably 30 to 60 ° C., and the temperature range of the decreasing rate drying part is preferably 50 to 100 ° C.
また、同時重層塗布を行う場合の塗布および乾燥方法の条件は、高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液を30〜60℃に加温して、基材上に高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液の同時重層塗布を行った後、形成した塗膜の温度を好ましくは1〜15℃にいったん冷却し(セット)、その後10℃以上で乾燥することが好ましい。より好ましい乾燥条件は、膜面温度10〜90℃の範囲の条件である。例えば、40〜80℃の温風を1〜5秒吹き付けて乾燥する。また、塗布直後の冷却方式としては、形成された塗膜の均一性向上の観点から、水平セット方式で行うことが好ましい。 Moreover, the conditions of the coating and drying method in the case of simultaneous multilayer coating are as follows. The coating solution for the high refractive index layer and the coating solution for the low refractive index layer are heated to 30 to 60 ° C. After the simultaneous multilayer coating of the layer coating solution and the coating solution for the low refractive index layer, the temperature of the formed coating film is preferably cooled (set) preferably to 1 to 15 ° C. and then dried at 10 ° C. or higher. Is preferred. More preferable drying conditions are conditions in the range of the film surface temperature of 10 to 90 ° C. For example, 40-80 degreeC warm air is sprayed for 1 to 5 seconds, and it dries. Moreover, as a cooling method immediately after application | coating, it is preferable to carry out by a horizontal set system from a viewpoint of the uniformity improvement of the formed coating film.
ここで、前記セットとは、冷風等を塗膜に当てて温度を下げるなどの手段により、塗布液の粘度を高め、各層間および各層内の物質の流動性を低下させたり、またゲル化させたりする工程のことを意味する。冷風を塗布膜に表面から当てて、塗布膜の表面に指を押し付けたときに指に何もつかなくなった状態を、セット完了の状態と定義する。 Here, the set means that the viscosity of the coating solution is increased by means of lowering the temperature by applying cold air or the like to the coating film, and the fluidity of the substances in each layer and in each layer is reduced or gelled. It means the process to do. A state in which the cold air is applied to the coating film from the surface and the finger is pressed against the surface of the coating film is defined as a set completion state.
塗布した時点から、冷風を当ててセットが完了するまでの時間(セット時間)は、5分以内であることが好ましく、2分以内であることがより好ましい。また、下限の時間は特に制限されないが、45秒以上の時間をとることが好ましい。セット時間が短すぎると、層中の成分の混合が不十分となる虞がある。一方、セット時間が長すぎると、無機酸化物粒子の層間拡散が進み、高屈折率層と低屈折率層との屈折率差が不十分となる虞がある。なお、高屈折率層と低屈折率層との間の中間層の高弾性化が素早く起こるのであれば、セットさせる工程は設けなくてもよい。セット時間の調整は、ポリビニルアルコールの濃度や無機酸化物粒子の濃度を調整したり、ゼラチン、ペクチン、寒天、カラギ−ナン、ゲランガム等の各種公知のゲル化剤など、他の成分を添加することにより調整することができる。 The time (setting time) from the time of application to the completion of setting by applying cold air is preferably within 5 minutes, and more preferably within 2 minutes. Further, the lower limit time is not particularly limited, but it is preferable to take 45 seconds or more. If the set time is too short, mixing of the components in the layer may be insufficient. On the other hand, if the set time is too long, the interlayer diffusion of the inorganic oxide particles proceeds, and the refractive index difference between the high refractive index layer and the low refractive index layer may be insufficient. If the intermediate layer between the high-refractive index layer and the low-refractive index layer is highly elastic, the setting step may not be provided. The set time is adjusted by adjusting the concentration of polyvinyl alcohol and inorganic oxide particles, or adding other components such as various known gelling agents such as gelatin, pectin, agar, carrageenan, and gellan gum. Can be adjusted.
冷風の温度は、0〜25℃であることが好ましく、3〜10℃であることがより好ましい。また、塗膜が冷風に晒される時間は、塗膜の搬送速度にもよるが、好ましくは10〜360秒、より好ましくは10〜300秒、さらに好ましくは10〜120秒である。 The temperature of the cold air is preferably 0 to 25 ° C, and more preferably 3 to 10 ° C. The time for which the coating film is exposed to cold air is preferably 10 to 360 seconds, more preferably 10 to 300 seconds, and still more preferably 10 to 120 seconds, although it depends on the transport speed of the coating film.
高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液の塗布厚は、上記で示したような好ましい乾燥時の厚みとなるように塗布すればよい。 What is necessary is just to apply | coat so that the coating thickness of the coating liquid for high refractive index layers and the coating liquid for low refractive index layers may become the thickness at the time of preferable drying as shown above.
[本発明の第3]
本発明の光学反射フィルムは、幅広い分野に応用することができる。すなわち、本発明の第3は、本発明の第1の光学反射フィルム、または本発明の第2の方法により製造された光学反射フィルムが、基体の少なくとも一方の面に設けられてなる光学反射体である。
[Third invention]
The optical reflective film of the present invention can be applied to a wide range of fields. That is, a third aspect of the present invention is an optical reflector in which the first optical reflective film of the present invention or the optical reflective film produced by the second method of the present invention is provided on at least one surface of a substrate. It is.
例えば、建物の屋外の窓や自動車窓等長期間太陽光に晒らされる設備(基体)に貼り合せ、熱線反射効果を付与する熱線反射フィルム等の窓貼用フィルム、農業用ビニールハウス用フィルム等として、主として耐候性を高める目的で用いられる。特に、本発明の光学反射フィルムが直接もしくは接着剤を介してガラスもしくはガラス代替樹脂等の基体に貼合されている部材には好適である。特に、本発明の第3によれば、太陽光等に長時間曝されても、反射率の低下が抑制される、光学反射フィルムを用いる光学反射体であるので、非常に好適である。 For example, film for window pasting such as heat ray reflecting film that gives heat ray reflection effect, film for agricultural greenhouses, etc. Etc., mainly for the purpose of improving the weather resistance. In particular, it is suitable for a member in which the optical reflective film of the present invention is bonded to a substrate such as glass or a glass substitute resin directly or via an adhesive. In particular, the third aspect of the present invention is very suitable because it is an optical reflector using an optical reflection film that suppresses a decrease in reflectance even when exposed to sunlight or the like for a long time.
<基体>
基体の具体的な例としては、例えば、ガラス、ポリカーボネート樹脂、ポリスルホン樹脂、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスルフィド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、ジアリルフタレート樹脂、ポリイミド樹脂、ウレタン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、スチレン樹脂、塩化ビニル樹脂、金属板、セラミック等が挙げられる。樹脂の種類は、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂のいずれでも良く、これらを2種以上組み合わせて用いてもよい。基体は、押出成形、カレンダー成形、射出成形、中空成形、圧縮成形等、公知の方法で製造することができる。基体の厚みは特に制限されないが、通常0.1mm〜5cmである。
<Substrate>
Specific examples of the substrate include, for example, glass, polycarbonate resin, polysulfone resin, acrylic resin, polyolefin resin, polyether resin, polyester resin, polyamide resin, polysulfide resin, unsaturated polyester resin, epoxy resin, melamine resin, and phenol. Examples thereof include resins, diallyl phthalate resins, polyimide resins, urethane resins, polyvinyl acetate resins, polyvinyl alcohol resins, styrene resins, vinyl chloride resins, metal plates, and ceramics. The type of resin may be any of a thermoplastic resin, a thermosetting resin, and an ionizing radiation curable resin, and two or more of these may be used in combination. The substrate can be produced by a known method such as extrusion molding, calendar molding, injection molding, hollow molding, compression molding or the like. The thickness of the substrate is not particularly limited, but is usually 0.1 mm to 5 cm.
光学反射フィルムと基体とを貼り合わせる接着層または粘着層は、光学反射フィルムを日光(熱線)入射面側に設置することが好ましい。また、光学反射フィルムを、窓ガラスと基体との間に挟持すると、水分等の周囲のガスから封止でき耐久性に優れるため好ましい。本発明の第1の光学反射フィルムを屋外や車の外側(外貼り用)に設置しても環境耐久性があって好ましい。 It is preferable that the adhesive layer or the adhesive layer that bonds the optical reflection film and the substrate is disposed on the sunlight (heat ray) incident surface side. Further, it is preferable to sandwich the optical reflection film between the window glass and the substrate because it can be sealed from surrounding gas such as moisture and has excellent durability. Even if the first optical reflecting film of the present invention is installed outdoors or outside the car (for external application), it is preferable because of environmental durability.
光学反射フィルムと基体とを貼り合わせる接着層または粘着層は、窓ガラスなどに貼り合わせたとき、光学反射フィルムが日光(熱線)入射面側にあるように設置することが好ましい。また光学反射フィルムを窓ガラスと基材との間に挟持すると、水分等周囲ガスから封止でき耐久性に好ましい。本発明の光学反射フィルムを屋外や車の外側(外貼り用)に設置しても環境耐久性(特に、耐光性)があって好ましい。 It is preferable that the adhesive layer or the adhesive layer that bonds the optical reflection film and the substrate is installed so that the optical reflection film is on the sunlight (heat ray) incident surface side when bonded to a window glass or the like. Further, when the optical reflection film is sandwiched between the window glass and the base material, it can be sealed from ambient gas such as moisture, which is preferable for durability. Even if the optical reflective film of the present invention is installed outdoors or on the outside of a vehicle (for external application), it is preferable because of environmental durability (particularly light resistance).
本発明に適用可能な接着剤としては、光硬化性もしくは熱硬化性の樹脂を主成分とする接着剤を用いることができる。 As an adhesive applicable to the present invention, an adhesive mainly composed of a photocurable or thermosetting resin can be used.
接着剤は紫外線に対して耐久性を有するものが好ましく、アクリル系粘着剤またはシリコーン系粘着剤が好ましい。更に粘着特性やコストの観点から、アクリル系粘着剤が好ましい。特に剥離強さの制御が容易なことから、アクリル系粘着剤において、溶剤系およびエマルジョン系の中で溶剤系が好ましい。アクリル溶剤系粘着剤として溶液重合ポリマーを使用する場合、そのモノマーとしては公知のものを使用できる。 The adhesive preferably has durability against ultraviolet rays, and is preferably an acrylic adhesive or a silicone adhesive. Furthermore, an acrylic adhesive is preferable from the viewpoint of adhesive properties and cost. In particular, since the peel strength can be easily controlled, a solvent system is preferable among the solvent system and the emulsion system in the acrylic adhesive. When a solution polymerization polymer is used as the acrylic solvent-based pressure-sensitive adhesive, known monomers can be used as the monomer.
また、合わせガラスの中間層として用いられるポリビニルブチラール系樹脂、あるいはエチレン−酢酸ビニル共重合体系樹脂を用いてもよい。具体的には可塑性ポリビニルブチラール〔積水化学工業社製、三菱モンサント社製等〕、エチレン−酢酸ビニル共重合体〔デュポン社製、武田薬品工業社製、デュラミン〕、変性エチレン−酢酸ビニル共重合体〔東ソー社製、メルセンG〕等である。なお、接着層には紫外線吸収剤、抗酸化剤、帯電防止剤、熱安定剤、滑剤、充填剤、着色、接着調整剤等を適宜添加配合してもよい。 Moreover, you may use the polyvinyl butyral resin used as an intermediate | middle layer of a laminated glass, or ethylene-vinyl acetate copolymer type resin. Specifically, plastic polyvinyl butyral [manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd., Mitsubishi Monsanto Co., Ltd.], ethylene-vinyl acetate copolymer [manufactured by DuPont, Takeda Pharmaceutical Co., Ltd., duramin], modified ethylene-vinyl acetate copolymer [Mersen G manufactured by Tosoh Corporation]. In addition, you may add and mix | blend an ultraviolet absorber, an antioxidant, an antistatic agent, a heat stabilizer, a lubricant, a filler, coloring, an adhesion adjusting agent etc. suitably in a contact bonding layer.
本発明においては、上記のように、高屈折率層の金属酸化物として酸化チタン、低屈折率層の金属酸化物として酸化ケイ素を採用し、このユニットの少なくとも一つに、界面の剥離抑制処理を施すことを特徴とする。よって、当該特徴以外に関しては、従来技術を適宜参照し、あるいは組み合わせることで、設計できる。 In the present invention, as described above, titanium oxide is used as the metal oxide of the high refractive index layer, and silicon oxide is used as the metal oxide of the low refractive index layer. It is characterized by giving. Therefore, the other features can be designed by appropriately referring to or combining conventional techniques.
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれにより限定されるものではない。なお、実施例において「部」または「%」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」または「質量%」を表す。また、特記しない限り、各操作は、室温(25℃)で行われる。 EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited thereto. In addition, although the display of "part" or "%" is used in an Example, unless otherwise indicated, "mass part" or "mass%" is represented. Unless otherwise specified, each operation is performed at room temperature (25 ° C.).
<実施例1>
(高屈折率層用塗布液1の作製)
はじめに、ルチル型酸化チタンを含有する酸化チタンゾル分散液を調製した。
<Example 1>
(Preparation of coating solution 1 for high refractive index layer)
First, a titanium oxide sol dispersion containing rutile type titanium oxide was prepared.
(シリカ変性酸化チタン粒子(ルチル型)の分散液の調製)
シリカ変性酸化チタン粒子(ルチル型)の分散液は、以下のように調製した。
(Preparation of dispersion of silica-modified titanium oxide particles (rutile type))
A dispersion of silica-modified titanium oxide particles (rutile type) was prepared as follows.
硫酸チタン水溶液を公知の方法により熱加水分解して、酸化チタン水和物を得た。得られた酸化チタン水和物を水に懸濁させて、酸化チタン水和物の水性懸濁液(TiO2濃度:100g/L)10Lを得た。これに、水酸化ナトリウム水溶液(濃度10mol/L)30Lを撹拌下で添加し、90℃に昇温して、5時間熟成した。得られた溶液を塩酸で中和し、濾過、水洗することで、塩基処理チタン化合物を得た。 The titanium sulfate aqueous solution was thermally hydrolyzed by a known method to obtain titanium oxide hydrate. The obtained titanium oxide hydrate was suspended in water to obtain 10 L of an aqueous suspension of titanium oxide hydrate (TiO 2 concentration: 100 g / L). To this, 30 L of an aqueous sodium hydroxide solution (concentration 10 mol / L) was added with stirring, the temperature was raised to 90 ° C., and the mixture was aged for 5 hours. The obtained solution was neutralized with hydrochloric acid, filtered and washed with water to obtain a base-treated titanium compound.
次に、塩基処理チタン化合物をTiO2濃度20g/Lになるよう純水に懸濁させて撹拌した。撹拌下、TiO2量に対し0.4mol%の量のクエン酸を添加した。95℃まで昇温し、濃塩酸を塩酸濃度が30g/Lとなるように加え、液温を維持して3時間撹拌した。ここで、得られた混合液のpH及びゼータ電位を測定したところ、25℃におけるpHは1.4、ゼータ電位は+40mVであった。また、ゼータサイザーナノ(マルバーン社製)により粒径測定を行ったところ、体積平均粒子径は35nm、単分散度は16%であった。また、酸化チタンゾル液を105℃で3時間乾燥させて粒子紛体を得て、日本電子データム株式会社製、JDX−3530型を用いてX線回折の測定を行い、ルチル型粒子であることを確認した。 Next, the base-treated titanium compound was suspended in pure water and stirred so that the TiO 2 concentration was 20 g / L. Under stirring, it was added citric acid in an amount of 0.4 mol% with respect to TiO 2 weight. The temperature was raised to 95 ° C., concentrated hydrochloric acid was added so that the hydrochloric acid concentration was 30 g / L, and the solution temperature was maintained, followed by stirring for 3 hours. Here, when the pH and zeta potential of the obtained mixed liquid were measured, the pH at 25 ° C. was 1.4, and the zeta potential was +40 mV. Further, when the particle size was measured by Zetasizer Nano (manufactured by Malvern), the volume average particle size was 35 nm and the monodispersity was 16%. Further, the titanium oxide sol solution was dried at 105 ° C. for 3 hours to obtain a particle powder, and X-ray diffraction measurement was performed using JDX-3530 type manufactured by JEOL Datum Co., Ltd. to confirm that the particles were rutile type particles. did.
上記ルチル型酸化チタン粒子を含む20.0質量%の酸化チタンゾル水系分散液1kgに純水1kgを添加して、10.0質量%の酸化チタンゾル水系分散液を調製した。 1 kg of pure water was added to 1 kg of a 20.0 mass% titanium oxide sol aqueous dispersion containing the rutile-type titanium oxide particles to prepare a 10.0 mass% titanium oxide sol aqueous dispersion.
上記10.0質量%の酸化チタンゾル水系分散液の0.5kgに、純水2kgを加えた後、90℃に加熱した。その後、SiO2濃度が2.0質量%のケイ酸水溶液0.1kgを徐々に添加した。得られた分散液をオートクレーブ中、175℃で18時間加熱処理を行い、限外濾過を用いて脱塩、さらに濃縮することで、SiO2で被覆されたルチル型構造を有する酸化チタンを含む、20質量%のシリカ変性酸化チタン粒子の分散液(ゾル水分散液)を得た。このとき、シリカの被覆量は酸化チタン粒子に対して4質量%であった。また、ゼータサイザーナノ(マルバーン社製)によりシリカ変性酸化チタン粒子(ルチル型)の粒径測定を行ったところ、体積平均粒子径は35nm、単分散度は16%であった。 2 kg of pure water was added to 0.5 kg of the 10.0 mass% titanium oxide sol aqueous dispersion, followed by heating to 90 ° C. Thereafter, 0.1 kg of an aqueous silicic acid solution having a SiO 2 concentration of 2.0 mass% was gradually added. The resulting dispersion is subjected to heat treatment at 175 ° C. for 18 hours in an autoclave, desalted using ultrafiltration, and further concentrated to contain titanium oxide having a rutile structure coated with SiO 2 . A dispersion (sol aqueous dispersion) of 20% by mass of silica-modified titanium oxide particles was obtained. At this time, the coating amount of silica was 4% by mass with respect to the titanium oxide particles. Further, when the particle size of silica-modified titanium oxide particles (rutile type) was measured using Zetasizer Nano (manufactured by Malvern), the volume average particle size was 35 nm and the monodispersity was 16%.
下記構成材料を45℃で順次添加し、最後に純水で1000部に仕上げ、高屈折率層用塗布液1を調製した。 The following constituent materials were sequentially added at 45 ° C., and finally finished to 1000 parts with pure water to prepare a coating solution 1 for high refractive index layer.
(低屈折率層用塗布液1の作製)(添加量0.3%)
10質量%の酸性コロイダルシリカの水溶液(スノーテックスOXS、平均一次粒径:4〜6nm、日産化学工業株式会社製)430質量部、3質量%のホウ酸水溶液85質量部、純水332質量部、水溶性高分子であるポリビニルアルコールの8質量%水溶液(PVA−235、重合度:3500、鹸化度:88モル%、株式会社クラレ製)150質量部と、5質量%の界面活性剤の溶液(アンヒトールHD、花王株式会社製)3.0質量部、さらに1質量%のベンゾトリアゾリルブチルフェノールスルホン酸Na水溶液を17.5質量部を45℃でこの順に添加、混合し、低屈折率層用塗布液1を調製した。
(Preparation of coating solution 1 for low refractive index layer) (added amount 0.3%)
10 mass% acidic colloidal silica aqueous solution (Snowtex OXS, average primary particle size: 4 to 6 nm, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) 430 mass parts, 3 mass% boric acid aqueous solution 85 mass parts, pure water 332 mass parts An aqueous solution of 8% by mass of a polyvinyl alcohol which is a water-soluble polymer (PVA-235, polymerization degree: 3500, degree of saponification: 88 mol%, manufactured by Kuraray Co., Ltd.) and 5% by mass of a surfactant solution (Amphithal HD, manufactured by Kao Corporation) 3.0 parts by mass, and further 17.5 parts by mass of 1 mass% benzotriazolyl butylphenol sulfonate aqueous solution at 45 ° C. are added and mixed in this order, and the low refractive index layer Coating solution 1 was prepared.
(反射層の作製)
得られた塗布液(高屈折率層用塗布液1および低屈折率層用塗布液1)を、15層重層塗布可能なスライドホッパー塗布装置を用い、高屈折率層用塗布液1および低屈折率層用塗布液1を40℃に保温しながら厚さ50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(東洋紡製A4300、両面易接着層、長さ200m×幅210mm)上に、最下層および最表層は低屈折率層とし、それ以外は、高屈折率層と低屈折率層とをそれぞれ交互に積層されるように、計15層の同時重層塗布を行った。この際、乾燥時の膜厚は、最下層が1510nm、最表層が100nm、最下層および最表層以外の低屈折率層の各層が150nm、および高屈折率層の各層が150nmになるように調整した。
(Production of reflective layer)
The resulting coating liquid (high refractive index layer coating liquid 1 and low refractive index layer coating liquid 1) is applied to a high refractive index layer coating liquid 1 and low refractive index using a slide hopper coating apparatus capable of coating 15 layers. On the polyethylene terephthalate film (Toyobo A4300, double-sided easy-adhesion layer, length 200 m × width 210 mm) having a thickness of 50 μm, the lowermost layer and the outermost layer are low refractive index layers while keeping the coating liquid 1 for the rate layer at 40 ° C. Other than that, a total of 15 layers were simultaneously applied so that a high refractive index layer and a low refractive index layer were alternately laminated. At this time, the film thickness during drying is adjusted so that the lowermost layer is 1510 nm, the outermost layer is 100 nm, the lower refractive index layers other than the lowermost layer and the uppermost layer are 150 nm, and the high refractive index layers are 150 nm. did.
塗布直後、5℃の冷風を吹き付けて増粘させた。増粘後、80℃の温風を吹き付けて乾燥させて、15層からなる重層塗布品(反射層1)を作製した。 Immediately after the application, 5 ° C. cold air was blown to increase the viscosity. After thickening, warm air of 80 ° C. was blown and dried to prepare a multilayer coating product (reflective layer 1) consisting of 15 layers.
なお、低屈折率層の屈折率は、1.48であり、高屈折率層の屈折率は、1.81であった。以下の実施例でも同様である。また、高屈折率層におけるシリカ変性酸化チタン粒子の含有量は、52体積%であった。以下の実施例でも同様である。 The refractive index of the low refractive index layer was 1.48, and the refractive index of the high refractive index layer was 1.81. The same applies to the following embodiments. The content of silica-modified titanium oxide particles in the high refractive index layer was 52% by volume. The same applies to the following embodiments.
<実施例2>
低屈折率層用塗布液1において、純水を262質量部に変更し、1質量%のベンゾトリアゾリルブチルフェノールスルホン酸Na水溶液を70質量部に変更した以外は、実施例1と同様の方法で、低屈折率塗布液2(添加量1.2質量%)を作製した。
<Example 2>
In the coating solution 1 for the low refractive index layer, the same method as in Example 1 except that the pure water was changed to 262 parts by mass and the 1% by mass of benzotriazolyl butylphenol sulfonate aqueous solution was changed to 70 parts by mass. Thus, a low refractive index coating solution 2 (added amount: 1.2% by mass) was prepared.
そして、実施例1と同様の方法で、15層のユニットからなる反射層2を作製した。 Then, a reflective layer 2 composed of 15 units was produced by the same method as in Example 1.
<実施例3>
低屈折率層用塗布液1において、純水を157質量部に変更し、1質量%のベンゾトリアゾリルブチルフェノールスルホン酸Na水溶液を175質量部に変更した以外は、実施例1と同様の方法で、低屈折率塗布液3(添加量3質量%)を作製した。
<Example 3>
In the coating solution 1 for low refractive index layer, the same method as in Example 1 except that the pure water was changed to 157 parts by mass and the 1% by mass benzotriazolyl butylphenol sulfonate aqueous solution was changed to 175 parts by mass. Thus, a low refractive index coating liquid 3 (addition amount 3 mass%) was prepared.
そして、実施例1と同様の方法で、15層のユニットからなる反射層3を作製した。 Then, a reflective layer 3 composed of 15 units was produced in the same manner as in Example 1.
<実施例4>
低屈折率層用塗布液1において、純水を52質量部に変更し、1質量%のベンゾトリアゾリルブチルフェノールスルホン酸Na水溶液を280質量部に変更した以外は、実施例1と同様の方法で、低屈折率塗布液4(添加量4.8質量%)を作製した。
<Example 4>
In the coating solution 1 for a low refractive index layer, the same method as in Example 1 except that pure water was changed to 52 parts by mass and 1% by mass of benzotriazolyl butylphenol sulfonic acid Na aqueous solution was changed to 280 parts by mass. Thus, a low refractive index coating solution 4 (addition amount 4.8% by mass) was produced.
そして、実施例1と同様の方法で、15層のユニットからなる反射層4を作製した。 And the reflection layer 4 which consists of a unit of 15 layers by the method similar to Example 1 was produced.
<実施例5>
低屈折率層用塗布液1において、純水を11.2質量部に変更し、1質量%のベンゾトリアゾリルブチルフェノールスルホン酸Na水溶液を320.8質量部に変更した以外は、実施例1と同様の方法で、低屈折率塗布液5(添加量5.5質量%)を作製した。
<Example 5>
Example 1 except that pure water was changed to 11.2 parts by mass and the 1% by mass benzotriazolyl butylphenol sulfonic acid Na aqueous solution was changed to 320.8 parts by mass in the coating solution 1 for the low refractive index layer. A low refractive index coating solution 5 (added amount of 5.5% by mass) was prepared in the same manner as described above.
そして、実施例1と同様の方法で、15層のユニットからなる反射層5を作製した。 And the reflection layer 5 which consists of a unit of 15 layers was produced by the method similar to Example 1. FIG.
<実施例6>
低屈折率層用塗布液1において、純水を157質量部に変更し、1質量%のフェニルベンズイミダゾールスルホン酸を175質量部に変更した以外は、実施例1と同様の方法で、低屈折率塗布液6(添加量3質量%)を作製した。
<Example 6>
In the coating solution 1 for the low refractive index layer, the low refractive index was changed in the same manner as in Example 1 except that pure water was changed to 157 parts by mass and 1% by mass of phenylbenzimidazolesulfonic acid was changed to 175 parts by mass. Coating solution 6 (addition amount 3% by mass) was prepared.
そして、実施例1と同様の方法で、15層のユニットからなる反射層6を作製した。 Then, a reflective layer 6 composed of 15 layer units was produced in the same manner as in Example 1.
<実施例7>
低屈折率層用塗布液1において、純水を157質量部に変更し、1質量%のベンゾフェノン4を175質量部に変更した以外は、実施例1と同様の方法で、低屈折率塗布液7(添加量3質量%)を作製した。
<Example 7>
In the coating solution 1 for the low refractive index layer, the low refractive index coating solution was prepared in the same manner as in Example 1 except that pure water was changed to 157 parts by mass and 1% by mass of benzophenone 4 was changed to 175 parts by mass. 7 (addition amount 3 mass%) was produced.
そして、実施例1と同様の方法で、15層のユニットからなる反射層7を作製した。 Then, a reflective layer 7 composed of 15 layer units was produced in the same manner as in Example 1.
<実施例8>
低屈折率層用塗布液1において、純水を157質量部に変更し、1質量%のベンゾフェノン9を175質量部に変更した以外は、実施例1と同様の方法で、低屈折率塗布液8(添加量3質量%)を作製した。
<Example 8>
In the coating solution 1 for the low refractive index layer, the low refractive index coating solution was prepared in the same manner as in Example 1 except that pure water was changed to 157 parts by mass and 1% by mass of benzophenone 9 was changed to 175 parts by mass. 8 (addition amount 3 mass%) was produced.
そして、実施例1と同様の方法で、15層のユニットからなる反射層8を作製した。 Then, a reflective layer 8 composed of 15 layer units was produced in the same manner as in Example 1.
<比較例1>
低屈折率層用塗布液1に、ベンゾトリアゾリルブチルフェノールスルホン酸Na水溶液を添加せずに調液した以外は、実施例1と同様の方法で15層のユニットからなる反射層9を作成した。
<Comparative Example 1>
A reflective layer 9 consisting of 15 layers was prepared in the same manner as in Example 1 except that the low refractive index layer coating solution 1 was prepared without adding an aqueous solution of sodium benzotriazolylbutylphenol sulfonate. .
<比較例2>
高屈折率層用塗布液1に、さらに、ベンゾトリアゾリルブチルフェノールスルホン酸Na水溶液を105部加えることで、高屈折率層用塗布液2を作製した。
<Comparative Example 2>
A coating solution 2 for a high refractive index layer was prepared by adding 105 parts of a benzotriazolyl butylphenol sulfonic acid Na aqueous solution to the coating solution 1 for a high refractive index layer.
高屈折率層用塗布液2を用い、実施例3と同様の方法で、15層のユニットからなる反射層10を作製した。 Using the coating solution 2 for high refractive index layer, a reflective layer 10 composed of 15 units was produced in the same manner as in Example 3.
<温度測定>
(高屈折率層の温度の測定)
各実施例および各比較例で用いた、高屈折率層用塗布液を、膜厚5μmとなるように、PET上に単層で塗布し、7.5kWスーパーキセノンウェザーメーター SX75中でキセノン光(180mw/cm2)を照射し、30分後に反射温度計にて、各高屈折率層の温度を測定した。
<Temperature measurement>
(Measurement of the temperature of the high refractive index layer)
The coating solution for the high refractive index layer used in each example and each comparative example was applied as a single layer on PET so as to have a film thickness of 5 μm, and xenon light (7.5 x super-xenon weather meter SX75) 180 mw / cm 2 ), and after 30 minutes, the temperature of each high refractive index layer was measured with a reflection thermometer.
(低屈折率層の温度の測定)
高屈折率層用塗布液を、低屈折率層用塗布液に変更した以外は、高屈折率層の温度の測定と同様に、各低屈折率層の温度を測定した。
(Measurement of temperature of low refractive index layer)
The temperature of each low refractive index layer was measured in the same manner as the measurement of the temperature of the high refractive index layer, except that the high refractive index layer coating solution was changed to the low refractive index layer coating solution.
<耐侯性試験>
各実施例および各比較例で作製した、各反射層に対して、7.5kW スーパーキセノンウェザーメーター SX75を用いて、槽内温度30℃に設定し、キセノン光(180mw/cm2)を、100時間(降雨モード20分、晴れモード100分のサイクル)、照射した。
<Weather resistance test>
Using the 7.5 kW super xenon weather meter SX75, the temperature in the tank was set to 30 ° C., and xenon light (180 mw / cm 2 ) was set to 100 for each reflective layer prepared in each example and each comparative example. Irradiated for a period of time (20 minutes in rain mode, 100 minutes in sunny mode).
<ΔE>
各実施例および各比較例で作製した、各反射層に、30℃60%RHの条件でキセノンウェザーメーター(スガ試験機社製;太陽光に極めて近似した光を発する)を用いて100W/m2の強度のキセノン光に2000時間曝露し、曝露前後での透過光の差異から色差(ΔE)を計算した。なお、曝露前後のサンプルの透過光は、分光光度計U−4000型(積分球使用、日立製作所社製)の200〜2000nm領域における透過率によって評価した。それぞれの結果を表1に示す。このΔEの値が小さいほど、キセノン光曝露による着色の程度が小さいことを意味する。
<ΔE>
100 W / m using a xenon weather meter (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd .; emits light very close to sunlight) on each reflective layer produced in each example and each comparative example under the conditions of 30 ° C. and 60% RH. The sample was exposed to xenon light of intensity 2 for 2000 hours, and the color difference (ΔE) was calculated from the difference in transmitted light before and after exposure. In addition, the transmitted light of the sample before and after exposure was evaluated by the transmittance in a 200 to 2000 nm region of a spectrophotometer U-4000 type (using an integrating sphere, manufactured by Hitachi, Ltd.). The results are shown in Table 1. A smaller value of ΔE means that the degree of coloring due to exposure to xenon light is smaller.
<外観評価>
耐候性試験後の各光学遮蔽フィルムの外観評価をするために、光学顕微鏡(20倍に拡大)を用い、各実施例、各比較例で製造した反射層の外観評価を行った。
<Appearance evaluation>
In order to evaluate the appearance of each optical shielding film after the weather resistance test, the appearance of the reflective layer produced in each example and each comparative example was evaluated using an optical microscope (enlarged 20 times).
具体的には、光学顕微鏡で20倍に拡大して外観評価を行った。 Specifically, the appearance was evaluated by magnifying 20 times with an optical microscope.
なお、表1中の、記号の意味は、以下のとおりである。 In addition, the meaning of the symbol in Table 1 is as follows.
◎:表面に割れ、はがれがない。 A: No cracking or peeling on the surface.
○:表面に割れ、はがれがないが、一部にスジが見える。 ○: No cracking or peeling on the surface, but streaks are visible in some areas.
×:表面に割れ、はがれが見える。 X: The surface is cracked and peeled off.
<反射率>
耐候性試験後の各光学遮蔽フィルムの遮蔽性能を評価するために、分光光度計(積分球使用、株式会社日立製作所製、U−4000型)を用い、各光学遮蔽フィルムを3mmのガラスに貼り付け、ガラス側から300nm〜2000nmの領域における透過率を測定した。800〜1100nmにおける反射率を測定し最も反射率が高いピークの透過率の値を用いて赤外線反射率%を評価した。
<Reflectance>
In order to evaluate the shielding performance of each optical shielding film after the weather resistance test, a spectrophotometer (using an integrating sphere, manufactured by Hitachi, Ltd., U-4000 type) was used, and each optical shielding film was attached to 3 mm glass. The transmittance in a region of 300 nm to 2000 nm from the glass side was measured. The reflectance at 800 to 1100 nm was measured, and the infrared reflectance% was evaluated using the transmittance value of the peak having the highest reflectance.
<考察>
上記結果のとおり、実施例の光学反射フィルムは、比較例の光学反射フィルムと比較して、ΔE、外観評価、反射率のいずれの観点から見ても、優れていることが分かる。ここで、実施例1〜4、6〜8を比較すると、実施例2〜4、6〜8が、実施例1よりも、ΔE、外観評価、反射率のいずれの観点でも、より優れていることが分かる。これは、後者の実施例における温度差が、15℃以下であるからであると推測される。また、実施例3と、実施例5とを比較すると、外観評価、反射率の観点では、実施例3の方がより優れている。これは、同じ温度差でも、実施例3では、高屈折率層が、低屈折率層の温度が高いためであると推測される。一方で、ΔEの観点では、実施例5の方が優れている。
<Discussion>
As can be seen from the above results, the optical reflective films of the examples are superior to the optical reflective films of the comparative examples from the viewpoints of ΔE, appearance evaluation, and reflectance. Here, when Examples 1 to 4 and 6 to 8 are compared, Examples 2 to 4 and 6 to 8 are more excellent than Example 1 in terms of ΔE, appearance evaluation, and reflectance. I understand that. This is presumed to be because the temperature difference in the latter embodiment is 15 ° C. or less. Moreover, when Example 3 is compared with Example 5, Example 3 is more superior in terms of appearance evaluation and reflectance. This is presumed to be because in Example 3, the temperature of the high refractive index layer is high in the low refractive index layer even at the same temperature difference. On the other hand, Example 5 is superior in terms of ΔE.
Claims (13)
前記ユニットの少なくとも一つに、界面の剥離抑制処理が施されている、光学反射フィルム。 An optical reflective film, wherein a reflective layer comprising at least one unit composed of a high refractive index layer containing titanium oxide and a low refractive index layer containing silicon oxide is laminated on a substrate,
An optical reflective film in which at least one of the units is subjected to an interface peeling inhibiting treatment.
光照射後の定常状態における、高屈折率層の温度をX℃とし、低屈折率層の温度をY℃としたときに、下記式1:
When the temperature of the high refractive index layer is X ° C. and the temperature of the low refractive index layer is Y ° C. in a steady state after light irradiation, the following formula 1:
下記式2:
Following formula 2:
下記式3:
Formula 3 below:
前記ユニットの少なくとも一つに、界面の剥離抑制処理を施すことを有する、光学反射フィルムの製造方法。 A method for producing an optical reflective film, comprising: laminating a reflective layer including at least one unit composed of a high refractive index layer containing titanium oxide and a low refractive index layer containing silicon oxide on a substrate. There,
A method for producing an optical reflective film, comprising subjecting at least one of the units to an interface peeling suppression treatment.
前記少なくとも一つのユニットの低屈折率層に、温度上昇促進剤を含ませることを有する、剥離を抑制する方法。 The at least one of the above-mentioned optical reflective films, wherein a reflective layer including at least one unit composed of a high refractive index layer containing titanium oxide and a low refractive index layer containing silicon oxide is laminated on a substrate. A method for suppressing the separation of the interface between two units,
A method for suppressing peeling, comprising including a temperature increase accelerator in the low refractive index layer of the at least one unit.
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