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JP2016051455A - Conductive pattern sheet, touch panel device, and image display device - Google Patents

Conductive pattern sheet, touch panel device, and image display device Download PDF

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JP2016051455A
JP2016051455A JP2014178333A JP2014178333A JP2016051455A JP 2016051455 A JP2016051455 A JP 2016051455A JP 2014178333 A JP2014178333 A JP 2014178333A JP 2014178333 A JP2014178333 A JP 2014178333A JP 2016051455 A JP2016051455 A JP 2016051455A
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JP
Japan
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conductive pattern
conductive
particles
metal
pattern sheet
Prior art date
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Pending
Application number
JP2014178333A
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Japanese (ja)
Inventor
口 博 関
Hiroshi Sekiguchi
口 博 関
鹿 島 啓 二
Keiji Kajima
島 啓 二 鹿
倉 哲 夫 松
Tetsuo Matsukura
倉 哲 夫 松
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Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To effectively prevent visibility of a conductive pattern.SOLUTION: A conductive pattern sheet 10 includes a conductive pattern 20 having metal conductors 23a, 25a and a visual function layer 40 layered on the conductive pattern 20. The visual function layer 40 comprises a binder resin 41, and particles 42 dispersed in the binder resin 41 and having a refractive index different from that of the binder resin 41. The particles 42 have an average particle diameter Dlarger than average line widths W, Wof the metal conductors 23a, 25a.SELECTED DRAWING: Figure 7

Description

本発明は、視覚機能層を有する導電性パターンシートに係り、とりわけ、導電性パターンが視認されてしまうことが効果的に防止され得る導電性パターンシートに関する。また、本発明は、この導電性パターンシートを有するタッチパネル装置および画像表示装置にも関する。   The present invention relates to a conductive pattern sheet having a visual function layer, and more particularly to a conductive pattern sheet that can effectively prevent the conductive pattern from being visually recognized. The present invention also relates to a touch panel device and an image display device having the conductive pattern sheet.

従来、可視光透過性を有する導電性パターンが、タッチパネル用電極基板、透明アンテナ、電磁波遮蔽材(電磁波遮蔽シート)等、として、種々の分野において広く使用されてきた。このような導電性パターンは、それ自体不透明な金属材料を用いて形成されている一方で、多くの用途、例えば表示装置上に配置されて用いられるタッチパネル用電極基板や電磁波遮蔽材(電磁波遮蔽シート)としての用途等において、十分に不可視化されていることが要望される。とりわけ導電性メッシュのパターンが部分的にでも視認されるようになると、単に透過率が低下してしまうだけでなく、例えば他の部材と重ね合わせられた際に濃淡むら、ちらつき、モアレといった不具合を引き起こしてしまう。   Conventionally, a conductive pattern having visible light permeability has been widely used in various fields as an electrode substrate for a touch panel, a transparent antenna, an electromagnetic wave shielding material (electromagnetic wave shielding sheet), and the like. While such a conductive pattern is formed by using an opaque metal material itself, it is used for many applications, for example, an electrode substrate for a touch panel and an electromagnetic wave shielding material (electromagnetic wave shielding sheet) disposed on a display device. ) Is required to be sufficiently invisible. In particular, when the pattern of the conductive mesh comes to be partially visible, not only the transmittance is lowered, but also, for example, when overlapping with other members, there are problems such as uneven shading, flickering, and moire. It will cause.

特許文献1には、導電性パターンに、偏光子、コントラストフィルター、光散乱要素、防眩、マット仕上げ等の微小パターン不明瞭化構造を積層し、導電性パターンの可視性を低減したタッチスクリーンセンサが開示されている。   Patent Document 1 discloses a touch screen sensor in which a conductive pattern is laminated with a micropattern obscuring structure such as a polarizer, a contrast filter, a light scattering element, anti-glare, and a matte finish, thereby reducing the visibility of the conductive pattern. Is disclosed.

特許文献2には、倍率が1以下である導電性パターンの正立虚像が結像されるように、導電性パターンと対応して形成されたマイクロレンズを有し、このマイクロレンズで、視認される導電性パターンの線幅を縮小したタッチパネルが開示されている。   Patent Document 2 has a microlens formed so as to correspond to the conductive pattern so that an erecting virtual image of the conductive pattern with a magnification of 1 or less is formed. A touch panel in which the line width of the conductive pattern is reduced is disclosed.

特表2011−517355号公報Special table 2011-517355 特開2013−222456号公報JP2013-222456A

特許文献1に開示されたタッチスクリーンセンサでは、偏光子、コントラストフィルター、光散乱要素、防眩、マット仕上げ等の微小パターン不明瞭化構造で導電性パターンを不明瞭化するのと同時に、ディスプレイから出射される画像光をも不明瞭化してしまい、ディスプレイの解像度が低下する。   In the touch screen sensor disclosed in Patent Document 1, the conductive pattern is obscured by a micropattern obscuring structure such as a polarizer, a contrast filter, a light scattering element, anti-glare, and a matte finish. The emitted image light is also obscured, and the resolution of the display is lowered.

特許文献2に開示されたタッチパネルでは、マイクロレンズにより、視認される導電性パターンの線幅が縮小されるものの、導電性パターンは依然として視認され、導電性パターンの視認性を十分に低減させることができるものではなかった。   In the touch panel disclosed in Patent Document 2, although the line width of the conductive pattern visually recognized is reduced by the microlens, the conductive pattern is still visually recognized, and the visibility of the conductive pattern can be sufficiently reduced. It wasn't possible.

本発明は、以上の点を考慮してなされたものであり、導電性パターンシートにおいて、導電性パターンが視認されてしまうことを効果的に防止することを目的とする。   The present invention has been made in consideration of the above points, and an object thereof is to effectively prevent a conductive pattern from being visually recognized in a conductive pattern sheet.

本発明による導電性パターンシートは、
金属導線を有する導電性パターンと、
前記導電性パターンと積層された視覚機能層と、を備え、
前記視覚機能層は、バインダー樹脂と、前記バインダー樹脂中に分散し且つ前記バインダー樹脂とは異なる屈折率を有した粒子と、を含み、
前記粒子の平均粒径は、前記金属導線の平均線幅よりも大きい。
The conductive pattern sheet according to the present invention is:
A conductive pattern having metal conductors;
A visual functional layer laminated with the conductive pattern,
The visual functional layer includes a binder resin and particles dispersed in the binder resin and having a refractive index different from that of the binder resin,
The average particle diameter of the particles is larger than the average line width of the metal conductor.

本発明による導電性パターンシートにおいて、粒子の平均粒径は、金属導線の平均線幅の2倍よりも大きくてもよい。   In the conductive pattern sheet according to the present invention, the average particle diameter of the particles may be larger than twice the average line width of the metal conductor.

本発明による導電性パターンシートにおいて、視覚機能層の厚さは、粒子の平均粒径よりも大きく、前記粒子の平均粒径の2倍よりも小さくてもよい。   In the conductive pattern sheet according to the present invention, the thickness of the visual functional layer may be larger than the average particle diameter of the particles and smaller than twice the average particle diameter of the particles.

本発明による導電性パターンシートにおいて、粒子の屈折率は、バインダー樹脂の屈折率よりも低くてもよい。   In the conductive pattern sheet according to the present invention, the refractive index of the particles may be lower than the refractive index of the binder resin.

本発明による導電性パターンシートにおいて、導電性パターンの少なくとも一部分が、バインダー樹脂中に入り込んでいてもよい。   In the conductive pattern sheet according to the present invention, at least a part of the conductive pattern may enter the binder resin.

本発明による導電性パターンシートにおいて、導電性パターンを支持する基材をさらに備え、視覚機能層は、前記導電性パターンの前記基材に対向する面とは反対側から積層され、前記視覚機能層は、その一部分が前記基材と接触していてもよい。   The conductive pattern sheet according to the present invention further includes a base material that supports the conductive pattern, and the visual function layer is laminated from a side opposite to the surface of the conductive pattern facing the base material, and the visual function layer A part thereof may be in contact with the substrate.

本発明によるタッチパネル装置は、上述の導電性パターンシートを備える。   A touch panel device according to the present invention includes the above-described conductive pattern sheet.

本発明による画像表示装置は、上述の導電性パターンシートを備える。   An image display device according to the present invention includes the above-described conductive pattern sheet.

本発明によれば、導電性パターンシートにおいて、導電性パターンが視認されてしまうことを効果的に防止することができる。   According to the present invention, it is possible to effectively prevent the conductive pattern from being visually recognized in the conductive pattern sheet.

図1は、本発明による一実施の形態を説明するための図であって、導電性パターンシートを有するタッチパネル用電極基板を、タッチパネル用電極基板の板面に垂直な方向から見て示す平面図である。FIG. 1 is a plan view illustrating an electrode substrate for a touch panel having a conductive pattern sheet as viewed from a direction perpendicular to the plate surface of the electrode substrate for a touch panel, for explaining an embodiment according to the present invention. It is. 図2は、図1のタッチパネル用電極基板の一部の拡大図であり、導電性パターンシートにおける導電性パターンの一例を示す拡大図である。FIG. 2 is an enlarged view of a part of the electrode substrate for a touch panel in FIG. 1 and is an enlarged view showing an example of the conductive pattern in the conductive pattern sheet. 図3は、図2の導電性パターンおよび取出配線をさらに拡大し、導電性パターンをなす導電性細線群の形状を詳細に示した図である。FIG. 3 is a diagram showing in further detail the shape of the conductive thin wire group forming the conductive pattern by further expanding the conductive pattern and the extraction wiring of FIG. 図4は、導電性パターンの他の例を示す拡大図である。FIG. 4 is an enlarged view showing another example of the conductive pattern. 図5は、図4の導電性パターンおよび取出配線をさらに拡大し、導電性パターンをなす導電性メッシュの形状を詳細に示した図である。FIG. 5 is a diagram showing in further detail the shape of the conductive mesh forming the conductive pattern by further expanding the conductive pattern and the extraction wiring of FIG. 図6は、図5の導電性メッシュをなす金属導線の平均線幅の測定方法を説明する部分拡大図である。FIG. 6 is a partially enlarged view illustrating a method for measuring the average line width of the metal conductors forming the conductive mesh of FIG. 図7は、導電性パターンシートを有するタッチパネル用電極基板の断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view of an electrode substrate for a touch panel having a conductive pattern sheet. 図8は、図7に示した断面図の一部の拡大図である。FIG. 8 is an enlarged view of a part of the cross-sectional view shown in FIG. 図9は、導電性パターンシートを有するタッチパネル用電極基板の変形例を示す断面図である。FIG. 9 is a cross-sectional view showing a modification of the electrode substrate for a touch panel having a conductive pattern sheet.

以下、図面を参照して本発明の一実施の形態について説明する。なお、本件明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。   Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In the drawings attached to the present specification, for the sake of illustration and ease of understanding, the scale, the vertical / horizontal dimension ratio, and the like are appropriately changed and exaggerated from those of the actual product.

本明細書において、「板」、「シート」、「フィルム」の用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではない。例えば、「導電性パターンシート」は板やフィルムと呼ばれ得るような部材をも含む概念であり、したがって、「導電性パターンシート」は、「導電性パターン板(基板)」や「導電性パターンフィルム」と呼ばれる部材と、呼称の違いのみにおいて区別され得ない。   In this specification, the terms “plate”, “sheet”, and “film” are not distinguished from each other only based on the difference in designation. For example, the “conductive pattern sheet” is a concept including a member that can be called a plate or a film. Therefore, the “conductive pattern sheet” is a “conductive pattern plate (substrate)” or “conductive pattern”. It cannot be distinguished from a member called “film” only by the difference in designation.

また、「シート面(板面、フィルム面)」とは、対象となるシート状(板状、フィルム状)の部材を全体的かつ大局的に見た場合において対象となるシート状部材(板状部材、フィルム状部材)の平面方向と一致する面のことを指す。   In addition, “sheet surface (plate surface, film surface)” means a target sheet-like member (plate-like) when the target sheet-like (plate-like, film-like) member is viewed as a whole and globally. It refers to the surface that coincides with the plane direction of the member or film-like member.

さらに、本明細書において用いる、形状や幾何学的条件並びにそれらの程度を特定する、例えば、「平行」、「直交」、「同一」等の用語や長さや角度の値等については、厳密な意味に縛られることなく、同様の機能を期待し得る程度の範囲を含めて解釈することとする。   Furthermore, as used in this specification, the shape and geometric conditions and the degree thereof are specified. For example, terms such as “parallel”, “orthogonal”, “identical”, length and angle values, etc. Without being bound by meaning, it should be interpreted including the extent to which similar functions can be expected.

図1〜図9は、本発明による一実施の形態およびその変形例を説明するための図である。本実施の形態による導電性パターンシート10は、金属導線23a,25aを有する導電性パターン20と、導電性パターン20と積層された視覚機能層40と、を有している。導電性パターン20は導電性を有しており、導電性に関連した何らかの機能を発揮するとともに、可視光透過性を有している。このような導電性パターン20の一例として、タッチパネル装置に組み込まれるタッチパネル用電極基板、電磁波を遮蔽する電磁波遮蔽材、可視光透過性を有したアンテナ、結露防止用の発熱電極を挙げることができる。導電性パターン20は、多くの場合、透明基材30上に形成されて、透明基材30とともに導電性パターンシート10を形成する。   FIGS. 1-9 is a figure for demonstrating one Embodiment and its modification by this invention. The conductive pattern sheet 10 according to the present embodiment has a conductive pattern 20 having metal conductive wires 23 a and 25 a and a visual function layer 40 laminated with the conductive pattern 20. The conductive pattern 20 has conductivity, exhibits some function related to conductivity, and has visible light permeability. Examples of the conductive pattern 20 include a touch panel electrode substrate incorporated in a touch panel device, an electromagnetic wave shielding material that shields electromagnetic waves, an antenna having visible light permeability, and a heat generation electrode for preventing condensation. In many cases, the conductive pattern 20 is formed on the transparent substrate 30 to form the conductive pattern sheet 10 together with the transparent substrate 30.

以下においては、図1〜図9を参照して、導電性パターンシート10が、タッチパネル用電極基板11に組み込まれる例について説明する。図1は、導電性パターンシート10が組み込まれたタッチパネル用電極基板11を示す平面図である。図2及び図3は、図1のタッチパネル用電極基板11の一部の拡大図であり、導電性パターン20の一例を説明するための図であり、図4〜図6は、導電性パターン20の他の例を説明するための図である。また、図7は、導電性パターンシート10を有するタッチパネル用電極基板11の断面図である。   Below, with reference to FIGS. 1-9, the example in which the electroconductive pattern sheet 10 is integrated in the electrode substrate 11 for touchscreens is demonstrated. FIG. 1 is a plan view showing an electrode substrate 11 for a touch panel in which a conductive pattern sheet 10 is incorporated. 2 and 3 are enlarged views of a part of the touch panel electrode substrate 11 of FIG. 1, and are diagrams for explaining an example of the conductive pattern 20. FIGS. 4 to 6 illustrate the conductive pattern 20. It is a figure for demonstrating the other example of. FIG. 7 is a cross-sectional view of the electrode substrate 11 for a touch panel having the conductive pattern sheet 10.

図7に示すように、図示された一実施の形態におけるタッチパネル用電極基板11は、観察者側(図7の上側)から順に、透明カバー62、接合層61、導電性パターンシート10を有している。導電性パターンシート10は、金属導線23a,25aを有する導電性パターン20と、導電性パターン20と積層された視覚機能層40と、を有している。また、図示された例では、導電性パターンシート10は、透明基材30をさらに有している。   As shown in FIG. 7, the touch panel electrode substrate 11 in the illustrated embodiment has a transparent cover 62, a bonding layer 61, and a conductive pattern sheet 10 in order from the viewer side (upper side in FIG. 7). ing. The conductive pattern sheet 10 has a conductive pattern 20 having metal conductive wires 23 a and 25 a and a visual function layer 40 laminated with the conductive pattern 20. In the illustrated example, the conductive pattern sheet 10 further includes a transparent substrate 30.

透明カバー62は、誘電体として機能する透光性を有した層であり、タッチパネル装置への入力面(タッチ面、接触面)として機能する。透明カバー62は、例えばガラス板や樹脂フィルムから形成される。透明カバー62は、可視光領域における透過率が80%以上であることが好ましく、84%以上であることがより好ましい。なお、透明カバー62の可視光透過率は、分光光度計((株)島津製作所製「UV−3100PC」、JISK0115準拠品)を用いて測定波長380nm〜780nmの範囲内で測定したときの、各波長における透過率の平均値として特定される。   The transparent cover 62 is a translucent layer that functions as a dielectric, and functions as an input surface (touch surface, contact surface) to the touch panel device. The transparent cover 62 is formed from, for example, a glass plate or a resin film. The transparent cover 62 preferably has a transmittance in the visible light region of 80% or more, and more preferably 84% or more. Note that the visible light transmittance of the transparent cover 62 is measured using a spectrophotometer (manufactured by Shimadzu Corporation “UV-3100PC”, JIS K0115 compliant product) within a measurement wavelength range of 380 nm to 780 nm. It is specified as an average value of transmittance at a wavelength.

透明カバー62は、接合層61を介して導電性パターンシート10と接合されている。このような接合層61としては、種々の接着性または粘着性を有した材料からなる層を用いることができる。典型的な接合層としては、アクリル系接着剤またはアクリル系粘着剤からなる層を例示することができる。   The transparent cover 62 is bonded to the conductive pattern sheet 10 via the bonding layer 61. As such a bonding layer 61, a layer made of a material having various adhesiveness or tackiness can be used. As a typical joining layer, the layer which consists of an acrylic adhesive or an acrylic adhesive can be illustrated.

なお、タッチパネル用電極基板11には、図示された例に限られず、特定の機能を発揮することを期待されたその他の機能層が設けられても良い。また、一つの機能層が二以上の機能を発揮するようにしてもよいし、例えば、透明基材30や、その他の各層(透明カバー62や接合層61)に機能を付与するようにしてもよい。タッチパネル用電極基板11に付与され得る機能としては、一例として、防眩(AG)機能、反射防止(AR)機能、耐擦傷性を有したハードコート(HC)機能、帯電防止(AS)機能、電磁波遮蔽機能、赤外線遮蔽機能、紫外線遮蔽機能、位相差機能、偏光機能、防汚機能等を例示することができる。   The touch panel electrode substrate 11 is not limited to the illustrated example, and may be provided with other functional layers expected to exhibit a specific function. Further, one functional layer may exhibit two or more functions, and for example, a function may be imparted to the transparent base material 30 and other layers (the transparent cover 62 and the bonding layer 61). Good. Examples of functions that can be imparted to the electrode substrate 11 for the touch panel include antiglare (AG) function, antireflection (AR) function, hard coat (HC) function having scratch resistance, antistatic (AS) function, Examples thereof include an electromagnetic wave shielding function, an infrared shielding function, an ultraviolet shielding function, a phase difference function, a polarization function, and an antifouling function.

次に、導電性パターン20及び視覚機能層40を有した導電性パターンシート10を説明する。図1に示すように、タッチパネル用電極基板11は、その法線方向に沿って離間して配置された一対の検知電極21の群を有しており、各検知電極21が、導電性パターン20を含んでいる。観察者に近い側に位置する検知電極21を表面検知電極21s、観察者から離れる側に位置する検知電極21を裏面検知電極21rと呼称する。これらは、説明上一対の検知電極21の群を区別するための呼称であり、露出面に限定する趣旨で呼称してはいない。なお、ここで、タッチパネル用電極基板11を組み込んだタッチパネル装置を設置した画像表示裝置において、画像観察者またはタッチパネル操作者の側を表面といい、その反対側の面を裏面という。   Next, the conductive pattern sheet 10 having the conductive pattern 20 and the visual function layer 40 will be described. As shown in FIG. 1, the touch panel electrode substrate 11 has a group of a pair of detection electrodes 21 that are spaced apart from each other along the normal direction, and each detection electrode 21 includes a conductive pattern 20. Is included. The detection electrode 21 located on the side closer to the observer is referred to as the front surface detection electrode 21s, and the detection electrode 21 located on the side away from the observer is referred to as the back surface detection electrode 21r. These are names for distinguishing the group of the pair of detection electrodes 21 for explanation, and are not called for the purpose of limiting to the exposed surface. Here, in the image display apparatus in which the touch panel device incorporating the touch panel electrode substrate 11 is installed, the side of the image observer or the touch panel operator is referred to as the front surface, and the opposite surface is referred to as the back surface.

図示された例において、タッチパネル用電極基板11は、表面検知電極21sが形成された第1の透明基材30と、裏面検知電極21rが形成された第2の透明基材30と、の二枚の透明基材30を含むようにしてもよい。また、これに限らず、両側の表面上に表面検知電極21s及び裏面検知電極21rがそれぞれ形成された一枚の透明基材30を含むようにしてもよい。   In the illustrated example, the electrode substrate 11 for a touch panel includes two sheets of a first transparent base material 30 on which a front surface detection electrode 21s is formed and a second transparent base material 30 on which a back surface detection electrode 21r is formed. The transparent substrate 30 may be included. Further, the present invention is not limited to this, and a single transparent base material 30 in which the front surface detection electrode 21s and the back surface detection electrode 21r are formed on both surfaces may be included.

各検知電極21s,21rは、位置検出に用いられ、アクティブエリアAa1内に配置されている。図1に示すように、各検知電極21には、非アクティブエリアAa2内に配置された取出配線51が接続されている。取出配線51には、表面検知電極21sに接続された表面取出配線51sと、裏面検知電極21rに接続された裏面取出配線51rと、が含まれる。なお、各検知電極21は導電性パターン20を含み、導電性パターン20は、以下に説明するように金属導線23aからなる導電性細線群23または金属導線25aからなる導電性メッシュ25によって形成されているが、図1では、各検知電極21が配置される領域を示している。   Each detection electrode 21s, 21r is used for position detection, and is disposed in the active area Aa1. As shown in FIG. 1, each detection electrode 21 is connected to an extraction wiring 51 disposed in the inactive area Aa2. The extraction wiring 51 includes a front surface extraction wiring 51s connected to the front surface detection electrode 21s and a back surface extraction wiring 51r connected to the back surface detection electrode 21r. Each detection electrode 21 includes a conductive pattern 20, and the conductive pattern 20 is formed by a conductive fine wire group 23 made of metal conductive wires 23a or a conductive mesh 25 made of metal conductive wires 25a as described below. However, in FIG. 1, the area | region where each detection electrode 21 is arrange | positioned is shown.

取出配線51は、検知電極21の各々に対し、接触位置の検出方法に応じて一つまたは二つ設けられている。各取出配線51は、対応する検知電極21に接続されて配線を形成している。取出配線51は、透明基材30の非アクティブエリアAa2内を、対応する検知電極21から透明基材30の端縁まで延びている。取出配線51は、図示しない外部接続配線(例えば、FPC)を介し、制御回路(図示せず)に接続される。   One or two extraction wirings 51 are provided for each of the detection electrodes 21 depending on the detection method of the contact position. Each extraction wiring 51 is connected to the corresponding detection electrode 21 to form a wiring. The extraction wiring 51 extends from the corresponding detection electrode 21 to the edge of the transparent substrate 30 in the inactive area Aa2 of the transparent substrate 30. The extraction wiring 51 is connected to a control circuit (not shown) through an external connection wiring (for example, FPC) (not shown).

検知電極21は、外部導体がタッチパネル用電極基板11に接近した際に生じる、電磁的な変化または静電容量の変化を検知するために設けられるものである。検知電極21(21s、21r)は、金属材料が所定の線幅、及び、厚みで形成された金属導線23aからなる導電性細線群23または金属導線25aからなる導電性メッシュ25から構成される。金属材料としては、銅、金、銀、白金、錫、アルミニウム、ニッケル等の高導電性金属、及びこれらを含む合金を用いることができる。   The detection electrode 21 is provided to detect an electromagnetic change or a change in capacitance that occurs when an external conductor approaches the touch panel electrode substrate 11. The detection electrode 21 (21s, 21r) is composed of a conductive fine wire group 23 made of a metal conductive wire 23a or a metal conductive wire 25a made of a metal conductive wire 25a formed of a metal material with a predetermined line width and thickness. As the metal material, a highly conductive metal such as copper, gold, silver, platinum, tin, aluminum, or nickel, and an alloy containing these metals can be used.

図2および図3に、本発明における導電性パターン20の一例として、金属導線23aからなる導電性細線群23を有する導電性パターン20を示す。図2は、図1に示したタッチパネル用電極基板11(導電性パターンシート10)の一部の拡大図である。図3は、図2の表面の導電性パターン20および取出配線51をさらに拡大した図である。   2 and 3 show a conductive pattern 20 having a conductive thin wire group 23 made of metal conductive wires 23a as an example of the conductive pattern 20 in the present invention. FIG. 2 is an enlarged view of a part of the touch panel electrode substrate 11 (conductive pattern sheet 10) shown in FIG. FIG. 3 is an enlarged view of the conductive pattern 20 and the extraction wiring 51 on the surface of FIG.

図2に示された例において、非アクティブエリアAa2に配置された表面取出配線51sは、表面配線部52sと、表面配線部52sの端部に配置された表面接続部53sと、を含んでいる。表面検知電極21sは、導電性パターン20をなす表面導電性細線群23sを含んでいる。   In the example shown in FIG. 2, the surface extraction wiring 51s arranged in the non-active area Aa2 includes a surface wiring part 52s and a surface connection part 53s arranged at the end of the surface wiring part 52s. . The surface detection electrode 21 s includes a surface conductive thin wire group 23 s that forms the conductive pattern 20.

図3に、図2の表面の導電性パターン20および取出配線51をさらに拡大して示す。図示されているように、表面導電性細線群23sは、第1の方向(X)に延び、且つ、第1の方向(X)に非平行な第2の方向(Y)に配列された複数の金属導線23aを有している。これにより、隣接した金属導線23a間には、間隙領域24aが画成されている。複数の金属導線23aは、第1の方向(X)に沿ってアクティブエリアAa1から非アクティブエリアAa2まで延び、共通の表面接続部53sに接続している。表面接続部53sは、金属導線23aの長手方向である第1の方向(X)に非平行な方向に延びている。とりわけ、表面接続部53sは、金属導線23aの配列方向である第2の方向(Y)に延びている。そして、複数の表面導電性細線群23sは、第1の方向(X)に非平行な第2の方向(Y)に、互いから離間して配列されている。これにより、隣接した表面導電性細線群23s間には、間隙領域24bが画成されている。なお、図示された例において、第1の方向(X)は、第2の方向(Y)と直交している。   FIG. 3 further shows the conductive pattern 20 and the extraction wiring 51 on the surface of FIG. As illustrated, the surface conductive thin wire group 23s extends in the first direction (X) and is arranged in a second direction (Y) that is non-parallel to the first direction (X). The metal conducting wire 23a is provided. Thereby, a gap region 24a is defined between the adjacent metal conductors 23a. The plurality of metal conductive wires 23a extend from the active area Aa1 to the inactive area Aa2 along the first direction (X), and are connected to the common surface connecting portion 53s. The surface connecting portion 53s extends in a direction non-parallel to the first direction (X) which is the longitudinal direction of the metal conducting wire 23a. In particular, the surface connecting portion 53s extends in the second direction (Y) that is the arrangement direction of the metal conductors 23a. The plurality of surface conductive thin wire groups 23s are arranged apart from each other in the second direction (Y) that is non-parallel to the first direction (X). Thereby, a gap region 24b is defined between the adjacent surface conductive thin wire groups 23s. In the illustrated example, the first direction (X) is orthogonal to the second direction (Y).

一方、裏面導電性細線群23rは、図2に示されているように、第1の方向(X)と交差する第3の方向に延びている。そして、複数の裏面導電性細線群23rは、第2の方向(Y)および第3の方向の両方と交差する第4の方向に、互いから離間して配列されている。図示された例では、図2に示すように、裏面導電性細線群23rの長手方向である第3の方向は、第2の方向(Y)と平行となっている。また、裏面導電性細線群23rの配列方向である第4の方向は、第1の方向(X)と平行になっている。つまり、表面導電性細線群23sの長手方向と裏面導電性細線群23rの長手方向は直交している。また、表面導電性細線群23sの配列方向と裏面導電性細線群23rの配列方向は直交している。しかしながら、この例に限られることなく、タッチパネル用電極基板1としては、表面導電性細線群23sの長手方向と裏面導電性細線群23rの長手方向は、直交している必要はなく、交差していればよい。同様に、表面導電性細線群23sの配列方向と裏面導電性細線群23rの配列方向も、直交している必要はなく、交差していればよい。   On the other hand, as shown in FIG. 2, the back surface conductive thin wire group 23r extends in a third direction intersecting the first direction (X). The plurality of back surface conductive thin wire groups 23r are arranged away from each other in the fourth direction intersecting both the second direction (Y) and the third direction. In the illustrated example, as shown in FIG. 2, the third direction which is the longitudinal direction of the back surface conductive thin wire group 23r is parallel to the second direction (Y). The fourth direction, which is the arrangement direction of the back surface conductive thin wire group 23r, is parallel to the first direction (X). That is, the longitudinal direction of the front surface conductive thin wire group 23s and the longitudinal direction of the back surface conductive thin wire group 23r are orthogonal to each other. The arrangement direction of the front surface conductive thin wire group 23s and the arrangement direction of the back surface conductive thin wire group 23r are orthogonal to each other. However, without being limited to this example, as the electrode substrate 1 for a touch panel, the longitudinal direction of the front surface conductive thin wire group 23s and the longitudinal direction of the back surface conductive thin wire group 23r do not need to be orthogonal to each other and intersect. Just do it. Similarly, the arrangement direction of the surface conductive fine wire group 23s and the arrangement direction of the back surface conductive fine wire group 23r do not need to be orthogonal to each other, and may be crossed.

なお、図3に示された例では、金属導線23aは第1の方向(X)に沿って直線状に延びているが、これに限らず、折れ線状または波線状のパターンで、第1の方向(X)と非平行な方向に振幅を有して、とりわけ第2の方向(Y)に振幅を有して、第1の方向(X)に沿って延びていてもよい。   In the example shown in FIG. 3, the metal conductor 23 a extends linearly along the first direction (X). However, the present invention is not limited to this, and the first conductive wire 23 a has a polygonal or wavy pattern. It may have an amplitude in a direction non-parallel to the direction (X), in particular in the second direction (Y), and may extend along the first direction (X).

以上のような導電性細線群23の金属導線23aは、例えば、蒸着法、スパッタリング法、箔の転写、塗工法等により、銅、金、銀、白金、錫、アルミニウム、ニッケル、または、これらの合金を含有する金属膜を透明基材30上に形成し、この金属膜を所望のパターンでエッチングする方法、あるいは、導電性インキ(例えば、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂等の樹脂バインダー中に銅、金、銀、白金、錫、アルミニウム、ニッケル等の導電性金属粒子を分散させた導電性インキ)を透明基材30上に所望のパターンで印刷する方法等の従来既知の方法によって、透明基材30上に形成することができる。   The metal conductive wires 23a of the conductive thin wire group 23 as described above may be formed by, for example, copper, gold, silver, platinum, tin, aluminum, nickel, or the like by vapor deposition, sputtering, foil transfer, coating, or the like. A metal film containing an alloy is formed on the transparent substrate 30, and the metal film is etched in a desired pattern, or a conductive ink (for example, copper, gold in a resin binder such as an acrylic resin or a polyester resin). Transparent substrate 30 by a conventionally known method such as a method of printing a conductive ink in which conductive metal particles such as silver, platinum, tin, aluminum and nickel are dispersed in a desired pattern on transparent substrate 30. Can be formed on top.

なお、上述のように金属膜をエッチングすることによって金属導線23aを作製する場合、金属導線23aの線幅Wは変動することになる。このため、金属導線23aの線幅Wを、複数の測定値の平均値である平均線幅Wave1で評価する。平均線幅Wave1は、導電性細線群23をなす金属導線23aの線幅を、当該線幅のばらつきの全体的な傾向を反映し得ると期待される複数の箇所にて測定し、測定された線幅Wの平均値として特定される。具体的には、導電性細線群23をなす金属導線23aの線幅Wを、ランダムに選択した50箇所で測定する。線幅Wは、各測定点における金属導線23aの延伸方向に対して直交する方向における金属導線23aの両縁部間の長さとして特定され、例えば、光学顕微鏡を用いて測定される。そして、合計50個の線幅Wの測定値の算術平均値を、当該導電性細線群23をなす金属導線23aの平均線幅Wave1とする。 In the case of manufacturing a metal wire 23a by etching the metal film as described above, the line width W 1 of the metal wire 23a will vary. Therefore, the line width W 1 of the metal wire 23a, to evaluate an average line width W ave1 the average of multiple measurements. The average line width W ave1 is measured by measuring the line width of the metal conducting wire 23a forming the conductive thin wire group 23 at a plurality of locations expected to reflect the overall tendency of the variation in the line width. is specified as the average value of the line width W 1 has. Specifically, the line width W 1 of the metal wire 23a constituting the electroconductive thin line group 23, measured at 50 points randomly selected. Line width W 1 is identified as the length between opposite edges of the metal wire 23a in the direction orthogonal to the extending direction of the metal wires 23a at each measurement point, for example, it is measured using an optical microscope. Then, the arithmetic mean value of the total of 50 measurements of the line width W 1, and the average line width W ave1 of metal conductors 23a forming the electroconductive thin line group 23.

可視光透過性を有した導電性細線群23は、その金属導線23aが視認されにくくなっていることが好ましい。その一方で、導電性細線群23に期待されるその導電性に起因した機能を十分に発揮し得るよう、導電性細線群23の面抵抗は十分に低くなっていることが好ましい。上述した用途として用いられる場合において、導電性細線群23が期待された機能を効果的に発現し且つ導電性細線群23が十分な透視性を有するようにする観点から、導電性細線群23を次のように設計することができる。まず、導電性細線群23の平均線幅Wave1は、50μm以下、好ましくは30μm以下、より好ましくは15μm以下、さらに好ましくは10μm以下とすることができる。平均線幅Wave1の下限は、例えば、断線を回避する為に1μm以上、好ましくは3μm以上とすることができる。 In the conductive thin wire group 23 having visible light permeability, it is preferable that the metal conductive wire 23a is hardly visible. On the other hand, it is preferable that the sheet resistance of the conductive thin wire group 23 is sufficiently low so that the function due to the conductivity expected of the conductive thin wire group 23 can be sufficiently exhibited. In the case of being used as the above-mentioned application, the conductive thin wire group 23 is formed from the viewpoint of effectively expressing the expected function and the conductive thin wire group 23 having sufficient transparency. It can be designed as follows. First, the average line width W ave1 of the conductive thin wire group 23 can be 50 μm or less, preferably 30 μm or less, more preferably 15 μm or less, and even more preferably 10 μm or less. The lower limit of the average line width W ave1 can be, for example, 1 μm or more, preferably 3 μm or more in order to avoid disconnection.

図4〜図6に、タッチパネル用電極基板に適用され得る導電性パターン20の他の例として、金属導線25aからなる導電性メッシュ25を有する導電性パターン20を示す。図4は、図1に示したタッチパネル用電極基板11(導電性パターンシート10)の一部の拡大図である。図5は、図4の表面の導電性パターン20をさらに拡大した図である。   FIGS. 4 to 6 show a conductive pattern 20 having a conductive mesh 25 made of a metal conductive wire 25a as another example of the conductive pattern 20 that can be applied to the electrode substrate for a touch panel. FIG. 4 is an enlarged view of a part of the touch panel electrode substrate 11 (conductive pattern sheet 10) shown in FIG. FIG. 5 is an enlarged view of the conductive pattern 20 on the surface of FIG.

図4に示された例において、表面検知電極21sは、導電性パターン20をなす表面導電性メッシュ25sを含んでいる。表面導電性メッシュ25sは、多数の金属導線25aにより多数の開口領域26が画成されるメッシュ状の材料である。とりわけ、図示された例では、表面導電性メッシュ25sは、多数の金属導線25aで格子状のメッシュが形成され、これにより、多数の矩形の開口領域26が画成されている。   In the example shown in FIG. 4, the surface detection electrode 21 s includes a surface conductive mesh 25 s that forms the conductive pattern 20. The surface conductive mesh 25s is a mesh-like material in which a large number of open regions 26 are defined by a large number of metal conducting wires 25a. In particular, in the illustrated example, the surface conductive mesh 25 s is formed in a lattice-like mesh with a large number of metal conductors 25 a, thereby defining a large number of rectangular opening regions 26.

図5に示すように、表面導電性メッシュ25sは、二つの分岐点(合流点)27の間を延びて開口領域26を画成する導電性の接続要素28を多数含んでいる。とりわけ図示された例では、表面導電性メッシュ25sは、両端において分岐点27を形成する多数の接続要素28の集まりとして構成されている。すなわち、表面導電性メッシュ25sは、二つの分岐点27の間を延びる多数の接続要素28の集まりとして構成されている。そして、分岐点27において、接続要素28が接続されていくことにより、開口領域26が画成されている。言い換えると、接続要素28で囲繞、区画されて1つの開口領域26が画成されている。   As shown in FIG. 5, the surface conductive mesh 25 s includes a large number of conductive connection elements 28 that extend between two branch points (confluence points) 27 and define an open region 26. In particular, in the illustrated example, the surface conductive mesh 25s is configured as a collection of a large number of connecting elements 28 that form branch points 27 at both ends. That is, the surface conductive mesh 25 s is configured as a collection of a large number of connection elements 28 extending between the two branch points 27. An opening region 26 is defined by connecting the connecting element 28 at the branch point 27. In other words, one opening region 26 is defined by being surrounded and partitioned by the connecting element 28.

以上のような導電性メッシュ25の金属導線25aは、例えば、上述の導電性細線群23の金属導線23aと同様の方法、すなわち、金属膜を透明基材30上に形成し、この金属膜を所望のパターンでエッチングする方法、あるいは、導電性インキを透明基材30上に所望のパターンで印刷する方法等により形成することができる。   The metal conductive wire 25a of the conductive mesh 25 as described above is formed by, for example, the same method as the metal conductive wire 23a of the conductive thin wire group 23 described above, that is, a metal film is formed on the transparent substrate 30, and this metal film is formed. It can be formed by a method of etching with a desired pattern or a method of printing a conductive ink on the transparent substrate 30 with a desired pattern.

上述のように、金属膜をエッチングすることによって金属導線25aを作製する場合、図6に示すように、金属導線25aの線幅Wは変動することになる。このため、金属導線25aの線幅Wを、複数の測定値の平均値である平均線幅Wave2で評価する。平均線幅Wave2は、導電性メッシュ25をなす金属導線25aの線幅を、当該線幅のばらつきの全体的な傾向を反映し得ると期待される複数の箇所にて測定し、測定された線幅Wの平均値として特定される。具体的には、次の方法にて平均線幅Wave2を特定する。 As described above, the case of producing a metal wire 25a by etching a metal film, as shown in FIG. 6, the line width W 2 of the metal wire 25a will vary. Therefore, the line width W 2 of the metal wires 25a, to evaluate an average line width W ave2 the average of multiple measurements. The average line width W ave2 was measured by measuring the line width of the metal conducting wire 25a forming the conductive mesh 25 at a plurality of locations expected to reflect the overall tendency of the variation in the line width. It is specified as the average value of the line width W 2. Specifically, the average line width W ave2 is specified by the following method.

図6に示すように、導電性メッシュ25をなす金属導線25aは、分岐点27間を延びる接続要素28の集合体といえる。そこで、まず、任意に30個の接続要素28を選択する。次に、各接続要素28を画定する一対の分岐点27間を結ぶ仮想直線vl上に位置する3つの中間点29であって、当該仮想直線vlを4等分する中間点29を特定する。そして、選択された15個の接続要素のそれぞれについて、3つの中間点29での線幅Wを測定する。線幅Wは、中間点29を通過して仮想直線vlに対して直交する方向における金属導線25aの両縁部間の長さとして特定され、例えば、光学顕微鏡を用いて測定される。そして、合計90個の線幅Wの測定値の算術平均値を、当該導電性メッシュ25をなす金属導線25aの平均線幅Wave2とする。 As shown in FIG. 6, the metal conductor 25 a forming the conductive mesh 25 can be said to be an assembly of connection elements 28 extending between the branch points 27. Therefore, first, 30 connecting elements 28 are arbitrarily selected. Next, three intermediate points 29 located on a virtual straight line vl that connects between the pair of branch points 27 that define each connection element 28, and the intermediate point 29 that equally divides the virtual straight line vl into four parts are identified. Then, for each of the 15 connection elements selected to measure the line width W 2 of the three intermediate points 29. Line width W 2 is identified as the length between opposite edges of the metal wire 25a in the direction perpendicular to the virtual straight line vl passes through the midpoint 29, for example, be measured using an optical microscope. Then, the arithmetic average value of the measured values of 90 line widths W 2 in total is defined as the average line width W ave2 of the metal conductive wires 25 a forming the conductive mesh 25.

導電性メッシュ25は十分に低い面抵抗および十分な透視性を有することが望ましい。そのために、導電性メッシュ25の金属導線25aの平均線幅Wave2は、50μm以下、好ましくは30μm以下、より好ましくは15μm以下、さらに好ましくは10μm以下とすることができる。平均線幅Wave2の下限は、例えば、断線を回避する為に1μm以上、好ましくは3μm以上とすることができる。また、不透明な材料を用いて形成された導電性メッシュ25によって画成される一つの開口領域26の大きさを、50〜2000μmとすることができる。ここで一つの開口領域26の大きさとは、平面視における当該開口領域26の最大幅および最小幅の平均である。 The conductive mesh 25 desirably has a sufficiently low surface resistance and a sufficient transparency. Therefore, the average line width W ave2 of the metal conductor 25a of the conductive mesh 25 can be 50 μm or less, preferably 30 μm or less, more preferably 15 μm or less, and even more preferably 10 μm or less. The lower limit of the average line width W ave2 can be, for example, 1 μm or more, preferably 3 μm or more in order to avoid disconnection. In addition, the size of one opening region 26 defined by the conductive mesh 25 formed using an opaque material can be 50 to 2000 μm. Here, the size of one opening region 26 is the average of the maximum width and the minimum width of the opening region 26 in plan view.

次に、基材30について説明する。基材30は、導電性パターン20を含む検知電極21を支持する基材として機能する。図示された例において、基材30としての透明基材30は、検知電極21を支持する基材として機能し、且つ、タッチパネル用電極基板11における誘電体としても機能する。   Next, the base material 30 will be described. The base material 30 functions as a base material that supports the detection electrode 21 including the conductive pattern 20. In the illustrated example, the transparent base material 30 as the base material 30 functions as a base material that supports the detection electrode 21 and also functions as a dielectric in the touch panel electrode substrate 11.

透明基材30は、可視光線波長帯域の波長(380nm〜780nm)を透過する一般にいうところの透明である電気絶縁性の基材であれば特に制限はなく、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂、ポリプロピレン等のポリオレフィン樹脂、トリアセチルセルロース(三酢酸セルロース)等のセルロース系樹脂、ポリカーボネート樹脂などからなる樹脂シート、ガラス、セラミックス等からなる無機材を用いることができる。   The transparent substrate 30 is not particularly limited as long as it is a transparent and electrically insulating substrate that generally transmits wavelengths in the visible light wavelength band (380 nm to 780 nm). Polyester such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate Resin, acrylic resin such as polymethyl methacrylate, polyolefin resin such as polypropylene, cellulose resin such as triacetyl cellulose (cellulose triacetate), resin sheet made of polycarbonate resin, etc., inorganic material made of glass, ceramics, etc. it can.

次に、視覚機能層40について説明する。視覚機能層40は、バインダー樹脂41と、バインダー樹脂41中に分散し且つバインダー樹脂41とは異なる屈折率を有した粒子42と、を含んでいる。   Next, the visual function layer 40 will be described. The visual function layer 40 includes a binder resin 41 and particles 42 dispersed in the binder resin 41 and having a refractive index different from that of the binder resin 41.

図7に示した例では、金属導線23a,25aからなる導電性パターン20が、基材30の板面に平行な一平面上に広がっている。バインダー樹脂41中に分散された多数の粒子42が、導電性パターン20及び基材30の観察者側(図7の上側)に設けられている。これにより、導電性パターン20の観察者側に粒子42が配置されるようになる。とりわけ、図示された一例では、基材30の板面に平行且つ金属導線23a,25aの長手方向に垂直な方向、すなわち金属導線23a,25aの幅方向において、各金属導線23a,25aの中心と当該金属導線23a,25aの観察者側に位置する各粒子42の中心とが一致している。   In the example shown in FIG. 7, the conductive pattern 20 composed of the metal conductive wires 23 a and 25 a spreads on one plane parallel to the plate surface of the base material 30. A large number of particles 42 dispersed in the binder resin 41 are provided on the viewer side (upper side in FIG. 7) of the conductive pattern 20 and the base material 30. Thereby, the particles 42 are arranged on the viewer side of the conductive pattern 20. In particular, in the illustrated example, in the direction parallel to the plate surface of the substrate 30 and perpendicular to the longitudinal direction of the metal conductors 23a and 25a, that is, in the width direction of the metal conductors 23a and 25a, the centers of the metal conductors 23a and 25a The centers of the respective particles 42 located on the viewer side of the metal conductors 23a and 25a coincide with each other.

このような粒子42としては、可視光線波長帯域の波長(380nm〜780nm)を透過する一般にいうところの透明である電気絶縁性の粒子であれば特に制限はなく、例えば、スチレン樹脂ビーズ、アクリル樹脂ビーズ、スチレンアクリル共重合樹脂ビーズ、シリコーン樹脂ビーズを用いることができる。また、粒子42の形状は、球状であることが好ましい。   The particles 42 are not particularly limited as long as they are electrically insulating particles that are transparent in general terms and transmit wavelengths in the visible light wavelength band (380 nm to 780 nm). For example, styrene resin beads, acrylic resins Beads, styrene acrylic copolymer resin beads, and silicone resin beads can be used. The shape of the particles 42 is preferably spherical.

図示された例では、粒子42の屈折率はバインダー樹脂41の屈折率と異なっている。とりわけ、粒子42の屈折率をバインダー樹脂41の屈折率よりも低くすることができる。この場合、粒子42の屈折率がバインダー樹脂41の屈折率よりも0.03以上低くなっていることが好ましい。   In the illustrated example, the refractive index of the particles 42 is different from the refractive index of the binder resin 41. In particular, the refractive index of the particles 42 can be made lower than the refractive index of the binder resin 41. In this case, the refractive index of the particles 42 is preferably 0.03 or more lower than the refractive index of the binder resin 41.

図示された例において、粒子42の平均粒径Daveは、金属導線23a,25aの平均線幅Wave1,Wave2よりも大きい。好ましくは、粒子42の平均粒径Daveは、金属導線23a,25aの平均線幅Wave1,Wave2の2倍よりも大きい。このような平均粒径Daveを有する粒子42によれば、導電性パターンシート10の観察者側から導電性パターン20が視認されてしまうことを効果的に防止することができる。 In the illustrated example, the average particle diameter D ave of the particles 42 is larger than the average line widths W ave1 and W ave2 of the metal conductors 23a and 25a. Preferably, the average particle diameter D ave of the particles 42 is larger than twice the average line widths W ave1 and W ave2 of the metal conductors 23a and 25a. According to the particles 42 having such an average particle diameter D ave , it is possible to effectively prevent the conductive pattern 20 from being visually recognized from the observer side of the conductive pattern sheet 10.

粒子42の平均粒径Daveは、光学顕微鏡法または透過型電子顕微鏡法によって撮影した粒子42の直径の算術平均値であり、JIS Z 8901:2006(試験用紛体及び試験用粒子)の附属書に規定される方法により測定した算術平均粒子径である。このような粒子42の平均粒径Daveは、例えば3μm以上100μm以下、好ましくは、10μm以上50μm以下とすることができる。 The average particle diameter D ave of the particle 42 is an arithmetic average value of the diameter of the particle 42 photographed by optical microscopy or transmission electron microscopy, and is an annex to JIS Z 8901: 2006 (test powder and test particle). The arithmetic average particle diameter measured by the method defined in 1. The average particle diameter D ave of such particles 42 is, for example, 3 μm or more and 100 μm or less, preferably 10 μm or more and 50 μm or less.

導電性パターン20の各金属導線23a,25aは、少なくともその一部分が視覚機能層40のバインダー樹脂41に入り込んでいる。とりわけ図示された例では、導電性パターン20の各金属導線23a,25aは、視覚機能層40の基材30側の面から視覚機能層40内に完全に埋まり込んでいる。言い換えると、視覚機能層40のバインダー樹脂41が、導電性細線群23の各金属導線23a間の間隙領域24a、各導電性細線群23間の間隙領域24b、または、導電性メッシュ25の各金属導線25a間の各開口領域26を埋めており、この間隙領域24a,24bまたは開口領域26の箇所で視覚機能層40が基材30と面接触している。   At least a part of each of the metal conductive wires 23 a and 25 a of the conductive pattern 20 enters the binder resin 41 of the visual function layer 40. In particular, in the illustrated example, the metal conductive wires 23 a and 25 a of the conductive pattern 20 are completely embedded in the visual functional layer 40 from the surface of the visual functional layer 40 on the substrate 30 side. In other words, the binder resin 41 of the visual function layer 40 is formed by the gap region 24a between the metal conductors 23a of the conductive thin wire group 23, the gap region 24b between the conductive thin wire groups 23, or each metal of the conductive mesh 25. Each opening region 26 between the conductors 25 a is filled, and the visual function layer 40 is in surface contact with the base material 30 at the gap regions 24 a and 24 b or the opening region 26.

このようなバインダー樹脂41としては、可視光線波長帯域の波長(380nm〜780nm)を透過する一般にいうところの透明である電気絶縁性の樹脂であれば特に制限はなく、例えば、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂を用いることができる。   The binder resin 41 is not particularly limited as long as it is a transparent and electrically insulating resin that generally transmits a wavelength in the visible light wavelength band (380 nm to 780 nm). For example, a urethane resin or an epoxy resin is used. An acrylic resin can be used.

導電性パターン20が広がる一平面への法線方向に沿った視覚機能層40の厚さTは、粒子41の平均粒径Daveよりも大きくすることが好ましい。このような厚さを有する視覚機能層40によれば、粒子41の全体を視覚機能層40のバインダー樹脂41内に配置することができる。また、視覚機能層40の厚さTは、粒子41の平均粒径Daveの2倍よりも小さくすることが好ましい。このような厚さを有する視覚機能層40によれば、導電性パターン20が広がる一平面への法線方向に複数の粒子41が配置されることを防止できる。さらに好ましくは、視覚機能層40の厚さTは、粒子41の平均粒径Daveよりも大きく、且つ、粒子41の平均粒径Daveの2倍よりも小さくすることができる。 It is preferable that the thickness T of the visual functional layer 40 along the normal direction to one plane in which the conductive pattern 20 extends is larger than the average particle diameter D ave of the particles 41. According to the visual function layer 40 having such a thickness, the entire particles 41 can be disposed in the binder resin 41 of the visual function layer 40. In addition, the thickness T of the visual functional layer 40 is preferably smaller than twice the average particle diameter D ave of the particles 41. According to the visual function layer 40 having such a thickness, it is possible to prevent the plurality of particles 41 from being arranged in the normal direction to one plane in which the conductive pattern 20 extends. More preferably, the thickness T of the visual functional layer 40 is larger than the average particle diameter D ave of the particles 41 and smaller than twice the average particle diameter D ave of the particles 41.

次に、図8を参照して、以上のような構成からなる導電性パターンシート10の作用について説明する。図8は、図7に示した、導電性パターンシート10を有するタッチパネル用電極基板11の断面図の一部の拡大図である。   Next, with reference to FIG. 8, the effect | action of the electroconductive pattern sheet 10 which consists of the above structures is demonstrated. FIG. 8 is an enlarged view of a part of the sectional view of the electrode substrate 11 for a touch panel having the conductive pattern sheet 10 shown in FIG.

上述のように、粒子41の屈折率とバインダー樹脂41の屈折率とは異なっている。これにより、図8に示されているように、粒子42表面の、金属導線23a,25aと対向する部分と金属導線23a,25aの幅方向に隣接する部分、に入射する光L1は、粒子41とバインダー樹脂41との界面で屈折して粒子41内に入射する。粒子41内に入射した光L2は、粒子41内を、観察者側、且つ、金属導線23a,25aの幅方向において光L1が粒子41へ入射した側とは反対側へ向かって進み、粒子41表面の観察者側の部分の、金属導線23a,25aの幅方向において光L1が粒子41へ入射した側とは反対側の部分からバインダー樹脂41へ出射する。このとき、粒子41とバインダー樹脂41との界面で再度屈折する。粒子41からバインダー樹脂41へ出射した光L3は、接合層61および透明カバー62を透過して、タッチパネル用電極基板11の観察者側の面から出射し、観察者から視認されるようになる。したがって、観察者が導電性パターンシート10の金属導線23a,25aを、視覚機能層40の金属導線23a,25aと対向する側と反対側から観察すると、光L3を視認することになり、結果として、金属導線23a,25aは視認されづらくなる。   As described above, the refractive index of the particles 41 and the refractive index of the binder resin 41 are different. As a result, as shown in FIG. 8, the light L1 incident on the part of the surface of the particle 42 facing the metal conductors 23 a and 25 a and the part adjacent to the width direction of the metal conductors 23 a and 25 a And refracted at the interface between the binder resin 41 and the particles 41. The light L2 incident on the particle 41 travels in the particle 41 toward the observer side and on the side opposite to the side on which the light L1 is incident on the particle 41 in the width direction of the metal conductors 23a and 25a. The portion of the surface on the viewer side that is opposite to the side where the light L1 is incident on the particles 41 in the width direction of the metal conductors 23a and 25a is emitted to the binder resin 41. At this time, the light is refracted again at the interface between the particles 41 and the binder resin 41. The light L3 emitted from the particles 41 to the binder resin 41 passes through the bonding layer 61 and the transparent cover 62, and is emitted from the surface on the observer side of the electrode substrate for touch panel 11 so that it can be visually recognized by the observer. Therefore, when an observer observes the metal conductors 23a and 25a of the conductive pattern sheet 10 from the side opposite to the side facing the metal conductors 23a and 25a of the visual function layer 40, the light L3 is visually recognized. The metal conductors 23a and 25a are difficult to be visually recognized.

以上のような本実施の形態によれば、導電性パターンシート10は、金属導線23a,25aを含む導電性パターン20と、導電性パターン20と積層された視覚機能層40と、を有し、視覚機能層40は、バインダー樹脂41と、バインダー樹脂41中に分散し且つバインダー樹脂41とは異なる屈折率を有した粒子42と、を含み、粒子42の平均粒径Daveは、金属導線23a,25aの平均線幅Wave1,Wave2よりも大きい。このような導電性パターンシート10によれば、金属導線23a,25aを、視覚機能層40の金属導線23a,25aと対向する側と反対側から観察した際に、金属導線23a,25aが視認されづらくなる。したがって、導電性パターンシート10において、導電性パターン20が視認されてしまうことが効果的に防止される。 According to this embodiment as described above, the conductive pattern sheet 10 has the conductive pattern 20 including the metal conductive wires 23a and 25a, and the visual function layer 40 laminated with the conductive pattern 20, The visual function layer 40 includes a binder resin 41 and particles 42 dispersed in the binder resin 41 and having a refractive index different from that of the binder resin 41. The average particle diameter D ave of the particles 42 is determined by the metal conductor 23a. , 25a is larger than the average line width W ave1 , W ave2 . According to such a conductive pattern sheet 10, when the metal conductors 23a and 25a are observed from the side opposite to the side facing the metal conductors 23a and 25a of the visual function layer 40, the metal conductors 23a and 25a are visually recognized. It becomes difficult. Therefore, the conductive pattern 20 is effectively prevented from being visually recognized in the conductive pattern sheet 10.

上述した本実施の形態に対して様々な変更を加えることが可能である。以下、図面を適宜参照しながら、変形例について説明する。以下の説明および以下の説明で用いる図面では、上述した実施の形態と同様に構成され得る部分について、上述の実施の形態における対応する部分に対して用いた符号と同一の符号を用いることとし、重複する説明を省略する。   Various modifications can be made to the above-described embodiment. Hereinafter, modified examples will be described with reference to the drawings as appropriate. In the following description and the drawings used in the following description, the same reference numerals as those used for the corresponding parts in the above embodiment are used for the parts that can be configured in the same manner as in the above embodiment. A duplicate description is omitted.

上述した実施の形態では、導電性パターン20および視覚機能層40は、それぞれ1層設けられていたが、これに限られない。上述した実施の形態の変形例を図9に示す。導電性パターン20を複数層有する場合には、図9に示されているように、各導電性パターン20に対応して、複数の視覚機能層40を設けてもよい。この場合、視認されてしまうことが防止されることを意図された導電性パターン20の観察者側に視覚機能層40を配置すればよい。例えば、表面検知電極21sおよび裏面検知電極21rがそれぞれ導電性パターン20を含んでいるようなタッチパネル用電極基板11に本変形例を適用すると、表面検知電極21sの導電性パターン20および裏面検知電極21rの導電性パターン20の両方について、観察者側から視認されることを効果的に防止することができる。   In the above-described embodiment, one conductive pattern 20 and one visual function layer 40 are provided, but the present invention is not limited to this. A modification of the embodiment described above is shown in FIG. In the case of having a plurality of conductive patterns 20, a plurality of visual function layers 40 may be provided corresponding to each conductive pattern 20 as shown in FIG. 9. In this case, the visual functional layer 40 may be disposed on the viewer side of the conductive pattern 20 intended to be prevented from being visually recognized. For example, when this modification is applied to the electrode substrate 11 for a touch panel in which the front surface detection electrode 21s and the back surface detection electrode 21r each include the conductive pattern 20, the conductive pattern 20 and the back surface detection electrode 21r of the front surface detection electrode 21s. Both of the conductive patterns 20 can be effectively prevented from being viewed from the viewer side.

上述した実施の形態では、導電性パターンシート10をタッチパネル用電極基板11に用いたものについて主に説明したが、これに限らず、電磁波を遮蔽する電磁波遮蔽材、可視光透過性を有したアンテナ、結露防止用の発熱電極等、導電性に関連した何らかの機能を発揮する導電性パターンを有する部材であれば、どのようなものにも用いることができる。   In the above-described embodiment, the description has been mainly made of the conductive pattern sheet 10 used for the electrode substrate 11 for the touch panel. However, the present invention is not limited to this, and an electromagnetic wave shielding material that shields electromagnetic waves and an antenna having visible light permeability. Any member can be used as long as the member has a conductive pattern that exhibits some function related to conductivity, such as a heat generation electrode for preventing condensation.

なお、以上において上述した実施の形態に対するいくつかの変形例を説明してきたが、当然に、複数の変形例を適宜組み合わせて適用することも可能である。   In addition, although the some modification with respect to embodiment mentioned above was demonstrated above, naturally, it is also possible to apply combining several modifications suitably.

10 導電性パターンシート
11 タッチパネル用電極基板
20 導電性パターン
21 検知電極
23 導電性細線群
23a 金属導線
24a 間隙領域
24b 間隙領域
25 導電性メッシュ
25a 金属導線
26 開口領域
27 分岐点
28 接続要素
29 中間点
30 基材
40 視覚機能層
41 バインダー樹脂
42 粒子
51 取出配線
52 配線部
53 接続部
61 接合層
62 透明カバー
Aa1 アクティブエリア
Aa2 非アクティブエリア
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Conductive pattern sheet | seat 11 Electrode board | substrate 20 for touchscreens Conductive pattern 21 Detection electrode 23 Conductive fine wire group 23a Metal conducting wire 24a Gap area 24b Gap area 25 Conductive mesh 25a Metal conducting wire 26 Opening area 27 Branch point 28 Connection element 29 Intermediate point 30 Base material 40 Visual functional layer 41 Binder resin 42 Particle 51 Extraction wiring 52 Wiring part 53 Connection part 61 Joining layer 62 Transparent cover Aa1 Active area Aa2 Inactive area

Claims (8)

金属導線を有する導電性パターンと、
前記導電性パターンと積層された視覚機能層と、を備え、
前記視覚機能層は、バインダー樹脂と、前記バインダー樹脂中に分散し且つ前記バインダー樹脂とは異なる屈折率を有した粒子と、を含み、
前記粒子の平均粒径は、前記金属導線の平均線幅よりも大きい、導電性パターンシート。
A conductive pattern having metal conductors;
A visual functional layer laminated with the conductive pattern,
The visual functional layer includes a binder resin and particles dispersed in the binder resin and having a refractive index different from that of the binder resin,
The conductive pattern sheet, wherein an average particle diameter of the particles is larger than an average line width of the metal conductor.
前記粒子の平均粒径は、前記金属導線の平均線幅の2倍よりも大きい、請求項1に記載の導電性パターンシート。   The conductive pattern sheet according to claim 1, wherein an average particle diameter of the particles is larger than twice an average line width of the metal conductor. 前記視覚機能層の厚さは、前記粒子の平均粒径よりも大きく、前記粒子の平均粒径の2倍よりも小さい、請求項1または2に記載の導電性パターンシート。   The conductive pattern sheet according to claim 1 or 2, wherein the thickness of the visual functional layer is larger than the average particle diameter of the particles and smaller than twice the average particle diameter of the particles. 前記粒子の屈折率は、前記バインダー樹脂の屈折率よりも低い、請求項1〜3のいずれかに記載の導電性パターンシート。   The conductive pattern sheet according to claim 1, wherein a refractive index of the particles is lower than a refractive index of the binder resin. 前記導電性パターンの少なくとも一部分が、バインダー樹脂中に入り込んでいる、請求項1〜4のいずれかに記載の導電性パターンシート。   The electroconductive pattern sheet in any one of Claims 1-4 in which at least one part of the said electroconductive pattern has penetrated in binder resin. 前記導電性パターンを支持する基材をさらに備え、
前記視覚機能層は、前記導電性パターンの前記基材に対向する面とは反対側から積層され、前記視覚機能層は、その一部分が前記基材と接触している、請求項1〜5のいずれかに記載の導電性パターンシート。
Further comprising a substrate supporting the conductive pattern;
The said visual function layer is laminated | stacked from the opposite side to the surface which opposes the said base material of the said electroconductive pattern, The said visual function layer is contacting the said base material in part. The electroconductive pattern sheet in any one.
請求項1〜6のいずれかに記載の導電性パターンシートを備える、タッチパネル装置。   A touch panel device comprising the conductive pattern sheet according to claim 1. 請求項1〜6のいずれかに記載の導電性パターンシートを備える、画像表示装置。   An image display device comprising the conductive pattern sheet according to claim 1.
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